JP2009269613A - バイアル用ゴム栓 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るバイアル用ゴム栓は、電子密度が1×1011cm−3〜1×1013cm−3であるプラズマで天面が処理されている。このプラズマとして、マイクロ波によって生成されたプラズマを用いることができる。また、プラズマとして、表面波励起プラズマを用いることができる。
【選択図】図2
Description
また、上記プラズマは、表面波励起プラズマであってもよい。
塩素化ブチルゴム製のバイアル用ゴム栓を、図2に示される表面波励起プラズマ処理装置を用いて、発信周波数2.45GHz、O2ガス流量20sccm、圧力30Paで、照射アンテナとゴム栓天面との距離が5cmとなるように配置し、マイクロ波パワー300Wで5分間照射した。
塩素化ブチルゴム製のバイアル用ゴム栓を、高周波プラズマ処理装置(PE−200,Plasma Etch社製)を用いて、発信周波数13.56MHz、O2ガス流量60sccm、圧力30Pa、照射アンテナとゴム栓天面との距離が10cmとなるように配置し、RFパワー300Wで5分間照射した。
Claims (4)
- バイアル用ゴム栓であって、
電子密度が1×1011cm−3〜1×1013cm−3であるプラズマで天面が処理された、バイアル用ゴム栓。 - 前記プラズマは、マイクロ波によって生成されたプラズマである、請求項1に記載のバイアル用ゴム栓。
- 前記プラズマは、表面波励起プラズマである、請求項2に記載のバイアル用ゴム栓。
- 前記プラズマは、プラズマ生成ガスとして酸素が用いられた、請求項1から3のいずれかに記載のバイアル用ゴム栓。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
- 2008-04-30 JP JP2008119030A patent/JP2009269613A/ja active Pending
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