JP2009256212A - 毛髪化粧料用基剤及び毛髪化粧料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る毛髪化粧料用基剤は、エチレン性不飽和単量体成分(A)の重合体からなり、ガラス転移点が35℃以下であり、重量平均分子量が1000〜30000であることを特徴とする。本発明によれば、この毛髪化粧料用基剤が毛髪化粧料に配合されると、可塑剤となる油剤を使用することなく毛髪化粧料に良好なヘアスタイリング保持性が付与されると共に整髪された毛髪の再整髪性が長時間に亘り維持される。しかもこの毛髪化粧料による整髪後の毛髪にべたつきやごわつきが生じにくくなる。
【選択図】なし
Description
を目的とする。
還流冷却器、温度計、窒素置換用管、滴下漏斗及び撹拌機が取り付けられた容量1リットルの五つ口フラスコに、エタノール100部を仕込み、窒素気流下、昇温し、還流状態(約80℃)になったところで、このエタノール中に重合開始剤(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル)を添加した。重合開始剤の添加量は、実施例1,6では9部、実施例2では1.5部、実施例3では3部、実施例5,9,比較例3では4.5部、実施例7では6部、実施例8では7.5部、比較例2では1.1部とした。
還流冷却器、温度計、窒素置換用管、滴下漏斗及び撹拌機が取り付けられた容量1リットルの五つ口フラスコに、エタノール100部と重合開始剤(1,3−ビス−(ターシャリーブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン)1部とを仕込み、窒素気流下、昇温し、液温を150℃に保持した。
各実施例及び比較例で得られた毛髪化粧料用基剤の重量平均分子量及びガラス転移点は、表1に示される通りである。
・カラム:SHODEX KF−800P、KF−805、KF−803、KF−801の、4本直列
・移動層:THF(テトラヒドロフラン)
・流量:1ml
・カラム温度:45℃
・検出器:RI
・換算:ポリスチレン
またガラス転移点の測定時には、重量平均分子量の測定時と同様の手法により得られた固形状の毛髪化粧料用基剤をアルミパン上に5mg測り取り、この毛髪化粧料用基剤ののガラス転移点を、示差走査熱量計(株式会社リガク製 DSC8230)を用いて昇温速度10℃/minの条件で測定した。
各実施例及び比較例で得られた毛髪化粧料用基剤の溶液12.5部、エタノール77.5部、水10部を混合し、ヘアミスト剤を調製した。
実験用人頭モデル(ウィッグ)の毛髪にヘアミスト剤を噴霧し、この毛髪を整髪した後、乾燥した。この毛髪を25℃、60%R.H.の条件下に3時間放置した後の状態を目視で観察し、ヘアスタイリング保持性を下記評価基準で評価した。
◎…非常に良好:整髪当初の状態からほとんど変化していない。
○…やや良好:すこし変化しているが、整髪当初の状態に近い。
△…やや劣る:毛髪に少し垂れが生じ、整髪当初の状態とは異なる。
×…非常に劣る:毛髪の殆どに垂れが生じている。
長さ10cm、重量1gの毛束に1gのヘアミスト剤を均一に塗布した。この毛束を直径3cmのロッドに巻き付けた後、50℃の乾燥機中で30分間乾燥させた。この毛束をデシケーター中で常温にした後、ロッドから毛束を外した。このカールされた毛束の根元を固定し、毛先側を自重により下方に垂れ下げさせた。この状態で、毛束中の毛髪の根元と毛先との間の高低差L0を測定した。
◎…非常に良好:再整髪率が80%以上
○…やや良好:再整髪率が70%以上
△…やや劣る:再整髪率が60%以上
×…非常に劣る:再整髪率が60%未満
(3)べたつき性評価試験(官能試験)
実験用人頭モデル(ウィッグ)の毛髪にヘアミスト剤を噴霧し、この毛髪を整髪した後、乾燥した。
◎…非常に良好:被験者9人以上が不快でないと回答した。
○…やや良好:被験者7人以上が不快でないと回答した。
△…やや悪い:被験者5人以上が不快でないと回答した。
×…悪い:被験者6人以上が不快であると回答した。
実施例6で得られた毛髪化粧料用基剤の溶液を用い、下記表2に示す二種の組成のヘアスタイリングスプレー剤を調製した。この各ヘアスタイリングスプレー剤は、表1に示されるヘアミスト剤の場合と同様に優れたヘアスタイリング保持性と再整髪性とを備え、かつこのヘアスタイリングスプレー剤による整髪後の毛髪にべたつきがないことが確認された。
Claims (7)
- エチレン性不飽和単量体成分(A)の重合体からなり、
ガラス転移点が35℃以下であり、
重量平均分子量が1000〜30000であることを特徴とする毛髪化粧料用基剤。 - 上記エチレン性不飽和単量体成分(A)が、ノニオン性不飽和単量体(a)のみからなることを特徴とする請求項1に記載の毛髪化粧料用基剤。
- 上記ノニオン性不飽和単量体(a)がN,N−ジメチルアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項2に記載の毛髪化粧料用基剤。
- 上記エチレン性不飽和単量体成分(A)が、ノニオン性不飽和単量体(a)及びイオン性不飽和単量体(b)から選ばれる少なくとも一種の単量体からなることを特徴とする請求項1に記載の毛髪化粧料用基剤。
- 上記イオン性不飽和単量体(b)が、アニオン性不飽和単量体及び1〜3級アミノ基含有不飽和単量体から選ばれる少なくとも一種の単量体を含み、
重合体中の前記単量体に由来する構成単位の一部又は全部が中和されていることを特徴とする請求項4に記載の毛髪化粧料用基剤。 - 上記イオン性不飽和単量体(b)が、両性化可能な不飽和単量体を含み、
上記重合体中の前記両性化可能な不飽和単量体に由来する構造単位が両性化剤で両性化されていることを特徴とする請求項4に記載の毛髪化粧料用基剤。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の毛髪化粧料用基剤を含有することを特徴とする毛髪化粧料。
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