JP2009244228A - 光波干渉測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】被検面の形状を簡易かつ低コストで高精度に測定し得るようにする。
【解決手段】撮像系4において、2次元イメージセンサ42を有してなる撮像手段40と、該撮像手段40をスクリーン32に沿って移動可能に保持する移動保持手段43とを設ける。移動保持手段43により撮像手段40をスクリーン32上に形成される干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を2次元イメージセンサ42により取得する。取得された各部分領域の画像情報に基づき、形状解析手段71において被検非球面8aの形状情報を求める。
【選択図】図1

Description

本発明は、被検面に測定光を照射し、該被検面からの戻り光と参照光との干渉により得られる干渉縞に基づき、被検面の形状を測定する光波干渉測定装置に関する。
従来、非球面形状の被検面(以下「被検非球面」と称する)に球面波を照射し、被検非球面からの戻り光と参照光との干渉により形成される干渉縞に基づき、被検非球面の、球面からの形状偏差を求めて被検非球面の形状を特定する手法が知られている。
しかしながら、このような手法により得られた干渉縞においては、被検非球面の、球面からの形状偏差が大きい部分に対応した領域の縞ピッチが極めて細かくなるために、一般的な2次元イメージセンサを撮像素子として用いた場合には、解像度が低すぎて縞解析を行うことが非常に困難となる。
そこで、干渉計または被検非球面を測定光軸方向に順次移動させることにより、被検非球面の径方向の部分領域毎に粗い干渉縞が順次生じるようにし、その各干渉縞を解析して被検非球面の径方向の各部分領域の形状を求め、それらを繋ぎ合わせることにより被検非球面全体の形状を特定する手法が知られている(下記特許文献1参照)。
一方、被検非球面の基準となる参照基準非球面を有する参照用光学素子を用いて、該参照用反射素子により形成された非球面波を被検非球面に照射し、該被検非球面からの戻り光と上記参照基準非球面から反射される参照光との光干渉により得られる干渉縞に基づき、被検非球面の形状を測定する手法も知られている(下記特許文献2参照)。
また、下記特許文献3に記載されたように、干渉計または被検非球面を測定光軸と垂直な面内において順次移動させ、移動毎に被検非球面の各部分領域に対応した干渉縞を縞解析可能な程度に拡大して撮像し、その各干渉縞を解析して被検非球面の各部分領域の形状を求め、それらを繋ぎ合わせることにより被検非球面全体の形状を特定する手法も知られている。
特開昭62−126305号公報 特開2004−532990号公報 USP6,956,657
しかしながら、上記特許文献1に記載された手法では、干渉計または被検非球面を測定光軸方向に順次移動させる必要があるため、測定に要する時間が多大となる。また、干渉計または被検非球面を移動させる際に、測定光軸に対する被検非球面の位置や傾きにずれが生じ、解析結果に誤差が発生する虞がある。さらに、測定装置の構成が複雑となり、測定コストが増大するという問題も生じる。
一方、上記特許文献2に記載された手法では、上述の参照用光学素子を用いて、被検非球面の全領域と相似形状の非球面波を形成する必要があるが、被検非球面の形状によっては、このような非球面波を形成することが不可能な場合もある。その場合には、上記特許文献1に記載された手法を適用して、被検非球面の一部の部分領域と相似形状の非球面波を被検非球面に照射しつつ、干渉計または被検非球面を測定光軸方向に順次移動させることにより、被検非球面の径方向の部分領域毎の干渉縞を順次撮像するなどの処理が必要となるので、上記特許文献1に記載された手法と同様の問題が生じることとなる。
また、上記特許文献3に記載された手法においても、被検非球面の各部分領域に対応した干渉縞を撮像するために、干渉計または被検非球面を測定光軸と垂直な面内において順次移動させることが必要となるため、上記特許文献1に記載された手法と同様の問題が生じることとなる。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、非球面形状等の被検面の形状を簡易かつ低コストで高精度に測定し得る光波干渉測定装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の光波干渉測定装置は、以下のように構成されている。
すなわち、本発明に係る光波干渉測定装置は、被検面に測定光を照射し該被検面からの戻り光を参照光と合成して干渉光を得る干渉光生成系と、得られた干渉光により結像面上に干渉縞を形成する干渉縞形成系と、形成された干渉縞を撮像する撮像系と、撮像された干渉縞を解析する解析系と、を備えた光波干渉測定装置であって、
前記撮像系は、2次元イメージセンサを有してなる撮像手段と、該撮像手段を前記結像面に沿って移動可能に保持する移動保持手段とを備え、該移動保持手段により前記撮像手段を前記結像面上に形成される前記干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を前記2次元イメージセンサにより取得するように構成されており、
前記解析系は、前記2次元イメージセンサにより取得される前記干渉縞の各部分領域の画像情報に基づき、前記被検面の形状データを求める形状解析手段を備えてなる、ことを特徴とする。
本発明において、前記結像面がスクリーンからなり、前記撮像手段は、前記干渉縞形成系により前記スクリーン上に形成される干渉縞の各部分領域の像を、前記移動毎に順次、前記2次元イメージセンサ上に形成する撮像レンズを備えてなるものとすることができる。
また、前記干渉光生成系は、光源と、該光源からの光束を平行光に変換するコリメータレンズと、該コリメータレンズからの前記平行光の一部を反射して前記参照光となすとともに該平行光の他の一部を透過する参照基準平面と、該参照基準平面を透過した前記平行光を球面波からなる前記測定光に変換して前記被検面に向け出力するレンズと、を備えてなるものとすることができる。
一方、前記干渉光生成系は、光源と、該光源からの光束の一部を反射して前記参照光となすとともに該光束の他の一部を球面波からなる前記測定光として前記被検面に向け出力する参照基準球面を有する球面基準レンズと、を備えてなるものとしてもよい。
なお、前記撮像手段の2次元イメージセンサが前記結像面上を移動するように構成し、該結像面上に形成される前記干渉縞の画像情報を、2次元イメージセンサにより直接取得するようにしてもよい。
本発明に係る光波干渉測定装置は、上述の構成を備えていることにより、以下のような作用効果を奏する。
すなわち、本発明の光波干渉測定装置においては、2次元イメージセンサを有してなる撮像手段を結像面上に形成される干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を2次元イメージセンサにより取得する。
2次元イメージセンサが一度の撮像において取り込むのは、干渉縞の各部分領域の画像情報であるため、撮像倍率を大きくした状態で干渉縞の各部分領域の撮像が可能となるので、一度に干渉縞の全領域の画像情報を取り込む場合に比べて、干渉縞の各部分領域に対する解像度を高めることが可能となる。
したがって、取得された各部分領域の画像情報に基づき、被検面の形状を高精度に測定解析することが可能となる。
また、撮像手段は、結像面上に形成される干渉縞に対して移動されるものであるから、被検面と干渉計を相対的に移動させる必要がある従来技術において懸念される、移動の際に被検面の位置や傾きにずれが生じて解析結果に誤差が発生するという虞が少ない。さらに、撮像手段を移動せしめるための機構は、小型で構成簡易に実現することができるので、測定装置の構成が複雑となり、測定コストが増大するという問題も生じない。
また、撮像手段を移動せしめて、干渉縞の各部分領域の画像情報を取得するのに要する時間は、被検面を干渉計に対し相対的に順次移動させ、移動毎に干渉縞画像を撮像する必要がある従来技術に比較して短くて済むので、測定に要する時間の短縮化が可能となる。
このように、本発明に係る光波干渉測定装置によれば、被検面の形状を簡易かつ低コストで高精度に測定することが可能となる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る光波干渉測定装置の概略構成図である。
図1に示す本実施形態の光波干渉測定装置1は、被検レンズ8が有する被検非球面(非球面形状の被検面)8aの形状を測定解析するものであり、被検非球面8aに測定光を照射し該被検非球面8aからの戻り光を参照光と合成して干渉光を得る干渉光生成系2と、得られた干渉光により結像面上に干渉縞を形成する干渉縞形成系3と、形成された干渉縞を撮像する撮像系4と、撮像された干渉縞を解析する解析系7とを備えてなる。
上記干渉光生成系2は、フィゾータイプの光学系配置をなすものであり、高可干渉性の光束を出力する測定光源21と、該測定光源21からの光束のビーム径を拡大するビーム径拡大レンズ22と、該ビーム径拡大レンズ22からの光束の一部を図中下方に向けて反射するビームスプリッタ23と、該ビームスプリッタ23からの光束を平行光束に変換するコリメータレンズ24と、該コリメータレンズ24からの光束の一部を参照光として反射し他の一部を透過する参照基準平面25aを有する参照基準板25と、該参照基準板25からの光束を球面波からなる測定光に変換して上記被検非球面8aに照射する対物レンズ26と、上記被検レンズ8を適正位置に保持するための保持ステージ27とを備えてなる。
なお、上記参照基準板25は、図示せぬフリンジスキャンアダプタに保持されており、フリンジスキャン計測等を実施する際に測定光軸C方向に微動せしめられるように構成されている。また、上記被検非球面8aに照射された測定光の一部は、該被検非球面8aで反射され、上記対物レンズ26および上記参照基準板25を透過し、上記参照光と合成されることにより上記干渉光が得られるようになっている。
一方、上記干渉縞形成系3は、結像レンズ31と、上記結像面としてのスクリーン32とを備え、上記コリメータレンズ24および上記ビームスプリッタ23を介して図中上方に進行する上記干渉光を結像レンズ31により集光し、スクリーン32上に干渉縞を形成するようになっている。
また、上記撮像系4は、撮像レンズ41およびCCDエリアセンサ等からなる2次元イメージセンサ42を有してなる撮像手段40と、該撮像手段40を上記スクリーン32に沿って(好ましくは、撮像手段40の光軸Aと測定光軸Cとが互いに平行となる状態を維持しつつ、撮像手段40をスクリーン32に対し平行に)、2次元的(図中左右方向および紙面と直角な方向)に移動可能に保持する移動保持手段43とを備え、該移動保持手段43により撮像手段40を上記スクリーン32上に形成される干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を前記2次元イメージセンサ42により取得するように構成されている。なお、上記撮像レンズ41は、上記スクリーン32上に形成される干渉縞の各部分領域の像を、上記移動毎に順次、上記2次元イメージセンサ42上に形成するように構成されている。
また、上記解析系7は、上記2次元イメージセンサ42により取得される上記干渉縞の各部分領域の画像情報に基づき、上記被検面8aの形状データを求める、コンピュータ等からなる形状解析手段71と、該形状解析手段71による解析結果や画像を表示する表示装置72と、キーボードやマウス等からなる入力装置73とを備えてなる。なお、上記形状解析手段71は、上記移動保持手段43の駆動を制御し得るように構成されており、該移動保持手段43を介して上記撮像手段40を各々の撮像位置に順次移動せしめるようになっている。
次に、本実施形態の光波干渉測定装置1の作用について説明する。図2は上記スクリーン32上に形成される干渉縞の一例を模式的に示す図であり、図3は干渉縞の各部分領域の設定例を示す図である。
本実施形態では、図2に示す干渉縞80を、図3に示すように9個の部分領域S〜Sに分割し、該部分領域S〜S毎に上記撮像手段40により順次撮像を行う。すなわち、部分領域Sを撮像する場合には、上記撮像手段40を部分領域Sの真上に(光軸Aが部分領域Sの中心に位置するように)移動させ、上記撮像レンズ41により該部分領域Sの像を上記2次元イメージセンサ42上に形成し、該2次元イメージセンサ42により部分領域Sの画像情報を取得する。
同様に、部分領域Sを撮像する場合には、上記撮像手段40を部分領域Sの真上に移動させ、上記撮像レンズ41により該部分領域Sの像を上記2次元イメージセンサ42上に形成し、該2次元イメージセンサ42により部分領域Sの画像情報を取得する。他の部分領域S〜Sについても同様の手順で撮像を行う。
そして、取得された各部分領域S〜Sの画像情報に基づき、上記形状解析手段71において、各部分領域S〜Sに対応した、上記被検非球面8aの部分毎の形状情報を求め、また、求めた部分毎の形状情報を互いに繋ぎ合わせることにより、上記干渉縞80の全領域に対応した、上記被検非球面8aの形状情報を求める。
なお、上記各部分領域S〜Sは、上記スクリーン32上に干渉縞80が形成された段階、または事前のコンピュータシミュレーション等において、予め設定される。また、上述のように本実施形態では、9個に分割された部分領域S〜S毎に撮像を行うので、干渉縞80の全領域を一度に2次元イメージセンサ42で撮像する場合に比べて、各部分領域S〜Sを9倍に拡大した状態での撮像が可能となるので、解像度を大幅に向上させることが可能となる。
また、前掲の特許文献1〜3に記載されたような従来手法においては、干渉計または被検面を相対的に順次移動させ、移動毎に被検面の各部分領域に対応した干渉縞を撮像する際に、隣接する部分領域同士が互いに一部重なるように撮像を行う必要がある。これは、干渉計または被検面を移動させる際に傾き誤差が生じ、撮像される干渉縞に歪みが生じる虞があり、隣接する部分領域同士の形状情報を繋ぎ合わせる際に、このような歪み(傾き誤差)を補正するための手掛かりとして、互いに重なり合う部分の画像情報が必要となるからである。
これに対し、本実施形態では、部分領域S〜S間に重なり合う領域を設定していない。これは、本実施形態では、上記スクリーン32上に形成された干渉縞80に対して、上記撮像手段40を移動させるので、仮に移動の際に撮像手段40の傾き誤差が生じた場合でも、上記2次元イメージセンサ42上に形成される各部分領域S〜Sの画像に歪みが生じる可能性が少ないからである。したがって、互いに重なり合う部分を設定する必要が無い分、部分領域の設定数を減少させることが可能となり、測定時間の短縮化を図ることが可能となる。
ただし、各部分領域S〜Sに対応した各形状情報を互いに繋ぎ合わせる際には、隣接する部分領域同士の位置合わせを行う必要があり、そのためには例えば、隣接する部分領域同士の画像情報の相関を求める必要がある。例えば、部分領域Sと部分領域Sを例にとって説明すれば、部分領域Sに対応した形状情報と部分領域Sに対応した形状情報とを互いに高精度に繋ぎ合わせるためには、部分領域Sの画像情報と部分領域Sの画像情報との相関を求め、求められた相関に基づき、2つの部分領域S,Sの位置合わせを行う必要がある。具体的には例えば、部分領域Sの、部分領域Sに最も近い1ラインの画像情報と、部分領域Sの、部分領域Sに最も近い1ラインの画像情報とに対し、それぞれコンボルーション(畳み込み積分)の処理を行い、処理後の各情報同士の相関に基づき、部分領域Sと部分領域Sとの位置合わせを行うことができる。
次に、本発明の他の実施形態について説明する。図4は上述の干渉縞形成系3および撮像系4に替わる他の形態の干渉縞形成系3Aおよび撮像系4Aを示す概略構成図であり、図5は上記干渉光生成系2に替わる他の形態の干渉光生成系2Aを示す概略構成図である。なお、図4および図5において上述の実施形態のものと概念的に共通または類似するものには、図1、2で用いたものと同一または類似の(同一の番号の後に英文字を付けた)番号を付してある。
図4に示す干渉縞形成系3Aは、結像レンズ31Aに入射された干渉光を集光して、空間上の結像面33上に干渉縞を形成するように構成されている。
一方、同じく図4に示す撮像系4Aは、上記結像面33上に配される2次元イメージセンサ42Aを有してなる撮像手段40Aと、該撮像手段40Aを上記結像面33に沿って(具体的には、撮像手段40Aの光軸Aと測定光軸Cとが互いに平行となる状態を維持しつつ、2次元イメージセンサ42Aが結像面33上に常時位置するように)、2次元的(図中左右方向および紙面と直角な方向)に移動可能に保持する移動保持手段43Aとを備え、該移動保持手段43Aにより撮像手段40Aを結像面33上に形成される干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を2次元イメージセンサ42Aにより取得するように構成されている。
なお、図4に示す形態のものは、空間上の結像面33上に形成される干渉縞を、2次元イメージセンサ42Aにより直接撮像するので、図1に示す形態のものより、撮像の解像度を向上させることが可能である。ただし、2次元イメージセンサ42Aと結像レンズ31Aとの間にカバーガラスが配されていると、このカバーガラスの表裏面で反射した光が絡んだ不要な干渉が発生する虞があるので、一般的な2次元イメージセンサにおいては設けられているカバーガラスを敢えて取り除くなどの対策を採る必要がある。
これに対し、図1に示す形態のものは、スクリーン32上に形成された干渉縞を撮像するものなので撮像レンズ41と2次元イメージセンサ42との間にカバーガラスを配しても、上述したような不要な干渉が発生する虞がない。このため、敢えてカバーガラスを取り除く必要が無く、カバーガラスを付けたまま使用することで、2次元イメージセンサ42の性能劣化を防止することが可能となる。
図5に示す干渉光生成系2Aは、コリメータレンズ24と被検レンズ8との間に、参照基準球面28aを有する球面基準レンズ28を配設したものである。すなわち、この干渉光生成系2Aは、ビーム径拡大レンズ22、ビームスプリッタ23およびコリメータレンズ24を介して球面基準レンズ28に入射された、測定光源21からの光束の一部を、上記基準球面28aにおいて反射して参照光となすとともに、該光束の他の一部を球面基準レンズ28において球面波からなる測定光となして被検非球面8aに向け出力するようになっている。そして、上記被検非球面8aから反射された測定光の一部が、上記参照基準球面28aで反射された参照光と合成されることにより干渉光が得られるようになっている。なお、コリメータレンズ24を設けずに、ビームスプリッタ23からの拡散光を球面波に変換するような球面基準レンズ(図示略)を設置するようにしてもよい。また、球面基準レンズ28に替えて、所定の非球面波を生成し得るような非球面基準レンズ(図示略)を設置するようにしてもよい。
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、種々に態様を変更することが可能である。
例えば、上述の実施形態では、干渉縞80を9個の部分領域S〜Sに分割して撮像しているが、部分領域の数は任意に設定することが可能である。
また、上述の実施形態では、被検面が非球面形状とされているが、測定対象が非球面に限定されるものではなく、例えば、被検面が球面形状をなすものや、非回転対称の曲面をなすものであってもよい。
また、図2では、観察される干渉縞80を同心円状の干渉縞として模式的に示しているが、干渉縞が同心円状のものである必要はない。本発明は、縞の密度が高い領域が形成されるような種々の形態の干渉縞の測定解析に好適なものである。
また、上述の実施形態では、干渉光生成系2,2Aがいずれもフィゾータイプの光学系配置をなすものとされているが、マイケルソンタイプ等の他の光学系配置をなすものとすることも可能である。
一実施形態に係る光波干渉測定装置の概略構成図 スクリーン上に形成される干渉縞の一例を模式的に示す図 干渉縞の各部分領域の設定例を示す図 他の形態の干渉縞形成系および撮像系を示す概略構成図 他の形態の干渉光生成系を示す概略構成図
符号の説明
1 光波干渉測定装置
2,2A 干渉光生成系
3,3A 干渉縞形成系
4,4A 撮像系
7 解析系
8 被検レンズ
8a 被検非球面
21 測定光源
22 ビーム径拡大レンズ
23 ビームスプリッタ
24 コリメータレンズ
25 参照基準板
25a 参照基準平面
26 対物レンズ
27 保持ステージ
28 球面基準レンズ
28a 参照基準球面
31 結像レンズ
32 スクリーン
33 結像面
40,40A 撮像手段
41 撮像レンズ
42,42A 2次元イメージセンサ
43,43A 移動保持手段
80 干渉縞
A 光軸
C 測定光軸
〜S 部分領域

Claims (4)

  1. 被検面に測定光を照射し該被検面からの戻り光を参照光と合成して干渉光を得る干渉光生成系と、得られた干渉光により結像面上に干渉縞を形成する干渉縞形成系と、形成された干渉縞を撮像する撮像系と、撮像された干渉縞を解析する解析系と、を備えた光波干渉測定装置であって、
    前記撮像系は、2次元イメージセンサを有してなる撮像手段と、該撮像手段を前記結像面に沿って移動可能に保持する移動保持手段とを備え、該移動保持手段により前記撮像手段を前記結像面上に形成される前記干渉縞に対し順次移動させ、移動毎に該干渉縞の各部分領域の画像情報を前記2次元イメージセンサにより取得するように構成されており、
    前記解析系は、前記2次元イメージセンサにより取得される前記干渉縞の各部分領域の画像情報に基づき、前記被検面の形状データを求める形状解析手段を備えてなる、ことを特徴とする光波干渉測定装置。
  2. 前記結像面がスクリーンからなり、
    前記撮像手段は、前記干渉縞形成系により前記スクリーン上に形成される干渉縞の各部分領域の像を、前記移動毎に順次、前記2次元イメージセンサ上に形成する撮像レンズを備えてなる、ことを特徴とする請求項1記載の光波干渉測定装置。
  3. 前記干渉光生成系は、光源と、該光源からの光束を平行光に変換するコリメータレンズと、該コリメータレンズからの前記平行光の一部を反射して前記参照光となすとともに該平行光の他の一部を透過する参照基準平面と、該参照基準平面を透過した前記平行光を球面波からなる前記測定光に変換して前記被検面に向け出力するレンズと、を備えてなることを特徴とする請求項1または2記載の光波干渉測定装置。
  4. 前記干渉光生成系は、光源と、該光源からの光束の一部を反射して前記参照光となすとともに該光束の他の一部を球面波からなる前記測定光として前記被検面に向け出力する参照基準球面を有する球面基準レンズと、を備えてなることを特徴とする請求項1または2記載の光波干渉測定装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012008031A1 (ja) * 2010-07-15 2012-01-19 キヤノン株式会社 被検面の形状を計測する計測方法、計測装置及び光学素子の製造方法
JP2020159759A (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 株式会社東京精密 画像処理方法及び測定装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012008031A1 (ja) * 2010-07-15 2012-01-19 キヤノン株式会社 被検面の形状を計測する計測方法、計測装置及び光学素子の製造方法
JP5442122B2 (ja) * 2010-07-15 2014-03-12 キヤノン株式会社 被検面の形状を計測する計測方法、計測装置及び光学素子の製造方法
US8675206B2 (en) 2010-07-15 2014-03-18 Canon Kabushiki Kaisha Measurement method for measuring shape of test surface, measurement apparatus, and method for manufacturing optical element
JP2020159759A (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 株式会社東京精密 画像処理方法及び測定装置
JP7213465B2 (ja) 2019-03-25 2023-01-27 株式会社東京精密 画像処理方法及び測定装置

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