JP2009242838A - Vertical electroplating apparatus and method of plastic film with plating film using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vertical plating apparatus having a means for grasping a lower side of a web as moving countermeasure for the web in a plating vessel to hang the web in the width direction to transport, wherein the ununiformity of a plating film which occurs by the turbulence of liquid flow due to the opening and closing of a movable gate each when the lower side grasping part is goes out from the plating vessel is prevented. <P>SOLUTION: A lower side support rotating body 23 of the web rotating only in the plating vessel is included. As a result, a part largely opened and closed in the lower side of the plating vessel is eliminated to reduce the turbulence of the plating liquid and the uniform plating film is obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、縦型電解めっき装置に関し、特に長尺ウェブの縦型電解めっき装置およびめっき被膜付きプラスチックフィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a vertical electrolytic plating apparatus, and more particularly to a vertical electrolytic plating apparatus for a long web and a method for producing a plastic film with a plating film.

近年、電子機器、電子部品および半導体パッケージ等で利用される様になってきたフレキシブル回路用基板として、ポリイミドフィルムあるいはポリエステルフィルムのウェブと銅箔とを合わせた形態の配線基板が注目されている。この基板には、ウェブに接着剤を介して銅箔を貼り合わせた、通称”3層型”と呼ばれるものと、ウェブに接着剤を介さないで金属被膜をめっき等で形成する、通称”2層型”と呼ばれるフレキシブル回路用基板がある。これらのうち、後者の2層型の方が、回路の配線ピッチの微細化の進行に伴ってより注目されている。   In recent years, as flexible circuit boards that have come to be used in electronic devices, electronic components, semiconductor packages, and the like, wiring boards in the form of a combination of a polyimide film or polyester film web and copper foil have attracted attention. On this substrate, a so-called “three-layer type”, in which a copper foil is bonded to a web via an adhesive, and a metal film formed by plating or the like without using an adhesive on the web, commonly known as “2”. There is a flexible circuit board called “layer type”. Of these, the latter two-layer type is attracting more attention as the wiring pitch of the circuit advances.

2層型フレキシブル回路用基板は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法あるいは各種イオンプレーティング法などのPVD法、金属を含む薬品を気化し蒸着させるいわゆるCVD法等で、まずウェブ表面に各種金属を蒸着した後に、または無電解めっき法で各種金属をめっきした後に、例えば特許文献1のようなウェブの連続電解めっき装置を用いて電解銅めっきする製造方法が一般的に用いられている。   The two-layer flexible circuit board is formed by, for example, a PVD method such as a vacuum deposition method, a sputtering method or various ion plating methods, a so-called CVD method for vaporizing and vapor-depositing a metal-containing chemical, etc. A manufacturing method in which electrolytic copper plating is performed using, for example, a continuous electroplating apparatus for web as described in Patent Document 1 after vapor deposition or after plating various metals by an electroless plating method is generally used.

ところで近年、電子回路の高密度化に伴って回路パターンのファインピッチ化が進んできている。ファインピッチ化が進むと配線幅や線間幅が狭くなるため、基板に許容される欠点のサイズは小さく、数は少なくなってくる。すなわち極めて高品位の基板材料が求められてきている。   By the way, in recent years, fine pitches of circuit patterns have been advanced with the increase in the density of electronic circuits. As the fine pitch is advanced, the wiring width and the line-to-line width are narrowed, so that the size of the defects allowed for the substrate is small and the number is reduced. That is, an extremely high quality substrate material has been demanded.

特許文献1は、めっき対象ウェブの全幅に接触する給電ロールによって給電と搬送を行うタイプのめっき装置である。この装置を用いた場合、給電ロールとの接触により、微小なキズなどの欠点が極めて発生しやすい。   Patent Document 1 is a type of plating apparatus that performs power feeding and conveyance by a power feeding roll that contacts the entire width of a plating target web. When this apparatus is used, defects such as minute scratches are very likely to occur due to contact with the power supply roll.

これらの問題の解消を狙って、ウェブ上端部のみを給電電極にて把持し、給電しながら搬送するタイプのめっき装置も提案されているが、この方法では全幅に接触する給電ロールが不要であるためキズの抑制には有効であるものの、特にめっき対象ウェブが柔軟なプラスチックフィルムである場合などはめっき槽内で液流によってウェブが揺れ、槽壁等の構造物に接触してキズが発生したり、極間距離が変動することによる膜厚ムラなどの不具合を生じる。これを防ぐためにガイドを配しためっき装置が特許文献2に開示されているが、ガイドが接触する部分には接触に起因する微小キズや、めっき液中の異物等を巻き込んで生じるキズや打痕などの欠点の発生のおそれがある。   In order to solve these problems, a plating apparatus of a type in which only the upper end portion of the web is gripped by the feeding electrode and conveyed while feeding is also proposed, but this method does not require a feeding roll that contacts the entire width. Therefore, although it is effective in suppressing scratches, especially when the web to be plated is a flexible plastic film, the web sways due to the liquid flow in the plating tank, and scratches occur due to contact with structures such as the tank wall. Or inconveniences such as film thickness unevenness due to fluctuations in the distance between the electrodes. Although the plating apparatus which provided the guide in order to prevent this is indicated by patent documents 2, the fine scratch resulting from contact and the crack and dent which arise by involving the foreign material in plating solution, etc. in the part which a guide contacts There is a risk of such defects.

特許文献3にはウェブの上下両端部をクリップでクランプして搬送するめっき装置が開示されており、この方法を用いればウェブの揺れやガイドとの接触によるキズ等の欠点は解消される。   Patent Document 3 discloses a plating apparatus that clamps and conveys both upper and lower ends of a web with a clip. If this method is used, defects such as a web sway and a scratch due to contact with a guide are eliminated.

特開2006−307338号公報JP 2006-307338 A 特開2007−211294号公報JP 2007-2111294 A 特開2007−138279号公報JP 2007-138279 A

ウェブのめっきされた面を傷つけずに巻き取るには特許文献3のようにウェブの上下端部を固定して搬送させる方法は好ましい。しかし、特許文献3のようにウェブの下側端部をクランプするとクランパ自身がめっき槽に出入りしなければならない。   In order to wind up without damaging the plated surface of the web, a method of fixing and transporting the upper and lower ends of the web as in Patent Document 3 is preferable. However, when the lower end of the web is clamped as in Patent Document 3, the clamper itself must enter and exit the plating tank.

縦型のめっき槽では、下側端部を把持しているクランパがめっき槽に出入りするためにはめっき槽の下側に可動堰を設けなければならない。つまり、クランパがめっき槽に出入りするたびに可動堰が開き、めっき液が大量に流出する。   In the vertical plating tank, a movable weir must be provided on the lower side of the plating tank in order for the clamper holding the lower end portion to enter and exit the plating tank. That is, every time the clamper enters and exits the plating tank, the movable weir opens and a large amount of plating solution flows out.

そのため、流出しためっき液を補充するための大容量の循環ポンプが必要になるという課題が生じる。また、めっき液の大量の流出はめっき槽内のめっき液の液流が乱れ、形成するめっき層に不均一箇所を発生させるという課題があった。   Therefore, the subject that the large capacity | circulation pump for replenishing the plating solution which flowed out is needed arises. Moreover, the large outflow of the plating solution has a problem that the liquid flow of the plating solution in the plating tank is disturbed and nonuniform portions are generated in the formed plating layer.

また、ウェブをクランパで把持するとその時点でウェブにかかるテンションがカットされてしまい、ウェブにしわが発生しやすいという課題もあった。   Further, when the web is gripped by the clamper, the tension applied to the web is cut at that time, and there is a problem that the web is likely to be wrinkled.

本発明は上記課題を解決するために想到されたものである。すなわち、
本発明の好ましい形態によれば、
長尺ウェブの幅方向を略鉛直方向に向けて搬送しながら前記長尺ウェブ表面に電解めっき被膜を形成させるために用いられる縦型電解めっき装置であって、
前記該長尺ウェブ表面に接触する給電電極と、
前記該長尺ウェブ上端部を把持する上部把持手段と、
前記該長尺ウェブ下端部を把持する下部支持回転体と、
前記ウェブを搬送するウェブ搬送手段と、
めっき槽と、
前記めっき槽内に設置された陽極とを有する縦型電解めっき装置を提供する。
The present invention has been conceived to solve the above problems. That is,
According to a preferred form of the invention,
A vertical electrolytic plating apparatus used for forming an electrolytic plating film on the surface of the long web while conveying the width direction of the long web in a substantially vertical direction,
A feeding electrode in contact with the surface of the long web;
Upper gripping means for gripping the upper end of the long web;
A lower support rotating body for gripping the lower end of the long web;
Web conveying means for conveying the web;
A plating tank;
A vertical electrolytic plating apparatus having an anode installed in the plating tank is provided.

また、そのような縦型電解めっき装置を用いて電解めっき加工を行うことを特徴とするめっき被膜付きプラスチックフィルムの製造方法を提供する。   Moreover, the manufacturing method of the plastic film with a plating film characterized by performing an electroplating process using such a vertical electroplating apparatus is provided.

なお、本発明において「ウェブ」とは、紙、不織布、プラスチックフィルム等で少なくともそれらの片面に導電性薄膜を有するもの、あるいは、金属箔等のようなものであって、幅に対して厚さが充分薄く、長さが充分長いものをいう。   In the present invention, the “web” means paper, non-woven fabric, plastic film or the like having a conductive thin film on at least one side thereof, or a metal foil or the like and having a thickness with respect to the width. Is thin enough and long enough.

本発明の縦型めっき装置によれば、ウェブの下端部を表裏からニップする少なくとも一対の回転体を有するので、下端部を把持したままウェブをめっき槽内で搬送させることができ、なお且つ回転体がめっき槽に出入りすることがないので、めっき液が大量に流出することがないという効果を得ることができる。すなわち、大容量の循環ポンプが不要であり、めっき液の液流が乱れることがないので安定した品質のめっき層を得ることができる。   According to the vertical plating apparatus of the present invention, since it has at least a pair of rotating bodies that nip the lower end portion of the web from the front and back, the web can be conveyed in the plating tank while holding the lower end portion, and the rotation can be performed. Since the body does not enter and exit the plating tank, the effect that the plating solution does not flow out in large quantities can be obtained. That is, a large-capacity circulation pump is not required, and the plating solution flow is not disturbed, so that a stable quality plating layer can be obtained.

また、本発明の縦型めっき装置の好ましい形態によれば、ウェブをニップする回転体の駆動系がウェブの搬送系の駆動系とは独立しているため、めっき槽内でウェブにテンションをかけ続けることができる。すなわち、ウェブにしわが発生しにくいという効果を得ることができる。   Further, according to the preferred embodiment of the vertical plating apparatus of the present invention, the drive system of the rotating body that nips the web is independent of the drive system of the web conveyance system, so that tension is applied to the web in the plating tank. You can continue. That is, it is possible to obtain an effect that wrinkles are hardly generated on the web.

以下、本発明の最良の実施形態の例をプラスチックフィルムの電解銅めっき装置に適用した場合を例にとって、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, the case of applying the example of the best embodiment of the present invention to an electrolytic copper plating apparatus for a plastic film will be described as an example with reference to the drawings.

図1は、本実施形態のプラスチックフィルムの電解銅めっき装置(以後、「めっき装置」とも言う。)10の概念図である。めっき装置10は、前処理部13、めっき部17、後処理部15、フィルム搬送部16を含む。また、巻き出し装置18と巻取り装置19を含んでいても良い。   FIG. 1 is a conceptual diagram of a plastic film electrolytic copper plating apparatus (hereinafter also referred to as “plating apparatus”) 10 of the present embodiment. The plating apparatus 10 includes a pre-processing unit 13, a plating unit 17, a post-processing unit 15, and a film transport unit 16. Moreover, the unwinding device 18 and the winding device 19 may be included.

巻き出し装置18は、プラスチックフィルム111の片面または両面に導電性薄膜112をあらかじめ付与した導電性薄膜付きプラスチックフィルム11(以後単に「プラスチックフィルム11」又は「ウェブ11」とも呼ぶ。)が巻かれた原反ロール12から導電性薄膜付きプラスチックフィルム11を巻き出してめっき部17に供給する。図1では原反ロール12の軸を巻き出し装置18としたが、ここに駆動用モータがあったり、原反ロール12の次段に巻き出し用のニップロールを配置した構成としてもよい。   In the unwinding device 18, a plastic film 11 with a conductive thin film (hereinafter also simply referred to as “plastic film 11” or “web 11”) in which a conductive thin film 112 is preliminarily provided on one surface or both surfaces of the plastic film 111 is wound. The plastic film 11 with a conductive thin film is unwound from the raw fabric roll 12 and supplied to the plating unit 17. Although the unwinding device 18 is used as the shaft of the original fabric roll 12 in FIG. 1, a driving motor may be provided here, or a nip roll for unwinding may be disposed in the next stage of the original fabric roll 12.

巻取り装置19は、前処理、めっき処理、後処理が施されたプラスチックフィルム11を巻き取る。   The winding device 19 winds up the plastic film 11 that has been pretreated, plated, and posttreated.

プラスチックフィルム111には、ポリエチレン、ナイロン、ポリイミドなどの樹脂材料が好適に用いられ、特にフレキシブル回路基板用途としては、後工程での半田付け時の耐熱性の観点からポリイミドフィルムが好適に用いられる。導電性薄膜112としては、銅、ニッケル、クロム等の導電性の良い金属やそれらの合金が好適に用いられ、スパッタ法やCVD法、蒸着法などのドライコーティング法や無電解めっき法などの手法で成膜されるのが一般的である。   For the plastic film 111, a resin material such as polyethylene, nylon, and polyimide is preferably used. Particularly for use as a flexible circuit board, a polyimide film is preferably used from the viewpoint of heat resistance during soldering in a subsequent process. As the conductive thin film 112, a metal having good conductivity such as copper, nickel, chromium, or an alloy thereof is preferably used, and a dry coating method such as a sputtering method, a CVD method, a vapor deposition method, or an electroless plating method is used. In general, the film is formed.

巻き出し装置18から巻き出されたプラスチックフィルム11は、めっき装置10に供給される。めっき装置10は、供給されたプラスチックフィルム11を搬送するフィルム搬送部16と、めっき前のフィルムの洗浄などを行う前処理部13と、めっきが終わったフィルムを洗浄したり乾燥させたりする後処理部15と、プラスチックフィルム11に電解めっき膜を成膜するめっき部17とからなる。   The plastic film 11 unwound from the unwinding device 18 is supplied to the plating device 10. The plating apparatus 10 includes a film transport unit 16 that transports the supplied plastic film 11, a pre-processing unit 13 that performs cleaning of the film before plating, and post-processing that cleans and dries the film after plating. It consists of a part 15 and a plating part 17 for forming an electrolytic plating film on the plastic film 11.

フィルム搬送部16はプラスチックフィルム11に張力を付与したり搬送速度を決定したりする部分で、駆動ローラにフィルムを大きく抱きつかせるように構成されたものや、駆動ロールとニップローラとの間にフィルムを挟みこんで搬送するように構成されたものや、フィルム両端部をペンチのようなもので把持してこれを駆動させて搬送するように構成されたものが好適に用いられる。図1では、駆動装置50で駆動される駆動ローラ56とニップローラ57の間にウェブ11を挟みこんで搬送する例を示した。   The film transport unit 16 applies tension to the plastic film 11 and determines the transport speed. The film transport unit 16 is configured to hold the film largely on the drive roller, or between the drive roll and the nip roller. What is comprised so that it may convey by pinching, and what was comprised so that it may hold | grip both ends of a film with things, such as pliers, and drive this, may be used suitably. FIG. 1 shows an example in which the web 11 is sandwiched between the driving roller 56 and the nip roller 57 driven by the driving device 50 and conveyed.

このようなフィルム搬送部16はめっき装置に1箇所あれば良いが、めっき中のフィルム張力制御を高い精度で行うために、めっき装置10の入り口と出口にそれぞれ1箇所ずつ設けるのが好ましい。またフィルムへのスリキズなどの品質欠点を抑制するために、最低限フィルム上側端部のみ、好ましくはフィルム上下両端部のみをニップするニップローラで搬送させるように構成するのがより好ましい。この場合、フィルム端部からフィルム全幅の0.1〜10%までの幅で接触させるのが好ましく、出来る限り接触幅を小さくするのがより好ましい。   Such a film transport unit 16 may be provided in one place in the plating apparatus. However, in order to perform film tension control during plating with high accuracy, it is preferable to provide one each at the entrance and the exit of the plating apparatus 10. In order to suppress quality defects such as scratches on the film, it is more preferable that the film is conveyed by a nip roller that nips at least the upper end of the film, preferably only the upper and lower ends of the film. In this case, it is preferable to make contact with the width from 0.1 to 10% of the entire film width from the film end, and it is more preferable to make the contact width as small as possible.

図2は図1のめっき部17を横(図1の符号100方向)から見た概念図である。めっき部17にはめっき液21と陽極141とが収容されためっき槽14を有する。陰極22と電気的に接続されたプラスチックフィルム11は、めっき液21に浸漬させられた状態で搬送され、通電することにより電解めっき処理を施される。   FIG. 2 is a conceptual view of the plated portion 17 of FIG. 1 viewed from the side (in the direction of reference numeral 100 in FIG. 1). The plating unit 17 includes a plating tank 14 in which a plating solution 21 and an anode 141 are accommodated. The plastic film 11 electrically connected to the cathode 22 is conveyed in a state of being immersed in the plating solution 21, and is subjected to electrolytic plating treatment by being energized.

陽極141には、純銅や銅合金を用いた溶解性陽極や、チタンやイリジウムなどの導電性が良くかつ耐食性の高い材料やそれらの材料へ白金などの貴金属めっきを施して構成された不溶解性陽極が好適に用いられる。不溶解性陽極は、銅イオン生成時にアノードスラッジ等の不純物がほとんど発生しないため、めっき膜の品質を飛躍的に向上させることが出来るため、特に好ましい。   The anode 141 is a soluble anode made of pure copper or a copper alloy, a highly conductive and highly corrosion-resistant material such as titanium or iridium, or an insoluble material formed by applying precious metal plating such as platinum to these materials. An anode is preferably used. The insoluble anode is particularly preferable because impurities such as anode sludge are hardly generated when copper ions are generated, and the quality of the plating film can be greatly improved.

めっき液21を攪拌するため、めっき槽14内のめっき液21を循環させるのが好ましい。これには、めっき液21を別に設けた図示しない貯槽からめっき槽14へポンプアップし、溢れた液を貯槽に戻す循環系が好適に用いられる。このときポンプアップした液をプラスチックフィルム11に直接当たるように噴射すればより好ましい。プラスチックフィルム11表面の液循環が極めて良くなり、厚い電気二重層や銅イオン不足といっためっきの析出を抑制する要因が排除でき、高速めっきが可能となるからである。   In order to stir the plating solution 21, it is preferable to circulate the plating solution 21 in the plating tank 14. For this purpose, a circulation system is preferably used in which the plating solution 21 is separately pumped from a storage tank (not shown) to the plating tank 14 and the overflowed liquid is returned to the storage tank. At this time, it is more preferable that the liquid pumped up is sprayed so as to directly hit the plastic film 11. This is because the liquid circulation on the surface of the plastic film 11 is extremely improved, and the factors that suppress the deposition of plating such as a thick electric double layer and lack of copper ions can be eliminated, and high-speed plating is possible.

めっき槽14内においてプラスチックフィルム11は液流による揺れが生じやすい状況となっている。液流によってプラスチックフィルム11が揺れてしまうと、槽内構造物等に接触してキズ等の品質欠点を生じたり、陽極141との極間距離が変化することに伴って膜厚分布にムラを生じたりする。そのためプラスチックフィルム11を支えることが必要となる。   In the plating tank 14, the plastic film 11 is in a state in which it is likely to be shaken by the liquid flow. If the plastic film 11 is shaken by the liquid flow, it will come into contact with the structure in the tank and cause quality defects such as scratches, or unevenness in the film thickness distribution as the distance between the electrodes 141 changes. It occurs. Therefore, it is necessary to support the plastic film 11.

そこで本実施形態においてはプラスチックフィルム11上端部を上部把持手段で把持すると共に、プラスチックフィルム11の下端部を下側支持回転体によって把持する構造としている。上部把持手段24の好適な具体例はクリップであり、また下側支持回転体23の好適な具体例はニップローラである。   Therefore, in the present embodiment, the upper end portion of the plastic film 11 is held by the upper holding means, and the lower end portion of the plastic film 11 is held by the lower support rotating body. A preferred specific example of the upper gripping means 24 is a clip, and a preferred specific example of the lower support rotating body 23 is a nip roller.

プラスチックフィルム11の上下両端部をクリップで把持する方法もあるが、この方法では液圧の高いめっき槽14下側にクリップを通すための大きな開口部(例えば可動堰)を必要とするため、めっき液21の漏出量が極めて大きくなる。これはめっき液21の循環量が大きくなりすぎるため循環系の容量をアップさせる必要があったり、めっき槽14出入り口の液流が乱れたりするなど、めっき膜生成にとっては好ましくない。この課題を解消するため、本実施形態では特にめっき槽14下側で槽内外に出入りする必要のないニップローラ等の下側支持回転体23で支持するようにしたのである。   There is also a method of gripping the upper and lower ends of the plastic film 11 with clips, but this method requires a large opening (for example, a movable weir) to pass the clip under the plating tank 14 having a high hydraulic pressure. The leakage amount of the liquid 21 becomes extremely large. This is not preferable for the generation of the plating film because the circulation amount of the plating solution 21 becomes too large, and it is necessary to increase the capacity of the circulation system, or the liquid flow at the entrance and exit of the plating tank 14 is disturbed. In order to solve this problem, in the present embodiment, the lower support rotating body 23 such as a nip roller which does not need to enter and exit from the inside and outside of the plating tank 14 is supported.

従って、ニップローラでなくても、槽内もしくは槽内および槽外でのみ循環するクリップで下側を把持する方法や、同じく槽内もしくは槽内および槽外でのみ回転するベルトで下側を把持する構造を用いても良い。   Therefore, even if it is not a nip roller, the lower side is gripped by a clip that circulates only inside or outside the tank, or the lower side is gripped by a belt that rotates only inside or outside the tank. A structure may be used.

図3は下側支持回転体23をニップローラで構成した場合の例を示す。図3はめっき槽14を上から見た図である。ここで上からとは図1の符号101の方向からを意味する。また図3においては上部把持手段24は省略した。めっき槽14にはプラスチックフィルム11が図面左から右方向へ搬送されている。ニップローラ204および203はそのプラスチックフィルムを挟み込む。このようにニップローラがプラスチックフィルムを狭持するためプラスチックフィルム11はめっき槽14内で遊動することなく搬送されながらめっき処理が施される。   FIG. 3 shows an example in which the lower support rotating body 23 is constituted by a nip roller. FIG. 3 is a view of the plating tank 14 as viewed from above. Here, from above means from the direction of reference numeral 101 in FIG. In FIG. 3, the upper gripping means 24 is omitted. A plastic film 11 is conveyed from the left side to the right side of the drawing tank 14. The nip rollers 204 and 203 sandwich the plastic film. Since the nip roller holds the plastic film in this way, the plastic film 11 is plated while being transported in the plating tank 14 without floating.

また、ニップローラはめっき槽14内だけで回転するため、プラスチックフィルム11の搬送に伴って、めっき槽14の下側に可動堰などの開口部を設ける必要がない。すなわち、めっき液が周期的に大量に流出することがない。なお、陽極141は、導電性膜112と面する側に配置してあるが、この位置に限定されるものではない。   Further, since the nip roller rotates only in the plating tank 14, it is not necessary to provide an opening such as a movable weir on the lower side of the plating tank 14 with the conveyance of the plastic film 11. That is, a large amount of the plating solution does not periodically flow out. Note that the anode 141 is disposed on the side facing the conductive film 112, but is not limited to this position.

図4には、めっき槽内のみで回転するベルトでフィルムの下側を把持する場合を示す。ベルト205の内側にはローラ201a乃至201cが三角形の位置に配置されている。同様にベルト206の内側にはローラ202a乃至202cが三角形の位置に配置されている。そしてベルト205および206でプラスチックフィルム11を表と裏から狭持する。この場合も図3同様、プラスチックフィルム11の搬送に伴って、めっき槽14の下側を開く必要がない。   FIG. 4 shows a case where the lower side of the film is gripped by a belt that rotates only in the plating tank. Inside the belt 205, rollers 201a to 201c are disposed at triangular positions. Similarly, rollers 202a to 202c are disposed inside the belt 206 at triangular positions. The belts 205 and 206 hold the plastic film 11 from the front and the back. In this case as well, it is not necessary to open the lower side of the plating tank 14 with the conveyance of the plastic film 11 as in FIG.

いずれの方法でも、プラスチックフィルム11の下側支持回転体23には駆動系を設けず、プラスチックフィルム11に従動回転させるように構成することで、駆動系の精密制御の必要性がなくなり、また駆動のための付帯設備が不要となるので装置コストが削減でき好ましい。   In any method, the lower support rotating body 23 of the plastic film 11 is not provided with a drive system, and is configured to be driven and rotated by the plastic film 11, thereby eliminating the need for precise control of the drive system. Therefore, it is preferable to reduce the cost of the apparatus.

しかし下側支持回転体23のメカロスが大きい場合には、専用の駆動系を設けて積極駆動してもよい。この場合、プラスチックフィルム11の搬送速度に下側支持回転体23の速度を同期させるように制御することにより、搬送シワの発生が防止できるのでより好ましい。   However, when the mechanical loss of the lower support rotating body 23 is large, a dedicated drive system may be provided for active driving. In this case, by controlling the speed of the lower support rotating body 23 to be synchronized with the transport speed of the plastic film 11, it is more preferable because the generation of transport wrinkles can be prevented.

同期制御の方法としては、実際のプラスチックフィルム搬送速度をモニタリングして、これにあわせるように下側支持回転体23の回転速度を制御する方法や、回転トルクを一定に制御して速度はプラスチックフィルム11にならうように制御する方法が好適に用いられる。   As a synchronous control method, the actual plastic film conveyance speed is monitored, and the rotational speed of the lower support rotating body 23 is controlled so as to match it. 11 is preferably used.

下側支持回転体23のメカロス分程度の回転トルクを与えるようにトルク制御してプラスチックフィルム11の搬送速度にならわせる方法を採用することにより、プラスチックフィルム11の搬送への影響を極小化できるのでより好ましい。   By adopting a method in which the torque is controlled so as to give a rotational torque equivalent to the mechanical loss of the lower support rotating body 23 and the plastic film 11 is conveyed, the influence on the conveyance of the plastic film 11 can be minimized. It is more preferable.

図1を再度参照して、図1のめっき部17Bにはフィルム搬送部16の駆動装置50からの同期信号Sbsyが下側支持回転体23の駆動装置52に送られている状態を示す。駆動装置52は、フィルム搬送部16の同期信号に従って下側支持回転体を回転させる。   Referring again to FIG. 1, the plating unit 17 </ b> B in FIG. 1 shows a state where the synchronization signal Sbsy from the driving device 50 of the film transport unit 16 is sent to the driving device 52 of the lower support rotating body 23. The driving device 52 rotates the lower support rotating body according to the synchronization signal of the film transport unit 16.

駆動装置52は1つのめっき槽内の下側支持回転体の全てに備え付けられていても良いし、一部でもよい。例えば図4の回転ベルトの場合であれば、201cと202cのロールに駆動装置52が備えてあれば好適にプラスチックフィルムを保持搬送させることができる。なお、めっき部17Aは下側支持回転体に駆動装置が設置されていない場合を示している。   The drive device 52 may be provided on all of the lower support rotating bodies in one plating tank, or may be a part thereof. For example, in the case of the rotating belt shown in FIG. 4, the plastic film can be suitably held and conveyed if the rollers 201c and 202c have the driving device 52. In addition, the plating part 17A has shown the case where the drive device is not installed in the lower side support rotary body.

また下側支持回転体23がプラスチックフィルム導電面112と接触する部分を導体とし、めっき用電源と電気的に接続することで下側支持回転体23からの給電が可能なように構成することでプラスチックフィルム11の幅方向の電位分布がより均一化され、膜厚分布の均一化を図ることができるため好ましい。   Further, the portion where the lower support rotator 23 is in contact with the plastic film conductive surface 112 is used as a conductor, and the power is supplied from the lower support rotator 23 by being electrically connected to the power source for plating. This is preferable because the potential distribution in the width direction of the plastic film 11 can be made more uniform and the film thickness distribution can be made uniform.

なお、この場合は下側支持回転体23周辺をしっかり電界遮蔽できるように、図示しない遮蔽板等を設置すれば、めっき金属が導体部へ析出するのを抑制できるので好ましい。まためっき金属の導体部への析出を完全に防ぐのは困難なため、下側支持回転体23に析出した金属の厚みが厚くなるにつれて徐々に離間方向に移動できるような構成として、下側支持回転体23を定期的に交換するか、析出金属を剥離するための定期的にメンテナンスするのが好ましい。   In this case, it is preferable to install a shielding plate or the like (not shown) so that the periphery of the lower support rotating body 23 can be securely shielded, because it is possible to suppress the plating metal from being deposited on the conductor portion. In addition, since it is difficult to completely prevent the plating metal from being deposited on the conductor portion, the lower support is configured so that it can gradually move in the separating direction as the thickness of the metal deposited on the lower support rotating body 23 increases. It is preferable to periodically replace the rotating body 23 or to perform regular maintenance for peeling the deposited metal.

図5に下側支持回転体23が移動できる構成の一例を示す。めっき槽14にはめっき液21が充填されており、陽極141が設置されている。下側支持回転体23には給電ローラ214とニップローラ203で構成される。給電ローラはめっき電源60の陰極と陰極端子61を介して接続されており、また陽極141はめっき電源60の陽極と陽極端子62を介して接続されている。   FIG. 5 shows an example of a configuration in which the lower support rotating body 23 can move. The plating tank 14 is filled with a plating solution 21 and an anode 141 is provided. The lower support rotating body 23 includes a power feeding roller 214 and a nip roller 203. The power supply roller is connected to the cathode of the plating power source 60 via the cathode terminal 61, and the anode 141 is connected to the anode of the plating power source 60 via the anode terminal 62.

ニップローラはウェブ11の厚み方向に可動できるように例えば溝構造でめっき槽の底に設置されている。そしてめっき槽との壁との間にばね231が配設されていて、常にニップローラ203を給電ローラ214に押し付ける。   The nip roller is installed at the bottom of the plating tank, for example, in a groove structure so as to be movable in the thickness direction of the web 11. A spring 231 is disposed between the wall of the plating tank and the plating tank, and always presses the nip roller 203 against the power supply roller 214.

このようにニップローラ203が給電ローラ214に移動可能に押し付けられることで、給電ローラ214の表面に金属が析出してもウェブ11を所定圧力で把持することができる。   In this way, the nip roller 203 is movably pressed against the power supply roller 214, so that the web 11 can be held with a predetermined pressure even if metal is deposited on the surface of the power supply roller 214.

なお、上部把持手段24は下側支持体23と同じ構造を有していても良く、図5に一例を示した。下側支持回転体と同様に給電ロール224とニップロール203からなり、ニップロール203は、ばね231で給電ロールに移動可能に押し付けられる。また、給電ロールは陰極端子63を介してめっき電源60の陰極に接続される。   The upper gripping means 24 may have the same structure as the lower support 23, and an example is shown in FIG. Like the lower support rotating body, it is composed of a power supply roll 224 and a nip roll 203, and the nip roll 203 is urged against a power supply roll by a spring 231. The power supply roll is connected to the cathode of the plating power supply 60 via the cathode terminal 63.

図1を再度参照して、下側支持回転体23を電極とする場合は、めっき電極60の陰極に下側回転体23を給電端子61を介して接続する。めっき電極60の陽極側は陽極電極141へ給電端子62を介して接続させる。   Referring again to FIG. 1, when the lower support rotating body 23 is used as an electrode, the lower rotating body 23 is connected to the cathode of the plating electrode 60 via the power supply terminal 61. The anode side of the plating electrode 60 is connected to the anode electrode 141 via the power supply terminal 62.

また下側支持回転体23の回転中心軸は、プラスチックフィルム11の搬送方向に対して90度の向きに設定するのが好適である。プラスチックフィルム11にシワが発生したりしてプラスチックフィルム11の幅方向に若干の張力を付与したい場合は、下側支持回転体23の回転中心軸をプラスチックフィルム11の搬送方向に対して、フィルム搬送方向を0度として45度以上90度未満の角度に設定するのがより好ましい。   Further, it is preferable that the rotation center axis of the lower support rotating body 23 is set at 90 degrees with respect to the transport direction of the plastic film 11. When wrinkles are generated in the plastic film 11 and it is desired to apply a slight tension in the width direction of the plastic film 11, the film is transported with respect to the transport direction of the plastic film 11 with respect to the rotation center axis of the lower support rotating body 23. More preferably, the direction is set to 0 degree and an angle of 45 degrees or more and less than 90 degrees.

図10に好適な角度の概念図を示す。下側回転体の回転軸230は、フィルム11の搬送方向120から45度以上90度未満の角度に設定する。   FIG. 10 shows a conceptual diagram of suitable angles. The rotating shaft 230 of the lower rotating body is set at an angle of 45 degrees or more and less than 90 degrees from the transport direction 120 of the film 11.

また下側支持回転体23のプラスチックフィルム11への接触幅は、フィルム端部から5〜10%までの幅で接触させるのが好ましく、出来る限り接触幅を小さくするのがより好ましい。   The contact width of the lower support rotating body 23 to the plastic film 11 is preferably in the range of 5 to 10% from the end of the film, and more preferably as small as possible.

次に上部把持手段について説明する。上部把持手段24としては、クリップが好適に用いられるほか、前記に説明した下側支持回転体23と同様のローラ(図5で示した例)やベルト構造を用いることも出来る。いずれの上部把持手段24の構造であっても、プラスチックフィルム11への接触幅は、フィルム端部から5〜10%までの幅で接触させるのが好ましく、出来る限り接触幅を小さくするのがより好ましい。   Next, the upper gripping means will be described. As the upper gripping means 24, a clip is preferably used, and the same roller (example shown in FIG. 5) and belt structure as the lower support rotating body 23 described above can be used. Regardless of the structure of any upper gripping means 24, the contact width to the plastic film 11 is preferably 5 to 10% from the end of the film, and the contact width should be as small as possible. preferable.

いずれの上部把持手段24においても、専用の駆動系を設けず、プラスチックフィルム11に従動させるように構成することで、駆動系の精密制御の必要性がなくなり、また駆動のための付帯設備が不要となるので装置コストが削減でき好ましい。   In any of the upper gripping means 24, a dedicated drive system is not provided, and it is configured to be driven by the plastic film 11, so that there is no need for precise control of the drive system, and no additional equipment for driving is required. Therefore, the apparatus cost can be reduced, which is preferable.

図6にその構造の一例を示す。図6(a)を参照して、上部把持手段24はブラケット29を介して車輪28に固定されている。車輪28はレール27上を移動可能に設置してある。図6(b)を参照して、このレールはめっき槽14の外側に環状に配設されてある。上部把持手段24はこのレール上に隙間なく配置される。   FIG. 6 shows an example of the structure. With reference to FIG. 6A, the upper gripping means 24 is fixed to the wheel 28 via a bracket 29. The wheels 28 are movably installed on the rails 27. With reference to FIG. 6 (b), this rail is annularly arranged outside the plating tank 14. The upper gripping means 24 is arranged on the rail without any gap.

この上部把持手段24はめっき槽14の直前30でクリップが閉じてフィルム11を把持する。図6(a)はフィルム11を把持した状態を示す。上部把持手段24自体は駆動系を持たないが、把持したフィルムに従って移動する。この移動によってレール上で前にいる上部把持手段24を押し出すことになり、全体の上部把持手段が移動する。   The upper gripping means 24 grips the film 11 with the clip closed immediately before the plating tank 14. FIG. 6A shows a state where the film 11 is held. The upper gripping means 24 itself does not have a drive system, but moves according to the gripped film. This movement pushes out the upper gripping means 24 that is in front on the rail, and the entire upper gripping means moves.

なお、フィルムに従って移動する上部把持手段24が、レール上で前にいる上部把持手段24を押し出す構成となっていれば良いので、上部把持手段24をレール上に隙間無く配置せずとも、例えば上部把持手段24から前方にロッドを伸ばしてこのロッドが前方の上部把持手段24を押し出すように構成することもできる。   Note that the upper gripping means 24 that moves according to the film only needs to be configured to push out the upper gripping means 24 that is in front on the rail. It is also possible to extend the rod forward from the gripping means 24 so that the rod pushes out the front upper gripping means 24.

しかし上部把持手段24のメカロスが大きい場合には、専用の独立した駆動系を設けて積極駆動してもよい。この場合、プラスチックフィルム11の搬送速度に上部把持手段24の速度を同期させるように制御することにより、搬送シワの発生が防止できるのでより好ましい。   However, when the mechanical loss of the upper gripping means 24 is large, a dedicated independent drive system may be provided for active driving. In this case, by controlling the speed of the upper gripping means 24 to be synchronized with the transport speed of the plastic film 11, it is more preferable because the generation of transport wrinkles can be prevented.

図1を再度参照して図1のめっき部17Bにはフィルム搬送部16の駆動装置50からの同期信号Susyが上部把持手段24の駆動装置51に送られている状態を示す。駆動装置51は、フィルム搬送部16の同期信号に従って上部把持手段24を移動させる。上部把持手段を駆動させるシステムは上部把持手段駆動システムと呼んでもよい。   Referring again to FIG. 1, the plating unit 17 </ b> B in FIG. 1 shows a state in which the synchronization signal Susy from the driving device 50 of the film transport unit 16 is sent to the driving device 51 of the upper gripping means 24. The driving device 51 moves the upper gripping means 24 in accordance with the synchronization signal from the film transport unit 16. A system for driving the upper gripping means may be called an upper gripping means driving system.

上部把持手段駆動システムは、把持したフィルムをフィルム搬送部16と全く同じ速度で搬送してもよいし、フィルムを把持した後にフィルムを開放するまでは駆動解除してもよい。フィルムを把持している間、上部把持手段駆動システムの駆動を解除してもよいのは、本実施形態のメッキ装置ではプラスチックフィルムはフィルム搬送部16によってテンションがかけられているのでフィルムを把持した上部把持手段をフィルムで引っ張ることもできるからである。なお、上部把持手段駆動システムを有する場合であって、上部把持手段がフィルムを把持していない場合は、上部把持手段をフィルム搬送部16とは全く関係なく独立に駆動してもよい。   The upper gripping means driving system may transport the gripped film at exactly the same speed as the film transport unit 16 or may release the drive until the film is released after gripping the film. While gripping the film, the driving of the upper gripping means driving system may be released because the plastic film is tensioned by the film transport unit 16 in the plating apparatus of this embodiment, so that the film is gripped. This is because the upper gripping means can be pulled with a film. When the upper gripping means driving system is provided and the upper gripping means does not grip the film, the upper gripping means may be driven independently of the film transport unit 16 at all.

同期制御の方法としては、実際のプラスチックフィルム搬送速度をモニタリングして、これにあわせるように上部把持手段24の速度を制御する方法や、回転トルクを一定に制御して速度はプラスチックフィルム11にならうように制御する方法が好適に用いられる。上部把持手段24のメカロス分程度の回転トルクを与えるようにトルク制御してプラスチックフィルム11の搬送速度にならわせる方法を採用することにより、プラスチックフィルム11の搬送への影響を極小化できるのでより好ましい。   As a method of synchronous control, the actual plastic film conveyance speed is monitored and the speed of the upper gripping means 24 is controlled so as to match it, or the rotational torque is controlled to be constant and the speed is adjusted to the plastic film 11. A method of controlling in such a manner is preferably used. By adopting a method in which the torque is controlled so as to give a rotational torque equivalent to the mechanical loss of the upper gripping means 24 and the transport speed of the plastic film 11 is adopted, the influence on the transport of the plastic film 11 can be minimized. preferable.

上部把持手段24は給電電極を兼ねていても良い。上部把持手段24のプラスチックフィルム導電面112に接触する部分に給電電極を設けることにより、上部把持手段24による把持力がそのまま電極表面とフィルム導電面との接触圧となり、しっかり密着させることができるので好ましい。   The upper gripping means 24 may also serve as a power feeding electrode. By providing a feeding electrode in the portion of the upper gripping means 24 that contacts the plastic film conductive surface 112, the gripping force by the upper gripping means 24 becomes the contact pressure between the electrode surface and the film conductive surface as it is, and can be firmly attached. preferable.

このような上部把持手段24の具体例を図7に示す。図7(a)を参照して、クリップ状の上部把持手段24は、受け側部材311と可動部材312と、これら2つの部材を可動可能に連結するヒンジピン313を含む。また、プラスチックフィルム11の導電性薄膜112側には給電電極314が配設されていてもよい。   A specific example of such upper gripping means 24 is shown in FIG. Referring to FIG. 7A, the clip-shaped upper gripping means 24 includes a receiving side member 311, a movable member 312, and a hinge pin 313 that movably connects these two members. Further, a feeding electrode 314 may be disposed on the conductive thin film 112 side of the plastic film 11.

クリップ状の上部把持手段24は、受け側部材311と可動部材312によってプラスチックフィルム11を把持する。この上部把持手段24は、図1の回転ベルト26に複数個とりつけられ、プラスチックフィルム11を把持したまま、めっき槽14内を移動する。めっき槽14から出た後は図7(b)のように可動部材を開き、プラスチックフィルム11を開放する。   The clip-shaped upper gripping means 24 grips the plastic film 11 with the receiving side member 311 and the movable member 312. A plurality of upper gripping means 24 are attached to the rotating belt 26 of FIG. 1 and move in the plating tank 14 while gripping the plastic film 11. After leaving the plating tank 14, the movable member is opened and the plastic film 11 is opened as shown in FIG.

給電電極を可動部材に配設した場合は、上部把持手段24全体が陰極となりめっき液からの金属析出の対象となる。従って給電電極314以外の部分は絶縁体でカバーするなどの処理をするのが好適である。具体的には、上部把持手段24の給電電極314以外は樹脂などの絶縁体を塗布し、表面に絶縁膜を形成するなどである。   When the feeding electrode is disposed on the movable member, the entire upper gripping means 24 becomes the cathode and becomes a target for metal deposition from the plating solution. Accordingly, it is preferable to perform a process such as covering the portion other than the power supply electrode 314 with an insulator. Specifically, an insulating material such as a resin is applied to the surface other than the power supply electrode 314 of the upper gripping means 24, and an insulating film is formed on the surface.

この上部把持手段24は、めっき装置側に設置された環状軌道上に複数個配設されてよい。また、環状軌道はめっき装置に複数個設置されていてもよい。なお1つの環状軌道上に配設された複数個の上部把持手段を上部把持手段群と呼んでもよい。   A plurality of upper gripping means 24 may be disposed on an annular track installed on the plating apparatus side. A plurality of annular tracks may be installed in the plating apparatus. A plurality of upper gripping means arranged on one annular track may be called an upper gripping means group.

図7の例では、可動部材に給電電極を配設した状態を示したが、上部把持手段24と給電電極とを別々に設けても良い。この場合の給電電極としては、ニップローラを給電電極とした構造や、給電電極を設けたクリップで把持する構造や、エンドレスベルト状の給電電極をプラスチックフィルム導電面112に密着させる構造や、板状電極をプラスチックフィルム導電面112に摺動接触させる構造を好適に用いることが出来る。   In the example of FIG. 7, a state in which the feeding electrode is provided on the movable member is shown, but the upper gripping unit 24 and the feeding electrode may be provided separately. As a power supply electrode in this case, a structure using a nip roller as a power supply electrode, a structure gripped by a clip provided with a power supply electrode, a structure in which an endless belt-shaped power supply electrode is in close contact with the plastic film conductive surface 112, a plate electrode A structure in which the plastic film is in sliding contact with the plastic film conductive surface 112 can be suitably used.

いずれの給電電極構造においても、給電電極のプラスチックフィルム導電面112との接触幅は、フィルム端部から0.1〜10%までの幅で接触させるのが好ましく、0.3〜2%幅で接触させるのが接触抵抗低減の観点からより好ましく、0.3〜2%幅で接触させるのが接触抵抗低減と接触キズ防止の観点から特に好ましい。   In any feed electrode structure, the contact width of the feed electrode with the plastic film conductive surface 112 is preferably 0.1 to 10% from the end of the film, and is 0.3 to 2%. Contact is more preferable from the viewpoint of reducing contact resistance, and contact with a width of 0.3 to 2% is particularly preferable from the viewpoint of reducing contact resistance and preventing contact scratches.

給電電極はめっき液21と直接接触しないように配置するのが好ましい。給電電極もめっきされてしまうからである。給電電極がプラスチックフィルム11と一緒にめっき液21に浸漬される場合は、給電電極のフィルム導電面112との接触面を除いて樹脂やゴムなどの絶縁体で被覆するのが好ましい。   The power supply electrode is preferably arranged so as not to be in direct contact with the plating solution 21. This is because the power supply electrode is also plated. When the power supply electrode is immersed in the plating solution 21 together with the plastic film 11, it is preferable to coat the power supply electrode with an insulator such as resin or rubber except for the contact surface with the film conductive surface 112 of the power supply electrode.

給電電極が、プラスチックフィルム11と一緒にめっき液21に浸漬されない場合は、給電電極をめっき槽14の外側に配置するのが好ましい。さらに好ましくはめっき槽14内で局所的に液面を下げてフィルム導電面112を露出させ、そこに接触するように構成するのが良い。   When the power supply electrode is not immersed in the plating solution 21 together with the plastic film 11, it is preferable to dispose the power supply electrode outside the plating tank 14. More preferably, the liquid level is locally lowered in the plating tank 14 so that the film conductive surface 112 is exposed and contacted therewith.

給電電極は、めっき用電源と電気的に接続されている必要がある。給電電極が回転体である場合、例えばスリップリングのような回転自在な電気コネクタを介して通電するのが好適である。   The power supply electrode needs to be electrically connected to the power supply for plating. When the power supply electrode is a rotating body, it is preferable to energize through a rotatable electrical connector such as a slip ring.

給電電極がプラスチックフィルムと一緒に移動する構造の場合、給電電極と電気的に接続され、かつ給電電極と一緒に移動する受電端子を設け、その受電端子を介して通電する方法が好適に用いられる。   In the case of a structure in which the power feeding electrode moves together with the plastic film, a method of providing a power receiving terminal that is electrically connected to the power feeding electrode and moves together with the power feeding electrode and energizing through the power receiving terminal is preferably used. .

図8には具体例を示す。めっき槽14にはめっき液21が満たされ、陽極141が配設されている。プラスチックフィルム11は上部把持手段24によって上端部を保持され、下側支持回転体23によって下端部を保持され、めっき槽14内を搬送される。ここで給電電極314は、上部把持手段24の可動部材313に配設され、プラスチックフィルム11の導電性薄膜112に接触する。   FIG. 8 shows a specific example. The plating tank 14 is filled with a plating solution 21 and an anode 141 is provided. The plastic film 11 is held at the upper end by the upper gripping means 24, held at the lower end by the lower support rotating body 23, and conveyed in the plating tank 14. Here, the power supply electrode 314 is disposed on the movable member 313 of the upper gripping means 24 and contacts the conductive thin film 112 of the plastic film 11.

この給電電極314はケーブル404を介して受電端子402に接続される。受電端子402は上部把持手段24の移動ルートに沿って配設された陰極バー401と常に接触し給電電極に給電する。   The power supply electrode 314 is connected to the power receiving terminal 402 via the cable 404. The power receiving terminal 402 is always in contact with the cathode bar 401 arranged along the moving route of the upper gripping means 24 and supplies power to the power feeding electrode.

装置側に固定され、めっき用電源と電気的に接続された陰極バー401上に受電端子が接触し、摺動しながら通電する方法は、装置構成が簡素化できるので好ましい。この場合、陰極バー401はめっき槽の直上以外の部分に配設することにより、摺動による摩耗粉等の塵埃をめっき槽内に持ち込むことが少ないのでより好ましい。   A method in which the power receiving terminal is in contact with the cathode bar 401 fixed to the apparatus side and electrically connected to the plating power source and is energized while sliding is preferable because the apparatus configuration can be simplified. In this case, it is more preferable that the cathode bar 401 is disposed in a portion other than directly above the plating tank, so that dust such as abrasion powder due to sliding is hardly brought into the plating tank.

さらに好ましくは、装置側に固定され、スリップリングのような回転自在な電気コネクタを介してめっき用電源と接続され、その場で回転する陰極回転体を配設し、受電端子が陰極回転体に転がり接触しながら通電するように構成することにより、摩耗粉が発生することなく通電できる。この場合の陰極回転体としては、ローラ状のものやエンドレスベルト状のものを好適に用いることが出来る。   More preferably, a cathode rotating body that is fixed to the apparatus side and connected to a plating power source via a rotatable electrical connector such as a slip ring is provided, and a cathode rotating body that rotates on the spot is disposed, and the power receiving terminal is connected to the cathode rotating body. By configuring so as to be energized while being in rolling contact, it is possible to energize without generating abrasion powder. As the cathode rotating body in this case, a roller-shaped or endless belt-shaped one can be suitably used.

図9に具体例を示す。陽極141が配設され、めっき液21で満たされためっき槽14中をプラスチックフィルム11が搬送される点は図8と同じである。上部把持手段24の可動部材312に配設された給電電極314は、装置側に固定された陰極回転体411と転がり接触しながら通電を受ける。陰極回転体は装置側のめっき用電源とロータリーコネクタ413で接続され、ベアリング412によって回転可能に設置される。上部把持手段24は図示しない保持手段によってめっき槽14の上方を移動する。   A specific example is shown in FIG. The point that the plastic film 11 is conveyed in the plating tank 14 in which the anode 141 is disposed and is filled with the plating solution 21 is the same as FIG. The feeding electrode 314 disposed on the movable member 312 of the upper gripping unit 24 is energized while being in rolling contact with the cathode rotating body 411 fixed on the apparatus side. The cathode rotating body is connected to a plating power source on the apparatus side by a rotary connector 413 and is rotatably installed by a bearing 412. The upper gripping means 24 moves above the plating tank 14 by holding means (not shown).

以上説明したようなめっき装置は、柔軟なウェブであるプラスチックフィルムの電解めっきに用いるのが好ましく、特に厳しい表面品位を要求されるフレキシブル回路基板用途の銅つきフィルムの製造に用いるのが特に好ましい。   The plating apparatus as described above is preferably used for electrolytic plating of a plastic film, which is a flexible web, and particularly preferably used for manufacturing a film with copper for a flexible circuit board that requires particularly strict surface quality.

プラスチックフィルム11の搬送と、上部把持手段24あるいは下側支持回転体23の駆動とを分離し、それぞれ専用の駆動制御を行うのが好ましい。金属めっき膜付きフィルムはその構造上、内部応力を持ちやすい。これは金属膜自体の内部応力もさることながら、めっきされる際のフィルム張力が残留することも大きな原因の一つである。   It is preferable that the conveyance of the plastic film 11 and the driving of the upper gripping means 24 or the lower support rotating body 23 are separated and dedicated driving control is performed respectively. A film with a metal plating film tends to have internal stress due to its structure. One of the major reasons for this is that the film tension during plating is left as well as the internal stress of the metal film itself.

内部応力があると、めっき膜をパターン加工した際に応力緩和が生じるため基板にひずみが生じるが、これを一定値以下に収めるのが好ましい。そこで内部応力を制御する必要性が生じ、そのためにはプラスチックフィルムにかける張力を高精度にコントロールしたいのである。   If there is an internal stress, the substrate is distorted because stress relaxation occurs when the plated film is patterned, but it is preferable to keep this within a certain value. Therefore, it is necessary to control the internal stress, and for that purpose, it is desirable to control the tension applied to the plastic film with high accuracy.

ここでプラスチックフィルム11の搬送と上部把持手段24あるいは下側支持回転体23の駆動とが同一の制御下にあった場合、フィルム張力だけを変更したいときにほかの搬送系にまでその影響が及んでしまうため最適化が極めて困難になる。   Here, when the conveyance of the plastic film 11 and the driving of the upper gripping means 24 or the lower support rotating body 23 are under the same control, when only the film tension is to be changed, the influence is exerted on other conveyance systems. Therefore, optimization becomes extremely difficult.

一方でそれぞれの制御が独立していれば、それぞれに最適な制御が可能となり、最適化は極めて容易になるのである。複数のめっき槽14を有するめっき装置17の場合、各々のめっき槽1個につき1系統の上部把持手段24あるいは下側支持回転体23の駆動系を備えることにより、より高精度の最適制御が可能となるため、より好ましい。   On the other hand, if each control is independent, optimal control is possible for each, and optimization becomes extremely easy. In the case of the plating apparatus 17 having a plurality of plating tanks 14, by providing one system of the upper gripping means 24 or the drive system of the lower support rotating body 23 for each plating tank, it is possible to perform optimum control with higher accuracy. Therefore, it is more preferable.

本発明は、縦型電解銅めっき装置に好適に利用することができるが、その応用範囲が、これらに限られるものではない。   Although this invention can be utilized suitably for a vertical electrolytic copper plating apparatus, the application range is not restricted to these.

プラスチックフィルムの電解銅めっき装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the electrolytic copper plating apparatus of a plastic film. 図1のめっき槽14を横から見た概念図である。It is the conceptual diagram which looked at the plating tank 14 of FIG. 1 from the side. めっき槽を上から見た図である。It is the figure which looked at the plating tank from the top. めっき槽を上から見た図である。It is the figure which looked at the plating tank from the top. ニップ厚が変る下側支持回転体の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the lower side support rotary body from which nip thickness changes. 駆動手段を持たない上部把持手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of the upper holding means which does not have a drive means. 上部把持手段の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of an upper holding means. 上部把持手段に給電する具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example which supplies electric power to an upper holding means. 上部把持手段に給電する具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example which supplies electric power to an upper holding means. 下側支持回転体の回転軸とウェブとの間の好ましい角度を示す図である。It is a figure which shows the preferable angle between the rotating shaft of a lower side support rotary body, and a web.

符号の説明Explanation of symbols

11 導電性薄膜つきプラスチックフィルム
111 プラスチックフィルム
112 導電性薄膜
12 原反ロール
13 前処理部
14 めっき槽
141 陽極
15 後処理部
16 フィルム搬送部
17 めっき装置
18 巻き出し装置
19 巻き取り装置
21 めっき液
22 陰極
23 下側支持回転体
24 上部把持手段
26 回転ベルト
311 受け側部材
312 可動部材
313 ヒンジピン
314 給電電極


DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Plastic film 111 with a conductive thin film Plastic film 112 Conductive thin film 12 Original fabric roll 13 Pretreatment part 14 Plating tank 141 Anode 15 Post-processing part 16 Film conveyance part 17 Plating apparatus 18 Unwinding apparatus 19 Winding apparatus 21 Plating liquid 22 Cathode 23 Lower support rotating body 24 Upper gripping means 26 Rotating belt 311 Receiving side member 312 Movable member 313 Hinge pin 314 Feed electrode


:

Claims (18)

長尺ウェブの幅方向を略鉛直方向に向けて搬送しながら前記長尺ウェブ表面に電解めっき被膜を形成させるために用いられる縦型電解めっき装置であって、
前記該長尺ウェブ表面に接触する給電電極と、
前記該長尺ウェブ上端部を把持する上部把持手段と、
前記該長尺ウェブ下端部を把持する下部支持回転体と、
前記ウェブを搬送するウェブ搬送手段と、
めっき槽と、
前記めっき槽内に設置された陽極とを有する縦型電解めっき装置。
A vertical electrolytic plating apparatus used for forming an electrolytic plating film on the surface of the long web while conveying the width direction of the long web in a substantially vertical direction,
A feeding electrode in contact with the surface of the long web;
Upper gripping means for gripping the upper end of the long web;
A lower support rotating body for gripping the lower end of the long web;
Web conveying means for conveying the web;
A plating tank;
A vertical electrolytic plating apparatus having an anode installed in the plating tank.
前記上部把持手段を駆動する上部把持手段駆動システムをさらに有し、
前記上部把持手段駆動システムと
前記長尺ウェブを搬送するウェブ搬送手段の駆動とが互いに独立している請求項1に記載された縦型電解めっき装置。
An upper gripping means driving system for driving the upper gripping means;
The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 1, wherein the upper gripping means driving system and the driving of the web conveying means for conveying the long web are independent of each other.
前記上部把持手段の搬送速度は、前記ウェブ搬送手段によって決定される前記長尺ウェブの搬送速度と同期する請求項2に記載された縦型電解めっき装置。 The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 2, wherein a conveyance speed of the upper gripping unit is synchronized with a conveyance speed of the long web determined by the web conveyance unit. 1つの環状軌道上に複数の前記上部把持手段を配設した上部把持手段群を複数有し、それぞれ独立した前記駆動システムを有してなることを特徴とする請求項3に記載の縦型電解めっき装置。 4. The vertical electrolysis according to claim 3, comprising a plurality of upper gripping means groups each having a plurality of upper gripping means arranged on one annular track, and each having the independent drive system. Plating equipment. 前記上部把持手段が前記長尺ウェブを把持している間は、前記上部把持手段駆動システムによらず前記長尺ウェブに従動して搬送されるように構成されたことを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の縦型電解めっき装置。 3. While the upper gripping means is gripping the long web, the upper gripping means is configured to be transported following the long web regardless of the upper gripping means drive system. The vertical electroplating apparatus in any one of -4. 前記上部把持手段は、固有の駆動システムを備えず、前記長尺ウェブに従動して搬送されるものであることを特徴とする請求項1に記載の縦型電解めっき装置。 The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 1, wherein the upper gripping unit is not provided with an inherent drive system and is transported following the long web. 前記ウェブ搬送手段は、
少なくとも前記長尺ウェブ上端部をニップする少なくとも一対のニップローラーと、
前記ニップローラーの少なくとも片側を駆動するための駆動源とを含む請求項1〜6のいずれかの請求項に記載された縦型電解めっき装置。
The web conveying means is
At least a pair of nip rollers for niping at least the upper end of the long web;
The vertical electrolytic plating apparatus according to any one of claims 1 to 6, further comprising a drive source for driving at least one side of the nip roller.
前記給電電極がめっき液と接触するめっき液接液部のうち、前記長尺ウェブ表面と接触する面以外は、表面に絶縁体を有する請求項1乃至7のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 It is described in any one of Claims 1 thru | or 7 which has an insulator on the surface except for the surface which contacts the said elongate web surface among the plating liquid contact parts in which the said feeding electrode contacts a plating solution. Vertical electrolytic plating equipment. 前記上部把持手段は、前記給電電極を含み、
前記給電電極を含む部材を開閉することにより前記長尺ウェブ上端を表裏から挟んで把持する機構を有し、
前記上部把持手段の開閉は前記めっき槽の外で行われるよう構成されたものである請求項1乃至8のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。
The upper gripping means includes the feeding electrode,
Having a mechanism for holding the upper end of the long web from the front and back by opening and closing the member including the feeding electrode,
The vertical electrolytic plating apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the upper holding means is configured to be opened and closed outside the plating tank.
前記給電電極は、前記長尺ウェブの上端部または/および下端部をニップするニップローラであって、該ニップローラのうち前記長尺ウェブのめっき形成面と接するローラに給電する給電端子を有する請求項1乃至9のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 The power feeding electrode is a nip roller that nips an upper end portion and / or a lower end portion of the long web, and has a power feeding terminal that feeds power to a roller in contact with a plating forming surface of the long web. A vertical electrolytic plating apparatus according to any one of claims 9 to 9. 前記給電電極への通電は、給電電極と電気的に接続された受電端子を前記めっき槽の直上から外れた位置に配設された陰極バーに接触させることにより行い、前記上部把持手段の移動に伴って前記受電端子が前記陰極バーと摺動するように構成されたことを特徴とする請求項9に記載の縦型電解めっき装置。 The power feeding electrode is energized by bringing a power receiving terminal electrically connected to the power feeding electrode into contact with a cathode bar disposed at a position off the top of the plating tank, thereby moving the upper gripping means. The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 9, wherein the power receiving terminal is configured to slide with the cathode bar. 前記給電電極への通電は、給電電極と電気的に接続された受電端子に転がり接触するように配設された陰極回転体により行う請求項1乃至9のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 The energization to the power feeding electrode is performed by a cathode rotating body disposed so as to be in rolling contact with a power receiving terminal electrically connected to the power feeding electrode. Vertical electrolytic plating equipment. 前記下側支持回転体は、前記めっき槽の内部に設けられ、前記長尺ウェブの下端部をニップするように配設された少なくとも一対の回転体である請求項1乃至12のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 The lower support rotating body is at least a pair of rotating bodies provided inside the plating tank and disposed so as to nip the lower end portion of the long web. A vertical electrolytic plating apparatus according to claim. 前記下側支持回転体は、固有の駆動システムを備えず、前記長尺ウェブに従動回転するものである請求項13に記載された縦型電解めっき装置。 The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 13, wherein the lower support rotating body is not provided with an inherent drive system and is driven to rotate by the long web. 前記下側支持回転体は前記長尺ウェブの搬送速度に同期して回転させる下側支持回転体駆動系を有することを特徴とする請求項13に記載の縦型電解めっき装置。 The vertical electrolytic plating apparatus according to claim 13, wherein the lower support rotary body has a lower support rotary body drive system that rotates in synchronization with a conveyance speed of the long web. 前記下側支持回転体の回転中心軸と前記長尺ウェブの搬送方向とが前記長尺ウェブとの平行平面内でなす角度を45°〜90°の範囲内である請求項13乃至15のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 The angle which the rotation center axis | shaft of the said lower side support rotary body and the conveyance direction of the said elongate web make in a parallel plane with the said elongate web exists in the range of 45 degrees-90 degrees. A vertical electrolytic plating apparatus according to claim 1. 前記下側支持回転体に給電する給電端子を有する請求項1乃至16のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置。 The vertical electrolytic plating apparatus according to any one of claims 1 to 16, further comprising a power supply terminal that supplies power to the lower support rotating body. 請求項1乃至17のいずれか1の請求項に記載された縦型電解めっき装置を用いて電解めっき加工を行うことを特徴とするめっき被膜付きプラスチックフィルムの製造方法。



An electroplating process is performed using the vertical electroplating apparatus according to any one of claims 1 to 17, wherein the method for producing a plastic film with a plating film is provided.



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