JP2009238956A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置および半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】窒素を含む3−5族化合物の半導体層と、前記半導体層に接して前記半導体層より上層に形成された導電体層と、を備えた半導体装置であって、前記導電体層は、2種以上の金属層が積層された積層金属層が合金化されて形成された合金であり、前記合金の仕事関数は、合金化前に前記半導体層に接していた金属の仕事関数より大きい半導体装置が提供される。
【選択図】図1
Description
図7および図8は、制御電極110と電子供給層108との界面部分を観察したTEM(透過型電子顕微鏡)写真を示す。図7はアニール前、図8はアニール後を示す。アニール前における第1金属層120はニッケル、第2金属層122は金とした。電子供給層108としてAlGaNを用いた。アニールにより、第1金属層120と第2金属層122との界面が消失していることが観察された。
C面サファイア基板にMOCVD法でAlGaN/GaN構造のHEMTを作成した。オーミック電極はTi/Al/Ni/Auの金属積層構造、ゲート電極はNi/Auの金属積層構造とした。パッシベーション膜としてPECVD法による窒化シリコン膜を形成した。その後高速熱アニール(RTA)を施した。
102 基板
104 バッファ層
106 チャネル層
108 電子供給層
110 制御電極
112 入出力電極
114 パッシベーション層
116 素子分離領域
120 第1金属層
122 第2金属層
130 トラップ層
200 半導体装置
Claims (14)
- 窒素を含む3−5族化合物の半導体層と、
前記半導体層に接して前記半導体層より上層に形成された導電体層と、
を備えた半導体装置であって、
前記導電体層は、2種以上の金属層が積層された積層金属層が合金化されて形成された合金であり、
前記合金の仕事関数は、合金化前に前記半導体層に接していた金属の仕事関数より大きい半導体装置。 - 前記導電体層は、Ni、AuおよびPtから選択された2種以上の金属の合金である、
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記導電体層は、熱アニールにより前記積層金属層が合金化されて形成される、
請求項1または請求項2に記載の半導体装置。 - 前記導電体層は、窒素を含む、
請求項1から請求項3の何れか一項に記載の半導体装置。 - 前記半導体層と前記導電体層とは、ショットキ接合を形成する、
請求項1から請求項4の何れか一項に記載の半導体装置。 - 窒素を含む3−5族化合物の半導体層を形成する段階と、
前記半導体層に接して第1仕事関数の第1金属層を形成する段階と、
前記第1金属層より上層に第2金属層を形成する段階と、
前記第1金属層および前記第2金属層を含む積層金属層を合金化して、前記第1仕事関数より大きい第2仕事関数の合金層を形成する段階と、
を備えた半導体装置の製造方法。 - 前記第1金属層は、Ni、AuおよびPtから選択された何れかの金属層であり、
前記第2金属層は、Ni、AuおよびPtから選択された何れかの前記第1金属層とは異なる金属層である、
請求項6に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記合金層を形成する段階は、熱アニール処理により前記積層金属層を合金化して前記合金層を形成する段階である、
請求項6または請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記熱アニール処理は、窒素、アルゴン、ヘリウムを含む雰囲気で実施される、
請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 窒素を含む3−5族化合物の半導体層と、
前記半導体層に接して前記半導体層より上層に形成された、前記半導体層の内部に存在する深い準位の原因となる元素を引き抜くトラップ層と、
を備え、
前記半導体層および前記トラップ層は、前記トラップ層が前記半導体層に接して形成された後に熱アニール処理されている半導体装置。 - 前記トラップ層は、酸化物、窒化物または酸窒化物の絶縁体層であり、
前記トラップ層より上層に形成された導電体層をさらに備える、
請求項10に記載の半導体装置。 - 前記トラップ層は、金属、金属合金または導電性酸化物の導電体層であり、
前記導電体層は、前記半導体層とショットキ接合を形成する、
請求項10に記載の半導体装置。 - 窒素を含む3−5族化合物の半導体層を形成する段階と、
前記半導体層に接して、前記半導体層の内部に存在する深い準位の原因となる元素を引き抜くトラップ層を形成する段階と、
前記半導体層および前記トラップ層を熱アニール処理する段階と、
を備えた半導体装置の製造方法。 - 前記熱アニール処理する段階は、窒素、アルゴン、ヘリウムを含む雰囲気で実施される、
請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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