JP2009237097A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、前記位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzと定義した場合に、nx≧ny>nz(I)を充足し、かつ、液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、Re(Cell)>Re(C)(II)を充足する、液晶表示装置である。
【選択図】なし
Description
前記液晶セルと前記第1偏光子の間、又は前記液晶セルと前記第2偏光子の間に配置された位相差体をさらに備えてなり、
前記第1偏光板が、第1偏光子と、前記第1偏光子の両表面に形成された偏光板保護フィルムを備えてなり、
前記第2偏光板が、第2偏光子と、前記第2偏光子の両表面に形成された偏光板保護フィルムを備えてなり、
前記位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、前記位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzと定義した場合に、下記一般式(I):
nx≧ny>nz (I)
を充足し、かつ、
液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、下記一般式(II):
Re(Cell)>Re(C) (II)
を充足するものである。
本発明において使用される用語は主として下記のような意味を有する。
1)位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzと定義した場合に、下記一般式:nx≧ny>nz(I)を充足する位相差層を有する位相差体は、いわゆる光学的に負のCプレートとしての性質を有するものである。
2)「面内方向の面内位相差(Re)」は、位相差層(位相差体)又は液晶セル等の面内における進相軸方向(屈折率が最も小さい方向)の屈折率をnxと、遅相軸方向(屈折率が最も大きい方向)の屈折率をnyと、位相差層(位相差体)又は液晶セル等の厚みをd(nm)と定義したときに、Re=(nx−ny)×dの式で表される値である。
また、「厚み方向の面内位相差(Rth)」は、上記の条件において、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dの式で表される値である。
Re及びRthは、例えば、大塚電子株式会社製 RETS−100、又は王子計測機器株式会社製 KOBRA−WRを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。測定する波長および測定角度によって値が変化する場合があるが、本発明にあっては、特筆しない限り、Reは23℃、55%RHの環境下で、波長589nmの光を、厚み方向に対して平行に入射して測定した際に値を意味するものとする。
4)「ヘイズ値」は、JIS K7105に準拠して測定した値である。ヘイズ値の測定には日本電色工業株式会社製、商品名:NDH2000を用いることができる。また、「光透過性基材」の「透過率」は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定され求められた値を示す。
1.概 要
本発明による液晶表示装置は、本発明による液晶表示装置は、第1偏光板と、液晶セルと、第2偏光板とをこれらの順で備えてなるものであり、その概要は、図1により説明することが可能である。図1は、下部からバックライト部の光源から光が入射し、上部から画像を認識する構成となっている。図1は、本発明による液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図1によると、本発明による液晶表示装置100は、入射側の偏光板102A(第1偏光子又は第2偏光子)と、液晶セル104と、出射側の偏光板102B(第2偏光子又は第1偏光子)とを有する。そして、本発明においては、液晶セル104と入射側の偏光板102Aの間、又は液晶セル104と出射側の偏光板102Bの間に位相差体(40A、40B)がさらに備えられてなるものである。また、偏光板102A及び偏光板102Bを構成する偏光子の両表面には偏光板保護フィルムが形成されている(図示しない)。
本発明による液晶表示装置は以下の技術的特性を有する。
1)位相差層
本発明にあっては、位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzと定義した場合に、下記一般式(I):nx≧ny>nz (I)を充足するものである。この一般式(I)を充足する位相差層を有する位相差体は、いわゆる光学的に負のCプレートとしての性質を有するものである。
本発明による液晶表示装置は、さらに、液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、下記一般式(II):
Re(Cell)>Re(C) (II)
を充足するものである。
本発明の好ましい態様によれば、液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、下記一般式(III):
0.05<Re(C)/Re(Cell)<1 (III)
を充足する、液晶表示装置が提案される。
本発明の好ましい態様によれば、位相差層の表面が、反射法におけるX線回折チャートにおいて、入射X線の延長線と反射X線との成す角度を(2θ)とした場合に、角度(2θ)が8.5°における強度I8.5と、角度(2θ)が17.0°の強度I17の比I8.5/I17.0が0.00超過1.60以下、好ましくは1.20以上1.50以下であることが好ましい。また、本発明の別の好ましい態様によれば、角度(2θ)が14.0°における強度I14と、角度(2θ)が17.0°の強度I17の比I14/I17.0が0超過1.10以下、好ましくは下限値が1.00以上であることが好ましい。強度比が上記の数値である光透過性基材を利用することにより、この光透過性基材に配向処理を施したり、配向層を形成させることが不要となり、製造工程を容易にすることが可能となる。
本発明による液晶表示装置は、第1偏光板と、液晶セルと、第2偏光板と、位相差体とにより基本的に構成されてなる。
1)位相差体
位相差体は、光透過性基材と、位相差層により基本的に構成されてなる。
Re
本発明の好ましい態様によれば、位相差体の面内位相差Re(C)の絶対値が5nm以下、好ましくは3nm以下、より好ましくは1nm以下である。Re(C)の数値が上記範囲内であることにより、本発明の位相差体を、VA方式の液晶表示素子の視野角特性を改善するのに好適な位相差体として用いることができるからである。Re(C)値は、波長依存性を有していても良い。例えば、長波長側の方が短波長側よりもRe(C)値が大きい態様でもよく、また、短波長側の方が、長波長側よりもRe(C)値が大きい態様でも良い。このようなRe(C)値の波長依存性を有することにより、例えば、本発明の位相差体を液晶表示素子の視野角特性改善のための位相差体として用いた場合に、可視光域の全域において液晶表示素子の視野角特性を改善できる。
位相差体の厚み方向の面内位相差(Rth)が、50nm以上400nm以下程度の範囲であり、好ましくは下限値が100nm以上であり上限値が300nm以下程度の範囲内であることが好ましい。Rthが上記範囲内であることにより、Aプレートと相俟って、本発明の位相差体を、VA方式の液晶表示装置の視野角特性を改善するのに好適な位相差体を得ることができる。
光透過性基材は、可撓性を有するフレキシブル材又は可撓性のないリジッド材でも用いることもできるが、フレキシブル材が好ましい。フレキシブル材を用いることにより、位相差体の製造をロールトゥロールプロセスとすることができ、生産性の向上を図ることが可能となる。フレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。
層厚
位相差層の厚みは、棒状化合物の種類及び所望の光学的特性を付与できる範囲内であれば特に限定されない。位相差層の厚みは0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。位相差層の厚みが上記範囲内にあることにより、棒状化合物の種類に合致させた光学異方性を発揮することがかのうとなり、かつ、ランダムホモジニアス配向の特徴の一つである「面内配向性」が十分達成される結果、所望の光学的特性が得ることが可能性となる。ここで、位相差層に厚みには、位相差層と光透過性基材との接着部に両者が「混合」した混合領域を有する場合、混合領域の厚みを含まないものとする。
本発明における位相差層のレターデーション(Re)は、ランダムホモジニアス配向が具備する「不規則性」および「面内配向性」の観点から、上述した通り0nm〜5nmの範囲内が好ましく、なかでも0nm〜3nmの範囲内が好ましく、特に0nm〜1nmの範囲内が好ましい。
位相差層のヘイズ値は、ランダムホモジニアス配向が具備する「分散性」の観点から、上述した通り、0%〜5%の範囲内が好ましく、なかでも0%〜1%の範囲内が好ましく、特に0%〜0.5%の範囲内が好ましい。
本発明における位相差層の構成は、単一又は複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一又は異なる組成であってもよい。なお、位相差層が複数層から構成される場合は、少なくとも基材上に直接積層された位相差層が、ランダムホモジニアス配向を形成した棒状化合物を有すれば良い。位相差層は、屈折率異方性光学を有する棒状化合物、樹脂等のその他の材を含んでなる位相差層用組成物を用いて形成することができる。
棒状化合物
位相差層は屈折率異方性を有する棒状化合物を含んでなる。好ましくは、この棒状化合物は、位相差層内においてランダムホモジニアス配向を形成してなる。このような配向状態を有することにより本発明の位相差体を光学的特性に優れたものにできるものである。
このランダムホモジニアス配向は、少なくとも、次の3つの特徴を有するものである。即ち、1]第1に位相差層の表面に対して垂直方向から位相差層を正視した場合において、棒状化合物の配列方向がランダムであること(以下、単に「不規則性」と称する場合がある。)、2]第2に位相差層において棒状化合物が形成するドメインの大きさが可視光領域の波長よりも小さいこと(以下、単に「分散性」と称する場合がある)、3]第3に位相差層において棒状化合物が面内配向していること(以下、単に「面内配向性」と称する場合がある。)、というものである。
本発明における棒状化合物は、位相差層においてランダムホモジニアス配向を形成できるものであれば特に限定されない。本発明における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となってものを指し、このような棒状の主骨格を有する化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類をあげることができる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化学式(7)〜(17)に示すものも挙げられる。
本発明における位相差層には、棒状化合物以外に他の化合物を含んでも良い。このような他の化合物としては、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を乱すものでなければ特に限定されない。このような他の化合物としては、例えば、重合可能な材料をあげることができる。
本発明による位相差体は、その他の層として、例えば、反射防止層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、および、帯電防止層等を備えてなることができる。反射防止層としては、特に限定されないが、例えば、光透過性基材上に、該基材よりも低屈折率の物質からなる低屈折率層を形成したもの、或いは光透過性基材上に、該基材よりも高屈折率の物質からなる高屈折率層、及び該基材よりも低屈折率の物質からなる低屈折率層とを、この順に、交互に、各1層ずつ以上積層したものなどが挙げられる。これら高屈折率層、及び低屈折率層は、層の幾何学的厚と屈折率との積で表される光学厚みが反射防止すべき光の波長の1/4となるように、真空蒸着、塗工等により形成される。
赤外線吸収層としては、ポリエステル樹脂等の体基材上に赤外線吸収層を塗工等により形成したものが挙げられる。また、外線吸収層としては、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等から成る赤外線吸収剤を、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等から成るバインダー樹脂中に添加して成膜したものが用いられる。
厚み
位相差体の厚みは、所望の光学的特性を発現できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、10μm〜200μmの範囲内が好ましく、特に20μm〜100μmの範囲内が好ましい。
本発明による位相差体は、基材上に位相差層を直接形成することを一つの特徴とするため、位相差層に含まれる棒状化合物が、光透過性基材に浸透し、該基材と位相差層との接着部には両者が「混合」された混合領域が形成される。このような混合領域の厚みは、ランダムホモジニアス配向を形成することができ、かつ、基材と位相差層との密着力を所望の範囲にできる状態であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、混合領域の厚みが0.1μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、特に0.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、なかでも1μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。
位相差体のヘイズ値は0%〜5%の範囲内であることが好ましく、特に0%〜1%の範囲内であることが好ましく、なかでも0%〜0.5%の範囲内であることが好ましい。
本発明による位相差体の製造方法は、セルロース誘導体からなり、かつ、前記光透過性基材の表面上に屈折率異方性を有する棒状化合物をランダムに配列させる表面配向性を備えてなる前記光透過性基材を用意する。そして、この透過性基材の表面に、前記棒状化合物を含有する位相差層用組成物を付与し、必要に応じて、前記位相差層用組成物を硬化し、位相差層を形成することを含んでなるものである。
位相差層用組成物は、棒状化合物と、その他の化合物と、任意成分と、溶媒とを含んでなるものである。溶媒を用いることにより、棒状化合物を溶媒と共に光透過性基材中へ浸透させることが可能となるため、棒状化合物と、基材を構成する材料との相互作用を強めることができる結果、棒状化合物のランダムホモジニアス配向を形成し易くなる。
溶媒としては、棒状化合物を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されない。本発明に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を例示することができ、これらの1種又は2種以上の混合溶媒であってもよい。これら溶媒の中でも、ケトン系溶媒を用いることが好ましく、なかでもシクロヘキサンが好適に用いられる。
棒状化合物の含有量は、位相差層用組成物全量中、0.1質量%〜60質量%の範囲内が好ましく、特に1質量%〜50質量%の範囲内が好ましく、なかでも10質量%〜40質量%の範囲内であることが好ましい。
位相差層用組成物は、以下の任意成分を含んでなることが可能である。
光重合開始剤
位相差層用組成物中には、必要に応じて光重合開始剤を含んでも良い。特に紫外線照射により位相差層を硬化させる処理を実施する場合には、光重合開始剤を含むことが好ましい。本発明に用いられる光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
位相差層用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。位相差層用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で決定することができる。任意の化合物を添加することにより位相差層の機械強度が向上し、安定性が改善される。
位相差層用組成物により位相差層を形成する方法は、光透過性基材の表面に位相差層用組成物を付与する方法であればいずれの方法を用いてもよく、具体的には、塗布方式する方法が挙げられる。塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法などを例示することができる。
本発明にあっては、第1と第2の偏光板を用いる。第1偏光板及び第2偏光板の基本構成は、第1偏光子(第2偏光子)と、これらの両表面に形成された偏光板保護フィルムとを備えてなるものである。位相差体と、第1の偏光板及び第2の偏光板とが組み合わさることにより、液晶表示装置の視野角特性を改善する光学補償機能を有する偏光体とすることができる。
偏光子は、特に限定されないが、例えばヨウ素系偏光層、二色性染料を用いる染料系偏光層やポリエン系偏光層などを用いることができる。ヨウ素系偏光層や染料系偏光層は、一般にポリビニルアルコールを用いて製造される。例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を挙げることができる。
偏光板保護フィルムは、セルロース誘導体、延伸ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、エチレン・酢酸ビニル共重合体けん化物、ポリメチルペンテン等のフィルム(シート)等が挙げられる。好ましくは、光学的機能であるヘイズ、反射率、光線透過率、写像性に優れ、且つ、シートの厚さにムラがない、精度がよいものであることが必要条件であり、キャスティング法で製造されるセルロース誘導体、特に、セルローストリアセテートのフィルムが好ましい。偏光板は、偏光子を偏光保護フィルムに直接又は接着剤を介することにより製造することができる。
本発明における液晶セルは従来又は今後開発される液晶部位であってよい。本発明の好ましい態様によれば、液晶セルは、垂直配向液晶セル(VAモード)であることが好ましい。VA液晶セルは、垂直配向型液晶が一対の基板間に封入されてなるものである。本発明に用いられるVA液晶セルは、垂直配向型液晶が封入された構成を有するものであるため、VA液晶セル全体としては、光学的に正のCプレートとしての性質を備えるものになる。本発明に用いられるVA液晶セルは、本発明の液晶表示装置の駆動方式等に応じて所望の光学特性を備えるものを選択して用いることができ、上述した位相差フィルムの光学特性が、本発明で規定する範囲内となるように調整されることになる。VA液晶セルは、一般的なものであってよい。
第1偏光板と、液晶セルと、第2偏光板と、位相差体とを積層(必要に応じて接着剤層を介して)することにより製造することができる。本発明による液晶表示装置は、バックライト部と接合することにより、画像表示装置として利用することができる。
本発明の内容を下記の実施例を用いて説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定して解釈されるものではない。
第1偏光板の作製
予めヨウ素染色、延伸したPVAフィルムの片側に反射防止機能を有する偏光板保護フィルム、反対側に厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製 TF80UL)を貼合せて、第1偏光板を作製した。
反射防止機能を有する偏光板保護フィルムの代わりに、光学的に負のCプレートの機能を有する下記の位相差体を用いた以外は、第1偏光板と同様にし、第2偏光板を作製した。
光学的に負のCプレートの機能を有する位相差体を以下のようにして作製した。
光透過性基材として、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ社製 KC8UX2MW)を用いた。屈折率異方性材料として、下記化学式(I)で表される光重合性液晶化合物、重合開始剤としてイルガキュア907(日本チバガイギー社製)を光重合性液晶化合物に対して5wt%とし、シクロヘキサノンに20wt%溶解させ、位相差層用組成物とした。この位相差層用組成物を光透過性基材上に、バーコート法により塗工し、40℃オーブンで2分間乾燥させた後、窒素雰囲気下にて、100mJ/m2の紫外線を照射して硬化させ、光透過性基材上に厚み5μmの位相差層を形成することにより位相差体を作製した。
第1偏光板および第2偏光板をシャープ株式会社製AQUOS LC26GH3に実装し、液晶表示装置を作製した。実装方法は、第1偏光板および第2偏光板の吸収軸が概ね直交するように、第1偏光板の吸収軸が画面の横方向、第2偏光板の吸収軸が画面に対して縦方向となるように粘着剤(日東電工株式会社製CS9621)を用いて貼り合わせた。第1偏光板のセル側にはTAC、第2偏光板のセル側には負のCプレートとなるようにした。
第2の偏光板の負のCプレートの光透過性基材として、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製 TF80UL)を用いたこと以外は、実施例1と同様に作製した。
第2の偏光板の負のCプレートの光透過性基材として、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製 TD80ULH)を用いたこと以外は、実施例1と同様に作製した。
第2の偏光板の負のCプレートの光透過性基材として、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム社製 TDY80UL)を用いたこと以外は、実施例1と同様に作製した。
評価1:面内位相差Re、Rth測定評価
KOBRA−WR(王子計測機器株式会社製)を用い、平行ニコル回転法により、23℃、55%RHの環境下で、波長589nmの光を、厚み方向に対して平行に入射して測定した。測定後、下記1)及び2)を行った。
1)位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、前記位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzの関係を調べた。
2)液晶セルの面内位相差Re(Cell)及び厚み方向の面内位相差Rth(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)及び厚み方向の面内位相差Rth(C)とを測定し、Re(C)/Re(Cell)を計算した。Re及びRthの単位は、「nm」である。得られた値は以下の基準で視野角特性の優劣が評価される。
評価基準
優良: 0<Re(C)/Re(Cell)≦0.1
良好: 0.1<Re(C)/Re(Cell)R0≦1
普通: 1<Re(C)/Re(Cell)R0≦9
不良: 9<Re(C)/Re(Cell)R0
下記測定条件にて、反射法におけるX線回折測定し、X線回折チャートにおいて、入射X線の延長線と反射X線とのなす角を2θとした場合において、1)2θ=8.5°の強度I8.5と2θ=17.0°の強度I17.0の比I8.5/I17.0、及び2)2θ=13.2°の強度I13.2と2θ=14.8°の強度I14.8の比I13.2/I14.8を求めた。得られた数値について以下の基準で評価した
測定条件
装置名:RIGAKU RINP−1500
X線源:Cu
管電流:150mA
管電圧:50kV
走査速度:5°/min
発散スリット(DS:自動)1°
散乱スリット(SS:自動)1°
受光スリット(RS:自動)0.3mm
モノクロ受光スリット(RSm:手動)0.6mm
評価基準
1)I 8.5 /I 17.0 評価
優良: 1.00≦I8.5/I17.0≦1.50
良: 0.00<I8.5/I17.0≦1.60
不良: 1.60<I8.5/I17.0
2)I 14.0 /I 17.0 評価
優良: 1.00≦I13.2/I14.8≦1.10
良: 0.00<I13.2/I14.8≦1.10
不良: 1.10<I13.2/I14.8
(正面)コントラスト評価として、液晶表示装置についての輝度を測定した。測定は、トプコン社製色彩輝度計BM−5Aを用い、液晶表示装置の表示画面に対して法線方向より暗室にて行った。得られた数値について以下基準で評価した
評価基準
1)I 8.5 /I 17.0 評価
優良: 640≦コントラスト数値
良: 610<コントラスト数値
不良: コントラスト数値≦610
2 … 位相差層
3 … 棒状化合物
100 … 液晶表示装置
40A、40B … 位相差体
102A、102B … 偏光板
104 … 液晶セル
Claims (7)
- 第1偏光板と、液晶セルと、第2偏光板とをこれらの順で備えてなる液晶表示装置であって、
前記液晶セルと前記第1偏光子の間、又は前記液晶セルと前記第2偏光子の間に配置された位相差体をさらに備えてなり、
前記第1偏光板が、第1偏光子と、前記第1偏光子の両表面に形成された偏光板保護フィルムを備えてなり、
前記第2偏光板が、第2偏光子と、前記第2偏光子の両表面に形成された偏光板保護フィルムを備えてなり、
前記位相差体の位相差層における面内方向において、互いに直交するx、y方向の屈折率をnx、nyと、及び、前記位相差層における厚み方向において、z方向の屈折率をnzと定義した場合に、下記一般式(I):
nx≧ny>nz (I)
を充足し、かつ、
液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、下記一般式(II):
Re(Cell)>Re(C) (II)
を充足する、液晶表示装置。 - 液晶セルの面内位相差をRe(Cell)と、位相差体の面内位相差をRe(C)と定義した場合に、下記一般式(III):
0.01<Re(C)/Re(Cell)<1 (III)
を充足する、請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記液晶セルが、垂直配向型液晶セルであることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
- 前記位相差体が、光透過性基材と、位相差層とを備えてなり、
前記位相差層が屈折率異方性を有する棒状化合物を含んでなり、かつ、前記位相差層中において、前記棒状化合物がランダムホモジニアス配向を形成してなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶表示装置。 - Re(C)の絶対値が5nm以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記位相差層の表面が、反射法におけるX線回折チャートにおいて、入射X線の延長線と反射X線との成す角度を(2θ)とした場合に、
角度(2θ)が8.5°における強度I8.5と、角度(2θ)が17.0°の強度I17の比I8.5/I17.0が1.60以下である、請求項1〜5に記載の液晶表示装置。 - 角度(2θ)が13.2°における強度I13.2と、角度(2θ)が14.8°の強度I17の比I13.2/I14.8が1.10以下である、請求項1〜6に記載の液晶表示装置。
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