JP2009233949A - 離型紙の製造方法および離型紙の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】製造方法40は、原反20に凹凸模様12を形成して離型紙10を製造する方法である。製造方法40は、原反の表面20aを粗化する工程と、エンボス加工により、粗化された原反の表面に凹凸模様を形成する工程と、を備える。粗化する工程において、原反の表面における算術平均粗さ及び二乗平均平方根傾斜が調整される。
【選択図】図1
Description
このようにして、凹部12bと凸部12aとを有する粗大な凹凸模様12が表面に形成された原反20を備えた離型紙10であって、凸部12a上に微小な凹凸形状16が形成され、凹部12b内が平滑化された離型紙10を製造することができる。製造された離型紙10は、図示しない回収装置に巻き取られていく。
12 凹凸模様
12a 凹凸模様の凸部
12b 凹凸模様の凹部
16 微小な凹凸(微小凹凸形状)
20 原反
22 基材
24 合成樹脂層
40 製造装置
41 粗化装置(第1エンボス装置)
42 第1エンボスロール
44 凹凸部(第1凹凸部)
46 バックアップロール
51 エンボス装置(第2エンボス装置)
52 エンボス型(第2エンボスロール、エンボス版)
54 凹凸部(第2凹凸部)
54a 凸部
54b 凹部
56 バックアップロール
Claims (17)
- 原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する方法であって、
前記原反の表面を粗化して、前記表面における算術平均粗さ及び二乗平均平方根傾斜を調整する工程と、
エンボス加工により、粗化された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える
ことを特徴とする離型紙の製造方法。 - 前記粗化する工程において、前記表面の算術平均粗さが0.8μm以上4.0μm以下となるとともに二乗平均平方根傾斜が0.10μm以上0.46μm以下となるよう、前記原反の前記表面を粗化する
ことを特徴とする請求項1に記載の離型紙の製造方法。 - 前記凹凸模様を形成する工程において、前記凹凸模様の凸部に位置するようになる前記原反の表面を粗化された状態に保ちながら、前記凹凸模様の凹部に位置するようになる前記原反の粗化された表面をならす
ことを特徴とする請求項1または2に記載の離型紙の製造方法。 - 前記粗化する工程において、前記表面の十点平均粗さが16.5μm以下となるよう、前記原反の前記表面を粗化する
ことを特徴とする請求項3に記載の離型紙の製造方法。 - 前記粗化する工程において、エンボス加工により、前記原反の前記表面が粗化される
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。 - 前記粗化する工程において、前記原反の前記表面のうちの前記凹凸模様が形成されるようになる領域を粗化する
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。 - 前記原反は、基材と、前記基材に積層された合成樹脂層と、を有し、
前記合成樹脂層が、前記原反の粗化される表面をなす
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。 - 原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する方法であって、
算術平均粗さが0.8μm以上4.0μm以下となるとともに二乗平均平方根傾斜が0.10μm以上0.46μm以下となるように表面が粗化された原反を準備する工程と、
エンボス加工により、粗化された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える
ことを特徴とする離型紙の製造方法。 - 前記凹凸模様を形成する工程において、前記凹凸模様の凸部に位置するようになる前記原反の表面を粗化された状態に保ちながら、前記凹凸模様の凹部に位置するようになる前記原反の粗化された表面をならす
ことを特徴とする請求項8に記載の離型紙の製造方法。 - 準備された前記原反は、前記表面の十点平均粗さが16.5μm以下となるように粗化されている
ことを特徴とする請求項9に記載の離型紙の製造方法。 - 準備された前記原反の前記表面のうちの前記凹凸模様が形成されるようになる領域が粗化されている
ことを特徴とする
ことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。 - 前記原反は、基材と、前記基材に積層された合成樹脂層と、を有し、
前記合成樹脂層が、前記原反の粗化された表面をなす
ことを特徴とする請求項8乃至11のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。 - 原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造装置であって、
前記原反の表面の算術平均粗さが0.8μm以上4.0μm以下となるとともに二乗平均平方根傾斜が0.10μm以上0.46μm以下となるよう、前記原反の前記表面を粗化する粗化装置と、
前記粗化装置の下流側に配置され、前記原反に前記凹凸模様を形成するエンボス装置と、を備える
ことを特徴とする離型紙の製造装置。 - 前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部を有するエンボス型と、前記エンボス型に対向して配置され、前記エンボス型との間で前記原反を圧するようになるバックアップ体と、を有し、
前記エンボス型の前記凹凸部の凸部は、前記バックアップ体との間で原反を圧して前記原反の前記表面をなだらかにする
ことを特徴とする請求項13に記載の離型紙の製造装置。 - 前記粗化装置は、前記原反の前記表面の十点平均粗さが16.5μm以下となるように、前記原反の前記表面を粗化する
ことを特徴とする請求項14に記載の製造装置。 - 前記粗化装置は、前記原反の表面のうちの前記エンボス装置によって前記凹凸模様が形成されるようになる領域を粗化する
ことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。 - 前記原反は、表面をなす合成樹脂層と、前記合成樹脂層に積層された基材と、を有し、
前記粗化装置は、前記原反の前記合成樹脂層に当接し当該合成樹脂層の表面を粗化するエンボス型を有し、
前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部であって前記合成樹脂層に当接するようになる凹凸部を含むエンボス型を有する
ことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
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JP2008081062A JP5239444B2 (ja) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | 離型紙の製造方法および離型紙の製造装置 |
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