JP2009229250A - ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源 - Google Patents

ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源 Download PDF

Info

Publication number
JP2009229250A
JP2009229250A JP2008075162A JP2008075162A JP2009229250A JP 2009229250 A JP2009229250 A JP 2009229250A JP 2008075162 A JP2008075162 A JP 2008075162A JP 2008075162 A JP2008075162 A JP 2008075162A JP 2009229250 A JP2009229250 A JP 2009229250A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
gas
light
light source
measured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008075162A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Oguri
均 小栗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority to JP2008075162A priority Critical patent/JP2009229250A/ja
Publication of JP2009229250A publication Critical patent/JP2009229250A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】大気ガスの分析に使用される光を高出力化する。
【解決手段】被測定ガスの吸収線波長を含む波長の光を出射し、該光の吸収量から前記被測定ガスの濃度を測定するガス測定装置であって、レーザ光源と、一定周期で分極反転した誘電体結晶を有し、光パラメトリック発生によって前記レーザ光源からの光を波長変換して被測定ガスに応じた波長の光を発生させる波長変換手段と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、光の吸収を用いて被測定ガスの濃度を測定するガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用の光を発生させるガス測定用光源に関する。
近年、地球温暖化の問題がクローズアップされている。温暖化の主な原因の一つは、COx(炭素酸化物)であると言われている。
また、大気汚染物質であるNOx(窒素酸化物)やSOx(硫黄酸化物)によって光化学スモッグが発生するという問題も注目を集めている。
これらを背景として、大気ガスを直接的に常時監視することが重要となってきている。
大気ガスの分析方法としては、大気ガスをサンプリングし、分析に不要な成分を除去する前処理を行った上で、発光分析や赤外吸収分析や化学分析等の手法を用いて、定量分析を行う方法があるが、定期的なサンプリングが必要で前処理に時間もかかるため、常時リアルタイムで分析結果を得ることができないという問題がある。また、サンプリング地点の局所的な情報しか得られない欠点もある。
一方、最近では、レーザ光を大気中に放射し、大気ガスにより吸収を受けた光を受光して、その吸収量から大気ガスの分析を行うレーザ吸収分析法が実用化され始めている。この方法では、サンプリングや前処理が不要であるため、常時リアルタイムの分析結果を得ることが可能となる。また、レーザ光の光路全てが分析対象となるので、より広い範囲の平均化された分析結果が得られる。
レーザ吸収分析法を用いて大気ガスを分析する場合、COx等の各種の被測定ガスの吸収波長に合わせて、波長2〜6μmの中赤外波長帯のレーザが用いられる。このようなレーザ光源としては、従来、量子カスケードレーザや、差周波発生により基本光の波長を変換する波長変換レーザ(例えば、特許文献1参照)が知られている。
特開2007−108593号公報
ところで、レーザ光の吸収量に基づいて大気ガスを分析する際、大気中の塵等によって光が散乱してしまうと、被測定ガスによる吸収量が正確に求まらなくなる。そのため、正確な測定を行うには、レーザ光の波長を吸収波長の周りに周期的に高速掃引する。こうすると、被測定ガスによるレーザ光の吸収量が波長の掃引に合わせて周期的に変化するので、測定される受光強度の振幅から被測定ガスの濃度を求めることができる。
しかしながら、上述した従来の中赤外波長帯レーザである量子カスケードレーザは、素子の温度を制御することで波長を変化させるので、高速に波長を掃引することが難しいという問題がある。また、上述の特許文献1に開示された波長変換レーザは、誘電体結晶中にチャープした分極反転構造を設け、入射するシグナル光の波長を変化させることで出力光の波長を可変にするものであるが、分極反転の周期がチャープしているため、単位波長当りの相互作用長が短く高出力が得られないという問題がある。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、大気ガスの分析に使用される光を高出力化することが可能なガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源を提供することを目的としている。また、大気ガスの分析に使用される光の波長を高速に掃引することが可能なガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源を提供することを目的としている。
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、被測定ガスの吸収線波長を含む波長の光を出射し、該光の吸収量から前記被測定ガスの濃度を測定するガス測定装置であって、レーザ光源と、一定周期で分極反転した誘電体結晶を有し、光パラメトリック発生によって前記レーザ光源からの光を波長変換して被測定ガスに応じた波長の光を発生させる波長変換手段と、を備えることを特徴とする。
この構成によれば、一定の周期で分極反転した誘電体結晶を使用して光パラメトリック発生を行うので、相互作用長が長くなって変換効率が上がり、大気ガス測定用の高出力な光を発生させることができる。測定光が高出力になることで、大気ガスの分析がなされる光路長(光源から受光部まで)を長くとることが可能となり、広い範囲にわたって分析を行うことができる。
また、本発明は、上記のガス測定装置において、前記レーザ光源は、外部共振器型のレーザ光源であって該外部共振器内に発振波長を可変に制御する波長可変手段を有し、前記波長可変手段は、発振波長の制御により、前記波長変換手段からの出力光の波長を被測定ガスの吸収線波長の周りに掃引し、前記波長が掃引された出力光を受光し、その受光強度の周期的変化の振幅に基づいて被測定ガスの濃度を測定することを特徴とする。
この構成によれば、波長可変手段によって出力光の波長を掃引するので、大気中の塵等による散乱の影響を受けず、正確な測定を行うことができる。
また、本発明は、上記のガス測定装置において、前記波長可変手段は、印加電界に応じて屈折率が変化する液晶と、該液晶に電界を印加する電極と、前記液晶を挟んで対向して配置された反射鏡と、を有する波長フィルタであることを特徴とする。
この構成によれば、電界の印加により液晶の屈折率を変化させることで発振波長を可変にするので、大気ガス測定用の光の波長を高速(例えば100Hz)に掃引することができる。これにより、大気中の塵等による散乱の影響を受けない正確な測定が可能となる。
また、本発明は、上記のガス測定装置において、前記レーザ光源は、ブロードエリア型の半導体レーザ素子を有することを特徴とする。
この構成によれば、ブロードエリア型の半導体レーザ素子を用いることで高出力化が可能である。
また、本発明は、上記のガス測定装置において、前記波長変換手段は、波長2〜6μmの中赤外波長帯の光を発生させることを特徴とする。
この構成によれば、COx,NOx,SOx等の各種の物質の分析を行うことが可能である。
また、本発明は、レーザ光源からの光を所定周期で分極反転した誘電体結晶に入力して光パラメトリック発生により被測定ガスの吸収線波長を含む波長に波長変換し、前記波長変換された光を被測定ガス中に透過させて透過後の光の吸収量から前記被測定ガスの濃度を測定することを特徴とするガス測定方法である。
また、本発明は、被測定ガスの吸収線波長を含む波長の光を出射するガス測定用光源であって、レーザ光源と、所定周期で分極反転した誘電体結晶を有し、光パラメトリック発生によって前記レーザ光源からの光を波長変換して被測定ガスに応じた波長の光を発生させる波長変換手段と、を備えることを特徴とするガス測定用光源である。
本発明によれば、大気ガスの分析に使用される光を高出力化することが可能である。また、大気ガスの分析に使用される光の波長を高速に掃引することが可能である。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳しく説明する。
図1は本発明のガス測定用光源の一実施形態を示した概略構成図である。本実施形態によるガス測定用光源100は、外部共振型半導体レーザ1、バルク型波長変換素子2、及び波長フィルタ6、から構成されている。
外部共振型半導体レーザ1は、半導体素子11と、第1のビーム整形素子12と、第2のビーム整形素子13と、反射手段14と、波長フィルタ3と、を備えている。
半導体素子11は、同一端面(1つの出射面11a)から少なくとも互いに異なる2方向に光を出射するものであり、例えば、利得導波路型半導体レーザである。利得導波路型半導体レーザとは、レーザの活性層がp型半導体およびn型半導体との接合面に沿って50μm〜400μm程度の広い幅を持つものである。この利得導波路型半導体レーザは、駆動電流の増加に伴い活性層の両端部の屈折率が高くなるため、活性層自身が凹レンズとしての効果を持ち、出射光が異なる2方向に曲げられるという特性を持つ。
半導体素子11としては、ブロードエリア型半導体レーザ素子(BALD)が好ましく、特に本実施形態では発振波長域に976nmを含むものが好ましい。例えば発振波長970〜980nmのBALDが好適に用いられる。本発明において好ましいブロードエリア型半導体レーザ(BALD)は、利得導波路型半導体レーザであって、横(空間)モードがマルチモードであるレーザ光を発振する。
半導体素子11から2方向に出射する光のうちの一方の出射光18は、半導体素子11の励起光となる外部共振用の光として利用される。すなわち、該一方の出射光18は、第1のビーム整形素子12および第2のビーム整形素子13を順に通過することによって、半導体素子11の中心軸17に沿う平行ビームにコリメートされる。コリメートされた出射光18は、波長フィルタ3を通った後に反射手段14で反射され、反射されたビームは、再度、波長フィルタ3と第2のビーム整形素子13と第1のビーム整形素子12とを順に通過して、半導体素子11に帰還し、半導体素子11の励起光となる。
また、図示していないが、半導体素子11の出射面11a上には共振波長に対する反射防止膜を設けることが好ましい。本実施形態では波長976nmの光の反射を防止する膜が設けられている。
他方の出射光19は、第1のビーム整形素子12および第2のビーム整形素子13を順に通過することによって半導体素子11の中心軸17に沿う平行ビームにコリメートされ、更に波長フィルタ3を通って外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aとなる。
また、半導体素子11において、前記出射面11aと対向する端面側には反射膜11bが設けられている。したがって、半導体素子11に帰還したレーザ光は、この反射膜11bで反射されて再び出射面11aから出射される。
このとき、一方の出射光18の光路を伝搬して帰還した光の大部分は、反射膜11bで反射された後、再び該一方の出射光18として出射されるが、一部は反射膜11bで反射される前後に他方の出射光19と結合し、該他方の出射光19の光路を伝搬して出射される。
すなわち他方の出射光19および外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aは、反射手段14と反射膜11bとの間での共振によって発振されるレーザ光である。
該反射膜11bとしては、例えば誘電体多層膜フィルタや金属蒸着膜などを用いることができる。
第1および第2のビーム整形素子12,13は、半導体素子11から2方向に出射される光18,19の両方の光路に跨って配置されている。
ここで、半導体素子11から出射される2方向の出射光18,19の光軸の両方を含む面に垂直な方向を第一の方向(図1において紙面と垂直をなす方向)とし、半導体素子11の中心軸17方向を第三の方向とし、前記第一の方向と第三の方向に垂直な方向を第二の方向とする。
第1および第2のビーム整形素子12,13のうち、半導体素子11に近い方の第1のビーム整形素子12は、第一の方向に出射光を絞り込む作用を有するものであり、第2のビーム整形素子13は、第一の方向と第二の方向の両方向に出射光を絞り込む作用を有するものである。かかる構成とすることにより、半導体素子11から出射される2方向の出射光18,19を、共通の光学系(第1および第2のビーム整形素子12,13)で効率良くコリメートすることが可能となる。
たとえば、第1のビーム整形素子12として、円筒形レンズよりなる速軸用コリメータ(以下、「FAC」という場合がある。)を用い、第2のビーム整形素子13として、球レンズよりなる遅軸用コリメータ(以下、「SAC」という場合がある。)を用いることが好ましい。
反射手段14としては、反射ミラーを用いることができる。該反射ミラーとしては、一方の出射光(外部共振用の光)18が照射される領域にのみ鏡面状の反射面15が形成されている、部分反射ミラーが好ましい。
かかる構成においては、反射面15の形成領域を調整することにより、ビーム形状を調整することも可能である。反射面15の形成領域の調整方法は、ダイシングにより非反射領域を削る方法でもよく、あるいは、反射面15以外の領域に光吸収膜や反射防止膜などを形成する方法でもよい。
なお、反射手段14において、反射面15の形成領域に、特定波長光のみを選択的に反射するフィルタ膜を形成してもよい。かかる構成とすれば、共振器構造における波長選択性が高まり、結果的に、外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aのスペクトル幅(線幅)がより狭窄化される。
かかる構成の外部共振型半導体レーザ1にあっては、半導体素子11(反射膜11b)と反射手段14(反射面15)との間で外部共振器構造が構成されており、したがって、外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aは横(空間)シングルモードのレーザ光となる。
ここで、本発明における「横(空間)シングルモードのレーザ光」とは、ニアフィールドパターンの測定により得られるビームプロファイルがシングルモードであるものをいう。
波長フィルタ3は、第2のビーム整形素子13と反射手段14の間の一方の出射光18の光路、及び第2のビーム整形素子13を通過後の他方の出射光19の光路を跨ぐようにして設けられており、特定の波長のみを選択的に透過する機能を有している。外部共振型半導体レーザ1の発振波長(出射光10aの波長)は、この波長フィルタ3による波長の選択によって制御される。即ち、半導体素子11の反射膜11bと反射手段14の反射面15とによって構成された共振器内においては、半導体素子11の出射光18は、波長フィルタ3によって選択された波長のみが増幅されて発振に寄与することとなる。したがって、波長フィルタ3の選択波長を選ぶことにより、外部共振型半導体レーザ1の発振波長を制御することができる。波長フィルタ3の選択波長は、固定ではなく、大気ガスの分析時には所定の周波数、例えば100Hzで可変に動かせることが好ましい。また、波長フィルタ3によって選択される波長の帯域幅は、出射光10aのスペクトル線幅が1nm以下となることが好ましく、0.1nm以下となることがより好ましい。更に、出射光10aが縦シングルモードとなるようにすることが望ましい。なお、波長フィルタ3は、出射光18の光路のみを跨ぐように設けてもよく、この場合にも上記と同様に、当該波長フィルタ3によって選択された波長のみが増幅されて発振することとなる。
波長フィルタ3としては、ファブリーペロー干渉系内の媒質に液晶を用い、電界の印加によって液晶の屈折率を変化させる液晶エタロンフィルタや、ファブリーペロー干渉系をエアギャップ(空気層)で構成し、ピエゾ素子を用いてエアギャップ長を変化させるピエゾ駆動型エアギャップエタロンフィルタ等を用いることができる。
図2は、液晶エタロンフィルタの概略構成図である。液晶エタロンフィルタ3aは、石英ガラス32の一方の面に透明電極33を形成するとともに他方の面に反射防止膜35を形成し、透明電極33の石英ガラス32と反対の面に反射膜34を形成してなる第1部材と、同様の構成の第2部材とを互いの反射膜34が対向するようにして正確に平行に向かい合わせ、その間隙に所定の液晶材料からなる液晶層31を設けた構成を有する。一方の反射防止膜35の側から液晶エタロンフィルタ3aに入射した光は、2つの反射膜34の間を多重反射して液晶層31の部分でファブリーペロー干渉を起こす。この結果、液晶材料の屈折率に応じて決まる波長の光のみが干渉により強め合い、他方の反射防止膜35の側から出射される。これにより、液晶エタロンフィルタ3aは、液晶材料の屈折率に応じて決まる波長の光のみを透過させる波長フィルタとして機能することになる。液晶材料の屈折率は、透明電極33により電界を発生させ液晶層31へ印加することで制御可能である。一般に、液晶材料の応答速度は8ms程度であるので、液晶材料の屈折率を例えば周波数100Hzで可変に制御することができる。
なお、ピエゾ駆動型エアギャップエタロンフィルタを用いた場合にも、ピエゾ素子の駆動により、エアギャップ長に応じた波長の光のみが選択的に透過する。ピエゾ素子の駆動周波数は、液晶エタロンフィルタ3aと同程度の周波数とすることができる。
波長フィルタ3を通過した外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aは、バルク型波長変換素子2に入射される。
バルク型波長変換素子2は、強誘電体結晶からなるバルクの素子であり、その内部は、所定の方向に沿って結晶の分極方向が一定の周期で反転している構造を有する。バルク型波長変換素子2に周波数ωpの光を入射すると、ωp=ωs+ωiを満たす周波数ωsのシグナル光と周波数ωiのアイドラー光が発生する。バルク型波長変換素子2の温度を変えることによって、シグナル光とアイドラー光の周波数を変化させることができる(光パラメトリック発生)。このように、バルク型波長変換素子2は、外部共振型半導体レーザ1からの出射光10aを光パラメトリック発生によって波長変換し、シグナル光とアイドラー光を含んだ光10bを出射する。本実施形態では、波長976nmの入力光に対して波長3.4μmのシグナル光が発生するように、バルク型波長変換素子2の各パラメータ(分極反転周期、温度)を設定する。バルク型波長変換素子2として、具体的には、MgOドープLN(ニオブ酸リチウム)に周期的にドメイン反転させてなるPPLNが好適に用いられる。
バルク型波長変換素子2は上記のとおり分極反転の周期が一定であり、このバルク型波長変換素子2を用いて光パラメトリック発生を行うので、光パラメトリック発生における相互作用長は結晶中の分極反転部分の全長とほぼ等しく、高い変換効率を得ることができる。そのため、シグナル光(出射光10c)の高出力化が可能である。
なお、図示していないが、バルク型波長変換素子2からの出射光10bを平行光としてコリメートするため、バルク型波長変換素子2の前後に適宜レンズを挿入してもよい。
バルク型波長変換素子2からの出射光10bは、波長フィルタ6に入射される。波長フィルタ6は、バルク型波長変換素子2から出射される出射光10bのうちシグナル光(本実施形態では波長3.4μmの光)を透過するように構成される。
これにより、波長フィルタ6からは、大気ガスの分析に使用される中赤外波長帯の出射光10cが出力される。
本実施形態のガス測定用光源100にあっては、半導体素子11を作動させると、外部共振器半導体レーザ1から、波長976nmの出射光10aが出射される。出射光10aの波長は、液晶エタロンフィルタ3aにおける液晶に印加する電界を制御することで、可変とすることができる。この出射光10aがバルク型波長変換素子2に入射され、光パラメトリック発生によって波長変換されて、波長3.4μmの出射光10cがガス測定用光源100の出力として得られる。
図3は、本発明のガス測定装置及びガス測定方法の一実施形態を示した概略図である。本実施形態によるガス測定装置は、ガス測定用光源100と、光出射部200と、ガス測定用光源100と光出射部200とを接続した光ファイバ300と、受光部400と、解析部500と、を含んで構成される。
ガス測定用光源100からの出力光は、光ファイバ300に導入され、光出射部200から受光部400へ向けて出射される。本実施形態では、光出射部200と受光部400は、道路600上の所定の高さを光が横切るようにして配置される。このとき、光出射部200からの出射光が拡散しないよう、ビーム径を例えば1mm程度にコリメートすることが好ましい。
ここで、ガス測定用光源100の液晶エタロンフィルタ3aにおいて、液晶層31へ周期的に変化する電界を印加することにより、図4に示すように、ガス測定用光源100の出力光波長を被測定ガス(NOx等)の吸収線波長を中心として例えば幅4nm程度で周期的に掃引させる。掃引の周波数は例えば100Hzとする。このとき、出力光を掃引する際の中心波長が被測定ガスの吸収線波長と合うように、バルク型波長変換素子2の温度を制御する。半導体素子11にブロードエリア型半導体レーザ素子(BALD)を用いた場合、BALDのゲインは10nm程度の波長幅を有するので、上記のような波長掃引は問題なく行える。なお、被測定ガスの種類によって、吸収線波長は2〜6μmの中赤外波長帯に及ぶので、被測定ガスに応じたゲイン波長を有するBALDを適宜選択してガス測定用光源100を構成する必要がある。また、吸収線波長に応じた分極周期を持ったバルク型波長変換素子2(PPLN)を適宜選択して、ガス測定用光源100を構成してもよい。
このように波長を掃引すると、光出射部200から出射された光が光路中の被測定ガスに吸収されることにより、波長の掃引に合わせて被測定ガスによる吸収量も周期的に変化し、受光部400で受光される光の強度も同様に周期的に変化することになる。受光部400は、この周期的に変化する光強度に応じた電流値を出力する。図5に受光部400の出力信号の例を示す。被測定ガスの濃度と受光部400の出力信号の振幅値との関係は、予め濃度が既知である各種の被測定ガスについて測定を行ってデータベース化しておく。図6に、あるNOxに関するデータベースの一例を示す。このデータベースによれば、例えば振幅値が70mAの場合、このNOxの濃度は2.4ppmであることが分かる。解析部500は、このデータベースを参照して、受光部400の出力信号の振幅値から被測定ガスの濃度を求める。
半導体素子11は、利得導波路型半導体レーザ素子からなる発振波長975〜979nmのBALDを用いた。その最大出力パワーは、2Wである。
第1のビーム整形素子12としては、直径125μm、屈折率1.45、焦点距離0.08mmの円筒形レンズ(光ファイバ片)からなるFACを用いた。
第2のビーム整形素子13としては、焦点距離20mmの軸対象球面レンズからなるSACを用いた。
反射手段14としては、縦3mm×横3mmの領域を鏡面仕上げした反射ミラーを用いた。
液晶エタロンフィルタ3aの作製方法は次のとおりである。サイズが2×2×0.1cmのガラスプレート(石英ガラス32)の片面に反射防止膜35を形成し、もう一方の面にITO電極(透明電極33)を形成し、ITO電極の上に反射率80〜99.5%の反射膜34を形成して第1部材とする。同様に第2部材を作る。第1部材と第2部材を互いの反射膜34が対向するように正確に平行に向き合わせ、そのギャップを15〜100μmとする。このギャップにネマティック液晶を注入すると、液晶エタロンフィルタ3aが完成する。
外部共振型半導体レーザ1からの出力光を、MgOドープLN(ニオブ酸リチウム)のドメインを周期的に反転させてなるPPLN(バルク型波長変換素子2)に入射した。PPLNの温度は、波長3.4μm付近のシグナル光が発生するように温度制御を行った。また、シグナル光のパワーをモニタしてその値が一定となるように外部共振型半導体レーザ1の出力光パワーを制御した。PPLNへの入力光パワーと光パラメトリック発生により発生した中赤外のシグナル光(出射光10c)のパワーとの関係を測定した結果を図7に示す。シグナル光が発生する閾値は100mWであり、250mWの入力光パワーで20mWのシグナル光パワーが得られた。また、液晶エタロンフィルタ3aのITO電極へ印加する電圧を変えた際に得られるシグナル光の波長を測定した結果を図8に示す。ITO電極への印加電圧を0.2V程度の幅で振ることで、シグナル光の波長を3.4μm付近で4nm変化させることができた。なお、このとき外部共振型半導体レーザ1の出力光波長は、976〜979nmの範囲で変化した。印加電圧を上述したように周波数100Hzで変化させ、シグナル光の波長をNOxの吸収波長である3.46μmを中心として幅4nmで掃引することで、図5のような受光部400からの出力信号が得られる。
以上、図面を参照してこの発明の一実施形態について詳しく説明してきたが、具体的な構成は上述のものに限られることはなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内において様々な設計変更等をすることが可能である。
本発明のガス測定用光源の一実施形態を示した概略構成図である。 液晶エタロンフィルタの概略構成図である。 本発明のガス測定装置及びガス測定方法の一実施形態を示した概略図である。 ガス測定用光源の出力光波長を被測定ガスの吸収線波長を中心として周期的に掃引させた様子を示す図である。 波長を掃引して測定を行った際の受光部の出力信号の例を示す図である。 被測定ガスの濃度と受光部の出力信号の振幅値との関係を表すデータベースの一例を示す図である。 PPLNへの入力光パワーと光パラメトリック発生により発生した中赤外のシグナル光のパワーとの関係を測定した結果を示す図である。 液晶エタロンフィルタのITO電極へ印加する電圧を変えた際に得られるシグナル光の波長を測定した結果を示す図である。
符号の説明
1…外部共振型半導体レーザ 2…バルク型波長変換素子 3…波長フィルタ 3a…液晶エタロンフィルタ 6…波長フィルタ 11…半導体素子 12…第1のビーム整形素子 13…第2のビーム整形素子 14…反射手段 31…液晶層 32…石英ガラス 33…透明電極 34…反射膜 35…反射防止膜 100…ガス測定用光源 200…光出射部 300…光ファイバ 400…受光部 500…解析部

Claims (12)

  1. 被測定ガスの吸収線波長を含む波長の光を出射し、該光の吸収量から前記被測定ガスの濃度を測定するガス測定装置であって、
    レーザ光源と、
    一定周期で分極反転した誘電体結晶を有し、光パラメトリック発生によって前記レーザ光源からの光を波長変換して被測定ガスに応じた波長の光を発生させる波長変換手段と、
    を備えることを特徴とするガス測定装置。
  2. 前記レーザ光源は、外部共振器型のレーザ光源であって該外部共振器内に発振波長を可変に制御する波長可変手段を有し、
    前記波長可変手段は、発振波長の制御により、前記波長変換手段からの出力光の波長を被測定ガスの吸収線波長の周りに掃引し、
    前記波長が掃引された出力光を受光し、その受光強度の周期的変化の振幅に基づいて被測定ガスの濃度を測定する
    ことを特徴とする請求項1に記載のガス測定装置。
  3. 前記波長可変手段は、印加電界に応じて屈折率が変化する液晶と、該液晶に電界を印加する電極と、前記液晶を挟んで対向して配置された反射鏡と、を有する波長フィルタであることを特徴とする請求項2に記載のガス測定装置。
  4. 前記レーザ光源は、ブロードエリア型の半導体レーザ素子を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1の項に記載のガス測定装置。
  5. 前記波長変換手段は、波長2〜6μmの中赤外波長帯の光を発生させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1の項に記載のガス測定装置。
  6. レーザ光源からの光を所定周期で分極反転した誘電体結晶に入力して光パラメトリック発生により被測定ガスの吸収線波長を含む波長に波長変換し、
    前記波長変換された光を被測定ガス中に透過させて透過後の光の吸収量から前記被測定ガスの濃度を測定する
    ことを特徴とするガス測定方法。
  7. 前記レーザ光源は、外部共振器内に発振波長を可変に制御する手段を有する外部共振器型のレーザ光源であり、
    前記レーザ光源の発振波長を制御して前記波長変換された光の波長を被測定ガスの吸収線波長の周りに掃引し、
    前記波長が掃引された出力光を受光し、その受光強度の周期的変化の振幅に基づいて被測定ガスの濃度を測定する
    ことを特徴とする請求項6に記載のガス測定方法。
  8. 前記レーザ光源は、ブロードエリア型の半導体レーザ素子を有することを特徴とする請求項6又は7に記載のガス測定方法。
  9. 被測定ガスの吸収線波長を含む波長の光を出射するガス測定用光源であって、
    レーザ光源と、
    所定周期で分極反転した誘電体結晶を有し、光パラメトリック発生によって前記レーザ光源からの光を波長変換して被測定ガスに応じた波長の光を発生させる波長変換手段と、
    を備えることを特徴とするガス測定用光源。
  10. 前記レーザ光源は、外部共振器型のレーザ光源であって該外部共振器内に発振波長を可変に制御する波長可変手段を有し、
    前記波長可変手段は、発振波長の制御により、前記波長変換手段からの出力光の波長を被測定ガスの吸収線波長の周りに掃引する
    ことを特徴とする請求項9に記載のガス測定用光源。
  11. 前記波長可変手段は、印加電界に応じて屈折率が変化する液晶と、該液晶に電界を印加する電極と、前記液晶を挟んで対向して配置された反射鏡と、を有する波長フィルタであることを特徴とする請求項10に記載のガス測定用光源。
  12. 前記レーザ光源は、ブロードエリア型の半導体レーザ素子を有することを特徴とする請求項9から請求項11のいずれか1の項に記載のガス測定用光源。
JP2008075162A 2008-03-24 2008-03-24 ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源 Pending JP2009229250A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008075162A JP2009229250A (ja) 2008-03-24 2008-03-24 ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008075162A JP2009229250A (ja) 2008-03-24 2008-03-24 ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009229250A true JP2009229250A (ja) 2009-10-08

Family

ID=41244822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008075162A Pending JP2009229250A (ja) 2008-03-24 2008-03-24 ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009229250A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112268871A (zh) * 2020-11-24 2021-01-26 西南技术物理研究所 一种同时测量大气中多种污染气体浓度的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112268871A (zh) * 2020-11-24 2021-01-26 西南技术物理研究所 一种同时测量大气中多种污染气体浓度的方法
CN112268871B (zh) * 2020-11-24 2024-01-26 西南技术物理研究所 一种同时测量大气中多种污染气体浓度的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4099192B2 (ja) レーザ光源
JP5689955B2 (ja) 光源装置、分析装置、及び光生成方法
JP2007193034A (ja) 波長変換装置および光吸収測定装置
US7760775B2 (en) Apparatus and method of generating laser beam
US20130230066A1 (en) Light source device, analysis device, and light generation method
JP4568313B2 (ja) レーザ光源
CN100362417C (zh) 激光光源
JP2012181554A (ja) 中赤外光源およびそれを用いた赤外光吸収分析装置
JP4463842B2 (ja) レーザ光源
JP2009229250A (ja) ガス測定装置、ガス測定方法、及びガス測定用光源
JP2011033941A (ja) 中赤外光源およびそれを用いた赤外光吸収分析装置
JP5514989B2 (ja) 光パラメトリック発振器
JPH09326521A (ja) 差周波光発生装置およびこれを用いた赤外吸収分析装置
JP2003083847A (ja) 非線形光ファイバの共振型非線形性測定方法及び共振型非線形性測定装置
CN111564757A (zh) 一种中红外光纤光栅稳频的量子级联激光器及其实现方法
JP2002287193A (ja) 波長変換素子、波長変換装置およびレーザ装置
Jones Realizing a mid-infrared optically pumped molecular gas laser inside hollow-core photonic crystal fiber
WO2023140339A1 (ja) 分光システムおよび分光方法
US12030085B2 (en) Acousto-optic coupling techniques and related systems and methods
JP4205076B2 (ja) レーザ光発生装置および発生方法
US20200030849A1 (en) Acousto-optic coupling techniques and related systems and methods
JP2004165530A (ja) レーザー装置及び電気光学分散を用いた同調方法
JP2011118045A (ja) レーザ光源およびそれを用いたガス検知装置
JP2011128368A (ja) 波長変換光源
JP2007079226A (ja) レーザ光源