JP2009223001A - 光軸方向および位相差量がパターニングされた光学材料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
支持体上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は配向層形成用組成物にラビングを行って配向層を作製する工程;得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;パターン露光を行う工程;及び50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程を含む製造方法などにより得られる、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を有する光学材料。
【選択図】なし
Description
特許文献1には重合性液晶を用いて光軸方向がパターニングされた位相差板を作製する方法が開示されている。この方法においては、光軸方向のパターニングは異なる方向にラビングした領域が設けられた配向層の上に複屈折材料で層を設けることにより行われている。しかし、この方法では位相差量のパターニングを行うことはできない。
すなわち、本発明は下記[1]〜[12]を提供するものである
[1]支持体上に、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を有する光学材料の製造方法であって、下記工程(1)〜(4)を含む製造方法:
(1)支持体上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥させ、偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製する工程;
(2)工程(1)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(3)工程(2)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(4)工程(3)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。
(11)支持体上の、配向層形成用組成物にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程;
(12)工程(11)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(13)工程(12)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(14)工程(13)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。
(21)仮支持体上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥させ、偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製する工程;
(22)工程(21)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(23)工程(22)で得られる液晶性化合物上に転写用接着層を設ける工程;
(24)工程(23)で得られる積層体を支持体上に転写する工程;
(25)工程(24)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(26)工程(25)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。
(31)仮支持体上の配向層形成用組成物にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程;
(32)工程(31)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(33)工程(32)で得られる液晶性化合物上に転写用接着層を設ける工程;
(34)工程(33)で得られる積層体を支持体上に転写する工程;
(35)工程(34)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(36)工程(35)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。
[6]側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物からなるパターニング位相差層を含む光学材料であって、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含み、かつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を含む光学材料。
[7]パターニング位相差層が液晶性化合物を含む[6]に記載の光学材料。
[8]パターニング位相差層に隣接する配向層を有する[6]又は[7]に記載の光学材料。
[9]配向層が光二量化型材料を含む組成物から形成された層である[8]に記載の光学材料。
[10]配向層が光異性化材料を含む組成物から形成された層である[8]に記載の光学材料。
[11]偽造防止手段として用いられる[5]〜[10]のいずれか一項に記載の光学材料。
[12][5]〜[10]のいずれか一項に記載の光学材料を含む光学素子。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、「光軸」とは「遅相軸」を含む概念である。また、「軸方向」は面内の軸方向を意味するものとする。
パターニング位相差層は位相差層をパターニングすることにより形成できる。位相差層は位相差を測定したときにReが実質的に0でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有する層であればよい。本発明の光学材料において、位相差層は、側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物からなる。配向性基は一様な方向に並び易い性質を持つため、側鎖に配向性基を有する高分子を用いることにより軸方向の制御が容易になる。
位相差層はレターデーション消失温度を有することが好ましい。レターデーション消失温度は20℃より大きく250℃以下であることが好ましく、40℃〜245℃であることがより好ましく、50℃〜245℃であることがさらに好ましく、80℃〜240℃であることが最も好ましい。また、位相差層としては、露光を行う事によりレターデーション消失温度が上昇する位相差層を用いることも好ましい。本明細書において、「レターデーション消失温度」とは位相差層を20℃の状態より毎分20℃の速度で昇温させた際に、ある温度において該位相差層のレターデーションが該位相差層の20℃時のレターデーションの30%以下となる温度のことをいう。
配向性基を有する高分子は、高分子主鎖と高分子側鎖から構成される。高分子主鎖の構成要素はいかなるものであってもよいが、例として、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリシロキサン,ポリビニルが挙げられる。配向性基は、高分子側鎖中に含まれる。配向性基は、液晶性を示す機能を付与する部分構造(メソゲン)を有する。
液晶性を示す機能を与える部分構造としては、いかなる構造であってもよいが、例として、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧、丸善、2000年の第3章、第8節の「高分子液晶」に記載されているものが挙げられる。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。2種以上の棒状液晶性化合物、2種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも1つは1液晶分子中の反応性基が2以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも1つが2以上の反応性基を有していることが好ましい。
一般式(I):Q1−L1−A1−L3−M−L4−A2−L2−Q2
式中、Q1およびQ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、L1、L2、L3およびL4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。A1およびA2はそれぞれ独立に、炭素原子数2〜20のスペーサ基を表す。Mはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式(I)で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Q1およびQ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合(開環重合を含む)または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
Mで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式(II)で表される基が好ましい。
一般式(II):−(−W1−L5)n−W2−
式中、W1およびW2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、L5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式(I)中、L1〜L4で表される基の具体例、−CH2−O−、および−O−CH2−が挙げられる。nは1、2または3を表す。
前記一般式(II)で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
一般式(III): D(−L−P)n
式中、Dは円盤状コアであり、Lは二価の連結基であり、Pは重合性基であり、nは4〜12の整数である。
前記式(III)中、円盤状コア(D)、二価の連結基(L)および重合性基(P)の好ましい具体例は、それぞれ、特開2001−4837号公報に記載の(D1)〜(D15)、(L1)〜(L25)、(P1)〜(P18)が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア(D)、二価の連結基(L)および重合性基(P)に関する内容をここに好ましく適用することができる。
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が10度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は0〜5度が好ましく、0〜3度がより好ましく、0〜2度がさらに好ましく、0〜1度が最も好ましい。
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許4212970号明細書記載)が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
前記位相差層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。この偏光照射は上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねてもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよいが、偏光照射のみを行うか先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行うことが望ましい。偏光照射が上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねる場合であってかつ重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合、偏光照射は酸素濃度0.5%以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。照度は20〜1000mW/cm2であることが好ましく、50〜500mW/cm2であることがより好ましく、100〜350mW/cm2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては300〜450nmにピークを有することが好ましく、350〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。
前記位相差層は、最初の偏光照射(光配向のための照射)の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射してもよい。最初の偏光照射の後に偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め(後硬化)、密着性等を改良し、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、2回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は不活性ガス置換してもしなくてもよいが、特に重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合は酸素濃度0.5%以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。照度は20〜1000mW/cm2であることが好ましく、50〜500mW/cm2であることがより好ましく、100〜350mW/cm2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は300〜450nmにピークを有することが好ましく、350〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は200〜450nmにピークを有することが好ましく、250〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。
前述したように、液晶性化合物が重合条件の異なる2種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む位相差層を作製することが可能である。このような液晶性化合物として、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基を有する液晶性化合物(具体例としては例えば、前述のI−22〜I−25)を用いた場合に特に適した重合固定化の条件について以下に説明する。
前記位相差層の形成用組成物中に、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物および一般式(4)のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式(1)〜(4)について、順に説明する。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の0.01〜20質量%が好ましく、0.01〜10質量%がより好ましく、0.02〜1質量%が特に好ましい。なお、前記一般式(1)〜(4)にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
作製された位相差層を改質するために、様々な後処理を行ってもよい。後処理としては例えば、密着性向上の為のコロナ処理や、柔軟性向上の為の可塑剤添加、保存性向上の為の熱重合禁止剤添加、反応性向上の為のカップリング処理などが挙げられる。また、位相差層中の高分子が未反応の反応性基を有する場合、該反応性基に対応する重合開始剤を添加することも有効な改質手段である。可塑剤や光重合開始剤の添加手段としては、例えば、位相差層を該当する添加剤の溶液に浸漬する手段や、位相差層の上に該当する添加剤の溶液を塗布して浸透させる手段などが挙げられる。また、位相差層の上に他の層を塗布する際にその層の塗布液に添加剤を添加しておき、位相差層に浸漬させる方法もあげられる。
本明細書において配向層は配向膜という場合がある。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能するため、配向膜の機能をパターニングすることによって、パターニング位相差層を容易に得ることができる。配向層は、一般に後述の支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、位相差層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよいが、典型的な例としては光配向層及びラビング配向層が挙げられる。
光配向層は光配向材料から作製することができる。光配向材料としては、特に限定されないが、主に偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光二量化型材料などの光反応材料が挙げられる。
以下、光配向材料の例として、光二量化型材料(P−1〜P−40)及び光異性化材料(P−101〜P−104)の例を挙げるが、光配向材料は以下の具体例に制限されるものではない。
尚、式中のx、y、zは各繰り返し単位のモル百分率を示す。また、上記式(P−101)〜(P−104)中、nは1以上の整数を示す。
配向層の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
[パターン露光]
位相差層のパターニングのために、パターン露光を行うことができる。パターン露光とは、複屈折パターン作製材料の2つ以上の領域に互いに露光条件の異なる露光を行うことを意味する。このときの「2つ以上の領域」は互いに重なる部位を有していても有していなくてもよいが、互いに重なる部位を有していないことが好ましい。
パターン露光は単に未露光部及び露光部のみを生じるパターン露光であってもよい。この場合、通常、位相差を残したい領域を露光する。また、パターン露光は未露光部及び露光部の中間調となる1個以上の露光条件による露光部を含むパターン露光であってもよい。
パターン露光は1回の露光によって行われても複数回の露光によって行われてもよい。例えば領域によって異なる透過スペクトルを示す2つ以上の領域を有するマスク等を用いて1回の露光によって行われていてもよく、又は両者が組み合わされていてもよい。
露光条件の異なる露光領域を生じる手段として、露光マスクを用いた露光は有用である。例えば1つの領域のみを露光するような露光マスクを用いて露光を行った後に、温度、雰囲気、露光照度、露光時間、露光波長を変えて別のマスクを用いた露光や全面露光を行うことで、先に露光された領域と後に露光された領域の露光条件は容易に変更することができる。また、露光照度、あるいは露光波長を変えるためのマスクとして領域によって異なる透過スペクトルを示す2つ以上の領域を有するマスクは特に有用である。この場合、ただ一度の露光を行うだけで複数の領域に対して異なる露光照度、あるいは露光波長での露光を行うことができる。異なる露光照度の元で同一時間の露光を行う事で異なる露光量を与えることができることは言うまでもない。
またレーザーなどを用いた走査露光を用いる場合には、露光領域によって光源強度を変える、走査速度を変えるなどの手法で領域ごとに露光条件を変えることが可能である。
パターン露光された位相差層に対して50℃以上400℃以下でベークを行うことにより、上記パターン露光時の露光条件に応じたパターンで位相差量のパターニングが行われる。用いられた位相差層の露光前のレターデーション消失温度をT1[℃]、露光後のレターデーション消失温度をT2[℃]とした場合(レターデーション消失温度が250℃以下の温度域にない場合はT2=250とする)、ベーク時の温度はT1℃以上T2℃以下が好ましく、(T1+10)℃以上(T2−5)℃以下がより好ましく、(T1+20)℃以上(T2−10)℃以下が最も好ましい。
レターデーション消失温度が上昇する位相差層を用いている場合、露光を行う事によりベークによって層中の未露光部のレターデーションが低下し、一方で露光部はレターデーションの低下が小さく、もしくは全く低下しないかあるいは上昇し、結果として未露光部のレターデーションが露光部のレターデーションに比較して小さくなり、軸の有無又は位相差量のパターンが作製される。
軸方向のパターニングの方法については、特に限定されないが、上記のように、好ましくは配向層を利用して、位相差層の光軸(遅相軸)の方向のパターニングを行うことができる。
光配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくは光配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されると、光配向層が作製された偏光紫外光の偏光方向に、液晶分子が配向する。同様に、ラビング配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくはラビング配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されるとラビングされた方向に液晶分子が配向する。
[支持体]
本発明の光学材料は支持体を有してもよい。支持体は特に限定はなく、剛直なものでもフレキシブルなものでもよい。
剛直な支持体としては特に限定はないが表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、アルミ板、鉄板、SUS板などの金属板、樹脂板、セラミック板、石板などが挙げられる。フレキシブルな支持体としては特に限定はないがセルロースエステル(例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート)、ポリオレフィン(例、ノルボルネン系ポリマー)、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例、ポリメチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。取扱いの容易さから、剛直な支持体の膜厚としては、100〜3000μmが好ましく、300〜1500μmがより好ましい。フレキシブルな支持体の膜厚としては、3〜500μmが好ましく、10〜200μmがより好ましい。
本発明の光学材料の作製は転写材料を用いて行ってもよい。転写材料を用いることにより、有機溶剤を利用する塗布を、パターニング材料を作製する場所と別の場所で行うことができ、パターニング材料を使用する際の作業および設備負担が軽減する。
以下転写材料において有用な機能性層について説明する
転写材料は仮支持体を有することが好ましい。仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル(例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート)、ポリオレフィン(例、ノルボルネン系ポリマー)、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例、ポリメチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン(JSR(株)製)、ゼオネックス、ゼオノア(以上、日本ゼオン(株)製)などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
転写材料は転写接着層を有することが好ましい。転写接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層、感光性樹脂層などが挙げられるが、液晶表示装置用基板等に用いられる場合に必要な耐ベーク性から感光性もしくは感熱性樹脂層が望ましい。
粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等が挙げられる。粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
感圧性樹脂層としては、圧力をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感圧性接着剤には、ゴム系,アクリル系,ビニルエーテル系,シリコーン系の各粘着剤が使用できる。粘着剤の製造段階,塗工段階の形態では、溶剤型粘着剤,非水系エマルジョン型粘着剤,水系エマルジョン型粘着剤,水溶性型粘着剤,ホットメルト型粘着剤,液状硬化型粘着剤,ディレードタック型粘着剤等が使用できる。ゴム系粘着剤は、新高分子文庫13「粘着技術」(株)高分子刊行会P.41(1987)に記述されている。ビニルエーテル系粘着剤は、炭素数2〜4のアルキルビニルエーテル重合物を主剤としたもの,塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体,酢酸ビニル重合体,ポリビニルブチラール等に可塑剤を混合したものがある。シリコーン系粘着剤は、フィルム形成と膜の凝縮力を与えるためゴム状シロキサンを使い、粘着性や接着性を与えるために樹脂状シロキサンを使ったものが使用できる。
感熱性樹脂層としては、熱をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感熱性接着剤としては、熱溶融性化合物、熱可塑性樹脂などを挙げることができる。前記熱溶融性化合物としては、例えば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の低分子量物、カルナバワックス、モクロウ、キャンデリラワックス、ライスワックス、及び、オウリキュリーワックス等の植物系ワックス類、蜜ロウ、昆虫ロウ、セラック、及び、鯨ワックスなどの動物系ワックス類、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、エステルワックス、及び、酸化ワックスなどの石油系ワックス類、モンタンロウ、オゾケライト、及びセレシンワックスなどの鉱物系ワックス類等の各種ワックス類を挙げることができる。さらに、ロジン、水添ロジン、重合ロジン、ロジン変性グリセリン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性ポリエステル樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、及びエステルガム等のロジン誘導体、フェノール樹脂、テルペン樹脂、ケトン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、及び脂環族系炭化水素樹脂などを挙げることができる。
感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、ポジ型でもネガ型でもよく特に限定はない。感光性樹脂層としては、市販のレジスト材料を用いることもでき、光照射によって接着性を発現することが好ましい。また、感光性樹脂層は少なくとも(1)ポリマーと、(2)モノマー又はオリゴマーと、(3)光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含む樹脂組成物から形成することが好ましい。
(1)ポリマー
ポリマー(以下、単に「バインダ」ということがある。)としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーからなるアルカリ可溶性樹脂が好ましい。その例としては、特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭59−53836号公報および特開昭59−71048号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第4139391号明細書に記載のベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸との共重合体や、ベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。全固形分に対するポリマーの含有量は20〜70質量%が一般的であり、25〜65質量%が好ましく、25〜45質量%がより好ましい。
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を2個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマーおよびオリゴマーとしては、分子中に少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートおよびフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平11−133600号公報に記載の「重合性化合物B」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、2種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は5〜50質量%が一般的であり、10〜40質量%が好ましい。
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第2367660号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第2448828号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第2722512号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号明細書および同第2951758号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第3549367号明細書に記載のトリアリールイミダゾール2量体とp−アミノケトンの組み合わせ、特公昭51−48516号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特許第4239850号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−s−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾールおよびトリアリールイミダゾール2量体が好ましい。
また、この他、特開平11−133600号公報に記載の「重合開始剤C」も好適なものとしてあげることができる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、0.5〜20質量%が一般的であり、1〜15質量%が好ましい。
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式(a)および、一般式(b)で表されるモノマーを含み、且つ一般式(a)/一般式(b)の質量比が20/80〜60/40の共重合体を含有するものが挙げられる。
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Mwは、1000〜40000が好ましく、更には5000〜20000がより好ましい。界面活性剤は前記一般式(a)および一般式(b)で表されるモノマーを含み、且つ一般式(a)/一般式(b)の質量比が20/80〜60/40の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤100質量部は、モノマー(a)が20〜60質量部、モノマー(b)が80〜40質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー(a)が25〜60質量部、モノマー(b)が60〜40質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
特に好ましい界面活性剤は、モノマー(a)、モノマー(b)等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造および/又はモノマー組成の異なるものを2以上混合して用いることができる。
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して0.01〜10質量%が好ましく、特に0.1〜7質量%が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、およびポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して0.01質量%未満であると、表示ムラが改善されず、10質量%を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させると、表示ムラが改良される点で好ましい。
転写材料の、仮支持体と位相差層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、柔軟な弾性を示すもの、熱により軟化するもの、熱により流動性を呈するものなどが好ましく、熱可塑性樹脂層が特に好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平5−72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーVicat法(具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、N−アルコキシメチル化ナイロン、N−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
転写材料は仮支持体の上に剥離層を有してもよい。剥離層は仮支持体と剥離層間の、あるいは剥離層とその直上層の間の密着力を制御し、位相差層を転写した後の仮支持体の剥離を助ける役目を負う。また前述の他の機能層、例えば配向層や力学特性制御層などが剥離層としての機能を有してもよい。
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い表面保護層を設けることが好ましい。表面保護層の性質は特に限定されず、仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、隣接する層(例えば転写接着層)から容易に分離されねばならない。表面保護層の材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
転写材料を支持体(基板)等の被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記位相差層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した転写材料を、転写接着層面を被転写材料表面側にして、ラミネータを用いて加熱および/又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
被転写材料としては、支持体、支持体及び他の機能性層を含む積層体が挙げられる。
転写材料を被転写材料上に転写した後、仮支持体は剥離してもよく、しなくともよい。ただし剥離しない場合には仮支持体がその後のパターン露光に適した透明性やベークに耐え得る耐熱性などを有していることが好ましい。また、位相差層と一緒に転写される不要の層を除去する工程があってもよい。例えば配向層としてポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの共重合体を用いた場合には、弱アルカリ性の水系現像液での現像により配向層より上の層の除去が可能である。現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー&スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。現像液の液温度は20℃〜40℃が好ましく、また、現像液のpHは8〜13が好ましい。
また転写後、必要に応じて仮支持体の剥離や不要層の除去を行った後の表面に他の層、を形成してもよい。
まず、各材料の準備法、作製法について説明する。
ガラス基板に、平滑化剤(富士フィルムエレクトロマテリアルズ社製 COLOR MOSAIC CT-2000L)をスピンコート法(1000rpm 30秒)により塗布し、オーブンで200℃1時間加熱する。
(光配向膜H−1の作製法)
下記化合物P-16(x=0.9, y=0.1)の1質量%シクロヘキサノン溶液を調製する。この溶液をスピンコート法(3500rpm、20秒間)により、乾燥後厚みが0.05〜0.15μm程度となるよう、上記のガラス基板上に塗布し、100℃で2分間乾燥させる。
特開2006−85099号公報、特開2000−226448号公報、及びLiquid Crystals誌、第31巻、233頁(1975年)に記載の方法に準じて合成した下記化合物3の1質量%シクロヘキサノン溶液を調製する。この溶液をスピンコート法(3500rpm、20秒間)により、乾燥後厚みが0.05〜0.15μm程度となるよう、上記のガラス基板上に塗布し、100℃で2分間乾燥させる。
配向膜塗布液RN−1199(日産化学工業社製)を、ガラス基板上にスピンコート塗布(3000rpm/30秒)し、80℃オーブンで3分間乾燥させる。その後さらに、220℃のクリーンオーブンで60分間加熱する。
特開2006-221189号公報の段落番号「0181」の記載を参照して得られた基板上にマスクパターンAのマスクを設置し、その上から方向1にラビングを行う。その後、マスクパターンBのマスク通して、方向2にラビングを行う。
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、位相差層用塗布液LC−1として用いる。
LC−1−1は特開2004−123882号公報に記載の方法を基に合成した。LC−1−1は2つの反応性基を有する液晶化合物であり、2つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
LC−1−2はTetrahedron Lett.誌、第43巻、6793頁(2002)に記載の方法に準じて合成する。
──────────────────────────────────―────
位相差層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────―────
棒状液晶(LC−1−1) 19.57
水平配向剤(LC−1−2) 0.01
カチオン系光重合開始剤
(Cyracure UVI6974、ダウ・ケミカル製) 0.40
重合制御剤(IRGANOX1076、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
0.02
メチルエチルケトン 80.0
──────────────────────────────────―────
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、重合開始剤供給塗布液AD−1として用いる。
──────────────────────────────────―
転写接着層用塗布液組成(質量%)
──────────────────────────────────―
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/メタクリル酸メチル
=35.9/22.4/41.7モル比のランダム共重合物
(重量平均分子量3.8万) 8.05
KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製) 4.83
ラジカル光重合開始剤(2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)
1,3,4−オキサジアゾール) 0.12
ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.002
メガファックF−176PF(大日本インキ化学工業(株)製) 0.05
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 34.80
メチルエチルケトン 50.538
メタノール 1.61
──────────────────────────────────―
上記で得られた位相差層サンプルの上に重合開始剤供給層液AD−1を塗布、乾燥して1.0μmの重合開始剤供給層を形成した後、位相差層サンプルに対して、ミカサ社製M−3Lマスクアライナーと石英ガラス上にクロムでパターンCが作られたフォトマスクを用いて露光量80mJ/cm2でパターン露光を行う。なお、パターンCの中間調は光量の15%を吸収するものを用いる。
次いで、230℃のクリーンオーブンで1時間のベークを行い、位相差層サンプルを作製する。
(位相差測定)
上記位相差層サンプルの光学特性の測定は図2に示す光学系で行う。ハロゲン光源にはモリテックス社製ハロゲン光源 MHF-D100LR、光検出器にはオーシャンオプティクス社製ファイバマルチチャンネル分光器 USB2000を用いる。
図2に示す光学系は測定位置制限用マスクで、測定位置を制限し、マスク一マスの光学特性を測定することができる。偏光板の方向とλ/4板の方向を変えることにより、位相差量と遅相軸の方向の測定ができる。
(熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1として用いる。
──────────────────────────────────―────熱可塑性樹脂層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────────―メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/30/10/5、重量平均分子量=10万、Tg≒70℃)
5.89
スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=65/35、重量平均分子量=1万、Tg≒100℃)
13.74
BPE−500(新中村化学(株)製) 9.20
メガファックF−780−F(大日本インキ化学工業(株)社製) 0.55
メタノール 11.22
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 6.43
メチルエチルケトン 52.97
──────────────────────────────────────―
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層/配向層用塗布液AL−1として用いる。
──────────────────────────────────――
中間層/配向層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール(PVA205、クラレ(株)製) 3.21
ポリビニルピロリドン(Luvitec K30、BASF社製) 1.48
蒸留水 52.1
メタノール 43.21
──────────────────────────────────――
厚さ100μmの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャインA4100、東洋紡績(株)製)の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1、配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ14.6μm、1.6μmである。
(光配向膜の作製)
上記化合物3の1質量%シクロヘキサノン溶液を調製する。この溶液をワイヤーバーを用いて、乾燥後厚みが0.05〜0.15μm程度となるように上記の膜に塗布し、100℃で2分間乾燥させる。
次いで、ワイヤーバーを用いてLC−1を塗布、膜面温度105℃で2分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度240mW/cm2、照射量600mJ/cm2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ3.5μmの位相差層を形成し、最後に、感光性転写接着層用塗布液AD−1を塗布、乾燥して1.0μmの感光性樹脂層を形成し乾燥した後に、さらに、保護フィルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着し、位相差膜の転写材料T−1を作製する。
無アルカリガラス基板を、25℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液(N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン0.3%水溶液、商品名:KBM−603、信越化学)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この基板を基板予備加熱装置で100℃2分加熱する。
前記複屈折パターン作製用転写材料T−1の保護フィルムを剥離後、ラミネータ((株)日立インダストリイズ製(LamicII型))を用い、前記100℃で2分間加熱した基板に、ゴムローラー温度130℃、線圧100N/cm、搬送速度1.4m/分でラミネートする。ラミネート後、仮支持体を剥離する。
上記材料に対して、ミカサ社製M−3Lマスクアライナーと石英ガラス上にクロムでパターンCが作られたフォトマスクを用いて露光量80mJ/cm2でパターン露光を行う。
こうして作成した位相差層サンプルの位相差量と遅相軸方向を、図4に示す各パターニング部位について測定した。結果を表4及び表5に示す。
以上のようにして、転写を用いて軸方向と位相差量がパターニングされた位相差層サンプルを作製できた。
2 ピンホール
3 レンズ
4 偏光板と回転ホルダ
5 λ/4板と回転ホルダ
6 サンプルとXYステージ
7 測定位置制限用マスク(200μm×200μmの正方形の穴が開いている)
8 光検出器
Claims (12)
- 支持体上に、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を有する光学材料の製造方法であって、下記工程(1)〜(4)を含む製造方法:
(1)支持体上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥させ、偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製する工程;
(2)工程(1)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(3)工程(2)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(4)工程(3)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。 - 支持体上に、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を含む光学材料の製造方法であって、下記工程(11)〜(14)を含む製造方法:
(11)支持体上の、配向層形成用組成物にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程;
(12)工程(11)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(13)工程(12)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(14)工程(13)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。 - 支持体上に、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を含む光学材料の製造方法であって、下記工程(21)〜(26)を含む製造方法:
(21)仮支持体上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥させ、偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製する工程;
(22)工程(21)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(23)工程(22)で得られる液晶性化合物上に転写用接着層を設ける工程;
(24)工程(23)で得られる積層体を支持体上に転写する工程;
(25)工程(24)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(26)工程(25)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。 - 支持体上に、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含みかつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を含む光学材料の製造方法であって、下記工程(31)〜(36)を含む製造方法:
(31)仮支持体上の配向層形成用組成物にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程;
(32)工程(31)で得られる配向層上に液晶性化合物を含む溶液を塗布して乾燥させる工程;
(33)工程(32)で得られる液晶性化合物上に転写用接着層を設ける工程;
(34)工程(33)で得られる積層体を支持体上に転写する工程;
(35)工程(34)で得られる積層体にパターン露光を行う工程;
(36)工程(35)で得られる積層体に50℃以上400℃以下でベークを行ってパターニング位相差層を作製する工程。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法により作製される光学材料。
- 側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物からなるパターニング位相差層を含む光学材料であって、互いに異なる光軸方向を有する領域を2つ以上含み、かつ互いに異なる位相差量を有する領域を2つ以上含むパターニング位相差層を含む光学材料。
- パターニング位相差層が液晶性化合物を含む請求項6に記載の光学材料。
- パターニング位相差層に隣接する配向層を有する請求項6又は7に記載の光学材料。
- 配向層が光二量化型材料を含む組成物から形成された層である請求項8に記載の光学材料。
- 配向層が光異性化材料を含む組成物から形成された層である請求項8に記載の光学材料。
- 偽造防止手段として用いられる請求項5〜10のいずれか一項に記載の光学材料。
- 請求項5〜10のいずれか一項に記載の光学材料を含む光学素子。
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