JP2008241983A - 光学異方性層形成用組成物、液晶表示装置用基板の製造方法、及び液晶表示装置用基板。 - Google Patents

Abstract

【課題】屈折率異方性と波長分散特性とのトレードオフから脱却する技術、及びパターン状のレターデーションを有する液晶表示装置用基板を製造する方法および材料の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ）で表される化合物、およびカチオン重合開始剤を含む光学異方性層形成用組成物。

組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、液晶相を熱または電離放射線照射して形成される光学異方性層と、転写用接着層とを有する転写材料。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学異方性層形成用組成物、該組成物を用いた光学異方性層付き液晶表示装置用基板の作製に有用な転写材料、これらを用いた液晶表示装置用基板の製造方法および液晶表示装置に関する。

ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型ＬＣＤでは、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学異方性層を有する光学補償シートを配置することもある。一方、反射型ＬＣＤでは、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、および偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型および反射型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。

光学補償シートのレターデーション（Δｎｄ）は補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する。レターデーション（Δｎｄ）は光学異方性層の屈折率異方性（Δｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積であるため、光学異方性層の屈折率異方性（Δｎ）が大きければ、所望のレターデーションを薄い膜厚で得ることができる。近年、光学補償シートとして、液晶性化合物を含む組成物からなる光学異方性層を含むシートがもちいられてきており、屈折率異方性（Δｎ）が大きい液晶性化合物としては、例えばトラン骨格を有する化合物が知られており、膜厚を薄くすることができるが、この化合物を用いると、波長分散特性が悪化する、すなわち波長分散性が大きくなる。波長分散特性の悪化は、光学補償シートの性能の一つであるカラー表示での色味変化を悪化させるため、屈折率異方性を大きくすると波長分散特性は悪化するというトレードオフから脱却する技術が望まれていた。

最近では、ＬＣＤはその薄型、軽量、且つ消費電力が小さい特性を生かして携帯電話やデジタルカメラのようなモバイル用途用表示装置としても広く用いられるようになった。モバイル用途では屋内だけでなく屋外での使用、あるいは電源供給なしでの長時間使用も必要なため、屋内ではバックライトを用いて透過表示、屋外ではバックライトを使わずに外光を用いて反射表示ができる、半透過型ＬＣＤを使うことが望ましい。しかしながら、一つの画素に透過表示と反射表示を併せ持つ半透過型ＬＣＤは、透過／反射両方の要求を満たす光学補償シートを必要とするため、光学補償シートを様々な角度で２枚以上貼り合わせたものが必要となり、ＬＣＤが厚くなる、ロールツーロールで貼合できないため光学補償シート積層体が高価、光学補償シートの角度が様々なため視野角が非対称になる、などの多くの問題を引き起こしていた。

この問題を解決するため、半透過型ＬＣＤの反射部のみに光学異方性層を形成する方法が提案されている（非特許文献１）。本方法では光配向膜に対して１回目のフォトマスクによる露光と２回目の全面露光とで照射偏光紫外線の偏光方向を４５度回転させ、その上で配向させる重合性液晶性化合物の配向方向を変える方法を用いている。この提案によって、半透過型ＬＣＤの光学補償シートは不要となり、ＬＣＤの大幅な薄型化は達成できるが、２回の偏光紫外線照射を含む３回の紫外線照射、光配向膜層と重合性液晶層の２回の塗布が必要なため、プロセス負荷が大きすぎることが問題となっており、実用化には至っていない。また、この技術では２つの配向ドメインは同じレターデーションを持っていなければならず、ＬＣＤのスイッチング設計の自由度が制限されていた。

ＳＩＤ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｄｉｇｅｓｔ３４，１９４（２００３）．

本発明は、屈折率異方性と波長分散特性とのトレードオフから脱却する技術を提供することを課題とする。また、パターン状のレターデーションを有する液晶表示装置用基板を製造するために有用な方法および材料を提供することを課題とする。さらに、本発明は、ＬＣＤ、特に半透過型ＬＣＤの光学補償シートの枚数を低減し、ＬＣＤの厚みの薄型化に寄与する液晶表示装置用基板の作製を容易にする方法および材料を提供することを課題とする。

すなわち、本発明は下記（１）〜（１６）を提供するものである。
（１）一般式（Ｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ）で表される化合物、及びカチオン重合開始剤を含む光学異方性層形成用組成物。

（式中、Ｑ¹及びＱ²のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ¹及びＱ²の他方はカチオン重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴の他方はカチオン重合性基を表し、Ｘ¹¹及びＸ¹²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＮＰ¹−、−Ｓ−を表し、Ｐ¹は水素原子、または置換若しくは無置換アルキル基を表し、Ｌ¹〜Ｌ⁴は、それぞれ独立に単結合、または置換もしくは無置換アルキレン基、または置換アルキレン基を表し、Ａ¹、Ａ²、Ａ⁶はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＰ²−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＰ²−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｐ²は水素原子または置換もしくは無置換アルキル基を表し、Ａ³は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ³−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｐ³は水素原子、または無置換若しくは置換アルキル基を表し、Ａ⁴、Ａ⁵はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ⁴−を表し、Ａ⁴またはｍ個のＡ⁵のうち少なくとも１つは単結合を表し、Ｐ⁴は水素原子、または置換もしくは無置換アルキル基を表し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、臭素原子を表し、ｎ¹〜ｎ⁶は１〜３の整数を表し、ｍは２〜３の整数を表す。）

（２）一般式（Ｉ）で表される化合物の総質量に対する、一般式（ＩＩ）で表される化合物の総質量が５％〜１００％である（１）に記載の組成物。
（３）仮支持体上に（１）又は（２）に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して形成される光学異方性層と、転写用接着層とを有する転写材料。
（４）前記光学異方性層が、前記仮支持体上に直接もしくは仮支持体上に形成した配向層をラビングした上に形成されている（３）に記載の転写材料。

（５）少なくとも次の［１］〜［３］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
［１］基板上に（１）又は（２）に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して光学異方性層を形成する工程
［２］該光学異方性層をパターン露光する工程
［３］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。

（６）少なくとも次の［１１］〜［１５］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法；
［１１］基板上に（１）又は（２）に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して光学異方性層を形成する工程
［１２］該光学異方性層上に感光性樹脂層を形成する工程
［１３］該光学異方性層及び感光性樹脂層をパターン露光する工程
［１４］該基板上の不要な感光性樹脂層を除去する工程
［１５］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。

（７）少なくとも次の［２１］〜［２３］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
［２１］（３）又は（４）に記載の転写材料を用いて、基板上に転写用接着層と光学異方性層を基板側からこの順に形成する工程
［２２］該光学異方性層をパターン露光する工程
［２３］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。

（８）少なくとも次の［３１］〜［３５］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
［３１］（３）又は（４）に記載の転写材料を用いて、基板上に転写用接着層と光学異方性層を基板側からこの順に形成する工程
［３２］光学異方性層上に感光性樹脂層を形成する工程
［３３］該光学異方性層及び感光性樹脂層をパターン露光する工程
［３４］該基板上の不要な感光性樹脂層を除去する工程
［３５］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。

（９）不要な感光性樹脂層の除去が水を３０％以上含む現像液を用いて行われる（６）または（８）のいずれか１項に記載の製造方法。
（１０）前記溶液が、一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（ＩＩ）で表される化合物を５〜５０質量％含む（３）〜（９）のいずれか一項に記載の製造方法。
（１１）面内レターデーションＲｅ１の領域と面内レターデーションＲｅ２の領域（ただしＲｅ１＞Ｒｅ２）とを有する光学異方性層を含む（５）〜（１０）のいずれか１項に記載の製造方法により製造された液晶表示装置用基板。

（１２）面内レターデーションＲｅ１の領域が前記パターン露光時の露光部であり、面内レターデーションＲｅ２の領域が前記パターン露光時の未露光部である（１１）に記載の液晶表示装置用基板。
（１３）Ｒｅ２が５ｎｍ以下である（１１）または（１２）に記載の液晶表示装置用基板。
（１４）Ｒｅ１が４０〜５５０ｎｍである（１１）〜（１３）のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板。
（１５）（１１）〜（１４）のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板を有する液晶表示装置。
（１６）液晶モードが半透過モードである（１５）に記載の液晶表示装置。

本発明の組成物から、大きい屈折率異方性を有するとともにレターデーションの波長分散性の小さい光学異方性層を得ることできる。また本発明の製造方法を用いることによって、液晶表示装置の製造工程数をほとんど増やすことなく、液晶セル内に、パターン状のレターデーションを有する光学異方性層を設けることができ、従来の半透過型ＬＣＤに比べて大幅な薄型化が達成できる。特に前記転写材料を用いて作製された液晶表示装置用基板を有する本発明の半透過型ＬＣＤは、薄型化、視野角特性改善以外にも、工程数減によるコストダウンに大きく貢献する。

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH又はWR（商品名、王子計測機器(株)製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）及び数式（２）によりＲｔｈを算出することもできる。

式中、Ｒｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)が算出される。
Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにより算出される。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０であるとは、Ｒｅが５ｎｍ以下であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。

本発明の光学異方性層形成用組成物を用いて作成される光学異方性層は、レターデーションの波長分散性が小さく、かつ薄膜で所望のレターデーションを得ることが可能である。さらに、本発明者らの検討により、本発明の光学異方性層形成用組成物は、液晶セル内に光学異方性層を形成する際、特にパターン状のレターデーションを有する光学異方性層を液晶セル内に設ける際に好ましく用いることができることがわかった。
本明細書において「パターン状のレターデーションを有する光学異方性層」とは「レターデーションが異なる領域をパターン状に有する光学異方性層」を意味し、通常「面内レターデーションＲｅ１の領域と面内レターデーションＲｅ２の領域（ただしＲｅ１＞Ｒｅ２）とをパターン状に有する光学異方性層」を意味する。なお、本明細書において特に言及しない場合は、「液晶表示装置用基板」と「基板」は通常区別して用いられる。

［液晶表示装置用基板］
図１はパターン状のレターデーションを有する光学異方性層を有する液晶表示装置用基板のいくつかの例の概略断面図である。図１（ａ）に示す液晶表示装置用基板は、基板１１上に、パターン状のレターデーションを有する光学異方性層１２が形成されたものである。基板１１としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さい支持体が望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が用いられる。基板１１としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さい支持体が望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が用いられる。パターン状のレターデーションを有する光学異方性層１２は、基板上に本発明の光学異方性層形成用組成物を含む溶液が塗布され、液晶相形成温度で熟成・配向されたあと、その状態のまま熱または電離放射線照射して固化することによって得られた光学異方性層を、パターン露光、加熱することによって得ることができる。光学異方性層１２の露光部１２Ａと未露光部１２Ｂが、加熱工程を経た後にレターデーションの差を生じることによってパターン状のレターデーションを有する光学異方性層が形成される。これによって液晶セル内の異なる表示モード、特に半透過型ＬＣＤの透過部と反射部で異なる光学補償を達成することができる。さらに、従来のように温湿度で寸度変化しやすいプラスティック支持体に光学異方性層が設けられている場合と異なり、セル内の光学異方性層を設けると、光学異方性層がガラス基板に強固に保持されているため、温湿度による寸度変化を起こしにくく、ＬＣＤのコーナームラを改良することができる。パターン露光の方法は、露光部と未露光部に必要とする露光量差および解像度があれば、市販のレーザ描画装置などによる直接描画でもよいし、フォトマスクを介した露光でもよい。

図１（ｂ）に示す液晶表示装置用基板は、基板１１と光学異方性層１２の間に配向層１３が形成されている。本発明の光学異方性層形成用組成物を含む溶液がラビングされた配向層１３上に直接塗布された後、液晶相形成温度で熟成・配向され、その状態のまま熱または電離放射線照射して固化することによって光学異方性層１２となる。レターデーションの異なる領域の形成は上記と同様に行うことができる。図１（ｃ）に示す液晶表示装置用基板は、基板１１とパターン状のレターデーションを有する光学異方性層１２の間に転写用接着層１４が形成されている。本態様は、図２（ａ）に示すような転写材料を用いて作製することができる。図１（ｄ）および（ｅ）に示す液晶表示装置用基板は、光学異方性層１２の上に感光性樹脂層１５を有する態様である。図１（ｄ）はネガ型、（ｅ）はポジ型の感光性樹脂を用いたもので、いずれの場合においても位相差のパターニングのための露光と同時に凹凸パターンが形成できる。本態様は、例えば図１（ｃ）の上に直接感光性樹脂層１５を塗布するか、もしくは図２（ｃ）に示すような本発明の転写材料を用いて作製することができる。

［転写材料］
図２（ａ）は転写材料の一例で、仮支持体２１上に配向層２２を介して光学異方性層１２が形成されている。光学異方性層１２上には転写用接着層１４が形成されており、転写材料を転写用接着層１４を介して基板にラミネート転写することで液晶表示装置用基板を作製できる。転写用接着層としては、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感光性樹脂層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層などが挙げられるが、基板に必要な耐ベーク性から感光性もしくは感熱性樹脂層が望ましい。良好な転写性を持たせるために、光学異方性層１２と配向層２２の間の剥離性が高いことが望ましい。図２（ｂ）は、転写工程における気泡混入防止や液晶表示装置用基板上の凹凸吸収のための力学特性制御層２３を有する態様である。力学特性制御層としては、柔軟な弾性を示すもの、熱により軟化するもの、熱により流動性を呈するものなどが好ましい。図２（ｃ）は、図１（ｄ）または（ｅ）を作製することができる転写材料である。光学異方性層１２の下に凹凸を形成するための感光性樹脂層１５を有している。本態様を作製するためには、感光性樹脂層１５の上に液晶性化合物を配向させることが必要となるが、通常感光性樹脂層上に有機溶媒を用いて液晶性化合物を含む塗布液を塗布すると、有機溶媒で感光性樹脂層が溶解してしまうため液晶性化合物を配向させることができない。本態様は、別の仮支持体２４上に図２（ｄ）に示すような転写材料を形成したのち、これを転写接着層を兼ねる感光性樹脂層１５が仮支持体２１に接するように仮支持体２１上に転写し、仮支持体２４を剥離後、光学異方性層１２の上に転写接着層１４を形成することで作製することができる。

［液晶表示装置用基板（カラーフィルタ層を有する基板）］
図３（ａ）にパターン状のレターデーションを有する光学異方性層及びカラーフィルタ層を含む液晶表示装置用基板の一例の概略断面図を示す。この例では基板として、上述のガラスや低複屈折性ポリマー等からなる基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板が用いられる。本発明の光学異方性層形成用組成物から形成された光学異方性層を含む液晶表示装置用基板は、液晶セルを形成する２枚の液晶表示装置用基板のうち、ＴＦＴ基板に比べてプロセス温度が低いカラーフィルタ層を含む側の液晶表示装置用基板として用いることが好ましい。この場合、基板上には一般にブラックマトリクス３１が形成され、その上にカラーフィルタがフォトリソ工程で形成されていればよい。さらにその上に、直接または転写材料から光学異方性層を含む層を作製後、レーザ直接描画もしくはマスク露光等を行い、加熱工程を経ることによってパターン状のレターデーションを有する光学異方性層１２が形成される。図３（ａ）には断面図および上から見た図を示しているが、半透過ＬＣＤの場合、ＲＧＢからなる一画素の中に透過部３３と反射部３４が設けられているため、ＲＧＢのカラーフィルタ上に部分的またはストライプ状にパターンを形成するとよい。透過部３３と反射部３４は逆になっても構わないが、半透過型ＬＣＤの場合、液晶セルのバックライト側で透過部のみを光学補償することができるため、光学異方性層の反射部のみにレターデーションを与えることが、性能向上に大きく寄与できて好ましい。図３（ｂ）にはさらに感光性樹脂層からなる段差層を形成した例を示す。このように、本明細書で開示する製造方法によって透過部３３と反射部３４で高さを変えることができ、それによって液晶セルギャップを変える、いわゆるマルチギャップが可能となる。図３（ｂ）は反射部に突起を有するが、一般に半透過ＬＣＤでは透過部より反射部のセルギャップが小さいため、反射部に突起を有する態様が好ましい。逆にする場合は感光性樹脂層をポジ型にすればよい。

パターン状のレターデーションを有する光学異方性層を含む液晶表示装置用基板は、透過型ＬＣＤに用いても効果を発揮する。図３（ｃ）に透過型ＬＣＤを想定した態様を示す。図３（ｃ）は、ＲおよびＧが露光部、Ｂが未露光部で、Ｂ上のレターデーションが小さいか、もしくは実質的にゼロとなっている。Ｒ、ＧおよびＢに対する光学補償のためのレターデーションの最適値は一般に異なるため、本明細書で開示する製造方法によってＲＧＢの色ごとにレターデーションを調節することができる。パターン状のレターデーションを有する光学異方性層を含むと一般的な光学補償シートを組み合わせることもでき、さらなる視野角改良効果、特に色視野角改良効果が期待できる。図３（ｄ）はさらにＲＧＢごとにセルギャップも制御する態様である。このマルチギャップによって、さらにＬＣＤの色視野角特性を改良でき、本明細書で開示する製造方法によるＲＧＢ独立レターデーション制御との組み合わせによって高品位のＬＣＤ表示特性を達成することができる。

ＴＦＴ層を有する側の液晶表示装置用基板として本発明の光学異方性層形成用組成物から形成された液晶表示装置用基板を用いる場合、光学異方性層はどの位置に形成されてもよいが、ＴＦＴアレイ工程はシリコン形成に通常３００℃以上の高温プロセスを要することから、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層はＴＦＴのシリコン層よりも上であることが好ましい。

［液晶表示装置］
図４は液晶表示装置の一例の概略断面図である。図４（ａ）の例は、図３（ｂ）をカラーフィルタ基板４８として用いた半透過型液晶表示装置である。偏光層４１を挟む保護フィルム４２および４３からなる２枚の偏光板４９が粘着剤４４を介して液晶セルを形成する上下の基板１１にそれぞれ貼合されている。一般に液晶セルの下側基板にはＴＦＴなどの駆動素子４５が形成されており、半透過型の反射部にのみ、その上にアルミや誘電体多層膜などからなる反射板４６が形成されている。液晶セル上下基板の間には液晶４７が満たされており、この液晶の配向が電圧印加で変化することにより液晶表示装置がスイッチングされる。上下基板の最表面には、液晶４７の配向を決めるために配向膜（図中は省略）が形成され、その上をラビング処理されるのが一般的である。反射部の液晶セルギャップは、反射板４６と感光性樹脂層１５により形成された段差で透過部と異なるギャップに制御することができる。偏光層を挟む２枚の保護フィルムのうち、４３は光学補償シートを用いてもよいし、通常の保護フィルム４２を用いてもよい。透過部は上下２枚の光学補償シート４３によって視野角が制御され、反射部は上側補償シート４３とセル内の光学異方性層１２Ａによって視野角が制御される。

図４（ｂ）に比較として光学補償シートのみによる半透過型ＬＣＤの例を示す。４３Ａはλ／２板、４３Ｂはλ／４板で、４３Ａと４３Ｂとで広帯域λ／４となる。上下に広帯域λ／４板を配置し、反射部は上側補償シート４３で反射型ＬＣＤ表示を行い、透過型ＬＣＤには不要な上側の広帯域λ／４板を、下側偏光板でキャンセルする必要があり、補償シートとしては上下４枚必要となる。

図４（ｃ）の例は、図３（ｄ）をカラーフィルタ層を有する側の液晶表示装置用基板４８として用いた透過型液晶表示装置である。反射板４６がない以外の各構成素子は半透過型と同じであるが、透過型の場合、テレビのように画質、特に色味において高品位の表示特性が求められる。そのため、カラーフィルタのＲＧＢごとに最適化された液晶セル設計にすることが望ましい。そこで、光学補償は偏光板４９を構成する上下２枚の光学補償シート４３の一方または両方と、セル内のパターニングされた光学異方性層１２で行い、さらに液晶セルギャップもＲＧＢごとに変化させるマルチギャップにすることによって、自由度の高い液晶セル設計が可能となる。この方式は、特にＶＡモードもしくはＩＰＳモードにおいて優れた視野角特性を達成することができ好ましい。

本発明の光学異方性層形成用組成物を用いて製造された液晶表示装置用基板および転写材料の用途について特に限定されないが、液晶表示装置の構成部材を作製するのに利用するのが好ましい。特に、本発明の光学異方性層形成用組成物を用いて液晶表示装置のセル内に光学異方性層が設けられることにより液晶表示装置のセルの光学補償に寄与し、即ち、コントラスト視野角を拡大し、液晶表示装置の画像着色を解消するのに寄与する。
以下、本発明の光学異方性層形成用組成物及び該組成物を用いて製造される液晶表示装置用基板について、作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明する。ただし、本発明はこの態様に限定されるものではなく、他の態様についても、以下の記載および従来公知の方法を参考にして実施可能であって、本発明は以下に説明する態様に限定されるものではない。

［基板］
液晶表示装置用基板に用いられる基板は、透明であれば特に限定はなく、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板でも、ポリマーからなる透明基板でもよい。液晶表示装置用の場合、基板作製工程においてカラーフィルタや配向膜のベークのために１８０℃以上の高温プロセスを要するため、耐熱性を有することが好ましい。そのような耐熱性基板としては、ガラス板もしくはポリイミド、ポリエーテルスルホン、耐熱性ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、特に価格、透明性、耐熱性の観点からガラス板が好ましい。また、基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、転写接着層との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、１００〜１２００μｍが一般的に好ましく、３００〜１０００μｍが特に好ましい。
また、液晶表示装置用基板の製造に用いられる基板は上記のガラス基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であってもよい。

［仮支持体］
転写材料に用いられる仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。

［液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層］
前記光学異方性層は、上記の様に、好ましくは液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。液晶セル中に組み込まれた光学異方性層は単独で充分な光学補償能を有していてもよく、他の層（例えば、液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足していてもよい。また、露光前の基板上の光学異方性層、又は転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであればよい。

［光学異方性層形成用組成物］
本発明の光学異方性層形成用組成物は上記一般式（Ｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ）で表される化合物、およびカチオン重合開始剤を含む。一般式（Ｉ）で表される化合物の総質量に対する、一般式（ＩＩ）で表される化合物の総質量は５％〜１００％であることが好ましく、１０％〜８０％であることがより好ましい。
一般に、重合性基を有する液晶組成物を配向させ、重合した場合、重合による体積収縮等の影響により重合後の屈折率異方性Δｎ₂と配向を固定化する前の屈折率異方性Δｎ₁との関係が下記の式：
Δｎ₂／Δｎ₁≦１
を満たし、重合により屈折率異方性が小さくなる傾向がある。
しかし、本発明の光学異方性層形成用組成物においては、下記の式：
Δｎ₂／Δｎ₁＞１
の関係となる。すなわち、重合により屈折率異方性が大きくなり、薄膜化が可能となる。さらに、波長分散特性は重合前後で変化しないことから、屈折率異方性と波長分散特性のトレードオフから脱却することができる。

以下に、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。

式中、Ｑ¹及びＱ²のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ¹及びＱ²の他方はカチオン重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴の他方はカチオン重合性基を表す。ラジカル重合性基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましく、カチオン重合性基としては、オキセタン基、エポキシ基、ビニルエーテル基が好ましく、オキセタン基、エポキシ基であることがさらに好ましい。Ｘ¹¹及びＸ¹²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＮＰ¹−、−Ｓ−を表し、−Ｏ−、−ＮＰ¹−が好ましく、−Ｏ−であることがさらに好ましい。Ｐ¹は水素原子、または置換もしくは無置換アルキル基を表し、水素原子が好ましい。Ｐ¹で表される置換もしくは無置換アルキル基は炭素数１〜３であることが好ましい。Ｌ¹〜Ｌ⁴は、それぞれ独立に単結合、または置換もしくは無置換アルキレン基を表す。Ｌ¹〜Ｌ⁴で表される置換もしくは無置換アルキレン基は炭素数２〜１０であることが好ましい。置換アルキレン基としては、アルキレン基中の−ＣＨ₂−が、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｓ−に置換された基があげられる。このうち、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｏ−ＣＯ−、又は−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−、又は−Ｏ−ＣＯ−であることがさらに好ましい。Ａ¹、Ａ²、Ａ⁶はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＰ²−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＰ²−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ａ¹、Ａ²は−Ｏ−であることが好ましい。Ａ⁶は−Ｏ−又は−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。Ｐ²は水素原子または置換もしくは無置換アルキル基（炭素数１〜３であることが好ましい）を表し、水素原子であることが好ましい。Ａ³は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ³−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。Ｐ³は水素原子、または置換もしくは無置換アルキル基（炭素数１〜３であることが好ましい）を表し、水素原子であることが好ましい。Ａ⁴、Ａ⁵はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ⁴−を表し、Ａ⁴またはｍ個のＡ⁵のうち少なくとも１つは単結合であり、Ｐ⁴は水素原子または置換もしくは無置換アルキル基（炭素数１〜３であることが好ましい）を表し、水素原子であることが好ましい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、臭素原子を表し、水素原子、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子であることが好ましく、水素原子、メトキシ基、塩素原子であることがさらに好ましい。ｎ¹〜ｎ⁶は１〜３の整数を表し、１〜２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。ｍは２〜３の整数を表し、その場合、複数存在するＲ¹⁵，ｎ⁵，Ａ⁵は互いに異なっていてもよい。

以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下に、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、単独の液晶状態でネマチック相のみを発現するものを選択し、一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、単独で少なくともスメクチック相を発現するものを選択することが好ましい。
前記光学異方性層が正のａ−ｐｌａｔｅの場合、ＶＡモードもしくは半透過型の液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。また、前記光学異方性層が正のｃ−ｐｌａｔｅの場合、ＩＰＳモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。ＶＡモード、ＩＰＳモードいずれの場合においても、偏光板保護フィルムの一方を光学補償シートとすることが好ましい。ＶＡモードにおいては、偏光板保護フィルムとしての光学異方性層がｃ−ｐｌａｔｅであることが好ましく、ＩＰＳモードに対しては厚み方向の屈折率が最も小さい二軸性であることが好ましい。一軸性の光学異方性層は、一軸性である棒状の液晶性化合物を液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製することができる。このような一軸性配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。

光学異方性層は、上記の液晶性化合物およびカチオン重合開始剤と他の添加剤を含む溶液（塗布液）を、後述する所定の配向層の上に塗布して形成することが好ましい。
塗布液における上記の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される化合物の濃度は５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４５質量％であることがより好ましい。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。カチオン重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができる。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、などが好ましく用いられる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。

前記光学異方性層は、偏光照射による光配向によって面内のレターデーションが発生した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特に、ＶＡモードの液晶表示装置を光学補償するのに優れている。

前記光学異方性層形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
以下、下記一般式（１）〜（４）について、順に説明する。

式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²およびＸ³は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ¹〜Ｒ³で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ¹、Ｘ²およびＸ³で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−およびＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい

式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²およびＲ³で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。

式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８号公報および特開２００６−９１２０５号公報に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。

水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

［配向層］
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明仮支持体上又は該透明仮支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。

配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。

配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。

また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。

また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ₂を代表とし、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ₂等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ₂等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。

［段差形成用感光性樹脂層］
感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、ポジ型でもネガ型でもよく特に限定はなく、市販のレジスト材料を用いることもできる。基板形成工程における環境上や防爆上の問題から、有機溶剤が５％以下の水系現像であることが好ましく、アルカリ現像であることが特に好ましい。また、図２（ｃ）の態様の場合、前記感光性樹脂層は少なくとも（１）ポリマーと、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（３）の成分について説明する。

（１）ポリマー
ポリマー（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーからなるアルカリ可溶性樹脂が好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報および特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。全固形分に対するポリマーの含有量は２０〜７０質量％が一般的であり、２５〜６５質量％が好ましい。

（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマーおよびオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートおよびフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。

更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報および特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報および特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。

（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書および同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾールおよびトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．３〜２０質量％が一般的であり、０．５〜１５質量％が好ましい。

感光性樹脂層は、ムラを効果的に防止するという観点から、適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、および/又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。

特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）および、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。

式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、qは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。

特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣ_mＦ_2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。Ｃ_mＦ_2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ²およびＲ³は、各々独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐおよびqは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐおよびqは好ましくは２〜８である。

また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。

特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。

モノマー（ａ）および（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレンおよびその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。

特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造および／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。

前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、およびポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させカラーフィルタを作製すると、表示ムラが改良される点で好ましい。

好ましいフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開２００４−１６３６１０号公報の段落番号［００５４］〜［００６３］に記載の化合物が挙げられる。また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。本発明においては、一般式(a)で表されるモノマーを含まないフッ素系界面活性剤である、特開２００４−３３１８１２号公報の段落番号［００４６］〜［００５２］に記載の化合物を用いることも好ましい。

［転写用接着層］
転写用接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、中でも感光性樹脂層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層などが挙げられるが、基板に必要な耐ベーク性から感光性もしくは感熱性樹脂層が望ましい。粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等が挙げられる。粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。

感圧性樹脂層としては、圧力をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感圧性接着剤には、ゴム系，アクリル系，ビニルエーテル系，シリコーン系の各粘着剤が使用できる。粘着剤の製造段階，塗工段階の形態では、溶剤型粘着剤，非水系エマルジョン型粘着剤，水系エマルジョン型粘着剤，水溶性型粘着剤，ホットメルト型粘着剤，液状硬化型粘着剤，ディレードタック型粘着剤等が使用できる。ゴム系粘着剤は、新高分子文庫１３「粘着技術」（株）高分子刊行会Ｐ．４１（１９８７）に記述されている。ビニルエーテル系粘着剤は、炭素数２〜４のアルキルビニルエーテル重合物を主剤としたもの，塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体，酢酸ビニル重合体，ポリビニルプチラール等に可塑剤を混合したものがある。シリコーン系粘着剤は、フィルム形成と膜の凝縮力を与えるためゴム状シロキサンを使い、粘着性や接着性を与えるために樹脂状シロキサンを使ったものが使用できる。

感熱性樹脂層としては、熱をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感熱性接着剤としては、熱溶融性化合物、熱可塑性樹脂などを挙げることができる。前記熱溶融性化合物としては、例えば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の低分子量物、カルナバワックス、モクロウ、キャンデリラワックス、ライスワックス、及び、オウリキュリーワックス等の植物系ワックス類、蜜ロウ、昆虫ロウ、セラック、及び、鯨ワックスなどの動物系ワックス類、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、エステルワックス、及び、酸化ワックスなどの石油系ワックス類、モンタンロウ、オゾケライト、及びセレシンワックスなどの鉱物系ワックス類等の各種ワックス類を挙げることができる。さらに、ロジン、水添ロジン、重合ロジン、ロジン変性グリセリン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性ポリエステル樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、及びエステルガム等のロジン誘導体、フェノール樹脂、テルペン樹脂、ケトン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、及び脂環族系炭化水素樹脂などを挙げることができる。

なお、これらの熱溶融性化合物は、分子量が通常１０，０００以下、特に５，０００以下で融点もしくは軟化点が５０〜１５０℃の範囲にあるものが好ましい。これらの熱溶融性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、前記熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、及びセルロース系樹脂などを挙げることができる。これらのなかでも、特に、エチレン系共重合体等が好適に使用される。

感光性樹脂層としては、光照射によって接着性を発現すれば特に限定はなく、感光性接着剤としては、前記段差形成用感光性樹脂層に用いられるものと同じものを利用することができる。中でも特に、少なくとも（１）ポリマーと、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含む樹脂組成物から形成することが好ましい。

［その他の層］
本発明の転写材料の、支持体と光学異方性層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、柔軟な弾性を示すもの、熱により軟化するもの、熱により流動性を呈するものなどが好ましく、熱可塑性樹脂層が特に好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。

本発明の転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。

樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、樹脂層から容易に分離されることが好ましい。保護フィルム材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。

光学異方性層、感光性樹脂層、転写接着層および所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層および中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許2681294号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

［光学異方性層を基板上に形成する方法］
本発明の光学異方性層形成用組成物を用いて、光学異方性層は、基板上に光学異方性層形成用組成物を塗布して形成することができるとともに、転写材料を用いて形成することもできる。
転写材料を用いて光学異方性層を形成することによって、特に段差形成用感光性樹脂層を有する液晶表示装置用基板の製造の際に、製造工程数を減らすことが可能である。転写材料を基板上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記光学異方性層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明の転写材料を、転写接着層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方性層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。

［パターン状のレターデーションを有する光学異方性層の形成］
パターン状のレターデーションを有する光学異方性層を形成するためのパターン露光は、基板上に形成された感光性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスクを介してマスク上方から露光してもよいし、レーザや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画してもよい。前記露光の光源としては、樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ²程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ²程度である。

レターデーションのパターンは、パターン露光された光学異方性層を８０℃以上４００℃以下の加熱工程を経ることにより形成することができる。本発明の光学異方性形成用組成物を含む溶液を基板上に塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射することによって、又は同様に形成された光学異方性層を含む転写材料からの転写によって全面に均一な光学異方性層を得た後、該光学異方性層を直接もしくはフォトマスクを介してパターン露光し、さらに加熱することによって、Ｒｅ１とＲｅ２（Ｒｅ１＞Ｒｅ２）の異なるレターデーションを有するパターン状のレターデーションを有する光学異方性層を得ることができる。露光部がＲｅ１となることが好ましい。Ｒｅ２はＲｅ１の８０％以下が好ましく、Ｒｅ１の５０％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましく、実質的に０となることが最も好ましい。
Ｒｅ１は４０〜５５０ｎｍであることが好ましい。

また、段差形成を行う場合は、前記加熱工程前に液による現像を行う。露光後の現像工程に用いられる現像液としては特に制約はないが、水を３０質量％以上含む現像液が好ましい。環境上、防爆上の問題からアルカリ現像が好ましく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。また、上記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。

現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────―────
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
───────────────────────────────────────
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学（株）製） ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────────―

（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――

（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１〜ＬＣ−６の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１〜ＬＣ−６として用いた。下記表は、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１〜ＬＣ−６の塗布液組成（質量％）である。ＬＣ−１〜ＬＣ−６いずれにおいても、棒状液晶の割合は、塗布液総質量の１９．５７質量％になるように調整した。さらに、ＬＣ−２〜ＬＣ−６の塗布液に関しては、Ｉ−１以外の液晶を加えているが、いずれもＩ−１の１／４倍量加えている。表中カチオン光重合開始剤は、Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカルであり、重合制御剤は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）である。
棒状液晶Ｉ−１、ＩＩ−１、ＩＩ−２、ＩＩ−３、Ｉ−５、ＩＩＩの相転移温度を下記に示す
Ｉ−1：Cr 89 N 141 Iso
ＩＩ−1: Cr 109 Sc 200℃でもSc
ＩＩ−2: Cr 94 Sc 134 SA 158 N 200℃でもN
ＩＩ−3: Cr 136 SA 160 N 200℃でもN
Ｉ−5：Cr 69 N 111 Iso
ＩＩＩ：Cr 87 N 98 Iso

（感光性転写接着／樹脂層用塗布液ＡＤ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性転写接着／樹脂層用塗布液ＡＤ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
感光性転写接着／樹脂層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル
＝３５．９／２２．４／４１．７モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．８万） ８．０５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ４．８３
ラジカル光重合開始剤（２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
１，３，４−オキサジアゾール） ０．１２
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４．８０
メチルエチルケトン ５０．５３８
メタノール １．６１
──────────────────────────────────――

（転写材料Ｌ１〜Ｌ６の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ１４．６μｍ、１．６μｍであった。次いで、形成した配向膜層をラビング処理した後、その上にワイヤーバーを用いてＬＣ−１を塗布、膜面温度９０℃で１分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、いずれも厚さ１．１４μｍの光学異方性層を形成し、最後に、感光性転写用接着層用塗布液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの転写用接着層を形成し転写材料Ｌ−１を作製した。ＬＣ−１の代わりにそれぞれＬＣ−２〜ＬＣ−６を用いる以外は転写材料Ｌ−１と同様に、転写材料Ｌ−２〜Ｌ６を作製した。転写材料Ｌ−１同様、光学異方性層の膜厚は、いずれも１．１４μｍであった。

（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、転写材料Ｌ１〜Ｌ６の作製時の紫外線を照射する前後での各光学異方性層の正面レターデーションＲｅ（５５０ｎｍ）、および波長分散値（Ｒｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）を測定した。膜厚の値（１．１４μｍ）からΔｎ（５５０ｎｍ）の値も算出した。位相差測定結果を表１に示す。

表２の結果から、本発明の光学異方性層形成用組成物（ＬＣ−２〜ＬＣ−４）から形成した光学異方性層は、Δｎ₂／Δｎ₁＞１（Δｎ₂：重合後の屈折率異方性、Δｎ₁：重合前の屈折率異方性）であり、かつ重合後に大きな屈折率異方性が得られていることがわかる。波長分散に関して、本発明の光学異方性層形成用組成物（ＬＣ−２〜ＬＣ−４）から形成した光学異方性層は、重合前後で変化はなかった。

膜厚０．７７μｍの光学異方性層とした以外は、転写材料Ｌ−４の作製と同様にして転写材料Ｌ−４−２を作製した（重合後の正面Ｒｅ（５５０ｎｍ）は１４０ｎｍ、重合後のΔｎ（５５０ｎｍ）は０．１８３、重合後のＲｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）は１．２０であった）。

（液晶表示装置用基板の作製）
小林駿介編著、カラー液晶ディスプレイ、２４０頁、産業図書（１９９４）に記載の一般的な方法で、ガラス基板上にブラックマトリクスおよびＲＧＢの３色のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板を形成した。その上に、転写材料Ｌ−４−２を、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。 仮支持体を剥離後、感光性樹脂層塗布液ＡＤ−１をスピンコート塗布し、厚さ２．０μｍの感光性樹脂層を形成した。次いで、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量２５ｍＪ／ｃｍ²でパターン露光した。さらに、炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像して感光性樹脂層を現像し、段差層を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行った後、２３０℃のマッフル炉で１時間加熱して、レターデーションをパターン状に有する図１（ｄ）の態様の実施例７の液晶表示装置用基板を作製した。実施例７のレターデーションのパターンを測定したものを表２に示す。

（半透過型ＬＣＤの作製）
実施例７の液晶表示装置用基板上に透明電極、ポリイミドからなる配向膜を形成し、対向の液晶表示装置用基板に反射板付きＴＦＴ基板を用いて、図４（a）の構成の実施例８の半透過型ＥＣＢ−ＬＣＤを作製した。

パターン露光の代わりに全面露光した以外は実施例７の液晶表示装置用基板の作製と同様に液晶表示装置用基板を作製し、この液晶表示装置用基板を実施例７の液晶表示装置用基板の代わりに用いた以外は実施例８と同様にして、半透過型ＬＣＤを比較例１として作製した。また、図４（ｂ）の構成の半透過型ＬＣＤを比較例２として作製した。実施例８、および比較例１、２の目視評価結果を表３に示す。

液晶表示装置用基板の一例の概略断面図である。 転写材料の一例の概略断面図である。 カラーフィルタ層を有する側の液晶表示装置用基板の一例の概略図である。 液晶表示装置用基板を有する液晶表示装置の一例の概略断面図である。

符号の説明

１１ 基板
１２ 光学異方性層
１２Ａ 光学異方性層の露光部
１２Ｂ 光学異方性層の未露光部
１３ 配向層（基板上）
１４ 転写接着層
１５ 感光性樹脂層
２１ 仮支持体
２２ 配向層（仮支持体上）
２３ 力学特性制御層
１６ 保護層
３１ ブラックマトリクス
３２ カラーフィルタ層
３３ 透過部
３４ 反射部
４１ 偏光層
４２ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
４３ セルロースアセテートフィルム、または光学補償シート
４３Ａ λ／２板
４３Ｂ λ／４板
４４ 粘着層
４５ 駆動素子
４６ 反射板
４７ 液晶
４８ 機能性基板

Claims (16)

1. 一般式（Ｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ）で表される化合物、及びカチオン重合開始剤を含む光学異方性層形成用組成物。
   

   

   （式中、Ｑ¹及びＱ²のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ¹及びＱ²の他方はカチオン重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴のいずれか一方はラジカル重合性基を表し、Ｑ³及びＱ⁴の他方はカチオン重合性基を表し、Ｘ¹¹及びＸ¹²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＮＰ¹−、−Ｓ−を表し、Ｐ¹は水素原子、または置換若しくは無置換アルキル基を表し、Ｌ¹〜Ｌ⁴は、それぞれ独立に単結合、または置換もしくは無置換アルキレン基、または置換アルキレン基を表し、Ａ¹、Ａ²、Ａ⁶はそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＰ²−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＰ²−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｐ²は水素原子または置換もしくは無置換アルキル基を表し、Ａ³は単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ³−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｐ³は水素原子、または無置換若しくは置換アルキル基を表し、Ａ⁴、Ａ⁵はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＰ⁴−を表し、Ａ⁴またはｍ個のＡ⁵のうち少なくとも１つは単結合を表し、Ｐ⁴は水素原子、または置換もしくは無置換アルキル基を表し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、メトキシ基、塩素原子、フッ素原子、臭素原子を表し、ｎ¹〜ｎ⁶は１〜３の整数を表し、ｍは２〜３の整数を表す。）
2. 一般式（Ｉ）で表される化合物の総質量に対する、一般式（ＩＩ）で表される化合物の総質量が５〜１００％である請求項１に記載の組成物。
3. 仮支持体上に請求項１又は２に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して形成される光学異方性層と、転写用接着層とを有する転写材料。
4. 前記光学異方性層が、前記仮支持体上に直接もしくは仮支持体上に形成した配向層をラビングした上に形成されている請求項３に記載の転写材料。
5. 少なくとも次の［１］〜［３］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
   ［１］基板上に請求項１又は２に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して光学異方性層を形成する工程
   ［２］該光学異方性層をパターン露光する工程
   ［３］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。
6. 少なくとも次の［１１］〜［１５］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法；
   ［１１］基板上に請求項１又は２に記載の組成物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、該液晶相を熱または電離放射線照射して光学異方性層を形成する工程
   ［１２］該光学異方性層上に感光性樹脂層を形成する工程
   ［１３］該光学異方性層及び感光性樹脂層をパターン露光する工程
   ［１４］該基板上の不要な感光性樹脂層を除去する工程
   ［１５］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。
7. 少なくとも次の［２１］〜［２３］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
   ［２１］請求項３又は４に記載の転写材料を用いて、基板上に転写用接着層と光学異方性層を基板側からこの順に形成する工程
   ［２２］該光学異方性層をパターン露光する工程
   ［２３］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。
8. 少なくとも次の［３１］〜［３５］の工程をこの順に含む液晶表示装置用基板の製造方法：
   ［３１］請求項３又は４に記載の転写材料を用いて、基板上に転写用接着層と光学異方性層を基板側からこの順に形成する工程
   ［３２］光学異方性層上に感光性樹脂層を形成する工程
   ［３３］該光学異方性層及び感光性樹脂層をパターン露光する工程
   ［３４］該基板上の不要な感光性樹脂層を除去する工程
   ［３５］該光学異方性層を８０℃以上４００℃以下に加熱する工程。
9. 不要な感光性樹脂層の除去が水を３０％以上含む現像液を用いて行われる請求項６または８のいずれか１項に記載の製造方法。
10. 前記溶液が、一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（ＩＩ）で表される化合物を５〜５０質量％含む請求項３〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
11. 面内レターデーションＲｅ１の領域と面内レターデーションＲｅ２の領域（ただしＲｅ１＞Ｒｅ２）とを有する光学異方性層を含む請求項５〜１０のいずれか１項に記載の製造方法により製造された液晶表示装置用基板。
12. 面内レターデーションＲｅ１の領域が前記パターン露光時の露光部であり、面内レターデーションＲｅ２の領域が前記パターン露光時の未露光部である請求項１１に記載の液晶表示装置用基板。
13. Ｒｅ２が５ｎｍ以下である請求項１１または１２に記載の液晶表示装置用基板。
14. Ｒｅ１が４０〜５５０ｎｍである請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板。
15. 請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の液晶表示装置用基板を有する液晶表示装置。
16. 液晶モードが半透過モードである請求項１５に記載の液晶表示装置。

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