JP4878524B2 - 転写材料及びパターン状の光学異方性層と感光性樹脂層とを有する積層構造体の製造方法並びに液晶表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料、該転写材料を用いた光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の製造方法、該積層構造体を用いたカラーフィルタ、および液晶表示装置に関する。
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型ＬＣＤでは、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。一方、反射型ＬＣＤでは、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、および偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型および半透過型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来のＬＣＤで表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、ＬＣＤの視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。
この視野角特性を改良するために、視野角補償用位相差板（光学補償シート）が適用されてきた。これまでに上述の様々の表示モードに対して種々の光学特性を有する光学補償シートを用いることにより、優れたコントラスト視野角特性を有するＬＣＤが提案されている。特にＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳの３つのモードは広視野角モードとして全方位に渡り広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及しており、さらには近年３０インチを超える大サイズディスプレイも登場してきた。
大サイズのＬＣＤにおいては偏光板の特に環境湿度による寸度変化が原因で、ＬＣＤのコーナーに光漏れが発生する、いわゆるコーナームラが問題となっている。特に、偏光板に光学補償シートが直接または粘着層を介して貼合されている場合、寸度によるレターデーション変化の大きい視野角補償層の光学特性変化により、コーナームラが悪化する。
また、光学補償シートによる方法はコントラスト視野角特性を有効に改良できるが、色視野角特性に対しては改良効果が十分ではなく、色視野角特性改良はＬＣＤの重要な課題となっている。ＬＣＤの色視野角特性は、Ｒ、Ｇ、Ｂの代表的な３つの色において波長が異なるため、同じ位相差でも偏光の位相差による変化が異なってしまうことに由来する。これを最適化するには、光学異方性材料の複屈折の波長依存性、すなわち複屈折波長分散をＲ、Ｇ、Ｂに対して最適化してやることである。現在のＬＣＤではＯＮ、ＯＦＦ表示に用いられる液晶分子の複屈折波長分散や光学補償シートの複屈折波長分散が容易に制御できないため、未だ色視野角特性を十分改良するに至っていない。
色視野角特性のために複屈折波長分散を制御した光学補償シートとして、変性ポリカーボネートを用いた位相差板が提案されている（特許文献１）。これを反射型液晶表示装置におけるλ／４板や、ＶＡモードにおける光学補償シートに用いることにより、色視野角特性が改善できる。しかしながら、変性ポリカーボネートフィルムは原料自体が高価というだけでなく、その製造工程において用いられる延伸においてボウイングなどの光学特性の不均一性が発生するなどの理由から、未だ広くＬＣＤに用いられるに至っていない。
一方、光学補償シートによるコントラスト視野角補償と原理は同じだが、それをＲ、Ｇ、Ｂの３色に対して独立に補償する方式も提案されている（特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５）。これは主に液晶セル内にカラーフィルタなどと一緒に位相差板をパターニングする方法により実現される。しかしながら、液晶セル内で位相差板をパターニングするためには、例えば、セル内で配向膜層の形成、ラビング処理、重合性液晶組成物の塗布、配向、固定化、及びレジスト層の形成、エッチング処理、レジスト層の剥離除去など煩雑な操作が必要であり、そのため、光学的に均一な位相差特性を有する光学異方性層を形成することは困難であった。
本発明は、液晶セル内に光学異方性層を形成するのに有用な転写材料を提供すること、特に、液晶セル内に光学補償能を有する光学異方性層付きのカラーフィルタを作製するのに有用な転写材料を提供することを課題とする。また、本発明は、パターン状の光学異方性層を有する積層構造体、および該積層構造体の簡便な製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する新規な積層構造体、および、パターン状の光学異方性層付きのカラーフィルタを提供することを課題とする。また、本発明は、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
（１）酸性基を有するモノマーおよび／または酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料。
（２）前記モノマーがエチレン性不飽和モノマーである（１）に記載の転写材料。
（３）前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−Ｘ （１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである（１）に記載の転写材料。
（１）酸性基を有するモノマーおよび／または酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料。
（２）前記モノマーがエチレン性不飽和モノマーである（１）に記載の転写材料。
（３）前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−Ｘ （１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである（１）に記載の転写材料。
（４）前記酸性基がカルボキシル基であり、かつ、酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーが、混合酸無水物化、アミド化、エステル化、またはチオエステル化されたカルボキシル基を有するモノマーである（１）または（２）に記載の転写材料。
（５）前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１０１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−ＣＯＯＨ （１０１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである（４）に記載の転写材料。
（６）前記液晶性組成物における酸性基、および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である（１）〜（５）のいずれか一項に記載の転写材料。
（５）前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１０１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−ＣＯＯＨ （１０１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである（４）に記載の転写材料。
（６）前記液晶性組成物における酸性基、および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である（１）〜（５）のいずれか一項に記載の転写材料。
（７）前記光学異方性層が一軸性もしくは二軸性の光学異方性層である（１）〜（６）のいずれか一項に記載の転写材料。
（８）前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射された層である（１）〜（７）のいずれか一項に記載の転写材料。
（９）前記電離放射線が偏光紫外線である（８）に記載の転写材料。
（１０）前記液晶性組成物が棒状液晶化合物を含む（１）〜（９）のいずれか一項に記載の転写材料。
（８）前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射された層である（１）〜（７）のいずれか一項に記載の転写材料。
（９）前記電離放射線が偏光紫外線である（８）に記載の転写材料。
（１０）前記液晶性組成物が棒状液晶化合物を含む（１）〜（９）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１１）前記液晶性組成物が円盤状液晶化合物を含む（１）〜（１０）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１２）前記光学異方性層が熱または電離放射線を照射される前にコレステリック相を呈している（８）〜（１１）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１３）前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい（１）〜（１２）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１２）前記光学異方性層が熱または電離放射線を照射される前にコレステリック相を呈している（８）〜（１１）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１３）前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい（１）〜（１２）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１４）前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が２０〜２００ｎｍ、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が５０〜２５０ｎｍである（１）〜（１３）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１５）光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料であって、該光学異方性層が酸性基および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である組成物からなる転写材料。
（１５）光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料であって、該光学異方性層が酸性基および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である組成物からなる転写材料。
（１６）前記感光性樹脂層が染料および／または顔料を含有する（１）〜（１５）のいずれか一項に記載の転写材料。
（１７）光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の製造方法であって、下記［１］及び［２］の工程を含む製造方法。
［１］（１）〜（１６）のいずれか一項に記載の転写材料を、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。
［２］アルカリ水溶液を用いて現像し、該転写材料の未露光部分を除去する工程。
（１８）（１７）に記載の方法により得られる積層構造体。
（１９）（１８）に記載の積層構造体を有する液晶表示装置。
（２０) 液晶モードがＶＡ、ＩＰＳのいずれかである（１９）に記載の液晶表示装置。
（１７）光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の製造方法であって、下記［１］及び［２］の工程を含む製造方法。
［１］（１）〜（１６）のいずれか一項に記載の転写材料を、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。
［２］アルカリ水溶液を用いて現像し、該転写材料の未露光部分を除去する工程。
（１８）（１７）に記載の方法により得られる積層構造体。
（１９）（１８）に記載の積層構造体を有する液晶表示装置。
（２０) 液晶モードがＶＡ、ＩＰＳのいずれかである（１９）に記載の液晶表示装置。
本発明の転写材料を利用することにより、液晶表示装置の製造工程数をほとんど増やすことなく、液晶セル内に光学補償能を有する光学異方性層を含む液晶表示装置を作製することができる。また 本発明の酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層を有する転写材料はアルカリ水溶液を用いて容易に現像が可能なため、現像設備の防爆化、廃溶剤処理の簡略化が可能となり、コストダウンメリットが大きい。しかも、該現像により得られた積層構造体を有する液晶表示装置は、酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含有しない液晶性組成物からなる光学異方性層を有する液晶表示装置と同等の視野角特性、特に色視野角特性を有する。
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、Ｒｅレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）は平行ニコル法により、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍを指す。
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
［転写材料］
本発明の転写材料は、支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と少なくとも一層の感光性樹脂層とを有し、前記光学異方性層と前記感光性樹脂層を、他の基板上に転写するのに用いられる材料である。図１は本発明の転写材料のいくつかの例の概略断面図である。図１（ａ）に示す本発明の転写材料は、透明または不透明な仮支持体１１上に光学異方性層１２と感光性樹脂層１３とを有する。本発明の転写材料は他の層を有していてもよく、例えば、図１（ｂ）に示す様に、支持体１１と光学異方性層１２との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層１４を有していてもよいし、また、図１（ｃ）に示す様に、光学異方性層１２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層１５が配置されてもよいし、さらに図１（ｄ）に示す様に双方の層を有していてもよい。また、図１（ｅ）感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層１６を設けてもよい。
本発明の転写材料は、支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と少なくとも一層の感光性樹脂層とを有し、前記光学異方性層と前記感光性樹脂層を、他の基板上に転写するのに用いられる材料である。図１は本発明の転写材料のいくつかの例の概略断面図である。図１（ａ）に示す本発明の転写材料は、透明または不透明な仮支持体１１上に光学異方性層１２と感光性樹脂層１３とを有する。本発明の転写材料は他の層を有していてもよく、例えば、図１（ｂ）に示す様に、支持体１１と光学異方性層１２との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層１４を有していてもよいし、また、図１（ｃ）に示す様に、光学異方性層１２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層１５が配置されてもよいし、さらに図１（ｄ）に示す様に双方の層を有していてもよい。また、図１（ｅ）感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層１６を設けてもよい。
［基板］
本発明の転写材料は、液晶表示装置用基板の一部として転写され、液晶セルの視野角補償のための光学異方性層を含む積層構造体を構成し得る。液晶セル内に形成された光学異方性層は、単独で又はセル外に配置される他の光学異方性層とともに、液晶セルを光学的に補償する。感光性樹脂層は、光学異方性層とともに、被転写体上、例えばセル基板上に転写され、光学異方性層と被転写体とを接着する機能を有する。また、感光性樹脂層の露光部と非露光部との溶解性の差を利用して、光学異方性層を所定のパターン状に形成することもできる。さらに、本発明の転写材料を後述のように現像して、カラーフィルタ層の形成に利用することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに液晶セル内で視野角補償のための光学異方性層を構成し得る。本発明の転写材料が転写された基板は、液晶セルの一対の基板のいずれか一方に用いられてもよいし、両方に分割して用いられてもよい。図２に、現像した光学異方性層と感光性樹脂層を有する基板上に透明電極層と配向層を形成したときの一例の概略断面図を示す。被転写基板２１としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さい材料からなる支持体が望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマーからなる支持体等が用いられる。なお本発明の転写材料が転写される被転写材料としては上述の被転写基板上に光学異方性層等の他の層が設けられたもの（例えば、図２（ｂ）における２１と２４）を用いてもよい。その上にブラックマトリクス２２、さらにはカラーフィルタ層２３が形成されている。被転写基板又は被転写材料上には一般にブラックマトリクス２２が形成され、その上にマスク露光等によりパターニングされた感光性樹脂層からなるカラーフィルタ層２３および光学異方性層２７が形成されている。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、最近よくみられる様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。光学異方性層２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
本発明の転写材料は、液晶表示装置用基板の一部として転写され、液晶セルの視野角補償のための光学異方性層を含む積層構造体を構成し得る。液晶セル内に形成された光学異方性層は、単独で又はセル外に配置される他の光学異方性層とともに、液晶セルを光学的に補償する。感光性樹脂層は、光学異方性層とともに、被転写体上、例えばセル基板上に転写され、光学異方性層と被転写体とを接着する機能を有する。また、感光性樹脂層の露光部と非露光部との溶解性の差を利用して、光学異方性層を所定のパターン状に形成することもできる。さらに、本発明の転写材料を後述のように現像して、カラーフィルタ層の形成に利用することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに液晶セル内で視野角補償のための光学異方性層を構成し得る。本発明の転写材料が転写された基板は、液晶セルの一対の基板のいずれか一方に用いられてもよいし、両方に分割して用いられてもよい。図２に、現像した光学異方性層と感光性樹脂層を有する基板上に透明電極層と配向層を形成したときの一例の概略断面図を示す。被転写基板２１としては透明であれば特に限定はないが、複屈折が小さい材料からなる支持体が望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマーからなる支持体等が用いられる。なお本発明の転写材料が転写される被転写材料としては上述の被転写基板上に光学異方性層等の他の層が設けられたもの（例えば、図２（ｂ）における２１と２４）を用いてもよい。その上にブラックマトリクス２２、さらにはカラーフィルタ層２３が形成されている。被転写基板又は被転写材料上には一般にブラックマトリクス２２が形成され、その上にマスク露光等によりパターニングされた感光性樹脂層からなるカラーフィルタ層２３および光学異方性層２７が形成されている。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、最近よくみられる様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。光学異方性層２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
さらに、図２（ｂ）のようにパターニングされた光学異方性層２７のほかにベタの光学異方性層２４を設けてもよい。ベタの光学異方性層は本発明の転写材料によって作製されたものであっても他の方法によって作製されたものであってもよく、材料も特に限定されない。また、ベタの光学異方性層は本発明の転写材料が転写された基板側にあってもよいし、図は省略するが対向基板側にあってもよい。対向基板側には一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、対向基板上であればどの位置に形成されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上であることが好ましい。
［液晶表示装置］
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。図３（ａ）、（ｂ）の例はそれぞれ図２（ａ）、（ｂ）のガラス基板を上側基板として用い、３２に示すＴＦＴ付ガラス基板を対向基板として間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を用いた液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、２枚のセルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム３４、３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板が配置されている。液晶セル側のセルロースアセテートフィルム３５は光学補償シートとして用いてもよいし、３４と同じでもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。図３（ａ）、（ｂ）の例はそれぞれ図２（ａ）、（ｂ）のガラス基板を上側基板として用い、３２に示すＴＦＴ付ガラス基板を対向基板として間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を用いた液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、２枚のセルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム３４、３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板が配置されている。液晶セル側のセルロースアセテートフィルム３５は光学補償シートとして用いてもよいし、３４と同じでもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
以下、本発明の転写材料について、作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明するが、本発明はこの態様に限定されるものではない。また、他の態様についても、以下の記載及び従来公知の方法を参考にして作製できる。
［支持体］
本発明の転写材料には支持体（仮支持体）を設けてもよく、用いられる支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
本発明の転写材料には支持体（仮支持体）を設けてもよく、用いられる支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
［光学異方性層］
本発明の転写材料における光学異方性層は、酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなり、位相差を測定したときにＲｅが０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。また、紫外線照射によって硬化するために、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
本発明の転写材料における光学異方性層は、酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなり、位相差を測定したときにＲｅが０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。また、紫外線照射によって硬化するために、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
［液晶性組成物からなる光学異方性層］
液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層は、上記のように、液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な視野角補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば、液晶セルにおける対向基板または液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで視野角補償に必要とされる光学特性を満足する態様も本発明の範囲に含まれる。また、転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、液晶セル基板上に転写される過程において実施される露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層は、上記のように、液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な視野角補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば、液晶セルにおける対向基板または液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで視野角補償に必要とされる光学特性を満足する態様も本発明の範囲に含まれる。また、転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、液晶セル基板上に転写される過程において実施される露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する組成物（液晶性組成物）から形成される。一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表すが、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表すが、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。この場合、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
一般式（III）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。前記光学異方性層が二軸性を示すと、種々の液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に視野角補償できるので好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９ Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８）が挙げられる。本発明においては、いずれも利用できる。
前記光学異方性層が一軸性の場合も、上下いずれかの偏光板保護フィルムの光学異方性を最適化することにより、ＶＡモードもしくはＩＰＳモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。ＶＡモード、ＩＰＳモードいずれの場合においても、本発明の目的である色視野角特性改良に対しては、偏光板保護フィルムのレターデーション波長分散が一般的、即ち波長が長くなるにつれてレターデーションが小さくなることで、液晶セルに対して広い波長域で正確に光学補償できる。ＶＡモードにおいては、偏光板保護フィルムとしての光学異方性層がｃ−ｐｌａｔｅであることが好ましく、ＩＰＳモードに対しては厚み方向の屈折率が最も小さい二軸性であることが好ましい。転写材料に用いる一軸性の光学異方性層は、一軸性である棒状もしくは円盤状の液晶性化合物を液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製することができる。このような一軸性配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。
液晶性化合物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
［酸性基を有するモノマー］
本発明の転写材料における光学異方性層は、酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる。
酸性基を有するモノマーは一分子中に１個以上の酸性基を有している化合物であれば、特に限定はされないが、代表的なものを例示すると、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基などを有する（メタ）アクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、イタコン酸、および
一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−Ｘ （１）
（一般式（１）において、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。）
で表される化合物等が挙げられる。
Ｌが表す２価の連結基として、好ましくは、アリーレン基（炭素数６〜２０のアリーレン基で、例えば、１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，２−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、１，４−ナフチレン、１，５−ナフチレンなどが挙げられる）、−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ2−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）m−（ｍは１〜１０の整数を表す）、およびこれらから選ばれる基を２つ以上組み合わせてなる基が挙げられる。アリーレン基としては１，４−フェニレン、１，３−フェニレンまたは４，４’−ビフェニレンが好ましく、１，４−フェニレンがより好ましい。Ｘはカルボキシル基であることが好ましい。
本発明の転写材料における光学異方性層は、酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる。
酸性基を有するモノマーは一分子中に１個以上の酸性基を有している化合物であれば、特に限定はされないが、代表的なものを例示すると、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基などを有する（メタ）アクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、イタコン酸、および
一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−Ｘ （１）
（一般式（１）において、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。）
で表される化合物等が挙げられる。
Ｌが表す２価の連結基として、好ましくは、アリーレン基（炭素数６〜２０のアリーレン基で、例えば、１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，２−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、１，４−ナフチレン、１，５−ナフチレンなどが挙げられる）、−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ2−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2）m−（ｍは１〜１０の整数を表す）、およびこれらから選ばれる基を２つ以上組み合わせてなる基が挙げられる。アリーレン基としては１，４−フェニレン、１，３−フェニレンまたは４，４’−ビフェニレンが好ましく、１，４−フェニレンがより好ましい。Ｘはカルボキシル基であることが好ましい。
一般式（１）で表されるモノマーとしては、例えば、下記一般式（２）で表されるモノマーが好ましい例として挙げられる。
一般式（２）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｏ−Ａｒ−（Ｌ1−Ａｒ）k−Ｘ （２）
一般式（２）において、Ｒ102はＨまたはＣＨ3を表し、Ｌ1は−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ2−または−ＯＣＯ−を表し、ｎは１〜１０の整数を表し、ｋは０〜３の整数を表し、Ａｒは１，４−フェニレン基を表し、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。一般式（２）において、Ｌ1は−ＣＯ2−および−ＯＣＯ−が好ましく、ｋは１または２が好ましい。
酸性基を有するモノマーとして好ましい具体例を下記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
一般式（２）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｏ−Ａｒ−（Ｌ1−Ａｒ）k−Ｘ （２）
一般式（２）において、Ｒ102はＨまたはＣＨ3を表し、Ｌ1は−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ2−または−ＯＣＯ−を表し、ｎは１〜１０の整数を表し、ｋは０〜３の整数を表し、Ａｒは１，４−フェニレン基を表し、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。一般式（２）において、Ｌ1は−ＣＯ2−および−ＯＣＯ−が好ましく、ｋは１または２が好ましい。
酸性基を有するモノマーとして好ましい具体例を下記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
［酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマー］
「酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマー」は、「酸性基に酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基が置換した基を有するモノマー」であればよく、「酸性基に酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基が置換した基」としては「混合酸無水物化、アミド化、または（チオ）エステル化されたカルボキシル基」が好ましい。
「酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基」としては、後述の現像の際に使用するアルカリ溶液で容易に脱離可能な基が好ましい。このような基であると、現像と同時に酸性基を有するモノマーを生成させることが可能であり、また、光学異方性層中の液晶性化合物のエステル等と比較して容易に切断される基であることによって、酸性基を有するモノマーの生成の際、光学異方性層の性能に影響を与えないようにすることができる。
「酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマー」は、「酸性基に酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基が置換した基を有するモノマー」であればよく、「酸性基に酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基が置換した基」としては「混合酸無水物化、アミド化、または（チオ）エステル化されたカルボキシル基」が好ましい。
「酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基」としては、後述の現像の際に使用するアルカリ溶液で容易に脱離可能な基が好ましい。このような基であると、現像と同時に酸性基を有するモノマーを生成させることが可能であり、また、光学異方性層中の液晶性化合物のエステル等と比較して容易に切断される基であることによって、酸性基を有するモノマーの生成の際、光学異方性層の性能に影響を与えないようにすることができる。
酸もしくは塩基の作用により脱離可能な基の例としては窒素原子で離脱する基、酸素原子で脱離する基、イオウ原子で脱離する基などが挙げられる。
窒素原子で脱離する基としては、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員より好ましくは５もしくは６員の、置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族（本願では４ｎ＋２個の環状共役電子を有するものを意味する）もしくは非芳香族、単環もしくは縮合環のヘテロ環基）が挙げられ、好ましくは、下記一般式（Ｌ）で表されるヘテロ環基が挙げられる。
窒素原子で脱離する基としては、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員より好ましくは５もしくは６員の、置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族（本願では４ｎ＋２個の環状共役電子を有するものを意味する）もしくは非芳香族、単環もしくは縮合環のヘテロ環基）が挙げられ、好ましくは、下記一般式（Ｌ）で表されるヘテロ環基が挙げられる。
式中、Ｌは−ＮＣ（＝Ｏ）−と共に５〜６員環の含窒素ヘテロ環を形成する残基を表す。なかでも、Ｌは５員環の含窒素ヘテロ環を形成する残基が好ましい。
窒素原子で脱離する基の例としては、スクシンイミド、マレインイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾール、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダゾリン−２，４−ジオン、オキサゾリジン−２，４−ジオン、チアゾリジン−２−オン、ベンツイミダゾリン−２−オン、ベンゾオキサゾリン−２−オン、ベンゾチアゾリン−２−オン、２−ピロリン−５−オン、２−イミダゾリン−５−オン、インドリン−２，３−ジオン、２，６−ジオキシプリンパラバン酸、１，２，４−トリアゾリジン−３，５−ジオン、２−ピリドン、４−ピリドン、２−ピリミドン、６−ピリダゾン、２−ピラゾン、または２−アミノ−１，３，４−チアゾリジン−４−オンなどから誘導される基、カルボナミド基（例えばアセタミド、トリフルオロアセタミド）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド）、アリールアゾ基（例えばフェニルアゾ、ナフチルアゾ）、カルバモイルアゾ基（例えばＮ−メチルカルバモイルアゾ）などが挙げられる。
窒素原子で脱離する基の例としては、スクシンイミド、マレインイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾール、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダゾリン−２，４−ジオン、オキサゾリジン−２，４−ジオン、チアゾリジン−２−オン、ベンツイミダゾリン−２−オン、ベンゾオキサゾリン−２−オン、ベンゾチアゾリン−２−オン、２−ピロリン−５−オン、２−イミダゾリン−５−オン、インドリン−２，３−ジオン、２，６−ジオキシプリンパラバン酸、１，２，４−トリアゾリジン−３，５−ジオン、２−ピリドン、４−ピリドン、２−ピリミドン、６−ピリダゾン、２−ピラゾン、または２−アミノ−１，３，４−チアゾリジン−４−オンなどから誘導される基、カルボナミド基（例えばアセタミド、トリフルオロアセタミド）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド）、アリールアゾ基（例えばフェニルアゾ、ナフチルアゾ）、カルバモイルアゾ基（例えばＮ−メチルカルバモイルアゾ）などが挙げられる。
酸素原子で脱離する基としては、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（例えばピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ）、アルコキシ基（例えばメトキシ、ドデシルオキシ）、カルバモイルオキシ基（例えばＮ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルバモイルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ）などが挙げられる。
酸素原子で脱離する基のうち、好ましいものはアリールオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、またはアリールスルホニルオキシ基である。
酸素原子で脱離する基のうち、好ましいものはアリールオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、またはアリールスルホニルオキシ基である。
イオウ原子で脱離する基としては、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ）、ヘテロ環チオ基（例えばテトラゾリルチオ、１，３，４−チアジアゾリルチオ、１，３，４−オキサゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ）、アルキルスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（例えばベンゼンスルフィニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）などが挙げられる。
イオウ原子で離脱する基のうち、好ましいものはアリールチオ基、ヘテロ環チオ基であり、ヘテロ環チオ基がより好ましい。
イオウ原子で離脱する基のうち、好ましいものはアリールチオ基、ヘテロ環チオ基であり、ヘテロ環チオ基がより好ましい。
「混合酸無水物化、アミド化、または（チオ）エステル化されたカルボキシル基を有するモノマー」として好ましい具体例を下記に挙げるが、これらに限定されるものではない。
液晶性組成物における、酸性基を有するモノマーおよび酸もしくは塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーの合計含有率としては、液晶性組成物の液晶性が消失しない範囲であれば、特に限定はないが、現像性と膜物性の観点から、通常１モル％〜５０モル％、好ましくは５モル％〜３０モル％、より好ましくは１０モル％〜２０モル％程度である（但し、モル％は全モノマー中の含率とする。）。これらのモノマーの含有率はまた、液晶性組成物中の酸性基および酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が、下記の範囲になるように調製されることが好ましい。
前記光学異方性層において、アルカリ現像液による浸透あるいは溶解を促進するため、酸性基および酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基の合計含量は6.0×10-5mol/g以上であることが好ましく、6.0×10-5mol/g〜1.5×10-3mol/gであるがより好ましく、1.2×10-4mol/g〜1.2×10-3mol/gであることがさらに好ましく、1.5×10-4mol/g〜9.0×10-4mol/gであるが特に好ましい。なお、「酸性基および酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基の合計含量がを6.0×10-5mol/g以上である」とは、光学異方性層を構成する組成物の固形分質量１ｇあたりの酸性基および酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol以上であることを意味する。酸性基としてはカルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基、ホウ酸基などが挙げられるが、カルボキシル基が好ましい。酸性基は上記の酸性基を有するモノマーの酸性基であってもよく、その他の酸性物質由来の酸性基（例えば、液晶性組成物に混合され該液晶性組成物の硬化時に物理的に固定化された非反応性の（すなわち、反応性基を持たない）酸性基含有化合物由来の酸性基、硬化後の液晶性組成物からなる光学異方性層にカップリング反応により導入した酸性基など）であってもよく、複数の種類の酸性基の混合物であってもよい。酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基も同様である。酸性基の含量は組成物に添加される酸性基を有する化合物の酸性基の数及び該化合物の濃度から算出することができる。酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基の含量は、組成物に添加される酸もしくは塩基の作用により酸性基となる基を有する化合物の該基の数及び該化合物の濃度から算出することができる。
［液晶性組成物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性組成物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性組成物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
配向させた液晶性組成物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性組成物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向によって面内のレターデーションが発生した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特にＶＡモードの液晶表示装置を視野角補償するのに優れている。
［偏光照射による光配向］
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。大きな面内レターデーションを得るために、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行う必要がある。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜２０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜１２００ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。大きな面内レターデーションを得るために、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行う必要がある。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜２０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜１２００ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
なお、光学異方性層とカラーフィルタ層とを同時に形成する場合は、前記光学異方性層の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されているのが好ましい。即ち、感光性樹脂層を赤色に着色し、カラーフィルタのＲ層形成用とする場合は、光学異方性層の光学特性はＲ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、緑色に着色した場合は、光学異方性層の光学特性はＧ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつ青色に着色した場合は、光学異方性層の光学特性はＢ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されているのが好ましい。光学異方性層の光学特性は、例えば、液晶性化合物の種類や配向制御剤の種類又は添加量、配向膜の種類や配向膜のラビング処理条件、又は偏光照射条件等によって好ましい範囲に調整することができる。
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１１）〜（１３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
以下、下記一般式（１１）〜（１３）について、順に説明する。
以下、下記一般式（１１）〜（１３）について、順に説明する。
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてあるものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
前記一般式（１１）〜（１３）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１１）〜（１３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
［配向層］
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上又は該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。本発明の転写材料において、配向層は酸素遮断層としての機能を有してもよい。
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上又は該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。本発明の転写材料において、配向層は酸素遮断層としての機能を有してもよい。
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
［感光性樹脂層］
本発明の転写材料に用いられる感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、マスク等を介して光照射した際に露光部と未露光部に基板への密着性の差が生じればポジ型でもネガ型でもよく特に限定はない。前記感光性樹脂層は、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤とを含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。また、基板上にカラーフィルタと同時に光学異方性層を形成する態様においてはさらに加えて、（４）染料又は顔料のような着色剤を含む着色樹脂組成物から形成するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（４）の成分について説明する。
本発明の転写材料に用いられる感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、マスク等を介して光照射した際に露光部と未露光部に基板への密着性の差が生じればポジ型でもネガ型でもよく特に限定はない。前記感光性樹脂層は、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤とを含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。また、基板上にカラーフィルタと同時に光学異方性層を形成する態様においてはさらに加えて、（４）染料又は顔料のような着色剤を含む着色樹脂組成物から形成するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（４）の成分について説明する。
（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
（３）光重合開始剤
本明細書において（光）重合開始剤との用語は（光）重合開始剤又は（光）重合開始剤系を意味する。
光重合開始剤としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
本明細書において（光）重合開始剤との用語は（光）重合開始剤又は（光）重合開始剤系を意味する。
光重合開始剤としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
感光性樹脂層においては光重合開始剤としては、単独でも２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
感光性樹脂層においては光重合開始剤としては、単独でも２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
感光性樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
（４）着色剤
前記着色樹脂組成物には、公知の着色剤（染料、顔料）を添加することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。
前記着色樹脂組成物には、公知の着色剤（染料、顔料）を添加することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。
着色剤としては、上記の着色剤の中でも、（ｉ)Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ii)Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（iii)Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。更に上記顔料は組み合わせて用いてもよい。
本発明において、併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０重量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本発明で用いる着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここで「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を意味し、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求めた１００個平均値を意味する。
着色画素のコントラストは、分散されている顔料の粒径を小さくすることで向上させることができる。粒径を小さくするには、顔料分散物の分散時間を調節することで達成できる。分散には、上記記載の公知の分散機を用いることができる。分散時間は好ましくは１０〜３０時間であり、更に好ましくは１８〜３０時間、最も好ましくは２４〜３０時間である。分散時間が１０時間未満であると、顔料粒径が大きく、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下することがある。一方、３０時間を越えると、分散液の粘度が上昇し、塗布が困難になることがある。また、２色以上の着色画素のコントラストの差を６００以内にするには、顔料粒径を調節して、所望のコントラストとすればよい。
前記感光性樹脂層より形成されるカラーフィルタの各着色画素のコントラストは、２０００以上が好ましく、より好ましくは２８００以上、更に好ましくは３０００以上であり、最も好ましくは３４００以上である。カラーフィルタを構成する各着色画素のコントラストが２０００以下だと、これを有する液晶表示装置の画像を観察すると、全体に白っぽい印象となり、見難く好ましくない。また、各着色画素のコントラストの差が、好ましくは６００以内であり、より好ましくは４１０以内であり、更に好ましくは３５０以内、最も好ましくは２００以内である。各着色画素のコントラストの差が６００以内であると、黒表示時における各着色画素部からの光漏れ量が大きく相違しないため、黒表示の色バランスが良く、好ましい
本明細書において、「着色画素のコントラスト」とは、カラーフィルタを構成するＲ、Ｇ、Ｂについて、色毎に個別に評価されるコントラストを意味する。コントラストの測定方法は次の通りである。被測定物の両側に偏光板を重ねて、偏光板の偏光方向を互いに平行にした状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ１を測定する。次に偏光板を互いに直交させた状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ２を測定する。得られた測定値を用いて、コントラストはＹ１／Ｙ２で算出される。尚、コントラスト測定に用いる偏光板は、該カラーフィルタを使用する液晶表示装置に用いる偏光板と同一のものとする。
本発明の感光性樹脂層により形成されるカラーフィルタにおいては、表示ムラ（膜厚変動による色ムラ）を効果的に防止するという観点から、該着色樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、及び/又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）及び、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、qは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。
特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣmＦ2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。ＣmＦ2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ1は水素原子またはメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ2及びＲ3は、各々独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐ及びqは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐ及びqは好ましくは２〜８である。
また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）及び一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
モノマー（ａ）及び（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。
特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造及び／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、及びポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させカラーフィルタを作製すると、表示ムラが改良される点で好ましい。
また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ化学工業（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
［その他の層］
本発明の転写材料の、支持体と光学異方性層との間などには、転写材料の力学特性や凹凸追従性をコントロールするための熱可塑性樹脂層や、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する中間層が設けられていてもよい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
本発明の転写材料の、支持体と光学異方性層との間などには、転写材料の力学特性や凹凸追従性をコントロールするための熱可塑性樹脂層や、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する中間層が設けられていてもよい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を１層にすることが好ましい。
光学異方性層及び感光性樹脂層、および所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層及び中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
［転写材料を用いた光学異方性層の形成方法］
本発明の転写材料を被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記光学異方性層及び感光性樹脂層を同時に転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明の転写材料を、感光性樹脂層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方性層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。
本発明の転写材料を被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記光学異方性層及び感光性樹脂層を同時に転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明の転写材料を、感光性樹脂層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方性層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。
本発明の転写材料を転写する被転写材料としては、例えば、透明支持体が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。被転写材料はまた透明支持体上にベタの光学異方性層等の層が設けられたものであってもよい。また、上記被転写材料は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂層との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、７００〜１２００μｍが一般的に好ましい。
［アルカリ水溶液による光学異方性層と感光性樹脂層の現像］
光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の形成においては、上記基板上に形成された感光性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスクを介してマスク上方から露光し、次いで現像液による現像を行う。本発明の転写材料の現像の際には、この露光時に露光部のみ光学異方性層と感光性樹脂層が密着することにより、現像工程において未露光部の光学異方性層が感光性樹脂層から剥離し、未露光部のみ感光性樹脂層の現像が進んでパターニングの精度が向上する。
光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の形成においては、上記基板上に形成された感光性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスクを介してマスク上方から露光し、次いで現像液による現像を行う。本発明の転写材料の現像の際には、この露光時に露光部のみ光学異方性層と感光性樹脂層が密着することにより、現像工程において未露光部の光学異方性層が感光性樹脂層から剥離し、未露光部のみ感光性樹脂層の現像が進んでパターニングの精度が向上する。
光学異方性層付きカラーフィルタを形成する場合、まず、現像によって特定の着色樹脂層、例えば赤色（Ｒ）樹脂層と光学異方性層との積層体が、所定の位置に基板上に配置されたＲ色のパターンが形成される。続いて、緑色（Ｇ）樹脂層及び青色（Ｂ）樹脂層を有する転写材料をそれぞれ用いて同様の工程を実施することにより、カラーフィルタとそのＲＧＢパターンと同一のパターンに形成された光学異方性層とを有する本発明の光学異方性層付きカラーフィルタを得ることができる。ここで、前記露光の光源としては、樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常１ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2程度であり、好ましくは５ｍＪ／ｃｍ2〜５Ｊ／ｃｍ2程度、特に好ましくは１０〜２５００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
前記した光学異方性層と感光性樹脂層はマスクを介して露光した後、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、特に限定されないが、代表的なものを例示すると、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、トリエタノールアミンなどの水溶液が挙げられる。水溶液のｐＨとしては、７．１〜１４．０であればよいが、現像性と廃液処理の観点から、好ましくは７．１〜１２．０、より好ましくは８．０〜１０．０がよい。該アルカリ水溶液は、さらに現像性を高めるために、界面活性剤や水と混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。該界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤を使用することができる。これらの中でも、溶液の透明性の観点から、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤の使用が好ましい。これらは併用して使用することもできる。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等を挙げることができる。これら有機溶剤の含有率としては、全溶媒に対して、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらにより好ましくは、３０質量％以下である。
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
カラーフィルタの製造においては、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────――────
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――────
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製） ９.２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────――────
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────――────
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――────
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製） ９.２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────――────
（中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は1.93×10-4mol/gであった。なお、本実施例において、酸性基のモル量は組成物に添加される酸性基を有する化合物中の酸性基の数及び該化合物の濃度から算出した。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２６．０
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３２
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ２．７０
（但し、Phは１，４−フェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は1.93×10-4mol/gであった。なお、本実施例において、酸性基のモル量は組成物に添加される酸性基を有する化合物中の酸性基の数及び該化合物の濃度から算出した。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２６．０
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３２
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ２．７０
（但し、Phは１，４−フェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は4.70×10-4mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２５．７５
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．２７
４，４'−アゾキシジアニソール ０．２７
CH2=CH-COO(CH2)4COOH ２．７０
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．５７
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は4.70×10-4mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２５．７５
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．２７
４，４'−アゾキシジアニソール ０．２７
CH2=CH-COO(CH2)4COOH ２．７０
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．５７
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は7.04×10-4mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２７．０８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３０
４，４'−アゾキシジアニソール ０．０３
アクリル酸 １．７０
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．４５
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１として用いた。該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は7.04×10-4mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２７．０８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３０
４，４'−アゾキシジアニソール ０．０３
アクリル酸 １．７０
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．４５
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．６２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．４０
４，４’−アゾキシジアニソール ０．５２
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．６２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．４０
４，４’−アゾキシジアニソール ０．５２
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．３８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３４
４，４’−アゾキシジアニソール ０．２７
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．５７
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．３８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３４
４，４’−アゾキシジアニソール ０．２７
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．５７
──────────────────────────────────――
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．７２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３６
４，４’−アゾキシジアニソール ０．０３
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．４５
──────────────────────────────────――
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ２として用いた。算出された該塗布液の固形分重量当たり酸性基モル量は、0 mol/gであった。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．７２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）
３．３６
４，４’−アゾキシジアニソール ０．０３
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
メチルエチルケトン ６６．４５
──────────────────────────────────――
以下に着色感光性樹脂層用塗布液の作製方法を説明する。表１にそれぞれの感光性樹脂層用塗布液の組成を示す。
表１中の組成物は以下の通り。
［Ｋ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ２５０）
１３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万） ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３
──────────────────────────────────――
［Ｋ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ Ｂｌａｃｋ ２５０）
１３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万） ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３
──────────────────────────────────――
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――────
Ｒ顔料分散物−１組成（％）
──────────────────────────────────―─────
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万） ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８３．２
──────────────────────────────────―─────
──────────────────────────────────――────
Ｒ顔料分散物−１組成（％）
──────────────────────────────────―─────
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万） ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８３．２
──────────────────────────────────―─────
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０．０
──────────────────────────────────――
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
シクロヘキサノン ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３５．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
シクロヘキサノン ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３５．０
──────────────────────────────────――
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万） ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万） ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
［ＤＰＨＡ組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４．０
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４．０
──────────────────────────────────――
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１は、まず表２に記載の量のＫ顔料分散物、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１は、まず表２に記載の量のＫ顔料分散物、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１は、まず表２に記載の量のＲ顔料分散物−１、Ｒ顔料分散物−２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１は、まず表２に記載の量のＲ顔料分散物−１、Ｒ顔料分散物−２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１は、まず表２に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１は、まず表２に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１は、まず表２に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１は、まず表２に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
（ブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。更に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．４μｍの感光性樹脂層を設け、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層／配向層とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となったブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料Ｋ−１を作製した。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。更に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．４μｍの感光性樹脂層を設け、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層／配向層とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となったブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料Ｋ−１を作製した。
（偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１）
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して偏光ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は４００ｍＷ／ｃｍ2であった。
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して偏光ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は４００ｍＷ／ｃｍ2であった。
（酸性基を含むＲＧＢ用光学異方性層転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１を＃６のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が透明支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方層を固定化し、厚さ２．８μｍの光学異方性層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｒ１を塗布、乾燥させ、厚さ１．６μｍの感光性樹脂層を形成し、Ｒ用転写材料Ｒ−１を作製した。
Ｇ、Ｂについても、ＰＰ−Ｒ１の代わりにＰＰ−Ｇ１、ＰＰ−Ｂ１を用い、光学異方性層塗布のバーをそれぞれ＃６、＃５にしてＬＣ−Ｇ１、ＬＣ−Ｂ１を塗布した以外は同様にして、Ｇ用、Ｂ用転写材料Ｇ−１、Ｂ−１を形成した。Ｇ−１、Ｂ−１の光学異方性層はそれぞれ２．７５μｍ、２．３μｍであった。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１を＃６のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が透明支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方層を固定化し、厚さ２．８μｍの光学異方性層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｒ１を塗布、乾燥させ、厚さ１．６μｍの感光性樹脂層を形成し、Ｒ用転写材料Ｒ−１を作製した。
Ｇ、Ｂについても、ＰＰ−Ｒ１の代わりにＰＰ−Ｇ１、ＰＰ−Ｂ１を用い、光学異方性層塗布のバーをそれぞれ＃６、＃５にしてＬＣ−Ｇ１、ＬＣ−Ｂ１を塗布した以外は同様にして、Ｇ用、Ｂ用転写材料Ｇ−１、Ｂ−１を形成した。Ｇ−１、Ｂ−１の光学異方性層はそれぞれ２．７５μｍ、２．３μｍであった。
（酸性基を含まないＲＧＢ用光学異方性層転写材料の作製）
ＬＣ−Ｒ１、ＬＣ−Ｇ１、ＬＣ−Ｂ１の代わりにそれぞれＬＣ−Ｒ２、ＬＣ−Ｇ２、ＬＣ−Ｂ２を用いた以外は同様にして、転写材料Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２を作製した。
ＬＣ−Ｒ１、ＬＣ−Ｇ１、ＬＣ−Ｂ１の代わりにそれぞれＬＣ−Ｒ２、ＬＣ−Ｇ２、ＬＣ−Ｂ２を用いた以外は同様にして、転写材料Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２を作製した。
（酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含むＲＧＢ用光学異方性層転写材料の作製）
上記光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１の調製においてCH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH の代わりに上記例示化合物（１）、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１の調製において、CH2=CH-COO(CH2)4COOHの代わりに上記例示化合物（２）、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１の調製において、アクリル酸の代わりに上記例示化合物（７）を用いた以外は、同様にして、転写材料Ｒ−３、Ｇ−３、Ｂ−３を作製した。
上記光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１の調製においてCH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH の代わりに上記例示化合物（１）、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１の調製において、CH2=CH-COO(CH2)4COOHの代わりに上記例示化合物（２）、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１の調製において、アクリル酸の代わりに上記例示化合物（７）を用いた以外は、同様にして、転写材料Ｒ−３、Ｇ−３、Ｂ−３を作製した。
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける正面レターデーションＲｅ（０）および遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。Ｒ、Ｇ、Ｂに対してλはそれぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍのレターデーションを測定した。本発明の光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定したカラーフィルタの透過率データで較正を行うことにより、ガラスにベタ転写した転写材料のうち位相差を有する光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表２に示す。
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける正面レターデーションＲｅ（０）および遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。Ｒ、Ｇ、Ｂに対してλはそれぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍのレターデーションを測定した。本発明の光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定したカラーフィルタの透過率データで較正を行うことにより、ガラスにベタ転写した転写材料のうち位相差を有する光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表２に示す。
（実施例１：カラーフィルタの作製）
次の方法によりカラーフィルタを作製した。
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ−６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
保護フィルムを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次の方法によりカラーフィルタを作製した。
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ−６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
保護フィルムを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と配向層／中間層を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
−レッド（Ｒ）画像の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１を用い、ブラック（Ｋ）画像を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、レッド（Ｒ）の画素と、２８×２８μｍの角形のレッド（Ｒ）パターンを形成した。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ2とした。このＲの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１を用い、ブラック（Ｋ）画像を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、レッド（Ｒ）の画素と、２８×２８μｍの角形のレッド（Ｒ）パターンを形成した。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ2とした。このＲの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
−グリーン（Ｇ）画像の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）の画素と、前記レッド（Ｒ）パターン上にレッド（Ｒ）パターン全体を覆うようにグリーン（Ｇ）パターンを形成した。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ2とした。ＲとＧの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）の画素と、前記レッド（Ｒ）パターン上にレッド（Ｒ）パターン全体を覆うようにグリーン（Ｇ）パターンを形成した。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ2とした。ＲとＧの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
−ブルー（Ｂ）画像の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素とグリーン（Ｇ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ１と同様の工程で、ブルー（Ｂ）の画素を得た。但し露光量は３０ｍＪ／ｃｍ2とした。このＲ、Ｇ及びＢの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。このＲ、Ｇ、Ｂ及びＫの画像を形成した基板を２４０℃で５０分ベークして、実施例１のカラーフィルタを作製した。
（実施例１−２：カラーフィルタの作製）
Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１をそれぞれＲ−３、Ｇ−３、Ｂ−３に変更した以外は、実施例１と同様の操作により、実施例１−２のカラーフィルタを作製した。
（参考例１：カラーフィルタの作製）
Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１をＲ−２、Ｇ−２、Ｂ−２に変更し、実施例１と同様の操作を行ったところ、実施例１よりも現像に長時間を要した。
そこで、炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）をテトラヒドロフランに変更して、現像を行い、参考例１のカラーフィルタを作製した。
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素とグリーン（Ｇ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ１と同様の工程で、ブルー（Ｂ）の画素を得た。但し露光量は３０ｍＪ／ｃｍ2とした。このＲ、Ｇ及びＢの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。このＲ、Ｇ、Ｂ及びＫの画像を形成した基板を２４０℃で５０分ベークして、実施例１のカラーフィルタを作製した。
（実施例１−２：カラーフィルタの作製）
Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１をそれぞれＲ−３、Ｇ−３、Ｂ−３に変更した以外は、実施例１と同様の操作により、実施例１−２のカラーフィルタを作製した。
（参考例１：カラーフィルタの作製）
Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１をＲ−２、Ｇ−２、Ｂ−２に変更し、実施例１と同様の操作を行ったところ、実施例１よりも現像に長時間を要した。
そこで、炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）をテトラヒドロフランに変更して、現像を行い、参考例１のカラーフィルタを作製した。
（透明電極の形成）
実施例１で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
実施例１で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
（突起用感光性転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２．０μｍの液晶配向制御用突起用感光性樹脂層を設けた。
──────────────────────────────────――─
突起用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――─
ＦＨ−２４１３Ｆ
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製） ５３．３
メチルエチルケトン ４６．６６
メガファックＦ−１７６ＰＦ ０．０４
──────────────────────────────────――─
更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料を作製した。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２．０μｍの液晶配向制御用突起用感光性樹脂層を設けた。
──────────────────────────────────――─
突起用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――─
ＦＨ−２４１３Ｆ
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製） ５３．３
メチルエチルケトン ４６．６６
メガファックＦ−１７６ＰＦ ０．０４
──────────────────────────────────――─
更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料を作製した。
（突起の形成）
上で作製した突起用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記実施例１で得られたカラーフィルタ側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2でプロキシミティー露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で３０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃３０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（未硬化部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に、高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。
上で作製した突起用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記実施例１で得られたカラーフィルタ側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2でプロキシミティー露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で３０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃３０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（未硬化部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に、高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。
（配向層の形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。カラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板（ガラス基板にＴＦＴ層を設けたもの）と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。カラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板（ガラス基板にＴＦＴ層を設けたもの）と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
（実施例２のＶＡ−ＬＣＤ）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置し、実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置し、実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
（実施例３のＶＡ−ＬＣＤ）
実施例１で作製したカラーフィルタの代わりに実施例１−２で得られたカラーフィルタを用いた以外は実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した手順と同様の手順により、実施例３のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
実施例１で作製したカラーフィルタの代わりに実施例１−２で得られたカラーフィルタを用いた以外は実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した手順と同様の手順により、実施例３のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
（参考例２：ＶＡ−ＬＣＤの作製）
実施例１で作製したカラーフィルタの代わりに参考例１で得られたカラーフィルタを用いた以外は実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した手順と同様の手順により、参考例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
実施例１で作製したカラーフィルタの代わりに参考例１で得られたカラーフィルタを用いた以外は実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した手順と同様の手順により、参考例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
（ＶＡ−ＬＣＤの評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。実施例２、３及び参考例２について、黒表示（電圧無印加）時におけるＬＣＤ正面より右方向、右上４５度方向、上方向に０〜８０度だけ視野角を変化させたときのｘｙ色度図上における色変化を図４に、特に右斜め上４５度方向について目視で評価した結果を表３に示す。
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。実施例２、３及び参考例２について、黒表示（電圧無印加）時におけるＬＣＤ正面より右方向、右上４５度方向、上方向に０〜８０度だけ視野角を変化させたときのｘｙ色度図上における色変化を図４に、特に右斜め上４５度方向について目視で評価した結果を表３に示す。
１１ 仮支持体
１２ 光学異方性層
１３ 感光性樹脂層
１４ 力学特性制御層
１５ 配向制御層
１６ 保護層
２１ 被転写基板
２２ ブラックマトリクス
２３ カラーフィルタ層
２４ ベタ光学異方性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ パターニング光学異方性層
３１ 液晶
３２ ＴＦＴ
３３ 偏光層
３４ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５ セルロースアセテートフィルム、または光学補償シート
３７ 液晶セル
１２ 光学異方性層
１３ 感光性樹脂層
１４ 力学特性制御層
１５ 配向制御層
１６ 保護層
２１ 被転写基板
２２ ブラックマトリクス
２３ カラーフィルタ層
２４ ベタ光学異方性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ パターニング光学異方性層
３１ 液晶
３２ ＴＦＴ
３３ 偏光層
３４ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５ セルロースアセテートフィルム、または光学補償シート
３７ 液晶セル
Claims (20)
- 被転写材料上に光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に形成するための転写材料であって、
酸性基を有するモノマーおよび／または酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層、ならびに、光照射により前記光学異方性層と前記被転写材料とを接着する機能を有し、かつ露光部と非露光部とで被転写材料への密着性の差が生じる感光性樹脂層を含む転写材料。 - 前記モノマーがエチレン性不飽和モノマーである請求項１に記載の転写材料。
- 前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−Ｘ （１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基、Ｘはカルボキシル基又はスルホ基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである請求項１に記載の転写材料。 - 前記酸性基がカルボキシル基であり、かつ、酸または塩基の作用により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーが、混合酸無水物化、アミド化、エステル化、またはチオエステル化されたカルボキシル基を有するモノマーである請求項１または２に記載の転写材料。
- 前記酸性基を有するモノマーが、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、および、下記一般式（１０１）：
ＣＨ2＝ＣＲ102−ＣＯＯ（ＣＨ2）n−Ｌ−ＣＯＯＨ （１０１）
（式中、Ｒ102はＨまたはＣＨ3、ｎは１〜１０の整数、Ｌは２価の連結基を表す。）
で表される化合物からなる群から選択される1種以上のモノマーである請求項４に記載の転写材料。 - 前記液晶性組成物における酸性基、および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光学異方性層が一軸性もしくは二軸性の光学異方性層である請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、加熱または光照射された層である請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光が偏光紫外線である請求項８に記載の転写材料。
- 前記液晶性組成物が棒状液晶化合物を含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記液晶性組成物が円盤状液晶化合物を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光学異方性層が加熱または光照射される前にコレステリック相を呈している請求項８〜１１のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい請求項１〜１２のいずれか一項に記載の転写材料。
- 前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が２０〜２００ｎｍ、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が５０〜２５０ｎｍである請求項１〜１３のいずれか一項に記載の転写材料。
- 被転写材料上に光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に形成するための転写材料であって、
光学異方性層と感光性樹脂層とを含み、
前記光学異方性層が酸性基および酸または塩基の作用により酸性基となる基の合計含量が6.0×10-5mol/g以上である組成物からなり、
前記感光性樹脂層が、光照射により前記光学異方性層と前記被転写材料とを接着する機能を有し、かつ露光部と非露光部とで被転写材料への密着性の差が生じる感光性樹脂層である転写材料。 - 前記感光性樹脂層が染料および／または顔料を含有する請求項１〜１５のいずれか一項に記載の転写材料。
- 光学異方性層と感光性樹脂層とを含む層をパターン状に有する積層構造体の製造方法であって、下記［１］〜［３］の工程を含む製造方法。
［１］請求項１〜１６のいずれか一項に記載の転写材料を、被転写材料に転写する工程、
［２］前記被転写材料上の転写材料をフォトマスクを用いてパターン露光する工程、
［３］アルカリ水溶液を用いて現像し、前記転写材料の未露光部分を除去する工程。 - 請求項１７に記載の方法により得られる積層構造体。
- 請求項１８に記載の積層構造体を有する液晶表示装置。
- 液晶モードがＶＡ、ＩＰＳのいずれかである請求項１９に記載の液晶表示装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (5)
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|---|---|---|---|
| JP2005247749 | 2005-08-29 | ||
| JP2005247749 | 2005-08-29 | ||
| JP2005377120 | 2005-12-28 | ||
| JP2005377120 | 2005-12-28 | ||
| JP2006230499A JP4878524B2 (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-28 | 転写材料及びパターン状の光学異方性層と感光性樹脂層とを有する積層構造体の製造方法並びに液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007199661A JP2007199661A (ja) | 2007-08-09 |
| JP4878524B2 true JP4878524B2 (ja) | 2012-02-15 |
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ID=38454302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4878524B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101417914B1 (ko) | 2007-12-28 | 2014-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광학 보상필름을 포함하는 횡전계방식 액정표시장치 |
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| US8394487B2 (en) | 2008-05-21 | 2013-03-12 | Fujifilm Corporation | Birefringent pattern builder and laminated structure material for preventing forgery |
| JP5119044B2 (ja) * | 2008-05-21 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 複屈折パターン作製材料 |
| JP2011095390A (ja) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | 二軸性光学異方性層を有するカラーフィルタ基板 |
| CN102243330B (zh) * | 2011-06-16 | 2013-02-06 | 华映视讯（吴江）有限公司 | 无配向层的微相位差膜的制作方法 |
| KR102159931B1 (ko) | 2013-06-27 | 2020-09-25 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 편광 소자 및 편광 소자의 제조 방법 |
| KR101614524B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2016-04-21 | 주식회사 엘지화학 | 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 필름 |
| JP7112432B2 (ja) * | 2018-01-17 | 2022-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用位相差膜、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用位相差膜の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4353978A (en) * | 1979-08-14 | 1982-10-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007199661A (ja) | 2007-08-09 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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