JP2009218225A - Organic el device, and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device improved in apparent resolution from a viewpoint of a human visual system, and thereby enabling excellent display without further drastically narrowing, for instance, pixel pitches; and an electronic apparatus equipped with the same. <P>SOLUTION: The organic EL device includes a luminous layer between electrodes. Sub pixels S constituting dots of the luminous layer consist of three colors of red, green and blue; an arrangement pattern P of the sub pixels S has one or a plurality of blue sub pixels B as a central pattern C, on both sides of which, red sub pixels R and green sub pixels G are respectively arranged; and the red sub pixels R and the green sub pixels G respectively arranged on both the sides are arranged at point-symmetric positions by using a center point O of the central pattern as a center. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置とこの有機ELを備えた電子機器に関する。   The present invention relates to an organic EL device and an electronic device including the organic EL device.

現在、表示装置においてはカラー表示を行うことが必要不可欠になっている。カラー表示を行う場合、通常は表示最小単位となるドット(サブピクセル)として赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を呈するドット、すなわち赤色のドット、緑色のドット、青色のドットの三つを一組とする。そして、これら三つのドットを一画素(ピクセル)とし、カラー表示をなすための最小単位としている。   Currently, it is indispensable to perform color display in display devices. When performing color display, the dots (sub-pixels) that are normally the minimum display units are dots that exhibit each color of red (R), green (G), and blue (B), that is, red dots, green dots, blue dots A set of three dots. These three dots are defined as one pixel (pixel), which is the minimum unit for color display.

ところで、このような画素を構成するドット(サブピクセル)の配置としては、図16(a)に示すようなストライプ配置、図16(b)に示すようなモザイク配置、図16(c)に示すようなデルタ配置が従来より知られている。
また、赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を呈するドット(セル)を4ドット(セル)略マトリクス状に組み合わせ、これら4ドット(セル)で一画素を構成させる配置も知られている(例えば、特許文献1参照)。
By the way, as the arrangement of dots (sub-pixels) constituting such a pixel, a stripe arrangement as shown in FIG. 16A, a mosaic arrangement as shown in FIG. 16B, and a dot arrangement as shown in FIG. Such a delta arrangement is conventionally known.
In addition, an arrangement in which dots (cells) exhibiting red (R), green (G), and blue (B) colors are combined in a matrix of 4 dots (cells), and one pixel is constituted by these 4 dots (cells). It is known (see, for example, Patent Document 1).

特開平6−102503号公報JP-A-6-102503

ところで、前述したストライプ配置、モザイク配置、デルタ配置、さらには4ドット(セル)を略マトリクス状に組み合わせた配置は、基本的には各ドットを駆動させるための制御を簡易にするためになされたものである。そして、特に、ストライプ配置、モザイク配置、デルタ配置については、赤、緑、青をほぼ同じ量で配置し、一画素に関しても各色が同量となるように構成し、これによってその駆動方式を簡略化している。   By the way, the above-described stripe arrangement, mosaic arrangement, delta arrangement, and arrangement in which 4 dots (cells) are combined in a substantially matrix form are basically made to simplify the control for driving each dot. Is. In particular, with regard to the stripe arrangement, mosaic arrangement, and delta arrangement, red, green, and blue are arranged in substantially the same amount so that each color has the same amount for one pixel, thereby simplifying the driving method. It has become.

しかしながら、人間工学的に見ると、赤、緑、青が同量となるようにして一画素を構成するのは、人間の視覚システム上からは不適当である
すなわち、人間の色を識別する能力は目の黄班部の中にある光感覚器官にあり、光センサーとなる網膜錐体にはS・L・M、それぞれ青・赤・緑の三つの種類がある。この黄班部の顕微鏡写真を見ると、網膜錐体はそれぞれ識別できるような染みになっている。そして、赤・緑の網膜錐体がそれぞれ10あるとすると、青の網膜錐体は平均して1しかなく、したがって網膜錐体の比率は赤:緑:青=10:10:1となっている。
よって、詳細情報(解像度)はもっぱら赤と緑とで検出(視認)され、青の網膜錐体は色の識別要素ではあるものの、詳細情報を読み取る要素ではないことが分かる。
However, from an ergonomic point of view, it is inappropriate for the human visual system to configure one pixel so that red, green, and blue are the same amount, that is, the ability to identify human colors. Is in the photosensory organ in the macular area of the eye, and there are three types of retinal cones that serve as optical sensors: S, L, and M, blue, red, and green, respectively. Looking at the photomicrograph of the macula, the retinal cones are stained so that they can be distinguished from each other. If there are 10 red and green retinal cones, the average number of blue retinal cones is 1, so the ratio of retinal cones is red: green: blue = 10: 10: 1. Yes.
Accordingly, it is understood that the detailed information (resolution) is detected (visually recognized) exclusively in red and green, and the blue retinal cone is a color identification element but not a detailed information reading element.

また、4ドット(セル)を略マトリクス状に組み合わせた配置については、これによって例えば青の画素を増やすことはできるものの、基本的にはこの技術も駆動制御を容易にするためのもので、解像度を高くするのは困難である。さらに、この技術は、特にプラズマディスプレイ、CRT(Cathode Ray Tube)、液晶ディスプレイ、蛍光表示管、エレクトロルミネッセンスディスプレイ及び発光ダイオードディスプレイ等の表示画面に適用される技術である。しかして、近年ではカラー表示装置として有機EL装置が注目されているものの、前記の技術では有機EL装置への適用について何等考慮がなされていない。   In addition, with regard to the arrangement in which 4 dots (cells) are combined in a substantially matrix shape, for example, blue pixels can be increased. However, this technique is also basically used for facilitating drive control. Is difficult to increase. Furthermore, this technology is a technology applied to display screens such as plasma displays, CRTs (Cathode Ray Tubes), liquid crystal displays, fluorescent display tubes, electroluminescent displays, and light emitting diode displays. In recent years, however, attention has been paid to organic EL devices as color display devices, but the above technique does not give any consideration to application to organic EL devices.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、人間の視覚システムの観点から見掛けの解像度を上げ、これにより、例えば画素ピッチ等を今より格段に狭くすることなく良好な表示を可能にした、有機EL装置とこれを備えた電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to increase the apparent resolution from the viewpoint of the human visual system, and thereby, for example, better without significantly reducing the pixel pitch or the like. Another object is to provide an organic EL device and an electronic device equipped with the organic EL device, which enable easy display.

前記目的を達成するため本発明の有機EL装置は、赤、緑を含むサブピクセルを有する有機EL装置において、第1の方向に配列されている複数の前記サブピクセル及び前記第1の方向と交差する第2の方向に配列されている複数の前記サブピクセルによって論理画素を構成し、前記第1の方向に配列されている複数の前記サブピクセルと前記第2の方向に配列されている複数の前記サブピクセルとが交差する位置を前記論理画素の中心とし、第1の論理画素における前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルのうち、数の少ない第1色のサブピクセルが前記第1の論理画素の中心に配置されており、前記第1の論理画素に配置されている前記第1色のサブピクセルは、第2の論理画素に共有されるように配置され、前記第2の論理画素の中心には、前記第1の論理画素における前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルのうち、数の多い第2色のサブピクセルが配置されていることを特徴としている。
また、前記有機EL装置は、さらに青のサブピクセルを有し、前記各論理画素における前記青のサブピクセルの数は、当該各論理画素の中心に配置されている前記サブピクセルの数と同じであることを特徴としている。
また、前記有機EL装置は、前記サブピクセルの配置パターンが、前記青のサブピクセルの一つあるいは複数を中心パターンとし、前記中心パターンの中心点を中心として点対称になるように、前記中心パターンの両側にそれぞれ前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルとを配置してなることを特徴としている。
また、前記有機EL装置は、前記サブピクセルが矩形状に形成されてなり、前記中心パターンが、二つの前記青のサブピクセルによって形成されてなることを特徴としている。
また、電極間に発光層を有してなる有機EL装置において、前記発光層のドットを構成するサブピクセルが赤、緑、青の3色からなり、前記サブピクセルの配置パターンが、前記青色のサブピクセルの一つあるいは複数を中心パターンとし、その両側にそれぞれ赤色のサブピクセルと緑色のサブピクセルとを配置し、かつ、これら両側にそれぞれ配置する赤色のサブピクセルと緑色のサブピクセルとを、前記中心パターンの中心点を中心として点対称の位置に配置してなることを特徴としている。
To achieve the above object, an organic EL device according to the present invention includes a plurality of subpixels arranged in a first direction and the first direction in an organic EL device having subpixels including red and green. A plurality of subpixels arranged in a second direction constitute a logical pixel, and a plurality of subpixels arranged in the first direction and a plurality of subpixels arranged in the second direction The position where the sub-pixel intersects is the center of the logical pixel, and among the red sub-pixel and the green sub-pixel in the first logical pixel, the first color sub-pixel having a small number is the first logical pixel. The second color pixel is arranged at the center of the logic pixel, and the first color subpixel located in the first logic pixel is arranged to be shared by the second logic pixel. In the center, among the first of the said red subpixel in the logical pixel green sub-pixel, it is characterized by the large number of second color sub-pixels are arranged.
The organic EL device further includes a blue sub-pixel, and the number of the blue sub-pixels in each logical pixel is the same as the number of the sub-pixels arranged at the center of each logical pixel. It is characterized by being.
In the organic EL device, the center pattern is arranged so that an arrangement pattern of the sub-pixels is symmetric with respect to a center point of the center pattern with one or more of the blue sub-pixels as a center pattern. The red sub-pixel and the green sub-pixel are arranged on both sides of each of the two.
The organic EL device is characterized in that the sub-pixel is formed in a rectangular shape, and the central pattern is formed by two blue sub-pixels.
Further, in the organic EL device having the light emitting layer between the electrodes, the subpixels constituting the dots of the light emitting layer are composed of three colors of red, green, and blue, and the arrangement pattern of the subpixels is the blue color. One or more of the sub-pixels are set as a central pattern, red sub-pixels and green sub-pixels are arranged on both sides thereof, and red sub-pixels and green sub-pixels arranged on both sides of the sub-pixels, It is characterized by being arranged at a point-symmetrical position with the central point of the central pattern as the center.

この有機EL装置によれば、サブピクセルの配置パターンを、特に青色のサブピクセルを中心パターンとし、その両側にそれぞれ赤色のサブピクセルと緑色のサブピクセルとを点対称で配置した構成としたので、一画素を単に赤、緑、青の三つのサブピクセルで構成することなくそれより多くのサブピクセルで構成することにより、画素ピッチ等を従来に比べ比べ格段に狭くすることなく、見掛けの解像度を上げることが可能となる。したがって、良好な表示を行うことができ、これにより高品質化や品質安定化、歩留まりの向上等を図ることができる。   According to this organic EL device, the arrangement pattern of the sub-pixels is, in particular, a blue sub-pixel as a central pattern, and a red sub-pixel and a green sub-pixel are arranged symmetrically on both sides thereof, By constructing one pixel with more subpixels instead of just three subpixels of red, green, and blue, the apparent resolution can be reduced without significantly reducing the pixel pitch, etc. It is possible to raise. Therefore, good display can be performed, which can improve quality, stabilize quality, improve yield, and the like.

また、前記有機EL装置においては、前記サブピクセルが矩形状に形成されてなり、前記中心パターンが、二つの青色のサブピクセルによって形成されていてもよい。
このようにすれば、従来のストライプ配置やモザイク配置を応用して各色のサブピクセルを容易に形成することができる。
In the organic EL device, the sub-pixel may be formed in a rectangular shape, and the central pattern may be formed by two blue sub-pixels.
In this way, it is possible to easily form sub-pixels for each color by applying a conventional stripe arrangement or mosaic arrangement.

また、前記有機EL装置においては、前記サブピクセルが矩形状に形成されてなり、前記中心パターンが一つの青色のサブピクセルによって形成され、この青色のサブピクセルが、他の色のサブピクセルより長く形成されていてもよい。
このようにしても、従来のストライプ配置やモザイク配置を応用して各色のサブピクセルを容易に形成することができ、また、青色のサブピクセルについては他の色のサブピクセルより粗いピッチで形成することができる。
Further, in the organic EL device, the sub-pixel is formed in a rectangular shape, and the central pattern is formed by one blue sub-pixel, and the blue sub-pixel is longer than the other color sub-pixels. It may be formed.
Even in this case, it is possible to easily form sub-pixels of each color by applying a conventional stripe arrangement or mosaic arrangement, and to form blue sub-pixels with a coarser pitch than sub-pixels of other colors. be able to.

また、前記有機EL装置においては、前記中心パターンが一つの正方形状の青色のサブピクセルによって形成され、前記配置パターンは、前記赤色および緑色のサブピクセルが、それぞれ前記青色のサブピクセルに対し該青色のサブピクセルの辺側を境界線として配置されて形成され、かつ、これら青色のサブピクセルと赤色のサブピクセルと緑色のサブピクセルとからなる配置パターンが、正方形状に形成されていてもよい。
このようにすれば、例えば青色のサブピクセルを一つ備えかつ三つより多い(例えば六つの)サブピクセルで一画素を構成することにより、画素ピッチ等を従来に比べ比べ格段に狭くすることなく、見掛けの解像度をより良好に上げることが可能となる。
Further, in the organic EL device, the central pattern is formed by one square blue subpixel, and the arrangement pattern is such that the red and green subpixels are in blue relative to the blue subpixel, respectively. The sub-pixels may be arranged with the side of the sub-pixel as a boundary line, and an arrangement pattern including the blue sub-pixel, the red sub-pixel, and the green sub-pixel may be formed in a square shape.
In this way, for example, one blue subpixel is provided and one pixel is composed of more than three (for example, six) subpixels, so that the pixel pitch or the like is not significantly reduced compared to the conventional case. The apparent resolution can be improved more favorably.

本発明の電子機器は、前記有機EL装置を備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、良好な表示を行うことができる有機EL装置を備えているので、電子機器自体も良好な表示をなすものとなる。
The electronic apparatus according to the present invention includes the organic EL device.
According to this electronic device, since the organic EL device capable of performing good display is provided, the electronic device itself can also display good.

本発明の有機EL装置の、サブピクセルの配置を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of the sub pixel of the organic electroluminescent apparatus of this invention. (a)〜(e)はサブピクセルによる画素を示す図である。(A)-(e) is a figure which shows the pixel by a sub pixel. 画素が白色を表示する場合のエネルギー分布を示す図3である。It is FIG. 3 which shows energy distribution in case a pixel displays white. (a)〜(c)は白点を表示したときの輝度を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the brightness | luminance when a white point is displayed. 本発明の有機EL装置の配線構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the wiring structure of the organic electroluminescent apparatus of this invention. 本発明の有機EL装置の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus of this invention. 図6のA−B線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the AB line | wire of FIG. 図7の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of FIG. 有機EL装置の製造方法を工程順に説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus in order of a process. 図9に続く工程を説明するための断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a step following the step in FIG. 9. 図10に続く工程を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the process following FIG. 図11に続く工程を説明するための断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining a process following the process in FIG. 11. 図12に続く工程を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the process following FIG. (a)、(b)はサブピクセルの他の配置を示す図である。(A), (b) is a figure which shows other arrangement | positioning of a sub pixel. 本発明の電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device of this invention. (a)〜(c)は従来の画素を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the conventional pixel.

以下、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の有機EL装置の一実施形態を示す図であり、発光層のサブピクセルの配置を示す図である。図1中符号Sは発光層のドットを構成するサブピクセルを示し、これらサブピクセルSは赤色のサブピクセル(図1中にRで示す。以下、サブピクセルRと記す。)、緑色のサブピクセル(図1中にGで示す。以下、サブピクセルGと記す。)、青色のサブピクセル(図1中にBで示す。以下、サブピクセルBと記す。)の3色からなっている。
The present invention will be described in detail below.
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the organic EL device of the present invention, and is a diagram showing an arrangement of sub-pixels in a light emitting layer. In FIG. 1, symbol S indicates subpixels constituting dots of the light emitting layer, and these subpixels S are red subpixels (indicated by R in FIG. 1, hereinafter referred to as subpixel R), and green subpixels. (Indicated in FIG. 1 by G. Hereinafter referred to as sub-pixel G) and blue sub-pixel (indicated by B in FIG. 1, hereinafter referred to as sub-pixel B).

これら3色のサブピクセルS(R、G、B)は、全て同じ大きさの矩形に形成されたもので、本例ではその配置パターンPが六つのサブピクセルによって構成されている。そして、このようにして構成された配置パターンPが縦横に整列配置されたことにより、本実施形態の発光層が形成されている。   These three colors of sub-pixels S (R, G, B) are all formed in a rectangle having the same size. In this example, the arrangement pattern P is composed of six sub-pixels. And the light emitting layer of this embodiment is formed by arrange | positioning the arrangement pattern P comprised in this way vertically and horizontally.

ここで、配置パターンPは、図1に示したように縦に並んで配置された二つの青色のサブピクセルBを中心パターンCとし、その両側にそれぞれ赤色のサブピクセルRと緑色のサブピクセルGとを配置したものである。また、前記中心パターンCの両側にそれぞれ配置された赤色のサブピクセルRと緑色のサブピクセルGとは、前記中心パターンCの中心点Oを中心として、点対称の位置に配置されている。
なお、本発明において配置パターンPは、単に製造する際に各色のサブピクセルをどのように配置するかを規定しただけのものであり、表示を行う際の単位となるピクセル、すなわち単位画素を構成するものではない。
Here, the arrangement pattern P has two blue subpixels B arranged in a row as shown in FIG. 1 as a central pattern C, and a red subpixel R and a green subpixel G on each side thereof. Are arranged. Further, the red sub-pixel R and the green sub-pixel G arranged on both sides of the center pattern C are arranged at point-symmetric positions with the center point O of the center pattern C as the center.
In the present invention, the arrangement pattern P merely defines how the sub-pixels of each color are arranged at the time of manufacture, and constitutes a unit pixel for display, that is, a unit pixel. Not what you want.

ピクセルとなる画素(単位画素)Lは、例えば図2(a)〜(e)に示すように六つのサブピクセルS(R、G、B)によって構成される。ここで、図2(a)〜(e)は一つの緑色のサブピクセルGを含む5通りの画素(ピクセル)Lを示すもので、横に並んだ四つのサブピクセルSと、この横に並んだ四つのサブピクセルのうちの一つに対してその上下に配置されたサブピクセルSと、から各画素Lが構成されている。   A pixel (unit pixel) L serving as a pixel is composed of six sub-pixels S (R, G, B), for example, as shown in FIGS. Here, FIGS. 2A to 2E show five kinds of pixels (pixels) L including one green sub-pixel G. Four sub-pixels S arranged side by side are arranged side by side. Each pixel L is composed of subpixels S arranged above and below one of the four subpixels.

なお、これら画素Lは論理画素と呼ばれる情報画素であり、図16(a)〜(c)に示したような従来のRGBシステムより効率的にサブピクセルSが活用されるようになっている。すなわち、例えばRGBストライプ配置での論理画素は、赤・緑・青の各サブピクセルがそれぞれ固定的に配列されているが、図2(a)〜(e)に示した例では論理画素Lが六つのサブピクセルS(R、G、B)で構成されており、特に緑色のサブピクセルGや赤色のサブピクセルRは複数の論理画素(五つの論理画素)Lに共有されたものとなっている。なお、この五つの論理画素Lにおいて、これらに共有される一つの緑色のサブピクセルGは、一つの論理画素においてはその中心位置に、他の四つの論理画素においてはその周辺位置に活用されるようになっている。   These pixels L are information pixels called logic pixels, and the sub-pixels S are used more efficiently than the conventional RGB system as shown in FIGS. That is, for example, in the logical pixel in the RGB stripe arrangement, the red, green, and blue sub-pixels are fixedly arranged, but in the example shown in FIGS. 2A to 2E, the logical pixel L is It is composed of six sub-pixels S (R, G, B). In particular, the green sub-pixel G and the red sub-pixel R are shared by a plurality of logical pixels (five logical pixels) L. Yes. In the five logical pixels L, the one green sub-pixel G shared by these five logical pixels L is utilized in the central position in one logical pixel and in the peripheral position in the other four logical pixels. It is like that.

ここで、図2(a)で示した論理画素L、すなわち緑色のサブピクセルGが中心に位置している論理画素Lの、白色を表示する場合のエネルギー分布を図3に示す。図3に示すように、周辺にあるサブピクセル(この場合、赤と青)のエネルギーが調整されて緑と融合したときに、この論理画素Lは白点を表示する。すなわち、白点として視認(知覚)されるのである。なお、赤色のサブピクセルRと緑色のサブピクセルGとが入れ替わり、赤色のサブピクセルRが中心に位置している論理画素(図2(b)〜図2(e)に示した論理画素)にあっても、白点を表示する場合のエネルギー分布については、緑と赤が入れ替わるだけで基本的に図3と同様となる。   Here, FIG. 3 shows an energy distribution when displaying the white color of the logical pixel L shown in FIG. 2A, that is, the logical pixel L in which the green sub-pixel G is located at the center. As shown in FIG. 3, when the energy of the surrounding subpixels (in this case, red and blue) is adjusted and fused with green, this logical pixel L displays a white point. That is, it is visually recognized (perceived) as a white spot. The red subpixel R and the green subpixel G are interchanged, and the logical pixel (the logical pixel shown in FIGS. 2B to 2E) in which the red subpixel R is located at the center is replaced. Even in this case, the energy distribution for displaying a white spot is basically the same as that shown in FIG. 3 except that green and red are interchanged.

また、図2(a)に示した論理画素Lや図2(c)に示した論理画素Lと、これらと同等のサブピクセル(TFT)密度を有する従来式RGBストライプ配置における画素とを、それぞれ白点を表示する状態(ONの状態)にし、そのときの輝度を調べた結果を図4に示す。なお、図4(a)は図2(a)に示した論理画素Lについて、図4(b)は図2(c)に示した論理画素Lについて、図4(c)は従来式RGBストライプ配置における画素について示している。   Further, the logical pixel L shown in FIG. 2A and the logical pixel L shown in FIG. 2C, and pixels in the conventional RGB stripe arrangement having sub-pixel (TFT) density equivalent to these, respectively, FIG. 4 shows the result of examining the brightness at the time when the white point is displayed (ON state). 4A shows the logical pixel L shown in FIG. 2A, FIG. 4B shows the logical pixel L shown in FIG. 2C, and FIG. 4C shows the conventional RGB stripe. The pixel in the arrangement is shown.

各画素を光測定器で測定することで得られた、実際の輝度を図4中のBに示す。また、人間の目は図4中のCに示すガウシアンフィルタを用いて実際に感知・処理する。そして、ガウシアンフィルタを介して人間に実際に知覚される輝度を図4中のDに示す。   The actual luminance obtained by measuring each pixel with a photometer is shown in FIG. 4B. Further, the human eye is actually sensed and processed using a Gaussian filter indicated by C in FIG. The luminance actually perceived by a human through the Gaussian filter is indicated by D in FIG.

図4中のDに示した結果より、図2(a)、(c)に示した本実施形態における論理画素Lで知覚されるカーブは、従来の画素で知覚されるカーブに比べて細いことが分かった。これは、人間が視覚を処理する仕組みと、中心の光の強さとの関係から得られる効果である。
したがって、本実施形態における論理画素は、従来の画素に比べ同等のサブピクセル(TFT)密度により、実際に知覚される輝度、すなわち見掛け上の解像度を高くすることができ、これにより高解像度なものとなる。
From the result shown by D in FIG. 4, the curve perceived by the logical pixel L in the present embodiment shown in FIGS. 2A and 2C is narrower than the curve perceived by the conventional pixel. I understood. This is an effect obtained from the relationship between the mechanism of human vision processing and the central light intensity.
Therefore, the logical pixel in the present embodiment can increase the actually perceived luminance, that is, the apparent resolution, by a sub-pixel (TFT) density equivalent to that of the conventional pixel, and thereby has a high resolution. It becomes.

なお、本実施形態では、図2(a)、(c)に示したように緑色のサブピクセルGを四つ有した論理画素Lと、赤色のサブピクセルRを四つ有した論理画素Lとから発光層の表示単位である画素(論理画素)Lを構成しているが、このように画素L中に占める緑と赤の割合を大とすることにより、人間の視覚システムにマッチした表示を行うことができる。すなわち、詳細情報(解像度)をもっぱら担う赤と緑の網膜錐体に対してより表示量を大きくし、単に色の識別要素であるだけで、詳細情報を読み取る要素ではない青の網膜錐体に対しては相対的に表示量を少なくすることで、従来と同程度のサブピクセル(TFT)密度にもかかわらず、実際に知覚される輝度、すなわち見掛け上の解像度を従来以上に高くすることができるのである。   In this embodiment, as shown in FIGS. 2A and 2C, a logical pixel L having four green subpixels G, and a logical pixel L having four red subpixels R, The pixel (logic pixel) L, which is the display unit of the light emitting layer, is configured from the above, but by increasing the proportion of green and red in the pixel L in this way, a display that matches the human visual system is achieved. It can be carried out. In other words, the red and green retinal cones, which are exclusively responsible for detailed information (resolution), have a larger display amount and are merely color identification elements, but not blue color retinal cones that are not elements that read detailed information. On the other hand, by reducing the display amount relatively, the perceived luminance, that is, the apparent resolution, can be made higher than before even though the subpixel (TFT) density is comparable to the conventional one. It can be done.

次に、このようにサブピクセルSを配置してなる発光層を有した有機EL装置の配線構造を、図5を参照して説明する。
図5に示す有機EL装置1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下ではTFTと略記する)を用いたアクティブマトリクス型の有機EL装置である。
Next, the wiring structure of the organic EL device having the light emitting layer in which the subpixels S are arranged in this way will be described with reference to FIG.
An organic EL device 1 shown in FIG. 5 is an active matrix organic EL device using a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) as a switching element.

この有機EL装置1は、図5に示すように、複数の走査線101…と、各走査線101に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線102…と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103…とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線101…と信号線102…の各交点付近に、画素領域X…が設けられている。
信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路100が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路80が接続されている。
As shown in FIG. 5, the organic EL device 1 includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction perpendicular to the scanning lines 101, and parallel to each signal line 102. And a plurality of power supply lines 103 extending in parallel to each other, and pixel regions X are provided near intersections of the scanning lines 101 and the signal lines 102.
A data line driving circuit 100 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is connected to the signal line 102. Further, a scanning line driving circuit 80 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101.

さらに、画素領域X各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT112と、このスイッチング用TFT112を介して信号線102から共有される画素信号を保持する保持容量113と、該保持容量113によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT123と、この駆動用TFT123を介して電源線103に電気的に接続したときに該電源線103から駆動電流が流れ込む画素電極(電極)23と、この画素電極23と陰極(電極)50との間に挟み込まれた機能層110とが設けられている。   Further, in each pixel region X, a switching TFT 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101 and a storage capacitor for holding a pixel signal shared from the signal line 102 via the switching TFT 112. 113, a driving TFT 123 to which a pixel signal held by the holding capacitor 113 is supplied to a gate electrode, and a driving current from the power supply line 103 when electrically connected to the power supply line 103 via the driving TFT 123 And a functional layer 110 sandwiched between the pixel electrode 23 and the cathode (electrode) 50 are provided.

この有機EL装置1によれば、走査線101が駆動されてスイッチング用TFT112がオン状態になると、そのときの信号線102の電位が保持容量113に保持され、該保持容量113の状態に応じて、駆動用TFT123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT123のチャネルを介して、電源線103から画素電極23に電流が流れ、さらに機能層110を介して陰極50に電流が流れる。機能層110は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to the organic EL device 1, when the scanning line 101 is driven and the switching TFT 112 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor 113, and according to the state of the holding capacitor 113. The on / off state of the driving TFT 123 is determined. Then, current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 23 through the channel of the driving TFT 123, and further current flows to the cathode 50 through the functional layer 110. The functional layer 110 emits light according to the amount of current flowing through it.

次に、このような有機EL装置の全体の概略構成を説明する。
本実施形態の有機EL装置1は、図6に示すように電気絶縁性を備えた基板20と、スイッチング用TFT(図示せず)に接続された画素電極が基板20上にマトリックス状に配置されてなる画素電極域(図示せず)と、画素電極域の周囲に配置されるとともに各画素電極に接続される電源線(図示せず)と、少なくとも画素電極域上に位置する平面視ほぼ矩形の画素部3(図6中一点鎖線枠内)とを具備して構成されたアクティブマトリクス型のものである。
Next, an overall schematic configuration of such an organic EL device will be described.
As shown in FIG. 6, the organic EL device 1 according to the present embodiment includes an electrically insulating substrate 20 and pixel electrodes connected to switching TFTs (not shown) arranged in a matrix on the substrate 20. A pixel electrode area (not shown), a power supply line (not shown) arranged around the pixel electrode area and connected to each pixel electrode, and at least a rectangular shape in plan view located on the pixel electrode area The pixel portion 3 (within the dashed-dotted line frame in FIG. 6) is an active matrix type.

画素部3は、中央部分の実表示領域4(図2中二点鎖線枠内)と、実表示領域4の周囲に配置されたダミー領域5(一点鎖線および二点鎖線の間の領域)とに区画されている。
実表示領域4には、それぞれ画素電極を有する矩形状のサブピクセルR、G、BがA−B方向およびC−D方向にそれぞれ離間してマトリックス状に配置されている。
また、実表示領域4の図2中両側には、走査線駆動回路80、80が配置されている。これら走査線駆動回路80、80は、ダミー領域5の下側に配置されたものである。
The pixel unit 3 includes a real display area 4 in the center (inside the two-dot chain line in FIG. 2) and a dummy area 5 (area between the one-dot chain line and the two-dot chain line) arranged around the real display area 4. It is divided into.
In the actual display area 4, rectangular sub-pixels R, G, and B each having a pixel electrode are arranged in a matrix so as to be separated from each other in the AB direction and the CD direction.
Further, scanning line driving circuits 80 and 80 are arranged on both sides of the actual display area 4 in FIG. These scanning line drive circuits 80 and 80 are arranged below the dummy region 5.

さらに、実表示領域4の図6中上側には、検査回路90が配置されている。この検査回路90は、有機EL装置1の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(図示せず)を備え、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されたものである。なお、この検査回路90も、ダミー領域5の下側に配置されたものである。   Further, an inspection circuit 90 is disposed above the actual display area 4 in FIG. This inspection circuit 90 is a circuit for inspecting the operating state of the organic EL device 1 and includes, for example, inspection information output means (not shown) for outputting the inspection result to the outside, and is displayed during manufacture or at the time of shipment. The apparatus is configured to be able to inspect the quality and defect of the apparatus. The inspection circuit 90 is also disposed below the dummy area 5.

走査線駆動回路80および検査回路90は、その駆動電圧が、所定の電源部から駆動電圧導通部310(図7参照)および駆動電圧導通部(図示せず)を介して、印加されるよう構成されている。また、これら走査線駆動回路80および検査回路90への駆動制御信号および駆動電圧は、この有機EL装置1の作動制御を行う所定のメインドライバなどから駆動制御信号導通部320(図7参照)および駆動電圧導通部350(図示せず)を介して、送信および印加されるようになっている。なお、この場合の駆動制御信号とは、走査線駆動回路80および検査回路90が信号を出力する際の制御に関連するメインドライバなどからの指令信号である。   The scanning line driving circuit 80 and the inspection circuit 90 are configured such that the driving voltage is applied from a predetermined power supply unit via a driving voltage conducting unit 310 (see FIG. 7) and a driving voltage conducting unit (not shown). Has been. Further, the drive control signal and the drive voltage to the scanning line drive circuit 80 and the inspection circuit 90 are supplied from a predetermined main driver for controlling the operation of the organic EL device 1 and the drive control signal conduction unit 320 (see FIG. 7) and Transmission and application are performed via a drive voltage conduction unit 350 (not shown). The drive control signal in this case is a command signal from a main driver or the like related to control when the scanning line drive circuit 80 and the inspection circuit 90 output signals.

また、この有機EL装置1は、図7に示すように基体200上に、画素電極23と発光層60と陰極50とを有してなる発光素子(有機EL素子)を多数形成したものである。
基体200を構成する基板20としては、いわゆるトップエミッション型の有機EL装置の場合、この基板20の対向側である封止部(図示せず)側から発光光を取り出す構成であるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム(プラスチックフィルム)などが挙げられる。
In addition, as shown in FIG. 7, the organic EL device 1 includes a large number of light emitting elements (organic EL elements) each including a pixel electrode 23, a light emitting layer 60, and a cathode 50 on a base 200. .
In the case of a so-called top emission type organic EL device, the substrate 20 constituting the base body 200 is configured to extract emitted light from a sealing portion (not shown) side that is the opposite side of the substrate 20. Either an opaque substrate or an opaque substrate can be used. Examples of opaque substrates include ceramics such as alumina, metal sheets such as stainless steel that have been subjected to insulation treatment such as surface oxidation, thermosetting resins and thermoplastic resins, and films thereof (plastic films). It is done.

また、いわゆるバックエミッション型の有機EL装置の場合には、基板20側から発光光を取り出す構成であるので、基板20としては、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。なお、本実施形態では、保護層30側から発光光を取り出すトップエミッション型とし、よって基板20としては前記した不透明のもの、例えば不透明のプラスチックフィルムなどが用いられる。   Further, in the case of a so-called back emission type organic EL device, since the emitted light is extracted from the substrate 20 side, a transparent or semi-transparent substrate 20 is employed. For example, glass, quartz, resin (plastic, plastic film) and the like can be mentioned, and a glass substrate is particularly preferably used. In the present embodiment, a top emission type in which emitted light is extracted from the protective layer 30 side, and thus the substrate 20 is made of the above-described opaque material, for example, an opaque plastic film.

また、基板20上には、画素電極23を駆動するための駆動用TFT123などを含む回路部11が形成されており、その上に発光素子(有機EL素子)が多数設けられている。発光素子は、図8に示すように、陽極として機能する画素電極23と、この画素電極23からの正孔を注入/輸送する正孔輸送層70と、電気光学物質の一つである有機EL物質を備える発光層60と、陰極50とが順に形成されたことによって構成されたものである。
このような構成のもとに、発光素子はその発光層60において、正孔輸送層70から注入された正孔と陰極50からの電子とが結合することにより、発光光を生じるようになっている。
A circuit unit 11 including a driving TFT 123 for driving the pixel electrode 23 and the like is formed on the substrate 20, and a large number of light emitting elements (organic EL elements) are provided thereon. As shown in FIG. 8, the light emitting element includes a pixel electrode 23 that functions as an anode, a hole transport layer 70 that injects / transports holes from the pixel electrode 23, and an organic EL that is one of electro-optical materials. The light-emitting layer 60 including the substance and the cathode 50 are sequentially formed.
Based on such a configuration, the light emitting element generates light emission in the light emitting layer 60 by combining holes injected from the hole transport layer 70 and electrons from the cathode 50. Yes.

画素電極23は、本実施形態ではトップエミッション型であることから透明である必要がなく、したがって適宜な導電材料によって形成されている。
正孔輸送層70の形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体などが用いられる。具体的には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)[商品名;バイトロン−p(Bytron-p):バイエル社製]の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に3,4−ポリエチレンジオシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液などが用いられる。
Since the pixel electrode 23 is a top emission type in the present embodiment, it does not need to be transparent, and is therefore formed of an appropriate conductive material.
As a material for forming the hole transport layer 70, for example, a polythiophene derivative, a polypyrrole derivative, or a doped body thereof is used. Specifically, a dispersion of 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) [trade name; Bytron-p: manufactured by Bayer], that is, polystyrene as a dispersion medium A dispersion obtained by dispersing 3,4-polyethylenediosithiophene in sulfonic acid and further dispersing it in water is used.

発光層60を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などが好適に用いられる。
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
なお、前記の高分子材料に代えて、従来公知の低分子材料を用いることもできる。
また、必要に応じて、このような発光層60の上に電子注入層を形成してもよい。
As a material for forming the light emitting layer 60, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence can be used. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used.
In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.
In addition, it replaces with the said polymeric material, and a conventionally well-known low molecular material can also be used.
In addition, an electron injection layer may be formed on the light emitting layer 60 as necessary.

また、本実施形態において正孔輸送層70と発光層60とは、図7、図8に示すように基体200上にて格子状に形成された親液性制御層25と有機バンク層221とによって囲まれて配置されており、これによって平面視矩形状に囲まれた正孔輸送層70および発光層60は、単一の発光素子(有機EL素子)を構成する素子層となっている。   In the present embodiment, the hole transport layer 70 and the light emitting layer 60 are composed of the lyophilic control layer 25 and the organic bank layer 221 formed in a lattice shape on the substrate 200 as shown in FIGS. The hole transport layer 70 and the light emitting layer 60 surrounded by a rectangular shape in plan view thereby constitute an element layer constituting a single light emitting element (organic EL element).

陰極50は、図7、図8に示すように、実表示領域4およびダミー領域5の総面積より広い面積を備え、それぞれを覆うように形成されたもので、前記発光層60と有機バンク層221及び囲み部材201の上面、さらには囲み部材201の外側部を形成する面201aを覆った状態で基体200上に形成されたものである。   As shown in FIGS. 7 and 8, the cathode 50 has a larger area than the total area of the actual display region 4 and the dummy region 5, and is formed so as to cover each. The light emitting layer 60 and the organic bank layer 221 and the upper surface of the surrounding member 201, and further, the surface 201 a that forms the outer side of the surrounding member 201 are covered on the base body 200.

陰極50を形成するための材料としては、本実施形態はトップエミッション型であることから光透過性である必要があり、したがって透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはITOが好適とされるが、これ以外にも、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜(Indium Zinc Oxide :IZO/アイ・ゼット・オー)(登録商標))(出光興産社製)等を用いることができる。なお、本実施形態ではITOを用いるものとする。   As a material for forming the cathode 50, since this embodiment is a top emission type, it needs to be light transmissive, and therefore, a transparent conductive material is used. ITO is suitable as the transparent conductive material. In addition, for example, an indium oxide / zinc oxide amorphous transparent conductive film (Indium Zinc Oxide: IZO / registered trademark)) (Idemitsu Kosan) Etc.) can be used. In the present embodiment, ITO is used.

このような陰極50の上には、この陰極50の基体200上で露出する部位を覆った状態で保護層30が設けられている。この保護層30は、その内側に酸素や水分が浸入するのを防止するためのもので、これにより陰極50や発光層60への酸素や水分の浸入を防止し、酸素や水分による陰極50や発光層60の劣化等を抑えるようにしたものである。   A protective layer 30 is provided on such a cathode 50 so as to cover a portion of the cathode 50 exposed on the substrate 200. The protective layer 30 is for preventing oxygen and moisture from entering the inside thereof, thereby preventing the entry of oxygen and moisture into the cathode 50 and the light emitting layer 60, thereby preventing the cathode 50 and oxygen from entering with the oxygen and moisture. The deterioration of the light emitting layer 60 is suppressed.

前記の発光素子の下方には、図8に示したように回路部11が設けられている。この回路部11は、基板20上に形成されて基体200を構成するものである。すなわち、基板20の表面にはSiO2 を主体とする下地保護層281が下地として形成され、その上にはシリコン層241が形成されている。このシリコン層241の表面には、SiO2 および/またはSiNを主体とするゲート絶縁層282が形成されている。   A circuit portion 11 is provided below the light emitting element as shown in FIG. The circuit unit 11 is formed on the substrate 20 and constitutes the base body 200. That is, a base protective layer 281 mainly composed of SiO2 is formed on the surface of the substrate 20 as a base, and a silicon layer 241 is formed thereon. On the surface of the silicon layer 241, a gate insulating layer 282 mainly composed of SiO2 and / or SiN is formed.

また、前記シリコン層241のうち、ゲート絶縁層282を挟んでゲート電極242と重なる領域がチャネル領域241aとされている。なお、このゲート電極242は、図示しない走査線101の一部である。一方、シリコン層241を覆い、ゲート電極242を形成したゲート絶縁層282の表面には、SiO2を主体とする第1層間絶縁層283が形成されている。   In the silicon layer 241, a region overlapping with the gate electrode 242 with the gate insulating layer 282 interposed therebetween is a channel region 241a. The gate electrode 242 is a part of the scanning line 101 (not shown). On the other hand, a first interlayer insulating layer 283 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the gate insulating layer 282 that covers the silicon layer 241 and on which the gate electrode 242 is formed.

また、シリコン層241のうち、チャネル領域241aのソース側には、低濃度ソース領域241bおよび高濃度ソース領域241Sが設けられる一方、チャネル領域241aのドレイン側には低濃度ドレイン領域241cおよび高濃度ドレイン領域241Dが設けられて、いわゆるLDD(Light Doped Drain )構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域241Sは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール243aを介して、ソース電極243に接続されている。このソース電極243は、前述した電源線103(図5参照、図8においてはソース電極243の位置に紙面垂直方向に延在する)の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域241Dは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール244aを介して、ソース電極243と同一層からなるドレイン電極244に接続されている。   Further, in the silicon layer 241, a low concentration source region 241b and a high concentration source region 241S are provided on the source side of the channel region 241a, while a low concentration drain region 241c and a high concentration drain are provided on the drain side of the channel region 241a. The region 241D is provided to form a so-called LDD (Light Doped Drain) structure. Among these, the high-concentration source region 241S is connected to the source electrode 243 through a contact hole 243a that opens over the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283. The source electrode 243 is configured as a part of the power supply line 103 described above (see FIG. 5 and extends in the direction perpendicular to the paper surface at the position of the source electrode 243 in FIG. 8). On the other hand, the high-concentration drain region 241D is connected to the drain electrode 244 made of the same layer as the source electrode 243 through a contact hole 244a that opens through the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283.

ソース電極243およびドレイン電極244が形成された第1層間絶縁層283の上層は、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする第2層間絶縁層284によって覆われている。この第2層間絶縁層284は、アクリル系の絶縁膜以外の材料、例えば、SiN、SiO2 などを用いることもできる。そして、ITOからなる画素電極23が、この第2層間絶縁層284の表面上に形成されるとともに、該第2層間絶縁層284に設けられたコンタクトホール23aを介してドレイン電極244に接続されている。すなわち、画素電極23は、ドレイン電極244を介して、シリコン層241の高濃度ドレイン領域241Dに接続されている。   The upper layer of the first interlayer insulating layer 283 on which the source electrode 243 and the drain electrode 244 are formed is covered with a second interlayer insulating layer 284 mainly composed of, for example, an acrylic resin component. The second interlayer insulating layer 284 can be made of a material other than an acrylic insulating film, such as SiN or SiO2. A pixel electrode 23 made of ITO is formed on the surface of the second interlayer insulating layer 284 and is connected to the drain electrode 244 through a contact hole 23a provided in the second interlayer insulating layer 284. Yes. That is, the pixel electrode 23 is connected to the high concentration drain region 241D of the silicon layer 241 through the drain electrode 244.

なお、走査線駆動回路80および検査回路90に含まれるTFT(駆動回路用TFT)、すなわち、例えばこれらの駆動回路のうち、シフトレジスタに含まれるインバータを構成するNチャネル型又はPチャネル型のTFTは、画素電極23と接続されていない点を除いて前記駆動用TFT123と同様の構造とされている。   Note that TFTs (driving circuit TFTs) included in the scanning line driving circuit 80 and the inspection circuit 90, that is, N-channel type or P-channel type TFTs constituting an inverter included in the shift register among these driving circuits, for example. The structure is the same as that of the driving TFT 123 except that it is not connected to the pixel electrode 23.

画素電極23が形成された第2層間絶縁層284の表面には、画素電極23と、前記した親液性制御層25及び有機バンク層221とが設けられている。親液性制御層25は、例えばSiO2 などの親液性材料を主体とするものであり、有機バンク層221は、アクリルやポリイミドなどからなるものである。そして、画素電極23の上には、親液性制御層25に設けられた開口部25a、および有機バンク221に囲まれてなる開口部221aの内部に、正孔輸送層70と発光層60とがこの順に積層されている。なお、本実施形態における親液性制御層25の「親液性」とは、少なくとも有機バンク層221を構成するアクリル、ポリイミドなどの材料と比べて親液性が高いことを意味するものとする。
以上に説明した基板20上の第2層間絶縁層284までの層が、回路部11を構成するものとなっている。
On the surface of the second interlayer insulating layer 284 on which the pixel electrode 23 is formed, the pixel electrode 23, the lyophilic control layer 25 and the organic bank layer 221 are provided. The lyophilic control layer 25 is mainly composed of a lyophilic material such as SiO 2, and the organic bank layer 221 is made of acrylic or polyimide. On the pixel electrode 23, the hole transport layer 70, the light emitting layer 60, and the opening 25 a provided in the lyophilic control layer 25 and the opening 221 a surrounded by the organic bank 221 are provided. Are stacked in this order. In addition, “lyophilic” of the lyophilic control layer 25 in this embodiment means that the lyophilic property is higher than at least materials such as acrylic and polyimide constituting the organic bank layer 221. .
The layers up to the second interlayer insulating layer 284 on the substrate 20 described above constitute the circuit unit 11.

ここで、本実施形態の有機EL装置1は、前述したように各発光層60が、その発光波長帯域が光の三原色、すなわち発光波長帯域が赤色に対応した赤色用発光層60R、緑色に対応した緑色用発光層60G、青色に対応した青色用有機EL層60Bからなっており、これらがそれぞれに対応するサブピクセルR、G、Bに設けられることで構成されている。なお、これらサブピクセルR、G、Bは、本実施形態では図2(a)〜(e)に示したようにその六つの集合によってカラー表示をなす単位画素(論理画素)Lを構成している。   Here, in the organic EL device 1 according to the present embodiment, as described above, each light emitting layer 60 corresponds to the red light emitting layer 60R whose light emission wavelength band corresponds to the three primary colors of light, that is, the light emission wavelength band corresponding to red, and green. The green light emitting layer 60G and the blue organic EL layer 60B corresponding to blue are provided in the corresponding subpixels R, G, and B. In this embodiment, these subpixels R, G, and B constitute unit pixels (logical pixels) L that perform color display by the six sets as shown in FIGS. 2 (a) to 2 (e). Yes.

次に、本実施形態に係る有機EL装置1の製造方法の一例を、図9〜図13を参照して説明する。なお、本実施形態においては、有機EL装置1がトップエミッション型である場合について説明する。また、図9〜図13に示す各断面図は、図6中のA−B線の断面図に対応した図である。   Next, an example of the manufacturing method of the organic EL device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, the case where the organic EL device 1 is a top emission type will be described. Moreover, each sectional view shown in FIGS. 9 to 13 corresponds to the sectional view taken along the line AB in FIG.

まず、図9(a)に示すように、基板20の表面に、下地保護層281を形成する。次に、下地保護層281上に、ICVD法、プラズマCVD法などを用いてアモルファスシリコン層501を形成した後、レーザアニール法又は急速加熱法により結晶粒を成長させてポリシリコン層とする。   First, as shown in FIG. 9A, a base protective layer 281 is formed on the surface of the substrate 20. Next, after an amorphous silicon layer 501 is formed on the base protective layer 281 using an ICVD method, a plasma CVD method, or the like, crystal grains are grown by a laser annealing method or a rapid heating method to form a polysilicon layer.

次いで、図9(b)に示すように、ポリシリコン層をフォトリソグラフィ法によりパターニングし、島状のシリコン層241、251および261を形成する。これらのうちシリコン層241は、表示領域内に形成され、画素電極23に接続される駆動用TFT123を構成するものであり、シリコン層251、261は、走査線駆動回路80に含まれるPチャネル型およびNチャネル型のTFT(駆動回路用TFT)をそれぞれ構成するものである。   Next, as shown in FIG. 9B, the polysilicon layer is patterned by photolithography to form island-like silicon layers 241, 251 and 261. Among these, the silicon layer 241 is formed in the display region and constitutes a driving TFT 123 connected to the pixel electrode 23, and the silicon layers 251 and 261 are P-channel type included in the scanning line driving circuit 80. And N-channel type TFTs (driving circuit TFTs).

次に、プラズマCVD法、熱酸化法などにより、シリコン層241、251および261、下地保護層281の全面に厚さが約30nm〜200nmのシリコン酸化膜によって、ゲート絶縁層282を形成する。ここで、熱酸化法を利用してゲート絶縁層282を形成する際には、シリコン層241、251および261の結晶化も行い、これらのシリコン層をポリシリコン層とすることができる。   Next, a gate insulating layer 282 is formed of a silicon oxide film having a thickness of about 30 nm to 200 nm on the entire surface of the silicon layers 241, 251 and 261, and the base protective layer 281 by plasma CVD, thermal oxidation, or the like. Here, when the gate insulating layer 282 is formed using a thermal oxidation method, the silicon layers 241, 251 and 261 are also crystallized, and these silicon layers can be made into polysilicon layers.

また、シリコン層241、251および261にチャネルドープを行う場合には、例えば、このタイミングで約1×1012/cm2 のドーズ量でボロンイオンを打ち込む。その結果、シリコン層241、251および261は、不純物濃度(活性化アニール後の不純物にて算出)が約1×1017/cm3 の低濃度P型のシリコン層となる。   When channel doping is performed on the silicon layers 241, 251 and 261, for example, boron ions are implanted at a dose of about 1 × 10 12 / cm 2 at this timing. As a result, the silicon layers 241, 251 and 261 are low-concentration P-type silicon layers having an impurity concentration (calculated from the impurities after activation annealing) of about 1 × 10 17 / cm 3.

次に、Pチャネル型TFT、Nチャネル型TFTのチャネル層の一部にイオン注入選択マスクを形成し、この状態でリンイオンを約1×1015/cm2 のドーズ量でイオン注入する。その結果、パターニング用マスクに対してセルフアライン的に高濃度不純物が導入されて、図9(c)に示すように、シリコン層241及び261中に高濃度ソース領域241Sおよび261S並びに高濃度ドレイン領域241Dおよび261Dが形成される。   Next, an ion implantation selection mask is formed in a part of the channel layer of the P-channel TFT and the N-channel TFT, and in this state, phosphorus ions are ion-implanted at a dose of about 1 × 10 15 / cm 2. As a result, high concentration impurities are introduced into the patterning mask in a self-aligned manner, and as shown in FIG. 9C, the high concentration source regions 241S and 261S and the high concentration drain region are formed in the silicon layers 241 and 261. 241D and 261D are formed.

次に、図9(c)に示すように、ゲート絶縁層282の表面全体に、ドープドシリコンやシリサイド膜、あるいはアルミニウム膜やクロム膜、タンタル膜という金属膜からなるゲート電極形成用導電層502を形成する。この導電層502の厚さは概ね500nm程度である。その後、パターニング法により、図9(d)に示すように、Pチャネル型の駆動回路用TFTを形成するゲート電極252、画素用TFTを形成するゲート電極242、Nチャネル型の駆動回路用TFTを形成するゲート電極262を形成する。また、駆動制御信号導通部320(350)、陰極電源配線の第1層121も同時に形成する。なお、この場合、駆動制御信号導通部320(350)はダミー領域5に配設するものとされている。   Next, as shown in FIG. 9C, a gate electrode forming conductive layer 502 made of a metal film such as doped silicon, a silicide film, or an aluminum film, a chromium film, or a tantalum film is formed on the entire surface of the gate insulating layer 282. Form. The thickness of the conductive layer 502 is approximately 500 nm. Thereafter, as shown in FIG. 9D, a gate electrode 252 for forming a P-channel type driving circuit TFT, a gate electrode 242 for forming a pixel TFT, and an N-channel type driving circuit TFT are formed by patterning. A gate electrode 262 to be formed is formed. Further, the drive control signal conducting portion 320 (350) and the first layer 121 of the cathode power supply wiring are also formed at the same time. In this case, the drive control signal conducting portion 320 (350) is disposed in the dummy region 5.

続いて、図9(d)に示すように、ゲート電極242、252および262をマスクとして用い、シリコン層241、251および261に対してリンイオンを約4×1013/cm2 のドーズ量でイオン注入する。その結果、ゲート電極242、252および262に対してセルフアライン的に低濃度不純物が導入され、図9(d)に示すように、シリコン層241および261中に低濃度ソース領域241bおよび261b、並びに低濃度ドレイン領域241cおよび261cが形成される。また、シリコン層251中に低濃度不純物領域251Sおよび251Dが形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 9D, phosphorus ions are implanted into the silicon layers 241, 251 and 261 at a dose of about 4 × 10 13 / cm 2 using the gate electrodes 242, 252 and 262 as a mask. . As a result, low-concentration impurities are introduced in a self-aligned manner with respect to the gate electrodes 242, 252 and 262, and as shown in FIG. 9D, the low-concentration source regions 241b and 261b in the silicon layers 241 and 261, and Low concentration drain regions 241c and 261c are formed. In addition, low concentration impurity regions 251S and 251D are formed in the silicon layer 251.

次に、図10(e)に示すように、Pチャネル型の駆動回路用TFT252以外の部分を覆うイオン注入選択マスク503を形成する。このイオン注入選択マスク503を用いて、シリコン層251に対してボロンイオンを約1.5×1015/cm2 のドーズ量でイオン注入する。結果として、Pチャネル型駆動回路用TFTを構成するゲート電極252もマスクとして機能するため、シリコン層252中にセルフアライン的に高濃度不純物がドープされる。したがって、低濃度不純物領域251Sおよび251Dはカウンタードープされ、P型チャネル型の駆動回路用TFTのソース領域およびドレイン領域となる。   Next, as shown in FIG. 10E, an ion implantation selection mask 503 that covers a portion other than the P-channel type driver circuit TFT 252 is formed. Using this ion implantation selection mask 503, boron ions are implanted into the silicon layer 251 at a dose of about 1.5 × 10 15 / cm 2. As a result, since the gate electrode 252 constituting the TFT for the P-channel type drive circuit also functions as a mask, the silicon layer 252 is doped with a high concentration impurity in a self-aligning manner. Therefore, the low-concentration impurity regions 251S and 251D are counter-doped and become source and drain regions of a P-type channel type driver circuit TFT.

次いで、図10(f)に示すように、基板20の全面にわたって第1層間絶縁層283を形成するとともに、フォトリソグラフィ法を用いて該第1層間絶縁層283をパターニングすることにより、各TFTのソース電極およびドレイン電極に対応する位置にコンタクトホールCを形成する。   Next, as shown in FIG. 10 (f), a first interlayer insulating layer 283 is formed over the entire surface of the substrate 20, and the first interlayer insulating layer 283 is patterned by using a photolithography method to thereby form each TFT. A contact hole C is formed at a position corresponding to the source electrode and the drain electrode.

次に、図10(g)に示すように、第1層間絶縁層283を覆うように、アルミニウム、クロム、タンタルなどの金属からなる導電層504を形成する。この導電層504の厚さは概ね200nmないし800nm程度である。この後、導電層504のうち、各TFTのソース電極およびドレイン電極が形成されるべき領域240a、駆動電圧導通部310(340)が形成されるべき領域310a、陰極電源配線の第2層が形成されるべき領域122aを覆うようにパターニング用マスク505を形成するとともに、該導電層504をパターニングして、図11(h)に示すソース電極243、253、263、ドレイン電極244、254、264を形成する。   Next, as shown in FIG. 10G, a conductive layer 504 made of a metal such as aluminum, chromium, or tantalum is formed so as to cover the first interlayer insulating layer 283. The thickness of the conductive layer 504 is approximately 200 nm to 800 nm. Thereafter, in the conductive layer 504, a region 240a where the source electrode and the drain electrode of each TFT are to be formed, a region 310a where the driving voltage conducting portion 310 (340) is to be formed, and a second layer of the cathode power supply wiring are formed. A patterning mask 505 is formed so as to cover the region 122a to be formed, and the conductive layer 504 is patterned so that the source electrodes 243, 253, 263, and the drain electrodes 244, 254, 264 shown in FIG. Form.

次いで、図11(i)に示すように、これらが形成された第1層間絶縁層283を覆う第2層間絶縁層284を、例えばアクリル系樹脂などの高分子材料によって形成する。この第2層間絶縁層284は、約1〜2μm程度の厚さに形成されることが望ましい。なお、SiN、SiO2 により第2層間絶縁膜を形成することも可能であり、SiNの膜厚としては200nm、SiO2 の膜厚としては800nmに形成することが望ましい。   Next, as shown in FIG. 11 (i), a second interlayer insulating layer 284 that covers the first interlayer insulating layer 283 on which these are formed is formed of a polymer material such as an acrylic resin. The second interlayer insulating layer 284 is preferably formed to a thickness of about 1 to 2 μm. It is also possible to form the second interlayer insulating film with SiN and SiO2, and it is desirable to form the SiN film with a thickness of 200 nm and the SiO2 film with a thickness of 800 nm.

次いで、図11(j)に示すように、第2層間絶縁層284のうち、駆動用TFTのドレイン電極244に対応する部分をエッチングにより除去してコンタクトホール23aを形成する。
その後、基板20の全面を覆うように画素電極23となる導電膜を形成する。そして、この透明導電膜をパターニングすることにより、図12(k)に示すように、第2層間絶縁層284のコンタクトホール23aを介してドレイン電極244と導通する画素電極23を形成すると同時に、ダミー領域のダミーパターン26も形成する、なお、図7では、これら画素電極23、ダミーパターン26を総称して画素電極23としている。
Next, as shown in FIG. 11J, a portion of the second interlayer insulating layer 284 corresponding to the drain electrode 244 of the driving TFT is removed by etching to form a contact hole 23a.
Thereafter, a conductive film to be the pixel electrode 23 is formed so as to cover the entire surface of the substrate 20. Then, by patterning this transparent conductive film, as shown in FIG. 12 (k), a pixel electrode 23 that is electrically connected to the drain electrode 244 through the contact hole 23a of the second interlayer insulating layer 284 is formed, and at the same time, a dummy An area dummy pattern 26 is also formed. In FIG. 7, the pixel electrode 23 and the dummy pattern 26 are collectively referred to as a pixel electrode 23.

ダミーパターン26は、第2層間絶縁層284を介して下層のメタル配線へ接続しない構成とされている。すなわち、ダミーパターン26は、島状に配置され、実表示領域に形成されている画素電極23の形状とほぼ同一の形状を有している。もちろん、表示領域に形成されている画素電極23の形状と異なる構造であってもよい。なお、この場合、ダミーパターン26は少なくとも前記駆動電圧導通部310(340)の上方に位置するものも含むものとする。   The dummy pattern 26 is configured not to be connected to the lower metal wiring via the second interlayer insulating layer 284. That is, the dummy pattern 26 is arranged in an island shape and has substantially the same shape as the shape of the pixel electrode 23 formed in the actual display region. Of course, the structure may be different from the shape of the pixel electrode 23 formed in the display region. In this case, the dummy pattern 26 includes at least the one located above the drive voltage conducting portion 310 (340).

次いで、図12(l)に示すように、画素電極23、ダミーパターン26上、および第2層間絶縁膜上に絶縁層である親液性制御層25を形成する。なお、画素電極23においては一部が開口する態様にて親液性制御層25を形成し、開口部25a(図7も参照)において画素電極23からの正孔移動が可能とされている。逆に、開口部25aを設けないダミーパターン26においては、絶縁層(親液性制御層)25が正孔移動遮蔽層となって正孔移動が生じないものとされている。   Next, as shown in FIG. 12L, a lyophilic control layer 25 that is an insulating layer is formed on the pixel electrode 23, the dummy pattern 26, and the second interlayer insulating film. In the pixel electrode 23, the lyophilic control layer 25 is formed in such a manner that a part of the pixel electrode 23 is opened, and holes can be moved from the pixel electrode 23 in the opening 25a (see also FIG. 7). On the contrary, in the dummy pattern 26 in which the opening 25a is not provided, the insulating layer (lyophilic control layer) 25 serves as a hole movement shielding layer and does not cause hole movement.

次いで、図12(m)に示すように、親液性制御層25の所定位置に有機バンク層221を形成する。具体的な有機バンク層の形成方法としては、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂などのレジストを溶媒に溶解したものを、スピンコート法、ディップコート法などの各種塗布法により塗布して有機質層を形成する。なお、有機質層の構成材料は、後述するインクの溶媒に溶解せず、しかもエッチングなどによってパターニングし易いものであればどのようなものでもよい。   Next, as shown in FIG. 12 (m), an organic bank layer 221 is formed at a predetermined position of the lyophilic control layer 25. As a specific method for forming the organic bank layer, for example, an organic layer is formed by applying a resist in which a resist such as an acrylic resin or a polyimide resin is dissolved in a solvent by various coating methods such as a spin coating method or a dip coating method. . The constituent material of the organic layer may be any material as long as it does not dissolve in the ink solvent described later and is easily patterned by etching or the like.

続いて、有機質層をフォトリソグラフィ技術、エッチング技術を用いてパターニングし、有機質層にバンク開口部221aを形成することにより、開口部221aに壁面を有した有機バンク層221を形成する。
次いで、有機バンク層221の表面に、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とを形成する。本実施形態においては、プラズマ処理によって各領域を形成する。具体的には、該プラズマ処理を、予備加熱工程と、有機バンク層221の上面および開口部221aの壁面ならびに画素電極23の電極面、親液性制御層25の上面をそれぞれ親液性にする親インク化工程と、有機バンク層の上面および開口部の壁面を撥液性にする撥インク化工程と、冷却工程とで構成する。
Subsequently, the organic layer is patterned using a photolithography technique and an etching technique, and a bank opening 221a is formed in the organic layer, thereby forming an organic bank layer 221 having a wall surface in the opening 221a.
Next, a region showing lyophilicity and a region showing liquid repellency are formed on the surface of the organic bank layer 221. In the present embodiment, each region is formed by plasma processing. Specifically, in the plasma treatment, the preheating step, the upper surface of the organic bank layer 221, the wall surface of the opening 221a, the electrode surface of the pixel electrode 23, and the upper surface of the lyophilic control layer 25 are made lyophilic. The ink-repelling step, the ink-repelling step for making the upper surface of the organic bank layer and the wall surface of the opening liquid-repellent, and the cooling step.

すなわち、基材(バンクなどを含む基板20)を所定温度、例えば70〜80℃程度に加熱し、次いで親インク化工程として大気雰囲気中で酸素を反応ガスとするプラズマ処理(O2 プラズマ処理)を行う。次いで、撥インク化工程として大気雰囲気中で4フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理(CF4 プラズマ処理)を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基材を室温まで冷却することで、親液性および撥液性が所定箇所に付与されることとなる。   That is, the base material (substrate 20 including a bank or the like) is heated to a predetermined temperature, for example, about 70 to 80 ° C., and then a plasma treatment (O 2 plasma treatment) using oxygen as a reactive gas in an atmospheric atmosphere as an ink-philic process. Do. Next, as an ink repellent process, a plasma process using CF4 as a reactive gas (CF4 plasma process) is performed in an air atmosphere, and then the substrate heated for the plasma process is cooled to room temperature. The lyophilic property and the liquid repellency are imparted to a predetermined location.

なお、このCF4 プラズマ処理においては、画素電極23の電極面および親液性制御層25についても多少の影響を受けるが、画素電極23の材料であるITOおよび親液性制御層25の構成材料であるSiO2 、TiO2 などはフッ素に対する親和性に乏しいため、親インク化工程で付与された水酸基がフッ素基で置換されることがなく、親液性が保たれる。   In this CF4 plasma treatment, the electrode surface of the pixel electrode 23 and the lyophilic control layer 25 are somewhat affected, but the ITO and the lyophilic control layer 25 constituting the pixel electrode 23 are constituent materials. Since some SiO2, TiO2, etc. have a poor affinity for fluorine, the hydroxyl group imparted in the ink-philic process is not replaced with a fluorine group, and the lyophilic property is maintained.

次いで、正孔輸送層形成工程によって正孔輸送層70の形成を行う。この正孔輸送層形成工程では、例えばインクジェット法等の液滴吐出法や、スピンコート法などにより、正孔輸送層材料を画素電極の上に塗布し、その後、乾燥処理および熱処理を行い、画素電極23上に正孔輸送層70を形成する。正孔輸送層材料を例えばインクジェット法で選択的に塗布する場合には、まず、インクジェットヘッド(図示略)に正孔輸送層材料を充填し、インクジェットヘッドの吐出ノズルを親液性制御層25に形成された前記開口部25a内に位置する画素電極23の電極面に対向させ、インクジェットヘッドと基材(基板20)とを相対移動させながら、吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御された液滴を電極面に吐出する。次に、吐出後の液滴を乾燥処理し、正孔輸送層材料に含まれる分散媒や溶媒を蒸発させることにより、正孔輸送層70を形成する。   Next, the hole transport layer 70 is formed by a hole transport layer forming step. In this hole transport layer forming step, the hole transport layer material is applied onto the pixel electrode by, for example, a droplet discharge method such as an ink jet method or a spin coat method, and then a drying process and a heat treatment are performed, thereby performing pixel processing. A hole transport layer 70 is formed on the electrode 23. When the hole transport layer material is selectively applied by, for example, the ink jet method, first, the hole transport layer material is filled in the ink jet head (not shown), and the discharge nozzle of the ink jet head is placed in the lyophilic control layer 25. The amount of liquid per droplet was controlled from the ejection nozzle while moving the inkjet head and the base material (substrate 20) relative to the electrode surface of the pixel electrode 23 located in the formed opening 25a. A droplet is discharged onto the electrode surface. Next, the discharged droplets are dried and the hole transport layer 70 is formed by evaporating the dispersion medium and the solvent contained in the hole transport layer material.

ここで、吐出ノズルから吐出された液滴は、親液性処理がなされた電極面上にて広がり、親液性制御層25の開口部25a内に満たされる。その一方で、撥インク処理された有機バンク層221の上面では、液滴がはじかれて付着しない。したがって、液滴が所定の吐出位置からはずれて有機バンク層221の上面に吐出されたとしても、該上面が液滴で濡れることがなく、弾かれた液滴が親液性制御層25の開口部25a内に転がり込む。
なお、この正孔輸送層形成工程以降は、正孔輸送層70および発光層60の酸化を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの不活性ガス雰囲気で行うのが好ましい。
Here, the droplet discharged from the discharge nozzle spreads on the electrode surface that has been subjected to the lyophilic treatment, and fills the opening 25 a of the lyophilic control layer 25. On the other hand, droplets are repelled and do not adhere to the upper surface of the organic bank layer 221 that has been subjected to ink repellent treatment. Therefore, even if the droplet is deviated from the predetermined discharge position and discharged onto the upper surface of the organic bank layer 221, the upper surface is not wetted by the droplet, and the repelled droplet is opened in the lyophilic control layer 25. Roll into part 25a.
In addition, after this hole transport layer formation process, in order to prevent the oxidation of the hole transport layer 70 and the light emitting layer 60, it is preferable to carry out in inert gas atmospheres, such as nitrogen atmosphere and argon atmosphere.

次いで、発光層形成工程によって発光層60の形成を行う。この発光層形成工程では、例えば前記のインクジェット法により、発光層形成材料を正孔輸送層70上に吐出し、その後、乾燥処理および熱処理を行うことにより、有機バンク層221に形成された開口部221a内に発光層60を形成する。この発光層形成工程では、正孔輸送層70の再溶解を防止するため、発光層形成材料に用いる溶媒として、正孔輸送層70に対して不溶な無極性溶媒を用いる。   Next, the light emitting layer 60 is formed by the light emitting layer forming step. In this light emitting layer forming step, the light emitting layer forming material is discharged onto the hole transport layer 70 by, for example, the above-described ink jet method, and then subjected to a drying process and a heat treatment, whereby openings formed in the organic bank layer 221 are formed. The light emitting layer 60 is formed in 221a. In this light emitting layer forming step, a nonpolar solvent that is insoluble in the hole transporting layer 70 is used as a solvent used for the light emitting layer forming material in order to prevent re-dissolution of the hole transporting layer 70.

なお、この発光層形成工程では、前記のインクジェット法によって例えば青色(B)の発光層形成材料を青色の表示領域に選択的に塗布し、乾燥処理した後、同様にして緑色(G)、赤色(R)についてもそれぞれその表示領域に選択的に塗布し、乾燥処理する。
また、必要に応じて、前述したようにこのような発光層60の上に電子注入層を形成してもよい。
次いで、図13(n)に示すように、陰極層形成工程によって陰極50の形成を行う。この陰極層形成工程では、例えば蒸着法等の物理的気相蒸着法によりITOを成膜し、陰極50とする。
In this light emitting layer forming step, for example, a blue (B) light emitting layer forming material is selectively applied to a blue display region by the above-described ink jet method, dried, and then similarly treated with green (G), red (R) is also selectively applied to the display area and dried.
If necessary, an electron injection layer may be formed on the light emitting layer 60 as described above.
Next, as shown in FIG. 13 (n), the cathode 50 is formed by the cathode layer forming step. In this cathode layer forming step, for example, ITO is formed into a film by a physical vapor deposition method such as a vapor deposition method.

その後、図13(n)に示すように陰極50を覆って、すなわち基体200上にて露出する陰極50の全ての部位を覆った状態に保護層30を形成し、さらに従来一般的になされている封止基板や封止缶による封止(図示せず)を行い、本発明の有機EL装置(電気光学装置)を得る。   Thereafter, as shown in FIG. 13 (n), the protective layer 30 is formed so as to cover the cathode 50, that is, to cover all portions of the cathode 50 exposed on the substrate 200. The organic EL device (electro-optical device) of the present invention is obtained by sealing with a sealing substrate or a sealing can (not shown).

このような有機EL装置1にあっては、サブピクセルS(R、G、B)の配置パターンPを図1に示したようにし、一画素(論理画素)Lを六つのサブピクセルSで構成するようにしたので、従来の画素に比べ同等のサブピクセル(TFT)密度により、実際に知覚される輝度、すなわち見掛け上の解像度を高くすることができる。したがって、高解像度化を達成して良好な表示を行うことができ、これにより高品質化や品質安定化、歩留まりの向上等を図ることができる。また、従来と同等の解像度に抑えた規格で形成した場合には、消費電力や製造コストを従来に比べ低くすることができる。   In such an organic EL device 1, the arrangement pattern P of the sub-pixels S (R, G, B) is as shown in FIG. 1, and one pixel (logic pixel) L is composed of six sub-pixels S. Thus, the actually perceived luminance, that is, the apparent resolution can be increased by the subpixel (TFT) density equivalent to that of the conventional pixel. Therefore, high resolution can be achieved and good display can be performed, thereby improving quality, stabilizing quality, improving yield, and the like. In addition, when it is formed with a standard with a resolution that is the same as the conventional one, the power consumption and the manufacturing cost can be reduced as compared with the conventional one.

また、特にサブピクセルS(R、G、B)の配置パターンPを図1に示したようにしたことにより、例えば有機バンク層221などについては従来のストライプ配置やモザイク配置を応用して形成することができ、したがって各色のサブピクセルを容易に形成することができる。   In particular, the arrangement pattern P of the sub-pixels S (R, G, B) is as shown in FIG. 1, so that, for example, the organic bank layer 221 is formed by applying a conventional stripe arrangement or mosaic arrangement. Thus, each color sub-pixel can be easily formed.

なお、前記実施形態では、サブピクセルS(R、G、B)の配置パターンPを図1に示したようにしたが、本発明はこれに限定されることなく、図14(a)に示す配置パターンP1や図14(b)に示す配置パターンP2としてもよい。図14(a)に示した配置パターンP1が図1に示した配置パターンPと異なるのところは、図1に示した配置パターンPでは中心パターンCが二つの青色のサブピクセルBからなっているのに対し、図14(a)に示した配置パターンP1では一つの大きな青色のサブピクセルB1、すなわち図1に示した中心パターンCを構成する二つの青色のサブピクセルBを一つにまとめた点である。   In the above embodiment, the arrangement pattern P of the sub-pixels S (R, G, B) is as shown in FIG. 1, but the present invention is not limited to this and is shown in FIG. 14 (a). The arrangement pattern P1 or the arrangement pattern P2 shown in FIG. The arrangement pattern P1 shown in FIG. 14A differs from the arrangement pattern P shown in FIG. 1 in that the central pattern C is composed of two blue subpixels B in the arrangement pattern P shown in FIG. On the other hand, in the arrangement pattern P1 shown in FIG. 14A, one large blue sub-pixel B1, that is, two blue sub-pixels B constituting the central pattern C shown in FIG. Is a point.

このようにすれば、前記配置パターンPの場合と同様に従来のストライプ配置やモザイク配置を応用して形成することができ、したがって各色のサブピクセルを容易に形成することができる。また、図1に示した場合に比べて二つの青色のサブピクセルBを一つにまとめているので、その分スイッチング素子等の駆動素子の数を減らすことができ、したがってコストダウンや小型化を図ることができる。   In this way, as in the case of the arrangement pattern P, the conventional stripe arrangement and mosaic arrangement can be applied, so that the subpixels of each color can be easily formed. Further, since the two blue sub-pixels B are combined into one as compared with the case shown in FIG. 1, the number of driving elements such as switching elements can be reduced correspondingly, thus reducing the cost and size. Can be planned.

また、図14(b)に示した配置パターンP2は、前記配置パターンPや配置パターンP1とは全く異なる形態としている。すなわち、この配置パターンP2では、中心パターンCとして一つの正方形状の青色のサブピクセルB2を形成し、これの両側に配置され、かつ点対称に配置される赤色のサブピクセルR1および緑色のサブピクセルG1として、五角形状のものを形成している。これら五角形状の赤色のサブピクセルR1と緑色のサブピクセルG1とは、それぞれ前記青色のサブピクセルB2に対し該青色のサブピクセルB2の辺側を境界線として配置されている。そして、これら青色のサブピクセルB2と赤色のサブピクセルR1と緑色のサブピクセルG1とからなる配置パターンP2は、全体が正方形状に形成されたものとなっている。   Further, the arrangement pattern P2 shown in FIG. 14B is completely different from the arrangement pattern P and the arrangement pattern P1. That is, in this arrangement pattern P2, one square blue sub-pixel B2 is formed as the center pattern C, and the red sub-pixel R1 and the green sub-pixel that are arranged on both sides of the central pattern C and are arranged symmetrically with respect to the point. As G1, a pentagonal one is formed. The pentagonal red sub-pixel R1 and the green sub-pixel G1 are arranged with respect to the blue sub-pixel B2 with the side of the blue sub-pixel B2 as a boundary line. The arrangement pattern P2 composed of the blue subpixel B2, the red subpixel R1, and the green subpixel G1 is formed in a square shape as a whole.

このような構成からなる配置パターンP2を有した発光層において、表示を行う際の単位となるピクセル、すなわち単位画素(論理画素)Lは、図14(b)に示したように、一つの青色のサブピクセルB2と、これに隣接する一つの緑色のサブピクセルG1と、このサブピクセルG1に隣接する四つの赤色のサブピクセルRとからなる。また、図2に示した場合と同様に、赤色のサブピクセルR1と緑色のサブピクセルG1を入れ替えることでも単位画素(論理画素)Lを形成することができる。   In the light emitting layer having the arrangement pattern P2 having such a configuration, a pixel serving as a unit for performing display, that is, a unit pixel (logical pixel) L is one blue as shown in FIG. Sub-pixel B2, one green sub-pixel G1 adjacent to the sub-pixel B2, and four red sub-pixels R adjacent to the sub-pixel G1. Similarly to the case shown in FIG. 2, the unit pixel (logical pixel) L can be formed by replacing the red sub-pixel R1 and the green sub-pixel G1.

そして、このように赤色のサブピクセルR1を四つ有する論理画素Lと、緑色のサブピクセルG1を四つ有する論理画素Lとにより、図1に示した配置パターンPの場合と同様に、従来の画素と同等のサブピクセル(TFT)密度により、実際に知覚される輝度、すなわち見掛け上の解像度を格段に高くすることができる。   As in the case of the arrangement pattern P shown in FIG. 1, the conventional logical pixel L having four red subpixels R1 and the logical pixel L having four green subpixels G1 are used. A subpixel (TFT) density equivalent to a pixel can significantly increase the perceived luminance, that is, the apparent resolution.

なお、前記有機EL装置1では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリクス型のものとしたが、特に図14(b)に示したようにサブピクセルS(R、G、B)が複雑な形状になった場合には、TFT回路形成や発光層形成のための製膜が煩雑になり、工程が増えてしまう可能性がある。そこで、その場合にアクティブ駆動に代えてパッシブ駆動を採用することにより、このデメリットを解決することができる。   The organic EL device 1 is an active matrix type using a thin film transistor (TFT) as a switching element. In particular, as shown in FIG. 14B, subpixels S (R, G, B) are provided. In the case of a complicated shape, the film formation for forming the TFT circuit and the light emitting layer becomes complicated and there is a possibility that the number of processes increases. Therefore, in this case, this disadvantage can be solved by adopting passive drive instead of active drive.

また、前記有機EL装置1ではトップエミッション型を例にして説明したが、本発明はこれに限定されることなく、バックエミッション型にも、また、両側に発光光を出射するタイプのものにも適用可能である。
また、バックエミッション型、あるいは両側に発光光を出射するタイプのものとした場合、基体200に形成するスイッチング用TFT112や駆動用TFT123については、発光素子の直下ではなく、親液性制御層25および有機バンク層221の直下に形成するようにし、開口率を高めるのが好ましい。
Further, the organic EL device 1 has been described by taking the top emission type as an example, but the present invention is not limited to this, and is also a back emission type or a type that emits emitted light on both sides. Applicable.
Further, in the case of a back emission type or a type that emits emitted light on both sides, the switching TFT 112 and the driving TFT 123 formed on the base 200 are not directly under the light emitting element, but the lyophilic control layer 25 and It is preferable to increase the aperture ratio by forming the organic bank layer 221 directly below.

次に、本発明の電子機器を説明する。本発明の電子機器は、前記の有機EL装置1を表示部として有したものであり、具体的には図15に示すものが挙げられる。
図15は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図15において符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は前記の有機EL装置を用いた表示部を示している。
この携帯電話(電子機器)は、前記有機EL装置1を有した表示部を備えているので、良好な表示をなすものとなる。
なお、本発明の電子機器としては、携帯電話に限ることなく、腕時計型電子機器やワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置などにも適用可能なのはもちろんである。
Next, the electronic apparatus of the present invention will be described. The electronic apparatus of the present invention has the organic EL device 1 as a display unit, and specifically, the one shown in FIG.
FIG. 15 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 15, reference numeral 1000 indicates a mobile phone body, and reference numeral 1001 indicates a display unit using the organic EL device.
Since the mobile phone (electronic device) includes the display unit having the organic EL device 1, the mobile phone (electronic device) can display well.
Of course, the electronic device of the present invention is not limited to a mobile phone, but can be applied to a wristwatch type electronic device, a portable information processing device such as a word processor, a personal computer, and the like.

1…有機EL装置、23…画素電極(電極)、50…陰極(電極)、60…発光層、
S…サブピクセル、R…赤色のサブピクセル、G…緑色のサブピクセル、
B…青色のサブピクセル、C…中心パターン、L…画素(論理画素)、O…中心点
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL device, 23 ... Pixel electrode (electrode), 50 ... Cathode (electrode), 60 ... Light emitting layer,
S ... subpixel, R ... red subpixel, G ... green subpixel,
B: Blue subpixel, C: Center pattern, L: Pixel (logical pixel), O ... Center point

Claims (5)

赤、緑を含むサブピクセルを有する有機EL装置において、
第1の方向に配列されている複数の前記サブピクセル及び前記第1の方向と交差する第2の方向に配列されている複数の前記サブピクセルによって論理画素を構成し、
前記第1の方向に配列されている複数の前記サブピクセルと前記第2の方向に配列されている複数の前記サブピクセルとが交差する位置を前記論理画素の中心とし、
第1の論理画素における前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルのうち、数の少ない第1色のサブピクセルが前記第1の論理画素の中心に配置されており、
前記第1の論理画素に配置されている前記第1色のサブピクセルは、第2の論理画素に共有されるように配置され、
前記第2の論理画素の中心には、前記第1の論理画素における前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルのうち、数の多い第2色のサブピクセルが配置されていることを特徴とする有機EL装置。
In an organic EL device having subpixels including red and green,
A plurality of the sub-pixels arranged in a first direction and a plurality of the sub-pixels arranged in a second direction intersecting the first direction constitute a logical pixel,
The position where the plurality of subpixels arranged in the first direction and the plurality of subpixels arranged in the second direction intersect is set as the center of the logical pixel,
Of the red subpixel and the green subpixel in the first logical pixel, a small number of first color subpixels are arranged at the center of the first logical pixel,
The subpixels of the first color arranged in the first logic pixel are arranged to be shared by a second logic pixel;
In the center of the second logical pixel, a large number of second-color subpixels among the red subpixel and the green subpixel in the first logical pixel are arranged. Organic EL device.
さらに青のサブピクセルを有し、
前記各論理画素における前記青のサブピクセルの数は、当該各論理画素の中心に配置されている前記サブピクセルの数と同じであることを特徴とする請求項1記載の有機EL装置。
It also has a blue subpixel,
2. The organic EL device according to claim 1, wherein the number of the blue sub-pixels in each logical pixel is the same as the number of the sub-pixels arranged at the center of each logical pixel.
前記サブピクセルの配置パターンが、前記青のサブピクセルの一つあるいは複数を中心パターンとし、前記中心パターンの中心点を中心として点対称になるように、前記中心パターンの両側にそれぞれ前記赤のサブピクセルと前記緑のサブピクセルとを配置してなることを特徴とする請求項2記載の有機EL装置。   The red sub-pixels are arranged on both sides of the central pattern so that the arrangement pattern of the sub-pixels is symmetric with respect to the central point of one or more of the blue sub-pixels. The organic EL device according to claim 2, wherein a pixel and the green sub-pixel are arranged. 前記サブピクセルが矩形状に形成されてなり、前記中心パターンが、二つの前記青のサブピクセルによって形成されてなることを特徴とする請求項3記載の有機EL装置。   4. The organic EL device according to claim 3, wherein the sub-pixel is formed in a rectangular shape, and the central pattern is formed by the two blue sub-pixels. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の有機EL装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1.
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