JP2009212409A - 工程制御システム、工程実施装置の管理方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】工程実行システム21aは、制御装置31aと、ストッカー32aと、加工装置33aと、を含む。制御装置31aは、製品を製造するための複数の工程に関わる情報を含む第1群の情報をホストコンピュータ11から取得し、加工装置33aで実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、第1群の情報及び第2群の情報に基づいて加工装置33aを制御する。
【選択図】図1
Description
特許文献1においては、1つの半導体製造装置を1つのコンピュータで管理する半導体製造システムが開示されている。
特許文献2においては、複数の半導体装置製造装置を1つのホストコンピュータ及び複数の情報収集用パソコンで管理する生産管理システムが開示されている。
そこで、上記の点に鑑み、本発明は、各工程において独自に発生する情報をホストコンピュータで管理する場合に比べて管理が容易になる工程制御システム、工程実施装置の管理方法、半導体装置の製造方法及びプログラムを提供することを目的とする。
前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を制御する、工程制御システムに関する。
前記第1及び第2の識別情報取得装置から識別情報を受け取り、
前記第1群の情報、前記第2群の情報、前記第1の識別情報取得装置から受け取った識別情報、及び、前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報に基づいて前記工程実施装置を制御するようにしても良い。
前記第1の識別情報取得装置から受け取った識別情報と前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報とが一致しない場合に、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程が前記工程実施対象物に実施されないように前記工程実施装置を制御するようにしても良い。
前記半導体ウェハー及び/又はその容器が前記工程実施装置からアンロードされたときに、前記第2の識別情報取得装置から識別情報を受け取り、前記工程実施装置から装置内アラーム情報及び/又は処理実績情報を受け取り、前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報と、前記工程実施装置から受け取った装置内アラーム情報及び/又は処理実績情報と、に基づいて、前記半導体ウェハーに実施された工程が正常に終了したか否かを判定するようにしても良い。
前記制御装置が、前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記制御装置が、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記制御装置が、前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を管理することを特徴とする工程実施装置の管理方法に関係する。
前記制御装置が、前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記制御装置が、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記制御装置が、前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を管理することを特徴とする半導体装置の製造方法に関係する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る工程制御システムを用いた半導体装置製造システムを示す図である。図1に示すように、この半導体装置製造システム10は、ホストコンピュータ11と、大気圧センサ12と、製品を製造するための複数の工程(例えば、フォトエッチング工程、ファーネス、ヒート工程、イオンインプラント工程等)をそれぞれ実施する複数の工程実施システム21a、21b、・・・、22a、22b、・・・、23a、23b、・・・と、を含んでいる。
(2)第2の情報とは、複数の熱処理装置133a、133b・・・のうちの一部の熱処理装置のみに与える情報をいう。
(3)第3の情報とは、複数のイオン注入装置233a、233b・・・のうちの一部のイオン注入装置のみに与える情報をいう。
(4)第4の情報とは、加工装置33a、33bが複数種類の加工工程を実施できる場合にその複数種類の加工工程のうちの一部の加工工程のみに与える情報をいう。
(5)第5の情報とは、熱処理装置133a、133bが複数種類の熱処理工程を実施できる場合にその複数種類の熱処理工程のうちの一部の熱処理工程のみに与える情報をいう。
(6)第6の情報とは、イオン注入装置233a、233bが複数種類のイオン注入工程を実施できる場合にその複数種類のイオン注入工程のうちの一部のイオン注入工程のみに与える情報をいう。
(7)第7の情報とは、複数の加工装置33a、33b・・・からなる製造装置群、複数の熱処理装置133a、133b・・・からなる製造装置群、複数のイオン注入装置233a、233b・・・からなる製造装置群・・・のうちの一部の製造装置群のみに与える情報をいう。
第2群の情報の第7の情報の具体例としては、前記第1乃至第6の情報の具体例に加えて大気圧情報を含む。
図2は、制御装置31a、131a、231a・・・の動作を示すフローチャートである。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図3は、本発明の第2の実施形態に係る工程制御システムを用いた半導体装置製造システムを示す図である。図3に示すように、この半導体装置製造システム40は、ホストコンピュータ11と、大気圧センサ12と、製品を製造するための複数の工程(例えば、フォトエッチング工程、ファーネス、ヒート工程、イオンインプラント工程等)をそれぞれ実施する複数の工程実施システム41a、41b、・・・、42a、42b、・・・と、を含んでいる。
図4は、加工開始時(加工装置53aへの容器のロード時)における制御装置51a及び制御装置54aの動作を示すフローチャートである。
図6は、比較例に係る工程制御システムを用いた半導体装置製造システムを示す図である。図6に示すように、この半導体装置製造システム60は、ホストコンピュータ11と、大気圧センサ12と、製品を製造するための複数の工程をそれぞれ実施する複数の工程実施システム61a、61b、・・・、62a、62b、・・・と、を含んでいる。
図7は、制御装置71aの動作を示すフローチャートである。
Claims (25)
- 半導体ウェハーに半導体装置を製造するための複数の工程に関わる情報を含む第1群の情報を管理するホストコンピュータと、前記複数の工程の内の少なくとも1つの工程を実施する工程実施装置と、に接続され、前記工程実施装置を制御する工程制御システムであって、
前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を制御する、工程制御システム。 - 請求項1において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置の内の一部の工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする工程制御システム。 - 請求項1又は2において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数の工程を実施するものであり、その複数の工程の内の一部の工程のみに与える情報であることを特徴とする工程制御システム。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置が第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置と第2の種類の工程を実施する複数の工程実施装置とを有し、前記第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置のすべてにのみ与える情報であることを特徴とする工程制御システム。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置がN台以上あり、そのN台以上の工程実施装置がN種類の工程を実施する工程実施装置を有し、前記N種類の工程を実施する工程実施装置の内の一部の種類の工程を実施する工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする工程制御システム。
但し、Nは自然数である。 - 請求項1又は2において、
前記第2群の情報が、加工材料の在庫情報、加工材料の有効期限情報、前記工程実施装置のメンテナンス時期情報、及び、前記工程実施装置のメンテナンス停止期間情報の内の少なくとも1つの情報を含む、工程制御システム。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記第2群の情報が、品質確認情報、現場指示、及び、工程実施装置の状態の変化による処理制限情報の少なくとも1つの情報を含む、工程制御システム。 - 請求項4又は5において、
前記第2群の情報が、大気圧情報、品質確認情報、現場指示、及び、工程実施装置の状態の変化による処理制限情報の少なくとも1つの情報を含む、工程制御システム。 - 請求項1乃至8のいずれか一項において、
前記第1群の情報が、レシピ情報、加工条件情報、及び、納期情報を有するロット履歴情報の少なくとも1つの情報を含むことを特徴とする工程制御システム。 - 請求項1乃至9のいずれか一項において、
前記第2群の情報を、前記工程実施装置、作業者からの入力、及び/又は、大気圧センサから取得する、工程制御システム。 - 請求項1乃至10のいずれか一項において、
前記第1群の情報と前記第2群の情報とが相反する場合に、前記第2群の情報を前記第1群の情報よりも優先させて前記工程実施装置を制御する、工程制御システム。 - 請求項1乃至11のいずれか一項において、
前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程が実施される半導体ウェハー及び/又はその容器が前記工程実施装置にロードされる前において前記半導体ウェハー及び/又はその容器に付された識別情報を取得する第1の識別情報取得装置と、前記半導体ウェハー及び/又はその容器が前記工程実施装置にロードされるときに前記半導体ウェハー及び/又はその容器に付された識別情報を取得する第2の識別情報取得装置と、に更に接続されており、
前記第1及び第2の識別情報取得装置から識別情報を受け取り、
前記第1群の情報、前記第2群の情報、前記第1の識別情報取得装置から受け取った識別情報、及び、前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報に基づいて前記工程実施装置を制御する、工程制御システム。 - 請求項12において、
前記第1の識別情報取得装置から受け取った識別情報と前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報とが一致する場合に、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程が前記工程実施対象物に実施されるように前記工程実施装置を制御し、
前記第1の識別情報取得装置から受け取った識別情報と前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報とが一致しない場合に、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程が前記工程実施対象物に実施されないように前記工程実施装置を制御する、工程制御システム。 - 請求項12又は13において、
前記第2の識別情報取得装置が、前記半導体ウェハー及び/又はその容器が前記工程実施装置からアンロードされるときにも前記半導体ウェハー及び/又はその容器に付された識別情報を取得し、
前記半導体ウェハー及び/又はその容器が前記工程実施装置からアンロードされたときに、前記第2の識別情報取得装置から識別情報を受け取り、前記工程実施装置から装置内アラーム情報及び/又は処理実績情報を受け取り、前記第2の識別情報取得装置から受け取った識別情報と、前記工程実施装置から受け取った装置内アラーム情報及び/又は処理実績情報と、に基づいて、前記半導体ウェハーに実施された工程が正常に終了したか否かを判定する、工程制御システム。 - 半導体ウェハーに半導体装置を製造するための複数の工程に関わる情報を含む第1群の情報をホストコンピュータで管理し、前記複数の工程の内の少なくとも1つの工程を実施する工程実施装置を前記ホストコンピュータに接続された制御装置で管理する工程実施装置の管理方法であって、
前記制御装置が、前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記制御装置が、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記制御装置が、前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を管理することを特徴とする工程実施装置の管理方法。 - 請求項15において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置の内の一部の工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする工程実施装置の管理方法。 - 請求項15又は16において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数の工程を実施するものであり、その複数の工程の内の一部の工程のみに与える情報であることを特徴とする工程実施装置の管理方法。 - 請求項15乃至17のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置が第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置と第2の種類の工程を実施する複数の工程実施装置とを有し、前記第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置のすべてにのみ与える情報であることを特徴とする工程実施装置の管理方法。 - 請求項15乃至17のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置がN台以上あり、そのN台以上の工程実施装置がN種類の工程を実施する工程実施装置を有し、前記N種類の工程を実施する工程実施装置の内の一部の種類の工程を実施する工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする工程実施装置の管理方法。
但し、Nは自然数である。 - 半導体ウェハーに半導体装置を製造するための複数の工程に関わる情報を含む第1群の情報をホストコンピュータで管理し、前記複数の工程の内の少なくとも1つの工程を実施する工程実施装置を前記ホストコンピュータに接続された制御装置で管理しながら前記半導体装置を製造する製造方法であって、
前記制御装置が、前記第1群の情報の内の前記少なくとも1つの工程に関わる情報を前記ホストコンピュータから取得し、
前記制御装置が、前記工程実施装置で実施される工程の内の少なくとも1つの工程において独自に発生する情報を含む第2群の情報を取得し、
前記制御装置が、前記第1群の情報及び前記第2群の情報に基づいて前記工程実施装置を管理することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置の内の一部の工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20又は21において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数の工程を実施するものであり、その複数の工程の内の一部の工程のみに与える情報であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20乃至22のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置が複数あり、その複数の工程実施装置が第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置と第2の種類の工程を実施する複数の工程実施装置とを有し、前記第1の種類の工程を実施する複数の工程実施装置のすべてにのみ与える情報であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20乃至22のいずれか一項において、
前記第2群の情報は、前記工程実施装置がN台以上あり、そのN台以上の工程実施装置がN種類の工程を実施する工程実施装置を有し、前記N種類の工程を実施する工程実施装置の内の一部の種類の工程を実施する工程実施装置のみに与える情報であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
但し、Nは自然数である。 - コンピュータを、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の工程制御システムとして機能させるためのプログラム。
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