JP2009207570A - 検出信号処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】発熱量を抑制しつつ、高速出力動作や低ノイズ動作を可能とする。
【解決手段】放射線検出パネル14の個々の画素部30から出力された信号電荷は積分回路部102で積分され、増幅部108で増幅され、S/H部112及びMUX116で並列直列変換され、増幅器118で増幅され、A/D変換部120でデジタルデータへ変換される。積分回路部102、増幅部108、S/H部112、MUX116、増幅器118にはバイアス電流を供給するバイアス電流供給部122〜130が接続され、バイアス電流制御部132は、動作モードが高速モードであればMUX116以降の各回路に供給するバイアス電流を増加させる一方、S/H部112以前の各回路に供給するバイアス電流を減少させ、動作モードが低ノイズモードであればS/H部112以前の各回路に供給するバイアス電流を増加させる一方、MUX116以降の各回路に供給するバイアス電流を減少させる。
【選択図】図3

Description

本発明は検出信号処理装置に係り、特に、並列に入力される複数の検出信号に対して並列直列変換処理を含む信号処理を行う検出信号処理装置に関する。
医療診断を目的とした放射線撮影において、被写体を透過した放射線を、放射線に感度を有する光電変換層を備えた放射線検出器に照射し、放射線検出器への照射放射線量に応じて放射線検出器に蓄積された電荷を、読み出しの単位領域毎に電流として順次読み出し、読み出した電流をデジタルデータへ変換することで、デジタルの放射線画像を得るシステムが知られている。なお、放射線検出器として、マトリクス状に配置された多数個のTFT(Thin Film Transistor)及び信号配線がガラス基板上に形成されて成るTFTアクティブマトリクス基板上に光電変換層を形成した構成の放射線検出パネルも知られている。
また、放射線検出器に接続される信号処理部は、放射線検出器から電流として出力された信号電荷を一定期間積分する積分回路、該積分回路から出力された信号を増幅する第1増幅回路、該第1増幅回路から出力された信号をパラレル−シリアル変換するパラレル−シリアル変換部、該パラレル−シリアル変換部から出力された信号を増幅する第2増幅回路、該第2増幅回路から出力された信号をデジタルデータへ変換するA/D変換器が順に接続されて構成されている。
ところで、放射線検出パネルと同様に画像情報が電荷として蓄積されるMOS型固体撮像素子からの電荷の読み出しに関し、特許文献1には、出力アンプ又はAGC回路とA/D変換器で構成され、MOS型固体撮像素子のセンサ部から出力されCDS/信号保持回路におけるオフセット補正及びパラレル−シリアル変換を経た信号が入力される出力部に供給するバイアス電流の大きさを、駆動モード信号に応じて、駆動信号の周波数と共に変化させることで、消費電力の低減及びランダムノイズの低減を実現する技術が開示されている。
特開2002−209149号公報
前述のように、特許文献1の記載の技術では、パラレル−シリアル変換を経た信号が入力される出力部に供給するバイアス電流の大きさを、駆動モード信号に応じて、駆動信号の周波数と連動させて変化させているが、放射線検出器等に接続される信号処理部は、より多くの回路から成り、各回路を動作させるために各回路にバイアス電流を供給する構成であるので、放射線検出器等に接続される信号処理部に特許文献1の記載の技術を適用する場合、パラレル−シリアル変換を経た信号を処理する回路群のみならず、当該回路群より上流側に配置された回路群に対しても、ノイズの低減等を期待して同様にバイアス電流の切替えを行うことが考えられる。
しかしこの構成では、高速動作が要求されるときには信号処理部の全回路に比較的大きなバイアス電流を供給することになるが、放射線検出器に接続される信号処理部は、放射線検出器と同一の筐体内に収容されていることが多い一方、放射線検出器には耐熱性が低い物があるため、信号処理部の全回路に比較的大きなバイアス電流を供給すると、信号処理部の各回路における発熱量が各々増大することで筐体内が高温となるので、放射線検出器に損傷を与える恐れが生ずる。また、温度上昇に伴うオフセット等の特性変動が発生する可能性がある。特に、医療分野におけるX線検出器に対しては高信頼性、高安定性が要求される。
また上記構成では、低速動作が許容されるときには信号処理部の全回路に比較的小さなバイアス電流を供給することになるが、この場合、信号処理部の各回路における発熱量が低下することで熱雑音は低減するものの、それ以上に、増幅回路のゲインが低下することにより信号伝送路の途中で重畳するノイズ成分の影響が大きくなり、結局はS/N比が低下するという問題が生ずる。放射線検出器の信号処理部で低速動作が許容されるのは高精細な画像を出力する場合であり、高精細な画像を出力する場合に検出信号のS/N比が低下するのは望ましくない。
本発明は上記事実を考慮して成されたもので、発熱量を抑制しつつ、高速出力で動作させたり、低ノイズで動作させることが可能な検出信号処理装置を得ることが目的である。
上記目的を達成するために請求項1記載の発明に係る検出信号処理装置は、並列に入力される複数の検出信号に対して第1の信号処理を並列に行い、前記第1の信号処理を経た複数の検出信号に対して並列直列変換処理を行うことで直列の検出信号へ変換し、変換後の直列の検出信号に対して第2の信号処理を順次行う信号処理部と、前記信号処理部を構成する各回路にバイアス電流を供給するバイアス電流供給手段と、前記バイアス電流供給手段によって前記信号処理部を構成する各回路に供給されるバイアス電流の大きさを、前記各回路のうち前記第1の信号処理を行う第1の回路群へ供給される第1バイアス電流、及び、前記各回路のうち前記並列直列変換処理及び前記第2の信号処理を順に行う第2の回路群へ供給される第2バイアス電流を単位として切替えるバイアス電流制御手段と、を有している。
請求項1記載の発明に係る検出信号処理装置は、並列に入力される複数の検出信号に対して第1の信号処理を並列に行い、第1の信号処理を経た複数の検出信号に対して並列直列変換処理を行うことで直列の検出信号へ変換し、変換後の直列の検出信号に対して第2の信号処理を順次行う信号処理部を備えており、バイアス電流供給手段は、信号処理部を構成する各回路にバイアス電流を供給する。
ここで、一般に並列直列変換処理は、並列に入力された複数の信号を一旦保持した後に、保持した信号を順に出力することによって成される。このため、上記のように信号処理の途中で並列直列変換処理が行われる場合、並列直列変換処理及びその後段の処理を行う回路群の動作速度は検出信号(検出データ)の出力速度に直接影響を及ぼす一方、並列直列変換処理の前段の処理を行う回路群の動作速度は検出信号(検出データ)の出力速度に殆ど影響しない。また一般に、信号に加わるノイズ成分が出力信号のS/N比に及ぼす悪影響の度合いは、ノイズ成分が信号に加わった位置が信号伝送路(回路群)の上流側となるに従って大きくなる。
上記のように、検出信号(検出)の出力速度に直接影響を及ぼす回路群と、出力する検出信号(検出データ)のS/N比に悪影響を及ぼす度合いが大きい回路群が相違していることに基づき、請求項1記載の発明では、バイアス電流供給手段によって信号処理部を構成する各回路に供給されるバイアス電流の大きさを、各回路のうち第1の信号処理を行う第1の回路群へ供給される第1バイアス電流、及び、各回路のうち並列直列変換処理及び第2の信号処理を順に行う第2の回路群へ供給される第2バイアス電流を単位として切替えるバイアス電流制御手段を設けている。
これにより、検出信号(検出データ)の高速出力が要求される場合には、第2バイアス電流のみを増大させ、第2の回路群のみを高速で動作させることで、発熱量を抑制しつつ検出信号(検出データ)を高速に出力させることが可能となり、低ノイズ化が要求される場合には、第1バイアス電流のみを増大させ、第1の回路群のみを低ノイズで動作させることで、発熱量を抑制しつつ低ノイズで動作させることが可能となる。従って、請求項1記載の発明によれば、発熱量を抑制しつつ、高速出力で動作させたり、低ノイズで動作させることが可能となる。
なお、請求項1記載の発明において、バイアス電流制御手段は、例えば請求項2に記載したように、第1バイアス電流を増加させる場合は第2バイアス電流を減少させ、第2バイアス電流を増加させる場合は第1バイアス電流を減少させるように構成することが好ましい。これにより、第1バイアス電流及び第2バイアス電流の何れを増加させる場合にも、他方のバイアス電流が減少されることで、信号処理部全体としての発熱量の増加を抑制することができ、信号処理部の近傍に耐熱性の低い部材が存在している場合にも、当該部材に損傷を与えることを未然に防止することができる。
また、請求項2記載の発明において、第2の回路群が、直列の検出信号に対する出力速度の設定値に応じた速度で並列直列変換処理及び第2の信号処理を行う構成である場合、バイアス電流制御手段は、例えば請求項3に記載したように、出力速度の設定値が増加するに従って、第2バイアス電流を増加させる一方、第1バイアス電流を減少させ、出力速度の設定値が減少するに従って、第1バイアス電流を増加させる一方、第2バイアス電流を減少させるように構成することが好ましい。これにより、直列の検出信号に対する出力速度の設定値が高くなるに従って第2の回路群を高速出力により適した動作状態で動作させ、直列の検出信号に対する出力速度の設定値が低くなるに従って第1の回路群をより低ノイズ化に有利な動作状態で動作させることを、信号処理部全体としての発熱量を抑制しつつ実現することができる。
また、請求項2記載の発明において、選択可能な動作モードとして、少なくとも標準モード、高速モード及び低ノイズモードが各々設けられている場合、バイアス電流制御手段は、例えば請求項4に記載したように、動作モードとして高速モードが選択されている場合には、標準モードが選択されている場合よりも第2バイアス電流を増加させる一方、第1バイアス電流を減少させ、動作モードとして低ノイズモードが選択されている場合には、標準モードが選択されている場合よりも第1バイアス電流を増加させる一方、第2バイアス電流を減少させるように構成することが好ましい。これにより、高速モードが選択されている場合は標準モードよりも第2の回路群を高速出力に適した動作状態で動作させ、低ノイズモードが選択されている場合は標準モードよりも第1の回路群を低ノイズ化に有利な動作状態で動作させることを、信号処理部全体としての発熱量を抑制しつつ実現することができる。なお、請求項4記載の発明において、選択可能な動作モードは3種類設けられていることに限られるものではなく、より多数の動作モードが設けられていてもよい。
また、請求項1記載の発明において、第1の回路群は、例えば請求項5に記載したように、並列に入力された複数の検出信号を一定期間に亘って各々積分する複数の積分回路と、並列に入力された複数の検出信号のレベルを各々保持する複数の保持回路を備えた構成とすることができる。また、請求項5記載の発明において、第1の回路群は、例えば請求項6に記載したように、並列に出力された複数の検出信号を各々増幅する複数の第1増幅回路を更に備えた構成であってもよい。
また、請求項1記載の発明において、第2の回路群は、例えば請求項7に記載したように、並列に入力された複数の検出信号のレベルを各々保持する複数の保持回路に保持されたレベルを検出信号として順に出力する選択回路と、選択回路から順に出力された検出信号を増幅する第2増幅回路を備えた構成とすることができる。
また、請求項1〜請求項4の何れかに記載の発明において、例えば請求項8に記載したように、信号処理部には、照射された放射線又は電磁波を電荷へ変換する変換部と、変換部で変換された電荷を信号電荷として保持する電荷保持部を各々備えた複数の画素部と、を有する画像検出部のうち、複数の画素部の電荷保持部から各々読み出された複数の信号電荷が前記複数の検出信号として並列に入力される構成であってもよい。
また、請求項8記載の発明において、例えば請求項9に記載したように、少なくとも信号処理部が、画像検出部と同一の筐体内に収容された構成であってもよい。また、請求項9記載の発明において、バイアス電流供給手段及びバイアス電流制御手段も同一筐体内に収容されていてもよい。
以上説明したように本発明は、並列に入力される複数の検出信号に対して第1の信号処理を並列に行い、第1の信号処理を経た複数の検出信号に対して並列直列変換処理を行うことで直列の検出信号へ変換し、変換後の直列の検出信号に対して第2の信号処理を順次行う信号処理部の各回路に供給されるバイアス電流の大きさを、第1の信号処理を行う第1の回路群へ供給される第1バイアス電流、及び、並列直列変換処理及び第2の信号処理を順に行う第2の回路群へ供給される第2バイアス電流を単位として切替えるようにしたので、発熱量を抑制しつつ、高速出力で動作させたり、低ノイズで動作させることが可能となる、という優れた効果を有する。
以下、図面を参照して本発明の実施形態の一例を詳細に説明する。図1には本実施形態に係る放射線画像撮影システム10が示されている。放射線画像撮影システム10は、放射線(例えばエックス線(X線)等)を発生する放射線発生部12と、放射線発生部12と間隔を隔てて配置された放射線検出パネル14と、マイクロコンピュータや各種の電気回路を含んで構成され放射線検出パネル14から画像情報を取得して各種の処理を行う制御装置16を備えている。放射線発生部12と放射線検出パネル14の間は、撮影時に被写体18が位置する撮影位置とされ、放射線発生部12から射出され撮影位置に位置している被写体18を透過することで画像情報を担持した放射線は放射線検出パネル14に照射される。なお、放射線画像撮影システム10のうち制御装置16は本発明に係る検出信号処理装置に対応しており、放射線検出パネル14は請求項8に記載の画像検出部に対応している。
図2に示すように、放射線検出パネル14は、図示しない高圧電源に接続されたバイアス電極20、放射線を吸収して電荷に変化する光電変換層22及びTFTアクティブマトリクス基板24が順に積層されて構成されている。光電変換層22は例えばセレンを主成分(例えば含有率50%以上)とする非晶質のa−Se(アモルファスセレン)から成り、放射線が照射されると、照射された放射線量に応じた電荷量の電荷(電子−正孔の対)を内部で発生することで、照射された放射線を電荷へ変換する。これにより、照射された放射線が担持している画像情報が電荷情報へ変換されることになる。なお、光電変換層22は請求項8に記載の変換部に対応している。
また図3に示すように、TFTアクティブマトリクス基板24上には、光電変換層22で発生された電荷を蓄積する蓄積容量26と、蓄積容量26に蓄積された電荷を読み出すためのTFT28を備えた画素部30(なお、図3では個々の画素部30に対応するバイアス電極20及び光電変換層22を光電変換部32として模式的に示している)がマトリクス状に多数個配置されており、更に、図3の矢印A方向に沿って延設され個々の画素部30のTFT28をオンオフさせるための複数本のゲート配線34と、図3の矢印A方向と直交する矢印B方向に沿って延設されオンされたTFT28を介して蓄積容量26から蓄積電荷を読み出すための複数本のデータ配線36も設けられている。
なお、ゲート配線34は、TFTアクティブマトリクス基板24上にマトリクス状に配置されている多数個の画素部30を図3の矢印A方向に沿って並ぶ複数個の画素部30から成る画素部の行毎に分けたときの画素部の行と同数だけ設けられており、個々のゲート配線34は互いに異なる画素部の行(を構成する個々の画素部30)に各々接続されている。また、データ配線36は、TFTアクティブマトリクス基板24上にマトリクス状に配置されている多数個の画素部30を、図3の矢印B方向に沿って並ぶ複数個の画素部30から成る画素部列毎に分けたときの画素部列の数と同数だけ各々設けられており(例として図5も参照)、複数本のデータ配線36は互いに異なる画素部列(を構成する個々の画素部30)に各々接続されている。
なお、TFTアクティブマトリクス基板24上に設けられた多数個の画素部30のうち、同一のゲート配線34に接続された複数の画素部30(画素部の単一の行を構成する各画素部30)は請求項8に記載の複数の画素部に対応しており、蓄積容量26は請求項8に記載の電荷保持部に対応している。
図3に示すように、TFTアクティブマトリクス基板24の個々の画素部30は、支持基板としてのガラス基板50上に各々形成されている。なお、ガラス基板50としては、例えば無アルカリガラス基板(例えばコーニング社製#1737等)を用いることができる。個々の画素部30には、ガラス基板50上に、ゲート電極52、蓄積容量下部電極54、ゲート絶縁膜56、半導体層58、ソース電極60、ドレイン電極62、蓄積容量上部電極64、絶縁保護膜66、絶縁保護膜68及び電荷収集電極70が各々形成されており、このうちゲート電極52、ゲート絶縁膜56、ソース電極60、ドレイン電極62及び半導体層58は前述のTFT28を構成し、蓄積容量下部電極54、ゲート絶縁膜56及び蓄積容量上部電極64は前述の蓄積容量26を構成している。図示は省略するが、TFT28のゲート電極52が形成された金属層にはゲート配線34も形成されており、TFT28のゲート電極52はゲート配線34に、TFT28のソース電極60はデータ配線36に、TFT28のドレイン電極62は蓄積容量上部電極64に各々接続されている。
ゲート絶縁膜56はSiNやSiO等から成り、ゲート電極52やゲート配線34、蓄積容量下部電極54、蓄積容量配線56を覆うように設けられており、ゲート電極52を覆う部位においてはTFT28におけるゲート絶縁膜として作用し、蓄積容量下部電極54を覆う部位においては蓄積容量26における誘電体層として作用する。従って、蓄積容量下部電極54と蓄積容量上部電極64に挟まれた領域が蓄積容量26として機能する。また半導体層58はTFT28のチャネル部として機能し、ソース電極60とドレイン電極62との間は半導体層58を介して導通される。また、絶縁保護膜66はガラス基板50上の単一の画素部30に相当する領域のほぼ全面(ほぼ全領域)に亘って形成されており、ドレイン電極62及びソース電極60の保護と電気的な絶縁分離を実現している。また、絶縁保護膜66のうち蓄積容量下部電極54と対向している部分にはコンタクトホール72が形成されている。
また、電荷収集電極70は非晶質透明導電酸化膜から成り、コンタクトホール72を埋めるように形成されており、ソース電極60、ドレイン電極62及び蓄積容量上部電極64の上方に形成されている。電荷収集電極70と光電変換層22とは電気的に導通しており、光電変換層22で発生した電荷は電荷収集電極70で収集される。絶縁保護膜68は感光性を有するアクリル樹脂から成り、TFT28とそれ以外の部分との電気的な絶縁分離を実現している。絶縁保護膜68にはコンタクトホール72が貫通しており、電荷収集電極70はコンタクトホール72を介して蓄積容量上部電極64と接続されている。
一方、放射線画像撮影システム10の制御装置は、放射線発生部12に接続され放射線発生部12による放射線の発生を制御する放射線発生制御部88と、ゲート配線34を駆動するゲート線駆動部90と、放射線検出パネル14の個々のデータ配線36に各々接続され放射線検出パネル14の各画素部30の蓄積容量26からデータ配線36を経由して出力された信号電荷(検出信号)に対して積分や増幅、A/D変換等の所定の信号処理を行う信号検出部92と、ゲート線駆動部90及び信号検出部92に接続されると共に放射線検出パネル14からの電荷読出時にゲート線駆動部90及び信号検出部92の動作を制御する読出制御部94と、信号検出部92に接続され所定の信号処理を経て信号検出部92から出力される画像データが表す画像に対して所定の画像処理(例えばオフセット補正やシェーディング補正等の各種補正)を行う画像処理部96を備えている。また画像処理部96には、画像処理部96による画像処理を経た画像データを画像として表示させるためのディスプレイ98が接続されており、読出制御部94には、キーボード等から成り利用者が動作モード(撮影モード)等を指定するための操作部99が接続されている。
図3に示すように、ゲート線駆動部90は、放射線検出パネル14の個々のゲート配線34に各々接続されたゲート線ドライバ100を備えている。放射線検出パネル14からの電荷読出時には、読出制御部94からゲート線ドライバ100に対してゲート配線34の駆動が指示され、ゲート線ドライバ100は、ゲート配線34の駆動が指示されると、ゲート配線34にハイレベルの電圧信号(オン信号)を供給することで、オン信号を供給したゲート配線34に接続されている各画素部30のTFT28をオフからオンへ変化させ、一定時間後に、上記ゲート配線34へのオン信号の供給を停止することで、オン信号を供給していたゲート配線34に接続されている各画素部30のTFT28をオンからオフへ変化させるゲート線駆動処理を順に行う。
また、信号検出部92には積分回路部102、増幅部108、S/H部112が順に設けられている。積分回路部102は、TFTアクティブマトリクス基板24に設けられたデータ配線36の数と同数のオペアンプ104を備えており、放射線検出パネル14の個々のデータ配線36は互いに異なるオペアンプ104の反転入力端に各々接続されている。個々のオペアンプ104は、非反転入力端がGND配線(接地配線)に各々接続されており、反転入力端にコンデンサ106の一端が各々接続され、コンデンサ106の他端は出力端に接続されている。上記構成により、個々のオペアンプ104及びコンデンサ106は、反転入力端に接続されたデータ配線36を流れる電流(信号電荷)を積分し、積分結果に相当するレベルの信号を出力するチャージアンプとして機能する。
また増幅部108は、オペアンプ等から成る増幅器110をデータ配線36の数と同数備えており、積分回路部102の個々のオペアンプ104の出力端は増幅部108の互いに異なる増幅器110の入力端に各々接続されている。増幅部108の個々の増幅器110は、積分回路部102の個々のチャージアンプから並列に出力される信号を各々増幅して出力する。またS/H部112は、サンプルホールド回路114をデータ配線36の数と同数備えており、増幅部108の個々の増幅器110の出力端はS/H部112の互いに異なるサンプルホールド回路114の入力端に各々接続されている。S/H部112の個々のサンプルホールド回路114は、出力端がマルチプレクサ(MUX)116の入力端に各々接続されており、増幅部108の個々の増幅器110から並列に出力される信号のレベルを各々保持すると共に、MUX116から指示されると保持しているレベルの信号をMUX116へ出力する。
MUX116の出力端は増幅器118の入力端に接続されている。MUX116はS/H部112の個々のサンプルホールド回路114を順に選択し、サンプルホールド回路114から入力された信号を増幅器118へ出力する。これにより、S/H部112に並列に入力された複数(データ配線36の数と同数)の信号に対してパラレル−シリアル変換が行われることになる。増幅器118の出力端はA/D変換部120の入力端に接続されており、増幅器118はMUX116から順に入力される信号を増幅してA/D変換部120へ出力する。またA/D変換部120は、順に入力される信号(アナログ信号)をデジタルデータへ変換して出力する。A/D変換部120から出力されたデジタルデータは画像データとして前述の画像処理部96に入力される。
また、信号検出部92はバイアス電流供給部122〜130を備えており、バイアス電流供給部122〜130は、読出制御部94の一部を構成するバイアス電流制御部132に各々接続されている。バイアス電流供給部122は積分回路部102の個々のオペアンプ104に接続され、バイアス電流制御部132から指示された大きさのバイアス電流を個々のオペアンプ104に供給する。またバイアス電流供給部124は増幅部108の個々の増幅器110に接続され、バイアス電流制御部132から指示された大きさのバイアス電流を個々の増幅器110に供給する。また、バイアス電流供給部126はS/H部112の個々のサンプルホールド回路114に接続され、バイアス電流制御部132から指示された大きさのバイアス電流を個々のサンプルホールド回路114に供給する。更に、バイアス電流供給部128はMUX116に接続され、バイアス電流制御部132から指示された大きさのバイアス電流をMUX116に供給する。また、バイアス電流供給部130は増幅器118に接続され、バイアス電流制御部132から指示された大きさのバイアス電流を増幅器118に供給する。
なお、上記のバイアス電流供給部122〜130は本発明に係るバイアス電流供給手段に、バイアス電流制御部132は本発明に係るバイアス電流制御手段(詳しくは請求項2,4に記載のバイアス電流制御手段)に各々対応している。また、信号検出部92のうちバイアス電流供給部122〜130を除いた各回路は本発明に係る信号処理部に対応している。より詳しくは、積分回路部102、増幅部108及びS/H部112は本発明に係る第1の回路群に対応しており、積分回路部102の個々のチャージアンプは請求項5に記載の複数の積分回路に、増幅部108の個々の増幅器110は請求項6に記載の複数の第1増幅回路に、S/H部112の個々のサンプルホールド回路114は請求項5に記載の複数の保持回路に各々対応している。また、MUX116及び増幅器118は本発明に係る第2の回路群に対応しており、MUX116は請求項7に記載の選択回路に、増幅器118は請求項7に記載の第2増幅回路に各々対応している。
また放射線検出パネル14及び制御装置16は扁平な形状の単一の筐体内に収容されている(図示省略)。本実施形態では、放射線検出パネル14及び制御装置16を扁平な形状の同一筐体内に収容するために、図4(B)に示すように、放射線検出パネル14と、制御装置16のうちの大部分の回路等が搭載されたプリント基板134とが平行に配置されており、放射線検出パネル14とプリント基板134の間は、信号検出部92のうちの一部の回路を収容するICチップ136が搭載されたTCP(Tape Carrier Package)138を介して接続されている。
図4(A)に示すように、TCP138にはその長手方向に沿って配線144が形成されているが、TCP138の幅方向両端部にはTCP138の長手方向全長に亘り、ICチップ136が存在しておらず配線144も形成されていないTCP保持領域138Aが形成されている。また、配線144はTCP138の幅方向中央部にも形成されておらず、TCP138の幅方向中央部の配線非形成領域のうちICチップ136の搭載領域を除いた領域はTCP保持領域138Bとされている。
放射線検出パネル14及び制御装置16が単一の筐体内に収容された状態で、TCP138は、保持部材140と保持部材142によって挟持されることで、図4(B)に示す位置に保持されるが、図4(C)に示すように、保持部材140及び保持部材142は、TCP138を挟持した状態で、TCP138のうちTCP保持領域138A及びTCP保持領域138B以外の部分に対応する部分に切欠き140A、142Aが設けられており、TCP138は、TCP保持領域138A及びTCP保持領域138Bのみが保持部材140及び保持部材142と接触・挟持されることで図4(B)に示す位置に保持される。
次に本実施形態の作用として、被写体18の放射線撮影が行われ、当該放射線撮影によって放射線検出パネル14の個々の画素部30の蓄積容量26に被写体18に応じた電荷量の電荷が各々蓄積されている状態で、個々の画素部30の蓄積容量26から蓄積電荷を読み出す際の読出制御部94及び信号検出部92の動作について説明する。
本実施形態に係る放射線画像撮影システム10には、動作モード(撮影モード)として複数のモードが予め設けられている。複数のモードとしては、例えば1秒間に3フレーム程度の画像出力レート(出力速度)で画像を出力する標準モード(この標準モードで出力される画像はセミ動画(コマ送り動画)としてディスプレイ98に表示可能である)、1秒間に10フレーム程度の画像出力レート(出力速度)で画像を出力する高速モード(この高速モードで出力される画像は動画像としての表示に適している)、1秒間に1フレーム程度の画像出力レート(出力速度)で画像を出力する低ノイズモード(この低ノイズモードで出力される画像は静止画像としての表示に適している)等が挙げられる。なお、動作モード(撮影モード)としてより多数のモードが設けられていてもよい。
また、本実施形態に係る放射線画像撮影システム10では、放射線発生部12から射出される放射線の線量や、ゲート線ドライバ100が同時にオン信号を供給するゲート配線34の数、放射線検出パネル14からの蓄積電荷の読出周期等の各種パラメータが個々の動作モード(撮影モード)毎に設定されている。放射線検出パネル14の個々の画素部30の蓄積容量26から蓄積電荷を読み出す場合、読出制御部94は、蓄積電荷の読み出しに先立ち、まず、利用者によって操作部99を介して設定された現在の動作モード(撮影モード)を取得し、取得した現在の動作モードに応じて上記の各種パラメータの値を切り替える処理を行う。
また、本実施形態に係る読出制御部94は、バイアス電流制御部132(図3参照)によって図5に示すバイアス電流制御処理も行う。このバイアス電流制御処理では、まずステップ150で放射線画像撮影システム10の現在の動作モード(撮影モード)を取得し、次のステップ152では、ステップ150で取得した動作モードが何れのモードかを判定し、判定結果に応じて分岐する。
ステップ150で取得した動作モードが標準モードであった場合は、ステップ152からステップ154へ移行し、信号検出部92のうち、データ配線36から出力される複数の信号に対して信号処理を並列に行うパラレル部(本実施形態では積分回路部102、増幅部108及びS/H部112)に供給するバイアス電流として標準値を、パラレル部から入力された複数の信号に対して並列直列変換処理を行うと共に、変換後の直列の信号に対して信号処理を行うシリアル部(本実施形態ではMUX116及び増幅器118)に供給するバイアス電流として標準値を各々設定し、設定した大きさのバイアス電流が信号検出部92の各回路(パラレル部及びシリアル部)に供給されるようにバイアス電流供給部122〜130を制御する。
また、ステップ150で取得した動作モードが高速モードであった場合は、ステップ152からステップ156へ移行し、信号検出部92のうちのパラレル部に供給するバイアス電流として前述の標準値よりも小さい第1の所定値を、シリアル部に供給するバイアス電流として前述の標準値よりも大きい第2の所定値を各々設定し、設定した大きさのバイアス電流が信号検出部92の各回路(パラレル部及びシリアル部)に供給されるようにバイアス電流供給部122〜130を制御する。
また、ステップ150で取得した動作モードが低ノイズモードであった場合には、ステップ152からステップ158へ移行し、信号検出部92のうちのパラレル部に供給するバイアス電流として前述の標準値よりも大きい第3の所定値を、シリアル部に供給するバイアス電流として前述の標準値よりも小さい第4の所定値を各々設定し、設定した大きさのバイアス電流が信号検出部92の各回路(パラレル部及びシリアル部)に供給されるようにバイアス電流供給部122〜130を制御する。
上記のようにして、信号検出部92のパラレル部及びシリアル部に供給されるバイアス電流の大きさを設定・制御すると、読出制御部94は、信号検出部92の各回路を現在の動作モードに応じて以下のように動作させることで、放射線検出パネル14の個々の画素部30の蓄積容量26からの蓄積電荷の読み出しを行わせる。
すなわち、読出制御部94は、積分回路部102の個々のコンデンサ106と並列に設けられた図示しないスイッチ部を、現在の動作モードに応じた周期(=蓄積電荷の読出周期)で一定期間各々オンさせることで、図6に「積分回路」と表記して示すように、積分回路部102の個々のチャージアンプ(のコンデンサ106)に蓄積されている電荷を一定周期でリセット(放電)させる。なお、上記のスイッチ部をオンさせる期間は、図6に「積分回路」と表記して示す信号波形のうち「リセット」と表記した期間であり、積分回路部102の個々のチャージアンプは、上記波形のうち「積分」と表記した期間にデータ配線36を流れる信号電荷を積分する。
また読出制御部94は、積分回路部102の個々のチャージアンプのリセット期間が終了し、上記のスイッチ部を各々オフさせると、ゲート線ドライバ100により、現在の動作モードに応じた本数のゲート配線34にオン信号を供給させる。これにより、オン信号が供給されたゲート配線34に接続された個々の画素部30でTFT28が各々オンし、個々の画素部30の蓄積容量26に蓄積された電荷が対応するデータ配線36を信号電荷として各々流れ、積分回路部102の個々のチャージアンプ(のコンデンサ106)に電荷として蓄積(積分)される。また、積分回路部102の個々のチャージアンプからの出力信号は、増幅部108の個々の増幅器110によって各々増幅され(個々の増幅器110からの出力信号波形を図6に「増幅回路1」と表記して示す)、S/H部112の個々のサンプルホールド回路114に各々入力される。
また読出制御部94は、ゲート配線34へのオン信号の供給が開始されてから、現在の動作モードに応じた時間が経過すると、ゲート線ドライバ100によるゲート配線34へのオン信号の供給を停止させ、オン信号が供給されていたゲート配線34に接続された個々の画素部30のTFT28を各々オフさせる。更に読出制御部94は、ゲート配線34へのオン信号の供給が停止されてから所定時間(個々のデータ配線36を伝送される信号電荷が0となる迄の所要時間以上の時間)が経過すると、S/H部112の個々のサンプルホールド回路114によって入力信号をサンプリングさせ、一定期間ホールド(保持)させる(図6に「S/H」と表記して示す信号波形も参照)と共に、MUX116に対し、個々のサンプルホールド回路114によってサンプリングされてホールドされている信号を、現在の動作モードに応じた周期で順次選択・出力させる(図6に「MUX」と表記して示す信号波形(特に「MUX切替」と表記した期間の信号波形)も参照)。
これにより、積分回路部102の個々のチャージアンプから並列に出力され、増幅部108の個々の増幅器110で各々増幅されてS/H部112の個々のサンプルホールド回路114に並列に入力された複数の信号は、個々のサンプルホールド回路114によって一旦サンプリングされた後に、現在の動作モードに応じた周期でMUX116へ順次出力されることで並列直列変換が行われる。また、現在の動作モードに応じた周期でMUX116から順次出力される直列の信号は、増幅器118によって増幅され、A/D変換部120によってデジタルデータへ変換されて、現在の動作モードに応じた画像出力レート(出力速度)で画像処理部96へ出力される。
上記のように、放射線検出パネル14の個々の画素部30の蓄積容量26からの蓄積電荷の読み出し時、信号検出部92の個々の回路(パラレル部及びシリアル部)は、現在の動作モードに応じた速度で動作するように読出制御部94によって制御されるが、本実施形態では、前述のように動作モードが高速モードであれば、シリアル部に供給するバイアス電流を標準モードのときよりも大きくする一方、パラレル部に供給するバイアス電流を標準モードのときよりも小さくしている。これにより、画像信号(画像データ)を高速に出力すべき高速モードでは、信号検出部92のうち、動作状態が画像信号(画像データ)の出力速度に直接影響するシリアル部(本発明に係る第2の回路群)を高速出力により適した動作状態で動作させることができる一方、動作状態が画像信号(画像データ)の出力速度に殆ど影響しないパラレル部(本発明に係る第1の回路群)についてはその発熱量が抑制されることで、放射線検出パネル14及び制御装置16を収容する筐体内が高温となって放射線検出パネル14が損傷することを未然に防止することができる。
また本実施形態では、前述のように動作モードが低ノイズモードであれば、パラレル部に供給するバイアス電流を標準モードのときよりも大きくする一方、シリアル部に供給するバイアス電流を標準モードのときよりも小さくしている。これにより、より高品質の画像信号(画像データ)を出力すべき低ノイズモードでは、信号検出部92のうち、画像信号(画像データ)のノイズレベルへの影響の度合いが高いパラレル部(本発明に係る第1の回路群)をより低ノイズ化に有利な動作状態で動作させることができる一方、画像信号(画像データ)のノイズレベルへの影響の度合いが低いシリアル部(本発明に係る第2の回路群)についてはその発熱量が抑制されることで、放射線検出パネル14及び制御装置16を収容する筐体内が高温となって放射線検出パネル14が損傷することを未然に防止することができる。
なお、上記では信号検出部92のパラレル部及びシリアル部に供給するバイアス電流を動作モード(撮影モード)に応じて切り替える態様を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば動作モード(撮影モード)に代えて画像信号(画像データ)の出力速度等のパラメータが直接設定される態様において、当該パラメータの値に応じてパラレル部及びシリアル部に供給するバイアス電流を連続的に変化させるようにしてもよい。一例として、画像信号(画像データ)の出力速度(出力レート)が指定される場合には、例として図5(B)に示すように、画像出力レートが増加するに従って、シリアル部へ供給するバイアス電流を増加させる一方、パラレル部へ供給するバイアス電流を減少させ、画像出力レートが減少するに従って、パラレル部へ供給するバイアス電流を増加させる一方、シリアル部へ供給するバイアス電流を減少させるように構成すればよい。これにより、画像出力レートが高くなるに従ってシリアル部を高速出力により適した動作状態で動作させ、画像出力レートが低くなる(画像信号(画像データ)のノイズレベルに対する要求水準が相対的に高くなる)に従ってパラレル部をより低ノイズ化に有利な動作状態で動作させることを、信号検出部92全体としての発熱量を抑制しつつ実現することができる。上記態様は請求項3記載の発明に対応している。
また一般に、TFTアクティブマトリクス基板24上のゲート配線34とデータ配線36との交差位置には、図7にも示すように寄生容量が各々存在しており、TFT28のオン時及びオフ時には寄生容量の両端の電圧が変化することでフィードスルーと称する偽信号が寄生容量によって発生し、この偽信号が、画素部30の蓄積容量26から蓄積電荷が出力されることでデータ配線36を流れる信号電荷に重畳されることで、図8に「寄生容量による偽信号」と表記して示すように積分回路の出力信号にノイズ成分として加わるという問題がある。
これに対し、図7に示した構成において、積分回路の出力側に接続された増幅器の増幅率を、寄生容量によって発生した偽信号が積分回路の出力信号にノイズ成分として加わった場合に、当該ノイズ成分(偽信号)が増幅によってクリップ(飽和)されることで増幅器の出力信号から除去されるように設定する(図8に「増幅により偽信号分をクリップ」と表記して示す増幅器の出力信号も参照)ことにより、図8に「検出信号」と表記して示すように、寄生容量によって発生した偽信号を出力信号から除去することができる。
また、上記では請求項8に記載の変換部として、照射された放射線を電荷へ直接変換する光電変換層22を説明したが、これに限定されるものではなく、上記の変換部は、照射された放射線を電磁波(例えば可視光等)へ一旦変換した後に、変換後の電磁波を電荷へ変換する構成(間接変換方式)であってもよい。また上記では、光電変換層22がTFTアクティブマトリクス基板24上に形成された構成を説明したが、上記の変換部は、蓄積容量及びスイッチング手段を各々備えた複数の画素部が配列された基板と別体であってもよい。
また、上記では多数個の画素部30(TFT28や蓄積容量26)がマトリクス状に(2次元に)配置された構成の放射線検出パネル14を例に説明したが、これに限定されるものではなく、放射線検出パネルは複数個の画素部が一列に(1次元に)配置された構成であってもよい。
また、上記では請求項8に記載の変換部としての光電変換層によって電荷へ変換される放射線の一例としてX線を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、変換部に吸収されて電荷へ変換され、蓄積容量にその電荷が蓄積されるものであれば、例えば電子線やα線等の他の放射線であってもよいし、例えば可視光や紫外線、赤外線等、任意の波長域の電磁波であってもよい。
本実施形態に係る放射線画像撮影システムの概略構成図である。 放射線検出パネルのうち単一の画素部が形成されている領域の断面図である。 放射線検出パネル及びその周辺回路の概略構成図である。 (A)は信号検出部の一部が搭載されたTCPの平面図、(B)は筐体内における放射線パネル、TCP及びプリント基板の配置を示す斜視図、(C)はTCP保持部材を示す斜視図である。 (A)はバイアス電流制御処理の内容を示すフローチャート、(B)はバイアス電流制御処理の他の内容を説明するための線図である。 信号検出部の動作を説明するタイミングチャートである。 信号検出部の他の構成を示す概略ブロック図である。 図7の信号検出部の動作を説明するタイミングチャートである。
符号の説明
10 放射線画像撮影システム
14 放射線検出パネル
16 制御装置
22 光電変換層
24 TFTアクティブマトリクス基板
26 蓄積容量
30 画素部
36 データ配線
92 信号検出部
94 読出制御部
102 積分回路部
108 増幅部
112 S/H部
116 MUX
118 増幅器
120 A/D変換部
122 バイアス電流供給部
124 バイアス電流供給部
126 バイアス電流供給部
128 バイアス電流供給部
130 バイアス電流供給部
132 バイアス電流制御部

Claims (9)

  1. 並列に入力される複数の検出信号に対して第1の信号処理を並列に行い、前記第1の信号処理を経た複数の検出信号に対して並列直列変換処理を行うことで直列の検出信号へ変換し、変換後の直列の検出信号に対して第2の信号処理を順次行う信号処理部と、
    前記信号処理部を構成する各回路にバイアス電流を供給するバイアス電流供給手段と、
    前記バイアス電流供給手段によって前記信号処理部を構成する各回路に供給されるバイアス電流の大きさを、前記各回路のうち前記第1の信号処理を行う第1の回路群へ供給される第1バイアス電流、及び、前記各回路のうち前記並列直列変換処理及び前記第2の信号処理を順に行う第2の回路群へ供給される第2バイアス電流を単位として切替えるバイアス電流制御手段と、
    を有する検出信号処理装置。
  2. 前記バイアス電流制御手段は、前記第1バイアス電流を増加させる場合は前記第2バイアス電流を減少させ、前記第2バイアス電流を増加させる場合は前記第1バイアス電流を減少させることを特徴とする請求項1記載の検出信号処理装置。
  3. 前記第2の回路群は、前記直列の検出信号に対する出力速度の設定値に応じた速度で前記並列直列変換処理及び前記第2の信号処理を行い、
    前記バイアス電流制御手段は、前記出力速度の設定値が増加するに従って、前記第2バイアス電流を増加させる一方、前記第1バイアス電流を減少させ、前記出力速度の設定値が減少するに従って、前記第1バイアス電流を増加させる一方、前記第2バイアス電流を減少させることを特徴とする請求項2記載の検出信号処理装置。
  4. 選択可能な動作モードとして、少なくとも標準モード、高速モード及び低ノイズモードが各々設けられており、
    前記バイアス電流制御手段は、動作モードとして前記高速モードが選択されている場合には、前記標準モードが選択されている場合よりも前記第2バイアス電流を増加させる一方、前記第1バイアス電流を減少させ、動作モードとして前記低ノイズモードが選択されている場合には、前記標準モードが選択されている場合よりも前記第1バイアス電流を増加させる一方、前記第2バイアス電流を減少させることを特徴とする請求項2記載の検出信号処理装置。
  5. 前記第1の回路群は、並列に入力された複数の検出信号を一定期間に亘って各々積分する複数の積分回路と、並列に入力された複数の検出信号のレベルを各々保持する複数の保持回路を備えていることを特徴とする請求項1記載の検出信号処理装置。
  6. 前記第1の回路群は、並列に出力された複数の検出信号を各々増幅する複数の第1増幅回路を更に備えていることを特徴とする請求項5記載の検出信号処理装置。
  7. 前記第2の回路群は、並列に入力された複数の検出信号のレベルを各々保持する複数の保持回路に保持されたレベルを検出信号として順に出力する選択回路と、前記選択回路から順に出力された検出信号を増幅する第2増幅回路を備えていることを特徴とする請求項1記載の検出信号処理装置。
  8. 前記信号処理部には、照射された放射線又は電磁波を電荷へ変換する変換部と、前記変換部で変換された電荷を信号電荷として保持する電荷保持部を各々備えた複数の画素部と、を有する画像検出部のうち、前記複数の画素部の前記電荷保持部から各々読み出された複数の信号電荷が前記複数の検出信号として並列に入力されることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか1項記載の検出信号処理装置。
  9. 少なくとも前記信号処理部が、前記画像検出部と同一の筐体内に収容されていることを特徴とする請求項8記載の検出信号処理装置。
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