JP2009199951A - Image display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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親知 高杉
Kohei Ebino
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display device that suppresses the occurrence and progression of corrosion of inspection wires without increasing cost significantly; and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The image display device includes: an insulating substrate having a primary side; a plurality of signal lines and scanning lines formed on the primary side of the insulating substrate; a display section having thin-film transistors and pixel electrodes provided at intersection points of the signal lines and scanning lines; a seal member formed around at least the display section on the primary side of the insulating substrate; an counter substrate which is disposed opposite to the primary side of the insulating substrate via the seal member and whose area opposite to the primary side is smaller than the primary side area; and a plurality of inspection wires with one end side electrically connected with each of the signal lines and scanning lines at a region not opposite to the counter substrate on the primary side of the insulating substrate and the other end side provided with a portion covered with the seal member, which is formed up to the edge of the insulating substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話等に用いられる画像表示装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an image display device used for a personal computer, a mobile phone, and the like, and a method for manufacturing the same.

従来より、有機ELディスプレイ等を表示部として備える画像表示装置は、複数の走査線および信号線の間に発光素子をそれぞれ形成した絶縁性基板に対向基板を被せて、シール材を用いて絶縁性基板と対向基板とを接着し、これによって形成されたマザー基板を個々の表示装置に切断することにより作製している。   2. Description of the Related Art Conventionally, an image display device including an organic EL display or the like as a display unit is provided with an insulating substrate on which a light emitting element is formed between a plurality of scanning lines and signal lines, and an insulating substrate is covered with a sealing material. The substrate and the counter substrate are bonded to each other, and the mother substrate formed thereby is cut into individual display devices.

このような画像表示装置の検査方法としては、通常、工程における各過程での光学的検査や、絶縁性基板が完成した段階での電気的検査や、ドライバなどの実装部品を取り付ける前に行われる点灯検査等が行われる。   As an inspection method for such an image display device, it is usually performed before an optical inspection at each step in the process, an electrical inspection at the stage where the insulating substrate is completed, or a mounting component such as a driver is attached. Lighting inspection etc. are performed.

これは、不良部品を後工程に流すことによって、材料や作業の無駄が生じるのを防ぐためであり、不具合がある場合はその時点で廃棄されるか、もしくはレーザーなどの手段によって修理が施されている(例えば、特許文献1および特許文献2参照)。   This is to prevent waste of materials and work by flowing defective parts to the subsequent process. If there is a defect, it is discarded at that time or repaired by means such as laser. (For example, refer to Patent Document 1 and Patent Document 2).

電気検査や点灯検査においては、絶縁性基板上に走査線および信号線と電気的に接続された検査配線と、検査配線に電気を供給するための検査電極を形成し、検査時に検査電極から電圧を印加することにより、所定の検査を行う。そして、検査終了後に、製品には不要である検査電極が形成された絶縁性基板の一部を切り離して画像表示装置を作製する(例えば、特許文献3参照)。
特開平11−212102号 特開2003−5205号 特開平1−130132号
In electrical inspection and lighting inspection, an inspection wiring electrically connected to the scanning line and the signal line and an inspection electrode for supplying electricity to the inspection wiring are formed on an insulating substrate, and a voltage is applied from the inspection electrode during the inspection. Is applied to perform a predetermined inspection. And after completion | finish of test | inspection, part of the insulating board | substrate with which the test electrode unnecessary for a product was formed is cut off, and an image display apparatus is produced (for example, refer patent document 3).
JP-A-11-212102 JP 2003-5205 A JP-A-1-130132

上述の切り離し工程において、絶縁性基板の一部が切断されると検査配線の端面が露出することとなる。切断された端面においては、切断時にバリが発生しやすく、当該箇所から検査配線の腐食が進み、画像表示装置の寿命が短くなるといった問題があった。   In the above-described separation step, when a part of the insulating substrate is cut, the end face of the inspection wiring is exposed. On the cut end face, there is a problem that burrs are likely to occur at the time of cutting, and corrosion of the inspection wiring proceeds from the portion, and the life of the image display device is shortened.

このような、検査配線の腐食は、当該検査配線の露出する面積が広くなるほど進みやすくなる。これを防止するため、検査配線全体を樹脂等で覆う方法が考えられる。しかしながら、このような方法は、検査配線を覆うための材料費が別途かかってしまうためコストが増加する。また、製造工程が煩雑になり生産性が低下してしまう。   Such corrosion of the inspection wiring is more likely to proceed as the exposed area of the inspection wiring becomes larger. In order to prevent this, a method of covering the entire inspection wiring with a resin or the like can be considered. However, such a method increases the cost because a material cost for covering the inspection wiring is separately required. In addition, the manufacturing process becomes complicated and productivity is reduced.

そこで本発明は、上記問題に鑑みて、大きなコスト増を伴うことなく検査配線の腐食の発生および進行を抑制する画像表示装置およびその製造方法を提供する。   Therefore, in view of the above problems, the present invention provides an image display device and a method for manufacturing the same that suppress the occurrence and progression of corrosion of inspection wiring without greatly increasing the cost.

本発明にかかる画像表示装置は、第1面を有する絶縁性基板と、該絶縁性基板の第1面上に形成された複数の信号線および走査線と、前記信号線と走査線との交点に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有する表示部と、前記絶縁性基板の第1面上の少なくとも前記表示部の周囲に形成されたシール材と、該シール材を介して前記絶縁性基板の第1面と対向配置されるとともに、前記第1面と対向する面の面積が当該第1面の面積よりも小さい対向基板と、一端側が、前記絶縁性基板の第1面上における前記対向基板との非対向領域において前記信号線および走査線とそれぞれ電気的に接続されるとともに、他端側が、前記シール材に覆われた部分を有するとともに前記絶縁性基板の端まで形成された複数の検査配線と、を備えることを特徴とする。   An image display device according to the present invention includes an insulating substrate having a first surface, a plurality of signal lines and scanning lines formed on the first surface of the insulating substrate, and intersections of the signal lines and the scanning lines. A display unit having a thin film transistor and a pixel electrode, a sealing material formed on at least the periphery of the display unit on the first surface of the insulating substrate, and a second insulating layer formed on the insulating substrate through the sealing material. A counter substrate disposed opposite to the first surface and having an area of the surface facing the first surface smaller than an area of the first surface; and one end side of the counter substrate on the first surface of the insulating substrate; A plurality of inspection wirings that are electrically connected to the signal lines and the scanning lines in the non-facing region, and that have the other end side covered with the sealing material and the end of the insulating substrate. And having It is characterized by.

また、上記発明において、前記検査配線は、前記絶縁性基板の第1面上における前記対向基板との非対向領域から、前記シール材が形成された領域に向うように屈曲していることが好ましい。   In the above invention, it is preferable that the inspection wiring bends from a non-opposing region to the counter substrate on the first surface of the insulating substrate to a region where the sealing material is formed. .

また、上記発明において、前記シール材は、前記絶縁性基板の第1面と前記対向基板とが対向する領域内に形成されていることが好ましい。   In the invention described above, the sealing material is preferably formed in a region where the first surface of the insulating substrate and the counter substrate face each other.

また、本発明にかかる画像表示装置の製造方法は、絶縁性基板の第1面上に、複数の信号線および走査線と、該信号線および走査線にそれぞれ電気的に接続された複数の検査配線と、該複数の検査配線と電気的に接続された検査電極と、前記信号線と走査線との交点に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有する表示部と、を形成する工程と、対向基板を、前記第1面上の少なくとも前記表示部の周囲に設けたシール材により前記前記第1面に対向配置するとともに、前記検査配線の一部を前記シール材にて覆う工程と、前記検査電極から電圧を印加することにより、所定の検査を行う工程と、前記検査終了後に、前記絶縁性基板の一部を切断することにより、前記検査電極を切り離す工程と、を備えることを特徴とする。   Further, the method for manufacturing an image display device according to the present invention includes a plurality of signal lines and scanning lines on the first surface of the insulating substrate, and a plurality of inspections electrically connected to the signal lines and scanning lines, respectively. Forming a wiring, a test electrode electrically connected to the plurality of test wirings, a display unit having a thin film transistor and a pixel electrode provided at an intersection of the signal line and the scanning line, and a counter substrate And at least a part of the inspection wiring covered with the sealing material by a sealing material provided on the first surface at least around the display portion, and the inspection electrode. The method includes a step of performing a predetermined inspection by applying a voltage from and a step of separating the inspection electrode by cutting a part of the insulating substrate after the inspection is completed.

さらに、上記発明において、前記検査配線を形成する工程において、前記絶縁性基板の第1面上の前記対向基板と対向する領域内を通るように前記検査配線を形成することが好ましい。   Furthermore, in the above invention, it is preferable that in the step of forming the inspection wiring, the inspection wiring is formed so as to pass through a region facing the counter substrate on the first surface of the insulating substrate.

本発明の画像表示装置によれば、検査配線の露出した端面からの腐食の発生を抑制することができる。さらに、外気との接触面積を低減できることから、検査配線の腐食の進行も合わせて抑制することができる。   According to the image display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of corrosion from the exposed end face of the inspection wiring. Furthermore, since the contact area with the outside air can be reduced, the progress of corrosion of the inspection wiring can also be suppressed.

また、本発明の画像表示装置の製造方法によれば、検査配線がシール材により覆うことにより、絶縁性基板の切断分部近傍で検査配線を抑えることができる。そのため、より平滑な切断面を得られるとともにバリの発生を抑制することができる。これにより、大きなコスト増を伴うことなく腐食の発生を抑制することができる。   Moreover, according to the manufacturing method of the image display device of the present invention, the inspection wiring can be suppressed near the cut portion of the insulating substrate by covering the inspection wiring with the sealing material. Therefore, a smoother cut surface can be obtained and the generation of burrs can be suppressed. Thereby, generation | occurrence | production of corrosion can be suppressed, without accompanying a big cost increase.

以下に本発明にかかる画像表示装置およびその製造方法について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は以下の記載に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、図面は本発明の理解を容易にするための概略図であり、実際の寸法および縮尺とは異なる場合がある。   Hereinafter, an image display device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following description, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change suitably. Further, the drawings are schematic diagrams for facilitating understanding of the present invention, and may differ from actual dimensions and scales.

(画像表示装置)
図1及び図2は、本発明にかかる画像表示装置の一実施形態であり、例えば携帯情報端末などのディスプレイとして用いられる。図1は、画像表示装置の対向基板を透過した上面図(絶縁性基板1の主面となる第1面が上面視できる図)である。また、図2は、図1におけるA−A断面図である。
(Image display device)
1 and 2 show an embodiment of an image display device according to the present invention, which is used as a display of a portable information terminal, for example. FIG. 1 is a top view through which a counter substrate of an image display device is transmitted (a view in which a first surface as a main surface of the insulating substrate 1 can be viewed from above). FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

図1に示すように、画像表示装置は、絶縁性基板1と、絶縁性基板1の主面となる第1面上に形成された複数の信号線3および走査線4と、信号線3と走査線4との交点(即ち、信号線と走査線の間)に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有する表示部5と、絶縁性基板1の第1面と対向配置された対向基板(図1では図示せず)と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the image display device includes an insulating substrate 1, a plurality of signal lines 3 and scanning lines 4 formed on a first surface that is a main surface of the insulating substrate 1, and signal lines 3. A display portion 5 having a thin film transistor and a pixel electrode provided at an intersection with the scanning line 4 (that is, between the signal line and the scanning line), and a counter substrate disposed opposite to the first surface of the insulating substrate 1 (FIG. 1). (Not shown).

表示部5としては、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等の信号線3と走査線4との交点に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有するものが利用できる。なお、本実施形態では、表示部5が有機ELディスプレイであるものを例示して説明する。   As the display unit 5, a liquid crystal display, an organic EL display, or the like having a thin film transistor and a pixel electrode provided at the intersection of the signal line 3 and the scanning line 4 can be used. In the present embodiment, an example in which the display unit 5 is an organic EL display will be described.

信号線3は、有機ELディスプレイである表示部に接続されており、発光輝度に対するデータ信号を各画素電極に配給するものである。また、走査線4は、信号線3と略直交しるように設けられ、各画素電極に走査信号を供給するためのものである。なお、走査信号とは、各画素電極に信号線3を介してデータ信号を供給するタイミングを制御するための信号である。   The signal line 3 is connected to a display unit, which is an organic EL display, and distributes a data signal for light emission luminance to each pixel electrode. The scanning line 4 is provided so as to be substantially orthogonal to the signal line 3 and supplies a scanning signal to each pixel electrode. The scanning signal is a signal for controlling the timing for supplying the data signal to each pixel electrode via the signal line 3.

なお、一実施形態の説明において、信号線3にはデータ信号を供給するタイミングを制御するXドライバ(データ線駆動回路)を含んでおり、また、走査線4には走査信号のタイミングを制御するYドライバ(走査信号線駆動回路)を含んでいるものとする。   In the description of the embodiment, the signal line 3 includes an X driver (data line driving circuit) for controlling the timing of supplying the data signal, and the scanning line 4 controls the timing of the scanning signal. It is assumed that a Y driver (scanning signal line driving circuit) is included.

絶縁性基板1と対向基板としては、例えば透明なガラスやプラスチックを用いることができる。なお、表示部5がトップエミッションの有機ELディスプレイである場合は、絶縁性基板1は透明でなくてもよい。   As the insulating substrate 1 and the counter substrate, for example, transparent glass or plastic can be used. When the display unit 5 is a top emission organic EL display, the insulating substrate 1 may not be transparent.

絶縁性基板1および対向基板とは、シール材6により間隔を設けて対向配置された状態で接着(接合)される。これにより、表示部5は絶縁性基板1と対向基板とシール材6により形成された密封空間内に配置されることとなるため、外気から遮断された状態で封止される。シール材6としては、例えば光硬化性または熱硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等を用いることができる。なお、当該シール材6は、少なくとも表示部5の周囲に形成されればよく、例えば、絶縁性基板1と対向基板との間に充填し、表示部5の全面を覆うように封止してもよい。   The insulating substrate 1 and the counter substrate are bonded (bonded) in a state where the insulating substrate 1 and the counter substrate are arranged to face each other with a gap therebetween. Accordingly, the display unit 5 is disposed in a sealed space formed by the insulating substrate 1, the counter substrate, and the sealing material 6, and thus is sealed in a state where it is blocked from the outside air. As the sealing material 6, for example, a photocurable or thermosetting acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, silicon resin, or the like can be used. The sealing material 6 may be formed at least around the display portion 5. For example, the sealing material 6 is filled between the insulating substrate 1 and the counter substrate and sealed so as to cover the entire surface of the display portion 5. Also good.

また、対向基板は、絶縁性基板1の第1面よりも面積が小さい対向面を有している。そのため、絶縁性基板1の第1面上には、対向基板が対向配置されていない非対向領域を有している。   The counter substrate has a counter surface having a smaller area than the first surface of the insulating substrate 1. For this reason, on the first surface of the insulating substrate 1, there is a non-facing region in which the counter substrate is not disposed to face.

さらに、絶縁性基板1の第1面上における対向基板との非対向領域には、一端側が信号線3と走査線4とにそれぞれ電気的に接続される複数の検査配線10を備えている。また、検査配線10の他端側はシール材6に覆われている分部を有するとともに、絶縁性基板1の端(つまり、絶縁性基板1の側面)まで形成されている。   Further, a plurality of inspection wirings 10 whose one ends are electrically connected to the signal lines 3 and the scanning lines 4 are provided in a non-opposing region on the first surface of the insulating substrate 1 with respect to the counter substrate. Further, the other end side of the inspection wiring 10 has a portion covered with the sealing material 6 and is formed up to the end of the insulating substrate 1 (that is, the side surface of the insulating substrate 1).

検査配線10は、画像表示装置の製造工程において、信号線3および走査線4に駆動用のICチップを搭載する前に、表示部5の駆動を検査するためのものである。検査時には、検査配線10は、絶縁性基板1上に形成された検査電極と電気的に接続されており、検査電極に所定の電圧を印加することにより、表示部5等の検査を行う。   The inspection wiring 10 is for inspecting the drive of the display unit 5 before mounting the driving IC chip on the signal line 3 and the scanning line 4 in the manufacturing process of the image display device. At the time of inspection, the inspection wiring 10 is electrically connected to the inspection electrode formed on the insulating substrate 1, and the display unit 5 and the like are inspected by applying a predetermined voltage to the inspection electrode.

検査が終了した後は、検査配線10および検査電極は不要となる。そのため、絶縁性基板1の一部を切断することにより、検査電極および検査配線10の一部を切り離す。検査配線10の残部は、絶縁性基板1の第1面における対向基板との非対向領域に残ることとなるが、当該検査配線10はCu、Agといった金属等の腐食の可能性がある導電部材からなるため、切断された端面におけるバリ等に起因して腐食が発生することがある。検査配線10の腐食は、外気を接触する箇所においては進行が速いため、検査配線10が全体的に外気に触れる場合は、絶縁性基板1上に残った検査配線10を伝って信号線3や走査線4にまで腐食させてしまう。これにより、画像表示装置の寿命が短くなってしまう。   After the inspection is completed, the inspection wiring 10 and the inspection electrode become unnecessary. Therefore, by cutting a part of the insulating substrate 1, a part of the inspection electrode and the inspection wiring 10 is separated. The remaining portion of the inspection wiring 10 remains in a region of the first surface of the insulating substrate 1 that does not face the counter substrate. However, the inspection wiring 10 is a conductive member that may be corroded by a metal such as Cu or Ag. Therefore, corrosion may occur due to burrs or the like on the cut end surface. Since the corrosion of the inspection wiring 10 proceeds rapidly at the place where the outside air is in contact, when the inspection wiring 10 is entirely exposed to the outside air, the signal wiring 3 or the signal line 3 is transmitted along the inspection wiring 10 remaining on the insulating substrate 1. The scanning line 4 is corroded. This shortens the life of the image display device.

それに対して本発明においては、検査配線10の他端側がシール材6に覆われている分部を有するため、検査配線10が外気に触れる面積が小さくなっている。これにより、検査配線10の腐食の進行速度を抑制することができ、画像表示装置の寿命を長くすることができる。   On the other hand, in the present invention, since the other end side of the inspection wiring 10 has a part covered with the sealing material 6, the area where the inspection wiring 10 is exposed to the outside air is small. Thereby, the progress speed of corrosion of the inspection wiring 10 can be suppressed, and the life of the image display device can be extended.

また、一実施形態においては、シール材6を対向基板からはみ出させて検査配線10を覆うのではなく、検査配線10を前記絶縁性基板1の第1面上の対向基板と対向していない非対向領域から、シール材6が形成された領域に向うように屈曲させている。そのため、検査配線10は、絶縁性基板1と対向基板とが対向する領域内でシール材6に覆われることとなる。これにより、シール材6によって検査配線10が十分に圧着被覆されるため、検査配線10の腐食の進行を抑制する効果が向上する。   Moreover, in one embodiment, the sealing material 6 is not protruded from the counter substrate to cover the test wiring 10, but the test wiring 10 is not opposed to the counter substrate on the first surface of the insulating substrate 1. It is bent from the facing area toward the area where the sealing material 6 is formed. Therefore, the inspection wiring 10 is covered with the sealing material 6 in a region where the insulating substrate 1 and the counter substrate face each other. As a result, the test wiring 10 is sufficiently covered with the sealing material 6 by pressure, so that the effect of suppressing the progress of corrosion of the test wiring 10 is improved.

当該効果について図2を用いて具体的に説明する。絶縁性基板1の第1面上に形成された検査配線10は、絶縁性基板1の第1面と対向基板2との対向する領域内においてシール材に覆われている。つまり、絶縁性基板1と対向基板2とをシール材6により接着(接合)する際に、シール材6は両基板より圧力がかかることとなる。そのため、絶縁性基板1の対向基板2との非対向領域にてシール材6により検査配線を覆う場合と比較して、シール材による密封性が向上する。これにより、検査配線10の腐食の抑制効果が大きくなる。また、絶縁性基板1から検査電極を切り離す工程において、検査配線10を切断箇所の近傍にて、絶縁性基板1に十分に押さえつけることができる。従って、検査配線10の切断面におけるバリの発生を低減でき、腐食の発生を抑制することができる。   The effect will be specifically described with reference to FIG. The inspection wiring 10 formed on the first surface of the insulating substrate 1 is covered with a sealing material in a region where the first surface of the insulating substrate 1 and the counter substrate 2 face each other. That is, when the insulating substrate 1 and the counter substrate 2 are bonded (bonded) with the sealing material 6, the sealing material 6 is subjected to pressure from both substrates. Therefore, the sealing performance by the sealing material is improved as compared with the case where the inspection wiring is covered with the sealing material 6 in the non-facing region of the insulating substrate 1 facing the counter substrate 2. Thereby, the inhibitory effect of corrosion of the inspection wiring 10 is increased. Further, in the step of separating the inspection electrode from the insulating substrate 1, the inspection wiring 10 can be sufficiently pressed against the insulating substrate 1 in the vicinity of the cut portion. Therefore, the occurrence of burrs on the cut surface of the inspection wiring 10 can be reduced, and the occurrence of corrosion can be suppressed.

(有機ELディスプレイの概略構成)
有機ELディスプレイは、有機材料に電流を流すことで材料自ら発光する自発光型の発光素子を有するものである。表示部5として用いられる有機ELディスプレイの概略構成を以下に説明する。
(Schematic configuration of organic EL display)
An organic EL display has a self-luminous light emitting element that emits light by flowing current through an organic material. A schematic configuration of an organic EL display used as the display unit 5 will be described below.

図3は、上記一実施形態に用いたトップエミッションタイプの有機ELディスプレイの断面構造の概略構成を模式的に示したものである。この有機ELディスプレイは、例えば、絶縁性基板1上に薄膜トランジスタ等の各種トランジスタを含む画素回路が形成された回路層22と、当該回路層22を被覆する平坦化層26と、該平坦化層26上に配置され、複数の有機EL素子を有する画素電極層24とが順次積層されている。回路層22と画素電極層24とは、平坦化層26のコンタクトホール内に設けられ、導電材料からなる複数のコンタクト層23(接続部)によって電気的に接続されている。そして画素回路層24上にはシール材6もしくは空隙25(一実施形態では空隙25)を介して対向基板2が配置されている。つまり、絶縁性基板1と対向基板2との間に、回路層22、コンタクト層23、画素回路層24、および平坦化層26が配置されている。   FIG. 3 schematically shows a schematic configuration of a cross-sectional structure of the top emission type organic EL display used in the embodiment. The organic EL display includes, for example, a circuit layer 22 in which a pixel circuit including various transistors such as a thin film transistor is formed on an insulating substrate 1, a planarization layer 26 that covers the circuit layer 22, and the planarization layer 26. A pixel electrode layer 24 that is disposed above and has a plurality of organic EL elements is sequentially stacked. The circuit layer 22 and the pixel electrode layer 24 are provided in a contact hole of the planarization layer 26 and are electrically connected by a plurality of contact layers 23 (connection portions) made of a conductive material. The counter substrate 2 is disposed on the pixel circuit layer 24 via the sealant 6 or the gap 25 (the gap 25 in one embodiment). That is, the circuit layer 22, the contact layer 23, the pixel circuit layer 24, and the planarization layer 26 are disposed between the insulating substrate 1 and the counter substrate 2.

画素回路層24は、アノード電極と、カソード電極と、両電極の間に配置される有機層と、を有する複数の有機EL素子(すなわち発光素子)を画素ごとに配置した構成を有している。   The pixel circuit layer 24 has a configuration in which a plurality of organic EL elements (that is, light emitting elements) each having an anode electrode, a cathode electrode, and an organic layer disposed between both electrodes are disposed for each pixel. .

回路層22は、発光素子の発光を画素ごとに制御する複数の画素回路を含んで構成されている。つまり、画素回路が画素単位で配列されている。   The circuit layer 22 includes a plurality of pixel circuits that control light emission of the light emitting elements for each pixel. That is, the pixel circuits are arranged in units of pixels.

そして、画素回路層24を構成する各発光素子と、回路層22を構成する各画素回路とは、コンタクト層23によって電気的に接続されており、各発光素子から発せられる光は対向基板2を透過して、図3の矢印で示すように、有機ELディスプレイの外部に出射される。   Each light emitting element constituting the pixel circuit layer 24 and each pixel circuit constituting the circuit layer 22 are electrically connected by the contact layer 23, and light emitted from each light emitting element passes through the counter substrate 2. The light passes through and is emitted to the outside of the organic EL display as indicated by an arrow in FIG.

(画像表示装置の製造方法)
図4〜図9は、本発明にかかる画像表示装置の製造方法の一実施例にかかるものである。
(Method for manufacturing image display device)
4 to 9 relate to an embodiment of a method for manufacturing an image display device according to the present invention.

まず、図4に示すように、走査線3、信号線4、表示部5などの各画像表示装置の構成物を絶縁性基板1の主面となる第1面上に縦方向、および横方向に複数配置する。   First, as shown in FIG. 4, the components of each image display device such as the scanning line 3, the signal line 4, and the display unit 5 are arranged in the vertical direction and the horizontal direction on the first surface that is the main surface of the insulating substrate 1. Place multiple.

図5は、図4における1つの画像表示装置の構成部を拡大したものである。図5を用いて具体的に説明すると、ガラス又はプラスチックからなる絶縁性基板1の第1面上に、有機ELディスプレイからなる表示部5と、当該有機ELディスプレイである表示部5に接続されており、発光輝度に対するデータ信号を各画素電極に配給する信号線3と、信号線3と略直交しるように設けられ、各画素電極に走査信号を供給する走査線4と、をそれぞれ形成する。   FIG. 5 is an enlarged view of the components of one image display device in FIG. If it demonstrates concretely using FIG. 5, it will be connected to the display part 5 which consists of an organic EL display, and the display part 5 which is the said organic EL display on the 1st surface of the insulating substrate 1 which consists of glass or a plastics. In addition, a signal line 3 that distributes a data signal for light emission luminance to each pixel electrode and a scanning line 4 that is provided so as to be substantially orthogonal to the signal line 3 and that supplies a scanning signal to each pixel electrode are formed. .

さらに、絶縁性基板1の第1面上に、信号線3と走査線4と電気的に接続される検査配線10と、検査配線10に電気を供給するための検査電極11を形成する。検査配線10及び検査電極11は、駆動用のICチップを実装する前に表示部5の画質等を検査するためのものある。そのため、検査配線10および検査電極11は、検査が終了した後は不要となる。   Further, on the first surface of the insulating substrate 1, the inspection wiring 10 electrically connected to the signal line 3 and the scanning line 4 and the inspection electrode 11 for supplying electricity to the inspection wiring 10 are formed. The inspection wiring 10 and the inspection electrode 11 are for inspecting the image quality and the like of the display unit 5 before mounting the driving IC chip. Therefore, the inspection wiring 10 and the inspection electrode 11 become unnecessary after the inspection is completed.

ここで、検査配線10は、信号線3及び走査線4と検査電極11との間において、表示部5の周囲に向って屈曲させた形状に形成される。換言すると、検査電極10は、表示部5の周囲を通るように引き回されて形成される。   Here, the inspection wiring 10 is formed in a shape bent toward the periphery of the display unit 5 between the signal line 3 and the scanning line 4 and the inspection electrode 11. In other words, the inspection electrode 10 is formed by being routed around the display unit 5.

次に、図6に示すように、複数の表示部5のそれぞれの周囲に、例えば光硬化性または熱硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等からなるシール材6を塗布する。これにより、シール材6は、表示部5の周囲に引き回されて形成された検査配線の一部を被覆することとなる。なお、当該一実施例においては、シール材6は表示部5の周囲のみを覆っているが、少なくとも表示部5の周囲に形成すればよく、例えば表示部5の全面を覆うように塗布してもよい。   Next, as shown in FIG. 6, a sealing material 6 made of, for example, photocurable or thermosetting acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, silicon resin, or the like is applied around each of the plurality of display portions 5. . Thereby, the sealing material 6 covers a part of the inspection wiring formed by being drawn around the display unit 5. In this embodiment, the sealing material 6 covers only the periphery of the display unit 5, but it may be formed at least around the display unit 5, for example, applied so as to cover the entire surface of the display unit 5. Also good.

そして、図7に示すように、絶縁性基板1と略同じ大きさの対向基板2をシール材6上に一度に載置して、絶縁性基板1と対向配置して接着(接合)する。これにより、表示部5は絶縁性基板1と対向基板2とシール材6により形成された空間に封止されることとなる。なお、封止は、真空中又は窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。これにより、表示部5の酸化や水分による劣化を抑制することができる。   Then, as shown in FIG. 7, the counter substrate 2 having substantially the same size as that of the insulating substrate 1 is placed on the sealing material 6 at once, and is disposed opposite to the insulating substrate 1 and bonded (bonded). As a result, the display unit 5 is sealed in a space formed by the insulating substrate 1, the counter substrate 2, and the sealing material 6. Sealing is preferably performed in a vacuum or in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas. Thereby, the deterioration of the display unit 5 due to oxidation or moisture can be suppressed.

その後、B−B線及びC−C線にて、絶縁性基板1及び対向基板2をそれぞれ切断することにより、図8に示す各画像表示装置に切り分ける。ここで、一実施例においては、走査線3、信号線4および検査電極11が露出するように対向基板2を切断しているが、少なくとも検査電極11が露出するように切断すればよい。この場合、その後の工程、例えば後述する検査工程の後に、走査線3および信号線4が露出するように対向基板を切断してもよい。   Thereafter, the insulating substrate 1 and the counter substrate 2 are cut along the BB line and the CC line, respectively, so as to be separated into the respective image display devices shown in FIG. Here, in one embodiment, the counter substrate 2 is cut so that the scanning lines 3, the signal lines 4, and the inspection electrodes 11 are exposed. However, the counter substrate 2 may be cut so that at least the inspection electrodes 11 are exposed. In this case, the counter substrate may be cut so that the scanning lines 3 and the signal lines 4 are exposed after a subsequent process, for example, an inspection process described later.

そして、切り分けられた各画像表示装置に対して、検査電極11に電圧を印加して、表示部5の画質検査等の所定の検査を行う。この検査により不良が発見された場合は、当該不良品を廃棄又は修理することで、その後の工程における無駄な作業を低減することができるとともに、歩留まりを向上させることができる。   Then, a voltage is applied to the inspection electrode 11 for each separated image display device, and a predetermined inspection such as an image quality inspection of the display unit 5 is performed. When a defect is found by this inspection, by discarding or repairing the defective product, it is possible to reduce unnecessary work in the subsequent process and improve the yield.

所定の検査が終了した後、完成品には不要である検査電極11を含む絶縁性基板1の一部を切り取る。この場合、絶縁性基板1を切断する箇所としては、検査電極11を含む箇所であれば特に限定はない。また、シール材6を含む位置にてダイシングにより切断する場合は、シール材が切断刃に付着して切断力が低下するおそれがあるとともに、対向基板の一部まで切断する必要がある。そのため、シール材6の外周部で切断することが好ましい。   After the predetermined inspection is completed, a part of the insulating substrate 1 including the inspection electrode 11 that is unnecessary for the finished product is cut out. In this case, the location for cutting the insulating substrate 1 is not particularly limited as long as the location includes the inspection electrode 11. Further, when cutting by dicing at a position including the sealing material 6, the sealing material may adhere to the cutting blade and the cutting force may be reduced, and it is necessary to cut a part of the counter substrate. Therefore, it is preferable to cut at the outer peripheral portion of the sealing material 6.

なお、当該一実施例においては、図8に示すように検査配線10が、シール材6に覆われた部分(破線部分)から外部に露出する近傍にて切断されるように、D−D線において絶縁性基板1を切断している。これにより、配線基板10を、絶縁性基板1に切断箇所の近傍にて十分に押さえつけることができる。従って、切断工程において、検査配線10の切断面におけるバリの発生を低減でき、腐食の発生を抑制することができる。   In this embodiment, as shown in FIG. 8, the inspection wiring 10 is cut from the portion covered with the sealing material 6 (broken line portion) in the vicinity exposed to the outside, along the DD line. The insulating substrate 1 is cut in FIG. Thereby, the wiring board 10 can be sufficiently pressed against the insulating substrate 1 in the vicinity of the cut portion. Therefore, in the cutting process, the occurrence of burrs on the cut surface of the inspection wiring 10 can be reduced, and the occurrence of corrosion can be suppressed.

そして、図9に示すように、走査線3及び信号線4に駆動用のICチップ7を載置取り付けし、画像表示装置が作製される。なお、製品においては、ICチップ7を経由して、所定の信号および電圧が走査線3および信号線4に供給されることとなる。   Then, as shown in FIG. 9, a driving IC chip 7 is mounted on the scanning line 3 and the signal line 4 to produce an image display device. In the product, a predetermined signal and voltage are supplied to the scanning line 3 and the signal line 4 via the IC chip 7.

上述の一実施形態および一実施例においては、表示部5として、有機ELディスプレイを例示して説明したが、これに限定されるものでなく、例えば、プラズマディプレイや液晶ディスプレイを用いることも可能である。   In the above-described embodiment and example, an organic EL display has been described as an example of the display unit 5. However, the display unit 5 is not limited thereto, and for example, a plasma display or a liquid crystal display may be used. It is.

一実施形態にかかる対向基板を透過した画像表示装置の上面図である。It is a top view of the image display apparatus which permeate | transmitted the counter substrate concerning one Embodiment. 図1におけるA−A断面における断面図である。It is sectional drawing in the AA cross section in FIG. 一実施形態に用いた有機ELディスプレイの断面構造の模式図である。It is a schematic diagram of the cross-sectional structure of the organic EL display used for one Embodiment. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example. 一実施例における画像表示装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the image display apparatus in one Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 絶縁性基板
2 対向基板
3 信号線
4 走査線
5 表示部
6 シール材
7 ICチップ
10 検査配線
11 検査電極
22 回路層
23 コンタクト層
24 画素回路層
25 空隙
26 平坦化層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating substrate 2 Opposite substrate 3 Signal line 4 Scan line 5 Display part 6 Sealing material 7 IC chip 10 Inspection wiring 11 Inspection electrode 22 Circuit layer 23 Contact layer 24 Pixel circuit layer 25 Air gap 26 Flattening layer

Claims (9)

第1面を有する絶縁性基板と、
該絶縁性基板の第1面上に形成された複数の信号線および走査線と、
前記信号線と走査線との交点に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有する表示部と、
前記絶縁性基板の第1面上の少なくとも前記表示部の周囲に形成されたシール材と、
該シール材を介して前記絶縁性基板の第1面と対向配置されるとともに、前記第1面と対向する面の面積が当該第1面の面積よりも小さい対向基板と、
一端側が、前記絶縁性基板の第1面上における前記対向基板との非対向領域において前記信号線および走査線とそれぞれ電気的に接続されるとともに、他端側が、前記シール材に覆われた部分を有するとともに前記絶縁性基板の端まで形成された複数の検査配線と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
An insulating substrate having a first surface;
A plurality of signal lines and scanning lines formed on the first surface of the insulating substrate;
A display unit having a thin film transistor and a pixel electrode provided at an intersection of the signal line and the scanning line;
A sealing material formed at least around the display portion on the first surface of the insulating substrate;
A counter substrate disposed opposite to the first surface of the insulating substrate via the sealing material and having an area of the surface facing the first surface smaller than the area of the first surface;
A portion where one end side is electrically connected to the signal line and the scanning line in a non-facing region on the first surface of the insulating substrate with respect to the counter substrate, and the other end side is covered with the sealing material And a plurality of inspection wirings formed to the end of the insulating substrate,
An image display device comprising:
前記検査配線は、前記絶縁性基板の第1面上における前記対向基板との非対向領域から、前記シール材が形成された領域に向うように屈曲していることを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。   2. The inspection wiring according to claim 1, wherein the inspection wiring is bent so as to be directed from a non-opposing region to the counter substrate on the first surface of the insulating substrate to a region where the sealing material is formed. The image display device described. 前記シール材は、前記絶縁性基板の第1面と前記対向基板とが対向する領域内に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the sealing material is formed in a region where the first surface of the insulating substrate and the counter substrate face each other. 前記シール材は、光硬化性または熱硬化性の樹脂からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the sealing material is made of a photocurable or thermosetting resin. 前記樹脂は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びシリコン樹脂のうち、少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項4に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 4, wherein the resin includes at least one of acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, and silicon resin. 前記表示部が、有機ELディスプレイであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the display unit is an organic EL display. 絶縁性基板の第1面上に、複数の信号線および走査線と、該信号線および走査線にそれぞれ電気的に接続された複数の検査配線と、該複数の検査配線と電気的に接続された検査電極と、前記信号線と走査線との交点に設けられた薄膜トランジスタおよび画素電極を有する表示部と、を形成する工程と、
対向基板を、前記第1面上の少なくとも前記表示部の周囲に設けたシール材により前記前記第1面に対向配置するとともに、前記検査配線の一部を前記シール材にて覆う工程と、
前記検査電極から電圧を印加することにより、所定の検査を行う工程と、
前記検査終了後に、前記絶縁性基板の一部を切断することにより、前記検査電極を切り離す工程と、
を備えることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
On the first surface of the insulating substrate, a plurality of signal lines and scanning lines, a plurality of inspection wirings electrically connected to the signal lines and the scanning lines, respectively, and the plurality of inspection wirings are electrically connected. Forming a test electrode and a display unit having a thin film transistor and a pixel electrode provided at an intersection of the signal line and the scanning line;
A counter substrate is disposed opposite to the first surface by a sealing material provided at least around the display unit on the first surface, and a part of the inspection wiring is covered with the sealing material;
Applying a voltage from the inspection electrode to perform a predetermined inspection;
After the completion of the inspection, cutting the inspection electrode by cutting a part of the insulating substrate;
An image display device manufacturing method comprising:
前記検査配線を形成する工程において、
前記絶縁性基板の第1面上の前記対向基板と対向する領域内を通るように前記検査配線を形成することを特徴とする請求項7に記載の画像表示装置の製造方法。
In the step of forming the inspection wiring,
8. The method of manufacturing an image display device according to claim 7, wherein the inspection wiring is formed so as to pass through a region facing the counter substrate on the first surface of the insulating substrate.
前記表示部が、有機ELディスプレイであることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 7, wherein the display unit is an organic EL display.
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