JP2011112688A - Display panel, display panel substrate, and display device - Google Patents
Display panel, display panel substrate, and display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011112688A JP2011112688A JP2009266183A JP2009266183A JP2011112688A JP 2011112688 A JP2011112688 A JP 2011112688A JP 2009266183 A JP2009266183 A JP 2009266183A JP 2009266183 A JP2009266183 A JP 2009266183A JP 2011112688 A JP2011112688 A JP 2011112688A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display panel
- transparent conductive
- conductive film
- substrate
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 76
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 27
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 54
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 29
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 29
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 29
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、表示パネル、表示パネル基板及び表示装置に関し、より詳しくは薄膜トランジスタ基板を用いた表示パネル、表示パネル基板及びその表示パネルを使用した表示装置に関する。 The present invention relates to a display panel, a display panel substrate, and a display device, and more particularly to a display panel using a thin film transistor substrate, a display panel substrate, and a display device using the display panel.
コンピュータ等の情報通信端末やテレビ受像機の表示デバイスとして、液晶表示装置が広く用いられている。また、有機EL表示装置(OLED)、電界放出ディスプレイ装置(FED)なども、表示装置として知られている。 Liquid crystal display devices are widely used as display devices for information communication terminals such as computers and television receivers. Organic EL display devices (OLED), field emission display devices (FED), and the like are also known as display devices.
このような表示装置には、ガラス基板上に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)が形成されたTFT基板を含む表示パネルが使用されている。例えば、液晶表示装置の場合には、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に液晶組成物を封じ込め、液晶組成物の配向を制御する液晶表示パネルが使用されている。 In such a display device, a display panel including a TFT substrate in which a thin film transistor (TFT) is formed on a glass substrate is used. For example, in the case of a liquid crystal display device, a liquid crystal display panel that contains a liquid crystal composition between a TFT substrate and a color filter substrate and controls the orientation of the liquid crystal composition is used.
表示パネルは、一般的に、一枚のガラス基板上に表示装置に使用される部分を複数含んだ基板(本明細書において「表示パネル基板」という。)として製造され、その後切断されて、1つの表示装置に用いられる表示パネルの大きさに形成される。このため、複数の表示装置に使用される部分を含む液晶表示パネル基板の製造の際に、静電気等による表示パネル内の回路等の破損等を防ぐため、隣接する表示パネルと基板間接続線を形成することが行われている(特許文献1等参照)。 A display panel is generally manufactured as a substrate (referred to as a “display panel substrate” in this specification) including a plurality of portions used for a display device on a single glass substrate, and then cut into 1 The size of the display panel used for one display device is formed. For this reason, when manufacturing a liquid crystal display panel substrate that includes parts used for a plurality of display devices, in order to prevent damage to circuits in the display panel due to static electricity, etc. It is formed (see Patent Document 1 etc.).
上述のような複数の表示装置に使用される部分を含む液晶表示パネルは、単体の表示パネルとして周囲を切り落とした際に金属が切断面に現われる場合があり、この切断面に現われた金属は腐食する恐れがある。特に、液晶表示装置において、腐食がカラーフィルタ基板とのシール部にまで達した場合には、シール強度の低下や液晶組成物の漏れの恐れがある。 A liquid crystal display panel including a part used for a plurality of display devices as described above may have metal appearing on the cut surface when the periphery is cut off as a single display panel, and the metal appearing on the cut surface is corroded. There is a fear. In particular, in the liquid crystal display device, when corrosion reaches the seal portion with the color filter substrate, there is a risk that the seal strength may be reduced or the liquid crystal composition may leak.
本発明は、上述の事情を鑑みてしたものであり、金属の腐食を抑制することができる表示パネル及び表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a display panel and a display device that can suppress metal corrosion.
本発明の表示パネルは、ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、前記薄膜トランジスタ基板は、前記ガラス基板上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第1透明導電膜と、前記第1透明導電膜上に形成され、前記端部に至る前に終端している金属配線と、を有することを特徴とする表示パネルである。 The display panel of the present invention includes a thin film transistor substrate in which a thin film transistor is formed on a glass substrate, and the thin film transistor substrate is formed on the glass substrate and extends to an end of the glass substrate; A display panel comprising: a metal wiring formed on the first transparent conductive film and terminated before reaching the end portion.
ここで、「透明導電膜」は、ITO(Indium Tin Oxide)等により形成された光透過性のある導電膜を意味する。 Here, “transparent conductive film” means a light-transmitting conductive film formed of ITO (Indium Tin Oxide) or the like.
また、本発明の表示パネルでは、前記金属配線は、前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線とすることができる。 In the display panel of the present invention, the metal wiring may be a wiring formed simultaneously with the gate wiring of the thin film transistor.
また、本発明の表示パネルでは、前記薄膜トランジスタ基板は、前記金属配線より上層に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第2透明導電膜と、を更に有し、前記第2透明導電膜は、少なくとも前記金属配線を介して、前記第1透明導電膜と電気的に接続されている、とすることができる。 In the display panel of the present invention, the thin film transistor substrate includes an insulating film formed above the metal wiring, and a second transparent conductive film formed on the insulating film and extending to an end of the glass substrate. The second transparent conductive film may be electrically connected to the first transparent conductive film through at least the metal wiring.
本発明の表示装置は、上述した表示パネルのうちのいずれかの表示パネルと、前記表示パネルを固定する固定部材を有する筐体と、を備える表示装置である。 The display device of the present invention is a display device including any one of the display panels described above and a housing having a fixing member for fixing the display panel.
本発明の表示パネル基板は、切断線に沿って切断される表示パネル基板であって、ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、前記薄膜トランジスタ基板は、前記ガラス基板上に形成され、前記切断線に跨って延びる第1透明導電膜と、前記第1透明導電膜と電気的に接続され、前記切断線を挟んで対向して終端する金属配線と、を有し、前記対向して終端する金属配線のうち、少なくとも一方の金属配線は、前記透明導電膜上に形成されている、ことを特徴とする表示パネル基板である。 The display panel substrate of the present invention is a display panel substrate cut along a cutting line, and includes a thin film transistor substrate in which a thin film transistor is formed on a glass substrate, the thin film transistor substrate is formed on the glass substrate, A first transparent conductive film that extends across the cutting line; and a metal wiring that is electrically connected to the first transparent conductive film and terminates oppositely across the cutting line. Among the metal wirings to be terminated, at least one of the metal wirings is formed on the transparent conductive film.
ここで、「切断線」は、切断される予定である線の部分を意味し、通常、外観上識別できるように形成されていないものであるが、識別できるように形成されていてもよい。 Here, the “cut line” means a part of a line that is to be cut, and is usually not formed so as to be identifiable in appearance, but may be formed so as to be identifiable.
また、本発明の表示パネル基板では、前記少なくとも一方の金属配線は前記薄膜トランジスタのゲート配線と同時に成膜される配線である、とすることができる。 In the display panel substrate of the present invention, the at least one metal wiring may be a wiring formed simultaneously with the gate wiring of the thin film transistor.
また、本発明の表示パネル基板では、前記薄膜トランジスタ基板は、前記少なくとも一方の金属配線より上層に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記切断線に跨って延びる第2透明導電膜と、を更に備え、前記第2透明導電膜は、少なくとも前記対向して終端する金属配線を介して、前記第1透明導電膜に電気的に接続されている、とすることができる。 In the display panel substrate of the present invention, the thin film transistor substrate includes an insulating film formed above the at least one metal wiring, and a second transparent conductive film formed on the insulating film and extending across the cutting line. The second transparent conductive film may be electrically connected to the first transparent conductive film through at least the metal wiring that terminates oppositely.
また、本発明の表示パネル基板は、前記切断線に沿って切断される部分は、表示装置に利用される表示装置用部分と、前記表示装置用部分に隣接して配置され、前記表示装置用部分の検査に用いられる検査用端子を備える検査用部分と、から構成されていてもよい。 Further, in the display panel substrate of the present invention, the portion cut along the cutting line is disposed adjacent to the display device portion used for the display device and the display device portion. And an inspection portion having an inspection terminal used for the inspection of the portion.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面において、同一又は同等の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or equivalent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置100について示す図である。この図に示されるように、液晶表示装置100は、液晶表示パネル200と、液晶表示パネル200を挟むように固定する上フレーム110及び下フレーム120と、により構成されている。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a liquid
図2には、液晶表示パネル200が概略的に示されている。この図2に示されるように、液晶表示パネル200は、TFT(Thin Film Transistor)基板210と、カラーフィルタ基板220と、これらの基板を固定すると共に、液晶組成物を内部に封止するシール剤230とにより構成されている。液晶表示パネル200のTFT基板210には、表示する階調に対応する階調電圧が印加されるデータ信号線250と、データ信号線250に印加された階調電圧を画素電極に導くためのトランジスタの導通/非導通を制御するための走査信号線260と、画素電極と対をなして液晶組成物を配向させる電界を形成するためのコモン信号線270と、を有している。なお、この図においては、図が煩雑にならないように信号線の数を減らし、簡略化して記載している。
FIG. 2 schematically shows the liquid
液晶表示パネル200は、複数の液晶表示パネルが配置された液晶表示パネル基板から単体の液晶表示パネル200として切り取られており、図に示されるように、各信号線は、隣接する基板と電気的に接続させるために切断面まで延びている。
The liquid
図3は、図2のAで示された領域におけるTFT基板210について拡大して示した図である。Aで示された領域は、コモン信号線270が液晶表示パネル200の切断面まで延びている部分である。図4は図3のIV−IV線における断面を示す図である。図3及び図4に示されるように、コモン信号線270は、ガラス基板275上に成膜された透明導電膜272と、この透明導電膜272上に金属配線として成膜された銅配線271とで構成されており、このうち銅配線271が切断面の手前で終端し、透明導電膜272のみが切断面にまで延びている。なお、透明導電膜272及び銅配線271は絶縁膜276で覆われている。図5には、図3のV−V線に示される切断面の様子が示されている。この図5に示されるように、切断面にはガラス基板上に成膜された透明導電膜272のみが現われ、銅配線271は現われていない。
FIG. 3 is an enlarged view of the
図3乃至図5に示された切断面近傍におけるコモン信号線270の構成は、データ信号線250及び走査信号線260においても同様である。
The configuration of the
したがって、金属配線である銅配線271が空気に触れることがないため、金属配線の腐食を抑制することができる。
Therefore, since the
[第2実施形態]
図6は、本発明の第2実施形態に係る液晶表示パネル基板300を示す図である。液晶表示パネル基板300は、単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板であり、図6にはその一部について示されている。図6に示されるように、液晶表示パネル基板300は、第1実施形態の液晶表示パネル200と同様の液晶表示パネルがある表示装置領域310と、その表示装置領域310の周囲にあり、表示装置領域310の液晶表示パネルの電気的な検査のために使用される端子を含むデータ信号線検査領域312、走査信号線検査領域314及びコモン信号線検査領域316と、を有している。データ信号線検査領域312は、表示装置領域310の各データ信号線350を接続した端子であるデータ信号共通線313を有し、走査信号線検査領域314は、表示装置領域310の各走査信号線360を接続した端子である走査信号共通線315を有し、コモン信号線検査領域316は、表示装置領域310のコモン信号線370が接続された端子であるコモン信号共通線317を有している。また、液晶表示パネル基板300は、図6に一点鎖線で示された切断線320に沿って切断される。
[Second Embodiment]
FIG. 6 is a view showing a liquid crystal
図7は、図6のBで示された領域におけるTFT基板301について拡大して示された図である。Bで示された領域は、コモン信号線370が切断線320を超えてコモン信号線検査領域316まで延びている部分である。図8は図7のVIII−VIII線における断面を示す図である。図7及び図8に示されるように、コモン信号線370は、ガラス基板375上に成膜された透明導電膜372と、この透明導電膜372上に金属配線として成膜された銅配線371とで構成されており、このうち銅配線371が切断線320の手前で終端し、透明導電膜372のみが切断線320を越えて、コモン信号線検査領域316にまで延び、データ信号共通線313の一部を形成している。また、コモン信号線検査領域316における透明導電膜372上には、切断線320を挟んで終端した銅配線371に対向して、銅配線373が形成され、透明導電膜372と共にデータ信号共通線313を形成している。なお、透明導電膜372、銅配線371及び銅配線373は絶縁膜376で覆われている。
FIG. 7 is an enlarged view of the
図9は、液晶表示パネル基板300のTFT基板301の製造方法の一部について概略的に示している。なお、図9の各ステップにおいて、図面の左側には、TFT基板301の切断線320付近の積層の様子が示され、図面の右側には、これと同時に形成される薄膜トランジスタの部分の積層の様子が示されている。以下では、図面の左側のTFT基板301の切断線320付近の製造方法を中心に説明する。
FIG. 9 schematically shows a part of the manufacturing method of the
図9に示されるように、まず、ステップS101において、ガラス基板375上に透明導電膜372を成膜する。引き続き、ステップS102において、銅配線となる銅の金属膜381を成膜し、ステップS103において、レジスト382を塗布する。次に、ステップS104で、切断線320の付近をハーフマスクとし、その他の部分をフルマスクとした露光を行い、切断線320付近のみレジスト382を薄くする。この後、ステップS105では、図面の右側の薄膜トランジスタの形成処理において、ステップS104でマスク無しで露光され、レジスト382が除去された部分について、更に金属膜381及び透明導電膜372のエッチング処理を行い、これらの層は除去され、ゲート線部分が分離して残される。
As shown in FIG. 9, first, in step S <b> 101, a transparent
引き続き、ステップS106において、ハーフレジストをエッチング処理により除去し、ステップS107において、金属膜381をエッチングにより切り離すことにより銅配線371及び373を形成する。最後にステップS108においてレジストを剥離する。これにより、切断線320を跨る部分を透明導電膜372のみで接続され、その他の部分を透明導電膜372と透明導電膜372上に形成された銅配線371及び373とにより形成された配線を有するTFT基板が製造される。なお、切断線320周辺の透明導電膜のみで接続される部分は、電気抵抗を減らすため短い方が望ましい。
Subsequently, in step S106, the half resist is removed by etching, and in step S107, the
したがって、切断線320の周りを透明導電膜372のみで接続することにより、液晶表示パネルの表示装置領域310の周囲に形成された各信号線検査領域を使用して検査を行うことができると共に、切断後には銅配線が空気に触れることがないため、金属配線の腐食を抑制することができる。
Therefore, by connecting only the transparent
また、ガラス基板上の透明導電膜上にゲート配線のある薄膜トランジスタの形成工程と同時に形成することができるため、製造工程を増やすことなく実現することができる。 Further, since it can be formed at the same time as a thin film transistor having a gate wiring over a transparent conductive film over a glass substrate, it can be realized without increasing the number of manufacturing steps.
[第3実施形態]
図10は、本発明の第3実施形態に係る液晶表示パネル基板400を示す図である。液晶表示パネル基板400は、第2実施形態と同様に、単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板であり、図10にはその一部について示されている。図10に示されるように、液晶表示パネル基板400は、第1実施形態の液晶表示パネル200と同様の液晶表示パネルがある表示装置領域410と、その表示装置領域410の周囲にあり、表示装置領域410の液晶表示パネルの電気的な検査のために使用される端子を含むデータ信号線検査領域412、走査信号線検査領域414及びコモン信号線検査領域416と、を有している。データ信号線検査領域412は、表示装置領域410の各データ信号線450を接続した端子であるデータ信号共通線413を有し、走査信号線検査領域414は、表示装置領域410の各走査信号線460を接続した端子である走査信号共通線415を有し、コモン信号線検査領域416は、表示装置領域410のコモン信号線470が接続された端子であるコモン信号共通線417を有している。また、また、液晶表示パネル基板400は、図10に一点鎖線で示された切断線420に沿って切断される。
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a view showing a liquid crystal
図11は、図10のCで示された領域におけるTFT基板401について拡大して示した図である。Cで示された領域は、データ信号線450が切断線420を超えてデータ信号線検査領域412まで電気的に接続されている部分である。図12は図11のXII−XII線における断面を示す図である。図10乃至図12に示されるように、表示装置領域410のデータ信号線450は、切断線420の手前で終端し、スルーホール477を介して透明導電膜474に電気的に接続され、透明電極474は、更に、スルーホール478及びゲート信号線の配線と同じ層の金属膜451を介して、透明導電膜472に電気的に接続される。透明導電膜472及び474は、絶縁膜479を介して配置され、それぞれ切断線420を越えて延び、データ信号線検査領域412に続いている。データ信号線検査領域412のデータ信号共通線413は、表示装置領域410から切断線420を越えて延びる透明導電膜472と、透明導電膜472上に形成されることにより透明導電膜472と電気的に接続され、切断線420の近くで終端する銅配線473とにより構成され、銅配線473は更に、スルーホール476を介して透明導電膜474と電気的に接続されている。
FIG. 11 is an enlarged view of the
図13は図11のXIII−XIII線における断面を示す図である。この図13に示されるように、切断線420における断面では、ガラス基板上に成膜された透明導電膜472及び474のみが現われ、データ信号線450の銅配線は現われていない。
13 is a view showing a cross section taken along line XIII-XIII of FIG. As shown in FIG. 13, only the transparent
したがって、切断線420の周りを透明導電膜472及び474のみで接続することにより、液晶表示パネルの表示装置領域410の周囲に形成されたデータ信号線検査領域を使用して検査を行うことができると共に、切断後には銅配線が空気に触れることがないため腐食を抑制することができる。
Accordingly, by connecting only the transparent
また、第3実施形態においても第2実施形態と同様に、ガラス基板上の透明導電膜上にゲート配線のある薄膜トランジスタの形成工程と同時に形成することができるため、製造工程を増やすことなく実現することができる。 Also in the third embodiment, as in the second embodiment, it can be formed at the same time as the thin film transistor having the gate wiring on the transparent conductive film on the glass substrate. be able to.
なお、上述の各実施形態では、金属配線を銅配線としたが、アルミニウムやこれらの合金等を使用したその他の金属配線であってもよい。 In each of the above-described embodiments, the metal wiring is a copper wiring, but other metal wiring using aluminum, an alloy thereof, or the like may be used.
100 液晶表示装置、110 上フレーム、120 下フレーム、200 液晶表示パネル、210 TFT基板、220 カラーフィルタ基板、230 シール剤、250 データ信号線、260 走査信号線、270 コモン信号線、271 銅配線、272 透明導電膜、275 ガラス基板、276 絶縁膜、300 液晶表示パネル基板、301 TFT基板、310 表示装置領域、312 データ信号線検査領域、313 データ信号共通線、314 走査信号線検査領域、315 走査信号共通線、316 コモン信号線検査領域、317 コモン信号共通線、320 切断線、350 データ信号線、360 走査信号線、370 コモン信号線、371 銅配線、372 透明導電膜、373 銅配線、375 ガラス基板、376 絶縁膜、381 金属膜、382 レジスト、400 液晶表示パネル基板、401 TFT基板、410 表示装置領域、412 データ信号線検査領域、413 データ信号共通線、414 走査信号線検査領域、415 走査信号共通線、416 コモン信号線検査領域、417 コモン信号共通線、420 切断線、450 データ信号線、451 金属膜、460 走査信号線、470 コモン信号線、472 透明導電膜、473 銅配線、474 透明導電膜、476,477 スルーホール、479 絶縁膜。 100 liquid crystal display device, 110 upper frame, 120 lower frame, 200 liquid crystal display panel, 210 TFT substrate, 220 color filter substrate, 230 sealant, 250 data signal line, 260 scanning signal line, 270 common signal line, 271 copper wiring, 272 Transparent conductive film, 275 glass substrate, 276 insulating film, 300 liquid crystal display panel substrate, 301 TFT substrate, 310 display device region, 312 data signal line inspection region, 313 data signal common line, 314 scanning signal line inspection region, 315 scanning Signal common line, 316 common signal line inspection area, 317 common signal common line, 320 cut line, 350 data signal line, 360 scanning signal line, 370 common signal line, 371 copper wiring, 372 transparent conductive film, 373 copper wiring, 375 Glass substrate, 376 insulating film , 381 Metal film, 382 Resist, 400 Liquid crystal display panel substrate, 401 TFT substrate, 410 Display device area, 412 Data signal line inspection area, 413 Data signal common line, 414 Scan signal line inspection area, 415 Scan signal common line, 416 Common signal line inspection area, 417 common signal common line, 420 cutting line, 450 data signal line, 451 metal film, 460 scanning signal line, 470 common signal line, 472 transparent conductive film, 473 copper wiring, 474 transparent conductive film, 476 , 477 through hole, 479 insulating film.
Claims (8)
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記ガラス基板上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第1透明導電膜と、
前記第1透明導電膜上に形成され、前記端部に至る前に終端している金属配線と、を有することを特徴とする表示パネル。 A thin film transistor substrate having a thin film transistor formed on a glass substrate,
The thin film transistor substrate is
A first transparent conductive film formed on the glass substrate and extending to an end of the glass substrate;
A display panel comprising: a metal wiring formed on the first transparent conductive film and terminating before reaching the end portion.
前記金属配線より上層に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記ガラス基板の端部にまで延びる第2透明導電膜と、を更に有し、
前記第2透明導電膜は、少なくとも前記金属配線を介して、前記第1透明導電膜と電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。 The thin film transistor substrate is
An insulating film formed in an upper layer than the metal wiring;
A second transparent conductive film formed on the insulating film and extending to an end of the glass substrate;
The display panel according to claim 1, wherein the second transparent conductive film is electrically connected to the first transparent conductive film through at least the metal wiring.
前記表示パネルを固定する固定部材を有する筐体と、を備える表示装置。 The display panel according to any one of claims 1 to 3,
And a housing having a fixing member for fixing the display panel.
ガラス基板上に薄膜トランジスタが形成された薄膜トランジスタ基板を備え、
前記薄膜トランジスタ基板は、
前記ガラス基板上に形成され、前記切断線に跨って延びる第1透明導電膜と、
前記第1透明導電膜と電気的に接続され、前記切断線を挟んで対向して終端する金属配線と、を有し、
前記対向して終端する金属配線のうち、少なくとも一方の金属配線は、前記透明導電膜上に形成されている、ことを特徴とする表示パネル基板。 A display panel substrate cut along a cutting line,
A thin film transistor substrate having a thin film transistor formed on a glass substrate,
The thin film transistor substrate is
A first transparent conductive film formed on the glass substrate and extending across the cutting line;
A metal wiring that is electrically connected to the first transparent conductive film and terminates oppositely across the cutting line;
The display panel substrate according to claim 1, wherein at least one of the opposing metal wirings is formed on the transparent conductive film.
前記少なくとも一方の金属配線より上層に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記切断線に跨って延びる第2透明導電膜と、を更に備え、
前記第2透明導電膜は、少なくとも前記対向して終端する金属配線を介して、前記第1透明導電膜に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項5に記載の表示パネル基板。 The thin film transistor substrate is
An insulating film formed in a layer above the at least one metal wiring;
A second transparent conductive film formed on the insulating film and extending across the cutting line,
The display panel substrate according to claim 5, wherein the second transparent conductive film is electrically connected to the first transparent conductive film through at least the metal wiring that terminates oppositely. .
表示装置に利用される表示装置用部分と、
前記表示装置用部分に隣接して配置され、前記表示装置用部分の検査に用いられる検査用端子を備える検査用部分と、から構成される、ことを特徴とする請求項5に記載の表示パネル基板。 The portion cut along the cutting line is
A display device part used in the display device;
The display panel according to claim 5, further comprising: an inspection portion that is disposed adjacent to the display device portion and includes an inspection terminal used for inspecting the display device portion. substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009266183A JP2011112688A (en) | 2009-11-24 | 2009-11-24 | Display panel, display panel substrate, and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009266183A JP2011112688A (en) | 2009-11-24 | 2009-11-24 | Display panel, display panel substrate, and display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011112688A true JP2011112688A (en) | 2011-06-09 |
Family
ID=44235099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009266183A Pending JP2011112688A (en) | 2009-11-24 | 2009-11-24 | Display panel, display panel substrate, and display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011112688A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015029938A1 (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社 東芝 | Array substrate, radiation detector, and wiring substrate |
WO2019004226A1 (en) * | 2017-06-28 | 2019-01-03 | シャープ株式会社 | Active matrix substrate and method for manufacturing same |
CN113126348A (en) * | 2021-04-02 | 2021-07-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Liquid crystal display substrate and manufacturing method thereof |
TWI778384B (en) * | 2020-07-17 | 2022-09-21 | 友達光電股份有限公司 | Substrate device |
-
2009
- 2009-11-24 JP JP2009266183A patent/JP2011112688A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015029938A1 (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社 東芝 | Array substrate, radiation detector, and wiring substrate |
JP2015050236A (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社東芝 | Array substrate, radiation detector, and wiring board |
CN105474395A (en) * | 2013-08-30 | 2016-04-06 | 株式会社东芝 | Array substrate, radiation detector, and wiring substrate |
WO2019004226A1 (en) * | 2017-06-28 | 2019-01-03 | シャープ株式会社 | Active matrix substrate and method for manufacturing same |
CN110800111A (en) * | 2017-06-28 | 2020-02-14 | 夏普株式会社 | Active matrix substrate and method for manufacturing the same |
CN110800111B (en) * | 2017-06-28 | 2023-03-24 | 夏普株式会社 | Active matrix substrate and method for manufacturing the same |
TWI778384B (en) * | 2020-07-17 | 2022-09-21 | 友達光電股份有限公司 | Substrate device |
CN113126348A (en) * | 2021-04-02 | 2021-07-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Liquid crystal display substrate and manufacturing method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI684169B (en) | Display device | |
US10186464B2 (en) | Array substrate motherboard, array substrate and method of manufacturing the same, and display device | |
JP5746313B2 (en) | Flexible display device and manufacturing method thereof | |
US9276047B2 (en) | Method for manufacturing flexible display device | |
WO2020098235A1 (en) | Array substrate, display panel, method of fabricating display panel, and mother substrate | |
US7456432B2 (en) | System having electrostatic discharge protection structure and method for manufacturing the same | |
WO2017105637A1 (en) | Organic light-emitting diode displays with reduced border area | |
US20100149473A1 (en) | Pixel array and manufacturing method thereof | |
JP4934394B2 (en) | Display device | |
KR20140129647A (en) | Organic Light Emitting Diode Display Device and Method for Manufacturing The Same | |
CN111837240B (en) | Thin film transistor, manufacturing method thereof, array substrate and display device | |
JP6427360B2 (en) | Display device | |
US20090206734A1 (en) | Organic light emitting display device | |
CN108027541A (en) | Thin film transistor base plate and its manufacture method | |
US8835956B2 (en) | Display substrate and method of manufacturing the same | |
US10042196B2 (en) | Display and method for manufacturing display | |
JP2011112688A (en) | Display panel, display panel substrate, and display device | |
KR20130088903A (en) | Display device and production method for same | |
JP2007298938A (en) | Display device module and method for manufacturing same | |
WO2012057027A1 (en) | Touch panel, display device, and method for manufacturing touch panel | |
JP2007010956A (en) | Display apparatus and manufacturing method for the same | |
US7538486B2 (en) | Light emitting display panel having a structure to prevent damage to conductive lines | |
US9465266B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP4491375B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
CN103293751B (en) | A kind of color membrane substrates of liquid crystal display and manufacture method thereof |