JP2009190921A - 高圧二酸化炭素の濾過方法及び濾過装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高圧二酸化炭素をフィルタ12により濾過して清浄化する方法であって、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、濾過後にユースポイント17に供給する時の温度T2よりも高温にする高圧二酸化炭素の濾過方法。また、高圧二酸化炭素を濾過するフィルタ12と、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1を供給時の温度T2よりも高温にする温度調整手段40とを備えた高圧二酸化炭素の濾過装置1。
【選択図】図1
Description
超臨界二酸化炭素のような高圧二酸化炭素を用いる洗浄方法では、高度に集積化、微細化された被処理体を扱うため、洗浄流体である高圧二酸化炭素の清浄度が極めて重要である。
また、超臨界状態にある洗浄流体を減圧気化して気体状態としてフィルタにより濾過し、その後に超臨界状態として使用する装置が示されている(特許文献2)。
また、特許文献2の装置では、減圧気化した気体状態の洗浄流体をフィルタ処理することで除粒子性能を高めている。しかし、この方法ではフィルタ処理後に再度昇圧して臨界状態としなければならないために工程が煩雑であり、エネルギー的に不利である。
そのため、高圧二酸化炭素を高圧状態のままで高度に清浄化できる方法が望まれている。
また、前記フィルタにより濾過した高圧二酸化炭素をフィルタの二次側で冷却することが好ましい。
また、前記フィルタの二次側で高圧二酸化炭素中の微粒子測定を行うことが好ましい。
また、前記微粒子測定の結果に基づいて高圧二酸化炭素の温度T1を変化させることが好ましい。
また、前記微粒子測定を光散乱式パーティクルカウンタにより行うことが好ましい。
また、前記フィルタの二次側に高圧二酸化炭素を冷却する冷却手段を備えていることが好ましい。
また、前記フィルタの二次側に高圧二酸化炭素中の微粒子数量を測定する微粒子測定手段を備えていることが好ましい。
また、前記微粒子測定手段が光散乱式パーティクルカウンタであることが好ましい。
また、前記微粒子測定手段による微粒子数量の測定結果に基づいて高圧二酸化炭素の温度T1を変化させる手段を備えていることが好ましい。
本発明の高圧二酸化炭素の濾過方法は、高圧二酸化炭素をフィルタにより濾過して清浄化する方法であって、フィルタを通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、濾過後にユースポイントに供給する時の温度T2よりも高温にすることを特徴とする方法である。
また、本発明の高圧二酸化炭素の濾過装置は、高圧二酸化炭素を濾過するフィルタと、前記フィルタを通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、濾過後にユースポイントに供給する時の温度T2よりも高温にする温度調整手段とを備えていることを特徴とする装置である。
高圧二酸化炭素中には、洗浄対象や用途に合わせて溶剤等を含有させていてもよい。通常、半導体デバイス等の製造工程では、ウエハや基盤等の被処理体表面の汚染物を除去するために、溶剤等を添加した高圧二酸化炭素を使用することがある。
溶剤としては、例えば、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。また、界面活性剤やエッチング剤、水素等のガスを含有させてもよい。
本発明の高圧二酸化炭素の濾過方法及び濾過装置の一例である第1実施形態について、図1に基づいて詳細に説明する。
(濾過装置)
本実施形態の濾過装置1は、高圧二酸化炭素源11(以下、高圧CO2源11という)、フィルタ12、冷却手段13、微粒子測定手段14、及び流量計15を備えている。
高圧CO2源11とフィルタ12とが配管21で連結されており、フィルタ12と冷却手段13とが配管22で連結されており、冷却手段13とユースポイント17とが配管23で連結されている。また、配管23から配管24が分岐しており、配管24には弁31が設置されており、配管24は配管23と逆側の端で微粒子測定手段14に接続されている。また、微粒子測定手段14と流量計15とが配管25で連結されており、流量計15には配管26が接続されている。
流量計15には流量制御装置16が設置されており、配管26に設置された流量調整弁32を制御して微粒子測定手段14への流量を調整できるようになっている。また、配管26には流量調整弁32の二次側に保圧弁33が設置されており、流量調整弁32と保圧弁33との間で配管26が配管27に分岐している。配管27には弁34が設置されており、配管27は配管26と逆側の端で高圧CO2源11に連結されている。
また、フィルタ12の一次側で高圧二酸化炭素を加熱してもよいが、この場合はフィルタ12の一次側の配管等に高圧二酸化炭素がフィルタ12に到達するまで温度を維持するための保温設備が必要となったり、フィルタ12の一次側の高圧二酸化炭素の温度を予め温度T1よりも高温としておく必要が生じたりする場合がある。しかし、濾過装置1ではフィルタ12を直接加熱して高圧二酸化炭素の温度を調整するため、前記のような設備や操作を必要としない。
濾過装置1に冷却手段13が備えられていれば、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、ユースポイント17に供給する温度T2よりも大幅に高くできるため、高い清浄度の高圧二酸化炭素を供給しやすくなる。
微粒子測定手段14としては、非特許文献1(第68回応用物理学会予稿集、No.2、6p-ZF-15、p.759)に記載の光散乱式パーティクルカウンタや、JIS K0554に準じた直検法の適用が好ましく、オンラインで計測、管理が同時に行える光散乱式パーティクルカウンタの適用がより好ましい。
また、微粒子測定装置14が前記光散乱式パーティクルカウンタであれば、高圧二酸化炭素中の微粒子測定がオンラインで直ちに行えるため、その測定結果に基づいたフィルタ12の温度調整が適切でより優れたものとなり、より高い清浄度の高圧二酸化炭素を供給しやすくなる。
濾過装置1は、前記のような理由から、微粒子測定装置14の測定結果に基づいて温度調整手段40による高圧二酸化炭素の温度T1を変化させる手段が設けられていることが好ましい。
これら流量計15、流量制御装置16、流量調整弁32を設けることにより、微粒子測定装置14に送られてくる高圧二酸化炭素を所定の流量にできる。
また、微粒子測定手段14の二次側、特に配管25上に圧力計を設置してもよく、その場合は既存の圧力計を使用することができる。圧力計を微粒子測定手段14の二次側に配置すれば、圧力計から発塵が起こった場合であっても微粒子測定結果に影響がない点で好ましい。また、圧力計を設置する場合は、微粒子測定後の高圧二酸化炭素は配管26から保圧弁33により排出するか、又は、弁34により配管27から高圧CO2源11に戻すことが好ましい。
また、本実施形態の濾過装置1では、冷却手段13とユースポイント17とが配管23で連結されている形態を例示したが、濾過装置1がユースポイント17に直接連結されていなくてもよい。その場合であってもフィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1が供給時の温度T2よりも高温であればよい。
また、温度測定器42は、特に限定されず、フィルタ12の内温を測定するものであってもよく、外温を測定するものであってもよい。また、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度を直接測定できるものであってもよい。また、フィルタ12近傍の配管(配管21もしくは配管22)の内温又は外温を測定するものであってもよい。温度測定器42は、周りの環境温度の影響を避けるため、断熱材により覆われていることが好ましい。
また、調整装置43も特に限定されず、自動で調整するものであっても手動で調整するものであってもよい。
以下、本実施形態の濾過装置1を用いた高圧二酸化炭素の濾過方法について説明する。
高圧二酸化炭素を、高圧CO2源11から配管21を通じてフィルタ12へと送る。フィルタ12は、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1が、ユースポイント17に供給する時の温度T2よりも高温になるように、温度調整手段40の加熱手段41により加熱される。
また、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1は、濾過後にユースポイント17に供給する時の温度T2よりも5℃以上高くなるように調整されることが好ましい。また、温度T1は温度T2よりも10℃以上高くなるように調整されることがより好ましい。
また、測定を行う微粒子測定手段14を前述の光散乱式パーティクルカウンタとすれば、さらに温度調整が適切で優れたものとなるため、供給する高圧二酸化炭素の清浄度をより向上させやすくなる。
また、測定後の高圧二酸化炭素は、弁34により、配管27から高圧CO2源11に回収して再利用してもよい。
以下、本発明の濾過装置及び濾過方法の他の実施形態例である第2実施形態について、図2に基づいて説明する。ただし、図2に例示する濾過装置2において濾過装置1と同じものについては、同符号を付して説明を省略する。
(濾過装置)
本発明の高圧二酸化炭素の濾過装置は、図2に示すような濾過装置2であってもよい。
濾過装置2は、高圧CO2源11、フィルタ12、冷却手段13、微粒子測定手段14、及び流量計15を備えている。また、濾過装置2は、フィルタ12の一次側で高圧二酸化炭素を加熱する加熱手段51、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度を測定する温度測定器52、及び温度測定器52の測定温度から加熱手段51による加熱を調整する調整装置53を有する温度調整手段50を備えている。
流量計15には流量制御装置16が設置されており、配管26に設置された流量調整弁32を制御して微粒子測定手段14への流量を調整できるようになっている。また、配管26には流量調整弁32の二次側に保圧弁33が設置されており、流量調整弁32と保圧弁33との間で配管26が配管27に分岐している。配管27には弁34が設置されており、配管27は配管26と逆側の端で高圧CO2源11に連結されている。
フィルタ12の一次側を加熱する場合は、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度をT1に維持しておくために、フィルタ12の一次側に充分な保温設備が必要となったり、ある程度の温度低下を考慮してフィルタ12の一次側の高圧二酸化炭素の温度を予め温度T1よりも高温に加熱しておく必要が生じたりすることがある点から、加熱手段51による加熱をフィルタ12にできるだけ近い場所で行うことが好ましい。濾過装置2のようなフィルタ12の一次側における高圧二酸化炭素の加熱は、装置構成・配置の自由度が高くなる点で好ましい。
高圧二酸化炭素を、高圧CO2源11から配管21aを通じて加熱手段51へと送って加熱する。加熱手段51による加熱は、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1が濾過後にユースポイント17に供給する時の温度T2よりも高温となるように行う。加熱後、高圧二酸化炭素は配管21bを通じてフィルタ12へと送られて濾過される。
フィルタ12による濾過は通過する高圧二酸化炭素の温度T1が高いほど除粒子性能が高く、第1実施形態における温度調整と同様に行えばよい。また、好ましい態様も同じである。
フィルタ12により濾過された高圧二酸化炭素は、フィルタ12の二次側で冷却手段13により冷却された後にユースポイント17に温度T2で供給されることが好ましい。また、濾過装置1の場合と同じ理由から、弁31を開いて、フィルタ12で濾過された高圧二酸化炭素の一部を配管24に導き、微粒子測定手段14により微粒子数量を測定することが好ましい。
また、微粒子測定手段14に送られる高圧二酸化炭素の流量は、流量計15、流量制御装置16、及び流量調整弁32により所定の流量に調整することにより、微粒子測定の精度が向上する。
また、測定後の高圧二酸化炭素は、弁34により、配管27から高圧CO2源11に回収して再利用してもよい。
フィルタの除粒子性能は濾過する流体によって異なり、一般に液体よりも気体の方がフィルタによる除粒子性能が高い。液体では篩い分けが主な除粒子メカニズムであり、気体ではさえぎり効果と拡散吸着が主な除粒子メカニズムであると言われている。この差は、流体の密度差が影響していると考えられる。
気体二酸化炭素の除粒子性能は、液体二酸化炭素の除粒子性能よりも高いことは知られている(特開平10−50648号公報等)が、超臨界二酸化炭素中の除粒子性能と除粒子メカニズムは解明されておらず、実際の除粒子性能が液体に近いか気体に近いかも不明であった。
本発明における検討によれば、フィルタを通過する高圧二酸化炭素の温度を上げることで除粒子性能の向上が見られたのは、高圧二酸化炭素の密度が低下したためであると考えられる。特に、超臨界二酸化炭素は温度を上げても気体状態にはならないものの、密度が低下し、その物性が気体に近づく方向へ変化したため除粒子性能が向上したと考えられる。
例えば、冷却手段13を備えていない装置であってもよい。高圧二酸化炭素のフィルタ通過時の温度T1と供給時の温度T2と温度差が小さければ、自然冷却を利用して冷却してもよい。
また、微粒子測定手段14を備えていない濾過装置であってもよく、配管27を備えていない濾過装置であってもよい。
本発明の濾過方法は、フィルタで濾過した高圧二酸化炭素を冷却しない方法であってもよく、フィルタで濾過した高圧二酸化炭素の微粒子測定を行わない方法であってもよい。
本実施例では、図3に示す濾過装置3を用いてフィルタの除粒子性能を評価した。
濾過装置3は、高圧CO2源11とフィルタ12と微粒子測定手段14と温度調整手段40を有しており、高圧CO2源11とフィルタ12とが配管61で連結されており、フィルタ12と微粒子測定手段14とが配管62で連結されている。また、配管61と配管62との間にバイパス管63が設けられている。配管61には弁71、配管62には弁72、バイパス管63には弁73が設置されている。
高圧CO2源11から、平均粒子径1μmのシリカ粒子(SiO2粉末、商品名:SS−010、(株)トクヤマ製)を含む、室温、15MPaの高圧二酸化炭素をフィルタ12へと供給した。また、フィルタ12を加熱して、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度を60℃に調整して濾過を行った。高圧二酸化炭素の流量は2g−CO2/分とした。
フィルタ12は、日本精線(株)製のGFT03W(ガス中除粒子性能0.3μm)を用いた。加熱手段41によるフィルタ12の加熱は、フィルタ12を設置した配管継ぎ手周辺のフィルタ12本体外周部に電気ヒータを巻いて行った。温度測定器42による温度測定は、熱伝対によりフィルタ12を設置した配管継ぎ手周辺のフィルタ12本体の外温を測定し、その測定温度を、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度T1とした。また、パーティクルカウンタは、非特許文献1(第68回応用物理学会予稿集、No.2、6p-ZF-15、p.759)に記載の光散乱式パーティクルカウンタを用いた。
(除去率)=(Y−X)/Y×100
式中、Xはフィルタ12で濾過した高圧二酸化炭素中の微粒子数量、Yはバイパス管63を通過させた高圧二酸化炭素中の微粒子数量である。尚、評価期間中、バイパス管63を通過させたときの微粒子数量は4000〜5000個/分であった。
フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度を100℃とした以外は実施例1と同様にして除粒子性能を評価した。
用いたフィルタ12を日本精線(株)製のGFD1N(ガス中除粒子性能1μm)とした以外は実施例1と同様にして除粒子性能を評価した。
用いたフィルタ12を日本精線(株)製のGFD1N(ガス中除粒子性能1μm)とし、フィルタ12を通過する高圧二酸化炭素の温度を100℃とした以外は実施例1と同様にして除粒子性能を評価した。
フィルタ12の温度を調整せずに室温(24.5〜27.2℃)とした以外は実施例1と同様にして除粒子性能を評価した。
用いたフィルタ12を日本精線(株)製のGFD1N(ガス中除粒子性能1μm)とし、フィルタ12の温度を調整せずに室温(24.5〜27.2℃)とした以外は実施例1と同様にして除粒子性能を評価した。
実施例1〜4及び参考例1〜2における除粒子性能の評価結果を表1に示す。
また、実施例1及び2では、同じフィルタを用いた参考例1に比べて除粒子性能が優れていた。また、実施例3及び4も同様に、同じフィルタを用いた参考例2に比べて除粒子性能が優れていた。
Claims (12)
- 高圧二酸化炭素をフィルタにより濾過して清浄化する方法において、
前記フィルタを通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、濾過後にユースポイントに供給する時の温度T2よりも高温にすることを特徴とする高圧二酸化炭素の濾過方法。 - 前記フィルタを加熱して高圧二酸化炭素の温度T1を温度T2よりも高温にする、請求項1に記載の高圧二酸化炭素の濾過方法。
- 前記フィルタにより濾過した高圧二酸化炭素をフィルタの二次側で冷却する、請求項1又は2に記載の高圧二酸化炭素の濾過方法。
- 前記フィルタの二次側で高圧二酸化炭素中の微粒子測定を行う、請求項1〜3のいずれかに記載の高圧二酸化炭素の濾過方法。
- 前記微粒子測定の結果に基づいて高圧二酸化炭素の温度T1を変化させる、請求項4に記載の高圧二酸化炭素の濾過方法。
- 前記微粒子測定を光散乱式パーティクルカウンタにより行う、請求項4又は5に記載の高圧二酸化炭素の濾過方法。
- 高圧二酸化炭素を濾過して清浄化する装置であって、前記高圧二酸化炭素を濾過するフィルタと、前記フィルタを通過する高圧二酸化炭素の温度T1を、濾過後にユースポイントに供給する時の温度T2よりも高温にする温度調整手段とを備えていることを特徴とする高圧二酸化炭素の濾過装置。
- 前記温度調整手段が、前記フィルタを加熱して高圧二酸化炭素の温度T1を温度T2よりも高温にする手段である、請求項7に記載の高圧二酸化炭素の濾過装置。
- 前記フィルタの二次側に高圧二酸化炭素を冷却する冷却手段を備えた、請求項7又は8に記載の高圧二酸化炭素の濾過装置。
- 前記フィルタの二次側に高圧二酸化炭素中の微粒子数量を測定する微粒子測定手段を備えた、請求項7〜9のいずれかに記載の高圧二酸化炭素の濾過装置。
- 前記微粒子測定手段が光散乱式パーティクルカウンタである、請求項10に記載の高圧二酸化炭素の濾過装置。
- 前記微粒子測定手段による微粒子数量の測定結果に基づいて高圧二酸化炭素の温度T1を変化させる手段を備えた、請求項10又は11に記載の高圧二酸化炭素の濾過装置。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000153244A (ja) * | 1998-11-17 | 2000-06-06 | S R Kaihatsu:Kk | 超臨界または亜臨界流体を洗浄媒質または抽出媒質として使用する場合に於ける媒質循環システム |
JP2005116757A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Hitachi Sci Syst Ltd | 超臨界流体処理装置及びその方法 |
JP2005517623A (ja) * | 2002-02-19 | 2005-06-16 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ガスから汚染物を除去する方法 |
WO2005121407A2 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-22 | Praxair Technology, Inc. | Method and system for supplying carbon dioxide |
JP2007175559A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 高圧処理装置および高圧処理方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000153244A (ja) * | 1998-11-17 | 2000-06-06 | S R Kaihatsu:Kk | 超臨界または亜臨界流体を洗浄媒質または抽出媒質として使用する場合に於ける媒質循環システム |
JP2005517623A (ja) * | 2002-02-19 | 2005-06-16 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ガスから汚染物を除去する方法 |
JP2005116757A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Hitachi Sci Syst Ltd | 超臨界流体処理装置及びその方法 |
WO2005121407A2 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-22 | Praxair Technology, Inc. | Method and system for supplying carbon dioxide |
JP2007175559A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 高圧処理装置および高圧処理方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013161856A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Japan Organo Co Ltd | 流体二酸化炭素の供給装置及び供給方法 |
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