JP2009052980A - 高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 - Google Patents
高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009052980A JP2009052980A JP2007218844A JP2007218844A JP2009052980A JP 2009052980 A JP2009052980 A JP 2009052980A JP 2007218844 A JP2007218844 A JP 2007218844A JP 2007218844 A JP2007218844 A JP 2007218844A JP 2009052980 A JP2009052980 A JP 2009052980A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon dioxide
- pressure
- fine particle
- pressure carbon
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 374
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 187
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 187
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 129
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 120
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 59
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】高圧二酸化炭素中の微粒子数を測定する微粒子計16を用いた微粒子測定システム2であって、前記微粒子計16の測定点における高圧二酸化炭素の圧力および/または温度を一定にする機構を備えた、高圧二酸化炭素の微粒子測定システム2よりなる。
【選択図】図1
Description
近年、半導体デバイスの微細化、材料の多様化、プロセスの複雑化、ならびに環境への配慮の観点から、従来のウェット洗浄技術の代替として、超臨界二酸化炭素をベースとした洗浄技術の研究開発が行われている。超臨界二酸化炭素は、密度が液体に近いが、低粘度、高拡散性で、浸漬力に優れ、汚れ成分を拡散しやすいという性質がある。このため、微細構造を有する被処理体の洗浄処理に適している。また、洗浄後は常温・常圧にすることで、乾燥が瞬時に行われる特徴がある。
ウエハ表面の微粒子汚染は半導体デバイスの歩留まりに大きく影響するため、前記洗浄技術の量産プロセスへの適用の際は、洗浄流体となる超臨界二酸化炭素あるいはその基となる液体二酸化炭素中の微粒子除去および清浄度管理が極めて重要となる。精製手段を有する超臨界二酸化炭素の供給システムとして、循環供給システムが提案されている(例えば、特許文献1)。
一方、超臨界二酸化炭素の清浄度を管理保証する上では、微粒子を正確かつ安定的に測定する必要がある。流体中の微粒子を測定する方法には、微粒子計が広く用いられている(例えば、特許文献2)。微粒子計は光の散乱を利用した測定方法であり、正確な測定には、測定部のフローセルにおける流量を一定に保つことが必要である。一般的に、液体の微粒子測定においては、所定の体積流量になるように流量調整して測定する。また、ガスの微粒子測定においては、所定の質量流量となるように、マスフロコントローラによる制御が行われている。
そこで、本発明では、高圧二酸化炭素の圧力および/または温度を一定にすることで、正確かつ安定的な微粒子測定ができる高圧二酸化炭素の微粒子測定システムと微粒子測定方法を目的とする。
本発明の高圧二酸化炭素の微粒子測定システムにあっては、前記高圧二酸化炭素の圧力を一定にする機構は、前記測定点の二次側に設けられた保圧弁および/または流量調整弁を備えることが好ましい。また、前記高圧二酸化炭素の質量流量を一定にする機構は、前記測定点の二次側に直列に配した流量計と流量調整弁と保圧弁とを備えることが好ましく、前記測定点の一次側にキャピラリまたはオリフィスを備え、高圧二酸化炭素を減圧できることが好ましい。
高圧二酸化炭素は圧力、温度の変化に伴い、相状態を含め流体の密度、粘性等の物性が変化(以下、状態変化と記載する)する。特に臨界点近傍の液体二酸化炭素、超臨界二酸化炭素の物性変化は著しい。そして、微粒子計による高圧二酸化炭素中の微粒子測定においては、高圧二酸化炭素のわずかな状態変化が、微粒子計の測定結果に大きな影響を及ぼしていることを見い出した。特に、流量が変化すると、圧力、温度が直ちに変化し、高圧二酸化炭素の状態変化を引き起こし、微粒子計の測定結果に大きく影響する。具体的には、前記の状態変化により微粒子計のノイズが増大し、結果として微粒子計がノイズを微粒子としてカウントしてしまうことで、微粒子検出有無の判別がつき難くなっていた。そこで、前記の状態変化の原因となる圧力、温度を適切に制御することで、正確かつ安定的に微粒子測定を行える、高圧二酸化炭素の微粒子測定システムを発明するに至った。特に、微粒子計内での高圧二酸化炭素の流量を高度に制御することで、圧力、温度を、より適切に制御することができる
なお、説明の便宜上、高圧二酸化炭素の供給源から微粒子測定システムを構成する各機器までの経路を一次側、前記各機器から排出までの経路を二次側として説明する。
(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態の模式図である。
図1に記載した高圧二酸化炭素の微粒子測定システム2は、高圧二酸化炭素容器(以下、単に容器と記載する)10から配管により、微粒子の測定点のある微粒子計16に接続されている。微粒子計16からの配管は図示されない圧力計を備え、直列的に流量計20、流量調整弁22、保圧弁24に接続されている。
微粒子計16は特に限定されることはないが、流路、フローセル等が高圧二酸化炭素の圧力に耐え得る構造のものが使用できる。具体的には1MPa以上の耐圧性を有し、好ましくは5MPa以上、より好ましくは7.4MPa以上の耐圧性を有するものである。
流量調整弁22は保圧弁24の一次側に設置される。流量調整弁22は特に限定されることなく、流量計20の測定値にしたがって、流量調整ができるものであれば良い。
保圧弁24は特に限定されることなく、バネで機械的に圧力保持を行う既存の保圧弁を使用することができる。
微粒子計16の二次側に備えられた圧力計は特に限定されることはなく、既存の圧力計を使用することができる。なお、圧力計は発塵の可能性があるため、微粒子計16の二次側に設けられることが好ましい。
高圧流体の流量調整弁22を流通した高圧二酸化炭素は保圧弁24により、微粒子測定システム2外に適宜排出され、微粒子計16の二次側圧力が維持される。
保圧弁24はバネで機械的に圧力保持を行うため、保圧弁24でのわずかな圧力・流量の変動が生じる。このため、流量計20と保圧弁24とが直接的に接続されていると、保圧弁24での圧力と流量の変動によって、流量計20での圧力・流量の変動を生じ、微粒子計16における圧力と質量流量の制御に支障を来たすことがある。ここで、流量調整弁22は流路の開度の調整により高圧流体の流量調整が行われると同時に、流量調整弁22の一次側と二次側の圧力が調整される。流量調整弁22の一次側と二次側の圧力差は、保圧弁24の圧力変動幅に比べて充分に大きい。このため、流量計20と保圧弁24の間に流量調整弁22を設け、保圧弁24における圧力変動を流量調整弁22で緩衝させて流量計20への影響を取り除くことが好ましい。そして、流量計20によって微粒子計16内の質量流量を正確かつ安定的に把握し、流量調整弁22により微粒子計16内の高圧二酸化炭素の圧力と質量流量を一定とすることができる。
図2は本発明の第2の実施形態の模式図である。
図2に記載した高圧二酸化炭素の微粒子測定システム4は容器10から配管により、圧力調整器12ならびに熱交換器14を経由して、微粒子の測定点のある微粒子計16へ接続されている。圧力調整器12は容器10から供給される高圧二酸化炭素の圧力変動を制御するために、熱交換器14の一次側に設置されている。熱交換器14は二重管となっており、図示されない恒温水層と接続されている。また、測定点の温度を制御するため、微粒子計16は恒温器18内に設置されている。恒温器18内にあって、微粒子計16の二次側の配管には図示されない温度計が設置されている。微粒子計16からの配管は、直列的に流量計20、流量調整弁22、保圧弁24に接続されている。
恒温器18は特に限定されることはなく、恒温水層、あるいは温度制御した空気や窒素等をパージする方法が挙げられる。
微粒子計16の二次側に設置された温度計による温度測定は、配管内部であっても外部であっても良い。温度計センサ部、例えば熱電対からの発塵を防止する観点からは、配管外部に温度計センサ部を取り付けることが好ましい。なお、配管外部に温度計センサ部を取り付ける場合には、環境温度の影響を避けるために、断熱材による覆いを設置することが好ましい。
容器10から配管へ流入した高圧二酸化炭素を、圧力調整器12により、微粒子計16での測定に適した圧力まで減圧する。減圧された高圧二酸化炭素を熱交換器14に流通させる。熱交換器14は二重管となっており、前記の減圧された高圧二酸化炭素は前記二重管の内側管を流通する。前記二重管の外側管には図示されない恒温水層から熱媒体である恒温水が流通されている。高圧二酸化炭素は前記内側管を流通する間に所定の温度に調整される。
高圧二酸化炭素を所定の温度とした後に、微粒子計16へ流入させる。微粒子計16は恒温器18により、所定の温度に保たれている。流入した前記高圧二酸化炭素は、微粒子計16の測定点であるフローセルを通過する際に、光照射を受けて微粒子測定がなされる。微粒子計16から流出した高圧二酸化炭素は配管を介して流量計20を流通する。この際、流量計20は質量流量を測定し、その測定値を制御手段30によって流量調整弁22へ伝え、所定の質量流量となるように流量調整弁22の開度の調整が行われる。流量調整弁22を流通した高圧二酸化炭素は保圧弁24により、微粒子測定システム4外に適宜排出され、微粒子計16の二次側圧力が維持される。
前述のように臨界点近傍においては、高圧二酸化炭素は液体の場合には物性変化が一般に少ない。したがって、恒温器18は二酸化炭素の臨界温度である31.4℃未満とすることが好ましい。
圧力調整器12の設置により、容器10からの流入する高圧二酸化炭素の圧力変動に起因する、微粒子計16内における高圧二酸化炭素の状態変化を防ぐことができる。また、熱交換器14の設置により、高圧二酸化炭素の温度を一定にして微粒子計16に流入させることができる。加えて、恒温器18により微粒子計16内の測定点の環境温度と、高圧二酸化炭素の温度差を制御することで、該測定点において高圧二酸化炭素の状態変化を、より防ぐことができる。
特に、超臨界二酸化炭素を用いた製造活動を行っている場合、容器10からの流入直後、あるいは微粒子計16の一次側で高圧二酸化炭素の圧力および温度は二酸化炭素の臨界点以上になっていることが一般的である。微粒子測定システム4によれば、高圧二酸化炭素の圧力および/または温度を、微粒計16に適した条件に低下させて使用することができる。
そして、本実施形態によれば、微粒子計16内の高圧二酸化炭素の温度、圧力、質量流量を一定とすることで、被測定物である高圧二酸化炭素を安定した状態で、より正確かつ安定的に行うことができる。また、微粒子計16内の高圧二酸化炭素の温度、圧力、質量流量を一定とすることで、被測定物である高圧二酸化炭素の体積流量を一定にすることができるため、単位体積当たりの微粒子数を正確に測定することができる。
本発明は上述の実施形態に限定されるものではない。
第1の実施形態の微粒子測定システム2にあっては、熱交換器14や微粒子計16の恒温器18の設置はないが、微粒子測定システム2を設置した部屋の温度をエアコンディショナ等により制御する方法を選択することもできる。この際、微粒子計16の一次側の配管の距離を充分に持たせ、前記部屋の温度と熱交換することで、熱交換器の代用をすることもできる。
通常、高圧二酸化炭素は、高圧二酸化炭素の使用設備、例えば半導体洗浄ラインの洗浄槽等に接続されている。第1または第2の実施形態では、高圧二酸化炭素容器10から高圧二酸化炭素を微粒子計16に供給しているが、該容器から前記使用設備への供給配管に分岐ラインを設け、該分岐ラインから微粒子計16に流通させる微粒子測定システムとすることもできる。また、高圧二酸化炭素の供給源は前記容器だけでなく、高圧二酸化炭素の製造装置や高圧二酸化炭素の使用設備の一部から、分岐ラインを設けて微粒子計16に流通させる微粒子測定システムであっても良い。このように分岐ライン上に本発明の微粒子測定システムを配置することにより、前記使用設備のポンプの脈動や、使用過程での高圧二酸化炭素の状態変化の影響を受けずに、高圧二酸化炭素中の微粒子測定を行うことができる。
保圧弁24に加えて複数段の減圧装置を設置してもよい。特に高圧二酸化炭素を気化して大気圧下に放出する場合には、保圧弁24の一次側と二次側の圧力差が大きくなり、保圧弁24での圧力・流量変動が、微粒子計16の高圧二酸化炭素の状態に影響を及ぼすことが考えられる。したがって、保圧弁24に加えて複数の減圧装置を設けて多段に減圧することが好ましい。
実施例および比較例に用いた装置を、図3を用いて説明する。図3は本発明の高圧二酸化炭素の微粒子測定システム100と高圧二酸化炭素の循環システム101を備えた装置90の模式図である。
微粒子測定システム100は、循環システム101から分岐111aで分岐した分岐ライン113と接続されている。二酸化炭素ボンベ102に接続されている凝縮器104は、ライン105aにより貯槽106、ポンプ107、加熱器108、フィルタ110を経由し、分岐111aを経由してライン105bにより保圧弁112、凝縮器104と接続されて、循環システム101が形成されている。
高圧二酸化炭素の微粒子測定システム100は次の通りである。分岐111aからの分岐ライン113は、圧力調整器である減圧弁114を経由して分岐111bでライン116cとライン116aに分岐する。ライン116cはバルブ117cを経由して分岐111cに至る。ライン116aはバルブ117aを経由して、フィルタ118に至る。フィルタ118はライン116bによりバルブ117bを経由して分岐111cに至る。分岐111cからライン119により熱交換器120a、微粒子計124、熱交換器120b、流量計128、流量調整弁130、保圧弁132を経由して、図示されない排気口に接続されている。
熱交換器120a、120bは二重配管となっており内側を高圧二酸化炭素が流通し、外側を熱媒体が流通する構造である。熱交換器120aならびに120bと、微粒子計124の接続には保温材が巻かれた配管が使用され、かつ送液中の高圧二酸化炭素が環境温度との温度差の影響を受けにくい距離に配置されている。恒温水槽122は熱媒体を送液するライン123aによりポンプ121を経由して熱交換器120aと接続され、熱交換器120aからは熱媒体を送液するライン123bにより熱交換器120bと接続されている。熱交換器120bは熱媒体を送液するライン123cにより恒温水槽122と接続されている。
フィルタ110、118・・・ステンレス焼結フィルタ(UCS−MB−02VR−30HK、株式会社ピュアロジャパン製)
微粒子計124・・・・・・・KS−90B(リオン株式会社製)に耐圧性を有するフローセルを搭載
流量計128・・・・・・・・コリオリ式マスフロメータ(RHM−015−S、日本フローコントロール株式会社製)
流量調整弁130・・・・・・ミニコントロールバルブEM3R2−150B−L25R2−AS(フジキン株式会社製)
恒温水槽122・・・・・・・CFA610ネオクールサーキュレータ(ヤマト科学製)
凝縮器、貯槽、加熱器、熱交換器・・・・鈴木商工株式会社製
二酸化炭素・・・・・純度99.9%以上(岩谷産業株式会社製)
減圧弁114、バルブ117a、117b、117cを閉じた状態で、二酸化炭素ボンベ102から二酸化炭素を凝縮器104に送り、冷媒で冷却して二酸化炭素を液化した。この液体二酸化炭素を貯槽106に送液した。ついで、ポンプ107で二酸化炭素を19.5MPaまで昇圧させて、5kg/hの流量で送液した。この間、加熱器108での加熱は行わず、循環システム101内を循環させた。
次に減圧弁114、バルブ117a、117bを開き、高圧二酸化炭素の一部を15.2MPaに減圧して、分岐ライン113からライン116aを経由してフィルタ118に流通させた。フィルタ118を流通した高圧二酸化炭素を、ライン116bとライン119を経由させて熱交換器120aに流通させた。高圧二酸化炭素の温度を熱交換器120aで19.0℃に調整した。この際、微粒子計124の環境温度が27.4℃であったため、環境温度と高圧二酸化炭素の温度差ΔT=−8.4℃であった。また、高圧二酸化炭素の質量流量を流量計128で測定しながら、流量調整弁130の開度を調整し、高圧二酸化炭素の質量流量を10g/分に調整した。この時、微粒子計による測定を行った。微粒子測定は、純水中のポリスチレンラテックス(以下、PSL)粒子相当径0.5μm以上として、測定を行った。結果を表1に示す。
高圧二酸化炭素の温度を熱交換器120aで25.4℃(環境温度=27.9℃、ΔT=−2.5℃)に調整した以外は、実施例1と同様に微粒子測定を行った。結果を表1に示す。
減圧弁114、バルブ117a、117b、117cを閉じた状態で、二酸化炭素ボンベ102から二酸化炭素を凝縮器104を介して貯槽106に送液した。ついで、ポンプ107で二酸化炭素を19.5MPaまで昇圧させて、5kg/hの流量で送液した。この間、加熱器108により二酸化炭素の温度を臨界温度(31.4℃)以上の50℃として、循環システム101内を循環させた。
次に減圧弁114、バルブ117a、117bを開き、高圧二酸化炭素の一部を15.2MPaに減圧して、分岐ライン113からライン116aを経由してフィルタ118に流通させた。フィルタ118に流通した高圧二酸化炭素を、ライン116bとライン119を経由させて熱交換器120aに流通させた。高圧二酸化炭素の温度を熱交換器120aで29.2℃に調整した。この際、微粒子計124の環境温度が36.4℃であったため、ΔT=−7.2℃であった。また、高圧二酸化炭素の質量流量を流量計128で測定しながら、流量調整弁130の開度を調整し、高圧二酸化炭素の質量流量を10g/分に調整した。この時、微粒子計による測定を行った。微粒子測定は、純水中のPSL粒子相当径0.5μm以上として、測定を行った。結果を表1に示す。
高圧二酸化炭素の温度を熱交換器120aで36.1℃(環境温度=35.8℃、ΔT=0.3℃)に調整した以外は、実施例3と同様に微粒子測定を行った。結果を表1に示す。
微粒子測定システム100における高圧二酸化炭素の圧力を13.3MPaに調整し、フィルタ118で処理した高圧二酸化炭素の温度を熱交換器120aで40℃に調整し、微粒子測定を行い、測定状況をオシロスコープで観察した。オシロスコープでの観察結果の一例を図4に示す
高圧二酸化炭素の圧力・温度が一定となる調整を行わず、微粒子測定を行い、測定状況をオシロスコープで観察した。オシロスコープでの観察結果の一例を図5に示す。
平均粒子径1μmシリカ粒子(SiO2粉末、SS−010、平均粒子径1μm、株式会社トクヤマ製)を微粒子測定システム100中で高圧二酸化炭素に添加して、フィルタ118での処理を行わず、微粒子測定を行い、測定状況をオシロスコープで観察した。オシロスコープでの観察結果の一例を図6に示す。
また、換言すれば、まず、実施例2、4の結果では、微粒子計内での高圧二酸化炭素の圧力と温度を一定にすることに加えて、前記ΔTを±5℃以下に制御することによって、微粒子測定値は限りなく0個/分に近いことが確認された。しかし、実施例1、3では、前記ΔTを±5℃以下にする制御がなされていないため、微粒子測定値が明確にカウントしうる個数として確認された(実施例1では314個/分、実施例3では48個/分)。これは、被測定物である高圧二酸化炭素が実施例2、4と同様にフィルタによる微粒子除去をしているにもかかわらず、実施例2および4では、微粒子測定値が0個/分である一方、実施例1および3では、明確にカウントしうる個数として計上されているものである。このことから、この微粒子の個数としての計上(微粒子測定値)は、ノイズに基づいているものということができる。
一方、図5に示した比較例1のように、微粒子計内での高圧二酸化炭素の圧力と温度が変動する環境では、微粒子をフィルタ処理した高圧二酸化炭素を測定した場合であっても、パルス信号(ノイズ)が記録されていた。
図6に示すように、実施例6では、微粒子由来であると認められるパルス信号が、ノイズとは明確に区別できる状態で、検出されていることがわかる。
以上の結果より、微粒子計における高圧二酸化炭素の圧力と温度を一定にすることにより、微粒子測定中のノイズを低減することができる。その結果、高圧二酸化炭素中の微粒子を精度良く測定できることがわかる。なお、比較例1のように、ノイズが高くベースラインが安定せず、測定微粒子の閾値を超えるノイズが検出された場合には、微粒子としてカウントされる。このような測定条件下では、微粒子由来のパルス信号とノイズとの明確な区別が不可能となり、精度の良い微粒子測定が行えないこととなりうる。
10 高圧二酸化炭素容器
12、114 圧力調整器
14、120a、120b 熱交換器
16、124 微粒子計
18、122 恒温器
20、128 流量計
22、130 流量調整弁
24、132 保圧弁
102 二酸化炭素ボンベ
Claims (12)
- 1MPa以上の高圧二酸化炭素中の微粒子数を測定する微粒子計を用いた微粒子測定システムであって、前記微粒子計の測定点における高圧二酸化炭素の圧力および/または温度を一定にする機構を備えた、高圧二酸化炭素の微粒子測定システム。
- 前記測定点における高圧二酸化炭素の質量流量を一定にする機構を有することを特徴とする、請求項1に記載の微粒子測定システム。
- 前記測定点の高圧二酸化炭素の温度を一定に制御する機構を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の微粒子測定システム。
- 前記測定点の一次側に、高圧二酸化炭素の温度を低下させる機構を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 前記測定点の環境温度を一定にする機構を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 前記高圧二酸化炭素の圧力を一定にする機構は、前記測定点の二次側に設けられた保圧弁および/または流量調整弁を備えることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 前記高圧二酸化炭素の質量流量を一定にする機構は、前記測定点の二次側に直列に配した流量計と流量調整弁と保圧弁とを備えることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 前記測定点の一次側にキャピラリまたはオリフィスを備え、高圧流体を減圧することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 前記高圧二酸化炭素の保管容器、または高圧二酸化炭素の使用設備に分岐ラインを設け、該分岐ラインから高圧二酸化炭素の供給を受けることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の微粒子測定システム。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の高圧二酸化炭素の微粒子測定システムを用い、前記微粒子計の測定点における高圧二酸化炭素の圧力および/または温度を一定にすることを特徴とする、高圧二酸化炭素の微粒子測定方法。
- 前記微粒子測定システムの測定点における高圧二酸化炭素の温度と、前記測定点の環境温度との温度差を±5℃以内とすることを特徴とする、請求項10に記載の微粒子測定方法。
- 前記測定点または測定点の一次側で、前記高圧二酸化炭素の圧力および温度が二酸化炭素の臨界点以上であること特徴とする、請求項10または11に記載の微粒子測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007218844A JP4997568B2 (ja) | 2007-08-24 | 2007-08-24 | 高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007218844A JP4997568B2 (ja) | 2007-08-24 | 2007-08-24 | 高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009052980A true JP2009052980A (ja) | 2009-03-12 |
JP4997568B2 JP4997568B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=40504191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007218844A Expired - Fee Related JP4997568B2 (ja) | 2007-08-24 | 2007-08-24 | 高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4997568B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012011420A1 (ja) * | 2010-07-21 | 2012-01-26 | オルガノ株式会社 | 流体中の微粒子検出装置及び検出方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005516189A (ja) * | 2002-01-22 | 2005-06-02 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | 二酸化炭素中の不純物を分析する方法 |
JP2005172465A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Sysmex Corp | 粒子測定装置 |
JP2006215035A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Air Products & Chemicals Inc | ガス流中粒子の測定及び/又は分析のためのシステム及び方法 |
-
2007
- 2007-08-24 JP JP2007218844A patent/JP4997568B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005516189A (ja) * | 2002-01-22 | 2005-06-02 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | 二酸化炭素中の不純物を分析する方法 |
JP2005172465A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Sysmex Corp | 粒子測定装置 |
JP2006215035A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Air Products & Chemicals Inc | ガス流中粒子の測定及び/又は分析のためのシステム及び方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012011420A1 (ja) * | 2010-07-21 | 2012-01-26 | オルガノ株式会社 | 流体中の微粒子検出装置及び検出方法 |
JP2012026792A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-02-09 | Japan Organo Co Ltd | 流体中の微粒子検出装置及び検出方法 |
CN102869977A (zh) * | 2010-07-21 | 2013-01-09 | 奥加诺株式会社 | 流体中的微粒子检测装置及检测方法 |
TWI571623B (zh) * | 2010-07-21 | 2017-02-21 | 奧璐佳瑙股份有限公司 | 流體中之微粒子檢測裝置及檢測方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4997568B2 (ja) | 2012-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7818972B2 (en) | Water removal apparatus and inspection apparatus including same | |
US9793176B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP2009014727A (ja) | 凝縮核計数器 | |
JP2009194092A (ja) | 高圧二酸化炭素による被処理体の処理方法及び処理装置 | |
JP5471886B2 (ja) | 高温、高圧処理方法及び高温、高圧処理装置並びに記憶媒体 | |
US6684652B2 (en) | Method of and an apparatus for regulating the temperature of an electrostatic chuck | |
US10242889B2 (en) | Substrate liquid processing method and substrate liquid processing apparatus | |
US20230264233A1 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
US20200261948A1 (en) | Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method, and computer-readable storage medium having substrate liquid processing program stored thereon | |
US20210159095A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4997568B2 (ja) | 高圧二酸化炭素の微粒子測定システムおよび微粒子測定方法 | |
US11869781B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
KR101122918B1 (ko) | 반도체 제조 장치의 가스 공급 시스템 | |
JP2008267640A (ja) | 冷却装置および半導体検査装置 | |
JP5599249B2 (ja) | 流体中の微粒子検出装置及び検出方法 | |
US10529918B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device having magnetic substance film | |
JP5150584B2 (ja) | フィルターの清浄化方法、及び被処理体の洗浄または乾燥方法 | |
JP5147002B2 (ja) | 高圧二酸化炭素の濾過方法及び濾過装置 | |
JPH0569773B2 (ja) | ||
JP5004686B2 (ja) | プローバおよびプローバのウエハチャック温度制御方法 | |
TW578203B (en) | Wafer drying system and operation method thereof | |
JP5486445B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
CN114388383A (zh) | 一种排液装置及排液方法 | |
JP2022151717A (ja) | 流体キャビネットの排気制御方法および基板処理装置 | |
TW201946123A (zh) | 用於降低接觸電阻的基板處理的方法、裝置、及系統 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100607 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110825 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110930 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111028 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4997568 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |