JP2009170512A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009170512A
JP2009170512A JP2008004509A JP2008004509A JP2009170512A JP 2009170512 A JP2009170512 A JP 2009170512A JP 2008004509 A JP2008004509 A JP 2008004509A JP 2008004509 A JP2008004509 A JP 2008004509A JP 2009170512 A JP2009170512 A JP 2009170512A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gnd
signal line
wire
pad
wires
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008004509A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunio Ota
邦夫 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2008004509A priority Critical patent/JP2009170512A/ja
Publication of JP2009170512A publication Critical patent/JP2009170512A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】集積回路チップの設計変更をすることなく、集積回路チップを大型化しなくてもボンディングワイヤで生じるクロストークノイズを減少することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】集積回路チップ1と、集積回路チップ1を保持している第1グランドパターン部2と、第1グランドパターン部2の周囲に配置された電源導体部3,4と、電源導体部3,4の周囲に配置された信号線トレース7と、電源導体部3,4と信号線トレース7の間に配置された第2グランドパターン部5とを有する基板31と、集積回路チップ1と信号線トレース7を接続する信号線ワイヤ6と、第1グランドパターン部2と第2グランドパターン部5とを接続するグランドワイヤ8とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置に関し、特にIC(集積回路)チップとICパッケージのインターポーザ基板を電気的に接続するボンディングワイヤを有する半導体装置に関する。
図7と図8は、従来のボンディングワイヤを有するICパッケージの概略図を示している。図7は、ICパッケージのボンディングワイヤの状態を示す断面図であり、図8は、ICパッケージのボンディングワイヤの状態を示す平面図である。図7と図8では、それぞれ一部Bを代表して拡大して示している。
ICチップ101がパッケージのインターポーザ基板100の中央にマウントされている。GND(グランド)パッド102が、ICチップ101の下部とその周辺に配置されている。各種の電源パッド103,104がGNDパッド102の外周囲に配置され、さらに電源パッド103,104の外周囲には信号線トレース107が配置されている。
信号線ワイヤ106は、ICチップ101の端子と信号線トレース107を接続し、電源ワイヤ110,111は、ICチップ101の端子と電源パッド104,103をそれぞれ接続している。GNDワイヤ112は、ICチップ101のGND端子とGNDパッド102と接続している。
図7の一部Bと図8の一部Bに示すように、このような構造を有するICパッケージでは、信号線ワイヤ106は電流の往路であり、GNDワイヤ112あるいは電源ワイヤ110,111は電流の帰路すなわちリターンパスであるが、信号線ワイヤ106とGNDワイヤ112あるいは電源ワイヤ110,111が、相互に離れて配置されているが、相互に並走して配列されている距離は小さく、信号線ワイヤ106間の間隔は比較的狭い。
高周波回路においては、電流の往路と電流の帰路の間に、電磁界が閉じこめられて信号伝送されるために、上述したように電流の往路と電流の帰路が離れていると電磁界の広がりが大きくなり、隣接する信号線に発生するクロストークノイズ、いわゆる電磁干渉現象が大きくなる。
また、隣接する信号線ワイヤ106同士は比較的並走距離が長いが、隣接する信号線ワイヤ同士の並走距離が長いほど、クロストークノイズが大きくなる。
ボンディングワイヤにおけるクロストークノイズが大きい場合の対策として、例えば図9に示す別の従来のICパッケージを示しており、1本のリターンパスのGNDワイヤ112が1本の信号線ワイヤ106に対して隣接して配置されることで、信号線とリターンパスの電気的結合を強くする方式がある。この場合のGNDワイヤ112は、ICチップ101のGND端子とGNDパッド120を接続している。
また、このような半導体装置の関連技術は、特許文献1に開示されている。特許文献1は、信号線ワイヤに別の誘電体被覆ワイヤを巻き付けて形成して同軸にすることで、高周波領域の伝送特性を改善している。
特開2003−179095号公報
しかし、図9に示すICパッケージでは、信号線ワイヤ106の本数をさらに増やす設計を行う場合に、クロストークノイズの対策を施すために、信号線ワイヤ106の本数に対応してこのGNDワイヤ112の本数をも増やす必要がある。しかし、GNDワイヤ112の本数を増やそうとすると、増やそうとするGNDワイヤ112の本数に応じて、ICチップ101のGND端子をさらに増やす必要がある。すなわち、GNDワイヤ112の本数が増えると、ICチップにはGND端子を増設しなければならない。このため、ICチップのGND端子の増設に伴う設計変更が必要となり、この設計変更は時間的なロスにつながり、ICチップのGND端子を増設すると、ICチップのサイズの大型化が避けられず、コストアップとなる。
また、特許文献1に開示されている信号線ワイヤに別の誘電体被覆ワイヤを巻き付けて形成するのは、作業が複雑になり時間的なロスにつながり、コストアップを招く。
そこで、本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、集積回路チップの設計変更をすることなく、集積回路チップを大型化しなくてもボンディングワイヤで生じるクロストークノイズを減少することができる半導体装置を提供することである。
本発明の半導体装置の第1の態様は、集積回路チップと、
前記集積回路チップを保持している第1グランドパターン部と、
前記第1グランドパターン部の周囲に配置された電源導体部と、
前記電源導体部の周囲に配置された信号線トレースと、
前記電源導体部と前記信号線トレースの間に配置された第2グランドパターン部と、を有する基板と、
前記集積回路チップと前記信号線トレースを接続する信号線ワイヤと、
前記第1グランドパターン部と前記第2グランドパターン部とを接続するグランドワイヤと、具備することを特徴とする。
本発明の半導体装置の第2の態様では、前記グランドワイヤが、前記信号線ワイヤの下側に配置されていることを特徴とする。
本発明の半導体装置の第3の態様では、前記グランドワイヤが、複数ある前記信号線ワイヤの間に配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、集積回路チップの設計変更をすることなく、集積回路チップを大型化しなくてもボンディングワイヤで生じるクロストークノイズを減少することができる半導体装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の半導体装置の好ましい第1実施形態を示している。図1は、半導体装置の一部を拡大して示している。図1(A)は、半導体装置の一部を示す平面図であり、図1(B)は、図1(A)の半導体装置の一部を示す断面図である。
図1(A)と図1(B)に示すように、ICチップ(集積回路チップ)1が、ICパッケージ30のパッケージのインターポーザ基板31の中央にマウントされている。インターポーザ基板31は、第1グランドパターン部としての第1GNDパッド2と、第1電源パッド3と第2電源パッド4と、第2グランドパターン部としての第2GNDパッド5を有している。
第1GNDパッド2が、ICチップ1下とその周辺に配置されている。第1電源パッド3が第1GNDパッド2の外周囲に配置され、さらに第2電源パッド4が第1電源パッド3の外周囲に配置されている。
第1電源パッド3と第2電源パッド4の外周囲には、第2GNDパッド5が配置されている。この第2GNDパッド5の外周囲には、信号線トレース7が配置されている。信号線トレース7と電源パッド4の間には、第2GNDパッド5が配置されている。
複数本の信号線ワイヤ6は、ICチップ1の端子と信号線トレース7を接続している。複数本の電源ワイヤ10は、ICチップ1の端子と第2電源パッド4を接続している。複数本の電源ワイヤ11は、ICチップ1の端子と第1電源パッド3を接続している。複数本のGNDワイヤ12は、ICチップ1のGND端子と第1GNDパッド2を接続している。第1GNDパッド2と第1電源パッド3と第2電源パッド4と第2GNDパッド5は、ワイヤボンディング接続のためのパッドである。
図1(B)に示すように、第1GNDパッド2と第2GNDパッド5は、GNDプレーン13により接続されている。信号線トレース7とGNDプレーン13とは、インターポーザ基板31の誘電体14に配置されている。
このような構造を有するICパッケージ30では、複数本の信号線ワイヤ6は電流の往路であり、複数本のGNDワイヤ8と複数本のGNDワイヤ12あるいは複数本の電源ワイヤ10,11は電流の帰路すなわちリターンパスである。図1(A)に示すように、複数本の信号線ワイヤ6と複数本のGNDワイヤ12あるいは複数本の電源ワイヤ10,11が、並走されている距離は少なく相互に離れている。
本発明の第1実施形態では、複数本のGNDワイヤ8は、内側に位置する第1GNDパッド2と、外側に位置する第2GNDパッド5を接続している。しかも、各GNDワイヤ8は、対応する信号線ワイヤ6の下側に近接して配置されている。すなわち、各GNDワイヤ8の形成位置は、信号線ワイヤ6の形成位置に比べて、GNDパッド2と第1電源パッド3と第2電源パッド4とGNDパッド5側に近いところに配置されている。
このように、本発明の半導体装置の第1実施形態では、図1に示すインターポーザ基板31には、第1GNDパッド2だけでなく、さらに第2GNDパッド5を追加して、この第2GNDパッド5は信号線トレース7の直近に配置され、追加されたGNDワイヤ8が第1GNDパッド2と第2GNDパッド5を接続している。
各GNDワイヤ8は各信号線ワイヤ6の下側に接近させて配置して信号線ワイヤ6とGNDワイヤ8の間隔を短くすることで電気的に強く結合でき、各GNDワイヤ8は信号線ワイヤ6で生じるクロストークノイズを減少させることができる。
そして、追加されたGNDワイヤ8は第1GNDパッド2と第2GNDパッド5を接続する構造である。従って、設計の都合により信号線ワイヤ6の本数が増加されて信号線ワイヤ6の本数の増加に応じてGNDワイヤ8の本数を増加させても、ICチップ1には、新たにGNDワイヤ8を接続するためのパッドを増設する必要がない。これにより、ICチップ1の大型化を避けることができる。
以上説明したように、本発明の半導体装置の第1実施形態では、インターポーザ基板31には第2GNDパッド5を追加して配置し、各GNDワイヤ8は各信号線ワイヤ6の下側に接近させて配置することにより、ボンディング用のワイヤの本数を増やすだけで、集積回路チップを大型化しなくてもボンディング用のワイヤで生じるクロストークノイズを減少させることができる。
(第2の実施の形態)
図2は、本発明の半導体装置の好ましい第2実施形態を示している。図2(A)は、半導体装置の一部を拡大して示す平面図であり、図2(B)は、図2(A)の半導体装置の一部を拡大して示す断面図である。尚、本発明の半導体装置の第2実施形態では、図1に示す本発明の半導体装置の第1実施形態と同様の箇所には同じ符号を付ける。
図2(A)と図2(B)に示すように、ICチップ1が、ICパッケージ30のパッケージのインターポーザ基板31の中央にマウントされている。インターポーザ基板31は、第1グランドパターン部としての第1GNDパッド2と、第1電源パッド3と第2電源パッド4と、第2グランドパターン部としての第2GNDパッド5を有している。
第1GNDパッド2が、ICチップ1下とその周辺に配置されている。第1電源パッド3が第1GNDパッド2の外周囲に配置され、さらに第2電源パッド4が第1電源パッド3の外周囲に配置されている。
第1GNDパッド2が、ICチップ1下とその周辺に配置されている。第1電源パッド3が第1GNDパッド2の外周囲に配置され、さらに第2電源パッド4が第1電源パッド3の外周囲に配置されている。
第1電源パッド3と第2電源パッド4の外周囲には、第2GNDパッド5が配置されている。この第2GNDパッド5の外周囲には、信号線トレース7が配置されている。信号線トレース7と電源パッド4の間には、第2GNDパッド5が配置されている。
複数本の信号線ワイヤ6は、ICチップ1の端子と信号線トレース7を接続している。複数本の電源ワイヤ10は、ICチップ1の端子と第2電源パッド4を接続している。複数本の電源ワイヤ11は、ICチップ1の端子と第1電源パッド3を接続している。複数本のGNDワイヤ12は、ICチップ1のGND端子と第1GNDパッド2を接続している。第1GNDパッド2と第1電源パッド3と第2電源パッド4と第2GNDパッド5は、ワイヤボンディング接続のためのパッドである。
図2(B)に示すように、第1GNDパッド2と第2GNDパッド5は、GNDプレーン13により接続されている。信号線トレース7とGNDプレーン13とは、インターポーザ基板31の誘電体14に配置されている。
このような構造を有するICパッケージ30では、複数本の信号線ワイヤ6は電流の往路であり、複数本のGNDワイヤ9と複数本のGNDワイヤ12あるいは複数本の電源ワイヤ10,11は電流の帰路すなわちリターンパスである。図2(A)に示すように、複数本の信号線ワイヤ6と複数本のGNDワイヤ12あるいは複数本の電源ワイヤ10,11が、並走されている距離は少なく相互に離れている。
本発明の第2実施形態では、複数本のGNDワイヤ9は、内側に位置する第1GNDパッド2と、外側に位置する第2GNDパッド5を接続している。しかも、各GNDワイヤ9は、隣接する信号線ワイヤ6の間に近接して配置されている。
このように、本発明の半導体装置の第2実施形態では、図2に示すインターポーザ基板31には、第1GNDパッド2だけでなく、さらに第2GNDパッド5を追加して、この第2GNDパッド5は信号線トレース7の直近に配置され、追加されたGNDワイヤ9が第1GNDパッド2と第2GNDパッド5を接続している。
各GNDワイヤ9は隣接する信号線ワイヤ6の間に接近させて平行して配置して、信号線ワイヤ6とGNDワイヤ8の間隔を短くすることで隣接する信号線ワイヤ6の間で電磁シールド効果を発揮して、電気的に強く結合でき、各GNDワイヤ9は信号線ワイヤ6で生じるクロストークノイズを減少させることができる。
そして、追加されたGNDワイヤ9は第1GNDパッド2と第2GNDパッド5を接続する構造である。従って、設計の都合により信号線ワイヤ6の本数が増加されて信号線ワイヤ6の本数の増加に応じてGNDワイヤ9の本数を増加させても、ICチップ1には、新たに新たにGNDワイヤ9を接続するためのパッドを増設する必要がない。これにより、ICチップ1の大型化を避けることができる。
以上説明したように、本発明の半導体装置の第2実施形態では、インターポーザ基板31には第2GNDパッド5を追加して配置し、各GNDワイヤ9は隣接する信号線ワイヤ6の間に接近させて配置することにより、ボンディング用のワイヤの本数を増やすだけで、集積回路チップを大型化しなくてもボンディング用のワイヤで生じるクロストークノイズを減少させることができる。
ここで、本発明の第1実施形態と本発明の第2実施形態、そして本発明の範囲外である比較例について、電磁界解析と電気回路解析によって検証した結果を説明する。
図3は、比較例として従来の半導体装置におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示しており、この従来の半導体装置は、第2GNDパッド5が配置されておらず、しかもGNDワイヤ8とGNDワイヤ9のいずれも設けられていない。
図4は、上述した本発明の半導体装置の第1実施形態におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示している。すなわち、図4に示す半導体装置では、各信号線ワイヤ6の下側にGNDワイヤ8が配置されている。
図5は、上述した本発明の半導体装置の第2実施形態におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示している。すなわち、図5に示す半導体装置では、隣接する信号線ワイヤ6の間にGNDワイヤ9が挿入されている。
ここで、図3に示す比較例と、図4に示す発明の半導体装置の第1実施形態、そして図5に示す発明の半導体装置の第2実施形態において、インターポーザ基板のGNDパッドと電源パッドと信号線トレースの配線の材質はCuであり、ボンディングワイヤの材質はAu、インターポーザ基板は比誘電率4.4の誘電体とした。信号線ワイヤ6,106の長さは4mm、信号線ワイヤ6,106の間隔Mは120μmである。図4と図5に示す第1GNDパッド2と第2GNDパッド5の間隔は、1.8mmである。
図4におけるGNDワイヤ8の長さは、2.3mmで、信号線ワイヤ6とGNDワイヤ8の間隔は、70μmである。図5におけるGNDワイヤ9の長さは、2.3mmで、信号線ワイヤ6とGNDワイヤ9の間隔は、60μmである。
なお、図3〜図5において、解析を単純化するために、電源ワイヤは存在しない条件で解析した。
図3では信号線ワイヤ106は8本あり、8本の信号線ワイヤ106はそれぞれIO0,IO1,IO2,IO3,IO4,IO5,IO6,IO7と呼び、符号20〜27でそれぞれ示している。
同様に、図4と図5では信号線ワイヤ6は8本あり、8本の信号線ワイヤ6はそれぞれIO0,IO1,IO2,IO3,IO4,IO5,IO6,IO7と呼び、符号20〜27でそれぞれ示している。IO0線を0電位で固定し、IO2線以外の7本の信号線ワイヤ6には400MHzのクロック信号を、ボンディングワイヤとICチップ1,101の接続点15から入力した時に、トレース端16で観測されるIO2線の信号波形とIO3線の信号波形を解析した。IO2線の信号波形とIO3線の信号波形は、遠端クロストークノイズと言う。
図6(A)は、IO2線の信号波形例を示し、図6(B)は、IO3線の信号波形例を示している。図6(A)と図6(B)においては、図3の比較例については(a)の太い実線で示し、図4の第1実施形態については(b)の細い実線で示し、そして図5の第2実施形態については(c)の破線で示す。
図6(A)に示すIO2線に乗るクロストークノイズ振幅は、(a)の比較例では1.25Vp−pであるのに対して、(b)の第1実施形態では0.80Vp−p、(c)の第2実施形態では0.84Vp−pとなり、第1実施形態と第2実施形態のいずれも、比較例に比べてクロストークノイズ振幅が減少している。
また、図6(B)に示すIO3線においても、第1実施形態と第2実施形態のいずれも、比較例に比べてクロストークノイズの影響が小さくなるために、動作信号の立ち上がりと立ち下がりが速くなっており、動作信号の品質が改善している。
なお、この発明は、上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。
また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることにより種々の発明を形成できる。例えば、実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
更に、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。具体的には、例えば図1に示す本発明の第1実施形態のGNDワイヤ8と図2に示す本発明の第2実施形態のGNDワイヤ9を同時に併用することもできる。すなわち、信号線ワイヤ6の下側にGNDワイヤ8を配置するとともに、隣接する信号線ワイヤ6の間にGNDワイヤ9を配置するようにしても良い。
本発明の半導体装置の好ましい第1実施形態を示す図である。 本発明の半導体装置の好ましい第2実施形態を示す図である。 比較例として従来の半導体装置におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示す図である。 本発明の半導体装置の第1実施形態におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示す図である。 本発明の半導体装置の第2実施形態におけるクロストークノイズを解析するための電磁界解析モデルを示す図である。 本発明の図である。 従来のボンディングワイヤを有するICパッケージの断面図である。 図7に示す従来のボンディングワイヤを有するICパッケージの平面図である。 別の従来のボンディングワイヤを有するICパッケージを示す図である。
符号の説明
1…ICチップ(集積回路チップ)、2…第1GNDパッド(第1グランドパターン部)、3…第1電源パッド(第1電源導体)、4…第2電源パッド(第2電源導体)、5…第2GNDパッド(第2グランドパターン部)、6…信号線ワイヤ、7…信号線トレース、8…GNDワイヤ(グランドワイヤ)、9…GNDワイヤ(グランドワイヤ)。

Claims (3)

  1. 集積回路チップと、
    前記集積回路チップを保持している第1グランドパターン部と、
    前記第1グランドパターン部の周囲に配置された電源導体部と、
    前記電源導体部の周囲に配置された信号線トレースと、
    前記電源導体部と前記信号線トレースの間に配置された第2グランドパターン部と、を有する基板と、
    前記集積回路チップと前記信号線トレースとを接続する信号線ワイヤと、
    前記第1グランドパターン部と前記第2グランドパターン部とを接続するグランドワイヤと、を具備することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記グランドワイヤが、前記信号線ワイヤの下側に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記グランドワイヤが、複数ある前記信号線ワイヤの間に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
JP2008004509A 2008-01-11 2008-01-11 半導体装置 Pending JP2009170512A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008004509A JP2009170512A (ja) 2008-01-11 2008-01-11 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008004509A JP2009170512A (ja) 2008-01-11 2008-01-11 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009170512A true JP2009170512A (ja) 2009-07-30

Family

ID=40971393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008004509A Pending JP2009170512A (ja) 2008-01-11 2008-01-11 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009170512A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010016250A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2014229679A (ja) * 2013-05-21 2014-12-08 株式会社リコー 半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010016250A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2014229679A (ja) * 2013-05-21 2014-12-08 株式会社リコー 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20110147953A1 (en) Microelectronic assembly with joined bond elements having lowered inductance
JP2006067621A (ja) 電子装置
KR20100002113A (ko) 반도체장치 및 반도체 집적회로
US8895870B2 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JP6355302B2 (ja) プリント回路板、プリント配線板及び電子機器
KR20080103897A (ko) 반도체 장치, 리드프레임, 및 반도체 장치의 실장 구조
JP2009170512A (ja) 半導体装置
JP5499696B2 (ja) 半導体装置及び実装構造
JP2020025076A (ja) モジュール
US9226386B2 (en) Printed circuit board with reduced emission of electro-magnetic radiation
CN110797314A (zh) 组件
JP2005123520A (ja) プリント配線板
US8183695B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2007042957A (ja) 半導体装置用多層基板の部分めっき方法
JP2010016250A (ja) 半導体装置
JP2008045950A (ja) プローブカード
KR102279979B1 (ko) 모듈
JPWO2014119096A1 (ja) 半導体集積回路
US20110147928A1 (en) Microelectronic assembly with bond elements having lowered inductance
JP2011159661A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US6646343B1 (en) Matched impedance bonding technique in high-speed integrated circuits
JP2008311379A (ja) 半導体装置
TW200834867A (en) Wire bond integrated circuit package for high speed I/O
CN111755422B (zh) 可选式接合的接地防护结构
JP2009302180A (ja) 半導体装置