JP2009157095A - 近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタ - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 74
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 20
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
【解決手段】マスクステージ10は大マスクMaの四辺を保持するマスク吸着部70を有すると共に、マスク吸着部70に取り付けられるマスクアダプタ80を介して大マスクMaより面積が小さい略矩形状の小マスクMbを保持可能である。
【選択図】図5
Description
(1) 被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であることを特徴とする近接露光装置。
(2) 前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする(1)または(2)に記載の近接露光装置。
(4) 略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
図1に示すように、第1実施形態のステップ式近接露光装置PEは、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するものであり、特に、本実施形態では、サイズの異なる略矩形状の大小二つのマスクMa,Mbを用いて露光できるように構成されている。近接露光装置PEは、露光パターンをそれぞれ有する各マスクMa,Mbをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのワークWをx、y、z方向に移動可能に保持するワークステージ20と、パターン露光用の光をマスクMa,Mbを介してワークWに照射する照射手段である照明光学系40と、から主に構成されている。
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置PE及び近接露光装置用マスクアダプタについて、図7及び図8を参照して説明する。なお、第1実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
また、各マスク支承体73,91の受け部73a,91aの形状は、マスクアダプタ80、マスクMa,Mbの係合部の形状に応じて、任意に設定可能である。
W ガラス基板(被露光材)
M マスク
10 マスクステージ
11 マスクステージベース
12 マスク保持枠
20 ワークステージ
21 ワーク保持部
22 ワーク移動機構
40 照明光学系
70 マスク吸着部(マスク保持部)
71,71a,71b 吸着溝
72 大マスク用落下防止機構
80 マスクアダプタ
82 吸着溝
83 連通孔
90 小マスク用落下防止機構
Claims (4)
- 被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であることを特徴とする近接露光装置。 - 前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の近接露光装置。 - 略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335072A JP5105167B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335072A JP5105167B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009157095A true JP2009157095A (ja) | 2009-07-16 |
JP5105167B2 JP5105167B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007335072A Expired - Fee Related JP5105167B2 (ja) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | 近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタ |
Country Status (1)
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JP (1) | JP5105167B2 (ja) |
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WO2017158925A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | コニカミノルタ株式会社 | マスク保持機構及びこれを備えるパターニング装置 |
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