JP2009157095A - 近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタ - Google Patents

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Abstract

【課題】ガラス基板の搬送時、及び露光時におけるガラス基板の保持において、ガラス基板を安全に保持することが可能な露光装置用基板アダプタ及び露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ10は大マスクMaの四辺を保持するマスク吸着部70を有すると共に、マスク吸着部70に取り付けられるマスクアダプタ80を介して大マスクMaより面積が小さい略矩形状の小マスクMbを保持可能である。
【選択図】図5

Description

本発明は、近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタに関し、特に、フラットパネルディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイのカラーフィルタ基板やTFT基板を製造するために使用される近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタに関する。
従来の露光装置においては、マスクアダプタを使用することで、サイズの異なる2種類のマスクを用いて露光することが考案されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に記載のマスクアダプタは、小マスクの対向する二辺の縁部をそれぞれ下部から支持すると共に、マスクアダプタの二辺の縁部がそれぞれ下部から露光装置に支持されている。 また、マスクアダプタの形状、材質は、大マスク(標準マスク)の自重撓みと小マスクに対応する部分の自重撓みが略一致するように設定されており、略透明な保護膜や保護板を小マスクのパターン面に貼り付けることでマスクを保護している。
特開2006−243380号公報
ところで、ディスプレイ基板を製造するような近接露光装置においても、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いて露光することが望まれる。しかしながら、近接露光装置は、マスクと基板との間隔が100〜200μmという近接配置した状態で露光を行うため、マスクの四辺を吸着保持しており、また、マスクの下面に保護膜や保護板を貼り付けるスペースはなく、特許文献1に記載のマスクアダプタを近接露光装置に適用することはできない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いて露光することができる近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタを提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
(1) 被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であることを特徴とする近接露光装置。
(2) 前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする(1)または(2)に記載の近接露光装置。
(4) 略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
本発明の近接露光装置によれば、マスクステージは、マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介してマスクより面積が小さい略矩形状の他のマスク(小マスク)を保持可能である。これにより、マスクアダプタを使用することで、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクを用いた露光を実現することができる。また、異なる仕様の複数のマスクアダプタを取り替えることで、一台の露光装置でサイズの異なる多数のマスクを用いて露光を行うことができる。
また、本発明の近接露光装置用マスクアダプタによれば、小マスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、マスク保持部の吸着溝とマスクアダプタの他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されるので、小マスクの保持とマスクアダプタの保持を保持するための吸着系統が一つでよく、簡易な構成となる。
以下、本発明に係る近接露光装置及び近接露光装置用マスクアダプタについて、図面を参照して詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1に示すように、第1実施形態のステップ式近接露光装置PEは、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するものであり、特に、本実施形態では、サイズの異なる略矩形状の大小二つのマスクMa,Mbを用いて露光できるように構成されている。近接露光装置PEは、露光パターンをそれぞれ有する各マスクMa,Mbをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのワークWをx、y、z方向に移動可能に保持するワークステージ20と、パターン露光用の光をマスクMa,Mbを介してワークWに照射する照射手段である照明光学系40と、から主に構成されている。
なお、ガラス基板からなるワークWは、各マスクMa,Mbに対向配置されており、これらマスクMa,Mbに描かれた露光パターンを露光転写すべく表面(マスクMa,Mbの対向面側)に感光剤が塗布されている。
マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにx軸,y軸,θ方向に移動可能に装着され、マスクMa,Mbを保持するマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させて、マスクMa,Mbの位置を調整するマスク駆動機構16とを備える。
マスクステージベース11は、ワークステージ側の装置ベース50上に立設される複数の支柱51に支持されており、マスクステージベース11と支柱51との間に設けられたz軸粗動機構52(図2参照)によりマスクステージベース11は装置ベース50に対して昇降可能である。
図2に示すように、マスク保持枠12の下方には、マスク保持部であるマスク吸着部70が間座79を介して一体に取り付けられている。このマスク吸着部70には、マスクMaの露光パターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸着溝71が下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によって大マスク(標準マスク)Maを着脱自在に保持する。また、図3及び図4に示すように、マスク吸着部70には、大マスクMaの落下を防止する大マスクMa用の落下防止機構72が設けられている。
落下防止機構72は、マスク支承部73、シリンダ74a及びピストンロッド74bを含む駆動機構74と、スライダ75a及びレール部材75bを含むガイド機構75と、を有する。マスク支承部73の先端には、マスクMaの外周部に形成されたテーパ状の係止部Ma1と当接可能なテーパ状の受け部73aが形成されており、マスク支承部73の下面は、マスクMaの下面より上方に配置されるように設計されている。駆動機構74は、エアーシリンダ機構により構成され、マスク吸着部70の上面に設置されたシリンダ74aによってピストンロッド74bが進退する。さらに、マスク支承部73の上面には、スライダ75aが取り付けられており、スライダ75aはマスク吸着部70の下面に設けられた案内レール75bに沿って案内されている。また、マスク支承部73には、マスク吸着部70に形成された貫通孔70aを介してピストンロッド74bと連結される連結部材76が取り付けられている。
これにより、落下防止機構72は、駆動機構74を作動させることで、吸着保持されたマスクMaの係止部Ma1にマスク支承部73の受け部73aを当接させてクランプし、万一、マスクMaの吸着力が解除された場合におけるマスクMaの落下を防止する。
同時に、マスクMaより面積が小さい他のマスクである小マスクMbは、マスク吸着部70に取り付けられる後述するマスクアダプタ(近接露光装置用マスクアダプタ)80を介して、マスクステージ10に保持される。
マスク駆動機構16は、マスク保持枠12を駆動する各種シリンダ16x、16x、16y等のアクチュエータと、マスクステージベース11とマスク保持枠12との間に設けられた図示しないガイド機構等により、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させる。
また、マスクステージ10は、マスクMとワークWとの対向面間のギャップを測定する複数のギャップセンサ17と、マスクMとワークWとの平面ずれ量を検出する複数のアライメントカメラ18と、が設けられる。これらギャップセンサ17とアライメントカメラ18は、移動機構19を介してx軸、y軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠12内に配置される。
また、マスク保持枠12上には、図1に示すように、マスクステージベース11の開口11aのx軸方向の両端部に、マスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード38が設けられる。このアパーチャブレード38は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構39によりx軸方向に移動可能とされて、マスクMの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード38は、開口11aのX軸方向の両端部だけでなく、開口11aのY軸方向の両端部に同様に設けられている。
ワークステージ20は、ワークWを保持するワーク保持部21と、ワーク保持部21を装置ベース50に対してx、y、z方向に移動するワーク移動機構22と、を備える。
ワーク保持部21は、上面にワークWを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によってワークWを着脱自在に保持する。また、ワーク保持部21には、ワークWや各マスクMa,Mbが載置されるチャックピン66(図6参照)がワーク保持部21の上面から進退可能に設けられている。
ワーク移動機構22は、ワーク保持部21の下方に、y軸テーブル23、y軸送り機構24、x軸テーブル25、x軸送り機構26、及びz−チルト調整機構27を備える。
y軸送り機構24は、図2に示すように、リニアガイド28と送り駆動機構29とを備えて構成され、y軸テーブル23の裏面に取り付けられたスライダ30が、転動体(図示せず)を介して装置ベース50上に延びる2本の案内レール31に跨架されると共に、モータ32とボールねじ装置33とによってy軸テーブル23を案内レール31に沿って駆動する。
なお、x軸送り機構26もy軸送り機構24と同様の構成を有し、x軸テーブル25をy軸テーブル23に対してx方向に駆動する。また、z−チルト調整機構27は、くさび状の移動体34,35と送り駆動機構36とを組み合わせてなる可動くさび機構をx方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構29,36は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、z-チルト調整機構27の設置数は任意である。
これにより、ワーク移動機構22は、ワーク保持部21をx方向及びy方向に送り駆動するとともに、マスクMとワークWとの間のギャップを微調整するように、ワーク保持部21をz軸方向に微動且つチルト調整する。
ワーク保持部21のx方向側部とy方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のy方向端部とx方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定し、ワークステージの位置を検出する。
図2に示すように、照明光学系40は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ41と、この高圧水銀ランプ41から照射された光を集光する凹面鏡42と、この凹面鏡42の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ43と、光路の向きを変えるための平面ミラー45及び球面ミラー46と、この平面ミラー45とオプチカルインテグレータ43との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター44と、を備える。
このように構成された近接露光装置PEでは、アライメントカメラ18及びレーザー干渉計63,64,65の検出信号に基づき、マスク位置調整機構13を駆動制御してワーク保持部21に対するマスクMのアライメント調整を行うとともに、ギャップセンサ17の検出信号に基づきながら、z−チルト調整機構27を駆動制御してマスクMとワークW間のギャップを調整する。そして、これら調整後に、照射光学系40の光源から光が照射されている状態で、露光制御用シャッター34を所定の露光時間の開くことで、マスクMの露光パターンが照射光学系40によってワークWに露光転写される。その後、ワーク保持部21をワーク移動機構22によってx方向及びy方向にステップ移動し、上記と同様の動作を繰り返すことで、ステップ露光が行われる。
ここで、図3及び図5に示すように、小マスクMb(本実施形態では、1300mm×1500mm)を保持する略矩形状のマスクアダプタ80は、各対向する二辺のマスク吸着部70の吸着溝71間の距離よりも大きな外形寸法(本実施形態では、1600mm×1800mm)を有すると共に、内側に略矩形状の開口81(本実施形態では、1130mm×1400mm)を有する。また、マスクアダプタ80には、開口81周縁近傍の各辺に、小マスクMbの露光パターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の他の吸着溝82が下面に開設されていると共に、マスク吸着部70に取り付けられた時、他の吸着溝82との吸着溝71とを連通する連通孔83が形成されている。
さらに、マスクアダプタ80の下面に形成された先細状の開口部84には、小マスクMb用の他の落下防止機構90を構成する小マスク支承部91が取り付けられており、ガイド機構を構成している。小マスク支承部91は、開口部84と略同一断面形状の台形に形成され、開口部84内をスライド可能且つ落下しないように構成されている。なお、ガイド機構の構成としては、マスクアダプタ80と小マスク支承部91との間にリニアガイドを配置するようにしてもよい。また、小マスク支承部91の先端には、小マスクMbの外周部に形成されたテーパ状の係止部Mb1と当接可能なテーパ状の受け部91aが形成されており、小マスク支承部91の下面は、小マスクMbの下面より上方に配置されるように設計されている。
また、マスクアダプタ80と小マスク支承部91とが対向する位置には、押えコマ機構85が設けられている。押えコマ機構85は、小マスク支承部91の上面に形成された球面座91bと、マスクアダプタ80内に収容された玉86及びばね87とを備え、小マスク支承部91の上面に向けて玉86がばね87を介して押圧される。そして、この押えコマ機構85は、小マスク支承部91の球面座91bに玉86を収容することで、図6に示すように、マスクアダプタ80と小マスク支承部91とによって小マスクMbを支持した状態で、小マスク支承部91をマスクアダプタ80に対して位置決めすることができる。
さらに、他の落下防止機構90は、上述した小マスク支承部91及びガイド機構と、駆動機構92とを備える。駆動機構92も、エアーシリンダ機構により構成され、マスク吸着部70の上面に設置されたシリンダ92aによってピストンロッド92bが進退する。また、小マスク支承部91の受け部91aと反対側の端部には、嵌合部91cが形成されており、嵌合部91cは、マスク吸着部70に形成された貫通孔70bを介してピストンロッド92bと連結される連結部材93に形成された被嵌合部93aと嵌合する。
また、マスクアダプタ80の下面外周には、断面テーパ状の切欠き88が全周に亙って形成されており、上述した落下防止機構72の大マスク支承部73の受け部73aと当接可能に構成されている。なお、切欠き88は、マスクアダプタ80の下面外周全周に設けられてもよいが、大マスク支承部73の受け部73aが当接する位置のみに形成されてもよい。
このため、小マスクMbをマスクステージ10に装着する場合には、まず、マスクアダプタ80に小マスクMbを組み付ける。この際、図6に示すように、押えコマ機構85の玉86が小マスク支承部91の球面座91bに収容されることで、小マスク支承部91の受け部91aが小マスクMbの係止部Mb1を受ける。これにより、小マスクMbは、落下やずれを防止しつつ、マスクアダプタ80に保持される。このように、小マスクMbは、マスクアダプタ80に組み付けられた状態で、マスクローダLによってマスク保持枠12の下方へ搬入され、ワーク保持部21の上面から突出するチャックピン66上に載置される。なお、マスクローダLで小マスクMbを搬入する際には、押えコマ機構85によって小マスクMbの落下やずれを防止するのに加えて、図示しない真空吸着機構を設け、小マスクMbをマスクアダプタ80に吸着した状態で搬送するようにしてもよい。
その後、ワークステージ11をz軸方向に駆動することで、小マスクMbの貼り付け位置、即ち、マスクアダプタ80の上面とマスク吸着部70の下面とが接触或いは近接する位置まで小マスクMbが移動される。この状態で、小マスク支承部91の嵌合部91cと連結部材93の被嵌合部93aとがインロー嵌合される。
そして、小マスクMbが貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部70の吸着溝71、マスクアダプタ80の連通孔83及び吸着溝82を通じて、小マスクMbをマスク吸着部70に吸着保持する。さらに、駆動機構92を駆動して、連結部材93と共に小マスク支承部91を小マスクMbに向けて移動させ、小マスク支承部91の受け部91aを小マスクMbの係止部Mb1に当接させる(図5(a)参照)。これにより、真空吸着機構の不具合により小マスクMbの吸着が外れた場合であっても、小マスク支承部91の受け部91aによって小マスクMbが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。その後、小マスクMbのアライメントを行って、小マスクMbの組み付け動作を完了する。
また、同時に、大マスクMa用の落下防止機構72の駆動機構74を駆動して大マスク支承部73の受け部73aをマスクアダプタ80の切欠き88に当接させることで、大マスク支承部73の受け部73aによってマスクアダプタ80が支えられ、万一、マスクアダプタ80の吸着力が解除された場合におけるマスクアダプタ80の落下を防止することができる。
なお、大マスクMaをマスクステージ10に装着する場合にも、従来と同様に、大マスクMaを貼り付け位置、即ち、大マスクMaをマスク吸着部70の下面に接触又は近接する位置へ移動させ、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部70の吸着溝71を通じて、大マスクMaをマスク吸着部70に吸着保持する。さらに、図4に示す駆動機構74を駆動して、連結部材76と共に大マスク支承部73を大マスクMbに向けて移動させ、大マスク支承部73の受け部73aによって大マスクMaの係止部Ma1に当接させ、万一、大マスクMaの吸着力が解除された場合における大マスクMa落下を防止することができる。
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置PEによれば、マスクステージ10は大マスクMaの四辺を保持するマスク吸着部70を有すると共に、マスク吸着部70に取り付けられるマスクアダプタ80を介して大マスクMaより面積が小さい略矩形状の小マスクMbを保持可能である。これにより、マスクアダプタ80を使用することで、一台の露光装置でサイズの異なる複数のマスクMa,Mbを用いた露光を実現することができる。また、異なる仕様の複数のマスクアダプタ80を取り替えることで、一台の露光装置でサイズの異なる多数のマスクを用いて露光を行うことができる。
また、マスクステージ10は、大マスクMaの落下を防止する大マスク用の落下防止機構72と、小マスクMbの落下を防止する小マスク用の落下防止機構90と、を備える。これにより、真空吸着機構の不具合により各マスクMa,Mbの吸着が外れた際、各マスク支承部73,91の受け部73a,91aによって各マスクMa,Mbが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。また、大マスク用の落下防止機構72は、マスクアダプタ80の切欠きに当接させることで、マスクアダプタ80の落下も防止することができる。
また、マスク吸着部70は、大マスクMaと対向する吸着溝71を介して、大マスクMaを吸着保持すると共に、マスクアダプタ80は、マスク吸着部70に取り付けられた時、小マスクMbと対向する吸着溝82とマスク吸着部70の吸着溝71とが連通するように形成されるので、簡単な構成で、マスクアダプタ80を介して小マスクMbをマスクステージ10に吸着することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置PE及び近接露光装置用マスクアダプタについて、図7及び図8を参照して説明する。なお、第1実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
第1実施形態では、マスクアダプタ80と小マスクMbが同時にマスク吸着部70に吸着される構成としたが、本実施形態の近接露光装置PEでは、マスクアダプタ80がマスク吸着部70に吸着された後に、小マスクMbを吸着する構成としている。このため、マスクアダプタ80を吸着するための吸着系統aと、小マスクMbを吸着するための吸着系統bが別々に形成されている。
図7に示すように、マスク吸着部70は、吸着系統aと連通する吸着溝71aと、吸着系統bと連通する吸着溝71bと、を備える。また、マスクアダプタ80の吸着溝82は、連通孔83を介して、マスク吸着部70の吸着溝71bと連通している。従って、マスクアダプタ80は、図8(a)に示すように、マスク吸着部70の吸着溝71aから吸着系統bを通じて真空吸着機構によってマスク吸着部70に吸着保持され、小マスクMbは、図8(b)に示すように、マスクアダプタ80の吸着溝82及び連通孔83と、マスク吸着部70の吸着溝71bを通じて、吸気系統aによりマスクステージ10に吸着保持される。
このため、小マスクMbを本実施形態のマスクステージ10に装着する場合には、まず、マスクアダプタ80のみが、マスクローダLによってマスク保持枠12の下方に搬入され、ワーク保持部21の上面から突出するチャックピン66上に載置される。その後、ワークステージ11をz軸方向に駆動することで、マスクアダプタ80を貼り付け位置に移動させる。そして、マスクアダプタ80が貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスク吸着部70の吸着溝71aを通じて、マスクアダプタ80をマスク吸着部70に吸着保持する。
次に、小マスクMbのみが、マスクローダLによってマスク保持枠12の下方に搬入され、ワーク保持部21の上面から突出するチャックピン66上に載置される。その後、ワークステージ11をz軸方向に駆動することで、小マスクMbを貼り付け位置に移動させる。そして、小マスクMbが貼り付け位置に移動した後、真空吸着機構を駆動してマスクアダプタ80の吸着溝82及び貫通孔83、マスク吸着部70の吸着溝71aを通じて、小マスクMbをマスク吸着部70に吸着保持する。
なお、本実施形態の場合にも、大マスク用の落下防止機構75と、小マスク用の落下防止機構90とを備え、各マスク支承部73,91の受け部73a,91aがマスクアダプタ75の切欠き88、小マスクMbのテーパ面Mb1とそれぞれ当接することによってマスクホルダ80,小マスクMbが支えられ、万一吸着力が解除された場合の各部材88、Mbの装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。
このように構成された本実施形態の近接露光装置によれば、洗浄等のメンテナンスのために小マスクMbを交換する際、マスクホルダ80をマスクステージ10から取り外す必要がなく、タクトタイムの短縮を図ることができる。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
本発明の近接露光装置は、ステップ式近接露光装置に限定されるものでなく、ワーク保持部、マスク保持部、及び照射手段を備え、マスクの露光パターンを照射手段によって基板に露光転写する、任意の近接露光装置に適用可能である。
落下防止機構72,90は、本実施形態では、マスクホルダ80の各辺に2つずつ設けられているが、例えば、対向する二辺のみに設けられてもよく、また、保持力に応じて必要な数だけ設けられればよい。
また、各マスク支承体73,91の受け部73a,91aの形状は、マスクアダプタ80、マスクMa,Mbの係合部の形状に応じて、任意に設定可能である。
さらに、本実施形態では、マスク保持部はマスク吸着部70によって構成されているが、マスク保持枠12に直接吸着される構成であってもよく、マスクを保持する構成であれば任意に設計可能である。
本発明の第1実施形態に係る分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解斜視図である。 図1に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。 第1実施形態に係る小マスクが装着されたマスク保持部の下面図である。 第1実施形態の大マスクをマスク保持部に吸着した状態を示す断面図である。 (a)は、第1実施形態の小マスクをマスク保持部に吸着した状態を示す、図3のV−V線に沿った断面図であり、(b)は、そのV’−V’線に沿った断面図である。 第1実施形態の小マスクをマスク保持部に吸着する過程を説明するための断面図である。 本発明の第2実施形態に係る小マスクが装着されたマスク保持部の下面図である。 (a)は、本発明の第2実施形態に係るマスク保持部の、図7のVIII−VIII線に沿った断面図であり、(b)は、そのマスク保持部の、図7のVIII'−VIII'線に沿った段面図である。
符号の説明
PE ステップ式近接露光装置(近接露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
M マスク
10 マスクステージ
11 マスクステージベース
12 マスク保持枠
20 ワークステージ
21 ワーク保持部
22 ワーク移動機構
40 照明光学系
70 マスク吸着部(マスク保持部)
71,71a,71b 吸着溝
72 大マスク用落下防止機構
80 マスクアダプタ
82 吸着溝
83 連通孔
90 小マスク用落下防止機構

Claims (4)

  1. 被露光材としてのワークを保持するワークステージと、露光パターンを有する略矩形状のマスクを保持するマスクステージと、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記ワークと前記マスクとを所定の間隔で近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
    前記マスクステージは、前記マスクの四辺を保持するマスク保持部を有すると共に、前記マスク保持部に取り付けられるマスクアダプタを介して前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持可能であることを特徴とする近接露光装置。
  2. 前記マスクステージは、前記マスクの落下を防止する落下防止機構と、前記他のマスクの落下を防止する他の落下防止機構と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
  3. 前記マスク保持部は、前記マスクと対向する吸着溝を介して、前記マスクを吸着保持すると共に、
    前記マスクアダプタは、前記マスク保持部に取り付けられた時、前記他のマスクと対向する他の吸着溝と前記マスク保持部の吸着溝とが連通するように形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の近接露光装置。
  4. 略矩形状のマスクと対向する吸着溝を有するマスク保持部に取り付けられ、且つ、前記マスクより面積が小さい略矩形状の他のマスクを保持するための近接露光装置用マスクアダプタであって、
    前記他のマスクと対向する面に形成された他の吸着溝と、
    前記吸着溝と前記他の吸着溝とを連通する連通孔が形成されることを特徴とする近接露光装置用マスクアダプタ。
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