JP2009146791A - 電子ビーム検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料室に置かれた試料に電子銃室の電子銃から電子線を照射し、試料から発生する二次電子および反射電子を検出する電子ビーム検査装置において、試料交換室に酸素の活性種を生成する手段を設け、試料の特定箇所を選択的に酸素の活性種に暴露し、観察試料に残留しているハイドロカーボン系ガスを低減し、その後、試料室に観察試料を導入することによって、汚染影響による観察分解能の低下が少ない形状観察や寸法測定が可能となる。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- 試料観察室に設置した試料に電子銃室の電子銃から電子線を照射し、前記試料から発生する反射電子、及び二次電子を検出することにより、前記試料の形状観察または寸法測定を行う電子ビーム検査装置において、
前記電子ビーム検査装置は、電子銃室、試料観察室、試料交換室、電子銃及び、試料制御装置によって構成され、前記試料交換室は、観察試料を搬入、及び搬出する手段と、酸素の活性種を導入する手段と、酸素の活性種によって観察試料の特定部位を選択的に清浄化する試料前処理手段を有することを特徴とした電子ビーム検査装置。 - 請求項1に記載の電子ビーム検査装置において、
前記観察試料の特定部位を選択的に清浄化する手段は、前記試料を酸素の活性種に暴露することによって行うことを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項1、2記載の電子ビーム検査装置において、
前記酸素の活性種はプラズマ発生源を用いて発生させることを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項1、2、3に記載の電子ビーム検査装置において、
前記観察試料の特定部位の選択的清浄化は、試料全面、または試料裏面のみを選択的に清浄化する手段であることを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項4に記載の電子ビーム検査装置において、
前記観察試料の清浄化は、隔壁によって少なくとも2室以上に分離された試料交換室で実施されることを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項5に記載の電子ビーム検査装置において、
前記試料交換室内の隔壁には、各室間を気体分子が通過可能な開閉可能なシャッターが設けられていることを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項6に記載の電子ビーム検査装置において、
前記シャッターは気体流量を制御できる可変バルブであることを特徴とする電子ビーム検査装置。 - 請求項7に記載の電子ビーム検査装置において、
前記可変バルブにより、隔壁間で分割された各室の前記酸素活性種の密度制御を行うことを特徴とする電子ビーム検査装置。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6373854U (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-17 | ||
JPH08335449A (ja) * | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Kawasaki Steel Corp | 走査電子顕微鏡用試料の前処理方法及び装置 |
JP2001325912A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Hitachi Ltd | 電子ビーム検査装置 |
JP2006156644A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Ulvac Japan Ltd | 半導体基板の非成膜部分への成膜材料による汚染の評価方法 |
JP2007149571A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料測定方法、及び荷電粒子線装置 |
-
2007
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6373854U (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-17 | ||
JPH08335449A (ja) * | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Kawasaki Steel Corp | 走査電子顕微鏡用試料の前処理方法及び装置 |
JP2001325912A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Hitachi Ltd | 電子ビーム検査装置 |
JP2006156644A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Ulvac Japan Ltd | 半導体基板の非成膜部分への成膜材料による汚染の評価方法 |
JP2007149571A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料測定方法、及び荷電粒子線装置 |
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