JP2009139699A - Luminous type display device - Google Patents

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Hiroshi Sagawa
裕志 佐川
Tetsuo Yamamoto
哲郎 山本
Katsuhide Uchino
勝秀 内野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively prevent a situation that an entire pixel does not shine at all while reducing the number of transistors. <P>SOLUTION: Each of a plurality of pixels includes a sampling transistor Ms, a driving transistor Md, a storage capacitor Cs, and a luminous type light emitting element (organic light emitting diode OLED). N (N≥3) or more sets of pixel circuit elements including the driving transistor Md, the storage capacitor Cs and the light emitting element are provided, and one sampling transistor Ms is connected to every set of the plurality of pixel circuit elements and shared. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、各画素に、サンプリングトランジスタ、駆動トランジスタ、保持キャパシタおよび発光素子を備える自発光型表示装置に関する。   The present invention relates to a self-luminous display device in which each pixel includes a sampling transistor, a driving transistor, a holding capacitor, and a light emitting element.

有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置は、複数の画素回路をマトリクス状に配置する表示部と、その駆動部とを、1枚の基板に、TFT(Thin Film Transistor)の形成プロセスを含む半導体技術を用いて形成した表示パネルを有する。あるいは、表示パネルの駆動回路はフレキシブル基板により提供され、両者の電気的接続を行う。
有機EL素子は自ら発光する自発光素子であり、一般に、OLED(Organic Light Emitting Diode)と称される。
An organic EL (electroluminescence) display device uses a semiconductor technology including a TFT (Thin Film Transistor) forming process on a single substrate, with a display unit in which a plurality of pixel circuits are arranged in a matrix and a driving unit thereof. A display panel formed using the same. Or the drive circuit of a display panel is provided by the flexible substrate, and performs both electrical connection.
An organic EL element is a self-luminous element that emits light by itself, and is generally called an OLED (Organic Light Emitting Diode).

OLEDは、下部電極と上層電極との間に、有機正孔輸送層や有機発光層などとして機能する複数の有機薄膜を積層させている。その膜厚は、発光波長に応じて異なり、また光増強効果を持たせる等の理由から種々異なるが、総じて薄く、有機材料であるため形成が難しい。OLEDは、有機薄膜に電界をかけると発光する現象を利用した電気光学素子であり、OLEDを流れる電流値を制御することで発色の階調を得ている。そのため、OLEDを電気光学素子として用いる表示装置は、OLEDの電流量を制御するための駆動トランジスタを含む画素回路が画素ごとに設けられている。   In the OLED, a plurality of organic thin films functioning as an organic hole transport layer, an organic light emitting layer, or the like are laminated between a lower electrode and an upper electrode. The film thickness varies depending on the emission wavelength and varies for reasons such as providing a light enhancement effect, but is generally thin and difficult to form because it is an organic material. An OLED is an electro-optic element that utilizes a phenomenon that emits light when an electric field is applied to an organic thin film, and obtains a gradation of color by controlling a current value flowing through the OLED. Therefore, in a display device using an OLED as an electro-optical element, a pixel circuit including a driving transistor for controlling the amount of current of the OLED is provided for each pixel.

有機ELディスプレイの画素回路は、画素回路内のTFTの特性バラツキに起因する画質低下を防止するために、様々なものが提案されている。
主なものでは、4トランジスタ(4T)・1キャパシタ(1C)型、4T・2C型、5T・1C型、3T・1C型、2T・1C型などが知られている。
これらは何れもTFT(Thin Film Transistor)から形成されるトランジスタの特性バラツキに起因する画質低下を防止するものであり、画素回路内部で駆動電流を一定に制御し、これによって画面全体のユニフォミティ(輝度の均一性)を向上させることを目的とする。とくに画素回路内でOLEDを電源に接続するときに、入力する映像信号の画素データに応じて電流量を制御する駆動トランジスタの特性バラツキが、直接的にOLEDの発光輝度に影響を与える。このため、駆動トランジスタの特性、すなわち閾値電圧の補正を行う必要がある。
さらに、閾値電圧の補正を行うことを前提に、駆動トランジスタの電流駆動能力から閾値バラツキ起因成分等を減じた駆動能力成分(一般には、移動度と称されている)を補正すると、より一層高いユニフォミティが得られる。
Various pixel circuits for organic EL displays have been proposed in order to prevent deterioration in image quality due to characteristic variations of TFTs in the pixel circuit.
Mainly, 4 transistors (4T), 1 capacitor (1C) type, 4T / 2C type, 5T / 1C type, 3T / 1C type, 2T / 1C type, etc. are known.
All of these prevent image quality degradation caused by variations in the characteristics of transistors formed from TFTs (Thin Film Transistors), and the drive current is controlled to be constant inside the pixel circuit, thereby ensuring uniformity (brightness of the entire screen). The uniformity is improved. In particular, when the OLED is connected to the power source in the pixel circuit, the characteristic variation of the drive transistor that controls the amount of current according to the pixel data of the input video signal directly affects the light emission luminance of the OLED. For this reason, it is necessary to correct the characteristics of the driving transistor, that is, the threshold voltage.
Further, on the premise that the threshold voltage is corrected, if a driving capability component (generally referred to as mobility) obtained by subtracting a threshold variation component or the like from the current driving capability of the driving transistor is corrected, it is even higher. Uniformity is obtained.

OLEDなどの電気光学素子の製造時に埃(ダスト)などが付着することで、発光が正常になされない滅点など、パネルに表示欠陥が生じやすい。このような表示欠陥は、表示装置の良品率を高める上で阻害要因となっており、表示装置の低コスト化を阻む。
とくにOLEDでは、有機薄膜を何層にも堆積した多層膜構造を形成する際に、成膜装置内に付着し剥がれやすい薄い有機薄膜が成膜装置のチャンバ内を浮遊してダストとなることが多く、このようなダストの付着によってOLEDの電極間がある抵抗値で短絡されると、常時発光しない滅点欠陥が発生しやすい。
When dust or the like adheres during manufacture of an electro-optical element such as an OLED, display defects such as dark spots where light emission is not normally performed are likely to occur. Such a display defect is an impediment to increasing the non-defective product ratio of the display device, and hinders cost reduction of the display device.
In particular, in an OLED, when forming a multilayer film structure in which multiple layers of organic thin films are deposited, a thin organic thin film that easily adheres to and peels off from the film forming apparatus may float in the chamber of the film forming apparatus and become dust. In many cases, when the OLED electrodes are short-circuited with a certain resistance value due to the adhesion of dust, a dark spot defect that does not always emit light tends to occur.

特許文献1には、滅点欠陥が発生した場合の画素駆動方法が開示されている。
特許文献1には、1画素内に、発光素子(OLED)、発光素子駆動のためのTFT、データサンプリングのためのTFT、駆動のためのTFTのゲートにサンプリング後のデータを保持させる保持キャパシタを、それぞれ複数設ける構成が開示されている。そして、特許文献1における画素駆動方法では、1画素内の1つの発光素子が欠陥のため非発光となるような場合、当該画素内の他の発光素子の駆動回路(2つのTFTと保持キャパシタ)を制御して、上記非発光の発光素子の発光量を補うように上記他の発光素子を発光させる。
特開2007−41574号公報
Patent Document 1 discloses a pixel driving method when a dark spot defect occurs.
In Patent Document 1, a light emitting element (OLED), a TFT for driving the light emitting element, a TFT for data sampling, and a holding capacitor for holding the sampled data at the gate of the driving TFT are provided in one pixel. A configuration in which a plurality of each is provided is disclosed. In the pixel driving method in Patent Document 1, when one light emitting element in one pixel does not emit light due to a defect, the driving circuit for the other light emitting elements in the pixel (two TFTs and a holding capacitor) And the other light emitting elements emit light so as to supplement the light emission amount of the non-light emitting elements.
JP 2007-41574 A

上記特許文献1に記載された画素駆動方法のように、非発光の発光素子が生じた場合、他の発光素子に多くの電流を流すような制御を行うと、画素の所望の輝度が得られるようになるが、その一方で、当該他の発光素子の寿命が極端に短くなり望ましくない。   When a non-light-emitting light-emitting element is generated as in the pixel driving method described in Patent Document 1, if control is performed so that a large amount of current flows through other light-emitting elements, a desired luminance of the pixel can be obtained. However, on the other hand, the lifetime of the other light emitting elements becomes extremely short, which is not desirable.

特許文献1には、発光素子、駆動TFT、サンプリングTFTおよび保持キャパシタが2組設けられた場合が開示され、その組数は2以上でもよい記載がある。
上記駆動TFTおよび保持キャパシタは発光素子ごとに設ける必要があるが、サンプリングTFTは共通化可能である。その理由を以下に述べる。
Patent Document 1 discloses a case where two sets of a light emitting element, a driving TFT, a sampling TFT, and a holding capacitor are provided, and there is a description that the number of sets may be two or more.
The driving TFT and the holding capacitor need to be provided for each light emitting element, but the sampling TFT can be shared. The reason is described below.

有機ELディスプレイの製造において、まず、TFTが基板上に形成され、つぎに、保持キャパシタが形成され、最上層に発光素子が形成されるが、前述した有機物の浮遊ダストによる滅点欠陥の発生は、発光素子製造過程で生じる。
TFT不良、例えばTFTの断線によっても滅点欠陥は発生する可能性はあるが、その確率は、有機物の浮遊ダストによる発光素子の電極間ショートによる滅点欠陥の発生確率より各段に小さい。
In the manufacture of an organic EL display, first, a TFT is formed on a substrate, then a holding capacitor is formed, and a light emitting element is formed on the uppermost layer. This occurs in the light emitting device manufacturing process.
Although there is a possibility that a dark spot defect may be caused by a TFT defect, for example, a disconnection of the TFT, the probability is smaller in each stage than the probability of a dark spot defect caused by a short circuit between electrodes of a light emitting element due to floating dust of organic matter.

一方、駆動TFTおよび保持キャパシタを複数の発光素子で共通化すると、滅点欠陥の有無に応じて、一定の大きさのデータに対し発光量(表示特性)が変化するため、これらの共通化はできない。ただし、サンプリングTFTは、共通化しても表示特性を大きく変化させることがない。   On the other hand, if the driving TFT and the holding capacitor are shared by a plurality of light emitting elements, the amount of light emission (display characteristics) changes for a certain amount of data depending on the presence or absence of a dark spot defect. Can not. However, even if the sampling TFT is shared, the display characteristics do not change greatly.

したがって、本願発明と同一の出願人により、滅点欠陥が生じた場合に、その影響を抑制するために、サンプリングTFTを複数の画素回路構成要素、即ち、発光素子、駆動TFTおよび保持キャパシタの複数の組で共通化する画素構成が提案されている(特願2007−307861号)。   Accordingly, in order to suppress the influence when a dark spot defect occurs by the same applicant as the present invention, a sampling TFT is divided into a plurality of pixel circuit components, that is, a plurality of light emitting elements, driving TFTs and holding capacitors. A common pixel configuration is proposed for each set (Japanese Patent Application No. 2007-307861).

しかしながら、この未公開発明では、確率としては低いが、仮にサンプリングTFTに不良が発生した場合、画素全体が全く光らなくなる事態が考慮されていないため、この点で改善の余地がある。
本発明は、この同一出願人による未公開発明の改善に関する。
However, in this unpublished invention, although the probability is low, there is room for improvement in this respect because a situation in which the entire pixel does not shine at all is not taken into account if a defect occurs in the sampling TFT.
The present invention relates to the improvement of this unpublished invention by the same applicant.

本発明の一形態(第1形態)に関わる自発光型表示装置は、複数の画素を有する画素アレイを有し、前記複数の画素のそれぞれが、サンプリングトランジスタと、駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタの発光制御ノードに結合し、前記サンプリングトランジスタを介して入力されるデータ電位を保持する保持キャパシタと、前記駆動トランジスタと共に駆動電流経路に直列接続され、保持された前記データ電位に応じ前記駆動トランジスタが制御する駆動電流量に基づいて自発光する発光素子と、を有し、前記複数の画素のそれぞれにおいて、前記駆動トランジスタ、前記保持キャパシタおよび前記発光素子を含む画素回路要素の組がN(N≧3)組以上設けられ、前記画素回路要素の複数の組ごとに1つの前記サンプリングトランジスタが接続されて共用されている。   A self-luminous display device according to one embodiment (first embodiment) of the present invention includes a pixel array having a plurality of pixels, and each of the plurality of pixels includes a sampling transistor, a driving transistor, and the driving transistor. A storage capacitor coupled to the light emission control node and holding a data potential input via the sampling transistor, and a drive current path are connected in series with the drive transistor together with the drive transistor, and the drive transistor is controlled according to the held data potential A light emitting element that emits light on the basis of the amount of driving current to be generated. In each of the plurality of pixels, a set of pixel circuit elements including the driving transistor, the holding capacitor, and the light emitting element is N (N ≧ 3). ) One or more sampling transitions provided for a plurality of sets of the pixel circuit elements. Data is shared is connected.

本発明の他の形態(第2形態)に関わる自発光型表示装置は、上記第1形態の特徴に加えて、前記画素回路要素の2組ごとに1つの前記サンプリングトランジスタが接続されて共用され、上記Nが奇数の場合に残る1組の前記画素回路要素に対して1つの前記サンプリングトランジスタが接続されている。   In addition to the features of the first embodiment, a self-luminous display device according to another embodiment (second embodiment) of the present invention is shared by connecting one sampling transistor for every two sets of the pixel circuit elements. One sampling transistor is connected to one set of the pixel circuit elements remaining when N is an odd number.

本発明の他の形態(第3形態)に関わる自発光型表示装置は、上記第2形態の特徴に加えて、前記画素回路要素の2組ごとに接続されている前記サンプリングトランジスタは、そのソースとドレインの一方が、前記2組内の2つの前記保持キャパシタの一方のキャパシタ電極となる導電層にコンタクトを介して接続され、前記導電層が、誘電膜を介して個別の他方のキャパシタ電極と各々重なる2つのキャパシタ電極部と、前記2つのキャパシタ電極部を連結し、当該2つのキャパシタ電極部より幅が狭い連結部と、連結部の中央から分岐したコンタクト部と、を備える。   In addition to the characteristics of the second embodiment, the self-luminous display device according to another embodiment (third embodiment) of the present invention is characterized in that the sampling transistor connected to every two sets of the pixel circuit elements has its source And one of the drains is connected via a contact to a conductive layer to be one capacitor electrode of the two holding capacitors in the two sets, and the conductive layer is connected to each other capacitor electrode via a dielectric film. Two capacitor electrode portions that overlap each other, a connection portion that connects the two capacitor electrode portions, has a narrower width than the two capacitor electrode portions, and a contact portion that branches from the center of the connection portion.

本発明の他の形態(第4形態)に関わる自発光型表示装置は、上記第1形態の特徴に加えて、前記N個の保持キャパシタにおいて、一方のキャパシタ電極が、隣接する2つの前記保持キャパシタごとに連結され、前記Nが奇数の場合は、端数となる1つの前記一方のキャパシタ電極が独立して設けられ、N個の他方のキャパシタ電極が互いに分離して配置され、前記N個の発光素子において、前記画素をN分割したN個の領域ごとに配置されて対応する一の前記他方のキャパシタ電極とそれぞれが接続されたN個の発光素子下部電極と、前記N個の発光素子下部電極上に積層された有機多層膜と、前記有機多層膜上に形成された共通の透明電極材料からなる1つの発光素子上層電極と、前記発光素子上層電極を覆い、前記N個の発光素子上層電極ごとに開口部が形成された保護膜と、を有する。   The self-luminous display device according to another embodiment (fourth embodiment) of the present invention is characterized in that, in addition to the features of the first embodiment, in the N holding capacitors, one capacitor electrode has two adjacent holding electrodes. When the N is an odd number, the one capacitor electrode that is a fraction is provided independently, and the other N capacitor electrodes are arranged separately from each other, and the N pieces of capacitor electrodes are connected to each other. In the light emitting element, N light emitting element lower electrodes, each of which is arranged for each of N regions obtained by dividing the pixel into N and respectively connected to the corresponding one of the other capacitor electrodes, and the lower part of the N light emitting elements. An organic multilayer film laminated on the electrode, one light emitting element upper layer electrode made of a common transparent electrode material formed on the organic multilayer film, and covering the light emitting element upper layer electrode, the N light emitting element upper layers Having a protective film having an opening formed for each pole.

以上の第1〜第4形態の構成によれば、駆動トランジスタ、保持キャパシタおよび発光素子を含む画素回路要素の組がN(N≧3)組以上設けられている。また、画素回路要素の複数の組ごとに1つのサンプリングトランジスタが接続されて共用されている。特に、第2形態では、画素回路要素の複数の組ごとに1つのサンプリングトランジスタが接続されて共用され、上記Nが奇数の場合に残る1組の画素回路要素に対して1つのサンプリングトランジスタが接続されている。   According to the configuration of the first to fourth embodiments, N (N ≧ 3) or more pixel circuit element groups including the drive transistor, the storage capacitor, and the light emitting element are provided. One sampling transistor is connected and shared for each of a plurality of sets of pixel circuit elements. In particular, in the second embodiment, one sampling transistor is connected to and shared by a plurality of sets of pixel circuit elements, and one sampling transistor is connected to the remaining set of pixel circuit elements when N is an odd number. Has been.

サンプリングトランジスタは、前述したように、欠陥の発生確率が発光素子より小さいがゼロではない。よって、例えばこの発生確率の違いに応じて、1つのサンプリングトランジスタを共用する画素回路要素の組数を規定するとよい。サンプリングの駆動周波数が高い場合、サンプリングトランジスタの負荷によってサンプリング特性が若干異なる場合も予想される。このような場合、1つのサンプリングトランジスタを共用する上記組数を基本的に2として、端数がでる場合、当該端数の組については1つの組に対してサンプリングトランジスタを1つ接続させると、サンプリング特性は大きく違わないため、望ましい。   As described above, the sampling transistor has a defect generation probability smaller than that of the light emitting element, but is not zero. Therefore, for example, the number of pixel circuit elements sharing one sampling transistor may be defined according to the difference in occurrence probability. When the sampling driving frequency is high, the sampling characteristics may be slightly different depending on the load of the sampling transistor. In such a case, if the number of sets sharing one sampling transistor is basically 2 and a fraction is obtained, if one sampling transistor is connected to one set for the set of fractions, the sampling characteristics Is desirable because it is not significantly different.

一方、第3形態では、1つのサンプリングトランジスタに共通接続される2つの保持キャパシタの一方のキャパシタ電極が、比較的細い幅の連結部を有し、その中央に、サンプリングトランジスタと接続されるコンタクト部が設けられている。よって、コンタクト部の一方または他方側の連結部を、例えばレーザにより切り離すリペアを行うことが容易である。リペアを行うと、サンプリングトランジスタからのデータが、切り離した側の組内に含まれる駆動トランジスタのゲートに供給されないため、欠陥が発生した発光素子に電流が流れないため、その分、余分な電力が消費されない。
なお、第4形態は具体的な構成を規定したものであり、この場合、発光素子を設ける画素の領域(複数の画素分割領域)の各々に対し、各組内のトランジスタや保持キャパシタの形成領域を必ずしも一致させる必要がないため、配置の自由度が高い。
On the other hand, in the third embodiment, one capacitor electrode of two holding capacitors commonly connected to one sampling transistor has a relatively narrow connecting portion, and a contact portion connected to the sampling transistor at the center thereof. Is provided. Therefore, it is easy to perform a repair in which one or the other side of the contact portion is separated by, for example, a laser. When repair is performed, the data from the sampling transistor is not supplied to the gate of the drive transistor included in the disconnected group, so that no current flows through the defective light emitting element. Not consumed.
Note that the fourth embodiment defines a specific configuration. In this case, for each pixel region (a plurality of pixel division regions) in which the light emitting element is provided, a region for forming a transistor or a holding capacitor in each set. Are not necessarily matched, so that the degree of freedom of arrangement is high.

本発明によれば、発光素子の欠陥による輝度変化の影響を小さくするという、画素回路要素の組を複数設けることの利益に加え、サンプリングトランジスタに欠陥が発生してデータサンプリングが不可能な場合でも、1画素が全く光らないという最悪の事態を回避できるという利益が得られる。   According to the present invention, in addition to the benefit of providing a plurality of sets of pixel circuit elements to reduce the influence of luminance change due to a defect in a light emitting element, even when a sampling transistor has a defect and data sampling is impossible, The benefit of avoiding the worst case where one pixel does not shine at all is obtained.

以下、本発明の実施形態を、有機ELディスプレイを例として図面を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with an organic EL display as an example with reference to the drawings.

《第1実施形態》
<全体構成>
図1に、本発明の実施形態に関わる有機ELディスプレイの主要構成を示す。
図解する有機ELディスプレイ1は、複数の画素回路3(i,j)がマトリクス状に配置されている画素アレイ2と、画素アレイ2を駆動する駆動回路とを有する。
駆動回路は、垂直駆動回路(Vスキャナ)4と、水平駆動回路(Hスキャナ:H.Scan)5とを含む。
Vスキャナ4は、画素回路3の構成により複数設けられている。ここではVスキャナ4が、水平画素ライン駆動回路(Drive Scan)41と、書き込み信号走査回路(Write Scan)42とを含んで構成されている。
<< First Embodiment >>
<Overall configuration>
FIG. 1 shows a main configuration of an organic EL display according to an embodiment of the present invention.
The illustrated organic EL display 1 includes a pixel array 2 in which a plurality of pixel circuits 3 (i, j) are arranged in a matrix, and a drive circuit that drives the pixel array 2.
The drive circuit includes a vertical drive circuit (V scanner) 4 and a horizontal drive circuit (H scanner: H.Scan) 5.
A plurality of V scanners 4 are provided depending on the configuration of the pixel circuit 3. Here, the V scanner 4 includes a horizontal pixel line drive circuit (Drive Scan) 41 and a write signal scanning circuit (Write Scan) 42.

図1に示す画素回路の符号「3(i,j)」は、当該画素回路が垂直方向(縦方向)のアドレスi(i=1,2)と、水平方向(横方向)のアドレスj(j=1,2,3)を持つことを意味する。これらのアドレスiとjは最大値をそれぞれ「n」と「m」とする1以上の整数をとる。ここでは図の簡略化のためi=1〜2、j=1〜3の一部分の画素アレイ2のみ示す。
このアドレス表記は、以後の説明や図面において画素回路の素子、信号や信号線ならびに電圧等についても同様に適用する。
The code “3 (i, j)” of the pixel circuit shown in FIG. 1 indicates that the pixel circuit has an address i (i = 1, 2) in the vertical direction (vertical direction) and an address j ( j = 1,2,3). These addresses i and j take integers of 1 or more with the maximum values being “n” and “m”, respectively. Here, for simplification of the drawing, only a partial pixel array 2 of i = 1 to 2 and j = 1 to 3 is shown.
This address notation is similarly applied to the elements, signals, signal lines, voltages, and the like of the pixel circuit in the following description and drawings.

画素回路3(1,1)、3(2,1)が共通な垂直方向の第1信号線SIG(1)に接続されている。同様に、画素回路3(1,2)、3(2,2)が共通な垂直方向の第2信号線SIG(2)に接続され、画素回路3(1,3)、3(2,3)が共通な垂直方向の第3信号線SIG(3)に接続されている。
第1行の画素回路3(1,1)、3(1,2)および3(1,3)に対し、共通の第1走査線SCAN1(1)によって、水平画素ライン駆動回路41から第1スキャン信号(第1表示行の駆動信号)が印加可能となっている。同様に、第2行の画素回路3(2,1)、3(2,2)および3(2,3)に対し、共通の第1走査線SCAN1(2)によって、水平画素ライン駆動回路41から第1スキャン信号(第2表示行の駆動信号)が印加可能となっている。
また、第1行の画素回路3(1,1)、3(1,2)および3(1,3)に対し、共通の他の第2走査線SCAN2(1)によって、書き込み信号走査回路42から第2スキャン信号(第1表示行のサンプリング信号)が印加可能となっている。同様に、第2行の画素回路3(2,1)、3(2,2)および3(2,3)に対し、共通の他の第2走査線SCAN2(2)によって、書き込み信号走査回路42から第2スキャン信号(第2表示行のサンプリング信号)が印加可能となっている。
Pixel circuits 3 (1,1) and 3 (2,1) are connected to a common first signal line SIG (1) in the vertical direction. Similarly, the pixel circuits 3 (1,2) and 3 (2,2) are connected to the common second signal line SIG (2) in the vertical direction, and the pixel circuits 3 (1,3), 3 (2,3) are connected. ) Are connected to a common third signal line SIG (3) in the vertical direction.
For the pixel circuits 3 (1,1), 3 (1,2) and 3 (1,3) in the first row, the first pixel is driven from the horizontal pixel line driving circuit 41 by the common first scanning line SCAN1 (1). A scan signal (driving signal for the first display row) can be applied. Similarly, the horizontal pixel line driving circuit 41 is connected to the pixel circuits 3 (2,1), 3 (2,2) and 3 (2,3) in the second row by the common first scanning line SCAN1 (2). The first scan signal (drive signal for the second display row) can be applied.
The write signal scanning circuit 42 is connected to the pixel circuit 3 (1,1), 3 (1,2) and 3 (1,3) in the first row by the other common second scanning line SCAN2 (1). To the second scan signal (sampling signal of the first display row) can be applied. Similarly, the write signal scanning circuit is connected to the pixel circuit 3 (2,1), 3 (2,2) and 3 (2,3) in the second row by the other common second scanning line SCAN2 (2). A second scan signal (sampling signal for the second display row) can be applied from 42.

<画素回路>
図2に、画素回路3(i,j)の1つの基本構成回路例を示す。
図解する画素回路3(i,j)は、発光素子としての有機発光ダイオードOLEDを制御する回路である。画素回路は、有機発光ダイオードOLEDの他に、NMOSタイプのTFTからなる駆動トランジスタMdおよびサンプリングトランジスタMsと、1つの保持キャパシタCsとを有する。
詳細は後述するが、画素回路3(i,j)は、有機発光ダイオードOLED、駆動トランジスタMdおよび保持キャパシタCsを含む回路構成要素の組が複数、望ましくは3組以上設けられ、それより少ない数でサンプリングトランジスタMsが設けられている。よって、少なくとも1つのサンプリングトランジスタMsに対しては、上記組が2組以上接続される。
<Pixel circuit>
FIG. 2 shows one basic configuration circuit example of the pixel circuit 3 (i, j).
The pixel circuit 3 (i, j) illustrated is a circuit that controls an organic light emitting diode OLED as a light emitting element. In addition to the organic light emitting diode OLED, the pixel circuit includes a driving transistor Md and a sampling transistor Ms made of an NMOS type TFT, and one holding capacitor Cs.
Although details will be described later, the pixel circuit 3 (i, j) is provided with a plurality of, preferably three or more sets of circuit components including the organic light emitting diode OLED, the drive transistor Md, and the holding capacitor Cs, and a smaller number. A sampling transistor Ms is provided. Therefore, two or more sets are connected to at least one sampling transistor Ms.

有機発光ダイオードOLEDは、特に図示しないが、例えば、透明ガラス等からなる基板の上に、「下部電極」としてのアノード電極を形成し、その上に、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等を順次堆積させて有機多層膜を構成する積層体を形成し、この積層体の上に、「上層電極」としてのカソード電極を形成した構造を有する。アノード電極が正側の電源に接続され、カソード電極が負側の電源に接続される。
なお、図2では有機発光ダイオードOLEDのアノードが正側の電源から電源電圧VDDの供給を受け、有機発光ダイオードOLEDのカソードが基準電圧、例えば接地電圧GNDに接続される場合を示す。
The organic light emitting diode OLED is not particularly shown, but, for example, an anode electrode as a “lower electrode” is formed on a substrate made of transparent glass or the like, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer are formed thereon. Then, an electron injection layer and the like are sequentially deposited to form a laminated body constituting an organic multilayer film, and a cathode electrode as an “upper layer electrode” is formed on the laminated body. The anode electrode is connected to the positive power source, and the cathode electrode is connected to the negative power source.
FIG. 2 shows a case where the anode of the organic light emitting diode OLED is supplied with the power supply voltage VDD from the positive power supply, and the cathode of the organic light emitting diode OLED is connected to a reference voltage, for example, the ground voltage GND.

有機発光ダイオードOLEDのアノードとカソードの電極間に所定の電界が得られるバイアス電圧を印加すると、注入された電子と正孔が発光層において再結合する際に自発光する。有機発光ダイオードOLEDは、有機多層膜を構成する有機材料を適宜選択することで赤(R),緑(G),青(B)の各色での発光が可能であることから、この有機材料を、例えば各行の画素にR,G,Bの発光が可能に配列することで、カラー表示が可能となる。あるいは、白色発光の有機材料を用いて、フィルタの色でR,G,Bの区別を行ってもよい。R,G,Bの他にW(ホワイト)を加えた4色構成でもよい。   When a bias voltage capable of obtaining a predetermined electric field is applied between the anode and cathode electrodes of the organic light emitting diode OLED, the injected electrons and holes self-emit when recombined in the light emitting layer. The organic light emitting diode OLED can emit light in each color of red (R), green (G), and blue (B) by appropriately selecting the organic material constituting the organic multilayer film. For example, color display is possible by arranging the light emission of R, G, B in the pixels of each row. Alternatively, R, G, and B may be distinguished by the color of the filter using an organic material that emits white light. A four-color configuration in which W (white) is added in addition to R, G, and B may be used.

駆動トランジスタMdは、発光素子(有機発光ダイオードOLED)に流す電流量を制御して表示階調を規定する電流制御手段として機能する。
駆動トランジスタMdのドレインが、電源電圧VDDの供給を制御する走査線(第1走査線SCAN1(i))に接続され、ソースが有機発光ダイオードOLEDのアノードに接続されている。
The drive transistor Md functions as a current control unit that regulates the display gradation by controlling the amount of current flowing through the light emitting element (organic light emitting diode OLED).
The drain of the driving transistor Md is connected to a scanning line (first scanning line SCAN1 (i)) that controls the supply of the power supply voltage VDD, and the source is connected to the anode of the organic light emitting diode OLED.

サンプリングトランジスタMsは、画素階調を決めるデータ電位Vsigの供給線(信号線SIG(j))と駆動トランジスタMdのゲートとの間に接続され、第2走査線SCAN2(i)によって制御される。サンプリングトランジスタMsのソースとドレインの一方が駆動トランジスタMdのゲートに接続され、もう片方が信号線SIG(j)に接続されている。信号線SIG(j)に、Hスキャナ5(図1参照)からデータ電位Vsigが印加される。サンプリングトランジスタMsは、このデータ電位印加期間の適正なタイミングで、当該画素回路で表示すべきレベルのデータをサンプリングする。これは、サンプリングすべき所望のデータ電位Vsigを持つデータパルスの先頭または後部における、レベルが不安定な遷移期間の表示映像に与える影響を排除するためである。   The sampling transistor Ms is connected between the supply line (signal line SIG (j)) of the data potential Vsig that determines the pixel gradation and the gate of the driving transistor Md, and is controlled by the second scanning line SCAN2 (i). One of the source and drain of the sampling transistor Ms is connected to the gate of the drive transistor Md, and the other is connected to the signal line SIG (j). A data potential Vsig is applied to the signal line SIG (j) from the H scanner 5 (see FIG. 1). The sampling transistor Ms samples data at a level to be displayed by the pixel circuit at an appropriate timing in the data potential application period. This is to eliminate the influence on the display image in the transition period where the level is unstable at the beginning or the rear of the data pulse having the desired data potential Vsig to be sampled.

駆動トランジスタMdのゲートとソース(有機発光ダイオードOLEDのアノード)との間に、保持キャパシタCsが接続されている。保持キャパシタCsの役割については、後述の動作で説明する。   A holding capacitor Cs is connected between the gate and source of the driving transistor Md (the anode of the organic light emitting diode OLED). The role of the holding capacitor Cs will be described later in the operation.

図2では、図1の水平画素ライン駆動回路41により、GND電位から電源電圧VDDにまで立ち上がる電源駆動パルスDSL(i)が駆動トランジスタMdのドレインに供給され、駆動トランジスタMdの補正時や実際に有機発光ダイオードOLEDが発光する時の電源供給が行われる。
また、図1の書き込み信号走査回路42により、比較的短い持続時間の書込駆動パルスWS(i)がサンプリングトランジスタMsのゲートに供給され、サンプリング制御が行われる。
なお、電源供給の制御は、駆動トランジスタMdのドレインと電源電圧VDDの供給線との間にトランジスタをもう1つ挿入し、そのゲートを水平画素ライン駆動回路41により制御する構成であってもよい。
In FIG. 2, the horizontal pixel line drive circuit 41 of FIG. 1 supplies the power supply drive pulse DSL (i) rising from the GND potential to the power supply voltage VDD to the drain of the drive transistor Md. Power is supplied when the organic light emitting diode OLED emits light.
Further, the write signal scanning circuit 42 in FIG. 1 supplies a write drive pulse WS (i) having a relatively short duration to the gate of the sampling transistor Ms, thereby performing sampling control.
The power supply control may be configured such that another transistor is inserted between the drain of the drive transistor Md and the supply line of the power supply voltage VDD, and the gate is controlled by the horizontal pixel line drive circuit 41. .

通常、画素回路内の全てのトランジスタはTFTで形成されている。TFTのチャネルが形成される薄膜半導体層は、多結晶シリコン(ポリシリコン)または非晶質シリコン(アモルファスシリコン)等の半導体材料からなる。ポリシリコンTFTは移動度を高くとれるが特性ばらつきが大きいため、表示装置の大画面化に適さない。よって、大画面を有する表示装置では、一般に、アモルファスシリコンTFTが用いられる。ただし、アモルファスシリコンTFTではPチャネル型TFTが形成し難いため、上述した画素回路3(i,j)のように、すべてのTFTをNチャネル型とすることが望ましい。   Usually, all transistors in the pixel circuit are formed of TFTs. The thin film semiconductor layer in which the TFT channel is formed is made of a semiconductor material such as polycrystalline silicon (polysilicon) or amorphous silicon (amorphous silicon). Polysilicon TFTs can have high mobility, but their characteristic variation is large, so they are not suitable for increasing the screen size of a display device. Therefore, in a display device having a large screen, an amorphous silicon TFT is generally used. However, since it is difficult to form a P-channel TFT in an amorphous silicon TFT, it is desirable that all TFTs be an N-channel type like the pixel circuit 3 (i, j) described above.

ここで、以上の画素回路3(i,j)は、本実施形態で適用可能な画素回路の一例、即ち2トランジスタ(2T)・1キャパシタ(1C)型の基本構成例である。よって、本実施形態で用いることができる画素回路は、上記画素回路3(i,j)を基本構成として、さらにトランジスタやキャパシタを付加した画素回路であってもよい。また、基本構成において、保持キャパシタCsを電源電圧VDDの供給線と駆動トランジスタMdのゲートとの間に接続するものもある。
具体的に、本実施形態で採用可能な2T・1C型以外の画素回路として、詳細な構成は割愛するが、例えば、4T・1C型、4T・2C型、5T・1C型、3T・1C型などであってもよい。
Here, the pixel circuit 3 (i, j) described above is an example of a pixel circuit applicable in the present embodiment, that is, a basic configuration example of a two-transistor (2T) / 1-capacitor (1C) type. Therefore, the pixel circuit that can be used in the present embodiment may be a pixel circuit in which the pixel circuit 3 (i, j) is a basic configuration and a transistor and a capacitor are further added. In some basic configurations, the holding capacitor Cs is connected between the supply line of the power supply voltage VDD and the gate of the drive transistor Md.
Specifically, as a pixel circuit other than the 2T • 1C type that can be employed in the present embodiment, a detailed configuration is omitted, but for example, 4T • 1C type, 4T • 2C type, 5T • 1C type, 3T • 1C type It may be.

<発光制御動作の概略>
上記画素回路3(i,j)における概略的な発光制御動作は、以下の如くである。
駆動トランジスタMdの制御ノードNDcには、保持キャパシタCsが結合されている。信号線SIG(j)からの信号電圧VsigがサンプリングトランジスタMsでサンプリングされ、これにより得られたデータ電位Vsigが制御ノードNDcに印加される。
<Outline of light emission control operation>
A schematic light emission control operation in the pixel circuit 3 (i, j) is as follows.
A holding capacitor Cs is coupled to the control node NDc of the driving transistor Md. The signal voltage Vsig from the signal line SIG (j) is sampled by the sampling transistor Ms, and the data potential Vsig obtained thereby is applied to the control node NDc.

駆動トランジスタMdのゲートに所定のデータ電位Vsigが印加された時、駆動トランジスタMdのドレイン電流Idsは、データ電位Vsigに応じた値を持つゲートソース間電圧Vgsに応じて決まる。よって、サンプリング後のデータ電位Vsigに応じた輝度で有機発光ダイオードOLEDが発光する。   When a predetermined data potential Vsig is applied to the gate of the drive transistor Md, the drain current Ids of the drive transistor Md is determined according to the gate-source voltage Vgs having a value corresponding to the data potential Vsig. Therefore, the organic light emitting diode OLED emits light with a luminance corresponding to the sampled data potential Vsig.

有機発光ダイオードOLEDは、よく知られているように、熱によりI−V特性が変化する。このとき、有機発光ダイオードOLEDの経時変化とともに駆動トランジスタMdのゲートソース間電圧Vgsが変化してしまう。
これにより、有機発光ダイオードOLEDに流れる駆動電流Idが変化し、その結果、所定のデータ電位Vsigであっても発光輝度が変化してしまう。
また、画素回路ごとに駆動トランジスタMdの閾値電圧Vth、移動度μが異なっているため、ドレイン電流Idsにバラツキが生じ、同じデータ電位Vsigが与えられている画素の発光輝度が変化してしまう。
As is well known, the organic light emitting diode OLED changes its IV characteristic due to heat. At this time, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Md changes with the aging of the organic light emitting diode OLED.
As a result, the drive current Id flowing through the organic light emitting diode OLED changes, and as a result, the light emission luminance changes even at the predetermined data potential Vsig.
Further, since the threshold voltage Vth and the mobility μ of the driving transistor Md are different for each pixel circuit, the drain current Ids varies, and the light emission luminance of the pixel to which the same data potential Vsig is applied changes.

Nチャネル型の駆動トランジスタMdを有する画素回路は、駆動能力が高く製造プロセスを簡略化できる利点があるが、閾値電圧Vthや移動度μのばらつきを抑えるため、以下のような補正動作を、前述した発光制御動作に先立って行う必要がある。   The pixel circuit having the N-channel type driving transistor Md has an advantage of high driving capability and simplification of the manufacturing process. However, in order to suppress variations in the threshold voltage Vth and the mobility μ, the following correction operation is performed as described above. It is necessary to carry out prior to the emission control operation.

サンプリングの前に保持キャパシタCsによって、駆動トランジスタMdのゲート電位が、その閾値電圧Vthのレベルで保持される。この予備的な動作は、「閾値補正」と称される。
閾値補正後に、駆動トランジスタMdのゲートにサンプリング後のデータ電位Vinが加わるため、ゲート電位は“Vth+Vin”となって保持される。このときのデータ電位Vinの大きさに応じて駆動トランジスタMdがオンする。閾値電圧Vthが大きくオンし難い駆動トランジスタMdの場合は“Vth+Vin”も大きい、逆に、閾値電圧Vthが小さくオンし易い駆動トランジスタMdの場合は“Vth+Vin”も小さい。よって駆動電流から閾値電圧Vthのバラツキの影響が排除され、データ電位Vinが一定ならば、ドレイン電流Ids(駆動電流Id)も一定となる。
Prior to sampling, the gate potential of the drive transistor Md is held at the level of the threshold voltage Vth by the holding capacitor Cs. This preliminary operation is referred to as “threshold correction”.
After the threshold correction, since the sampled data potential Vin is applied to the gate of the drive transistor Md, the gate potential is held at “Vth + Vin”. The drive transistor Md is turned on according to the magnitude of the data potential Vin at this time. In the case of the drive transistor Md having a large threshold voltage Vth and difficult to turn on, “Vth + Vin” is large, and conversely, in the case of the drive transistor Md having a small threshold voltage Vth and easy to turn on, “Vth + Vin” is also small. Therefore, if the influence of the variation of the threshold voltage Vth is eliminated from the drive current and the data potential Vin is constant, the drain current Ids (drive current Id) is also constant.

また、例えば、データサンプリングの前で閾値補正の後に、「移動度(厳密には、駆動力補正)」を行う。
移動度補正では、電圧“Vth+Vsig”が保持されている状態から、さらに、駆動トランジスタMdの電流駆動能力に応じたゲート電位変化を行う。駆動トランジスタMdのゲートとソースとの間に、駆動トランジスタMdの電流チャネルを介した電流により保持キャパシタを充電または放電するパスが設けられており、このパスに電流を流すか否かを制御することによって移動度補正を行う。
その後、この一定な電流値に駆動されて有機発光ダイオードOLEDが発光する。
Further, for example, “mobility (strictly, driving force correction)” is performed after threshold correction before data sampling.
In the mobility correction, the gate potential is changed according to the current drive capability of the drive transistor Md from the state where the voltage “Vth + Vsig” is held. A path is provided between the gate and the source of the driving transistor Md to charge or discharge the holding capacitor with a current through the current channel of the driving transistor Md, and it is controlled whether or not a current flows through this path. To correct the mobility.
Thereafter, the organic light emitting diode OLED emits light by being driven to the constant current value.

本発明では、例えば図2における有機発光ダイオードOLED、駆動トランジスタMdおよび保持キャパシタCsの組が複数、望ましくは3組以上設けられ、複数の組ごとに1つの前記サンプリングトランジスタが接続されて共用される。
本実施形態では、そのより具体的な例として、上記組が4組設けられ、その2組ごとにサンプリングトランジスタMsが1つ接続される場合を示す。なお、本実施形態では組数が偶数の場合であるため、1つのサンプリングトランジスタに接続される組数は必ず「2」となる。
In the present invention, for example, a plurality of, preferably three or more sets of the organic light emitting diode OLED, the driving transistor Md, and the holding capacitor Cs in FIG. 2 are provided, and one sampling transistor is connected and shared for each of the plurality of sets. .
In the present embodiment, as a more specific example, four sets are provided, and one sampling transistor Ms is connected for every two sets. In the present embodiment, since the number of sets is an even number, the number of sets connected to one sampling transistor is always “2”.

図3に、本実施形態において、1画素内の等価回路図を示す。
図3に示す画素回路3(i,j)は、上記組の数が「4」である。図3において1つの「組」に属する3つの画素回路構成要素、即ち有機発光ダイオードOLED、駆動トランジスタMdおよび保持キャパシタCsを破線により示す。3つの画素回路構成要素の相互接続は図2と同じである。
以下、図3の左端の組から右端の組へ順に「第1組」「第2組」「第3組」「第4組」と呼称する。
FIG. 3 shows an equivalent circuit diagram in one pixel in the present embodiment.
In the pixel circuit 3 (i, j) shown in FIG. 3, the number of the above sets is “4”. In FIG. 3, three pixel circuit components belonging to one “set”, that is, the organic light emitting diode OLED, the driving transistor Md, and the holding capacitor Cs are indicated by broken lines. The interconnection of the three pixel circuit components is the same as in FIG.
Hereinafter, the first group, the second group, the third group, and the fourth group are sequentially referred to from the left end group to the right end group in FIG.

第1組の駆動トランジスタMd1のゲートと第2組の駆動トランジスタMd2のゲートが、共に、1つのサンプリングトランジスタ(以下、第1サンプリングトランジスタという)Ms1のソースに接続されている。同様に、第3組の駆動トランジスタMd3のゲートと第4組の駆動トランジスタMd4のゲートが、共に、他の1つのサンプリングトランジスタ(以下、第2サンプリングトランジスタという)Ms2のソースに接続されている。   The gates of the first set of drive transistors Md1 and the second set of drive transistors Md2 are both connected to the source of one sampling transistor (hereinafter referred to as the first sampling transistor) Ms1. Similarly, the gate of the third set of drive transistors Md3 and the gate of the fourth set of drive transistors Md4 are both connected to the source of one other sampling transistor (hereinafter referred to as the second sampling transistor) Ms2.

第1および第2サンプリングトランジスタMs1,Ms2のドレインは、共通の信号線SIG(j)に接続されている。
ここで、第1および第2サンプリングトランジスタMs1,Ms2のドレインを異なる2本の信号線に接続することも可能であるが、この2本の信号線には同じデータ電位を印加する必要があるため、信号線は1本で足りる。
また、第1および第2サンプリングトランジスタMs1,Ms2を制御する走査線も同様に2本設けてもよいが、同時制御するためには1本で足り、不図示の第2走査線SCAN2(i)が設けられる(図2参照)。
有機発光ダイオードOLEDのカソードには、共通の制御線を介してカソード電位Vcathが与えられる。カソード電位Vcathは基準電圧VSS、例えば接地電圧GNDと、有機発光ダイオードOLEDを逆バイアスする、それより低い電圧との2値を取るように制御される。図3において有機発光ダイオードOLEDに並列接続され、符号「Coled.」により示す容量は、有機発光ダイオードOLEDとは別の回路素子を表すものではなく、逆バイアスされた有機発光ダイオードOLEDの容量値を表している。
The drains of the first and second sampling transistors Ms1, Ms2 are connected to a common signal line SIG (j).
Here, the drains of the first and second sampling transistors Ms1 and Ms2 can be connected to two different signal lines. However, the same data potential needs to be applied to the two signal lines. A single signal line is sufficient.
Similarly, two scanning lines for controlling the first and second sampling transistors Ms1 and Ms2 may be provided, but one is sufficient for simultaneous control, and a second scanning line SCAN2 (i) (not shown) is sufficient. Is provided (see FIG. 2).
A cathode potential Vcath is applied to the cathode of the organic light emitting diode OLED via a common control line. The cathode potential Vcath is controlled to take a binary value of a reference voltage VSS, for example, a ground voltage GND, and a lower voltage that reversely biases the organic light emitting diode OLED. In FIG. 3, the capacitance connected in parallel to the organic light emitting diode OLED and indicated by the symbol “Coled.” Does not represent a circuit element different from the organic light emitting diode OLED, but represents the capacitance value of the reverse-biased organic light emitting diode OLED. Represents.

<平面および断面の構造例>
ここで、画素回路の平面パターンや断面構造について、図面を参照しつつ説明する。
図4(A)と図4(B)は、画素回路3(i,j)についての平面パターンを示すものである。図4(B)は、最上層のカソード電極(全面形成)を省いた平面図、図4(A)は、最上層のカソード電極(全面形成)を省き、さらに、有機発光ダイオードOLEDの電極や有機多層膜を省いた製造途中の平面図である。また、図5(B)はTFT部の基本断面構造図、図5(A)はその平面図である。
<Structural examples of plane and cross section>
Here, the planar pattern and cross-sectional structure of the pixel circuit will be described with reference to the drawings.
4A and 4B show a planar pattern for the pixel circuit 3 (i, j). 4B is a plan view in which the uppermost cathode electrode (entire formation) is omitted, and FIG. 4A is the uppermost cathode electrode (whole surface formation) omitted. It is a top view in the middle of manufacture which excluded the organic multilayer film. FIG. 5B is a basic cross-sectional structure diagram of the TFT portion, and FIG. 5A is a plan view thereof.

図5(B)に示すように、ガラス等からなる基板9上に図示のように直接(または下地層(絶縁層の一種)を介して)、所定のゲートメタル層(GM)、例えばモリブデン(Mo)等の高融点金属層からなるゲート電極11が形成されている。
ゲート電極11は、図4(A)において、駆動トランジスタMd1とMd2のゲート電極11A1、駆動トランジスタMd3とMd4のゲート電極11A2、第1および第2サンプリングトランジスタMs1とMs2の共通のゲート電極11Bに該当する。ここでゲート電極11A1と11A2は、それぞれ、保持キャパシタCs1とCs2の下部電極、保持キャパシタCs3とCs4の下部電極としても機能させるため、保持キャパシタCs1〜Cs4の形成領域に拡がって配置されている。一方、ゲート電極11Bの一方端が、第2走査線SCAN2(i)と接続のために、その下方に延びている。
As shown in FIG. 5B, a predetermined gate metal layer (GM) such as molybdenum (directly on a substrate 9 made of glass or the like directly (or via an underlayer (a kind of insulating layer)) as shown. A gate electrode 11 made of a refractory metal layer such as Mo) is formed.
In FIG. 4A, the gate electrode 11 corresponds to the gate electrode 11A1 of the drive transistors Md1 and Md2, the gate electrode 11A2 of the drive transistors Md3 and Md4, and the common gate electrode 11B of the first and second sampling transistors Ms1 and Ms2. To do. Here, the gate electrodes 11A1 and 11A2 are arranged so as to extend in the formation regions of the holding capacitors Cs1 to Cs4 in order to function as the lower electrodes of the holding capacitors Cs1 and Cs2 and the lower electrodes of the holding capacitors Cs3 and Cs4, respectively. On the other hand, one end of the gate electrode 11B extends downward for connection to the second scanning line SCAN2 (i).

図5(B)のゲート電極11の表面を覆うように、基板9上にゲート絶縁膜10が形成され、その上に、アモルファスシリコン(α−Si)からなる薄膜半導体層13が形成されている。
薄膜半導体層13は、図4(A)においては省略されているが、駆動トランジスタMd1〜Md4のTFT層、第1および第2サンプリングトランジスタMs1とMs2のTFT層を、互いに孤立して形成するための層である。
A gate insulating film 10 is formed on the substrate 9 so as to cover the surface of the gate electrode 11 in FIG. 5B, and a thin film semiconductor layer 13 made of amorphous silicon (α-Si) is formed thereon. .
Although the thin film semiconductor layer 13 is omitted in FIG. 4A, the TFT layers of the drive transistors Md1 to Md4 and the TFT layers of the first and second sampling transistors Ms1 and Ms2 are formed so as to be isolated from each other. Of layers.

図5(B)の薄膜半導体層13は、そのゲート電極11と対向する部分がチャネル形成領域である。薄膜半導体層13上のチャネル形成領域を保護する位置に、絶縁材料のチャネル保護膜18が形成されている。また、チャネル保護膜18に端部が乗り上げ、薄膜半導体層13より若干狭い幅で(図5(A)参照)、2つのソース・ドレイン電極14が配置されている。ソース・ドレイン電極14は、チャネル保護膜18上で互いに離間して、その片方がソース(S)電極として機能し、他の片方がドレイン(D)電極として機能する。2つのソース・ドレイン電極14は、例えばアルミニウム(AL)を主材料とする配線層;(AL)層から形成されている。   In the thin film semiconductor layer 13 in FIG. 5B, a portion facing the gate electrode 11 is a channel formation region. A channel protective film 18 made of an insulating material is formed at a position to protect the channel formation region on the thin film semiconductor layer 13. In addition, two end portions of the source / drain electrodes 14 are disposed on the channel protective film 18 so as to have a width slightly narrower than that of the thin film semiconductor layer 13 (see FIG. 5A). The source / drain electrodes 14 are separated from each other on the channel protective film 18, and one of them functions as a source (S) electrode, and the other functions as a drain (D) electrode. The two source / drain electrodes 14 are formed of, for example, a wiring layer (AL) layer mainly made of aluminum (AL).

図5のソース・ドレイン電極14は、図4(A)の駆動トランジスタMd1に関しては、第1走査線SCAN1(i)から分岐し駆動トランジスタMdのドレイン電極として機能するVDD線14A、駆動トランジスタMd1のソース電極として機能する接続配線14B1に該当する。接続配線14B1は、保持キャパシタCs1の上部電極として機能させるため、ゲート電極11A1の一方の広い面積部分に重ねて配置されている。
また、図5のソース・ドレイン電極14は、図4(A)の駆動トランジスタMd2に関しては、前記VDD線14Aと、駆動トランジスタMd2のソース電極として機能する接続配線14B2に該当する。接続配線14B2は、保持キャパシタCs2の上部電極として機能させるため、ゲート電極11A1の他方の広い面積部分に重ねて配置されている。
The source / drain electrodes 14 in FIG. 5 are related to the drive transistor Md1 in FIG. 4A, the VDD line 14A that branches from the first scan line SCAN1 (i) and functions as the drain electrode of the drive transistor Md, and the drive transistor Md1. This corresponds to the connection wiring 14B1 functioning as a source electrode. In order to function as the upper electrode of the holding capacitor Cs1, the connection wiring 14B1 is disposed so as to overlap with one wide area portion of the gate electrode 11A1.
5 corresponds to the VDD line 14A and the connection wiring 14B2 functioning as the source electrode of the driving transistor Md2 with respect to the driving transistor Md2 in FIG. 4A. In order to function as the upper electrode of the holding capacitor Cs2, the connection wiring 14B2 is disposed so as to overlap the other wide area portion of the gate electrode 11A1.

図5のソース・ドレイン電極14は、図4(A)の駆動トランジスタMd3に関しては、前記VDD線14Aと、駆動トランジスタMd3のソース電極として機能する接続配線14B3に該当する。接続配線14B3は、保持キャパシタCs3の上部電極として機能させるため、ゲート電極11A2の一方の広い面積部分に重ねて配置されている。
また、図5のソース・ドレイン電極14は、図4(A)の駆動トランジスタMd4に関しては、前記VDD線14Aと、駆動トランジスタMd4のソース電極として機能する接続配線14B4に該当する。接続配線14B4は、保持キャパシタCs4の上部電極として機能させるため、ゲート電極11A2の他方の広い面積部分に重ねて配置されている。
The source / drain electrode 14 in FIG. 5 corresponds to the VDD line 14A and the connection wiring 14B3 functioning as the source electrode of the drive transistor Md3 with respect to the drive transistor Md3 in FIG. In order to function as the upper electrode of the holding capacitor Cs3, the connection wiring 14B3 is arranged so as to overlap with one wide area portion of the gate electrode 11A2.
5 corresponds to the VDD line 14A and the connection wiring 14B4 functioning as the source electrode of the drive transistor Md4 with respect to the drive transistor Md4 in FIG. 4A. The connection wiring 14B4 is disposed so as to overlap the other wide area portion of the gate electrode 11A2 in order to function as the upper electrode of the holding capacitor Cs4.

さらに、図4のソース・ドレイン電極14は、図4(A)のサンプリングトランジスタMs1に関しては、第1サンプリングトランジスタMs1のドレイン電極として機能する接続配線14C、第1サンプリングトランジスタMs1のソース電極として機能する接続配線14D1に該当する。
同様に、図4のソース・ドレイン電極14は、図4(A)の第2サンプリングトランジスタMs2に関しては、第2サンプリングトランジスタMs2のドレイン電極として機能する接続配線14C、第2サンプリングトランジスタMs2のソース電極として機能する接続配線14D2に該当する。
Further, the source / drain electrode 14 of FIG. 4 functions as the source electrode of the first sampling transistor Ms1 and the connection wiring 14C that functions as the drain electrode of the first sampling transistor Ms1 with respect to the sampling transistor Ms1 of FIG. This corresponds to the connection wiring 14D1.
Similarly, the source / drain electrodes 14 in FIG. 4 are connected to the second sampling transistor Ms2 in FIG. 4A, the connection wiring 14C functioning as the drain electrode of the second sampling transistor Ms2, and the source electrode of the second sampling transistor Ms2. This corresponds to the connection wiring 14D2 functioning as:

接続配線14Cは、第1および第2サンプリングトランジスタMs1とMs2に共通に設けられ、信号線SIG(j)の一部としても機能する。
接続配線14D1は、図2の制御ノードNDc接続のために、その端部が保持キャパシタCs1とCs2に共通の下部電極(ゲート電極11A1)の上方に延び、1stコンタクトホール(1CH)の1つであるコンタクト12A1によって、ゲート電極11A1と接続されている。
同様に、接続配線14D2は、図2の制御ノードNDc接続のために、その端部が保持キャパシタCs3とCs4に共通の下部電極(ゲート電極11A2)の上方に延び、1stコンタクトホール(1CH)の1つであるコンタクト12A2によって、ゲート電極11A2と接続されている。
The connection wiring 14C is provided in common to the first and second sampling transistors Ms1 and Ms2, and also functions as a part of the signal line SIG (j).
In order to connect the control node NDc in FIG. 2, the end of the connection wiring 14D1 extends above the lower electrode (gate electrode 11A1) common to the holding capacitors Cs1 and Cs2, and is one of the 1st contact holes (1CH). A contact 12A1 is connected to the gate electrode 11A1.
Similarly, the connection wiring 14D2 has an end extending above the lower electrode (gate electrode 11A2) common to the holding capacitors Cs3 and Cs4 for connection to the control node NDc of FIG. 2, and is connected to the 1st contact hole (1CH). One contact 12A2 is connected to the gate electrode 11A2.

図5(B)に示すように、2つのソース・ドレイン電極14と薄膜半導体層13との重なり部分に、P型の薄膜半導体層13と逆導電型のN型不純物が高濃度に導入されたソース不純物領域17Sとドレイン不純物領域17Dが設けられている。ソース不純物領域17Sにより、一方のソース・ドレイン電極14と薄膜半導体層13が低抵抗で接続されたソースコンタクトが達成されている。同様に、ドレイン不純物領域17Dにより、他のソース・ドレイン電極14と薄膜半導体層13が低抵抗で接続されたドレインコンタクトが達成されている。   As shown in FIG. 5B, the P-type thin film semiconductor layer 13 and the reverse conductivity type N-type impurity are introduced at a high concentration in the overlapping portion between the two source / drain electrodes 14 and the thin film semiconductor layer 13. A source impurity region 17S and a drain impurity region 17D are provided. A source contact in which one source / drain electrode 14 and the thin film semiconductor layer 13 are connected with low resistance is achieved by the source impurity region 17S. Similarly, the drain impurity region 17D achieves a drain contact in which the other source / drain electrodes 14 and the thin film semiconductor layer 13 are connected with low resistance.

図4(A)において、第1走査線SCAN1(i)と第2走査線SCAN2(i)は、それぞれ(AL)層から形成され、セル内の行方向の対向辺に沿って互いに平行に配置されている。
これに対し、信号線SIG(j)が、第1走査線SCAN1(i)と第2走査線SCAN2(i)と直交する列方向に長く形成されている。
In FIG. 4A, the first scanning line SCAN1 (i) and the second scanning line SCAN2 (i) are each formed from the (AL) layer, and are arranged in parallel to each other along opposite sides in the row direction in the cell. Has been.
On the other hand, the signal line SIG (j) is formed long in the column direction orthogonal to the first scanning line SCAN1 (i) and the second scanning line SCAN2 (i).

信号線SIG(j)のセル内部分の多くが、上述したように(AL)層からなる接続配線14Cにより構成されている。
信号線SIG(j)と第1走査線SCAN1(i)との交差部分に、ゲート電極11(図5参照)と同じ階層で同じ材料の層(GM)を含むブリッジ線11Cが設けられている。接続配線14Cの一方端部は、2つのコンタクト(1CH)12Cにより、下層のブリッジ線11Cと接続され、ブリッジ線11C上に、接続配線14Cと同じ階層で同じ材料(AL)の第1走査線SCAN1(i)が交差している。
同様に、信号線SIG(j)と第2走査線SCAN2(i)との交差部分に、ゲート電極11と同じ階層で同じ材料の層(GM)を含むブリッジ線11Dが設けられている。接続配線14Cの他方端部は、2つのコンタクト(1CH)12Dにより、下層のブリッジ線11Dと接続され、ブリッジ線11D上に、接続配線14Cと同じ階層で同じ材料(AL)の第2走査線SCAN2(i)が交差している。
Most of the in-cell portions of the signal line SIG (j) are configured by the connection wiring 14C made of the (AL) layer as described above.
A bridge line 11C including a layer (GM) of the same material at the same level as the gate electrode 11 (see FIG. 5) is provided at the intersection of the signal line SIG (j) and the first scanning line SCAN1 (i). . One end of the connection wiring 14C is connected to the lower layer bridge line 11C by two contacts (1CH) 12C, and the first scanning line of the same material (AL) at the same level as the connection wiring 14C is formed on the bridge line 11C. SCAN1 (i) intersects.
Similarly, a bridge line 11 </ b> D including a layer (GM) of the same material at the same level as the gate electrode 11 is provided at the intersection of the signal line SIG (j) and the second scanning line SCAN <b> 2 (i). The other end of the connection wiring 14C is connected to the lower layer bridge line 11D by two contacts (1CH) 12D, and the second scanning line of the same material (AL) at the same level as the connection wiring 14C is formed on the bridge line 11D. SCAN2 (i) intersects.

図5(B)に戻ると、上述した構造のTFTを覆うTFT保護膜19が堆積される。
図5(B)には示さないが、TFT保護膜19上に有機発光ダイオードOLEDが形成される。有機発光ダイオードOLEDは、図3(B)に示すように、画素を4分割する領域にそれぞれ形成されたアノードメタル層(AM)からなる下層のアノード電極AEa,AEb,AEc,AEdが形成されている。
アノード電極AEaは、2ndコンタクトホール(2CH)の1つであるコンタクト15Aによって、下層の接続配線14B1と接続されている。同様に、アノード電極AEbはコンタクト15Bを介して接続配線14B2に接続され、アノード電極AEcはコンタクト15Cを介して接続配線14B3に接続され、アノード電極AEdはコンタクト15Dを介して接続配線14B4に接続されている。
Returning to FIG. 5B, a TFT protective film 19 covering the TFT having the above-described structure is deposited.
Although not shown in FIG. 5B, an organic light emitting diode OLED is formed on the TFT protective film 19. As shown in FIG. 3B, the organic light emitting diode OLED has lower anode electrodes AEa, AEb, AEc, and AEd formed of anode metal layers (AM) formed in regions into which pixels are divided into four. Yes.
The anode electrode AEa is connected to the lower connection wiring 14B1 by a contact 15A which is one of the 2nd contact holes (2CH). Similarly, the anode electrode AEb is connected to the connection wiring 14B2 via the contact 15B, the anode electrode AEc is connected to the connection wiring 14B3 via the contact 15C, and the anode electrode AEd is connected to the connection wiring 14B4 via the contact 15D. ing.

本実施形態では上面発光型であるため、アノードメタル層(AM)は、例えば、クロム(Cr)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、プラチナ(Pt)さらには金(Au)のように、仕事関数が大きく、かつ反射率の高い導電性材料を適宜選択して形成できる。
アノード電極AEa,AEb,AEc,AEdの表面を覆うEL保護膜21が形成され、EL保護膜21に開口部21A,21B,21C,21Dが設けられている。開口部21A〜21Dは、コンタクト15A〜15Dを露出しない範囲で、アノード電極AE上で可能な限り大きく形成されている。
なお、特に図示しないが、開口部21A内を含む範囲に有機多層膜が形成され、さらに、有機多層膜に接続し、全面を覆うようにカソード電極が設けられる。カソード電極は、透明電極材料から形成されている。
In this embodiment, since it is a top emission type, the anode metal layer (AM) is made of, for example, chromium (Cr), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), tantalum (Ta). , Tungsten (W), platinum (Pt), and gold (Au) can be formed by appropriately selecting a conductive material having a high work function and high reflectivity.
An EL protective film 21 is formed to cover the surfaces of the anode electrodes AEa, AEb, AEc, and AEd, and openings 21A, 21B, 21C, and 21D are provided in the EL protective film 21. The openings 21A to 21D are formed as large as possible on the anode electrode AE within a range where the contacts 15A to 15D are not exposed.
Although not particularly illustrated, an organic multilayer film is formed in a range including the inside of the opening 21A, and a cathode electrode is provided so as to be connected to the organic multilayer film and cover the entire surface. The cathode electrode is formed from a transparent electrode material.

第1実施形態は、画素回路要素の組が3以上の偶数設けられるが、上記例では最小の4個の場合を例示して説明した。本実施形態では、この組の数は4に限らず、6、8、…と任意に設定可能である。また、1つのサンプリングトランジスタMsに接続される組数も2に限定されず、3以上の任意数でよい。   In the first embodiment, an even number of three or more sets of pixel circuit elements is provided. In the above example, the minimum four cases are described as an example. In the present embodiment, the number of sets is not limited to 4, but can be arbitrarily set to 6, 8,. In addition, the number of sets connected to one sampling transistor Ms is not limited to 2, and may be an arbitrary number of 3 or more.

ただし、次の実施形態のように端数がでる場合に、その端数が最低の1から上記任意数より1だけ小さい数まで変化する可能性がある。したがって、1つのサンプリングトランジスタに接続させる組数を余り大きくすると、1つのサンプリングトランジスタのドレイン側負荷が大きく異なるためサンプリング特性が大きく変化する。この変化をあまり大きくしない意味で、1つのサンプリングトランジスタに、組を対で接続させることが望ましい。   However, when a fraction appears as in the following embodiment, the fraction may change from the lowest 1 to a number smaller by 1 than the above arbitrary number. Therefore, if the number of pairs connected to one sampling transistor is excessively large, the sampling characteristics greatly change because the drain side load of one sampling transistor is greatly different. In order not to make this change so large, it is desirable to connect a pair to a single sampling transistor.

《第2実施形態》
第2実施形態は、上記組数が奇数の場合に関する。ここでは最低の組数が3の場合を説明する。
<< Second Embodiment >>
The second embodiment relates to a case where the number of sets is an odd number. Here, a case where the minimum number of sets is 3 will be described.

図6に、組数が3の場合の画素回路3(i,j)の等価回路図を示す。
図6に示す画素回路では、第1組と第2組が共通のサンプリングトランジスタMs1に接続されている点は第1実施形態の図3と共通するが、第3組が端数となるので、第3組が単独で第2サンプリングトランジスタMs2に接続されている。
FIG. 6 shows an equivalent circuit diagram of the pixel circuit 3 (i, j) when the number of sets is three.
In the pixel circuit shown in FIG. 6, the point that the first set and the second set are connected to the common sampling transistor Ms1 is the same as that in FIG. 3 of the first embodiment, but the third set is a fraction. Three sets are independently connected to the second sampling transistor Ms2.

トランジスタの配置平面図は、図4(A)において、駆動トランジスタMd4と保持キャパシタCs4が省略されるため、接続配線14B4がなく、ゲート電極11A2は、保持キャパシタCs4の下部電極部分と連結部がないパターン形状となる。第2サンプリングトランジスタMs2は、保持キャパシタCs3の真横に形成され、その下部電極部分に接続配線14D2が接続される。なお、第4組に関する駆動トランジスタMd4、保持キャパシタCs4、接続配線14B4が省略されている分、その他の3つの組の配置スペースを図4より大きくして画素内に無駄なスペースができないようにするとよい。   4A, the driving transistor Md4 and the holding capacitor Cs4 are omitted, and therefore, there is no connection wiring 14B4, and the gate electrode 11A2 has no connection portion with the lower electrode portion of the holding capacitor Cs4. It becomes a pattern shape. The second sampling transistor Ms2 is formed directly beside the holding capacitor Cs3, and the connection wiring 14D2 is connected to the lower electrode portion thereof. Since the drive transistor Md4, the holding capacitor Cs4, and the connection wiring 14B4 related to the fourth set are omitted, the arrangement space of the other three sets is made larger than that in FIG. Good.

図7に、3組のアノードメタルを画素内でほぼ均等に配置した例を示す。
図7より下層のトランジスタやキャパシタを均等配置する場合、均等配置しない場合の何れにおいても、図7のようにアノード電極AEa〜AEcを均等配置すると、EL保護膜21の開口面積が大きくとれて好ましい。有機発光ダイオードOLEDは開口部21A〜21Cの各々が発光部の面積に相当するため、開口面積を可能な限り大きくすることで光量が増すからである。
なお、コンタクト15A〜15Cは、アノードメタルとキャパシタ下部電極を接続するコンタクトであり、ここでは、その1つのコンタクト15Cを設ける位置を他の2つと逆にしているが、同じ向きの位置に3つのコンタクト15A〜15Cを設けてもよい。
FIG. 7 shows an example in which three sets of anode metals are arranged almost uniformly in a pixel.
In both cases where the transistors and capacitors in the lower layer than FIG. 7 are evenly arranged and not evenly arranged, it is preferable that the anode electrodes AEa to AEc be evenly arranged as shown in FIG. 7 because the opening area of the EL protective film 21 is large. . This is because, in the organic light emitting diode OLED, each of the openings 21A to 21C corresponds to the area of the light emitting part, so that the amount of light is increased by increasing the opening area as much as possible.
The contacts 15A to 15C are contacts for connecting the anode metal and the capacitor lower electrode. Here, the position where the one contact 15C is provided is reversed from the other two, but three contacts are positioned in the same direction. Contacts 15A to 15C may be provided.

本実施形態でも、この組数は3に限らず、5、7、…と任意に設定可能である。また、1つのサンプリングトランジスタMsに接続される組数も2に限定されず、3以上の任意数でよい。ただし、端数が生じた場合のサンプリング特性をあまり大きく変化させたくない要求がある場合は、1つのサンプリングトランジスタに接続させる組数は2とするとよい。
なお、第1および第2実施形態では、組数を変えてもサンプリング特性が変化しない、変化しても問題としない場合は、1つのサンプリングトランジスタに接続させる組数を2とする必要はなく、任意数としてよい。
Also in the present embodiment, the number of sets is not limited to 3, and can be arbitrarily set to 5, 7,. In addition, the number of sets connected to one sampling transistor Ms is not limited to 2, and may be an arbitrary number of 3 or more. However, when there is a demand for not changing the sampling characteristics when the fraction occurs, the number of sets connected to one sampling transistor is preferably 2.
In the first and second embodiments, if the sampling characteristic does not change even if the number of sets is changed, and there is no problem even if the number of sets is changed, it is not necessary to set the number of sets connected to one sampling transistor to 2, It may be an arbitrary number.

上述した第1および第2実施形態によれば、以下の利益が得られる。
複数個の有機発光ダイオードOLEDの画素回路要素の組のうち、例えばどれか1つ(または2以上)に、有機発光ダイオードOLEDの電極や有機膜の加工時に発生した異物がEL保護膜21の開口部に載り、これにより電極間がショートして滅点になってしまっても、複数個のアノード電極間はそれぞれ電気的に接続されていないので、単独に発光し、その画素は完全な滅点欠陥とはならない。
また、複数個の組の構成要素である駆動トランジスタのソースとドレインがショートしてしまい、その開口部が輝点欠陥になった場合、欠陥となった駆動トランジスタが属する組以外に画素内に他の組みが設けられているため、画素が完全な滅点欠陥とはならない。同様に、何れかの組を構成するサンプリングトランジスタのソースとドレイン部がショートして、その組の開口部が半滅点になった場合でも、欠陥となったサンプリングトランジスタ以外のサンプリングトランジスタに接続された組の画素回路部分が正常動作するため、その画素は完全な滅点欠陥とはならない。
According to the first and second embodiments described above, the following benefits can be obtained.
For example, any one (or two or more) of the pixel circuit element groups of the plurality of organic light emitting diodes OLED has a foreign matter generated during processing of the electrodes of the organic light emitting diode OLED or the organic film. Even if a short circuit occurs between the electrodes and this results in a dark spot, the anode electrodes are not electrically connected to each other, so they emit light independently, and the pixel is completely dark. It will not be a defect.
In addition, if the source and drain of the drive transistor, which is a component of a plurality of sets, are short-circuited and the opening becomes a bright spot defect, other than the set to which the defective drive transistor belongs, Therefore, the pixel does not become a complete dark spot defect. Similarly, even if the source and drain of a sampling transistor that constitutes one of the groups is short-circuited and the opening of that group becomes a half-dead point, it is connected to a sampling transistor other than the defective sampling transistor. Since the set of pixel circuit portions normally operate, the pixel does not have a complete dark spot defect.

このように種々の態様で欠陥が発生した組は、リペア工程でサンプリングトランジスタから切り離すことが望ましい。   As described above, it is desirable that the group in which the defect is generated in various aspects is separated from the sampling transistor in the repair process.

図8(B)の平面図に、このリペアに適した保持キャパシタの下部電極パターンを示す。図8(A)は比較例のパターン、即ちリペアがし難いパターンを示す平面図である。
本発明の第1および第2実施形態において、画素構成要素の組が対で1つのサンプリングトランジスタMsに接続されている場合、その2組に共通な保持キャパシタ下部電極のパターンを図8(B)のように形成することが望ましい。
図8(A)および図8(B)では、2つの保持キャパシタCsの上部電極と重なる下部電極部分は、キャパシタ面積確保のため四角に近いほぼ矩形状に形成され、その2つのキャパシタ下部電極部分をつなぐ連結部が設けられている。ただし、図8(A)では、連結部の幅が、キャパシタ下部電極部分の幅とさほど変わらないため、個の連結部分で一方の保持キャパシタCsを保持キャパシタCsから切り離すことは困難である。
一方、図8(B)では、連結部が十分細く形成されているため、この部分をレーザ等により切断することが容易である。第1および第2実施形態では、この理由から、図8(B)のパターンを採用するとよい。
A plan view of FIG. 8B shows a lower electrode pattern of a holding capacitor suitable for this repair. FIG. 8A is a plan view showing a pattern of a comparative example, that is, a pattern that is difficult to repair.
In the first and second embodiments of the present invention, when a pair of pixel components is connected to one sampling transistor Ms in pairs, the pattern of the holding capacitor lower electrode common to the two sets is shown in FIG. It is desirable to form as follows.
8A and 8B, the lower electrode portion that overlaps the upper electrodes of the two holding capacitors Cs is formed in a substantially rectangular shape close to a square in order to secure the capacitor area, and the two capacitor lower electrode portions. A connecting portion for connecting the two is provided. However, in FIG. 8A, since the width of the connecting portion is not much different from the width of the capacitor lower electrode portion, it is difficult to separate one holding capacitor Cs from the holding capacitor Cs at each connecting portion.
On the other hand, in FIG. 8B, since the connecting portion is formed to be sufficiently thin, it is easy to cut this portion with a laser or the like. In the first and second embodiments, the pattern shown in FIG. 8B may be adopted for this reason.

リペアを行うと、サンプリングトランジスタMsからのデータが、欠陥が生じた組内の駆動トランジスタMdのゲートに供給されないため、その組内の有機発光ダイオードOLEDを常時、非発光とすることができるため、無駄な電力消費がない。例えば有機発光ダイオードOLEDの電極間ショートの欠陥の場合に、それを駆動する駆動トランジスタMdに白や白に近い高輝度表示ためのデータが供給されると、有機発光ダイオードOLEDは欠陥のため発光しないものの、駆動トランジスタMdは電流駆動状態になるため無駄な電流がショート電極間に流れるが、リペアを行うと、そのような無駄な電力が流れない。   When the repair is performed, data from the sampling transistor Ms is not supplied to the gate of the drive transistor Md in the set in which the defect has occurred, and therefore, the organic light emitting diode OLED in the set can be always non-lighted. There is no useless power consumption. For example, in the case of an electrode short-circuit defect of the organic light emitting diode OLED, when data for high brightness display close to white or white is supplied to the driving transistor Md for driving the organic light emitting diode OLED, the organic light emitting diode OLED does not emit light due to the defect. However, since the driving transistor Md is in a current driving state, a wasteful current flows between the short electrodes, but such a wasteful power does not flow when repair is performed.

このように本発明の第1および第2実施形態によれば、画素の完全な滅点欠陥を防止することができる。トランジスタの欠陥発生確率が、OLEDの欠陥発生確率より小さいことを利用して、その欠陥発生確率の差に応じて1つのサンプリングトランジスタで駆動する組数を設定することができ、これにより画素に発生した欠陥の影響を最小限に最適化できる。
また、リペアを行うことで欠陥発生に伴う無駄な電力消費を防止できる。このときリペアが行いやすいパターンを有するため、リペア時の電極切断を確実にできる。
As described above, according to the first and second embodiments of the present invention, it is possible to prevent a complete dark spot defect of a pixel. Utilizing the fact that the defect occurrence probability of a transistor is smaller than the defect occurrence probability of an OLED, the number of sets driven by one sampling transistor can be set according to the difference in the defect occurrence probability, thereby generating in a pixel Can optimize the effect of defects.
Further, by performing repair, it is possible to prevent wasteful power consumption accompanying the occurrence of a defect. At this time, since it has a pattern that can be easily repaired, the electrode can be reliably cut during repair.

本発明の一実施形態に関わる有機ELディスプレイの主要構成図である。1 is a main configuration diagram of an organic EL display according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に関わる画素回路の基本構成例を示す図である。It is a figure which shows the basic structural example of the pixel circuit concerning one Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に関わる画素の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to the first embodiment of the present invention. (A)は第1実施形態の下層平面図、(B)はその上層平面図である。(A) is a lower layer plan view of the first embodiment, and (B) is an upper layer plan view thereof. (A)はTFT部の基本平面図、(B)はその基本断面構造図である。(A) is a basic plan view of the TFT portion, and (B) is a basic cross-sectional structure diagram thereof. 本発明の第2実施形態に関わる画素回路の基本構成例を示す図である。It is a figure which shows the basic structural example of the pixel circuit in connection with 2nd Embodiment of this invention. 第2実施形態の上層平面図である。It is an upper layer top view of a 2nd embodiment. (B)は第1および第2実施形態で採用可能なキャパシタ下部電極パターンを含む画素の部分的な平面図である。(A)は、その比較例を示す画素の部分的な平面図である。FIG. 5B is a partial plan view of a pixel including a capacitor lower electrode pattern that can be employed in the first and second embodiments. (A) is a partial top view of the pixel which shows the comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機ELディスプレイ、2…画素アレイ、3(i,j)…画素回路、4…Vスキャナ、5…Hスキャナ、9…基板、10…ゲート絶縁膜、11…ゲート電極、12…(1st)コンタクト、13…薄膜半導体層、14…ソース・ドレイン電極、15…(2nd)コンタクト、18…チャネル保護膜、19…TFT保護膜、21…EL保護膜、21A〜21D…開口部、41…水平画素ライン駆動回路、42…書き込み信号走査回路、Cs…保持キャパシタ、OLED…有機発光ダイオード、Ms…サンプリングトランジスタ、Md…駆動トランジスタ、SCAN1(i)…第1走査線、SCAN2(i)…第2走査線、SIG(j)…信号線、AE…アノード電極、AM…アノードメタル層、GM…ゲートメタル層     DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display, 2 ... Pixel array, 3 (i, j) ... Pixel circuit, 4 ... V scanner, 5 ... H scanner, 9 ... Substrate, 10 ... Gate insulating film, 11 ... Gate electrode, 12 ... (1st ) Contact, 13 ... thin film semiconductor layer, 14 ... source / drain electrode, 15 ... (2nd) contact, 18 ... channel protective film, 19 ... TFT protective film, 21 ... EL protective film, 21A-21D ... opening, 41 ... Horizontal pixel line driving circuit, 42... Write signal scanning circuit, Cs... Holding capacitor, OLED .organic light emitting diode, Ms .sampling transistor, Md... Driving transistor, SCAN1 (i). 2 scanning lines, SIG (j) ... signal line, AE ... anode electrode, AM ... anode metal layer, GM ... gate metal layer

Claims (4)

複数の画素を有する画素アレイを有し、
前記複数の画素のそれぞれが、
サンプリングトランジスタと、
駆動トランジスタと、
前記駆動トランジスタの発光制御ノードに結合し、前記サンプリングトランジスタを介して入力されるデータ電位を保持する保持キャパシタと、
前記駆動トランジスタと共に駆動電流経路に直列接続され、保持された前記データ電位に応じ前記駆動トランジスタが制御する駆動電流量に基づいて自発光する発光素子と、
を有し、
前記複数の画素のそれぞれにおいて、
前記駆動トランジスタ、前記保持キャパシタおよび前記発光素子を含む画素回路要素の組がN(N≧3)組以上設けられ、
前記画素回路要素の複数の組ごとに1つの前記サンプリングトランジスタが接続されて共用されている
自発光型表示装置。
Having a pixel array having a plurality of pixels;
Each of the plurality of pixels is
A sampling transistor;
A driving transistor;
A holding capacitor coupled to the light emission control node of the driving transistor and holding a data potential input via the sampling transistor;
A light-emitting element that is connected in series to a drive current path together with the drive transistor, and that emits light based on a drive current amount controlled by the drive transistor according to the held data potential;
Have
In each of the plurality of pixels,
N (N ≧ 3) sets of pixel circuit elements including the driving transistor, the holding capacitor, and the light emitting element are provided,
A self-luminous display device in which one sampling transistor is connected and shared for each of a plurality of sets of the pixel circuit elements.
前記画素回路要素の2組ごとに1つの前記サンプリングトランジスタが接続されて共用され、上記Nが奇数の場合に残る1組の前記画素回路要素に対して1つの前記サンプリングトランジスタが接続されている
請求項1に記載の自発光型表示装置。
One sampling transistor is connected and shared every two sets of the pixel circuit elements, and one sampling transistor is connected to one set of the pixel circuit elements remaining when N is an odd number. Item 2. The self-luminous display device according to Item 1.
前記画素回路要素の2組ごとに接続されている前記サンプリングトランジスタは、そのソースとドレインの一方が、前記2組内の2つの前記保持キャパシタの一方のキャパシタ電極となる導電層にコンタクトを介して接続され、
前記導電層が、
誘電膜を介して個別の他方のキャパシタ電極と各々重なる2つのキャパシタ電極部と、
前記2つのキャパシタ電極部を連結し、当該2つのキャパシタ電極部より幅が狭い連結部と、
連結部の中央から分岐したコンタクト部と、
を備える請求項2に記載の自発光型表示装置。
The sampling transistor connected to every two sets of the pixel circuit elements has one of its source and drain via a contact with a conductive layer that becomes one capacitor electrode of the two holding capacitors in the two sets. Connected,
The conductive layer is
Two capacitor electrode portions each overlapping with another individual capacitor electrode through a dielectric film;
Connecting the two capacitor electrode portions, a connecting portion having a width narrower than the two capacitor electrode portions;
A contact portion branched from the center of the connecting portion;
A self-luminous display device according to claim 2.
前記N個の保持キャパシタにおいて、
一方のキャパシタ電極が、隣接する2つの前記保持キャパシタごとに連結され、
前記Nが奇数の場合は、端数となる1つの前記一方のキャパシタ電極が独立して設けられ、
N個の他方のキャパシタ電極が互いに分離して配置され、
前記N個の発光素子において、
前記画素をN分割したN個の領域ごとに配置されて対応する一の前記他方のキャパシタ電極とそれぞれが接続されたN個の発光素子下部電極と、
前記N個の発光素子下部電極上に積層された有機多層膜と、
前記有機多層膜上に形成された共通の透明電極材料からなる1つの発光素子上層電極と、
前記発光素子上層電極を覆い、前記N個の発光素子上層電極ごとに開口部が形成された保護膜と、
を有する請求項1に記載の自発光型表示装置。
In the N holding capacitors,
One capacitor electrode is connected to each of the two adjacent holding capacitors,
When the N is an odd number, the one capacitor electrode that is a fraction is provided independently,
N other capacitor electrodes are arranged separately from each other,
In the N light emitting elements,
N light emitting element lower electrodes, each of which is arranged for each of N regions obtained by dividing the pixel into N and is connected to the corresponding one of the other capacitor electrodes;
An organic multilayer film laminated on the N light emitting element lower electrodes;
One light emitting element upper layer electrode made of a common transparent electrode material formed on the organic multilayer film;
A protective film covering the light emitting element upper layer electrode and having an opening formed for each of the N light emitting element upper layer electrodes;
The self-luminous display device according to claim 1, comprising:
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