JP2009139148A - 金属汚染物質測定方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板2と、基板2の一方の面に、測定対象となる試験液が接触するように収容される試験液収容部3と、基板2の他方の面に、金属不純物濃度が試験液よりも低い液体が接触するように収容される測定液収容部4と、測定液収容部4中に収容されている測定液の金属不純物濃度を測定する測定手段5と、試験液収容部3に収容されている試験液、測定液収容部4に収容されている測定液をそれぞれ攪拌する攪拌手段6,7と、からなる金属汚染物質測定装置1。
【選択図】図1
Description
図1に示した金属汚染物質測定装置を用いた。
基板としては、大きさ25mm×25mm、厚さ0.5mmの石英ガラス基板(宝化成機器株式会社製)を用い、試験液収容部に10ppmの銅、鉄、コバルト、マンガン、クロム、バナジウム、チタン、カルシウム、カリウム、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、ニッケル各種金属を含む水酸化ナトリウムでpHを10.5に調整したアルカリ溶液を、測定液収容部に銅含有量が1ppb以下で電気抵抗率が18.2MΩ・cmの純水をそれぞれ収容し、石英ガラス基板の両面に試験液及び測定液と接触するように液体接触状態として、常温で8週間放置した。
実施例1に加え、さらに石英ガラス基板の表面(アルカリ溶液側と純水側の両面)をSEM−EDX装置(日本電子データム製、商品名:JSM T330)で分析し、その結果を表2に示した。なお、ここではSiの濃度に対する比率として金属濃度を表した。
Claims (5)
- 基板の一方の面に測定対象となる試験液を接触させ、他方の面に金属不純物濃度が前記試験液よりも低い液体からなる測定液を接触させて所定時間放置する液体接触工程と、
前記液体接触工程により得られた前記測定液の金属不純物濃度を測定する測定工程と、を有することを特徴とする金属汚染物質測定方法。 - 前記基板がシリコン、ケイ酸塩ガラス、石英ガラス、シリサイド、炭化ケイ素、SiOC、ガリウム砒素、ゲルマニウムシリコンからなることを特徴とする請求項1記載の金属汚染物質測定方法。
- 前記基板を30℃以上に加熱することを特徴とする請求項1又は2記載の金属汚染物質測定方法。
- 前記基板の前記試験液との接触面の表面及び内部に存在する金属不純物濃度を測定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の金属汚染物質測定方法。
- 基板と、
前記基板の一方の面に、測定対象となる試験液が接触するように収容される試験液収容部と、
前記基板の他方の面に、金属不純物濃度が試験液よりも低い液体からなる測定液が接触するように収容される測定液収容部と、
前記測定液収容部中に収容されている測定液の金属不純物濃度を測定する測定手段と、
からなることを特徴とする金属汚染物質測定装置。
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