JP2009136907A - 連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置及びプラズマ表層加熱方法 - Google Patents
連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置及びプラズマ表層加熱方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】移動する鋼の連続鋳造鋳片の表面をシールドガスでシールしながらプラズマにより加熱するプラズマ表層加熱装置において、前記鋳片の移動方向と直交する方向に配置されたプラズマトーチと、高さ方向と長手方向の2次元的に滑らかな曲面を有し、前記プラズマトーチのノズルよりプラズマガスとして噴出される不活性ガスを、前記鋳片の表面に沿った鋳片長手方向に流出させるための整流手段と、該整流手段の外周より、前記鋳片の表面に沿って鋳片の移動方向またはその逆方向に流れる前記プラズマガスの上に重畳して前記プラズマガスと略平行な方向に、シールガスとして不活性ガスを噴出するシールガスノズルと、を含むガスシール装置を有する。
【選択図】図1
Description
(1)移動する鋼の連続鋳造鋳片の表面をシールドガスでシールしながらプラズマによって加熱する、プラズマ表層加熱装置において、連続鋳造鋳片の移動方向と直交する方向に配置され鋳片表面を加熱するプラズマトーチと、高さ方向と長手方向の2次元的に滑らかな曲面を有し、前記プラズマトーチのノズルよりシールドガスとして噴出される不活性ガス(以下、プラズマガスという)を、前記連続鋳造鋳片の表面に沿った鋳片長手方向に流出させる流れを作る整流手段と、該整流手段の外周より、前記連続鋳造鋳片の表面に沿って鋳片の移動方向またはその逆方向に流れる前記プラズマガスの上に重畳して前記プラズマガスと略平行な方向に、シールガスとしてさらなる不活性ガス(以下、シールガスという)を噴出するシールガスノズルと、を含むガスシール装置を有することを特徴とする連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置。
(3)前記シールガスノズルのガス流出方向に、前記シールガスノズルを、複数列配設することを特徴とする前記(1)または(2)に記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置。
(6)前記シールガスノズルの先端の鋳片表面からの高さを、前記整流されたプラズマガスが、鋳片に沿って広がっていく流れの境界層より上層、かつ最大流速値の10%〜30%の流速となる高さに設定することを特徴とする前記(4)または(5)に記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
VNm1>VNm2>・・・>VNmn-1>VNmn
とすることを特徴とする前記(4)〜(6)のいずれかに記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
図1は、本発明の一実施形態にかかるプラズマ表層加熱装置の概略構成を示す側面模式図である。
図5は、本発明の効果を確かめるために、製作したシールボックス構造を示すものであり、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は斜視図である。ただし、図5(c)は、プラズマトーチをはずしてあるシールボックスサイズについては、幅(鋳片移動方向10と直交する方向の長さ)は対象となる鋳片幅に適用できる幅とし、鋳片長手方向については240mmとした。プラズマトーチ1は80mmから90mm間隔に鋳片幅方向に並べて設置した。1本当たりのプラズマガス流量は50l/min、シールガスは窒素ガスとして、1本のトーチ幅あたり最大240l/min/本まで投入できるように設計した。シールガスノズル6のスリットの間隔は0.1〜2.0mmまで変更可能である。シールガスノズル6の吐出口18の鋳片面からの高さHは0mm〜100mmにできるように設計しており、前記bの測定された高さが12mm程度であったことから、図4を参考にHの高さは20mmとした。
以下、本装置を想定した流動シミュレーションを行った。表1は流動シミュレーション条件の一覧を示す。なお、表中の記号は図3に示すものと同じである。
プラズマトーチ直下から50cmの範囲、すなわち、シールガスノズル先端(噴出し口18)から上流側又は下流側に38cmまでの範囲では、スリット間隔0.5mm、シールガス風量180l/minとすれば、酸素濃度1%以下を達成できる。また、寸法や能力の異なるプラズマトーチで同高さHを設定する場合は、本形態と同様にb値(最大流速をumとしたときのum/2の高さ)を求め、図4を参考に設定すればよい。
VNm1>VNm2>・・・>VNmn-1>VNmn
として、全体の風量を下げることが可能である。
2 鋳片
3 プラズマガス流れ
4 プラズマアーク
5 鋳片溶融部
6 シールガスノズル
7 シールガス流れ
8 シールガスノズル支持筐体
9 シールボックス
10 鋳片搬送方向
11 電極棒
12 プラズマガスノズル
13 ノズルキャップ
14 プラズマガス流路
15 冷却水流路
16 トーチ直下プラズマガス噴流衝突点
17 プラズマガスの流出、拡散方向
18 シールガスノズル噴出し口
19 シールガスノズル整流機能部
20 シールガスノズル高さ20mm時のプラズマガス流れ
21 シールガスノズル高さ20mm時のシールボックス内プラズマガス旋回流
22 シールガスノズル高さ20mm時シールガス流れ方向
23 複数列ノズル
31 元素を溶融添加する機能を保有したプラズマ
32 電磁誘導コイル
33 サポートロール
34 鋳片
35 不活性ガス雰囲気をつくる容器
36 溶融した部分
37 連続引抜もしくは移動方向
38 磁場
39 未溶融の加熱部
40 ニッケルが富化された部分
41 溶接母材
42 溶接トーチ
43 液体噴射ノズル
44 スリット
45 外気
46 溶接部
47 高速超薄層バリア流体
48 乱流
49 減圧領域
50 シールドガス
51 圧縮流体
52 圧縮流体入口
53 流体溜り室
54 流体分散材
55 スリット口
56 スリット本体
59 バリア流体内面
60 下部壁面
61 外気導入ノズル
62 バリア内側流体
Claims (8)
- 移動する連続鋳造鋳片の表面を、シールドガスでシールしながらプラズマによって加熱する、プラズマ表層加熱装置において、連続鋳造鋳片の移動方向と直交する方向に配置され鋳片表面を加熱するプラズマトーチと、高さ方向と長手方向の2次元的に滑らかな曲面を有し、前記プラズマトーチのノズルよりシールドガスとして噴出される不活性ガス(以下、プラズマガスという)を、前記連続鋳造鋳片の表面に沿った鋳片長手方向に流出させる流れを作る整流手段と、該整流手段の外周より、前記連続鋳造鋳片の表面に沿って鋳片の移動方向またはその逆方向に流れる前記プラズマガスの上に重畳して前記プラズマガスと略平行な方向に、シールガスとしてさらなる不活性ガス(以下、シールガスという)を噴出するシールガスノズルと、を含むガスシール装置を有することを特徴とする連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置。
- 前記シールガスを噴出するシールガスノズル、シールガスを噴出する方向が水平方向に対して上下に角度10°以内となるように設置されたことを特徴とする請求項1に記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置。
- 前記シールガスノズルのガス流出方向に、前記シールガスノズルを、複数列配設することを特徴とする請求項1または2に記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱装置。
- シールドガスでシールしながら鋼の連続鋳造鋳片の表面をプラズマによって加熱する、プラズマ表層加熱方法において、プラズマトーチのノズルよりシールドガスとして噴出される不活性ガス(以下、プラズマガスという)の流れを、高さ方向と長手方向の2次元的に滑らかな曲面を用いて、前記連続鋳造鋳片の表面に沿った鋳片長手方向に整流し、この曲面の外周に設けたシールガスノズルから、シールガスとしてさらなる不活性ガス(以下、シールガスという)を、この整流したプラズマガスの上に重畳してこのプラズマガスと略平行な方向に噴出させ、これらによって鋳片表面をガスシールすることを特徴とする連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
- 前記シールガスノズルから、前記整流されたプラズマガスの上に重畳して、水平、あるいは水平に対して上及び下向きに角度10°以内となるように前記シールガスを噴出させることを特徴とする請求項4の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
- 前記シールガスノズルの鋳片表面からの高さを、前記整流されたプラズマガスが、鋳片に沿って広がっていく流れの境界層より上層、かつ最大流速値の10%〜30%の流速となる高さに設定することを特徴とする請求項4または5に記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
- 前記シールガスのガス流出方向に、前記シールガスノズルを複数列配設し、該複数列のノズルについてプラズマガスの流出方向に向かってプラズマトーチに近い側から、1組目のノズル、2組目のノズル、・・・、n組目のノズルとし、1組目のノズルから噴出されるシールガスの平均流速をVNm1、2組目の平均流速をVNm2、・・・、n組目のガス流速をVNmnとしたとき、
VNm1>VNm2>・・・>VNmn-1>VNmn
とすることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。 - 前記シールガスとしてアルゴンガス、または窒素ガスを用いることを特徴とする請求項4〜7のいずれかに記載の連続鋳造鋳片のプラズマ表層加熱方法。
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