JP2009131759A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents

Abstract

【課題】銀を含んだ排ガス浄化用触媒が優れたＮＯ_x浄化性能を発揮する温度範囲を広くすると共に、その硫黄による被毒を生じ難くするのに有利な技術を提供する。
【解決手段】本発明の排ガス浄化用触媒１は、基材２と、前記基材２に支持され且つ銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとチタニアとを含有した触媒層３とを具備したことを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、銀を含んだ排ガス浄化用触媒に関する。

特許文献１乃至４には、銀を含んだ排ガス浄化用触媒が記載されている。銀を含んだ排ガス浄化用触媒は、燃焼機関が排出する排ガス、特には、窒素酸化物（ＮＯ_x）の浄化性能に優れている。

しかしながら、本発明者らは、本発明を発明するに際して、以下の事実を見出している。すなわち、銀を含んだ排ガス浄化用触媒の多くは、優れた性能を発揮する温度範囲が狭い。そして、銀を含んだ排ガス浄化用触媒は、例え、比較的広い温度範囲で優れた性能を発揮できたとしても、硫黄による被毒を生じ易い。ディーゼル機関が排出する排ガスは硫黄を比較的高い濃度で含有しているため、銀を含んだ排ガス浄化用触媒は、ディーゼル機関が排出する排ガスの浄化に使用した場合に、優れた性能を長期に亘って持続できない可能性がある。
特開平１０−３３７４４３号公報 特開２００１−９２７５号公報 特開２００３−８００８１号公報 特開平９−１１７６３８号公報

本発明の目的は、銀を含んだ排ガス浄化用触媒が優れたＮＯ_x浄化性能を発揮する温度範囲を広くすると共に、その硫黄による被毒を生じ難くするのに有利な技術を提供することにある。

本発明の一側面によると、基材と、前記基材に支持され且つ銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとチタニアとを含有した触媒層とを具備したことを特徴とする排ガス浄化用触媒が提供される。

本発明によると、銀を含んだ排ガス浄化用触媒が優れたＮＯ_x浄化性能を発揮する温度範囲を広くすると共に、その硫黄による被毒を生じ難くするのに有利な技術が提供される。

以下、本発明の態様について説明する。
図１は、本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図である。図２は、図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図である。

図１及び図２に示す排ガス浄化用触媒１は、例えばディーゼル機関が排出する排ガスの浄化に利用するオープンフロータイプのモノリス触媒である。この排ガス浄化用触媒１は、モノリスハニカム基材などの基材２を含んでいる。基材２は、典型的には、コージェライトなどのセラミックス製である。

基材２の隔壁上には、触媒層３が形成されている。触媒層３は、銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとチタニアとを含有している。図２に示す例では、銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとチタニアとは略均一に混合されており、触媒層３は単層構造を有している。

銀担持ゼオライトは、例えば、銀イオン交換ゼオライトである。銀イオン交換ゼオライトは、例えば、アルミニウムにイオン結合しているアンモニウムイオンなどの陽イオンの少なくとも一部を銀イオンで置換することにより得られる。

この銀担持ゼオライトにおいて、アルミナに対するシリカのモル比は、例えば、２０乃至５０の範囲内とする。このモル比が小さい場合、ゼオライトの安定性が不十分となることがある。このモル比が大きい場合、ゼオライトに十分な量の銀を担持させることが難しい。

銀担持ゼオライトの銀担持量は、例えば１質量％乃至１０質量％の範囲内とし、典型的には３質量％乃至８質量％の範囲内とする。銀担持量が少ない場合、十分なＮＯ_x浄化効果が得られない。銀担持量が多い場合、硫黄による被毒を生じ易く、また、銀担持量の増加に伴う性能向上は殆どない。

銀担持アルミナは、例えば、アルミナ粒子の表面に銀微粒子を担持させてなる。この銀担持アルミナの銀担持量は、例えば１質量％乃至１０質量％の範囲内とし、典型的には３質量％乃至８質量％の範囲内とする。銀担持量が少ない場合、十分なＮＯ_x浄化効果が得られない。銀担持量が多い場合、硫黄による被毒を生じ易く、また、銀担持量の増加に伴う性能向上は殆どない。

銀担持アルミナに対する銀担持ゼオライトの質量比は、例えば１／３乃至３の範囲内とし、典型的には２／３乃至３／２の範囲内とする。この質量比が小さい場合、低温域でのＮＯ_x浄化性能が不十分となることがある。この質量比が大きい場合、高温域でのＮＯ_x浄化性能が不十分となることがある。

銀ゼオライトと銀アルミナとの和に対するチタニアの質量比は、例えば、１／１０乃至１／４の範囲内とする。この質量比が小さい場合、硫黄による被毒を抑制する効果が小さい。この質量比が大きい場合、銀の含有量が少なくなり、十分なＮＯ_x浄化効果が得られないことがある。

基材２の容積１Ｌ当りの触媒層３のコート量は、例えば１００ｇ／Ｌ乃至２５０ｇ／Ｌの範囲内とし、典型的には１５０ｇ／Ｌ乃至２００ｇ／Ｌの範囲内とする。コート量が少ない場合、高いＮＯ_x浄化性能を達成することが難しい。コート量を多くすると、排ガス浄化用触媒１の熱容量が大きくなる。

基材２の容積１Ｌ当りの銀担持量は、例えば１ｇ／Ｌ乃至２０ｇ／Ｌの範囲内とし、典型的には１ｇ／Ｌ乃至１０ｇ／Ｌの範囲内とする。この銀担持量が少ない場合、高いＮＯ_x浄化性能を達成することが難しい。この銀担持量が多い場合、銀の含有量が少なくなり、十分なＮＯ_x浄化効果が得られないことがある。

上記の通り、この排ガス浄化用触媒１では、銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとを使用している。銀担持ゼオライトは、銀担持アルミナと比較して、低温域でのＮＯ_x浄化性能に優れている。また、銀担持アルミナは、銀担持ゼオライトと比較して、高温域でのＮＯ_x浄化性能及び耐熱性に優れている。そして、チタニアは、硫黄による被毒を抑制する役割を果たす。したがって、この排ガス浄化用触媒１は、優れたＮＯ_x浄化性能を発揮する温度範囲が広く、硫黄による被毒を生じ難い。

また、この排ガス浄化用触媒１を使用した場合、典型的には、リッチスパイクなどの特別な還元処理が不要である。それゆえ、この排ガス浄化用触媒１によると、吸蔵還元型システムと比較して、より優れた燃費を達成できる。さらに、この排ガス浄化用触媒１を使用した場合、典型的には、尿素添加型ＮＯ_x還元システムとは異なり、添加剤及び予備システムのための費用が発生することはない。したがって、この排ガス浄化用触媒１は、特に、ディーゼル機関が排出する排ガスの浄化に極めて有用である。

この排ガス浄化用触媒１には、様々な変形が可能である。
図３は、図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造の他の例を概略的に示す断面図である。図４は、図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造のさらに他の例を概略的に示す断面図である。

図３及び図４に示す排ガス浄化用触媒１では、触媒層３は、第１層３ａと第２層３ｂとを含んだ多層構造を有している。図３に示す排ガス浄化用触媒１では、基材２と第２層３ｂとの間に第１層３ａが介在している。図４に示す排ガス浄化用触媒１では、基材２と第１層３ａとの間に第２層３ｂが介在している。

第１層３ａは、銀担持ゼオライトとチタニアとを含有している。銀担持ゼオライトとチタニアとは略均一に混合されており、第１層３ａは単層構造を有している。

第２層３ｂは、銀担持アルミナとチタニアとを含有している。銀担持アルミナとチタニアとは略均一に混合されており、第２層３ｂは単層構造を有している。
このように、触媒層３には、多層構造を採用してもよい。

触媒層３は、銀担持ゼオライト、銀担持アルミナ及びチタニア以外の材料をさらに含んでいてもよい。例えば、触媒層３は、白金、パラジウム及びロジウムなどの貴金属や、酸化セリウムなどの酸素貯蔵材料をさらに含んでいてもよい。

上述した技術は、オープンフロータイプのモノリス触媒以外にも適用することができる。例えば、上述した技術は、ウォールフロータイプのモノリス触媒やペレット触媒などの他のタイプの触媒にも適用することができる。

以下、本発明の実施例について説明する。

＜触媒Ｃ１の製造＞
本例では、図１及び図２に示す排ガス浄化用触媒１を、以下の方法により製造した。
まず、８．５ｇの硝酸銀を１００ｇの純水中に溶解させた。アンモニア水を添加してｐＨ値を８乃至１０に調整した後、この溶液に１００ｇのゼオライトを添加した。ここでは、アルミナに対するシリカのモル比が４０であるゼオライトを使用した。約１時間の撹拌後、ゼオライトを乾燥及び５００℃での熱処理に順次供して、銀担持ゼオライトを得た。以下、この銀担持ゼオライトを、銀担持ゼオライトＺ１と呼ぶ。

次に、８．５ｇの硝酸銀を２００ｇの純水中に溶解させた。この溶液に１００ｇのγ−アルミナ粉末を添加した。約１時間の撹拌後、アルミナ粉末を乾燥及び５００℃での熱処理に順次供して、銀担持アルミナを得た。以下、この銀担持アルミナを、銀担持アルミナＡ１と呼ぶ。

次いで、１００ｇの銀担持ゼオライトＺ１と１００ｇの銀担持アルミナＡ１と４０ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。ここでは、固形分含量が３０質量％のシリカゾルを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ１と呼ぶ。

その後、スラリーＳ１のコージェライトからなるモノリスハニカム基材２へのコートとこの基材２の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層３を形成した。ここでは、基材２として、長さが５０ｍｍであり、直径が３０ｍｍであり、容積が３５ｃｃであり、１平方インチ当たり４００個のセルが設けられたオープンフロータイプのモノリスハニカム基材を使用した。

以上のようにして、基材２の容積１Ｌ当りの触媒層３のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒１を得た。以下、この排ガス浄化用触媒１を、触媒Ｃ１と呼ぶ。

＜触媒Ｃ２の製造＞
本例では、図１及び図３に示す排ガス浄化用触媒１を、以下の方法により製造した。
まず、２００ｇの銀担持ゼオライトＺ１と４０ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。チタニア粉末及びシリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ２と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ２のモノリスハニカム基材２へのコートとこの基材２の熱処理とを繰り返すことにより、第１層３ａを形成した。ここでは、基材２として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

次に、２００ｇの銀担持アルミナＡ１と４０ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。チタニア粉末及びシリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ３と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ３のモノリスハニカム基材２へのコートとこの基材２の熱処理とを繰り返すことにより、第２層３ｂを形成した。

以上のようにして、基材２の容積１Ｌ当りの第１層３ａ及び第２層３ｂの各々のウォッシュコート量が１００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒１を得た。以下、この排ガス浄化用触媒１を、触媒Ｃ２と呼ぶ。

＜触媒Ｃ３の製造＞
本例では、図１及び図４に示す排ガス浄化用触媒１を、以下の方法により製造した。
まず、スラリーＳ３のモノリスハニカム基材２へのコートとこの基材２の熱処理とを繰り返すことにより、第２層３ｂを形成した。ここでは、基材２として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

次に、スラリーＳ２のモノリスハニカム基材２へのコートとこの基材２の熱処理とを繰り返すことにより、第１層３ａを形成した。

以上のようにして、基材２の容積１Ｌ当りの第１層３ａ及び第２層３ｂの各々のウォッシュコート量が１００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒１を得た。以下、この排ガス浄化用触媒１を、触媒Ｃ３と呼ぶ。

＜触媒Ｃ４の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、１５０ｇの銀担持ゼオライトＺ１と５０ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。チタニア粉末及びシリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ４と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ４のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ４と呼ぶ。

＜触媒Ｃ５の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、５０ｇの銀担持ゼオライトＺ１と１５０ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。チタニア粉末及びシリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ５と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ５のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ５と呼ぶ。

＜触媒Ｃ６の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、２００ｇの銀担持ゼオライトＺ１と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。シリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ６と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ６のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ６と呼ぶ。

＜触媒Ｃ７の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、２００ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。シリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ７と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ７のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ７と呼ぶ。

＜触媒Ｃ８の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、５０ｇの銀担持ゼオライトＺ１と１５０ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。シリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ８と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ８のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が１７３ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ８と呼ぶ。

＜触媒Ｃ９の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、１６０ｇの銀担持ゼオライトＺ１と４０ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。シリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ９と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ９のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ９と呼ぶ。

＜触媒Ｃ１０の製造＞
本例では、排ガス浄化用触媒を以下の方法により製造した。
まず、４０ｇの銀担持ゼオライトＺ１と１６０ｇの銀担持アルミナＡ１と１００ｇのチタニア粉末と１００ｇの純水と２００ｇのシリカゾルとを混合した。シリカゾルとしては、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。この混合液を撹拌すると共に、それが含んでいる粒子を粉砕することにより、スラリーを得た。以下、このスラリーを、スラリーＳ１０と呼ぶ。

次いで、スラリーＳ１０のモノリスハニカム基材へのコートとこの基材の熱処理とを繰り返すことにより、触媒層を形成した。ここでは、基材として、触媒Ｃ１の製造で使用したのと同様のものを使用した。

以上のようにして、基材の容積１Ｌ当りの触媒層のウォッシュコート量が２００ｇであり、銀担持量が６．８ｇの排ガス浄化用触媒を得た。以下、この排ガス浄化用触媒を、触媒Ｃ１０と呼ぶ。

＜初期性能評価＞
触媒Ｃ１乃至Ｃ７、Ｃ９及びＣ１０の各々に第１模擬ガスを流通させ、各触媒が１００℃乃至６００℃の温度範囲内で示すＮＯ_x浄化性能を調べた。

第１模擬ガスとしては、１８００ｐｐｍのプロピレンと３００ｐｐｍの一酸化窒素と１０％の酸素と残部としての窒素とからなる混合ガスを使用した。第１模擬ガスの流量は２０Ｌ／分とした。

また、ＮＯ_x浄化性能としては、下記等式から算出される浄化率を求めた。
浄化率（％）＝（入口ＮＯ濃度−出口ＮＯ_x濃度）／入口ＮＯ濃度×１００
ここで、「入口ＮＯ濃度」は、触媒の入口における一酸化炭素濃度を示している。「出口ＮＯ_x濃度」は、触媒の出口におけるＮＯ_x濃度を示している。

図５及び図６は、排ガス浄化用触媒が初期状態において示すＮＯ_x浄化性能の例を示すグラフである。図中、横軸は温度を示し、縦軸は浄化率を示している。

図５及び図６に示すように、触媒Ｃ１乃至Ｃ５、Ｃ９及びＣ１０、特には触媒Ｃ１乃至Ｃ５は、触媒Ｃ４乃至Ｃ８と比較して、より広い温度域で優れたＮＯ_x浄化性能を示した。このように、酸素過多の条件のもとで広い温度域に亘って優れたＮＯ_x浄化性能を示すことは、様々な規制モードに適合し得ることを意味しており、特に、ディーゼル機関が排出する排ガスの浄化に極めて有利である。

＜耐久後性能評価＞
まず、触媒の硫黄による被毒を生じさせるべく、４００℃の温度条件のもと、触媒Ｃ１乃至Ｃ３及びＣ６乃至Ｃ８の各々に第２模擬ガスを５時間流通させた。第２模擬ガスとしては、２００ｐｐｍの二酸化硫黄と１０％の酸素と残部としての窒素とからなる混合ガスを使用した。第２模擬ガスの流量は２０Ｌ／分とした。

この耐久試験の後、触媒Ｃ１乃至Ｃ３及びＣ６乃至Ｃ８の各々に第１模擬ガスを流通させ、各触媒が１００℃乃至６００℃の温度範囲内で示すＮＯ_x浄化性能を調べた。なお、第１模擬ガスの流量は２０Ｌ／分とした。また、ＮＯ_x浄化性能としては、上記等式から算出される浄化率を求めた。

図７は、排ガス浄化用触媒が耐久試験後に示すＮＯ_x浄化性能の例を示すグラフである。図中、横軸は温度を示し、縦軸は浄化率を示している。

図７に示すように、触媒Ｃ１乃至Ｃ３は、触媒Ｃ６乃至Ｃ８と比較して、より広い温度域で優れたＮＯ_x浄化性能を示した。また、図５及び図６に示すデータと図７に示すデータとの比較から明らかなように、触媒Ｃ１乃至Ｃ３は、触媒Ｃ６乃至Ｃ８と比較して、耐久試験に伴うＮＯ_x浄化性能の低下が抑制されていた。

本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図。 図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図。 図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造の他の例を概略的に示す断面図。 図１に示す排ガス浄化用触媒に採用可能な構造のさらに他の例を概略的に示す断面図。 排ガス浄化用触媒が初期状態において示すＮＯ_x浄化性能の例を示すグラフ。 排ガス浄化用触媒が初期状態において示すＮＯ_x浄化性能の例を示すグラフ。 排ガス浄化用触媒が耐久試験後に示すＮＯ_x浄化性能の例を示すグラフ。

符号の説明

１…排ガス浄化用触媒、２…基材、３…触媒層、３ａ…第１層、３ｂ…第２層。

Claims (4)

1. 基材と、前記基材に支持され且つ銀担持ゼオライトと銀担持アルミナとチタニアとを含有した触媒層とを具備したことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
2. 前記触媒層は、銀担持ゼオライトとチタニアとを含有した第１層と、銀担持アルミナとチタニアとを含有した第２層とを含んだ多層構造を有していることを特徴とする請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
3. 前記触媒層は単層構造を有していることを特徴とする請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
4. 前記銀担持ゼオライトと前記銀担持アルミナとの質量比は１：３乃至３：１の範囲内にあることを特徴とする請求項１乃至３に記載の排ガス浄化用触媒。

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