JP2009129605A - Light-emitting device and electronic apparatus - Google Patents

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岳彦 窪田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device capable of effectively preventing outflow of a planarized film, or of enabling the preventing means to have numerous functions. <P>SOLUTION: The light-emitting device is equipped with an element substrate, a plurality of organic EL elements formed on this element substrate, the planarized film 80 formed so as to cover these, a data wire 6 formed on the element substrate as well as between the element substrateand the planarized film, and a dam part 601 which is formed in the same layer as the data wire and is positioned at the surrounding of the planarized film by a plan view, and which is in order to prevent outflow of the planarized film. The dam part 601 prevents outflow of the planarized film 80 (rf. code 80OZ in the figure) and suppresses entry of water and oxygen in the substrate face (rf. code G in figure). <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、エレクトロルミネセンスにより発光する発光装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a light emitting device and an electronic device that emit light by electroluminescence.

薄型で軽量な発光源として、OLED(organic light emitting diode)、すなわち有機EL(electro luminescent)素子が注目を集めており、多数の有機EL素子を備える画像表示装置が開発されている。有機EL素子は、有機材料で形成された少なくとも一層の有機薄膜を画素電極と対向電極とで挟んだ構造を有する。   An organic light emitting diode (OLED), that is, an organic EL (electro luminescent) element, has attracted attention as a thin and light-emitting source, and an image display apparatus including a large number of organic EL elements has been developed. The organic EL element has a structure in which at least one organic thin film formed of an organic material is sandwiched between a pixel electrode and a counter electrode.

前述の画像表示装置は、典型的には例えば、素子基板上に、画像表示領域とその周辺領域とをもつ。ここで画像表示領域とは、前記の多数の有機EL素子が例えばマトリクス状に配列された領域である。また、周辺領域には、その有機EL素子に電源、あるいは各種の信号を供給するための電源回路、各種信号処理回路、更には外部との信号等のやり取りに用いられる入出力端子等が設けられる。
このような画像表示装置としては、例えば特許文献1に開示されているようなものが知られている。
特開2005−251721号公報
The aforementioned image display device typically has an image display area and its peripheral area on, for example, an element substrate. Here, the image display area is an area in which the above-mentioned many organic EL elements are arranged in a matrix, for example. The peripheral area is provided with a power supply circuit for supplying various signals to the organic EL element, various signal processing circuits, and input / output terminals used for exchanging signals with the outside. .
As such an image display device, for example, a device disclosed in Patent Document 1 is known.
JP-A-2005-251721

ところで、上述のような画像表示装置においては、素子基板上の画像表示領域に、前記有機EL素子等を含む各種の要素からなる積層構造物が構築される。ここで各種の要素とは、例えば、有機EL素子の定電流源として機能し、あるいはスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ(TFT)や、容量素子、抵抗素子、各種の配線、更には、これら各種の回路素子間の短絡を防止するための層間絶縁膜、等々が含まれ得る。   By the way, in the image display apparatus as described above, a laminated structure composed of various elements including the organic EL elements and the like is constructed in the image display area on the element substrate. Here, various elements include, for example, a thin film transistor (TFT) that functions as a constant current source of an organic EL element or functions as a switching element, a capacitor element, a resistance element, various wirings, and these various circuits. An interlayer insulating film for preventing a short circuit between elements may be included.

このような積層構造物では、前述の回路素子等が一定の高さをもつために、その表面部に凹凸が形成され得る。この凹凸の存在は、その上に配線を形成する場合には、断線の原因となり、あるいは、有機EL素子への酸素や水分の侵入を防止するための封止膜を形成する場合には、当該封止膜の破断の原因となる、等、一般に忌避されるべきものと考えられている。
そこで、従来、このような凹凸をいわば均すため、平坦化膜を形成する技術が知られている。
In such a laminated structure, since the above-described circuit elements and the like have a certain height, irregularities can be formed on the surface portion thereof. The presence of the unevenness causes disconnection when a wiring is formed thereon, or when forming a sealing film for preventing entry of oxygen or moisture into the organic EL element. It is generally considered to be avoided, for example, it causes the sealing film to break.
Therefore, conventionally, a technique for forming a flattening film is known to level out such unevenness.

ところが、この平坦化膜は、その下側で凹凸を均しながら、その上面で平坦面を現出する、という役割を実現するために、一定程度流動性の高い材料から作られることがある。そうすると、この平坦化膜の形成に際しては一般に困難が伴う。というのも、当該平坦化膜が、基板の外へ向かって流れ出すおそれが高いからである。もちろん、そのような平坦化膜の流出という事態に備えて、前記周辺領域の大きさを予め広めにとっておく(いわゆる額縁と呼ばれる領域を広めにとっておく)という対策をとることも考えられ得る。しかし、それでは明らかに、装置全体の大型化を招く。   However, the flattened film may be made of a material having a certain degree of fluidity in order to realize the role of exposing the flat surface on the upper surface while leveling the unevenness on the lower side. As a result, it is generally difficult to form the planarizing film. This is because there is a high possibility that the planarization film flows out of the substrate. Of course, in preparation for such a situation where the flattening film flows out, it is possible to take a measure of preliminarily enlarging the size of the peripheral region (so-called a region called a frame). However, this obviously increases the overall size of the apparatus.

上述した特許文献1では、上で言うところの「平坦化膜」に該当する「緩衝層」を設けるとともに、その「周囲を包囲する枠部」を設ける技術が開示されている(以上、「」内は特許文献1の〔請求項1〕)。これによれば、たしかに、特許文献1において既に指摘されているように、「緩衝層の所定領域外への食み出し(流れ出し)」(特許文献1の〔0005〕)を一定程度、効果的に防止することはできる。   Patent Document 1 described above discloses a technique of providing a “buffer layer” corresponding to the above-described “flattening film” and providing a “frame portion that surrounds the periphery” (hereinafter, “”). The inside is Patent Document 1 [Claim 1]. According to this, as has already been pointed out in Patent Document 1, the “out of the buffer layer outside the predetermined region (flow out)” ([0005] of Patent Document 1) is effective to some extent. Can be prevented.

しかし、特許文献1では、「枠部」を設けて「緩衝層の…食み出し(流れ出し)」を防止する、という基本的思想が開示されてはいるものの、その「食み出し(流れ出し)」が、前記の素子基板上、あるいは積層構造物における、どのような部分で発生しやすいかといった、よりきめ細かな配慮がなされているわけではない。   However, although Patent Document 1 discloses the basic idea of providing a “frame portion” to prevent “buffer layer ... out (flow out)”, the “out (out)” is disclosed. "Is not considered in detail, such as where the element substrate or the laminated structure is likely to occur.

また、特許文献1において開示されている、この「枠部」の具体的態様は、「親水性を有する高分子材料(有機樹脂材料)」(特許文献1の〔0037〕)、あるいは「有機バンク層と同一の材料」から形成され得るものとされる(特許文献1の〔0037〕、あるいは〔請求項8〕参照)。このような構成は、当該「枠部」を比較的容易に製造する等といった観点からみて有意義ではあるが、それ以外の可能性がないではない。
前記画像表示装置が満たすべき要求は各種ある。例えば、前述した封止膜のように、発光素子への水分等の進入を抑制すべきである、といった要求も、その一つである。この観点からすると、前述の「枠部」が「有機」材料から作られるという場合、かかる要求を十分に満たしているとは言えない。
一般に、一定の要素(特許文献1でいえば、前記「枠部」)を特別に備えるのであれば、当該要素は、前記の各種の要求のうち、より多くの要求を満たすべく多義的な機能をもつことが好ましい。そうであれば、当該要素を設けるために特別に材料を用意し、一工程を割くこと、あるいは、当該要素が占有する素子基板上の面積もより生きてくるということになるからである。
In addition, a specific aspect of the “frame portion” disclosed in Patent Document 1 is “a hydrophilic polymer material (organic resin material)” (Patent Document 1 [0037]) or “organic bank”. It can be formed from “the same material as the layer” (see [0037] or [Claim 8] of Patent Document 1). Such a configuration is significant from the viewpoint of manufacturing the “frame portion” relatively easily, but there is no other possibility.
There are various requirements to be satisfied by the image display device. For example, as in the sealing film described above, one of the requirements is that entry of moisture or the like into the light emitting element should be suppressed. From this point of view, when the aforementioned “frame” is made of an “organic” material, it cannot be said that this requirement is sufficiently satisfied.
In general, if a certain element (in the case of Patent Document 1, the “frame part”) is specially provided, the element has an ambiguous function in order to satisfy more requests among the various requests. It is preferable to have If so, it is because a special material is prepared to provide the element and one process is divided, or the area on the element substrate occupied by the element is more alive.

本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、平坦化膜の流出をより効果的に防止し、あるいは、その防止手段がより多くの機能を持ち得るような発光装置及び電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a light-emitting device and an electronic apparatus that can more effectively prevent the planarization film from flowing out, or that the prevention means can have more functions. The issue is to provide.

本発明に係る発光装置は、上述した課題を解決するため、基板と、前記基板上に形成された複数の発光素子と、前記発光素子を覆うように形成された平坦化膜と、前記基板の上、かつ、当該基板と前記平坦化膜との間に形成された1つ又は複数の層からなる金属膜と、前記1つ又は複数の層からなる金属膜のいずれかの層で形成された、前記平坦化膜の流出を防止するための堰止部と、を備え、前記堰止部は、平面視して前記平坦化膜の周囲に位置するように配置される。   In order to solve the above-described problem, a light-emitting device according to the present invention includes a substrate, a plurality of light-emitting elements formed on the substrate, a planarization film formed to cover the light-emitting elements, and the substrate. And a metal film composed of one or a plurality of layers formed between the substrate and the planarization film and a metal film composed of the one or a plurality of layers. And a damming portion for preventing the flattening film from flowing out, and the damming portion is disposed so as to be located around the flattening film in a plan view.

本発明によれば、まず、平坦化膜が形成されているので、発光素子及び金属膜等の各種要素がもつ高さに起因して形成される凹凸を均すことが可能である。これにより、当該平坦化膜の上に、更に何らかの要素を好適に積み重ねていくことが可能になる。なお、このような凹凸を均す機能をよりよく発揮するためには、当該平坦化膜は、少なくとも成膜時において比較的流動性が大きい材料であることが好ましい。
そして、本発明では特に、このような平坦化膜の周囲に堰止部が存在する。この堰止部は、平坦化膜が前述のように比較的流動性の大きい材料から作られたとしても、その基板外へと向かった流出を防止する。仮に、この堰止部が存在しないならば、平坦化膜の流出が自然に停止する領域を勘案した上で、基板上に、比較的広大な周辺領域を確保する必要がある。この観点からすると、本発明によれば、いわゆる額縁領域の狭小化を実現することができ、もって装置全体の小型化を達成することができる。
また、本発明に係る堰止部は、水分及び酸素の封止機能が比較的高い金属膜と同じ層で形成されているので、発光素子に、それら水分及び酸素が進入していくことが抑制される。これにより、発光素子の長寿命化が達成され得る。
なお、本発明に係る金属膜は、発光素子と電気的に接続されて、当該発光素子に電流等を供給するために用いられ得るが、この場合、堰止部は、そのような、いわば不可欠的要素たる金属膜と同じ層で形成されることから、製造工程の効率化、簡易化もまた達成される。
According to the present invention, since the planarizing film is first formed, the unevenness formed due to the heights of various elements such as the light emitting element and the metal film can be leveled. As a result, it is possible to suitably stack some elements on the planarizing film. In order to better exhibit the function of leveling such irregularities, the planarizing film is preferably a material having relatively high fluidity at least during film formation.
In the present invention, in particular, there is a damming portion around the flattening film. This blocking portion prevents the outflow toward the outside of the substrate even when the planarizing film is made of a material having relatively high fluidity as described above. If this blocking portion does not exist, it is necessary to secure a relatively large peripheral region on the substrate in consideration of a region where the outflow of the planarization film naturally stops. From this point of view, according to the present invention, it is possible to realize a so-called narrowing of the frame region, and thus to achieve a reduction in the size of the entire apparatus.
In addition, since the damming portion according to the present invention is formed of the same layer as the metal film having a relatively high moisture and oxygen sealing function, the moisture and oxygen are prevented from entering the light emitting element. Is done. Thereby, the lifetime improvement of the light emitting element can be achieved.
Note that the metal film according to the present invention is electrically connected to the light emitting element and can be used to supply a current or the like to the light emitting element. In this case, the damming portion is indispensable as such. Since it is formed of the same layer as the metal film which is a key element, the efficiency and simplification of the manufacturing process can also be achieved.

この発明の発光装置では、前記平坦化膜を覆うように形成され、前記発光素子への水分及び酸素の少なくとも一方の進入を抑制する封止膜を更に備える、ように構成してもよい。
この態様によれば、封止膜が備えられているので、発光素子は前記にも増して長寿命化され得る。
加えて、本態様では特に、前述のように、堰止部は、一般に比較的高さの小さい金属膜と同じ層で形成されているので、当該堰止部の高さ、あるいは当該堰止部の高さに起因して形成される、該堰止部上の層間絶縁膜の表面の凸部の高さは、比較的小さい。そして、封止膜は、このような比較的小さな高さをもつ凸部等の上に形成されるのであるから、その段差部分におけるクラック等はより発生し難くなっている。
要するに、本態様によれば、堰止部が金属膜と同じ層で形成されていることにより、前記封止膜による封止機能が、よりよく享受され得るようになっているのである。
The light emitting device of the present invention may be configured to further include a sealing film that is formed so as to cover the planarizing film and suppresses entry of at least one of moisture and oxygen into the light emitting element.
According to this aspect, since the sealing film is provided, the life of the light emitting element can be extended as compared with the above.
In addition, in this aspect, in particular, as described above, the damming portion is generally formed of the same layer as the metal film having a relatively small height, so the height of the damming portion or the damming portion The height of the convex portion on the surface of the interlayer insulating film on the damming portion formed due to the height of the barrier layer is relatively small. And since the sealing film is formed on the convex part etc. which have such a comparatively small height, the crack etc. in the level | step-difference part have become harder to generate | occur | produce.
In short, according to this aspect, since the blocking portion is formed of the same layer as the metal film, the sealing function by the sealing film can be better enjoyed.

また、本発明の発光装置では、前記複数の発光素子の各々を区画するように前記基板上に形成された隔壁を更に備え、前記平坦化膜は、前記隔壁を覆うように形成される、ように構成してもよい。
この態様によれば、前記隔壁が、一般に比較的高さの大きい要素であることから、前記平坦化膜により奏される効果がより実効的に享受される。
The light emitting device of the present invention further includes a partition formed on the substrate so as to partition each of the plurality of light emitting elements, and the planarization film is formed to cover the partition. You may comprise.
According to this aspect, since the partition is generally an element having a relatively large height, the effect exerted by the planarizing film can be more effectively enjoyed.

また、本発明の発光装置では、前記複数の発光素子は、前記基板の上でマトリクス状の配列に従って形成されており、前記1つ又は複数の層からなる金属膜は、平面視して前記平坦化膜の輪郭線を横切るように配置される複数の第1配線膜を少なくとも含み、前記堰止部は、前記複数の第1配線膜の少なくとも一部について形成される、ように構成してもよい。
この態様によれば、複数の発光素子がマトリクス状に配列された画像表示領域から、その周辺領域にわたって、複数の第1配線膜が延びているという構造が典型的には想定される。また、複数の第1配線膜は、平面視した場合における前記平坦化膜の輪郭線と交わる。この場合、第1配線膜は一定の高さをもつから、それに起因した凸部が、当該第1配線膜の上に形成される層間絶縁膜等の表面に形成される。
これらによると、前記層間絶縁膜等の表面には、平坦化膜の輪郭線から基板の外方へ向かって延びる、周囲からみて一定程度盛り上がった凸部が形成されることになる。しかも、かかる凸部は複数配列されるが如き構造が呈される(なぜなら、第1配線膜が複数存在するから)。
このような凸部は、上記のような形状的特質からも推測されるように、平坦化膜の流出を比較的促進する。つまり、当該凸部(あるいは、凸部と凸部との間の凹部)の存在は、平坦化膜の外表面における表面張力の外乱要因となり得る結果、そのような凸部に沿うようにした平坦化膜の流動動作が促進されてしまうのである。
しかるに、本態様では、前述の複数の第1配線膜の少なくとも一部、好適にはそのそれぞれについて堰止部が形成されるようになっている。したがって、本態様によれば、平坦化膜の流出が促進されるような部分について、その流出を抑制することが可能となっているのである。
このように、本態様では、平坦化膜流出防止効果が、より実効的に奏される。
In the light-emitting device of the present invention, the plurality of light-emitting elements are formed according to a matrix arrangement on the substrate, and the metal film composed of the one or more layers is flat when viewed in plan. At least a plurality of first wiring films arranged so as to cross a contour line of the insulating film, and the damming portion may be formed on at least a part of the plurality of first wiring films. Good.
According to this aspect, it is typically assumed that the plurality of first wiring films extend from the image display region in which the plurality of light emitting elements are arranged in a matrix to the peripheral region. The plurality of first wiring films intersect with the contour line of the planarization film when viewed in plan. In this case, since the first wiring film has a certain height, a protrusion due to the first wiring film is formed on the surface of an interlayer insulating film or the like formed on the first wiring film.
According to these, on the surface of the interlayer insulating film or the like, a convex portion that extends from the contour line of the planarizing film toward the outside of the substrate and rises to a certain degree as viewed from the periphery is formed. In addition, a plurality of such protrusions are arranged (because there are a plurality of first wiring films).
Such projections relatively facilitate the outflow of the planarization film, as can be inferred from the above-described shape characteristics. In other words, the presence of the convex portion (or the concave portion between the convex portion and the convex portion) can be a disturbance factor of the surface tension on the outer surface of the planarizing film. The flow behavior of the chemical film is promoted.
However, in this aspect, the damming portion is formed on at least a part of the plurality of first wiring films, preferably each of them. Therefore, according to this aspect, it is possible to suppress the outflow of the portion where the outflow of the planarizing film is promoted.
Thus, in this aspect, the effect of preventing the planarization film from flowing out is more effectively achieved.

なお、本態様にいう「第1配線膜」とは、例えば、マトリクス状に配列された複数の発光素子のうちの、ある行に位置する発光素子を選択するための選択信号を供給する「走査線」とか、あるいは、前記複数の発光素子に画像信号を供給する「データ線」とか、が該当し得る。
また、本態様において、堰止部は、「複数の第1配線膜の少なくとも一部について」形成されるが、このことと、前記金属膜が「第1配線膜を…含む」ということ、及び、堰止部が「金属膜」同一の層で形成されるということとは、以下のような具体例を含む。すなわち、堰止部が、金属膜の一部としての第1配線膜と同一の層で形成されるという場合(この点についてはすぐ後に述べる。)、あるいは、堰止部が、第1配線膜とは別の他の金属膜と同一の層で形成されるが、そのような堰止部が、「第1配線膜のそれぞれについて」形成されるという場合、等々である。このうちの後者についての更なる具体化例については、後の実施形態の説明中、<第6実施形態>として説明する。
Note that the “first wiring film” in the present embodiment refers to, for example, “scanning” that supplies a selection signal for selecting light emitting elements located in a certain row among a plurality of light emitting elements arranged in a matrix. A “line” or a “data line” for supplying an image signal to the plurality of light-emitting elements may be applicable.
Further, in this aspect, the damming portion is formed “at least on a part of the plurality of first wiring films”, and that the metal film includes “the first wiring film”, and The fact that the blocking portion is formed of the same layer as the “metal film” includes the following specific examples. That is, when the blocking portion is formed of the same layer as the first wiring film as a part of the metal film (this will be described later), or the blocking portion is the first wiring film. In the case where such a damming portion is formed “for each of the first wiring films”, and so on. A more specific example of the latter of these will be described as <Sixth Embodiment> in the description of the later embodiments.

この態様では、前記堰止部は、前記第1配線膜と同じ層で形成され、かつ、前記複数の第1配線膜のそれぞれの堰止部は、相互に電気的に接続されない、ように構成してもよい。
これによれば、堰止部が、様々な種類を含み得る「金属膜」のうち、第1配線膜と同じ層で形成される。そして、当該堰止部は、複数の第1配線膜の少なくとも一部について形成されるとともに、その堰止部は相互に電気的に接続されないことから、当該複数の第1配線膜同士が堰止部を介して電気的に短絡するという事態は生じない。したがって、発光素子への信号等の供給を正確・確実に行うことができる。
In this aspect, the damming portion is formed of the same layer as the first wiring film, and the damming portions of the plurality of first wiring films are not electrically connected to each other. May be.
According to this, the damming portion is formed of the same layer as the first wiring film among the “metal films” that may include various types. And the said damming part is formed about at least one part of several 1st wiring films, and since the damming part is not electrically connected mutually, these several 1st wiring films are dammed together. There is no situation of an electrical short circuit through the part. Accordingly, it is possible to accurately and reliably supply a signal or the like to the light emitting element.

この態様では更に、前記堰止部は、前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延びる交差部分を含む、ように構成してもよい。
これによれば、堰止部が、前記交差部分を含むことから、平坦化膜の流出防止効果が更に実効的に奏される。
In this aspect, the damming portion may further include an intersecting portion extending in a direction intersecting with the extending direction of the first wiring film.
According to this, since the damming portion includes the intersecting portion, the effect of preventing the flattening film from flowing out is more effectively exhibited.

この態様では更に、前記堰止部は、前記複数の第1配線膜のうち相隣接する第1配線膜についての2つの前記交差部分間の隙間を埋めるように、当該相隣接する第1配線膜間に形成される補助部分を更に含む、ように構成してもよい。
これによれば、堰止部が、前述のような補助部分を含むことから、特に交差部分間の隙間を抜けて流出してくるような平坦化膜の流動動作を堰き止めることが可能となる。つまり、本構成によれば、平坦化膜の流出防止効果が上述にも増して更に実効的に奏される。
In this aspect, the damming portion further includes the first wiring films adjacent to each other so as to fill a gap between the two intersecting portions of the first wiring films adjacent to each other among the plurality of first wiring films. You may comprise so that the auxiliary | assistant part formed in between may be included further.
According to this, since the blocking portion includes the auxiliary portion as described above, it is possible to block the flow operation of the flattening film that flows out through the gap between the intersecting portions. . That is, according to this configuration, the effect of preventing the outflow of the planarizing film is more effectively achieved than the above.

あるいは、堰止部が前記「交差部分」を含む態様では、前記複数の第1配線膜のうちの、ある第1配線膜についての前記交差部分の形成位置は、当該ある第1配線膜に相隣接する第1配線膜についての前記交差部分の形成位置とは異なる、ように構成してもよい。
この態様によれば、相隣接する第1配線膜の両交差部分の形成位置がお互い異なることから、平坦化膜の流出に対する、いわば段階的な抑止が行われ得ることになる。例えば、平坦化膜の輪郭線により近い交差部分が第1段の抑止を行い、より遠い交差部分が第2段の抑止を行う、というが如きである。
Alternatively, in an aspect in which the blocking portion includes the “intersection portion”, the formation position of the intersection portion with respect to a certain first wiring film among the plurality of first wiring films corresponds to the certain first wiring film. You may comprise so that it may differ from the formation position of the said intersection part about an adjacent 1st wiring film.
According to this aspect, since the formation positions of both intersecting portions of the adjacent first wiring films are different from each other, it is possible to perform a so-called stepwise suppression against the outflow of the planarization film. For example, an intersection that is closer to the contour line of the planarization film performs a first-stage suppression, and a farther intersection intersects a second-stage suppression.

この態様では、前記相隣接する第1配線膜に更に相隣接する第1配線膜(前記ある第1配線膜を除く。)についての前記交差部分の形成位置は、前記ある第1配線膜についての前記交差部分の形成位置と同じである、ように構成してもよい。
これによれば、複数の第1配線膜を構成する1本1本の第1配線膜を端から順に見ていくと、それら各々の交差部分は、いわば交互に段違いに並んでいくような形態が典型的には現出され得る。つまり、最初の第1配線膜の交差部分は、平坦化膜の輪郭線により近く、次の第1配線膜の交差部分はより遠く、続く第1配線膜の交差部分はより近く、というが如くである。
このような形態によれば、前述した平坦化膜の流出に対する段階的な抑止がよりよく行われる。
In this aspect, the formation position of the intersecting portion of the first wiring film (excluding the certain first wiring film) further adjacent to the adjacent first wiring film is the position of the certain first wiring film. You may comprise so that it may be the same as the formation position of the said intersection part.
According to this, when each of the first wiring films constituting the plurality of first wiring films is viewed in order from the end, the intersections of the respective first wiring films are alternately arranged in steps. Can typically appear. That is, the intersection of the first first wiring film is closer to the contour line of the planarization film, the intersection of the next first wiring film is further away, and the intersection of the subsequent first wiring film is closer. It is.
According to such a form, the step-wise suppression with respect to the outflow of the planarization film | membrane mentioned above is performed better.

あるいは、相隣接する第1配線膜の両交差部分の形成位置が異なる態様では、前記ある第1配線膜についての前記交差部分の少なくとも一部と、前記相隣接する第1配線膜についての前記交差部分の少なくとも一部とが、ともに、それら2本の第1配線膜間に、且つ、当該第1配線膜の延在方向に沿って平行に延びる、ある1本の直線と交わる、ように構成してもよい。
この態様によれば、前記1本の直線に、隣り合う第1配線膜の交差部分が交わることから、当該第1配線膜及び交差部分によって、いわゆるラビリンスシールのようなものが構成され得るようになっている。つまり、例えば、ある第1配線膜の交差部分の端部を回り込むようにして流出しようとする平坦化膜は、当該ある第1配線膜に隣接する第1配線膜の交差部分によってその流出が阻まれるということになるのである。
このようにして、本態様によれば、平坦化膜の流出防止効果が極めて実効的に奏される。
Alternatively, in an aspect in which the formation positions of both intersecting portions of the adjacent first wiring films are different from each other, at least a part of the intersecting portions with respect to the certain first wiring film and the intersecting with respect to the adjacent first wiring films. At least a part of the portion is configured to intersect with a certain straight line extending between the two first wiring films and in parallel along the extending direction of the first wiring film. May be.
According to this aspect, since the intersecting portion of the adjacent first wiring films intersects the one straight line, a so-called labyrinth seal can be configured by the first wiring film and the intersecting portion. It has become. That is, for example, a flattening film that flows out around an end of an intersection of a certain first wiring film is prevented from flowing out by the intersection of the first wiring film adjacent to the certain first wiring film. It will be said.
In this way, according to this aspect, the effect of preventing the flattening film from flowing out is extremely effectively achieved.

また、本発明の発光装置では、前記堰止部は、前記第1配線膜に沿って流出してきた前記平坦化膜を受け入れる開口部と、当該開口部を通じて流入してくる前記平坦化膜を受け止める受止部と、を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、堰止部が開口部及び受止部を含むことにより、流出してきた平坦化膜の一定量を保持することができる。これにより、比較的多めに平坦化膜が流出してきたとしても、その進行は、堰止部が形成されている位置で食い止められ得ることになる。
本態様によれば、このようにして、平坦化膜の流出防止効果が実効的に奏される。
In the light emitting device of the present invention, the blocking portion receives an opening for receiving the planarization film flowing out along the first wiring film, and receives the planarization film flowing in through the opening. And a receiving portion.
According to this aspect, since the dam portion includes the opening and the receiving portion, a certain amount of the planarized film that has flowed out can be maintained. Thereby, even if a relatively large amount of the planarizing film flows out, the progress can be stopped at the position where the blocking portion is formed.
According to this aspect, in this way, the effect of preventing the flattening film from flowing out is effectively achieved.

この態様では、前記堰止部は、平面視して楔型形状をもつ、ように構成してもよい。
これによれば、楔形の尖頭部分とは反対側の部分を平坦化膜の輪郭線に向けるようにして、堰止部を形成すれば、前述した平坦化膜の流出防止効果のより実効的な発揮が可能になる。
あるいは、この態様では、前記堰止部は、平面視して、前記第1配線膜に交差する部分たる第1辺部と、当該第1辺部の両端から当該第1配線膜の延在方向に延びる2つの第2辺部と、を含み、前記開口部は、前記2つの第2辺部の端部間の空間が該当し、前記受止部は、前記第1辺部及び前記2つの第2辺部によって囲われた空間が該当する、ように構成してもよい。
これによっても、前述した平坦化膜の流出防止効果のより実効的な発揮が可能になる。
なお、この、堰止部が第1辺部及び第2辺部をもつ態様では、前記第1辺部及び前記第2辺部をもつ前記堰止部をもつ第1配線膜に相隣接する第1配線膜についての前記堰止部は、平面視して、当該相隣接する第1配線膜に交差する部分たる第3辺部と、当該第3辺部の両端から当該相隣接する第1配線膜の延在方向に、かつ、前記第2辺部が延びる方向とは逆の方向に延びる2つの第4辺部と、を含み、前記第2辺部は、前記第4辺部と前記相隣接する第1配線膜との間に位置する、ように構成してもよい。
これによると、隣り合う第1配線膜及びそれらの堰止部によって、いわゆるラビリンスシールのようなものが構成され得る。つまり、前記第3辺部で堰き止められた平坦化膜は、その第3辺部に繋がる第4辺部を伝って基板外へと流れだそうとしても、それは、前記ある第1配線膜の堰止部を構成する前記開口部内に流れ込むに過ぎず、続いて、当該堰止部を構成する第1辺部によって堰き止められる、ということになる(なおも、平坦化膜が基板外へと流れ出そうとするなら、当該平坦化膜は、第2辺部及び第4辺部間の隘路を逆流するかのようにして通らなければならない。)。
このようにして、本態様によれば、平坦化膜の流出防止効果が極めて実効的に奏される。
なお、これら各態様に係る、より具体的な態様の一例については、後の実施形態において図面を参照しながら改めて触れる。
In this aspect, the damming portion may have a wedge shape in plan view.
According to this, if the blocking portion is formed so that the portion opposite to the wedge-shaped pointed portion is directed to the contour line of the planarizing film, the above-described planarization film outflow prevention effect is more effective. Can be demonstrated.
Alternatively, in this aspect, the damming portion has a first side portion that is a portion intersecting the first wiring film in a plan view and an extending direction of the first wiring film from both ends of the first side portion. And the opening corresponds to a space between the ends of the two second sides, and the receiving portion includes the first side and the two sides. You may comprise so that the space enclosed by the 2nd edge part may correspond.
This also makes it possible to more effectively exert the above-described effect of preventing the flattening film from flowing out.
In the aspect in which the damming portion has the first side portion and the second side portion, the first wiring film having the damming portion having the first side portion and the second side portion is adjacent to the first wiring film. The damming portion for one wiring film has a third side portion that intersects the first wiring film adjacent to each other in plan view and the first wiring adjacent to each other from both ends of the third side portion. Two fourth sides extending in a direction in which the film extends and in a direction opposite to the direction in which the second side extends, and the second side includes the fourth side and the phase. You may comprise so that it may be located between adjacent 1st wiring films.
According to this, what is called a labyrinth seal can be comprised by the adjacent 1st wiring film and those damming parts. That is, even if the planarizing film dammed up at the third side portion flows to the outside of the substrate through the fourth side portion connected to the third side portion, It will only flow into the opening that constitutes the damming part, and is subsequently dammed by the first side that constitutes the damming part (note that the planarization film is moved out of the substrate). If it is intended to flow out, the planarization film must pass through the bottleneck between the second side and the fourth side as if flowing backward.
In this way, according to this aspect, the effect of preventing the flattening film from flowing out is extremely effectively achieved.
An example of a more specific aspect relating to each of these aspects will be described again in the following embodiments with reference to the drawings.

あるいは、本発明の発光装置では、前記第1配線膜は、その延在方向に沿ってみて屈曲部を含み、前記堰止部は、前記屈曲部を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、堰止部は、第1配線膜それ自体がもつ屈曲部を含む。このような形態であっても、平坦化膜の流出は、その屈曲部で一定の障害に出会うことになるから、その流出防止効果が奏される。
Alternatively, the light emitting device of the present invention may be configured such that the first wiring film includes a bent portion as viewed along the extending direction, and the damming portion includes the bent portion.
According to this aspect, the blocking portion includes the bent portion of the first wiring film itself. Even in such a form, the outflow of the flattening film encounters a certain obstacle at the bent portion, so that the outflow prevention effect is exhibited.

あるいは、本発明の発光装置では、前記1つ又は複数の層からなる金属膜は、前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延び、且つ、平面視して前記平坦化膜の輪郭線を横切るように配置され、且つ、当該第1配線膜との間に少なくとも1層の層間絶縁膜を挟んで前記基板上に形成される複数の第2配線膜を更に含み、前記複数の第1配線膜について形成される前記堰止部は、前記第2配線部と同じ層で形成される、ように構成してもよい。
この態様によれば、前述のように「第1配線膜の少なくとも一部について形成される」堰止部が、様々な種類を含み得る「金属膜」のうちの「第2配線膜」と同じ層で形成される。このような場合であっても、当該堰止部はやはり、金属膜と同じ層で形成されるということに変わりはなく、したがって、上述した本発明に係る効果が奏されることにも変わりはない。
また、これによれば例えば、基板上に、第1配線膜、層間絶縁膜、及び第2配線膜という順序の積層構造物が構築されることが考えられるが、この場合、例えば、第1配線膜のそれぞれについては、上述のように、第2配線膜と同じ層で堰止部を形成するとともに、当該第2配線膜のそれぞれについては、その第2配線膜と同じ層で堰止部を形成する、等といったことが可能である。このように、本態様によれば、第1及び第2配線膜の全部について好適に堰止部が形成され得ることになる。
なお、本態様にいう「第2配線膜」とは、例えば前述の「データ線」が該当し得、その場合の「第1配線膜」とは、例えば前述の「走査線」が該当し得る。
Alternatively, in the light emitting device of the present invention, the metal film composed of the one or more layers extends in a direction intersecting with the extending direction of the first wiring film, and has an outline of the planarizing film in plan view. A plurality of second wiring films formed on the substrate with at least one interlayer insulating film interposed between the first wiring films and the plurality of second wiring films. The damming portion formed for one wiring film may be formed in the same layer as the second wiring portion.
According to this aspect, as described above, the dam portion “formed on at least a part of the first wiring film” is the same as the “second wiring film” among the “metal films” that may include various types. Formed in layers. Even in such a case, the damming portion is still formed of the same layer as the metal film, and thus the effect according to the present invention described above is also achieved. Absent.
Further, according to this, for example, it is conceivable that a laminated structure in the order of the first wiring film, the interlayer insulating film, and the second wiring film is constructed on the substrate. In this case, for example, the first wiring film For each of the films, as described above, the damming portion is formed in the same layer as the second wiring film, and for each of the second wiring films, the damming portion is formed in the same layer as the second wiring film. It can be formed. Thus, according to this aspect, the damming portion can be suitably formed for all of the first and second wiring films.
The “second wiring film” referred to in this embodiment may correspond to, for example, the above-mentioned “data line”, and the “first wiring film” in that case may correspond to, for example, the above-described “scanning line”. .

この態様では、前記堰止部は、前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延びる交差部分を含み、当該交差部分は、前記複数の第1配線膜のうちの2以上の第1配線膜と交差する、ように構成してもよい。
これによれば、第2配線膜と同じ層で形成される堰止部は、2以上の第1配線膜と交差する交差部分を含む。これによれば、複数の第1配線膜それぞれについての堰止部は、それら第1配線膜全部に関する、一続きの、あるいは一体的な、いわば壁の如き形態を呈することになり、平坦化膜の流出をより実効的に防止することが可能になる。
なお、このような形態をとるとしても、第2配線膜は第1配線膜とは別の層として形成されていることから、複数の第1配線膜間の短絡という問題は生じない。
In this aspect, the damming portion includes an intersecting portion extending in a direction intersecting with the extending direction of the first wiring film, and the intersecting portion includes two or more first of the plurality of first wiring films. You may comprise so that it may cross | intersect a wiring film.
According to this, the damming portion formed in the same layer as the second wiring film includes an intersecting portion that intersects two or more first wiring films. According to this, the damming portion for each of the plurality of first wiring films has a continuous or integral form like a wall with respect to all of the first wiring films. Can be more effectively prevented.
Even if it takes such a form, since the second wiring film is formed as a layer different from the first wiring film, there is no problem of short circuit between the plurality of first wiring films.

一方、本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した各種の発光装置を備える。
本発明によれば、上述した各種の発光装置、即ち平坦化膜の流出防止が防止される結果、その小型化が達成された発光装置が備えられているので、当該電子機器の小型化が実現され得る。
また、平坦化膜の流出を防止する堰止部は、既述のように、金属膜と同じ層で形成されており、発光素子の長寿命化が達成され得るので、当該電子機器の信頼性、特に経時劣化等に係る信頼性を高めることができる。これにより、例えば、本発明に係る電子機器が、上述した各種の発光装置を画像表示装置用の照明装置として備えるのであれば、より高品質の画像が表示され得ることになる。
On the other hand, in order to solve the above-described problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the various light-emitting devices described above.
According to the present invention, since the various light emitting devices described above, that is, the light emitting device that has been reduced in size as a result of preventing the outflow of the planarization film is provided, the electronic device can be downsized. Can be done.
Further, as described above, the damming portion for preventing the flattening film from flowing out is formed of the same layer as the metal film, so that the lifetime of the light emitting element can be increased. In particular, it is possible to improve the reliability related to deterioration over time. Thereby, for example, if the electronic apparatus according to the present invention includes the above-described various light emitting devices as an illumination device for an image display device, a higher quality image can be displayed.

以下では、本発明に係る実施の形態について図1乃至図8を参照しながら説明する。なお、これらの図面及び後に参照する図10以降の各図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。
<第1実施形態>
第1実施形態の有機EL装置は、図1に示すように、素子基板7と、この素子基板7上に形成される各種の要素を備えている。ここで各種の要素とは、有機EL素子8、走査線3及びデータ線6、走査線駆動回路103A及び103B、データ線駆動回路106、プリチャージ回路106A、並びに対向電極用電源線201を備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. In these drawings and the drawings after FIG. 10 to be referred to later, the ratio of the dimensions of each part is appropriately changed from the actual one.
<First Embodiment>
As shown in FIG. 1, the organic EL device according to the first embodiment includes an element substrate 7 and various elements formed on the element substrate 7. Here, the various elements include the organic EL element 8, the scanning line 3 and the data line 6, the scanning line driving circuits 103A and 103B, the data line driving circuit 106, the precharge circuit 106A, and the counter electrode power line 201. Yes.

有機EL素子(発光素子)8は、図1に示すように、素子基板7上に複数備えられており、それら複数の有機EL素子8はマトリクス状に配列されている。有機EL素子8の各々は、画素電極、発光機能層及び対向電極から構成されているが、この点については、後に図2及び図3等を参照した説明の際に改めて触れる。
画像表示領域7aは、素子基板7上、これら複数の有機EL素子8が配列されている領域である。画像表示領域7aでは、各有機EL素子8の個別の発光及び非発光に基づき、所望の画像が表示され得る。なお、以下では、説明の便宜上、素子基板7の面のうち、この画像表示領域7aを除く領域を、「周辺領域」と呼ぶことがある(第1実施形態における「画像表示領域7a」の、より詳細な定義について後に改めて触れる。)。
As shown in FIG. 1, a plurality of organic EL elements (light emitting elements) 8 are provided on an element substrate 7, and the plurality of organic EL elements 8 are arranged in a matrix. Each of the organic EL elements 8 includes a pixel electrode, a light emitting functional layer, and a counter electrode. This point will be described later in the description with reference to FIGS.
The image display area 7 a is an area where the plurality of organic EL elements 8 are arranged on the element substrate 7. In the image display area 7 a, a desired image can be displayed based on individual light emission and non-light emission of each organic EL element 8. In the following, for convenience of explanation, the area excluding the image display area 7a in the surface of the element substrate 7 may be referred to as “peripheral area” (the “image display area 7a” in the first embodiment, I will touch on more detailed definitions later.)

走査線3及びデータ線6は、それぞれ、マトリクス状に配列された有機EL素子8の各行及び各列に対応するように配列されている。より詳しくは、走査線3は、図1に示すように、図中左右方向に沿って延び、かつ、周辺領域上に形成されている走査線駆動回路103A及び103Bに接続されている。一方、データ線6は、図中上下方向に沿って延び、かつ、周辺領域上に形成されているデータ線駆動回路106に接続されている。これら各走査線3及び各データ線6の各交点の近傍には、前述の有機EL素子8等を含む単位回路(画素回路)Pが設けられている。   The scanning lines 3 and the data lines 6 are arranged so as to correspond to the respective rows and columns of the organic EL elements 8 arranged in a matrix. More specifically, as shown in FIG. 1, the scanning line 3 extends in the left-right direction in the drawing and is connected to scanning line driving circuits 103A and 103B formed on the peripheral region. On the other hand, the data line 6 extends along the vertical direction in the drawing and is connected to the data line driving circuit 106 formed on the peripheral region. A unit circuit (pixel circuit) P including the organic EL element 8 and the like described above is provided in the vicinity of each intersection of the scanning lines 3 and the data lines 6.

この単位回路Pは、図2に示すように、前述の有機EL素子8を含むほか、nチャネル型の第1トランジスタ68、pチャネル型の第2トランジスタ9、及び容量素子69を含む。
単位回路Pは、電流供給線113から給電を受ける。複数の電流供給線113は、図示しない電源に接続されている。
また、pチャネル型の第2トランジスタ9のソース電極は電流供給線113に接続される一方、そのドレイン電極は有機EL素子8の画素電極に接続される。この第2トランジスタ9のソース電極とゲート電極との間には、容量素子69が設けられている。一方、nチャネル型の第1トランジスタ68のゲート電極は走査線3に接続され、そのソース電極はデータ線6に接続され、そのドレイン電極は第2トランジスタ9のゲート電極と接続される。
単位回路Pは、その単位回路Pに対応する走査線3を走査線駆動回路103A及び103Bが選択すると、第1トランジスタ68がオンされて、データ線6を介して供給されるデータ信号を内部の容量素子69に保持する。そして、第2トランジスタ9が、データ信号のレベルに応じた電流を有機EL素子8に供給する。これにより、有機EL素子8は、データ信号のレベルに応じた輝度で発光する。
As shown in FIG. 2, the unit circuit P includes the organic EL element 8 described above, and also includes an n-channel first transistor 68, a p-channel second transistor 9, and a capacitor element 69.
The unit circuit P receives power from the current supply line 113. The plurality of current supply lines 113 are connected to a power source (not shown).
The source electrode of the p-channel type second transistor 9 is connected to the current supply line 113, and the drain electrode thereof is connected to the pixel electrode of the organic EL element 8. A capacitive element 69 is provided between the source electrode and the gate electrode of the second transistor 9. On the other hand, the gate electrode of the n-channel first transistor 68 is connected to the scanning line 3, its source electrode is connected to the data line 6, and its drain electrode is connected to the gate electrode of the second transistor 9.
In the unit circuit P, when the scanning line driving circuits 103A and 103B select the scanning line 3 corresponding to the unit circuit P, the first transistor 68 is turned on, and the data signal supplied via the data line 6 is transferred to the internal circuit P. It is held in the capacitor element 69. Then, the second transistor 9 supplies a current corresponding to the level of the data signal to the organic EL element 8. As a result, the organic EL element 8 emits light with a luminance corresponding to the level of the data signal.

素子基板7上の周辺領域上には、プリチャージ回路106Aが備えられている。このプリチャージ回路106Aは、有機EL素子8へのデータ信号の書込み動作に先立って、データ線6を所定の電位に設定するための回路である。
また、対向電極用電源線201(以下、単に「電源線201」という。)は、素子基板7の外形輪郭線にほぼ沿うように、平面視してΠ字状の形状をもつ。この電源線201は、有機EL素子8の対向電極に例えばグランドレベル等の電源電圧を供給する。電源線201が、前記のような形状をもつのは、前記対向電極が、後述するように矩形状に形成されることに対応している。
なお、前述では、走査線駆動回路103A及び103B、データ線駆動回路106、並びにプリチャージ回路106Aのすべてが素子基板7上に形成される例について説明しているが、場合によっては、そのうちの全部又は一部を、フレキシブル基板に形成するのであってもよい。この場合、当該のフレキシブル基板と素子基板7との両当接部分に適当な端子を設けておくことにより、両者間の電気的な接続を可能とする。
On the peripheral region on the element substrate 7, a precharge circuit 106A is provided. The precharge circuit 106A is a circuit for setting the data line 6 to a predetermined potential prior to a data signal write operation to the organic EL element 8.
The counter electrode power supply line 201 (hereinafter simply referred to as “power supply line 201”) has a square shape in plan view so as to substantially follow the outline of the element substrate 7. The power supply line 201 supplies a power supply voltage such as a ground level to the counter electrode of the organic EL element 8. The power supply line 201 having the above-described shape corresponds to the counter electrode being formed in a rectangular shape as will be described later.
In the above description, an example in which all of the scanning line driving circuits 103A and 103B, the data line driving circuit 106, and the precharge circuit 106A are formed on the element substrate 7 has been described. Or a part may be formed in a flexible substrate. In this case, by providing appropriate terminals at both contact portions between the flexible substrate and the element substrate 7, electrical connection between the two can be achieved.

平面視した場合に、以上述べたような構成を備える有機EL装置は、図3乃至図6に示すような積層構造物250を備えている。
この積層構造物250は、図3に示すように、素子基板7を基準として、図中下から順に、半導体層1、ゲート絶縁膜300、ゲートメタル37、第1層間絶縁膜301、電流供給線113及び中継線61、第2層間絶縁膜302、反射層34、第3層間絶縁膜303、画素電極13、第4層間絶縁膜304、発光機能層18、対向電極5、平坦化膜80及び封止膜40を含む。
When viewed in plan, the organic EL device having the above-described configuration includes a stacked structure 250 as shown in FIGS.
As shown in FIG. 3, the stacked structure 250 includes a semiconductor layer 1, a gate insulating film 300, a gate metal 37, a first interlayer insulating film 301, and a current supply line in order from the bottom of the figure with respect to the element substrate 7. 113, the relay line 61, the second interlayer insulating film 302, the reflective layer 34, the third interlayer insulating film 303, the pixel electrode 13, the fourth interlayer insulating film 304, the light emitting functional layer 18, the counter electrode 5, the planarizing film 80, and the sealing. A stop film 40 is included.

このうち、ゲート絶縁膜300、第1乃至第4層間絶縁膜301乃至304(以下、単に「絶縁膜300乃至304」ということがある。)は、その他の残る導電性要素間の短絡が生じないように、あるいは、これら導電性要素の積層構造物250中の好適な配置を実現するため等に貢献する。これら絶縁膜300乃至304は、様々な厚さでもって様々な絶縁性材料から作られうるが、好適には、各絶縁膜の積層構造物250中の配置位置や役割等に応じて、適宜適当な厚さ及び材料が選択されるとよい。
より具体的には、例えばゲート絶縁膜300、及び第1乃至第3層間絶縁膜301乃至303は、SiO、SiN、SiON等無機絶縁膜で作られて好ましい。また、第4層間絶縁膜304は、後述する隔壁340を含む関係上、アクリル樹脂等有機絶縁膜で作られて好適である。
なお、本発明にいう「金属膜」の中には、第1実施形態において、積層構造物250を構成する前述の各種の要素のうち、前記絶縁膜300乃至304及び半導体層1を除く全ての要素(即ち、ゲートメタル37、電流供給線113、中継線61、反射層34、画素電極13、及び対向電極5、並びに、既に述べ且つ後に積層構造物250中の位置付けについて改めて説明が加えられる走査線3及びデータ線6)を含む。
Among these, the gate insulating film 300 and the first to fourth interlayer insulating films 301 to 304 (hereinafter simply referred to as “insulating films 300 to 304”) do not cause a short circuit between the remaining conductive elements. Alternatively, the present invention contributes to realizing a suitable arrangement of these conductive elements in the laminated structure 250. Although these insulating films 300 to 304 can be made of various insulating materials with various thicknesses, it is preferable that the insulating films 300 to 304 are appropriately selected depending on the arrangement position and role of each insulating film in the laminated structure 250. A suitable thickness and material may be selected.
More specifically, for example, the gate insulating film 300 and the first to third interlayer insulating films 301 to 303 are preferably made of an inorganic insulating film such as SiO 2 , SiN, or SiON. The fourth interlayer insulating film 304 is preferably made of an organic insulating film such as an acrylic resin because it includes a partition wall 340 described later.
The “metal film” referred to in the present invention includes all the elements other than the insulating films 300 to 304 and the semiconductor layer 1 among the above-described various elements constituting the stacked structure 250 in the first embodiment. The element (that is, the gate metal 37, the current supply line 113, the relay line 61, the reflective layer 34, the pixel electrode 13, and the counter electrode 5, and scanning that has already been described and will be described later again. Line 3 and data line 6).

前述の単位回路Pに含まれる第2トランジスタ9の各々は、図3に示すように、積層構造物250を構成する前述の各種の要素のうち、半導体層1、ゲート絶縁膜300、ゲートメタル37等から構成される。
このうち半導体層1は、素子基板7上に、図示するように直接的に、あるいは適当な絶縁膜(不図示)等を介して形成される。ゲート絶縁膜300は、この半導体層1の上を覆うように形成されており、ゲートメタル37は、半導体層1のチャネル領域の位置に対応するように、ゲート絶縁膜300の上に形成されている。また、半導体層1のソース領域には、コンタクトホール361を介して電流供給線113が接続され、そのドレイン領域には、コンタクトホール362を介して中継線61が接続されている。なお、コンタクトホール361及び362はいずれも、第1層間絶縁膜301を貫通するようにして形成されている。
As shown in FIG. 3, each of the second transistors 9 included in the unit circuit P includes the semiconductor layer 1, the gate insulating film 300, and the gate metal 37 among the various elements included in the stacked structure 250. Etc.
Among these, the semiconductor layer 1 is formed on the element substrate 7 directly as shown in the drawing or via an appropriate insulating film (not shown). The gate insulating film 300 is formed so as to cover the semiconductor layer 1, and the gate metal 37 is formed on the gate insulating film 300 so as to correspond to the position of the channel region of the semiconductor layer 1. Yes. Further, a current supply line 113 is connected to the source region of the semiconductor layer 1 through a contact hole 361, and a relay line 61 is connected to the drain region through a contact hole 362. Note that both of the contact holes 361 and 362 are formed so as to penetrate the first interlayer insulating film 301.

前述の有機EL素子8の各々は、図3に示すように、積層構造物250を構成する前述の各種の要素のうち、画素電極13、発光機能層18及び対向電極5から構成される。
このうち画素電極13は、素子基板7上に、マトリクス状に配列するように形成されている。有機EL素子8がマトリクス状に配列されているということは、このように画素電極13がマトリクス状に配列されているということに相応する(図1及び図3参照)。
この画素電極13は、コンタクトホール363を介して、前述の中継線61と電気的に接続されている。これにより、この画素電極13は、第2トランジスタ9を介して電流供給線113から供給される電流を発光機能層18に印加可能である。なお、コンタクトホール363は、第2及び第3層間絶縁膜302及び303を貫通するようにして形成されている。
このような画素電極13は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性かつ導電性の材料から作られている。
As shown in FIG. 3, each of the organic EL elements 8 includes the pixel electrode 13, the light emitting functional layer 18, and the counter electrode 5 among the various elements included in the stacked structure 250.
Among these, the pixel electrodes 13 are formed on the element substrate 7 so as to be arranged in a matrix. The fact that the organic EL elements 8 are arranged in a matrix corresponds to the fact that the pixel electrodes 13 are arranged in a matrix as described above (see FIGS. 1 and 3).
The pixel electrode 13 is electrically connected to the relay line 61 through the contact hole 363. Thereby, the pixel electrode 13 can apply the current supplied from the current supply line 113 via the second transistor 9 to the light emitting functional layer 18. The contact hole 363 is formed so as to penetrate the second and third interlayer insulating films 302 and 303.
The pixel electrode 13 is made of a light-transmitting and conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

この画素電極13の形成領域に対応するように、第2層間絶縁膜302上、且つ、第3層間絶縁膜303下には、反射層34が形成されている。反射層34は、発光機能層18から発せられた光を反射する。この反射光は、図3に示すように、図中上方に向かって進行する。このような反射層34は、上述の反射機能をよりよく発揮するため、光反射性能の比較的高い材料から作られているとよい。例えば、アルミニウムや銀等の金属を利用することができる。
一方、平面視して、隣接する画素電極13間の領域には、図3に示すように、隔壁(バンク)340が形成されている。この隔壁340は、第4層間絶縁膜304として、あるいは少なくともその一部として形成されている。このような隔壁340は、例えば絶縁性の透明樹脂材料で作られて好適で、より具体的には例えば、既に述べたアクリル樹脂の他、エポキシ樹脂、あるいはポリイミドなどにより作られて好適である(これにより、第4層間絶縁膜304も、これらの材料から作られることになる。)。
A reflective layer 34 is formed on the second interlayer insulating film 302 and below the third interlayer insulating film 303 so as to correspond to the formation region of the pixel electrode 13. The reflective layer 34 reflects the light emitted from the light emitting functional layer 18. This reflected light travels upward in the figure as shown in FIG. Such a reflective layer 34 is preferably made of a material having a relatively high light reflection performance in order to better exhibit the above-described reflection function. For example, a metal such as aluminum or silver can be used.
On the other hand, in a plan view, a partition (bank) 340 is formed in a region between adjacent pixel electrodes 13 as shown in FIG. The partition 340 is formed as the fourth interlayer insulating film 304 or at least a part thereof. Such a partition 340 is preferably made of, for example, an insulating transparent resin material, and more specifically, is preferably made of, for example, an epoxy resin or polyimide other than the acrylic resin already described ( As a result, the fourth interlayer insulating film 304 is also made of these materials.)

発光機能層18は、図3に示すように、画素電極13の上に、素子基板7の面、特に画像表示領域7aを覆うようにして形成されている。
発光機能層18は、少なくとも有機発光層を含み、有機発光層は正孔と電子が結合して発光する有機EL物質から構成されている。図3では、有機EL物質は低分子材料であって、適当な成膜方法により形成される。発光機能層18を構成する他の層として、電子ブロック層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層及び正孔ブロック層の一部又は全部を備えていてもよい。
第1実施形態では、この発光機能層18は、一様に白色光を発する。
As shown in FIG. 3, the light emitting functional layer 18 is formed on the pixel electrode 13 so as to cover the surface of the element substrate 7, in particular, the image display region 7a.
The light emitting functional layer 18 includes at least an organic light emitting layer, and the organic light emitting layer is composed of an organic EL material that emits light by combining holes and electrons. In FIG. 3, the organic EL material is a low molecular material and is formed by an appropriate film forming method. As other layers constituting the light-emitting functional layer 18, part or all of an electron block layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a hole block layer may be provided.
In the first embodiment, the light emitting functional layer 18 emits white light uniformly.

なお、前述の有機EL物質は高分子材料であってもよい。この場合、当該有機EL物質は、例えば図4に示すように、前記隔壁340により区画された各空間内のみに(即ち、画素ごとに)供給され得る。図4において、当該有機EL物質は、発光機能層18’の全部又は一部を構成する。なお、前記高分子材料としての有機EL物質は、例えばインクジェット法、ディスペンサ法などの液体供給方法によって、前記空間内に供給され得る。
なお、このように、隔壁340により区画された空間のみに有機EL物質を供給する態様によると、発光機能層を、色毎に、区別して設けることができる。すなわち、前記空間ごとに、例えば、赤色光、緑色光及び青色光それぞれ専用の有機EL物質を含む発光機能層を形成することが可能である。
The organic EL material described above may be a polymer material. In this case, for example, as shown in FIG. 4, the organic EL material can be supplied only in each space partitioned by the partition 340 (that is, for each pixel). In FIG. 4, the organic EL material constitutes all or part of the light emitting functional layer 18 ′. The organic EL substance as the polymer material can be supplied into the space by a liquid supply method such as an ink jet method or a dispenser method.
As described above, according to the aspect in which the organic EL material is supplied only to the space partitioned by the partition wall 340, the light emitting functional layer can be provided separately for each color. That is, for each space, for example, it is possible to form a light emitting functional layer including organic EL materials dedicated to red light, green light, and blue light.

対向電極5は、複数の有機EL素子8の発光機能層18に接触している。つまり、対向電極5は、複数の画素電極13に共通するように、隔壁340で画定された発光機能層18の区域及び隔壁340の上に広がっている。この対向電極5は、矩形状(特に、その内部に特別な開口、間隙等をもたない。いわゆるベタ)に形成される。この実施の形態では、画素電極13は陽極で、対向電極5は陰極だが、その逆であってもよい。
このような対向電極5は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性かつ導電性の材料から作られている。
The counter electrode 5 is in contact with the light emitting functional layer 18 of the plurality of organic EL elements 8. That is, the counter electrode 5 extends over the area of the light emitting functional layer 18 defined by the partition 340 and the partition 340 so as to be common to the plurality of pixel electrodes 13. The counter electrode 5 is formed in a rectangular shape (in particular, it has no special opening, gap, etc., so-called solid). In this embodiment, the pixel electrode 13 is an anode and the counter electrode 5 is a cathode, but vice versa.
Such a counter electrode 5 is made of a translucent and conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

前述の単位回路Pに含まれる第1トランジスタ68の各々は、図5に示すように、前記半導体層1と同じ層として形成される半導体層1’、ゲート絶縁膜300、及び前記ゲートメタル37と同じ層として形成される走査線3等から構成される。
この第1トランジスタ68も、前記第2トランジスタ9と同様、薄膜トランジスタであることに変わりはない。
ただ、この第1トランジスタ68においてゲート電極として機能するのは、ゲートメタル37ではなく走査線3である。この走査線3は、図5に示すように、半導体層1’のチャネル領域に対応するように、ゲート絶縁膜300の上に形成されている。
また、第1トランジスタ68の半導体層1’のドレイン領域には第2トランジスタ9のゲート電極として機能するゲートメタル37が接続され、そのソース領域にはデータ線6が接続されている。このうちデータ線6は、図5をみるとわかるように、第1層間絶縁膜301の上に、前述した中継線61及び電流供給線113と同じ層として形成されている。
As shown in FIG. 5, each of the first transistors 68 included in the unit circuit P includes a semiconductor layer 1 ′ formed as the same layer as the semiconductor layer 1, a gate insulating film 300, and the gate metal 37. The scanning line 3 is formed as the same layer.
Similarly to the second transistor 9, the first transistor 68 is also a thin film transistor.
However, it is not the gate metal 37 but the scanning line 3 that functions as the gate electrode in the first transistor 68. As shown in FIG. 5, the scanning line 3 is formed on the gate insulating film 300 so as to correspond to the channel region of the semiconductor layer 1 ′.
A gate metal 37 functioning as a gate electrode of the second transistor 9 is connected to the drain region of the semiconductor layer 1 ′ of the first transistor 68, and the data line 6 is connected to the source region thereof. Among these, as can be seen from FIG. 5, the data line 6 is formed on the first interlayer insulating film 301 as the same layer as the relay line 61 and the current supply line 113 described above.

以上の第1トランジスタ68、第2トランジスタ9、並びに有機EL素子8により、画素電極13及び対向電極5間に電流が流されると同時に、発光機能層18に電流が流されることで、当該発光機能層18は発光する(図2を参照して既に行った説明も参照。)。なお、前記反射層34の存在により、発光機能層18から発せられた光は、素子基板7が存在する側とは反対側に進行するようになっているので、第1実施形態の有機EL装置は、いわゆるトップエミッション型である。このため、素子基板7は、必ずしも、透光性材料から作られている必要はない。具体的には、セラミックスや金属等の不透明材料であってよいが、ガラス等の透光性材料であってはいけないという理由は特にない。   By the first transistor 68, the second transistor 9, and the organic EL element 8, a current is caused to flow between the pixel electrode 13 and the counter electrode 5, and at the same time, a current is caused to flow to the light emitting functional layer 18. The layer 18 emits light (see also the explanation already given with reference to FIG. 2). In addition, since the light emitted from the light emitting functional layer 18 travels to the side opposite to the side where the element substrate 7 exists due to the presence of the reflective layer 34, the organic EL device according to the first embodiment. Is a so-called top emission type. For this reason, the element substrate 7 does not necessarily need to be made from a translucent material. Specifically, it may be an opaque material such as ceramics or metal, but there is no particular reason that it should not be a translucent material such as glass.

そして、第1実施形態の有機EL装置では、前述した各種の要素のうち特に、データ線6に関して特徴がある。
このデータ線6は、既に説明したように、機能的には、第2トランジスタ9のゲートにデータ信号を供給することで、当該第2トランジスタ9のソース・ドレイン間に流れる電流(即ち、有機EL素子8に流れる電流)の大きさを調整するための要素であり(図2参照)、構造的には、第1層間絶縁膜301と第2層間絶縁膜302との間に形成され、有機EL素子8と電気的な接続関係を持つ金属配線薄膜としての位置付けをもつ(図5参照)。
これに加えて、第1実施形態に係るデータ線6は、平坦化膜80の素子基板7外へと向かう流出を防止する機能及びそれに適した構成をも持つ。以下、この機能に関連する事項について、詳しく説明する。
The organic EL device according to the first embodiment is particularly characterized with respect to the data line 6 among the various elements described above.
As described above, the data line 6 functionally supplies a data signal to the gate of the second transistor 9 so that a current flowing between the source and drain of the second transistor 9 (that is, the organic EL). Element for adjusting the magnitude of the current flowing in the element 8 (see FIG. 2), and is structurally formed between the first interlayer insulating film 301 and the second interlayer insulating film 302, and is an organic EL It is positioned as a metal wiring thin film having an electrical connection relationship with the element 8 (see FIG. 5).
In addition to this, the data line 6 according to the first embodiment also has a function of preventing the planarization film 80 from flowing out of the element substrate 7 and a configuration suitable for it. Hereinafter, matters related to this function will be described in detail.

まず、その前提として、第1実施形態の有機EL装置では、積層構造物250を構成する要素に、既述の平坦化膜80が含まれていることについて説明する。
この平坦化膜80は、図3等に示すように、対抗電極5の上に(あるいは、図6の右方では、第4層間絶縁膜304の上に直接に)、素子基板7の面、特に画像表示領域7aの全部を覆うように形成されている。
このような平坦化膜80は、少なくとも成膜時において比較的流動性の大きい材料から作られている。そのため、積層構造物250を構成する各種の要素、特に隔壁340がもつ高さに起因して形成される凹凸が均される。図3では、平坦化膜80が、隔壁340等を原因として対向電極5の図中上面に現れる凹凸を均している様子が示されている。
これにより、平坦化膜80の上には、更に何らかの要素を好適に積み重ねていくことが可能になる。また、平坦化膜80は、対向電極5よりも下層に位置する積層構造物250で発生する反りや体積膨張による発生する応力を緩和する。さらに、平坦化膜80は、対向電極5が隔壁340から剥離することを防止する。
First, as the premise, in the organic EL device of the first embodiment, it will be described that the planarizing film 80 described above is included in the elements constituting the stacked structure 250.
As shown in FIG. 3 and the like, the planarizing film 80 is formed on the counter electrode 5 (or directly on the fourth interlayer insulating film 304 on the right side of FIG. 6), the surface of the element substrate 7, In particular, it is formed so as to cover the entire image display area 7a.
Such a planarizing film 80 is made of a material having a relatively large fluidity at least during film formation. Therefore, the unevenness formed due to the various elements constituting the laminated structure 250, particularly the height of the partition 340, is leveled. FIG. 3 shows a state in which the planarizing film 80 levels the unevenness appearing on the upper surface of the counter electrode 5 in the drawing due to the partition 340 and the like.
As a result, some elements can be suitably stacked on the planarizing film 80. In addition, the planarization film 80 relieves stress generated due to warpage and volume expansion generated in the stacked structure 250 positioned below the counter electrode 5. Further, the planarizing film 80 prevents the counter electrode 5 from being peeled off from the partition wall 340.

なお、このような平坦化膜80を構成する材料として、より具体的には例えば、親油性を有する高分子材料(有機樹脂材料)、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステルなどを利用するのが好ましい。更に具体的には、アクリルポリオールやポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリウレタンポリオールと、トリレンジイソシアネートやキシリレンジイソシアネートなどのイソシアネート化合物を混合して重合させた誘導体、又はビスフェノール型エポキシオリゴマーとアミン化合物を混合して重合した誘導体等が挙げられる。
そして、これらの有機化合物は、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、酢酸エチルなどの親油性有機溶剤で希釈されて、所定の粘度に調整され、エポキシオリゴマー、アクリルオリゴマー、ポリウレタン等として対向電極5上に配置される。
なお、イソシアネート化合物は、水分と反応することで、尿素結合反応を起こし、ポリマー化する。この反応により、平坦化膜80に残存する水分を固定化することで、対向電極5や発光機能層18への水分の侵入を防止できる。
More specifically, examples of the material constituting the planarizing film 80 include lipophilic polymer materials (organic resin materials) such as polyolefin resins, polyether resins, epoxy resins, and acrylics. It is preferable to use resin, silicone resin, polyurethane, polyether, polyester or the like. More specifically, acrylic polyol, polyester polyol, polyether polyol, polyurethane polyol and a derivative obtained by mixing and polymerizing an isocyanate compound such as tolylene diisocyanate or xylylene diisocyanate, or a bisphenol type epoxy oligomer and an amine compound are mixed. And polymerized derivatives.
These organic compounds are diluted with a lipophilic organic solvent such as toluene, xylene, cyclohexane, methyl ethyl ketone, and ethyl acetate, adjusted to a predetermined viscosity, and formed on the counter electrode 5 as an epoxy oligomer, acrylic oligomer, polyurethane, or the like. Be placed.
In addition, an isocyanate compound raise | generates a urea coupling | bonding reaction by reacting with a water | moisture content, and polymerizes. By this reaction, moisture remaining in the planarizing film 80 is fixed, so that moisture can be prevented from entering the counter electrode 5 and the light emitting functional layer 18.

ところで、このような平坦化膜80は、上述のように比較的流動性の大きい材料から作られるため、素子基板7の外へと向かって流れ出そうとする。特に、第1実施形態では、図6あるいは図7に示すような凸部331が存在することにより、そのような平坦化膜80の流出は、比較的促進されてしまう。
ここで、この凸部331は、データ線6がもつ高さに起因して第3層間絶縁膜303の表面に形成されるものである。データ線6は、既に参照した図1あるいは図5等に示すように、マトリクス状に配列された複数の有機EL素子8の各列に対応するように、複数配列されているから、凸部331もまた、図7に示すように、複数配列されることになる。また、データ線6は、前述した、データ線駆動回路106、あるいは接続端子等との電気的接続のため、画像表示領域7aから、その周辺領域にわたって延在する。したがって、複数の凸部331もまた、平面視した場合における平坦化膜80の輪郭線と交わりながら、画像表示領域7aから、その周辺領域にわたって延在することになる。
なお、「画像表示領域7a」については、上で、一応、複数の有機EL素子8が配列されている領域、と定義付けておいたが、図6を利用してより厳密には、対向電極5の形成領域と定義付ける。もっとも、「厳密」とはいえ、この約束は、単に語義の混同を招くという目的を有するものに過ぎず、また、本発明に係る各実施形態に関わる限りで有効である(要するに、その他の定義付けもあり得る。)。
By the way, such a flattening film 80 is made of a material having relatively high fluidity as described above, and therefore tends to flow out of the element substrate 7. In particular, in the first embodiment, the presence of the convex portion 331 as shown in FIG. 6 or FIG. 7 relatively facilitates the outflow of the planarizing film 80.
Here, the convex portion 331 is formed on the surface of the third interlayer insulating film 303 due to the height of the data line 6. As shown in FIG. 1 or FIG. 5 or the like already referred to, a plurality of data lines 6 are arranged so as to correspond to each column of the plurality of organic EL elements 8 arranged in a matrix. Also, as shown in FIG. 7, a plurality are arranged. Further, the data line 6 extends from the image display area 7a to the peripheral area for electrical connection with the data line driving circuit 106 or the connection terminal described above. Therefore, the plurality of convex portions 331 also extend from the image display region 7a to the peripheral region while intersecting with the contour line of the planarizing film 80 when seen in a plan view.
Note that the “image display region 7a” is defined as a region where a plurality of organic EL elements 8 are arranged, but more strictly speaking, the counter electrode is more specifically described with reference to FIG. 5 is defined as a formation region. However, although it is “strict”, this promise is merely intended to cause confusion of meanings, and is valid as long as it relates to each embodiment of the present invention (in other words, other definitions) There is also a possibility.)

上述のような凸部331の形状的特質からも推測されるように、当該凸部331は、平坦化膜80の外表面における表面張力の外乱要因となり得る結果、該平坦化膜80の流出を比較的促進してしまう(図7の符号“80OZ”参照)。
そこで、第1実施形態に係る有機EL装置では、そのような平坦化膜80の流出を防止すべく、複数のデータ線6のそれぞれについて、図6及び図7に示すように、堰止部601が形成される。なお、図1では、装置全体的な観点からみた場合における堰止部601が形成されるべき位置が、符号AELを付した破線で囲われた領域として示されている。
この堰止部601は、データ線6と同じ層として形成されている。したがって、その物理的厚さは、データ線6と同じであり、一般に、比較的薄い。
また、この堰止部601は、データ線6の延在方向と交差するように形成される。第1実施形態では特に、堰止部601は、データ線6の延在方向に直交する方向に延在する。
さらに、堰止部601は、図7に示すように各データ線6に応じて個別に形成され、かつ、それら堰止部601の各々は、相互に電気的には接続されない。図7では、各堰止部601間に物理的な空隙が設けられる(当該空隙は、第2層間絶縁膜302によって埋められる。)ことで、それらの間の電気的接続が阻まれている。これにより、各データ線6には、それぞれ固有のデータ信号を正確・確実に供給することができ、これら各データ線6間における電気的な短絡は生じない。
As can be inferred from the shape characteristics of the convex portion 331 as described above, the convex portion 331 can be a disturbance factor of the surface tension on the outer surface of the planarizing film 80, resulting in the outflow of the planarizing film 80. This is relatively accelerated (see reference numeral “80OZ” in FIG. 7).
Therefore, in the organic EL device according to the first embodiment, as shown in FIGS. 6 and 7, the damming portion 601 is provided for each of the plurality of data lines 6 in order to prevent the outflow of the planarization film 80. Is formed. In FIG. 1, the position where the blocking portion 601 is to be formed when viewed from the viewpoint of the entire apparatus is shown as a region surrounded by a broken line with a symbol AEL.
The blocking portion 601 is formed as the same layer as the data line 6. Therefore, its physical thickness is the same as that of the data line 6 and is generally relatively thin.
Further, the blocking portion 601 is formed so as to intersect the extending direction of the data line 6. Particularly in the first embodiment, the blocking portion 601 extends in a direction orthogonal to the extending direction of the data line 6.
Furthermore, the blocking portions 601 are individually formed according to the data lines 6 as shown in FIG. 7, and the blocking portions 601 are not electrically connected to each other. In FIG. 7, physical gaps are provided between the respective damming portions 601 (the gaps are filled with the second interlayer insulating film 302), thereby preventing electrical connection therebetween. As a result, each data line 6 can be supplied with a unique data signal accurately and reliably, and no electrical short circuit occurs between the data lines 6.

このような堰止部601及びデータ線6の上には、第2層間絶縁膜302が形成され、更にその上に第3層間絶縁膜303が形成されるので、その表面にはそれぞれに起因した凸部が形成される。後者については、上述した凸部331がそれに該当するが、前者については、図6及び図7に示すように、堤防部91がそれに該当する。この堤防部91は、基本的には、堰止部601がもつ形状的特質をいわば受け継ぐから、凸部331の延在方向と直交するように延在することになり、また、相隣接し合う凸部331における両堤防部91は相互に接続されない。ただし、後者については、両堰止部601の端部間の距離を適当に設定しておけば、図7に示すように、これら両堰止部601に対応する両堤防部91間の接続、あるいは重なり合いを実現することもできる。これは、一般に、絶縁膜の表面に形成される凸部の大きさは、その原因となったある要素の大きさよりも一回り大きくなるという、自然的性質に基づく。   Since the second interlayer insulating film 302 is formed on the damming portion 601 and the data line 6 and the third interlayer insulating film 303 is further formed on the second interlayer insulating film 302, the surface thereof is caused by each. A convex part is formed. For the latter, the convex portion 331 described above corresponds to that, but for the former, as shown in FIG. 6 and FIG. Basically, the dike portion 91 inherits the shape characteristic of the damming portion 601, so that it extends so as to be orthogonal to the extending direction of the convex portion 331, and is adjacent to each other. Both the dike portions 91 in the convex portion 331 are not connected to each other. However, for the latter, if the distance between the end portions of both damming portions 601 is appropriately set, as shown in FIG. 7, the connection between both dyke portions 91 corresponding to these both damming portions 601; Alternatively, overlapping can be realized. This is based on the natural property that, in general, the size of the convex portion formed on the surface of the insulating film is one size larger than the size of a certain element that causes it.

以上述べたような、第1実施形態に係る有機EL装置によれば、次に述べるような効果が奏される。
(1) まず、堰止部601及び堤防部91の存在により、平坦化膜80の流出防止効果が奏される。特に、前述した堤防部91間の接続が果たされていれば、データ線6間の短絡を防止しながらもなお、当該効果をよりよく享受することが可能になる。
すなわち、図6及び図7に示すように、平坦化膜80は、周辺領域において、第4層間絶縁膜304の上、かつ、その膜端304Eを超えるようにして形成されることから、既に述べたように、凸部331に沿い且つ素子基板7の外へと向かって流出してくることになるが、堰止部601及び堤防部91は、その流出を堰き止める(図6の符号X1参照)。このように、第1実施形態では、平坦化膜80の流出が促進される部分について、その流出を抑制することが可能となっているのである。
このような効果は、比較例たる図8と対比すればより明瞭に把握される。図8では、堰止部601及び堤防部91が存在せず、平坦化膜80の流出の停止は、その自然的な硬化等を待つ以外にない。この場合、比較的広大な周辺領域を確保する必要が生じることになる。
第1実施形態によれば、このような不具合をこうむるおそれはないので、周辺領域の相対的な狭小化、即ちいわゆる額縁領域の狭小化を実現することができる。また、これにより装置全体の小型化を達成することができる。
As described above, the organic EL device according to the first embodiment has the following effects.
(1) First, due to the presence of the blocking portion 601 and the dike portion 91, the effect of preventing the flattening film 80 from flowing out is exhibited. In particular, if the connection between the bank portions 91 described above is achieved, it is possible to better enjoy the effect while preventing a short circuit between the data lines 6.
That is, as shown in FIGS. 6 and 7, the planarization film 80 is formed on the fourth interlayer insulating film 304 and beyond the film edge 304E in the peripheral region. As described above, it flows out along the convex portion 331 and toward the outside of the element substrate 7, but the damming portion 601 and the bank portion 91 block the outflow (see reference numeral X <b> 1 in FIG. 6). ). Thus, in the first embodiment, the outflow of the portion where the outflow of the planarization film 80 is promoted can be suppressed.
Such an effect can be understood more clearly when compared with FIG. 8 which is a comparative example. In FIG. 8, the dam portion 601 and the bank portion 91 do not exist, and the stop of the outflow of the planarizing film 80 is only waiting for its natural hardening or the like. In this case, it is necessary to secure a relatively large peripheral area.
According to the first embodiment, since there is no risk of suffering such a problem, it is possible to realize relative narrowing of the peripheral area, that is, so-called narrowing of the frame area. This also makes it possible to reduce the size of the entire apparatus.

(2) 第1実施形態では、堰止部601が、金属配線薄膜としてのデータ線6と同じ層として形成されているので、水分及び酸素の封止機能が比較的高い。すなわち、図6及び図7の符号“G”を付した矢印のように、有機EL装置の側端から進入してこようとする水分及び酸素の進入を抑制する。これにより、有機EL素子8の長寿命化が達成される。 (2) In the first embodiment, since the blocking portion 601 is formed as the same layer as the data line 6 as a metal wiring thin film, the sealing function of moisture and oxygen is relatively high. That is, as shown by the arrow with the sign “G” in FIGS. 6 and 7, the entry of moisture and oxygen entering from the side end of the organic EL device is suppressed. Thereby, the lifetime extension of the organic EL element 8 is achieved.

(3) この水分及び酸素の進入抑制の点に関連して、第1実施形態では、上においてその存在につき既に述べながら、未だその説明をしていない封止膜40が備えられている。
この封止膜40は、図3乃至図6に示すように、平坦化膜80の上に、素子基板7の面、とりわけ少なくとも平坦化膜80、並びに堰止部601及び堤防部91を覆うように形成されている。封止膜40は、例えばSiN(窒化珪素)、SiON(酸窒化珪素)、SiO、あるいは更にはAl(アルミナ)やTa(酸化タンタル)、TiO(酸化チタン)、更には他のセラミックス等から作られて好適である。
このような封止膜40は、有機EL素子8、ないしはその発光機能層18への水分及び酸素の進入を抑制する。したがって、これによっても有機EL素子8の長寿命化が達成される。
(3) In relation to the suppression of the ingress of moisture and oxygen, the first embodiment includes the sealing film 40 that has already been described above but has not been described yet.
As shown in FIGS. 3 to 6, the sealing film 40 covers the surface of the element substrate 7, particularly at least the planarizing film 80, and the damming portion 601 and the bank portion 91, on the planarizing film 80. Is formed. The sealing film 40 is made of, for example, SiN (silicon nitride), SiON (silicon oxynitride), SiO 2 , or even Al 2 O 3 (alumina), Ta 2 O 5 (tantalum oxide), TiO 2 (titanium oxide), Further, it is preferably made of other ceramics.
Such a sealing film 40 suppresses the ingress of moisture and oxygen into the organic EL element 8 or the light emitting functional layer 18. Therefore, the life of the organic EL element 8 can be extended also by this.

ところで、このような封止膜40は、前述した材料からして、比較的硬度が大きくなり、柔軟性に欠けることが多い。したがって、封止膜40があまりに大きな段差を跨ぐように成膜されると、当該段差を覆う部分においてクラック等が生じ易い。
この点、まず、第1実施形態では、封止膜40は平坦化膜80の上を覆うように形成されているので、そのような不具合をこうむるおそれは極めて低減されている。
とはいえ、前述の堤防部91は、平坦化膜80の流出を防止するために形成された凸部であるから、封止膜40が平坦化膜80の上に形成される以上、当該封止膜40は、この堤防部91の上をも覆うように形成されざるを得ない。
しかるに、第1実施形態においては、堤防部91の形成原因となる堰止部601は、比較的厚さの小さい金属配線薄膜としてのデータ線6と同じ層として形成されているのである。したがって、堤防部91の高さも、例えば第4層間絶縁膜304と同じ層として、前記堰止部601と同趣旨の堰止部を形成する等という場合に比べて、抑制される。
これにより、封止膜40は、比較的小さな段差を跨ぐだけで済み、したがって、当該封止膜40には前記クラック等が生じ難くなっているのである。
By the way, such a sealing film 40 has a comparatively large hardness and often lacks flexibility from the materials described above. Therefore, if the sealing film 40 is formed so as to stride over a very large step, cracks or the like are likely to occur in a portion covering the step.
In this regard, first, in the first embodiment, since the sealing film 40 is formed so as to cover the planarizing film 80, the risk of suffering such a problem is extremely reduced.
However, since the above-described levee portion 91 is a convex portion formed to prevent the planarization film 80 from flowing out, the sealing film 40 is formed as long as the sealing film 40 is formed on the planarization film 80. The stop film 40 is inevitably formed so as to cover the embankment 91 as well.
However, in the first embodiment, the damming portion 601 that causes the formation of the dyke portion 91 is formed as the same layer as the data line 6 as a metal wiring thin film having a relatively small thickness. Therefore, the height of the bank portion 91 is also suppressed as compared with the case where a blocking portion having the same meaning as the blocking portion 601 is formed as the same layer as the fourth interlayer insulating film 304, for example.
As a result, the sealing film 40 only needs to straddle a relatively small level difference, and therefore the crack or the like is hardly generated in the sealing film 40.

このようなことから、第1実施形態に係る堰止部601及び堤防部91は、上記(1)の平坦化膜80の流出防止効果を主たる効果として奏しながらも、上記(2)の効果に加え、いま述べた封止膜40の保全機能と相俟って、酸素及び水分の進入抑制という効果をも奏するのである。   For this reason, the damming portion 601 and the embankment portion 91 according to the first embodiment achieve the effect of the above (2) while the main effect is the outflow prevention effect of the planarization film 80 of the above (1). In addition, coupled with the maintenance function of the sealing film 40 just described, the effect of suppressing the ingress of oxygen and moisture is also exhibited.

なお、封止膜40は、例えば窒化珪素と酸窒化珪素の2層構造や、ITOと酸窒化珪素など上述した珪素化合物を含みつつ異なる材料によって積層した構造としてもよい。このように無機化合物からなる下地層を形成することで、密着性を向上させたり、応力を緩和したり、珪素化合物からなるガスバリア層の緻密性を向上させることができる。
また、上述の図3等に示した第2層間絶縁膜302は、その下層側にSiN膜、上層側にアクリル樹脂膜という積層構造をもつ場合がある。これは、前者に、第2トランジスタ9の半導体層1等の水素の離脱防止機能を、後者に、画素電極13の形成面を平坦化する機能をもたせること、等を目的とする。この場合、その第2層間絶縁膜302の上層は、アクリル樹脂という有機絶縁膜から作られることになるので、酸素及び水分の封止機能は若干劣ることになる。
そこで、このような場合は、例えば図9に示すように、当該第2層間絶縁膜302(あるいは、少なくともその上層たるアクリル樹脂膜)については、その膜端302Eが、図6の第4層間絶縁膜304の膜端304Eの位置と一致するように形成されるとよい。このようにすれば、堤防部91は、金属膜と同一の層で形成された堰止部601及びその上層に形成された無機絶縁膜たる第3層間絶縁膜303から形作られることになり、酸素及び水分の封止機能を好適に維持することが可能となる。
以上のことから、一般的にいえば、本発明にいう「堰止部」は、「有機絶縁膜よりも下の層で形成されている」ことが好ましいということができる。これが満たされていれば、当該有機絶縁膜に係る、前述のような膜端調整によって、酸素及び水分の封止機能を好適に維持することが可能となるからである。
Note that the sealing film 40 may have a two-layer structure of, for example, silicon nitride and silicon oxynitride, or a structure in which the above silicon compound such as ITO and silicon oxynitride is included and stacked with different materials. By forming the base layer made of an inorganic compound in this way, adhesion can be improved, stress can be relaxed, and the denseness of the gas barrier layer made of a silicon compound can be improved.
In addition, the second interlayer insulating film 302 shown in FIG. 3 or the like described above may have a stacked structure of a SiN film on the lower layer side and an acrylic resin film on the upper layer side. The purpose of this is to provide the former with the function of preventing the separation of hydrogen of the semiconductor layer 1 and the like of the second transistor 9 and the latter with the function of flattening the formation surface of the pixel electrode 13. In this case, since the upper layer of the second interlayer insulating film 302 is made of an organic insulating film called acrylic resin, the function of sealing oxygen and moisture is slightly inferior.
Therefore, in such a case, for example, as shown in FIG. 9, the film end 302E of the second interlayer insulating film 302 (or at least the acrylic resin film as the upper layer) is formed at the fourth interlayer insulating film of FIG. It may be formed so as to coincide with the position of the film end 304E of the film 304. In this way, the bank portion 91 is formed from the damming portion 601 formed of the same layer as the metal film and the third interlayer insulating film 303 which is an inorganic insulating film formed on the dam portion 601. In addition, the moisture sealing function can be suitably maintained.
From the above, generally speaking, it can be said that the “damming portion” in the present invention is preferably “formed of a layer below the organic insulating film”. This is because, if this is satisfied, the sealing function of oxygen and moisture can be suitably maintained by adjusting the film edge as described above related to the organic insulating film.

<第2実施形態>
以下では、本発明の第2の実施の形態に係る有機EL装置について、図10を参照しながら説明する。
なお、この第2実施形態及び後述する第3以降の各実施形態における有機EL装置の基本的な構成は、第1実施形態の有機EL装置と実質的に同じである。したがって、以下では、両者で共通する部分に関する図面の符号は共通に用いることとし、また、その説明は省略することとする。
Second Embodiment
Hereinafter, an organic EL device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the organic EL device in the second embodiment and the third and subsequent embodiments described later is substantially the same as the organic EL device of the first embodiment. Therefore, in the following, the reference numerals of the drawings related to the parts common to both are used in common, and the description thereof is omitted.

第2実施形態の有機EL装置は、図10に示すように、前記第1実施形態の堰止部601とは異なる形態の堰止部602を持つ。
この堰止部602は、堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていること、データ線6の延在方向に直交する方向に延在すること、各データ線6に応じて個別に形成されること、それら各堰止部602は相互に電気的に接続されないこと、は同様である。
As shown in FIG. 10, the organic EL device of the second embodiment has a damming portion 602 having a form different from the damming portion 601 of the first embodiment.
The damming portion 602 is formed as the same layer as the data line 6 as compared with the damming portion 601, extends in a direction orthogonal to the extending direction of the data line 6, and each data line 6 It is the same that they are individually formed according to the above and that the respective damming portions 602 are not electrically connected to each other.

ただ、この堰止部602は、図10に示すように、相隣接するデータ線6の両堰止部602の形成位置がお互い異なっている。加えて、1本1本のデータ線6を端から順に見ていくと、それら各々の堰止部602は、いわば交互に段違いに並んでいくような形態をとるように形成されている。つまり、図10中最左端のデータ線6の堰止部602は、平面視した場合における平坦化膜80の輪郭線により近く、その右隣のデータ線6の堰止部602はより遠く、更に右隣のデータ線6(図10中最右端のデータ線6)の堰止部602はより近く、というようになっているのである。このとき、図10中最左端のデータ線6、及び、図中最右端のデータ線6の各堰止部602の形成位置は同じである。   However, as shown in FIG. 10, in this damming portion 602, the formation positions of both damming portions 602 of the adjacent data lines 6 are different from each other. In addition, when each of the data lines 6 is viewed in order from the end, the respective damming portions 602 are formed so as to be alternately arranged in steps. That is, the damming portion 602 of the leftmost data line 6 in FIG. 10 is closer to the contour line of the planarizing film 80 in plan view, the damming portion 602 of the data line 6 adjacent to the right is farther, The damming portion 602 of the right data line 6 (the rightmost data line 6 in FIG. 10) is closer. At this time, the formation positions of the respective blocking portions 602 of the leftmost data line 6 in FIG. 10 and the rightmost data line 6 in the figure are the same.

また、各データ線6の堰止部602間には、次の特徴もある。すなわち、あるデータ線6の堰止部602(以下、「第1堰止部602」ということがある。)と、それに隣接するデータ線6の堰止部602(以下、「第2堰止部602」ということがある。)とは、それら2本のデータ線6間に、且つ、当該データ線6の延在方向に沿って平行に延びる基準直線と交わるようになっている。図10では、図中最右端のデータ線6と図中真ん中のデータ線6との間に、二点差線でもって、基準直線NLの一例が表示されている。
要するに、この場合、データ線6の延在方向に沿ってみれば、第1堰止部602と第2堰止部602とは重なり合うようになっているのである。
これにより、これら第1堰止部602及び第2堰止部602は、いわゆるラビリンスシールのようなものを構成する、とみることができる。すなわち、仮に、平坦化膜80が、これら第1及び第2堰止部602を超えて素子基板7の外方へと向けて流出する場合(第1堰止部602の方が、第2堰止部602よりも、平坦化膜80の輪郭線に近いものとする。)を想定すると、当該平坦化膜80は、まず、第1堰止部602の図中上面でその流動が阻止され、第2に、これが第1堰止部602の端部を回り込んだとしても、第2堰止部602の図中上面でその流動が阻止され、第3に、そこから先に進もうとすれば、第1堰止部602及び第2堰止部602間の隘路を通じ、第2堰止部602の端部に到達しなければならない、というようである。
Further, the following features are also provided between the blocking portions 602 of the data lines 6. That is, a damming portion 602 of a certain data line 6 (hereinafter also referred to as “first damming portion 602”) and a damming portion 602 of the data line 6 adjacent thereto (hereinafter referred to as “second damming portion”). 602 ") intersects a reference straight line extending in parallel between the two data lines 6 and along the extending direction of the data lines 6. In FIG. 10, an example of the reference straight line NL is displayed between the rightmost data line 6 in the drawing and the middle data line 6 in the drawing with a two-point difference line.
In short, in this case, the first damming portion 602 and the second damming portion 602 overlap each other when viewed along the extending direction of the data line 6.
Accordingly, it can be considered that the first damming portion 602 and the second damming portion 602 constitute a so-called labyrinth seal. In other words, if the planarization film 80 flows out of the element substrate 7 beyond the first and second damming portions 602 (the first damming portion 602 is the second damming portion). Assuming that the flattening film 80 is closer to the contour line of the flattening film 80 than the stop portion 602, the flow of the flattening film 80 is first blocked at the upper surface of the first damming portion 602 in the figure, Secondly, even if this wraps around the end of the first damming portion 602, the flow is blocked at the upper surface of the second damming portion 602 in the drawing, and thirdly, it is attempted to move forward from there. For example, the end of the second damming portion 602 must be reached through a bottleneck between the first damming portion 602 and the second damming portion 602.

このような第2実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第2実施形態においても、堰止部602は、前述したように、堰止部601との対比において、データ線6と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。
なお、図10においても、図7に示したのと同様、堰止部602の上には、第3層間絶縁膜303が形成されており、その表面上然るべき位置に、堤防部が形成されていることに変わりはないが、その図示は省略している。かかる事項は、後に参照する図11、図13、図14、図15、図17、図18、及び図19においても同じである。
It is apparent that the second embodiment also has an effect that is essentially the same as the effect of the first embodiment. This is because, in this second embodiment as well, as described above, the damming portion 602 is formed as the same layer as the data line 6 in comparison with the damming portion 601. Because it has.
In FIG. 10, as shown in FIG. 7, the third interlayer insulating film 303 is formed on the damming portion 602, and the bank portion is formed at an appropriate position on the surface. Although not changed, the illustration is omitted. This also applies to FIGS. 11, 13, 14, 15, 17, 18, and 19 to be referred to later.

しかも、この第2実施形態では、第1実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、第2実施形態では、堰止部602が、上述のように、いわば「段違い」に並んでいるから、例えば、平坦化膜80の輪郭線により近い、図10中真ん中のデータ線6の堰止部602が第1段の抑止を行い、その後方に控えている、図中残る2本のデータ線6の堰止部602が第2段の抑止を行う、というような流出防止作用が期待できるためである(図10中の矢印参照)。   Moreover, in the second embodiment, the effect of preventing the outflow of the planarizing film 80 can be more effectively achieved than in the case of the first embodiment. This is because, in the second embodiment, since the blocking portions 602 are arranged in a “step difference” as described above, for example, the data line in the middle in FIG. 10 that is closer to the contour line of the planarization film 80. 6 damming portion 602 performs the first stage deterrence and keeps behind it, and the remaining two data line 6 damming parts 602 in the figure prevent the second stage deterrence. This is because the effect can be expected (see the arrow in FIG. 10).

加えて、第2実施形態では、堰止部602がラビリンスシールのようなものを構成するので、素子基板7の外方へと向けて流出しようとする平坦化膜80は、比較的複雑な経路を通じない限り、堰止部602の障害を越えて外方へと流れ出すことができないようになっている。要するに、第2実施形態では、平坦化膜80の流出防止効果が極めて実効的に奏されるのである。   In addition, in the second embodiment, the damming portion 602 forms a labyrinth seal, so that the planarization film 80 that flows out toward the outside of the element substrate 7 has a relatively complicated path. Unless it passes through, it cannot flow out beyond the obstacle of the blocking portion 602. In short, in the second embodiment, the effect of preventing the flattening film 80 from flowing out is very effectively achieved.

<第3実施形態>
以下では、本発明の第3の実施の形態に係る有機EL装置について、図11を参照しながら説明する。
第3実施形態の有機EL装置は、図11に示すように、前記第1実施形態の堰止部601と同じ堰止部601を備えているが、これに加えて、補助堰止部603を持つ。
この補助堰止部603は、堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていることは同様である。
<Third Embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 11, the organic EL device of the third embodiment includes the same damming portion 601 as the damming portion 601 of the first embodiment, but in addition to this, an auxiliary damming portion 603 is provided. Have.
It is the same that the auxiliary damming portion 603 is formed as the same layer as the data line 6 as compared with the damming portion 601.

ただ、この補助堰止部603は、図11に示すように、相隣接するデータ線6についての2つの堰止部601間の隙間を埋めるように、当該相隣接するデータ線6間に形成されている。補助堰止部603は、これら相隣接するデータ線6、及びそれら各々の堰止部601とは電気的に接続されない。
また、補助堰止部603は、堰止部601とほぼ平行となるように形成されている。つまり、補助堰止部603の図中両端を仮に延長していけば、その延長部分は、前記相隣接するデータ線6と直角に交わることになる。
さらに、1つ1つの補助堰止部603の形成位置は、データ線6の延在方向の観点からみて同じである。
However, the auxiliary damming portion 603 is formed between the adjacent data lines 6 so as to fill a gap between the two damming portions 601 for the adjacent data lines 6 as shown in FIG. ing. The auxiliary damming portion 603 is not electrically connected to the adjacent data lines 6 and the respective damming portions 601.
The auxiliary damming portion 603 is formed so as to be substantially parallel to the damming portion 601. That is, if both ends of the auxiliary damming portion 603 in the drawing are temporarily extended, the extended portions intersect the adjacent data lines 6 at right angles.
Further, the position where each auxiliary damming portion 603 is formed is the same from the viewpoint of the extending direction of the data line 6.

このような第3実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第3実施形態においても、第1実施形態と全く同じ堰止部601が備えられているからである。   Obviously, the third embodiment also has an effect that is essentially the same as that of the first embodiment. This is because the third embodiment is also provided with the same damming portion 601 as in the first embodiment.

しかも、この第3実施形態では、第1実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、第3実施形態では、補助堰止部603が形成されているので、例えば、平坦化膜80の輪郭線により近い、堰止部601が第1段の抑止を行い、その後方に控えている、補助堰止部603が第2段の抑止を行う、というような流出防止作用が期待できるためである(図11中の矢印参照)。つまり、第3実施形態では、第1実施形態における堰止部601間の隙間を抜けて流出してくるような平坦化膜80の流動動作を堰き止めることが可能となるのである。   In addition, in the third embodiment, the effect of preventing the outflow of the planarizing film 80 can be more effectively achieved than in the case of the first embodiment. This is because, in the third embodiment, since the auxiliary damming portion 603 is formed, for example, the damming portion 601 that is closer to the contour line of the planarization film 80 performs the first step suppression, and behind it. This is because it is possible to expect an outflow prevention action such that the auxiliary damming portion 603 performs the second-stage deterrence (see the arrow in FIG. 11). That is, in the third embodiment, the flow operation of the planarizing film 80 that flows out through the gap between the blocking portions 601 in the first embodiment can be blocked.

加えて、この第3実施形態でも、前記第2実施形態と同様、堰止部601及び補助堰止部603がいわゆるラビリンスシールのようなものを構成するので、素子基板7の外方へと向けて流出しようとする平坦化膜80は、比較的複雑な経路を通じない限り、これら堰止部601及び補助堰止部603の障害を越えて外方へと流れ出すことができないようになっている。このように、第3実施形態でも、平坦化膜80の流出防止効果が極めて実効的に奏されるのである。   In addition, also in the third embodiment, since the damming portion 601 and the auxiliary damming portion 603 form a so-called labyrinth seal as in the second embodiment, the element substrate 7 is directed outward. The flattening film 80 which is about to flow out cannot flow outward beyond the obstacles of the damming portion 601 and the auxiliary damming portion 603 unless they pass through a relatively complicated path. Thus, also in the third embodiment, the effect of preventing the flattening film 80 from flowing out is very effectively achieved.

<第4実施形態>
以下では、本発明の第4の実施の形態に係る有機EL装置について、図12及び図13を参照しながら説明する。
第4実施形態の有機EL装置は、図12及び図13に示すように、前記第1実施形態の堰止部601と同じ機能を果たす堰止部604を持つ。
この堰止部604は、堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていることは同様である。
<Fourth embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIGS. 12 and 13, the organic EL device of the fourth embodiment has a damming portion 604 that performs the same function as the damming portion 601 of the first embodiment.
It is the same that the damming portion 604 is formed as the same layer as the data line 6 in contrast to the damming portion 601.

ただ、この堰止部604は、図12及び図13に示すように、データ線6の各々について形成されているのではなく、走査線3の各々について形成されている。
走査線3は、前述したデータ線6が凸部331の形成原因になるという関係と同様、図12に示す凸部332の形成原因となる。すなわち、走査線3は、既に参照した図1あるいは図5等に示すように、マトリクス状に配列された複数の有機EL素子8の各行に対応するように、複数配列されているから、凸部332もまた、複数配列されることになる。また、走査線3は、前述した、走査線駆動回路103A及び103B、あるいは接続端子等との電気的接続のため、画像表示領域7aから、その周辺領域にわたって延在する。したがって、複数の凸部332もまた、平面視した場合における平坦化膜80の輪郭線と交わりながら、画像表示領域7aから、その周辺領域にわたって延在することになる。
結局、平坦化膜80の流出現象は、この走査線3に起因する凸部332に沿っても生じ得ることになる。
However, the blocking portion 604 is not formed for each of the data lines 6, but is formed for each of the scanning lines 3, as shown in FIGS.
The scanning line 3 causes the formation of the convex portion 332 shown in FIG. 12, similarly to the relationship that the data line 6 causes the formation of the convex portion 331 described above. That is, as shown in FIG. 1 or FIG. 5 or the like already referred to, a plurality of the scanning lines 3 are arranged so as to correspond to each row of the plurality of organic EL elements 8 arranged in a matrix. A plurality of 332 are also arranged. Further, the scanning line 3 extends from the image display area 7a to the peripheral area for electrical connection with the above-described scanning line driving circuits 103A and 103B or connection terminals. Therefore, the plurality of convex portions 332 also extend from the image display region 7a to the peripheral region while intersecting with the contour line of the planarizing film 80 when seen in a plan view.
Eventually, the outflow phenomenon of the planarizing film 80 can also occur along the convex portion 332 caused by the scanning line 3.

そこで、第4実施形態に係る有機EL装置では、そのような平坦化膜80の流出を防止すべく、複数の走査線3のそれぞれについて、図12及び図13に示すように、堰止部604(以下、「走査線対応堰止部604」という。)が形成される。
この走査線対応堰止部604は、走査線3の延在方向と交差するように形成される。第4実施形態では特に、走査線対応堰止部604は、走査線3の延在方向に直交する方向に延在する。
また、走査線対応堰止部604は、図13に示すように各走査線3に応じて個別に形成される。
Therefore, in the organic EL device according to the fourth embodiment, in order to prevent the outflow of the planarizing film 80, as shown in FIG. 12 and FIG. (Hereinafter referred to as “scanning line damming portion 604”).
The scanning line corresponding blocking portion 604 is formed so as to intersect the extending direction of the scanning line 3. Particularly in the fourth embodiment, the scanning line corresponding blocking portion 604 extends in a direction orthogonal to the extending direction of the scanning line 3.
Further, the scanning line corresponding blocking portions 604 are individually formed according to the respective scanning lines 3 as shown in FIG.

このような走査線対応堰止部604及び走査線3の上には、第2層間絶縁膜302が形成され、更にその上に第3層間絶縁膜303が形成される(走査線3については第1層間絶縁膜301も形成される)ので、該第3層間絶縁膜303の表面にはそれぞれに起因した凸部が形成される。後者については、上述した凸部332がそれに該当するが、前者については、図12に示すように、堤防部94がそれに該当する。この堤防部94は、基本的には、走査線対応堰止部604がもつ形状的特質をいわば受け継ぐから、凸部332の延在方向と直交するように延在することになり、また、相隣接し合う凸部332における両堤防部94は相互に接続されない。ただし、堰止部604の端部間の距離を適当に設定しておけば、これら両堰止部604に対応する両堤防部94間の接続、あるいは重なり合いを実現することができるのは、前記第1実施形態と同様である。   A second interlayer insulating film 302 is formed on the scanning line corresponding damming portion 604 and the scanning line 3, and a third interlayer insulating film 303 is further formed on the second interlayer insulating film 302. Since the first interlayer insulating film 301 is also formed), a convex portion due to each is formed on the surface of the third interlayer insulating film 303. For the latter, the above-described convex portion 332 corresponds to that, but for the former, as shown in FIG. 12, the embankment portion 94 corresponds to that. This levee portion 94 basically inherits the shape characteristic of the scanning line corresponding damming portion 604, so that it extends so as to be orthogonal to the extending direction of the convex portion 332. The two bank portions 94 in the adjacent convex portion 332 are not connected to each other. However, if the distance between the end portions of the damming portion 604 is appropriately set, the connection between the two levee portions 94 corresponding to the both damming portions 604 or the overlapping can be realized. This is the same as in the first embodiment.

このような第4実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第4実施形態においても、走査線対応堰止部604(あるいは、これと走査線3との関係)は、前述したように、堰止部601(あるいは、これとデータ線6との関係)との対比において、データ線6と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。
特に、第4実施形態で特徴的なのは、データ線6に沿った平坦化膜80の流出が防止されるのではなく、走査線3に沿ったそれが防止されることにある。
It is apparent that the fourth embodiment also has the effects that are essentially the same as the effects achieved by the first embodiment. This is because, in the fourth embodiment, the scanning line corresponding damming portion 604 (or the relationship between this and the scanning line 3) is the damming portion 601 (or this and the data line 6) as described above. This is because it has many common matters such as being formed as the same layer as the data line 6.
In particular, the fourth embodiment is characterized in that the outflow of the planarization film 80 along the data line 6 is not prevented, but it is prevented along the scanning line 3.

<第5実施形態>
以下では、本発明の第5の実施の形態に係る有機EL装置について、図14を参照しながら説明する。
第5実施形態の有機EL装置は、図14に示すように、前記第4実施形態の走査線対応堰止部604とほぼ同じ機能を果たす走査線対応堰止部605を持つ。
ただ、この走査線対応堰止部605の1つ1つは、図14に示すように、3本の走査線3(以下、「走査線群3G」という。)を跨ぐように形成されている。加えて、この走査線群3Gを一単位として、その端から順にみていくと、各走査線群3Gの各々に対応する走査線対応堰止部605は、いわば交互に段違いに並んでいくような形態をとるように形成されている。このことが、前記第2実施形態とパラレルの関係にあることは明白である。
また、図14と図10とを対比すれば明らかなように、第2実施形態で述べた基準直線に関わる特徴が、各走査線群3の堰止部605間においても同様に妥当する。つまり、相隣接する走査線群3それぞれの走査線対応堰止部605は、走査線3の延在方向に沿ってみれば、相互に重なり合うようになっているのである。したがって、第5実施形態に係る走査線対応堰止部605もまた、いわゆるラビリンスシールのようなものを構成する、とみることができる。
<Fifth Embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 14, the organic EL device of the fifth embodiment has a scanning line corresponding damming portion 605 that performs substantially the same function as the scanning line corresponding damming portion 604 of the fourth embodiment.
However, each of the scanning line corresponding blocking portions 605 is formed so as to straddle three scanning lines 3 (hereinafter referred to as “scanning line group 3G”) as shown in FIG. . In addition, when the scanning line group 3G is taken as a unit and viewed from the end in order, the scanning line corresponding damming portions 605 corresponding to each of the scanning line groups 3G are alternately arranged in steps. It is formed to take a form. It is clear that this is in a parallel relationship with the second embodiment.
Further, as is clear from a comparison between FIG. 14 and FIG. 10, the features related to the reference straight line described in the second embodiment are also valid between the blocking portions 605 of each scanning line group 3. That is, the scanning line corresponding blocking portions 605 of the scanning line groups 3 adjacent to each other overlap each other when viewed along the extending direction of the scanning lines 3. Therefore, it can be considered that the scanning line corresponding blocking portion 605 according to the fifth embodiment also constitutes a so-called labyrinth seal.

このような第5実施形態によっても、前述の第4実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第5実施形態においても、走査線対応堰止部605は、当該走査線対応堰止部605が複数の走査線3を一組として形成されている点を除いて、前述した走査線対応堰止部604と殆ど同じだからである。   It is apparent that the fifth embodiment also has the effects that are essentially the same as the effects of the fourth embodiment. This is because, also in the fifth embodiment, the scanning line corresponding damming portion 605 is the same as that described above except that the scanning line corresponding damming portion 605 is formed as a set of a plurality of scanning lines 3. This is because it is almost the same as the scanning line corresponding block 604.

しかも、この第5実施形態では、第4実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、走査線対応堰止部605は、3本の走査線3を一組とした走査線群3Gの各々について形成されているので、当該走査線対応堰止部605に起因して形成される堤防部は、少なくとも、その3本の走査線3に関して、一続きの、あるいは一体的な、いわば壁の如き形態を呈することになるからである。
なお、走査線対応堰止部605が、上述のように複数の走査線3を跨ぐように形成されたとしても、これら走査線対応堰止部605及び走査線3間には第1層間絶縁膜301が存在し、両者は別の層に位置する金属配線薄膜として形成されることから(図12参照)、第1実施形態等とは異なり、両者間における電気的な短絡、更には複数の走査線3間の電気的な短絡という問題は生じない。
In addition, in the fifth embodiment, the effect of preventing the outflow of the planarizing film 80 can be more effectively achieved than in the case of the fourth embodiment. This is because the scanning line corresponding damming portion 605 is formed for each of the scanning line groups 3G including the three scanning lines 3 as a set, and thus formed due to the scanning line corresponding damming portion 605. This is because the levee portion to be formed has a continuous or integrated shape like a wall, at least with respect to the three scanning lines 3.
Even if the scanning line corresponding blocking portion 605 is formed so as to straddle the plurality of scanning lines 3 as described above, the first interlayer insulating film is interposed between the scanning line corresponding blocking portions 605 and the scanning lines 3. 301, both of which are formed as metal wiring thin films located in different layers (see FIG. 12), unlike the first embodiment, etc., an electrical short circuit between them and a plurality of scannings The problem of an electrical short between the lines 3 does not occur.

なお、以上に述べた第4及び第5実施形態のように、複数の走査線3のそれぞれについて、データ線6と同じ層として形成される走査線対応堰止部(604及び605等)を備える形態では、その走査線対応堰止部(604及び605等)と同じ層として、前述した第1から第3実施形態に係る堰止部601、602及び補助堰止部603を同時に形成することが可能である。図15では、第5実施形態の3本の走査線3を跨ぐ走査線対応堰止部605と、第2実施形態の「段違い」の堰止部602とが同時に形成される場合が例示的に示されている。
このような、いわば合わせ技形態によれば、結局、複数の走査線3のそれぞれに関連する平坦化膜80の流出が防止されるとともに、複数のデータ線6のそれぞれに関連する平坦化膜80の流出も防止されることになる。
In addition, as in the fourth and fifth embodiments described above, each of the plurality of scanning lines 3 includes a scanning line corresponding blocking portion (604, 605, etc.) formed as the same layer as the data line 6. In the embodiment, the dam portions 601 and 602 and the auxiliary dam portion 603 according to the first to third embodiments described above may be simultaneously formed as the same layer as the scanning line corresponding dam portions (604 and 605, etc.). Is possible. In FIG. 15, the case where the scanning line corresponding damming portion 605 straddling the three scanning lines 3 of the fifth embodiment and the “step difference” damming portion 602 of the second embodiment are formed simultaneously are exemplified. It is shown.
According to such a so-called matching technique, the outflow of the flattening film 80 associated with each of the plurality of scanning lines 3 is prevented, and the flattening film 80 associated with each of the plurality of data lines 6 is eventually prevented. This also prevents the outflow.

<第6実施形態>
以下では、本発明の第6の実施の形態に係る有機EL装置について、図16を参照しながら説明する。
第6実施形態の有機EL装置は、図16に示すように、前記第1実施形態の堰止部601とほぼ同じ機能を果たす堰止部706を持つ。
この堰止部706は、データ線6の延在方向に直交する方向に延在すること、各データ線6に応じて個別に形成されること、は同様である。
<Sixth Embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 16, the organic EL device of the sixth embodiment has a damming portion 706 that performs substantially the same function as the damming portion 601 of the first embodiment.
This damming portion 706 extends in a direction orthogonal to the extending direction of the data lines 6 and is formed individually according to each data line 6.

ただ、この堰止部706は、図16に示すように、データ線6と同じ層として形成されているのではなく、図3等に示した反射層34と同じ層として形成されている。反射層34は、図3等に示したように、第2層間絶縁膜302の上に形成されるので、堰止部706もまた同様の位置付けを持つ。他方、データ線6は、その第2層間絶縁膜302の下に形成される。したがって、堰止部706とデータ線6との間は電気的に絶縁されることになる。
とはいえ、堰止部706も、金属薄膜たる反射層34と同じ層として形成されるという意味においては、第1実施形態等の堰止部601と何ら変わりはない。
また、このような堰止部706の上には、第3層間絶縁膜303が形成され、その表面には当該堰止部706に起因した堤防部96が形成される。このことと、第1実施形態の場合に堰止部601が堤防部91を形成することとの間にも、本質的な相違はない。
However, the blocking portion 706 is not formed as the same layer as the data line 6 as shown in FIG. 16, but is formed as the same layer as the reflective layer 34 shown in FIG. Since the reflective layer 34 is formed on the second interlayer insulating film 302 as shown in FIG. 3 and the like, the damming portion 706 also has the same position. On the other hand, the data line 6 is formed under the second interlayer insulating film 302. Therefore, the damming portion 706 and the data line 6 are electrically insulated.
However, the damming portion 706 is also the same as the damming portion 601 in the first embodiment in the sense that it is formed as the same layer as the reflective layer 34 that is a metal thin film.
In addition, a third interlayer insulating film 303 is formed on such a damming portion 706, and a dike portion 96 resulting from the damming portion 706 is formed on the surface thereof. There is no essential difference between this and the formation of the bank portion 91 by the dam portion 601 in the case of the first embodiment.

このような第6実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第6実施形態においても、堰止部706は、前述したように、堰止部601との対比において、金属薄膜と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。   It is apparent that the sixth embodiment also has the effects that are essentially the same as the effects of the first embodiment. This is because, in this sixth embodiment as well, as described above, the damming portion 706 has many common matters such as being formed as the same layer as the metal thin film in comparison with the damming portion 601. Because.

しかも、この第6実施形態では、前述の第1実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、堰止部706は上述のようにデータ線6とは別の層に形成されることから、当該堰止部706は、前記第4及び第5実施形態における走査線対応堰止部604及び605と同様の考え方に基づき、複数のデータ線6を跨ぐように形成され得ることになるからである。これにより、一体的な壁の如き堤防部が形成され得ることになる。   Moreover, in the sixth embodiment, the effect of preventing the planarization film 80 from flowing out can be more effectively achieved than in the case of the first embodiment described above. This is because the damming portion 706 is formed in a layer different from the data line 6 as described above, and therefore the damming portion 706 is the scanning line corresponding damming portion in the fourth and fifth embodiments. This is because it can be formed so as to straddle a plurality of data lines 6 based on the same concept as in 604 and 605. Thereby, an embankment part like an integral wall can be formed.

<第7実施形態>
以下では、本発明の第7の実施の形態に係る有機EL装置について、図17を参照しながら説明する。
第7実施形態の有機EL装置は、図17に示すように、前記第1実施形態の堰止部601とは異なる形態の堰止部607を持つ。
この堰止部607は、第1実施形態における堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていること、データ線6の延在方向に交差する部分をもつこと、各データ線6に応じて個別に形成されること、それら各堰止部602は相互に電気的に接続されないこと、は同様である。
<Seventh embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 17, the organic EL device of the seventh embodiment has a damming portion 607 having a form different from the damming portion 601 of the first embodiment.
The damming portion 607 is formed as the same layer as the data line 6 as compared with the damming portion 601 in the first embodiment, has a portion intersecting with the extending direction of the data line 6, It is the same that they are individually formed according to the data line 6 and that the respective damming portions 602 are not electrically connected to each other.

ただ、この堰止部607は、図17に示すように、平面視して楔形形状をもつ。この楔形形状をもつ堰止部607(以下、「楔形堰止部607」という。)は、より詳細には、データ線6に斜めに交差する第1斜辺部と、当該データ線6に関してこの第1斜辺部と形状的に対称的関係をもちながら当該データ線6に斜めに交差する第2斜辺部とをもつ。第1及び第2斜辺部それぞれの一端は、データ線6上で交わっており、当該楔形堰止部607の尖頭部分を形作る。他方、第1及び第2斜辺部それぞれの他端は、相互に離反する方向に延びる。
つまり、楔形堰止部607は、前記尖頭部分とは反対側の部分を平坦化膜80の輪郭線に向けるようにして形成されている。これにより、その反対側の部分は、データ線6に沿って流出してきた平坦化膜80を受け入れる開口部として機能する。また、前記第1斜辺部と前記第2斜辺部とによって囲まれた空間は、前記開口部を通じて流入してくる平坦化膜80を受け止める受止部として機能する。
However, the blocking portion 607 has a wedge shape in plan view as shown in FIG. More specifically, the wedge-shaped damming portion 607 (hereinafter referred to as “wedge-shaped damming portion 607”) has a first oblique side portion that obliquely intersects the data line 6 and the data line 6 with respect to the first oblique side portion. It has a second oblique side that obliquely intersects the data line 6 while having a symmetrical relationship with the one oblique side. One end of each of the first and second oblique sides intersects on the data line 6 and forms a pointed portion of the wedge-shaped damming portion 607. On the other hand, the other ends of the first and second oblique sides extend in directions away from each other.
That is, the wedge-shaped damming portion 607 is formed so that the portion on the opposite side to the pointed portion is directed to the contour line of the planarizing film 80. As a result, the portion on the opposite side functions as an opening for receiving the planarizing film 80 flowing out along the data line 6. The space surrounded by the first oblique side and the second oblique side functions as a receiving part for receiving the planarizing film 80 flowing in through the opening.

このような第7実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第7実施形態においても、楔形堰止部607は、前述したように、堰止部601との対比において、データ線6と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。   It is apparent that the seventh embodiment also has the effects that are essentially the same as the effects achieved by the first embodiment. This is because, in this seventh embodiment as well, as described above, the wedge-shaped damming portion 607 is formed as the same layer as the data line 6 in comparison with the damming portion 601. Because it has.

しかも、この第7実施形態では、第1実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、第7実施形態では、楔形堰止部607は、上述のように開口部及び受止部として機能する部分をもっているので、流出してきた平坦化膜80の一定量を保持することができるからである。これにより、比較的多めに平坦化膜80が流出してきたとしても、その進行は、楔形堰止部607が形成されている位置で食い止められ得ることになる。   Moreover, in the seventh embodiment, the effect of preventing the outflow of the planarizing film 80 can be more effectively achieved than in the case of the first embodiment. This is because in the seventh embodiment, the wedge-shaped damming portion 607 has a portion that functions as an opening and a receiving portion as described above, so that a certain amount of the flattening film 80 that has flowed out can be retained. Because it can. As a result, even if the flattening film 80 flows out relatively much, the progress can be stopped at the position where the wedge-shaped damming portion 607 is formed.

<第8実施形態>
以下では、本発明の第8の実施の形態に係る有機EL装置について、図18を参照しながら説明する。
第8実施形態の有機EL装置は、図18に示すように、前記第1実施形態の堰止部601とは異なる形態の堰止部608を持つ。
この堰止部608は、第1実施形態における堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていること、データ線6の延在方向に直交する部分をもつこと、各データ線6に応じて個別に形成されること、それら各堰止部602は相互に電気的に接続されないこと、は同様である。
<Eighth Embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 18, the organic EL device of the eighth embodiment has a damming portion 608 having a form different from the damming portion 601 of the first embodiment.
The damming portion 608 is formed as the same layer as the data line 6 as compared with the damming portion 601 in the first embodiment, has a portion orthogonal to the extending direction of the data line 6, It is the same that they are individually formed according to the data line 6 and that the respective damming portions 602 are not electrically connected to each other.

ただ、この堰止部608は、図18に示すように、平面視してΠ字状の形状をもつ。このΠ字状の形状をもつ堰止部608(以下、「Π字状堰止部608」という。)は、より詳細には、データ線6に直交する部分である直交辺部と、当該直交辺部の両端からデータ線6の延在方向に沿って延びる2つの延長辺部とをもつ。
また、このΠ字状堰止部608の1つ1つは、図18に示すように、相隣接するデータ線6の両Π字状堰止部608の形成位置がお互い異なっている。加えて、1本1本のデータ線6を端から順に見ていくと、それら各々のΠ字状堰止部602は、いわば交互に段違いに並んでいくような形態をとるように形成されている。
However, as shown in FIG. 18, the damming portion 608 has a square shape in plan view. More specifically, the dam member 608 (hereinafter referred to as the “Π character dam member 608”) having a cross-shaped shape includes an orthogonal side portion that is a portion orthogonal to the data line 6 and the orthogonal portion. It has two extended side portions extending along the extending direction of the data line 6 from both ends of the side portion.
In addition, as shown in FIG. 18, each of the cross-shaped damming portions 608 is different from each other in the formation position of both cross-shaped damming portions 608 of the adjacent data lines 6. In addition, when each of the data lines 6 is viewed from the end in order, the respective cross-shaped damming portions 602 are formed so as to be alternately arranged in steps. Yes.

加えて更に、これら1本1本のデータ線6ごと、Π字状堰止部608の姿勢は、図中上下方向に関して反転していく。すなわち、図18中最左端及び最右端のデータ線6のΠ字状堰止部608(以下、「第1Π字状堰止部608」ということがある。)は、その直交辺部がその延長辺部に対して相対的に図中上側にくるようになっている一方、それらの間に挟まれたデータ線6のΠ字状堰止部608(以下、「第2Π字状堰止部608」ということがある。)は、その延長辺部がその直交辺部に対して相対的に図中上側にくるように形成されている。この場合、第2Π字状堰止部608の延長辺部は、第1Π字状堰止部608の延長辺部と、当該第1Π字状堰止部608に対応するデータ線6との間に挟まれるように位置づけられている。
なお、これら第1及び第2Π字状堰止部608間では、第2実施形態で述べた基準直線に関わる特徴もまた、同様に妥当する。
In addition, for each of the data lines 6 one by one, the posture of the hook-shaped damming portion 608 is reversed with respect to the vertical direction in the figure. That is, in the leftmost end and the rightmost data line 6 in FIG. 18, the cross-section 608 (hereinafter, also referred to as “first cross-section 608”) extends at the orthogonal side thereof. While being arranged so as to be relatively upward with respect to the side portion in the drawing, the cross-shaped damming portion 608 (hereinafter referred to as “second cross-shaped damming portion 608) of the data line 6 sandwiched therebetween. Is formed such that the extended side portion is relatively on the upper side in the drawing relative to the orthogonal side portion. In this case, the extended side portion of the second cross-shaped damming portion 608 is between the extended side portion of the first cross-shaped damming portion 608 and the data line 6 corresponding to the first cross-shaped damming portion 608. It is positioned to be sandwiched.
In addition, between these 1st and 2nd cross-shaped dam parts 608, the characteristic regarding the reference | standard straight line described in 2nd Embodiment is also applicable similarly.

以上により、第8実施形態に係るΠ字状堰止部608もまた、前述の第2実施形態等と同様、いわゆるラビリンスシールのようなものを構成する、とみることができる。
また、前記の第2Π字状堰止部608に関しては、その2つの延長辺部それぞれの端部間の部分は、データ線6に沿って流出してきた平坦化膜80を受け入れる開口部として機能する。一方、それら2つの延長辺部及び直交辺部によって囲まれた空間は、前記開口部を通じて流入してくる平坦化膜80を受け止める受止部として機能する。
From the above, it can be considered that the hook-shaped damming portion 608 according to the eighth embodiment also constitutes a so-called labyrinth seal as in the second embodiment.
Further, with respect to the second cross-shaped damming portion 608, the portion between the end portions of the two extended side portions functions as an opening for receiving the planarizing film 80 flowing out along the data line 6. . On the other hand, the space surrounded by the two extended side portions and the orthogonal side portions functions as a receiving portion that receives the planarizing film 80 flowing in through the opening.

このような第8実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第8実施形態においても、Π字状堰止部608は、前述したように、堰止部601との対比において、データ線6と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。   It is obvious that the effect obtained by the eighth embodiment is essentially the same as the effect obtained by the first embodiment. This is because, also in the eighth embodiment, the cross-shaped damming portion 608 is formed as the same layer as the data line 6 in comparison with the damming portion 601 as described above. This is because they have common matters.

しかも、この第8実施形態では、第1実施形態の場合よりも、平坦化膜80の流出防止効果がより実効的に奏され得る。というのも、第8実施形態では、特に、前記の第2Π字状堰止部608は、上述のように開口部及び受止部として機能する部分をもっているので、流出してきた平坦化膜80の一定量を保持することができるからである。これにより、比較的多めに平坦化膜80が流出してきたとしても、その進行は、Π字状堰止部608が形成されている位置で食い止められ得ることになる。   Moreover, in the eighth embodiment, the effect of preventing the outflow of the planarizing film 80 can be more effectively achieved than in the case of the first embodiment. This is because, in the eighth embodiment, the second cross-shaped damming portion 608 has a portion that functions as an opening and a receiving portion as described above. This is because a certain amount can be maintained. As a result, even if the flattening film 80 flows out comparatively much, the progress can be stopped at the position where the hook-shaped damming portion 608 is formed.

加えて、第8実施形態では、前述した第1及び第2Π字状堰止部608が、ラビリンスシールのようなものを構成するので、素子基板7の外方へと向けて流出しようとする平坦化膜80は、比較的複雑な経路を通じない限り、当該第1及び第2Π字状堰止部608の障害を越えて外方へと流れ出すことができないようになっている。要するに、第8実施形態では、平坦化膜80の流出防止効果が極めて実効的に奏されるのである。   In addition, in the eighth embodiment, since the first and second cross-shaped damming portions 608 described above constitute a labyrinth seal, a flat surface that tends to flow out toward the outside of the element substrate 7. As long as the film 80 does not pass through a relatively complicated path, it cannot flow out beyond the obstacles of the first and second character-shaped dams 608. In short, in the eighth embodiment, the effect of preventing the flattening film 80 from flowing out is very effectively achieved.

<第9実施形態>
以下では、本発明の第9の実施の形態に係る有機EL装置について、図19を参照しながら説明する。
第9実施形態の有機EL装置は、図19に示すように、前記第1実施形態の堰止部601とは異なる形態の堰止部609を持つ。
この堰止部609は、堰止部601と対比して、データ線6と同じ層として形成されていること、データ線6の延在方向に交差する部分をもつこと、各データ線6に応じて個別に形成されること、それら各堰止部602は相互に電気的に接続されないこと、は同様である。
<Ninth Embodiment>
Hereinafter, an organic EL device according to a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 19, the organic EL device of the ninth embodiment has a damming portion 609 having a form different from the damming portion 601 of the first embodiment.
This damming portion 609 is formed as the same layer as the data line 6 as compared with the damming portion 601, has a portion intersecting with the extending direction of the data line 6, and corresponds to each data line 6. It is the same that they are individually formed, and that the respective blocking portions 602 are not electrically connected to each other.

ただ、この堰止部609は、例えば第1実施形態の堰止部601のように、データ線6によって分かたれる2つの領域を橋渡しするような交差部分をもっているのではなく、図19に示すように、当該データ線6それ自体が屈曲することによって形作られている(ただし、この第9実施形態に係る堰止部609が、「交差部分」をもたないということではない。後述する「A辺部」及び「E辺部」は、その「交差部分」に該当すると考えることもできる。)。
より詳細には、この第9実施形態の堰止部609は、第1に、平坦化膜80の輪郭線から一定程度隔たったデータ線6の一部から図中左方に向かって延びるA辺部、第2に、当該A辺部の端部から図中下方に延びるB辺部、第3に、当該B辺部の端部から図中右方に向かって延び、前記A辺部の約2倍の長さをもつC辺部、第4に、当該C辺部の端部から図中下方に向かって延びるD辺部、第5に、当該D辺部の端部から図中左方に向かって延び、かつ、その端部が再びデータ線6に接続されるE辺部からなる。
However, this damming portion 609 does not have an intersecting portion that bridges two regions separated by the data line 6 like the damming portion 601 of the first embodiment, for example. As shown, the data line 6 itself is shaped by bending (however, this does not mean that the blocking portion 609 according to the ninth embodiment does not have an “intersection”). ("A side" and "E side" can also be considered to correspond to the "intersection").
More specifically, the blocking portion 609 of the ninth embodiment firstly has an A side extending from the part of the data line 6 that is spaced from the contour line of the planarizing film 80 to a certain extent toward the left in the drawing. Part, secondly, the B side extending downward in the figure from the end of the A side, and thirdly, extending from the end of the B side toward the right in the figure, about the A side C side having double length, fourth, D side extending from the end of the C side downward in the figure, and fifth, left side in the figure from the end of the D side And an end portion thereof is an E side portion connected to the data line 6 again.

このような第9実施形態によっても、前述の第1実施形態によって奏された効果と、本質的に相違のない効果が奏されることは明白である。というのも、この第9実施形態においても、堰止部609は、前述したように、堰止部601との対比において、データ線6と同じ層として形成されること等、多くの共通事項をもつからである。   Obviously, the ninth embodiment also has the effects that are essentially the same as the effects of the first embodiment. This is because, in this ninth embodiment as well, as described above, the damming portion 609 has many common items such as being formed as the same layer as the data line 6 in contrast to the damming portion 601. Because it has.

以上、本発明に係る各実施形態について説明したが、本発明に係る発光装置は、上述した形態に限定されることはなく、各種の変形が可能である。
(1) 上述した各実施形態は、説明の便宜上、それぞれに固有の特徴をもつ各別の実施の形態として説明しているが、本発明は、これら各別の実施形態のうちの任意の1つを、別の任意の1つと合わせることで現出されるような実施形態をも、その範囲内におさめる。
このようなことは、既に図15(第2実施形態と第5実施形態との併合形態)を参照してその一例を説明しているところであるが、本発明は、その他の各種の併合形態についても、基本的にその範囲内におさめるのである。例えば、第7実施形態の楔形堰止部607、あるいは第4実施形態の走査線対応堰止部604の後方に、第3実施形態の補助堰止部603と同様の補助堰止部を設ける併合形態とか、第1実施形態の堰止部601と第6実施形態の堰止部706とを併せ持つ併合形態、等々が挙げられる。
As mentioned above, although each embodiment which concerns on this invention was described, the light-emitting device which concerns on this invention is not limited to the form mentioned above, Various deformation | transformation are possible.
(1) For convenience of explanation, each of the above-described embodiments is described as another embodiment having a unique characteristic. However, the present invention is not limited to any one of these other embodiments. Also within the scope are embodiments that appear as one is combined with any other one.
Such an example has already been described with reference to FIG. 15 (a merged form of the second embodiment and the fifth embodiment), but the present invention relates to various other merged forms. Is basically within that range. For example, the wedge-shaped damming portion 607 of the seventh embodiment or the auxiliary damming portion similar to the auxiliary damming portion 603 of the third embodiment is provided behind the scanning line-corresponding damming portion 604 of the fourth embodiment. Forms, merged forms having both the damming portion 601 of the first embodiment and the damming portion 706 of the sixth embodiment, and the like.

(2) 上述の各実施形態においては、データ線6又は走査線3に沿った平坦化膜80の流出防止効果が発揮される例について説明しているが、本発明は、かかる形態に限定されない。
例えば、図1等を参照して説明したように、データ線6と並行して電流供給線113が形成されるが、この電流供給線113に関しても、上述したような平坦化膜80の流出を促進させる現象が発生することは当然あり得る。このような場合、この電流供給線113に関しても、「堰止部」を形成しておけば、当該電流供給線113に沿った平坦化膜80の流出を防止することができる。
また、第1実施形態では、図1に示した領域AELについて堰止部601が形成される例について説明しているが、データ線6は、プリチャージ回路106Aとも接続されるのであるから、これら両者間においても、上述したような平坦化膜80の流出現象が生じる可能性はある。よって、当該の部分についても「堰止部」を形成することも考えられてよい。
(2) In each of the above-described embodiments, an example in which the effect of preventing the outflow of the planarization film 80 along the data line 6 or the scanning line 3 is described, but the present invention is not limited to such a form. .
For example, as described with reference to FIG. 1 and the like, the current supply line 113 is formed in parallel with the data line 6. The current supply line 113 also flows out of the planarization film 80 as described above. Naturally, it is possible that the phenomenon to promote will occur. In such a case, the outflow of the planarizing film 80 along the current supply line 113 can be prevented by forming a “damming portion” for the current supply line 113 as well.
In the first embodiment, an example in which the blocking portion 601 is formed in the area AEL shown in FIG. 1 has been described. However, since the data line 6 is also connected to the precharge circuit 106A, There is a possibility that the outflow phenomenon of the planarization film 80 as described above may occur between the two. Therefore, it may be considered to form a “damming portion” for the portion.

(3) 上記第6実施形態では、堰止部706が、反射層34と同じ層として形成され、データ線6及び走査線3いずれの同じ層としても形成されない「堰止部」について説明しているが、このような考え方は、その他の各種の「金属膜」についても同様に当てはめることができる。
例えば、図示はしないが、図3等に示される対向電極5の上には、当該対向電極5の電位の安定等を目的として、補助電極が形成されることがある(当該補助電極は、対向電極5がITO等の比較的高い抵抗値をもつ材料から作られることに対応して、相対的にそれよりも低い抵抗値をもつ材料によって作られる。)。
このような補助電極も「金属膜」であることに変わりはなく、したがって、「堰止部」は、かかる補助電極と同じ層として形成することが可能である。
(3) In the sixth embodiment, a “damming portion” is described in which the blocking portion 706 is formed as the same layer as the reflective layer 34 and is not formed as the same layer of either the data line 6 or the scanning line 3. However, this concept can be similarly applied to other various “metal films”.
For example, although not shown, an auxiliary electrode may be formed on the counter electrode 5 shown in FIG. 3 or the like for the purpose of stabilizing the potential of the counter electrode 5 (the auxiliary electrode is a counter electrode). Corresponding to the electrode 5 being made from a material having a relatively high resistance value such as ITO, it is made by a material having a relatively lower resistance value).
Such an auxiliary electrode is also a “metal film”, and therefore, the “damming portion” can be formed as the same layer as the auxiliary electrode.

(4) 上記各実施形態、特に上記図15では、第5実施形態の走査線対応堰止部605と、第2実施形態の堰止部602とが同時に形成される場合について説明しており、これは、走査線3(の全部)とデータ線6(の全部)とがそれぞれ異なる層で形成されることを前提としている。しかし、より一般的にいえば、走査線とデータ線とは、それら両者の全部が、異なる層で形成される必要はない。つまり、平面視して、走査線及びデータ線が交差する部分については、両者間の短絡防止のため、それらの間に層間絶縁膜を設けることは必須であるが、その他の部分については、走査線及びデータ線ともに同じ層で形成してもよいのである。これは、画像表示領域7aの周辺領域において特にあてはまる。
そして、この場合、それら同一層に形成された走査線及びデータ線に対する堰止部の形成態様は、例えば上記各実施形態等から好適に選ばれうる。例えば、これら走査線及びデータ線のそれぞれについて、第1実施形態の堰止部601を形成する、というようである。
なお、この場合における「走査線」及び「データ線」は、ともに、本発明にいう「第1配線膜」への該当性を有すると解することができる。
(4) In the above embodiments, particularly in FIG. 15 described above, the scanning line corresponding damming portion 605 of the fifth embodiment and the damming portion 602 of the second embodiment are formed at the same time. This is based on the premise that the scanning lines 3 (all) and the data lines 6 (all) are formed in different layers. More generally, however, the scan line and the data line need not all be formed in different layers. In other words, it is essential to provide an interlayer insulating film between the scanning line and the data line when the scanning line and the data line intersect in order to prevent a short circuit between them. Both the line and the data line may be formed in the same layer. This is particularly true in the peripheral area of the image display area 7a.
In this case, the mode of forming the blocking portion for the scanning line and the data line formed in the same layer can be suitably selected from the above embodiments, for example. For example, the damming portion 601 of the first embodiment is formed for each of these scanning lines and data lines.
In this case, it can be understood that both the “scan line” and the “data line” have relevance to the “first wiring film” in the present invention.

(5) 上述した各実施形態に係る発光装置は、トップエミッションタイプであるが、本発明に係る発光装置は、ボトムエミッションタイプであってもよい。あるいは、デュアルエミッションタイプであってもよい。
(6) 上述した各実施形態に係る発光装置は、有機EL装置であるが、本発明に係る発光装置は、無機EL装置であってもよい。
(5) Although the light emitting device according to each of the embodiments described above is a top emission type, the light emitting device according to the present invention may be a bottom emission type. Alternatively, it may be a dual emission type.
(6) The light emitting device according to each of the embodiments described above is an organic EL device, but the light emitting device according to the present invention may be an inorganic EL device.

<応用>
次に、本発明に係る有機EL装置を適用した電子機器について説明する。図20は、上記実施形態に係る発光装置を画像表示装置に利用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、表示装置としての有機EL装置と本体部2010とを備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。
図21に、上記実施形態に係る発光装置を適用した携帯電話機を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、ならびに表示装置としての有機EL装置1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置に表示される画面がスクロールされる。
図22に、上記実施形態に係る発光装置を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistant)を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、ならびに表示装置としての有機EL装置を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置に表示される。
<Application>
Next, an electronic apparatus to which the organic EL device according to the present invention is applied will be described. FIG. 20 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile personal computer using the light emitting device according to the above-described embodiment as an image display device. The personal computer 2000 includes an organic EL device as a display device and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002.
FIG. 21 shows a mobile phone to which the light emitting device according to the above embodiment is applied. A cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the organic EL device 1 as a display device. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the organic EL device is scrolled.
FIG. 22 shows an information portable terminal (PDA: Personal Digital Assistant) to which the light emitting device according to the above embodiment is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and an organic EL device as a display device. When the power switch 4002 is operated, various types of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device.

本発明に係る有機EL装置が適用される電子機器としては、図20から図22に示したもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。   As electronic devices to which the organic EL device according to the present invention is applied, in addition to those shown in FIGS. 20 to 22, a digital still camera, a television, a video camera, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, electronic paper, a calculator, Examples include a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a video player, and a device equipped with a touch panel.

本発明の第1実施形態に係る有機EL装置の概略構成を示す平面図である。1 is a plan view showing a schematic configuration of an organic EL device according to a first embodiment of the present invention. 図1の単位回路の詳細を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing details of a unit circuit in FIG. 1. 図1に示す有機EL装置の適当な破断面を臨んだ断面図であって、特に有機EL素子の配列態様及び第2トランジスタが示されるように選ばれた破断面に基づく断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a suitable fracture surface of the organic EL device shown in FIG. 1, in particular, a cross-sectional view based on a fracture surface selected so as to show an arrangement mode of organic EL elements and a second transistor. 発光機能層が画素ごとに区画される例について示す断面図である。It is sectional drawing shown about the example in which a light emitting functional layer is divided for every pixel. 図1の有機EL装置の適当な破断面を臨んだ断面図であって、特に有機EL素子と、これを駆動するための図2に示す2つのトランジスタとが示されるように選ばれた破断面に基づく断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a suitable fracture surface of the organic EL device of FIG. 1, particularly a fracture surface selected to show an organic EL element and the two transistors shown in FIG. 2 for driving the organic EL element. FIG. 図1の有機EL装置の適当な破断面を臨んだ断面図であって、特に周辺領域における構成が示される断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a suitable fracture surface of the organic EL device of FIG. 1, particularly a cross-sectional view showing a configuration in a peripheral region. 図1の有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線及び堰止部の構成、並びに、データ線の延在方向に沿って流出してくる平坦化膜の様子等を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a part of a peripheral region of the organic EL device of FIG. 1, including a configuration of data lines and a blocking portion, a state of a planarization film flowing out along the extending direction of the data lines, and the like. FIG. 図7の比較例(堰止部存在せず)としての平面図である。It is a top view as a comparative example of FIG. 図6と同趣旨の図であって、その変形例を示す図である。It is a figure of the same meaning as FIG. 6, Comprising: It is a figure which shows the modification. 本発明の第2実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線及び堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of a data line, a damming part, etc. 本発明の第3実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線、堰止部、及び補助堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of a data line, a damming part, an auxiliary damming part, etc. 本発明の第4実施形態に係る有機EL装置の適当な破断面を臨んだ断面図であって、特に周辺領域における構成が示される断面図である。It is sectional drawing which faced the suitable fracture surface of the organic electroluminescent apparatus concerning 4th Embodiment of this invention, Comprising: It is sectional drawing in which especially the structure in a peripheral region is shown. 図12の有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、走査線及び走査線対応堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic EL apparatus of FIG. 12, Comprising: It is a top view which shows the structure etc. of a scanning line and a scanning line corresponding damming part. 本発明の第5実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、走査線及び走査線対応堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 5th Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of a scanning line, a scanning-line corresponding | damping part, etc. 本発明の第5実施形態(図14)及び第2実施形態(図10)の併合形態に係る構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure which concerns on the merged form of 5th Embodiment (FIG. 14) and 2nd Embodiment (FIG. 10) of this invention. 本発明の第6実施形態に係る有機EL装置の適当な破断面を臨んだ断面図であって、特に周辺領域における構成が示される断面図である。It is sectional drawing which faced the suitable fracture surface of the organic EL apparatus concerning 6th Embodiment of this invention, Comprising: It is sectional drawing by which the structure in a peripheral region is shown especially. 本発明の第7実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線及び楔形堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 7th Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of a data line, a wedge-shaped damming part, etc. 本発明の第8実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線及びΠ字状堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 8th Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of a data line, and a cross-shaped dam part. 本発明の第9実施形態に係る有機EL装置の周辺領域の一部を示す平面図であって、データ線及びその屈曲部を含む堰止部の構成等を示す平面図である。It is a top view which shows a part of peripheral region of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 9th Embodiment of this invention, Comprising: It is a top view which shows the structure of the dam part including a data line and its bending part. 本発明に係る有機EL装置を適用した電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device to which the organic electroluminescent apparatus which concerns on this invention is applied. 本発明に係る有機EL装置を適用した他の電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other electronic device to which the organic EL apparatus which concerns on this invention is applied. 本発明に係る有機EL装置を適用したさらに他の電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the further another electronic device to which the organic EL apparatus which concerns on this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1、1’……半導体層、3……走査線、103A,103B……走査線駆動回路、6……データ線、106……データ線駆動回路、106A……プリチャージ回路、7……素子基板、7a……画像表示領域、8……有機EL素子、13……画素電極、18,18’……発光機能層、5……対向電極、34……反射層、68……第1トランジスタ、9……第2トランジスタ、113……ゲートメタル、61……中継線、113……電流供給線、300……ゲート絶縁膜、301〜304……第1〜第4層間絶縁膜、331,332……凸部、340……隔壁、80……平坦化膜、40……封止膜、601,602……堰止部、603……補助堰止部、604,605……走査線対応堰止部、706……(反射層と同じ層で形成された)堰止部、607……楔形堰止部、608……Π字状堰止部、609……(屈曲部を含む)堰止部、91,94,96……堤防部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 '... Semiconductor layer, 3 ... Scan line, 103A, 103B ... Scan line drive circuit, 6 ... Data line, 106 ... Data line drive circuit, 106A ... Precharge circuit, 7 ... Element Substrate, 7a: Image display area, 8: Organic EL element, 13: Pixel electrode, 18, 18 ': Light emitting functional layer, 5: Counter electrode, 34: Reflective layer, 68: First transistor , 9... Second transistor, 113... Gate metal, 61... Relay line, 113... Current supply line, 300... Gate insulating film, 301 to 304. 332... Projection 340. Partition wall 80. Flattening film 40. Sealing film 601 602. Damping part 603. Damming portion, 706... Damming portion (formed of the same layer as the reflective layer), 07 ... wedge damming portion, 608 ... [pi-shaped damming part 609 ... (including a bent portion) damming portion, 91,94,96 ... bank portion

Claims (18)

基板と、
前記基板上に形成された複数の発光素子と、
前記発光素子を覆うように形成された平坦化膜と、
前記基板の上、かつ、当該基板と前記平坦化膜との間に形成された1つ又は複数の層からなる金属膜と、
前記1つ又は複数の層からなる金属膜のいずれかの層で形成された、前記平坦化膜の流出を防止するための堰止部と、
を備え、
前記堰止部は、平面視して前記平坦化膜の周囲に位置するように配置される、
ことを特徴とする発光装置。
A substrate,
A plurality of light emitting elements formed on the substrate;
A planarization film formed to cover the light emitting element;
A metal film composed of one or more layers formed on the substrate and between the substrate and the planarization film;
A damming portion for preventing outflow of the planarization film, formed of any one of the metal films composed of the one or more layers;
With
The damming portion is disposed so as to be located around the planarization film in a plan view.
A light emitting device characterized by that.
前記平坦化膜を覆うように形成され、前記発光素子への水分及び酸素の少なくとも一方の進入を抑制する封止膜を更に備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
A sealing film that is formed so as to cover the planarization film and suppresses entry of at least one of moisture and oxygen into the light emitting element;
The light-emitting device according to claim 1.
前記複数の発光素子の各々を区画するように前記基板上に形成された隔壁を更に備え、
前記平坦化膜は、前記隔壁を覆うように形成される、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置。
A partition formed on the substrate so as to partition each of the plurality of light emitting elements;
The planarization film is formed to cover the partition;
The light-emitting device according to claim 1 or 2.
前記複数の発光素子は、前記基板の上でマトリクス状の配列に従って形成されており、
前記1つ又は複数の層からなる金属膜は、
平面視して前記平坦化膜の輪郭線を横切るように配置される複数の第1配線膜を少なくとも含み、
前記堰止部は、
前記複数の第1配線膜の少なくとも一部について形成される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の発光装置。
The plurality of light emitting elements are formed on the substrate according to a matrix arrangement,
The metal film comprising one or more layers is
Including at least a plurality of first wiring films arranged to cross the contour line of the planarization film in plan view;
The damming portion is
Formed on at least a part of the plurality of first wiring films;
The light-emitting device according to any one of claims 1 to 3.
前記堰止部は、
前記第1配線膜と同じ層で形成され、かつ、
当該堰止部は、相互に電気的に接続されない、
ことを特徴とする請求項4に記載の発光装置。
The damming portion is
Formed of the same layer as the first wiring film, and
The dams are not electrically connected to each other,
The light-emitting device according to claim 4.
前記堰止部は、
前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延びる交差部分を含む、
ことを特徴とする請求項5に記載の発光装置。
The damming portion is
Including a crossing portion extending in a direction crossing the extending direction of the first wiring film,
The light emitting device according to claim 5.
前記堰止部は、
前記複数の第1配線膜のうち相隣接する第1配線膜についての2つの前記交差部分間の隙間を埋めるように、当該相隣接する第1配線膜間に形成される補助部分を更に含む、
ことを特徴とする請求項6に記載の発光装置。
The damming portion is
An auxiliary portion formed between the adjacent first wiring films so as to fill a gap between the two intersecting portions of the first wiring films adjacent to each other among the plurality of first wiring films;
The light-emitting device according to claim 6.
前記複数の第1配線膜のうちの、ある第1配線膜についての前記交差部分の形成位置は、
当該ある第1配線膜に相隣接する第1配線膜についての前記交差部分の形成位置とは異なる、
ことを特徴とする請求項6又は7に記載の発光装置。
Of the plurality of first wiring films, the formation position of the intersecting portion with respect to a certain first wiring film is as follows:
Different from the formation position of the intersecting portion of the first wiring film adjacent to the certain first wiring film,
The light emitting device according to claim 6, wherein the light emitting device is a light emitting device.
前記相隣接する第1配線膜に更に相隣接する第1配線膜(前記ある第1配線膜を除く。)についての前記交差部分の形成位置は、
前記ある第1配線膜についての前記交差部分の形成位置と同じである、
ことを特徴とする請求項8に記載の発光装置。
The formation position of the intersecting portion for the first wiring film (excluding the certain first wiring film) further adjacent to the first wiring film adjacent to each other is as follows:
It is the same as the formation position of the intersecting portion for the certain first wiring film,
The light emitting device according to claim 8.
前記ある第1配線膜についての前記交差部分の少なくとも一部と、
前記相隣接する第1配線膜についての前記交差部分の少なくとも一部とが、ともに、
それら2本の第1配線膜間に、且つ、当該第1配線膜の延在方向に沿って平行に延びる、ある1本の直線と交わる、
ことを特徴とする請求項8又は9に記載の発光装置。
At least a part of the intersecting portion of the certain first wiring film;
And at least a part of the intersecting portions of the first wiring films adjacent to each other,
Intersects with a certain straight line extending in parallel between the two first wiring films and along the extending direction of the first wiring film,
The light-emitting device according to claim 8 or 9,
前記堰止部は、
前記第1配線膜に沿って流出してきた前記平坦化膜を受け入れる開口部と、
当該開口部を通じて流入してくる前記平坦化膜を受け止める受止部と、
を含む、
ことを特徴とする請求項4乃至10のいずれか一項に記載の発光装置。
The damming portion is
An opening for receiving the planarization film flowing out along the first wiring film;
A receiving portion for receiving the planarizing film flowing in through the opening;
including,
The light emitting device according to claim 4, wherein the light emitting device is a light emitting device.
前記堰止部は、平面視して楔型形状をもつ、
ことを特徴とする請求項11に記載の発光装置。
The dam member has a wedge shape in plan view,
The light-emitting device according to claim 11.
前記堰止部は、平面視して、
前記第1配線膜に交差する部分たる第1辺部と、
当該第1辺部の両端から当該第1配線膜の延在方向に延びる2つの第2辺部と、
を含み、
前記開口部は、前記2つの第2辺部の端部間の空間が該当し、
前記受止部は、前記第1辺部及び前記2つの第2辺部によって囲われた空間が該当する、
ことを特徴とする請求項11に記載の発光装置。
The damming portion is a plan view,
A first side portion that intersects the first wiring film;
Two second sides extending in the extending direction of the first wiring film from both ends of the first side,
Including
The opening corresponds to a space between the ends of the two second sides,
The receiving part corresponds to a space surrounded by the first side part and the two second side parts,
The light-emitting device according to claim 11.
前記第1辺部及び前記第2辺部をもつ前記堰止部をもつ第1配線膜に相隣接する第1配線膜についての前記堰止部は、
平面視して、
当該相隣接する第1配線膜に交差する部分たる第3辺部と、
当該第3辺部の両端から当該相隣接する第1配線膜の延在方向に、かつ、前記第2辺部が延びる方向とは逆の方向に延びる2つの第4辺部と、
を含み、
前記第2辺部は、前記第4辺部と前記相隣接する第1配線膜との間に位置する、
ことを特徴とする請求項13に記載の発光装置。
The damming portion for the first wiring film adjacent to the first wiring film having the damming portion having the first side portion and the second side portion,
In plan view
A third side portion that intersects with the adjacent first wiring films;
Two fourth sides extending from both ends of the third side in the extending direction of the adjacent first wiring films and in a direction opposite to the direction in which the second side extends,
Including
The second side is located between the fourth side and the first wiring film adjacent to each other.
The light-emitting device according to claim 13.
前記第1配線膜は、その延在方向に沿ってみて屈曲部を含み、
前記堰止部は、前記屈曲部を含む、
ことを特徴とする請求項4乃至14のいずれか一項に記載の発光装置。
The first wiring film includes a bent portion as viewed in the extending direction thereof,
The damming portion includes the bent portion,
The light-emitting device according to claim 4, wherein the light-emitting device is a light-emitting device.
前記1つ又は複数の層からなる金属膜は、
前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延び、且つ、平面視して前記平坦化膜の輪郭線を横切るように配置され、且つ、当該第1配線膜との間に少なくとも1層の層間絶縁膜を挟んで前記基板上に形成される複数の第2配線膜を更に含み、
前記複数の第1配線膜について形成される前記堰止部は、
前記第2配線部と同じ層で形成される、
ことを特徴とする請求項4に記載の発光装置。
The metal film comprising one or more layers is
The first wiring film extends in a direction intersecting with the extending direction, and is arranged so as to cross the contour line of the planarizing film in a plan view, and at least one layer is formed between the first wiring film and the first wiring film. A plurality of second wiring films formed on the substrate with the interlayer insulating film interposed therebetween,
The damming portions formed for the plurality of first wiring films are:
Formed of the same layer as the second wiring portion;
The light-emitting device according to claim 4.
前記堰止部は、
前記第1配線膜の延在方向に交差する方向に延びる交差部分を含み、
当該交差部分は、前記複数の第1配線膜のうちの2以上の第1配線膜と交差する、
ことを特徴とする請求項16に記載の発光装置。
The damming portion is
An intersecting portion extending in a direction intersecting with the extending direction of the first wiring film,
The intersecting portion intersects two or more first wiring films of the plurality of first wiring films.
The light-emitting device according to claim 16.
請求項1乃至17のいずれか一項に記載の発光装置を備える、
ことを特徴とする電子機器。
The light emitting device according to any one of claims 1 to 17, comprising:
An electronic device characterized by that.
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