JP2009127059A - ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 - Google Patents
ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009127059A JP2009127059A JP2007300481A JP2007300481A JP2009127059A JP 2009127059 A JP2009127059 A JP 2009127059A JP 2007300481 A JP2007300481 A JP 2007300481A JP 2007300481 A JP2007300481 A JP 2007300481A JP 2009127059 A JP2009127059 A JP 2009127059A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- plasma
- test
- dlc film
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
- C23C16/0245—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching by etching with a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2327/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
Abstract
【解決手段】ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)基板11の表面をプラズマ照射により改質し、この改質されたPTFE基板11の表面に、化学気相蒸着法によりダイヤモンドライクカーボン膜12を形成する。
【選択図】図5
Description
PTFE(ニチアス株式会社製 ナフロンシート TOMBO−9000)からなる基板(縦10mm×横10mm×厚さ3mm)に対して、プラズマ照射による表面改質処理を行った後、DLC膜を形成した。表面改質処理の効果を測定するため、表面改質処理後、DLC膜形成前の基板に対して、X線光電子分光分析(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)測定、接触角試験を行った。DLC膜の付着強度と耐磨耗性については、テープ試験、引張試験、Ball-on disk試験により評価した。
高周波プラズマCVD装置(キャノンアネルバ株式会社製PED−301)のチャンバ内にPTFEからなる基板をセットし、チャンバ内の圧力を真空(0.01Pa以下)とした後、ガス流量45sccmで反応ガスを導入し、下記条件でプラズマを発生させて基板の表面改質を行った。
反応圧力:13.3Pa
印加電力:250W(電力密度7.4mW/mm2)
電極間距離:45mm
処理時間:1〜10分
なお、基板は、アセトンによる10分間の超音波洗浄を行ったものを用いた。
印加電力:250W(電力密度7.4mW/mm2)
電極間距離:45mm
処理時間:5〜10分
なお、処理時間を調整することにより、形成するDLC膜厚を調整し、引張試験に用いる試料のDLC膜厚は0.2μm、その他の試験に用いる試料のDLC膜厚は0.1μmとした。
表面改質処理したDLC膜形成前のPTFE基板の表面をXPS(JPS−9010)により測定した。XPS測定条件は、X線:MgKα線、電圧10.0kV、電流10.0mAとした。
表面改質処理したDLC膜形成前のPTFE基板の表面の濡れ性を接触角試験により測定した。
ここで、γは20℃での水の表面張力(γ=72.8mN/m)、θは接触角(°)である。
表面改質処理したPTFE基板上にDLC膜を形成した試料のDLC膜形成面に粘着性テープ(共和株式会社製)を貼り付け、これを引き剥がすことにより、PTFE基板とDLC膜との付着強度について観察した。
表面改質処理したPTFE基板上にDLC膜を形成した試料のPTFE基板とDLC膜との付着強度を引張試験により測定した。
表面改質処理したPTFE基板上に形成されたDLC膜の耐磨耗性を評価するためにBall-on disk試験を行った。
荷重:0.5N
回転速度:100rpm
回転半径:2mm
試験時間:10min
O2プラズマ処理、N2プラズマ処理のそれぞれについて、処理時間を1,2,3,4,5,10分間として作製した試料を用いて試験を行った。また、比較例として、未処理(処理時間0分)のPTFE基板上にDLC膜を形成した試料についても同様に試験を行った。
ステンレス(SUS316:株式会社ニコラ製)の基板(縦10mm×横10mm×厚さ1mm)を使用し、実施例1と同様の手順および条件により、プラズマ照射による表面改質処理を行った後、DLC膜を形成した。実施例1と同様に、XPS測定、接触角試験、テープ試験、引張試験、Ball-on disk試験を行った。
表面改質処理したDLC膜形成前のステンレス基板の表面を、実施例1と同様の条件でXPSにより測定した。
表面改質処理したDLC膜形成前のステンレス基板の表面の濡れ性を実施例1と同様の接触角試験により測定した。
実施例1と同様のテープ試験により、ステンレス基板とDLC膜との付着強度について観察した。
ステンレス基板とDLC膜との付着強度を実施例1と同様の引張試験により測定した。
表面改質処理したステンレス基板上に形成されたDLC膜の耐磨耗性を実施例1と同様のBall-on disk試験により評価した。
NiTi(古河電工株式会社製)の基板(縦10mm×横10mm×厚さ1mm)を使用し、実施例1と同様の手順および条件により、プラズマ照射による表面改質処理を行った後、DLC膜を形成した。実施例1と同様に、XPS測定、接触角試験、テープ試験、引張試験、Ball-on disk試験を行った。
表面改質処理したDLC膜形成前のNiTi基板の表面を、実施例1と同様の条件でXPSにより測定した。
表面改質処理したDLC膜形成前のNiTi基板の表面の濡れ性を実施例1と同様の接触角試験により測定した。
実施例1と同様のテープ試験により、NiTi基板とDLC膜との付着強度について観察した。
NiTi基板とDLC膜との付着強度を実施例1と同様の引張試験により測定した。
表面改質処理したNiTi基板上に形成されたDLC膜の耐磨耗性を実施例1と同様のBall-on disk試験により評価した。
Ti(株式会社ニコラ製)の基板(縦10mm×横10mm×厚さ1mm)を使用し、実施例1と同様の手順および条件により、プラズマ照射による表面改質処理を行った後、DLC膜を形成した。実施例1と同様に、XPS測定、接触角試験、テープ試験、引張試験、Ball-on disk試験を行った。
表面改質処理したDLC膜形成前のTi基板の表面を、実施例1と同様の条件でXPSにより測定した。
表面改質処理したDLC膜形成前のTi基板の表面の濡れ性を実施例1と同様の接触角試験により測定した。
実施例1と同様のテープ試験により、Ti基板とDLC膜との付着強度について観察した。
Ti基板とDLC膜との付着強度を実施例1と同様の引張試験により測定した。
表面改質処理したTi基板上に形成されたDLC膜の耐磨耗性を実施例1と同様のBall-on disk試験により評価した。
2,3 電極
4 整合器
5 高周波電源
6 基材
7 ガス注入口
8 プラズマ
11 PTFE基板
12 ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜
13 ステンレス基板
14 NiTi基板
15 Ti基板
21 試料
22 アルミ円柱
23 ジグ
24 回転ディスク
25 アーム
26 試料ボール
Claims (7)
- ポリテトラフルオロエチレンからなる基材の表面をプラズマ照射により改質する表面改質工程と、
プラズマ照射により改質された前記基材の表面に、化学気相蒸着法によりダイヤモンドライクカーボン膜を形成する膜形成工程と
を含むことを特徴とするダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。 - 金属材料からなる基材の表面をプラズマ照射により改質する表面改質工程と、
プラズマ照射により改質された前記基材の表面に、化学気相蒸着法によりダイヤモンドライクカーボン膜を形成する膜形成工程と
を含むことを特徴とするダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。 - 前記基材は、ステンレス、ニチノール、およびチタンから選ばれる1種類からなることを特徴とする請求項2に記載のダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。
- 前記表面改質工程において、プラズマ照射における反応ガスとして、窒素または酸素を用いることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。
- 前記表面改質工程において、プラズマCVD法によりプラズマ照射を行うことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。
- 前記膜形成工程において、前記化学気相蒸着法でダイヤモンドライクカーボン膜を形成するための原料ガスとして、メタン、アセチレン、およびベンゼンから選ばれる1種類を用いることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。
- 前記化学気相蒸着法は、プラズマCVD法であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007300481A JP2009127059A (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 |
US12/175,128 US8394455B2 (en) | 2007-11-20 | 2008-07-17 | Method for forming diamond-like carbon film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007300481A JP2009127059A (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009127059A true JP2009127059A (ja) | 2009-06-11 |
Family
ID=40642251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007300481A Pending JP2009127059A (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8394455B2 (ja) |
JP (1) | JP2009127059A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012026000A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Utec:Kk | 被成膜基材の前処理方法、被成膜基材への薄膜の成膜方法、プラズマcvd装置、蒸着装置、スパッタ装置及びプラスチック基材 |
JP2014057578A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Tokyo Denki Univ | プログラム、情報処理装置及び情報処理方法 |
WO2015045427A1 (ja) | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 日本ゼオン株式会社 | 炭素ナノ構造体の製造方法及びカーボンナノチューブ |
JP2016507157A (ja) * | 2013-01-22 | 2016-03-07 | ティーイーエル エフエスアイ,インコーポレイティド | 基板からカーボン材料を除去する方法 |
US10181603B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of separator for fuel cell |
US10199661B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Fuel cell separator and manufacturing method of fuel cell separator |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120015196A1 (en) * | 2007-01-29 | 2012-01-19 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treated coated article using diamond-like carbon (dlc) coating and protective film on acid-etched surface |
CN103147063B (zh) * | 2013-02-21 | 2014-12-31 | 太原理工大学 | 一种TiNi合金表面制备金刚石涂层的方法 |
WO2019226671A1 (en) * | 2018-05-21 | 2019-11-28 | National Technology & Engineering Solutions Of Sandia, Llc | Diamond-like carbon films and uses thereof |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08217596A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜法および成膜装置 |
JPH10110269A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-04-28 | Nissin Electric Co Ltd | パチンコ玉およびその製造方法 |
JPH11318960A (ja) * | 1998-05-12 | 1999-11-24 | Nissin Electric Co Ltd | 人工関節及びその製造方法 |
JP2002276541A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Matsushita Electric Works Ltd | アクチュエータ及びその製造方法 |
JP2006257466A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Jtekt Corp | 被覆部材の製造方法 |
JP2007070700A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Tokyo Denki Univ | 超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法 |
JP2008031522A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 被覆部材およびその製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455081A (en) * | 1990-09-25 | 1995-10-03 | Nippon Steel Corporation | Process for coating diamond-like carbon film and coated thin strip |
JPH0853116A (ja) * | 1994-08-11 | 1996-02-27 | Kirin Brewery Co Ltd | 炭素膜コーティングプラスチック容器 |
US5521351A (en) * | 1994-08-30 | 1996-05-28 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method and apparatus for plasma surface treatment of the interior of hollow forms |
KR0152251B1 (ko) | 1995-11-02 | 1998-10-15 | 장진 | 층 .층 .층 제작 방법에 의한 유사다이아몬드 박막 제조 방법 |
TW420723B (en) | 1997-06-12 | 2001-02-01 | Orion Electric Co Ltd | Method of forming diamond like carbon film(DLC), DLC film formed thereby, use of the same, field emitter array and field emitter cathodes |
US6893720B1 (en) * | 1997-06-27 | 2005-05-17 | Nissin Electric Co., Ltd. | Object coated with carbon film and method of manufacturing the same |
KR100436829B1 (ko) * | 1999-06-18 | 2004-06-23 | 닛신덴키 가부시키 가이샤 | 탄소막 및 그 형성방법, 탄소막 피복물품 및 그 제조방법 |
DE10018143C5 (de) * | 2000-04-12 | 2012-09-06 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | DLC-Schichtsystem sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines derartigen Schichtsystems |
JP2005002377A (ja) | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Osaka Prefecture | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 |
US7138180B2 (en) * | 2003-10-16 | 2006-11-21 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Hard carbon films formed from plasma treated polymer surfaces |
US7276283B2 (en) * | 2004-03-24 | 2007-10-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Plasma-enhanced functionalization of carbon-containing substrates |
US7723126B2 (en) | 2004-03-24 | 2010-05-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Plasma-enhanced functionalization of inorganic oxide surfaces |
CN105820364A (zh) * | 2006-11-22 | 2016-08-03 | 安格斯公司 | 基底外壳的类金刚石碳涂层 |
-
2007
- 2007-11-20 JP JP2007300481A patent/JP2009127059A/ja active Pending
-
2008
- 2008-07-17 US US12/175,128 patent/US8394455B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08217596A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜法および成膜装置 |
JPH10110269A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-04-28 | Nissin Electric Co Ltd | パチンコ玉およびその製造方法 |
JPH11318960A (ja) * | 1998-05-12 | 1999-11-24 | Nissin Electric Co Ltd | 人工関節及びその製造方法 |
JP2002276541A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Matsushita Electric Works Ltd | アクチュエータ及びその製造方法 |
JP2006257466A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Jtekt Corp | 被覆部材の製造方法 |
JP2007070700A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Tokyo Denki Univ | 超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法 |
JP2008031522A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 被覆部材およびその製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012026000A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Utec:Kk | 被成膜基材の前処理方法、被成膜基材への薄膜の成膜方法、プラズマcvd装置、蒸着装置、スパッタ装置及びプラスチック基材 |
JP2014057578A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Tokyo Denki Univ | プログラム、情報処理装置及び情報処理方法 |
JP2016507157A (ja) * | 2013-01-22 | 2016-03-07 | ティーイーエル エフエスアイ,インコーポレイティド | 基板からカーボン材料を除去する方法 |
WO2015045427A1 (ja) | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 日本ゼオン株式会社 | 炭素ナノ構造体の製造方法及びカーボンナノチューブ |
US10011489B2 (en) | 2013-09-30 | 2018-07-03 | Zeon Corporation | Method of producing carbon nanostructures, and carbon nanotubes |
US10294108B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-05-21 | Zeon Corporation | Method of producing carbon nanostructures, and carbon nanotubes |
US10181603B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of separator for fuel cell |
US10199661B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Fuel cell separator and manufacturing method of fuel cell separator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090130325A1 (en) | 2009-05-21 |
US8394455B2 (en) | 2013-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009127059A (ja) | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 | |
Yan et al. | Characterization of hydrogenated diamond-like carbon films electrochemically deposited on a silicon substrate | |
Kamal et al. | Wetting behaviour of carbon nitride nanostructures grown by plasma enhanced chemical vapour deposition technique | |
Stelmashuk et al. | Plasma polymer films rf sputtered from PTFE under various argon pressures | |
Bendavid et al. | The properties of fluorine containing diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition | |
WO2001040537A1 (en) | Method for producing fluorinated diamond-like carbon films | |
Marciano et al. | Antibacterial activity of fluorinated diamond-like carbon films produced by PECVD | |
CN109023232B (zh) | 一种塑料基体表面形成非晶碳膜的方法 | |
US20060275619A1 (en) | Hard carbon films formed from plasma treated polymer surfaces | |
Capote et al. | Deposition of amorphous hydrogenated carbon films on steel surfaces through the enhanced asymmetrical modified bipolar pulsed-DC PECVD method | |
Ashtijoo et al. | Fabrication and characterization of adherent diamond-like carbon based thin films on polyethylene terephthalate by end hall ion beam deposition | |
Furlan et al. | Diamond-like carbon films deposited by hydrocarbon plasma sources | |
Wei et al. | The effect of hydrogen and acetylene mixing ratios on the surface, mechanical and biocompatible properties of diamond-like carbon films | |
Lin et al. | Morphological effect governed by sandblasting and anodic surface reforming on the super-hydrophobicity of AISI 304 stainless steel | |
Kaczorowski et al. | Evaluation of mechanical properties of carbon coatings synthesised in radio frequency plasma on PDMS | |
Su et al. | In-situ growing amorphous carbon film with attractive mechanical and tribological adaptability on PEEK via continuous plasma-induced process | |
De Oliveira et al. | Secondary ion mass spectrometry and atomic force microscopy analysis of silver-doped diamond-like carbon films on titanium alloy (Ti6Al4V) for possible biomedical application | |
Qin et al. | Corrosion and bio-tribological properties of Ti (CN) x hard coating on titanium alloy by the pulsed plasma electrolytic carbonitriding process | |
Nakazawa et al. | Impacts of substrate bias and dilution gas on the properties of Si-incorporated diamond-like carbon films by plasma deposition using organosilane as a Si source | |
Piazza et al. | Wettability of hydrogenated tetrahedral amorphous carbon | |
JP2007070700A (ja) | 超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法 | |
Baba et al. | Deposition of diamond-like carbon films on polymers by plasma source ion implantation | |
JP4990959B2 (ja) | 厚膜dlc被覆部材およびその製造方法 | |
Ma et al. | Characteristics of DLC containing Ti and Zr films deposited by reactive magnetron sputtering | |
Ahmed et al. | Nanoporous structures of polyimide induced by Ar ion beam irradiation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100630 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121011 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130528 |