JP2009123879A - Multilayer wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Hideyuki Fujinami
秀之 藤浪
Hiroshi Kuami
寛 朽網
Satoru Nakao
知 中尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board that improves the durability of electrical conduction between a conductor layer and a conductive paste, and that exhibits high conduction-reliability even under a cold-hot cycling environment. <P>SOLUTION: The multilayer wiring board has an insulating layer 20 with a buit-in via hole 14, a conductive paste 16 that is filled into the via hole 14, a conductor layer 12a that is formed at a position of the via hole 14 at one side of the insulating layer 20 and is electrically connected with the conductive paste 16, and a conductor layer 12b that is formed at a position of the via hole 14 at the other side of the insulating layer 20 and is electrically connected with the conductive paste 16. On the surface in contact with the conductive paste 16 on the conductor layer 12b, provided is a projecting part 50 with a size ensuring to be located within the outer circumferential part of the via hole 14. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、多層配線板及び多層配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer wiring board and a method for manufacturing a multilayer wiring board.

近年の電子機器は、信号の高周波化、デジタル化に加えて、小型・軽量化が進み、それに伴って、電子機器に実装されるプリント配線板においても、高密度化、多層化が必要不可欠なものとなっている。プリント配線板を多層化した多層配線板では、絶縁基材にIVH(Interstitial Via Hole)等のビアホールを形成し、そのビアホールに導電性ペーストを充填することによって、基板表裏の導通を得るようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−332747号公報
In recent years, electronic devices have become smaller and lighter in addition to higher-frequency and digitized signals, and accordingly, printed wiring boards mounted on electronic devices are also required to have higher densities and multilayers. It has become a thing. In the multilayer wiring board in which the printed wiring board is multilayered, via holes such as IVH (Interstitial Via Hole) are formed in the insulating base material, and the via holes are filled with a conductive paste to obtain conduction between the front and back of the substrate. There are some (see, for example, Patent Document 1).
JP 2003-332747 A

図6は、従来の多層配線板におけるIVH部分の部分断面図である。図6に示すように、プリント配線板100は、相互に張り合わせた絶縁基材101と接着材層103とを有し、所定箇所にビアホール104が形成された絶縁層110により構成されている。絶縁層110の絶縁基材101側の面には、ビアホール104の位置に回路パターンとなる導体層102aが形成されている。更に、ビアホール104の内部には導電性ペースト105が充填されている。   FIG. 6 is a partial cross-sectional view of an IVH portion in a conventional multilayer wiring board. As shown in FIG. 6, the printed wiring board 100 includes an insulating base material 101 and an adhesive layer 103 that are bonded to each other, and includes an insulating layer 110 in which a via hole 104 is formed at a predetermined location. On the surface of the insulating layer 110 on the insulating base material 101 side, a conductor layer 102 a serving as a circuit pattern is formed at the position of the via hole 104. Further, the inside of the via hole 104 is filled with a conductive paste 105.

上記のように構成されたプリント配線板同士を積層して熱圧着すると、各プリント配線板の導電性ペースト105が高密度に圧縮されることになる。これにより、導電性ペースト105と導体層102a、102bとが密着して、基板表裏の電気的な導通が得られる。図6において、導電性ペースト105の下側に配置された導体層102bは、積層された図示しない他のプリント配線板に形成された導体層を示している。   When the printed wiring boards configured as described above are stacked and thermocompression bonded, the conductive paste 105 of each printed wiring board is compressed with high density. As a result, the conductive paste 105 and the conductor layers 102a and 102b are in close contact with each other, and electrical conduction between the front and back of the substrate is obtained. In FIG. 6, a conductor layer 102b disposed below the conductive paste 105 indicates a conductor layer formed on another printed wiring board (not shown) that is laminated.

上記のような多層配線板の電気的な導通のために用いられる導電性ペースト105は、樹脂バインダ中に金属フィラーを分散させたものである。この導電性ペースト105と導体層102a、102bとの界面の接続強度は、熱圧着時に金属フィラーが銅箔などの導体層102a、102bに突き刺さることによる接触と、樹脂バインダと導体層102a、102bとの密着力によって決まる。ここでの接続強度が弱いと、実使用環境での冷熱サイクルによる繰り返し応力によって、金属フィラーと銅箔との接触が不十分となり、電気的な導通に不具合が生じるおそれが生じる。   The conductive paste 105 used for electrical conduction of the multilayer wiring board as described above is obtained by dispersing a metal filler in a resin binder. The connection strength of the interface between the conductive paste 105 and the conductor layers 102a and 102b is determined by contact between the metal filler sticking into the conductor layers 102a and 102b such as copper foil during thermocompression bonding, and the resin binder and the conductor layers 102a and 102b. Depends on the adhesion strength. If the connection strength here is weak, contact between the metal filler and the copper foil becomes insufficient due to repetitive stresses caused by a cooling and heating cycle in an actual use environment, which may cause a problem in electrical continuity.

本発明は、上記の課題に鑑み、導体層と導電性ペーストとの間の電気的な導通の耐久性を高め、冷熱サイクルの環境下においても、導通信頼性の高い多層配線板及び多層配線板の製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems, the present invention improves the durability of electrical conduction between a conductor layer and a conductive paste, and has a highly reliable multilayer wiring board and multilayer wiring board even in a cold cycle environment. It aims at providing the manufacturing method of.

本発明の第1の特徴は、層間導通穴を内部に有する絶縁層と、層間導通穴に充填された導電性樹脂組成物と、絶縁層の一方の面において、層間導通穴の位置に形成され、導電性樹脂組成物と電気的に接続された第1導体層と、絶縁層の他方の面において、層間導通穴の位置に形成され、導電性樹脂組成物と電気的に接続された第2導体層とを備え、第2導体層の導電性樹脂組成物と接する面に、層間導通穴の外周内に位置する大きさの突起部を有する多層配線板であることを要旨とする。   The first feature of the present invention is that an insulating layer having an interlayer conduction hole therein, a conductive resin composition filled in the interlayer conduction hole, and an interlayer conduction hole are formed on one surface of the insulating layer. A second conductive layer electrically connected to the conductive resin composition and a second conductive layer electrically connected to the conductive resin composition formed on the other surface of the insulating layer at the position of the interlayer conduction hole. The gist of the present invention is a multilayer wiring board having a conductor layer and having a protrusion of a size located within the outer periphery of the interlayer conduction hole on the surface of the second conductor layer in contact with the conductive resin composition.

第1の特徴に係る多層配線板によると、図6に示す界面Bでの第2導体層と導電性樹脂組成物との間の電気的な導通の耐久性を高めることができ、冷熱サイクルの環境下においても導通信頼性を高く保持することができる。   According to the multilayer wiring board according to the first feature, it is possible to increase the durability of electrical conduction between the second conductor layer and the conductive resin composition at the interface B shown in FIG. High reliability of conduction can be maintained even in an environment.

又、第1の特徴に係る多層配線板は、導電性樹脂組成物と第1導体層との間に形成され、導電性樹脂層生物及び第1導体層と電気的に接続された金属層を更に備えてもよい。   The multilayer wiring board according to the first feature includes a metal layer formed between the conductive resin composition and the first conductor layer, and electrically connected to the conductive resin layer and the first conductor layer. Further, it may be provided.

この多層配線板によると、第1導体層と導電性樹脂組成物との間の電気的な導通の耐久性を高めることができる。   According to this multilayer wiring board, durability of electrical conduction between the first conductor layer and the conductive resin composition can be enhanced.

本発明の第2の特徴は、層間導通穴を内部に有する絶縁層の両側に第1導体層及び第2導体層が配置され、層間導通穴に第1導体層と第2導体層とを電気的に導通させる導電性樹脂組成物が充填された配線板を積層してなる多層配線板の製造方法であって、絶縁層の一方の面に、第1導体層を形成する工程と、第1導体層の絶縁層に接する面と反対側の面に、層間導通穴の外周内に位置する大きさの突起部を形成する工程と、絶縁層の他方の面に、マスク層を形成する工程と、絶縁層に第1導体層を底部とする層間導通穴を形成する工程と、層間導通穴に導電性樹脂組成物を充填する工程と、マスク層を除去して、絶縁層と導電性樹脂組成物の端部とを露出させる工程と、各工程を経て製作された配線板を含む複数の配線板を積層して熱圧着する工程とを含む多層配線板の製造方法であることを要旨とする。   The second feature of the present invention is that the first conductor layer and the second conductor layer are disposed on both sides of the insulating layer having the interlayer conduction hole therein, and the first conductor layer and the second conductor layer are electrically connected to the interlayer conduction hole. A method of manufacturing a multilayer wiring board in which a wiring board filled with a conductive resin composition to be electrically conductive is laminated, the step of forming a first conductor layer on one surface of the insulating layer; Forming a protrusion having a size located within the outer periphery of the interlayer conduction hole on the surface of the conductor layer opposite to the surface in contact with the insulating layer, and forming a mask layer on the other surface of the insulating layer; A step of forming an interlayer conduction hole having the first conductor layer as a bottom in the insulating layer; a step of filling the interlayer conduction hole with a conductive resin composition; and removing the mask layer to form an insulating layer and a conductive resin composition Thermocompression bonding by laminating multiple wiring boards including the process of exposing the end of the object and the wiring board produced through each process And summarized in that a that process and a method for manufacturing a multilayer wiring board comprising a.

第2の特徴に係る多層配線板の製造方法によると、積層された多層配線板において、突起部を有する第1導体層が他の配線板の第2導体層となり、この第2導体層と導電性樹脂組成物との間の電気的な導通の耐久性を高めることができ、冷熱サイクルの環境下においても導通信頼性を高く保持することができる。   According to the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the second feature, in the laminated multilayer wiring board, the first conductor layer having the protrusion becomes the second conductor layer of another wiring board, and the second conductor layer and the conductive layer are electrically conductive. The durability of electrical conduction between the conductive resin composition and the conductive resin composition can be enhanced, and the conduction reliability can be kept high even in a cold cycle environment.

又、第2の特徴に係る多層配線板の製造方法において、層間導通穴を形成する工程の後に、第1導体層の層間導通穴側となる面に金属層を形成する工程を更に含み、金属層を底部とする層間導通穴に導電性樹脂組成物を充填してもよい。   The method of manufacturing a multilayer wiring board according to the second feature further includes a step of forming a metal layer on a surface of the first conductor layer on the side of the interlayer conduction hole after the step of forming the interlayer conduction hole, The conductive resin composition may be filled in an interlayer conduction hole having a layer as a bottom.

この多層配線板の製造方法によると、図6に示す界面Aでの第1導体層と導電性樹脂組成物との間の電気的な導通の耐久性を高めることができる。   According to this method for manufacturing a multilayer wiring board, it is possible to improve the durability of electrical conduction between the first conductor layer and the conductive resin composition at the interface A shown in FIG.

本発明によると、導体層と導電性ペーストとの間の電気的な導通の耐久性を高め、冷熱サイクルの環境下においても、導通信頼性の高い多層配線板及び多層配線板の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there are provided a multi-layer wiring board and a method for manufacturing a multi-layer wiring board having high electric conduction durability between the conductor layer and the conductive paste and having high conduction reliability even in an environment of a thermal cycle. can do.

次に、図面を用いて、本発明の実施の形態を説明する。以下の面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the descriptions of the following aspects, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic and ratios of dimensions and the like are different from actual ones. Accordingly, specific dimensions and the like should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

(多層配線板の構成)
図1(a)は、本実施形態に係る多層配線板の部分断面図であり、特にIVH部分の構造を示したものである。本実施形態に係わるプリント配線板10は、相互に張り合わされた絶縁基材11と接着材層13とから構成され、その内部の所定箇所にビアホール(層間導通穴)14を有する絶縁層20を備える。
(Configuration of multilayer wiring board)
FIG. 1A is a partial cross-sectional view of the multilayer wiring board according to this embodiment, and particularly shows the structure of the IVH portion. A printed wiring board 10 according to the present embodiment includes an insulating base material 11 and an adhesive layer 13 that are bonded to each other, and includes an insulating layer 20 that has a via hole (interlayer conduction hole) 14 at a predetermined location inside. .

絶縁層20の絶縁基材11側の面には、ビアホール14の位置に回路パターンとなる導体層12aが形成されている。又、絶縁層20の接着材層13側の面には、ビアホール14の位置に回路パターンとなる導体層12bが形成されている。尚、図1(a)において、導体層20bは、積層された図示しない他のプリント配線板に形成された導体層を示している。又、ビアホール14には導電性ペースト16が充填され、導体層20a及び導体層20bがそれぞれ導電性ペースト16と電気的に接続することにより、導体層20aと導体層20bとが導通している。   On the surface of the insulating layer 20 on the insulating base material 11 side, a conductor layer 12 a serving as a circuit pattern is formed at the position of the via hole 14. A conductor layer 12b serving as a circuit pattern is formed at the via hole 14 on the surface of the insulating layer 20 on the adhesive layer 13 side. In FIG. 1A, a conductor layer 20b indicates a conductor layer formed on another printed wiring board (not shown) that is laminated. The via hole 14 is filled with the conductive paste 16, and the conductor layer 20a and the conductor layer 20b are electrically connected to the conductive paste 16, respectively, so that the conductor layer 20a and the conductor layer 20b are electrically connected.

又、導体層20bの導電性ペースト16と接する面には、ビアホール14の外周内に位置する大きさの突起部50を有する。図1(b)は、図1(a)に示す多層配線板の上面図である。図1(b)では、導体層20bとビアホール14の外形以外は省略している。図1(b)に示すように、導体層20bに設けられた突起部50は、円形状であり、その直径は、ビアホール14の直径よりも小さい。   Further, the surface of the conductor layer 20 b that contacts the conductive paste 16 has a protrusion 50 having a size located within the outer periphery of the via hole 14. FIG. 1B is a top view of the multilayer wiring board shown in FIG. In FIG. 1 (b), parts other than the outer shape of the conductor layer 20b and the via hole 14 are omitted. As shown in FIG. 1B, the protrusion 50 provided on the conductor layer 20 b has a circular shape, and the diameter thereof is smaller than the diameter of the via hole 14.

更に、図1(a)に示すように、導電性ペースト16と導体層12aとの間には、金属層15が形成される。金属層15は、導電性ペースト16及び導体層12aと電気的に接続されている。   Further, as shown in FIG. 1A, a metal layer 15 is formed between the conductive paste 16 and the conductor layer 12a. The metal layer 15 is electrically connected to the conductive paste 16 and the conductor layer 12a.

絶縁基材11としては、例えばポリイミド、LCP(Liquid Crystal Polymer)などの可とう性樹脂フィルムを用いることができる。   As the insulating base material 11, for example, a flexible resin film such as polyimide or LCP (Liquid Crystal Polymer) can be used.

導体層12a、12bとしては、例えば銅箔などの導電性部材を用いることができる。又、導体層12bの突起部50は、フォトグラフィーによって形成することができる。   As the conductor layers 12a and 12b, for example, conductive members such as copper foil can be used. Moreover, the protrusion part 50 of the conductor layer 12b can be formed by photography.

接着材層13としては、例えば熱可塑性ポリイミド等の熱可塑性の樹脂フィルムや、エポキシ系、ポリエステル系、フェノール系、アクリル系等の熱硬化性の樹脂フィルムを用いることができる。   As the adhesive layer 13, for example, a thermoplastic resin film such as thermoplastic polyimide, or a thermosetting resin film such as epoxy, polyester, phenol, or acrylic can be used.

金属層15としては、銅、ニッケル、錫、はんだ、亜鉛、金などの金属を用いることができ、これらの金属は導体層12aのビアホール14側となる面に金属めっきにより形成される。金属めっきの手法としては、電解めっき、無電解めっきのいずれであってもよい。又、めっきの厚みは、特に制限はないが、めっきを厚くするには時間がかかり、又コスト高となるため、およそ3μm以下とすることが望ましい。更に、ビアホール14の反対側の面にめっきが析出しないようにマスキングフィルムで覆うようにしてもよい。   As the metal layer 15, metals such as copper, nickel, tin, solder, zinc, and gold can be used, and these metals are formed on the surface of the conductor layer 12a on the via hole 14 side by metal plating. As a method of metal plating, either electrolytic plating or electroless plating may be used. The thickness of the plating is not particularly limited, but it takes time to increase the thickness of the plating and the cost is high. Further, a masking film may be used to prevent plating from being deposited on the opposite surface of the via hole 14.

導電性ペースト16としては、μmサイズの金属フィラー(銅、錫、銀など)を樹脂バインダ中に分散させ、溶剤を含む粘性媒体に混ぜてペースト状にしたポリマー型導電性ペーストなどを用いることができる。又、導電性ペースト16をビアホール14内に充填する手法としては、例えば、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法などを用いることができる。   As the conductive paste 16, a polymer-type conductive paste or the like in which a μm-sized metal filler (copper, tin, silver, or the like) is dispersed in a resin binder and mixed with a viscous medium containing a solvent is used. it can. Further, as a method for filling the conductive paste 16 into the via hole 14, for example, a screen printing method, a dispensing method, an ink jet method or the like can be used.

上記のように構成されたプリント配線板10を所定枚数積層し、熱圧着することにより、導体層12aと金属層15、金属層15と導電性ペースト16、導電性ペースト16と導体層12bがそれぞれ密着して、基板表裏の電気的な導通が得られる。   By laminating a predetermined number of printed wiring boards 10 configured as described above and thermocompression bonding, the conductor layer 12a and the metal layer 15, the metal layer 15 and the conductive paste 16, and the conductive paste 16 and the conductor layer 12b, respectively. Adhering closely, electrical conduction between the front and back of the substrate is obtained.

(多層配線板の製造方法)
次に、本実施形態に係る多層配線板の製造方法について、図2及び図3を用いて説明する。図2(a)〜(i)、図3(j)〜(l)は、本実施形態に係る多層配線板の製造工程を示す模式断面図である。尚、以下に説明する実施形態において、材料、加工法などは一例を示したものに過ぎない。即ち、本発明は、ここで記載していない様々な実施形態を含むことは勿論であり、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
(Manufacturing method of multilayer wiring board)
Next, a method for manufacturing a multilayer wiring board according to this embodiment will be described with reference to FIGS. FIGS. 2A to 2I and FIGS. 3J to 3L are schematic cross-sectional views showing manufacturing steps of the multilayer wiring board according to this embodiment. In the embodiments described below, materials, processing methods, and the like are merely examples. That is, the present invention includes various embodiments that are not described herein, and the technical scope of the present invention is determined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description. Is.

まず、図2(a)に示すように、ポリイミドからなる絶縁基材11の表面に銅箔の導体層12を張り合わせた積層板を出発材料とし、図2(b)に示すように、フォトリソグラフィーによって必要な部分のみが配線となるように回路パターンを形成する。以下、導体層12a、12bを適宜に導体層12と表記する。   First, as shown in FIG. 2 (a), a laminated plate in which a copper foil conductor layer 12 is bonded to the surface of an insulating base material 11 made of polyimide is used as a starting material. As shown in FIG. 2 (b), photolithography is performed. As a result, a circuit pattern is formed so that only necessary portions become wiring. Hereinafter, the conductor layers 12a and 12b are appropriately referred to as the conductor layer 12.

次に、図2(c)に示すように、導体層12の絶縁基材11に接する面と反対側の面に、フォトリソグラフィーによって突起部50を形成する。ここで、位置精度を考慮して、最終的にビアホール14の外周内に突起部50の外周がおさまるように形成する必要がある。   Next, as shown in FIG. 2C, the protrusion 50 is formed on the surface of the conductor layer 12 opposite to the surface in contact with the insulating base material 11 by photolithography. Here, in consideration of the positional accuracy, it is necessary to form the protrusion 50 so that the outer periphery of the via hole 14 finally falls within the outer periphery of the via hole 14.

次に、図2(d)に示すように、絶縁基材11の裏面に、接着材層13となる熱可塑性ポリイミドの樹脂フィルムをラミネートする。続いて、図2(e)に示すように、接着材層13の表面にマスキングフィルム18となるプラスチックフィルムをラミネートする。このマスキングフィルム18は、導電性ペースト16がビアホール14内を除く接着材層13に塗布されることを防ぐ役割を果たす。   Next, as shown in FIG. 2D, a thermoplastic polyimide resin film to be the adhesive layer 13 is laminated on the back surface of the insulating base material 11. Subsequently, as shown in FIG. 2E, a plastic film that becomes the masking film 18 is laminated on the surface of the adhesive layer 13. The masking film 18 serves to prevent the conductive paste 16 from being applied to the adhesive layer 13 except inside the via hole 14.

尚、マスキングフィルム18の材料に特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフィニレンサルファイト、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などのプラスチックフィルムを用いることができる。又、マスキングフィルム18のラミネーションは、ロールラミネータ、平行平板のプレスなどの手法を用いることができる。又、これらの手法を真空中で実施するようにしてもよい。   The material of the masking film 18 is not particularly limited, and plastic films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyfinylene sulfite, polyimide, polypropylene, polyethylene, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, and melamine resin can be used. it can. For the lamination of the masking film 18, a roll laminator, a parallel plate press or the like can be used. These methods may be performed in a vacuum.

次に、図2(f)に示すように、マスキングフィルム18上の所定位置から炭酸ガスレーザを照射して、導体層12を底部とするビアホール14を形成する。尚、ビアホール14の形成には、炭酸ガスレーザ以外にも、例えば、UV−TAGレーザやエキシマレーザなどのレーザを用いることができる。   Next, as shown in FIG. 2 (f), a carbon dioxide laser is irradiated from a predetermined position on the masking film 18 to form a via hole 14 having the conductor layer 12 as a bottom. In addition to the carbon dioxide laser, for example, a laser such as a UV-TAG laser or an excimer laser can be used to form the via hole 14.

又、ビアホール14を形成した後に、導体層12と導電性ペースト16との接続信頼性を向上させるために、必要に応じて、ビアホール14ないに残存したスミア(有機汚染物)を除去するデスミア処理を実施してもよい。更に、酸化銅を除去するため、塩酸、硫酸などの水溶液を用いて内部を洗浄してもよい。   Further, after the via hole 14 is formed, in order to improve the connection reliability between the conductor layer 12 and the conductive paste 16, a desmear treatment for removing smear (organic contaminants) remaining in the via hole 14 as necessary. May be implemented. Furthermore, in order to remove copper oxide, the inside may be washed with an aqueous solution such as hydrochloric acid or sulfuric acid.

次に、図2(g)に示すように、導体層12のビアホール14側となる面に、金属層15となる銅を電解めっきにより形成する。続いて、図2(h)に示すように、この金属層15を底部とするビアホール14内に、導電性ペースト16となる銅ペーストをスクリーン印刷法により充填する。更に、図2(i)に示すように、マスキングフィルム18を除去して、接着材層13と、導電性ペースト16の突起部16aとをそれぞれ露出させる。   Next, as shown in FIG. 2G, copper to be the metal layer 15 is formed on the surface of the conductor layer 12 on the via hole 14 side by electrolytic plating. Subsequently, as shown in FIG. 2H, a copper paste to be a conductive paste 16 is filled into the via hole 14 having the metal layer 15 as a bottom by a screen printing method. Further, as shown in FIG. 2 (i), the masking film 18 is removed to expose the adhesive layer 13 and the protrusions 16 a of the conductive paste 16.

以上の工程(a)〜(i)を経ることにより、1枚分のプリント配線板が完成する。これを必要分だけ作製する。   A printed wiring board for one sheet is completed through the above steps (a) to (i). This is produced as much as necessary.

次に、図3(j)に示すように、上記と同様の工程で作製した複数枚のプリント配線板10と、絶縁基材11に回路パターンとなる導体層12が形成された最下層用のプリント配線板30とを、それぞれ位置合わせして積層する。位置合わせは、例えば、画像認識による手法、或いはそれぞれのプリント配線板10に設けた図示しない穴にピンを通すなどの手法を用いて行う。更に、図3(k)に示すように、積層した複数のプリント配線板10を図示しないプレス機により熱圧着する。これにより、各プリント配線板10の接着材層13と対応する絶縁基材11とが層間接着され、多層化された多層配線板40が完成する。   Next, as shown in FIG. 3 (j), a plurality of printed wiring boards 10 produced in the same process as described above, and a lowermost layer in which a conductor layer 12 serving as a circuit pattern is formed on an insulating base material 11. The printed wiring board 30 is aligned and stacked. The alignment is performed using, for example, a method based on image recognition or a method such as passing a pin through a hole (not shown) provided in each printed wiring board 10. Further, as shown in FIG. 3 (k), the plurality of laminated printed wiring boards 10 are thermocompression bonded by a not-shown press. As a result, the adhesive layer 13 of each printed wiring board 10 and the corresponding insulating base material 11 are bonded to each other to complete a multilayered wiring board 40.

又、熱圧着することにより、導電性ペースト16の突起部16aが対向するプリント配線板の導体層12b(回路パターン)に押し付けられて潰され、ビアホール14内に高密度に充填される。同時に、導電性ペースト16と導体層12とが密着することにより、基板表裏の電気的な接続が得られる。   In addition, by thermocompression bonding, the protruding portion 16a of the conductive paste 16 is pressed against the conductive layer 12b (circuit pattern) of the printed wiring board and is crushed to fill the via hole 14 with high density. At the same time, the conductive paste 16 and the conductor layer 12 are brought into close contact with each other, whereby electrical connection between the front and back of the substrate is obtained.

そして、図3(l)に示すように、最上層となるプリント配線板10の表面を覆うように、絶縁性の保護膜19となるカバーレイ(フィルム)、或いはソルダーレジストを形成する。   Then, as shown in FIG. 3L, a cover lay (film) or a solder resist serving as an insulating protective film 19 is formed so as to cover the surface of the printed wiring board 10 as the uppermost layer.

(作用及び効果)
本実施形態に係る多層配線板において、各層に配置されたプリント配線板は、導体層12bの導電性ペースト16と接する面に、ビアホール14の外周内に位置する大きさの突起部50を有する。このような突起部50を設けることで、導体層12bと導電性ペースト16との界面における接続強度を上げ、導体層12bと導電性ペースト16との間の電気的な導通の耐久性を高めることができる。又、導体層12bと導電性ペースト16との界面において、クラックが生じた場合、クラックの進展を突起部50で止めることができる。従って、本実施形態に係る多層配線板によると、冷熱サイクルのような過酷な環境下においても導通信頼性を高く保持することができる。
(Function and effect)
In the multilayer wiring board according to the present embodiment, the printed wiring board disposed in each layer has a protrusion 50 having a size located within the outer periphery of the via hole 14 on the surface of the conductor layer 12b that contacts the conductive paste 16. By providing such a protrusion 50, the connection strength at the interface between the conductor layer 12b and the conductive paste 16 is increased, and the durability of electrical conduction between the conductor layer 12b and the conductive paste 16 is increased. Can do. Further, when a crack occurs at the interface between the conductor layer 12 b and the conductive paste 16, the progress of the crack can be stopped by the protrusion 50. Therefore, according to the multilayer wiring board according to the present embodiment, high conduction reliability can be maintained even under a harsh environment such as a thermal cycle.

又、図4に示すように、突起部50の外周がビアホール14の外周の外側に位置する場合、外側に位置した領域Cにおいて、導体層12bと導電性ペースト16との界面からクラックが進行してしまう。このため、本実施形態に係る多層配線板において、突起部50の外周は、ビアホール14の外周内に位置することが重要である。   In addition, as shown in FIG. 4, when the outer periphery of the protrusion 50 is located outside the outer periphery of the via hole 14, cracks progress from the interface between the conductor layer 12 b and the conductive paste 16 in the region C located outside. End up. For this reason, in the multilayer wiring board according to the present embodiment, it is important that the outer periphery of the protrusion 50 is located within the outer periphery of the via hole 14.

上述した突起部50を有する構成とした多層配線板によると、従来の構成として説明した図6に示す、界面Bにおける接続強度を高くすることができる。   According to the multilayer wiring board having the configuration having the protrusion 50 described above, the connection strength at the interface B shown in FIG. 6 described as the conventional configuration can be increased.

又、本実施形態に係る多層配線板において、各層に配置されたプリント配線板は、導体層12aのビアホール14側となる面に金属層15が形成され、この金属層15を底部とするビアホール14の内部に導電性ペースト16が充填された構造となっている。これにより、図5の部分拡大図に示すように、導体層12aと金属層15との界面は金属結合により密着することになるため、応力F1、F2が最も集中すると考えられる、導体層12a/絶縁基材11/金属層15の接続部分17の接続強度は、金属層15を持たない従来構造(図6参照)の接続強度よりも高くなる。このため、冷熱サイクルによる繰り返し応力が加わっても、導体層12aと導電性ペースト16との界面にクラックが生じにくくなり、導体層12aと導電性ペースト16との間の電気的な導通の耐久性を高めることができる。従って、本実施形態に係る多層配線板によると、冷熱サイクルのような過酷な環境下においても導通信頼性を高く保持することができる。   In the multilayer wiring board according to the present embodiment, the printed wiring board disposed in each layer has a metal layer 15 formed on the surface of the conductor layer 12a on the via hole 14 side, and the via hole 14 having the metal layer 15 as a bottom. The inside is filled with the conductive paste 16. As a result, as shown in the partially enlarged view of FIG. 5, the interface between the conductor layer 12a and the metal layer 15 is brought into close contact by metal bonding, so that the stresses F1 and F2 are considered to be most concentrated. The connection strength of the connection portion 17 of the insulating base material 11 / metal layer 15 is higher than the connection strength of the conventional structure without the metal layer 15 (see FIG. 6). For this reason, even when a repeated stress is applied due to the thermal cycle, cracks are unlikely to occur at the interface between the conductor layer 12 a and the conductive paste 16, and the electrical continuity between the conductor layer 12 a and the conductive paste 16 is durable. Can be increased. Therefore, according to the multilayer wiring board according to the present embodiment, high conduction reliability can be maintained even under a harsh environment such as a thermal cycle.

上述した金属層15を有する構成の多層配線板によると、従来の構成として説明した図6に示す、界面Aにおける接続強度を高くすることができる。   According to the multilayer wiring board having the metal layer 15 described above, the connection strength at the interface A shown in FIG. 6 described as the conventional configuration can be increased.

(その他の実施形態)
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
Although the present invention has been described according to the above-described embodiments, it should not be understood that the descriptions and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

例えば、図1に示す多層配線板において、接着材層13側に配置された導体層12bが突起部50を有すると説明したが、絶縁基材11側に配置された導体層12aも突起部50を有する構成にしてもよい。   For example, in the multilayer wiring board shown in FIG. 1, it has been described that the conductor layer 12 b disposed on the adhesive layer 13 side has the protrusion 50, but the conductor layer 12 a disposed on the insulating base material 11 side is also the protrusion 50. You may make it the structure which has.

又、図1に示す多層配線板において、突起部50の形状を円形状として説明したが、突起部50はその外形がビアホール14の外形よりも小さければよく、その形状は円に限らず、楕円形状や多角形状でも構わない。   Further, in the multilayer wiring board shown in FIG. 1, the shape of the protrusion 50 has been described as a circular shape, but the protrusion 50 only needs to have an outer shape smaller than the outer shape of the via hole 14, and the shape is not limited to a circle, but an elliptical shape. It may be a shape or a polygonal shape.

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。   As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

以下、本発明に係る配線基板用基材について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施することができるものである。   Hereinafter, the substrate for a wiring board according to the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to those shown in the following examples, and the gist thereof is not changed. In the range, it can implement by changing suitably.

(実施例1)
実施例1に係る多層配線板は、上記実施形態において説明した製造方法に従って作製された。図2(c)に示す製造工程においては、ビアホール14外周内に、突起部50の外周がおさまるように形成し、ビアホール14外周と突起部50外周の差が50μmとなるように形成した。
Example 1
The multilayer wiring board according to Example 1 was manufactured according to the manufacturing method described in the above embodiment. In the manufacturing process shown in FIG. 2C, the outer periphery of the protrusion 50 is formed so as to be within the outer periphery of the via hole 14, and the difference between the outer periphery of the via hole 14 and the outer periphery of the protrusion 50 is 50 μm.

(比較例1)
比較例1に係る多層配線板は、図2(c)に示す突起部50の形成工程を実施しなかったこと以外は、実施例1と同様の工程により作製された。
(Comparative Example 1)
The multilayer wiring board according to Comparative Example 1 was manufactured by the same process as that of Example 1 except that the process of forming the protrusions 50 shown in FIG.

(比較例2)
比較例2に係る多層配線板は、図2(c)に示す突起部50の形成工程及び図2(g)に示す金属層15の形成工程を実施しなかったこと以外は、実施例1と同様の工程により作製された。
(Comparative Example 2)
The multilayer wiring board according to Comparative Example 2 is the same as Example 1 except that the formation process of the protrusions 50 shown in FIG. 2C and the formation process of the metal layer 15 shown in FIG. It was produced by the same process.

(評価)
冷熱サイクル試験を実施する際の前処理として、実施例1、比較例1及び比較例2に係る多層配線板を、30℃、85%R.H.、24h放置後、リフロー炉で260℃ピークの熱履歴を3回与えた。その後、−25℃/125℃の冷熱サイクル試験を5000サイクル及び6000サイクル実施した。そして、試験後に各多層配線板における電気的な断線の有無をテスタにて確認した。ここで、断線があった場合、断面観察を行い、断線箇所を特定した。実施例1、比較例1及び比較例2の評価結果を表1に示す。

Figure 2009123879
(Evaluation)
As a pretreatment when carrying out the thermal cycle test, the multilayer wiring boards according to Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 were subjected to 30 ° C. and 85% R.D. H. After 24 hours, a heat history of 260 ° C. peak was given three times in a reflow furnace. Then, the -25 degreeC / 125 degreeC cooling-heat cycle test was implemented 5000 cycles and 6000 cycles. And after the test, the presence or absence of electrical disconnection in each multilayer wiring board was confirmed with a tester. Here, when there was a disconnection, cross-sectional observation was performed and the disconnection location was specified. The evaluation results of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 are shown in Table 1.
Figure 2009123879

表1に示すように、突起部50及び金属層15を形成した実施例1に係る多層配線板では、6000サイクルの冷熱サイクルの環境下においても、断線が発生せず、冷熱サイクルのような過酷な環境下においても導通信頼性を高く保持することができた。一方、突起部50を形成しなかった比較例1に係る多層配線板では、6000サイクルの冷熱サイクル環境下において、図6に示す界面Bにおいて断線が発生していた。又、金属層15を形成しなかった比較例2に係る多層配線板では、5000サイクル及び6000サイクルの冷熱サイクル環境下において、図6に示す界面Aにおいて断線が発生していた。   As shown in Table 1, in the multilayer wiring board according to Example 1 in which the protrusions 50 and the metal layer 15 are formed, disconnection does not occur even under the environment of the 6000 cycle cooling cycle, and it is as severe as the cooling cycle. Even in a difficult environment, it was possible to maintain high conduction reliability. On the other hand, in the multilayer wiring board according to Comparative Example 1 in which the protrusions 50 were not formed, disconnection occurred at the interface B shown in FIG. 6 under a 6000 cycle cooling / heating cycle environment. Further, in the multilayer wiring board according to Comparative Example 2 in which the metal layer 15 was not formed, disconnection occurred at the interface A shown in FIG. 6 in a thermal cycle environment of 5000 cycles and 6000 cycles.

従って、導体層12に突起部50を形成することにより、導体層12bと導電性ペースト16との界面における接続強度を上げ、導体層12bと導電性ペースト16との間の電気的な導通の耐久性を高めることができることが分かった。又、金属層15を形成することにより、導体層12aと導電性ペースト16との界面における接続強度を上げ、導体層12aと導電性ペースト16との間の電気的な導通の耐久性を高めることができることが分かった。   Therefore, by forming the protrusion 50 on the conductor layer 12, the connection strength at the interface between the conductor layer 12b and the conductive paste 16 is increased, and the electrical continuity between the conductor layer 12b and the conductive paste 16 is improved. It was found that the sex can be improved. Further, by forming the metal layer 15, the connection strength at the interface between the conductor layer 12a and the conductive paste 16 is increased, and the durability of electrical conduction between the conductor layer 12a and the conductive paste 16 is increased. I found out that

(a)は実施形態に係る多層配線板の構造を示す断面図、(b)は(a)の上面図である。(A) is sectional drawing which shows the structure of the multilayer wiring board concerning embodiment, (b) is a top view of (a). 実施形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程図である(その1)。It is process drawing which shows the manufacturing method of the multilayer wiring board which concerns on embodiment (the 1). 実施形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程図である(その2)。It is process drawing which shows the manufacturing method of the multilayer wiring board which concerns on embodiment (the 2). 実施形態に係る多層配線板の作用及び効果を説明するための図である(その1)。It is a figure for demonstrating the effect | action and effect of the multilayer wiring board which concern on embodiment (the 1). 実施形態に係る多層配線板の作用及び効果を説明するための図である(その2)。It is a figure for demonstrating the effect | action and effect of the multilayer wiring board which concern on embodiment (the 2). 従来の多層配線板の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional multilayer wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

10…プリント配線板
11…絶縁基材
12a、12b…導体層
13…接着材層
14…ビアホール(層間導通穴)
15…金属層
16…導電性ペースト(導電性樹脂組成物)
17…接続用部分
18…マスキングフィルム
19…保護膜
20…絶縁層
30…プリント配線板(最下層用)
40…多層配線板
50…突起部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Printed wiring board 11 ... Insulation base material 12a, 12b ... Conductor layer 13 ... Adhesive material layer 14 ... Via hole (interlayer conduction hole)
15 ... Metal layer 16 ... Conductive paste (conductive resin composition)
17 ... Connection part 18 ... Masking film 19 ... Protective film 20 ... Insulating layer 30 ... Printed wiring board (for the bottom layer)
40 ... Multilayer wiring board 50 ... Protrusions

Claims (4)

層間導通穴を内部に有する絶縁層と、
前記層間導通穴に充填された導電性樹脂組成物と、
前記絶縁層の一方の面において、前記層間導通穴の位置に形成され、前記導電性樹脂組成物と電気的に接続された第1導体層と、
前記絶縁層の他方の面において、前記層間導通穴の位置に形成され、前記導電性樹脂組成物と電気的に接続された第2導体層とを備え、
前記第2導体層の前記導電性樹脂組成物と接する面に、前記層間導通穴の外周内に位置する大きさの突起部を有することを特徴とする多層配線板。
An insulating layer having an interlayer conduction hole therein;
A conductive resin composition filled in the interlayer conduction holes;
A first conductor layer formed on one side of the insulating layer at the position of the interlayer conduction hole and electrically connected to the conductive resin composition;
A second conductor layer formed on the other surface of the insulating layer at the position of the interlayer conduction hole and electrically connected to the conductive resin composition;
A multilayer wiring board having a protrusion having a size located within an outer periphery of the interlayer conduction hole on a surface of the second conductor layer in contact with the conductive resin composition.
前記導電性樹脂組成物と前記第1導体層との間に形成され、前記導電性樹脂層生物及び前記第1導体層と電気的に接続された金属層を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の多層配線板。   The method further comprises a metal layer formed between the conductive resin composition and the first conductor layer, and electrically connected to the conductive resin layer organism and the first conductor layer. 2. The multilayer wiring board according to 1. 層間導通穴を内部に有する絶縁層の両側に第1導体層及び第2導体層が配置され、前記層間導通穴に前記第1導体層と前記第2導体層とを電気的に導通させる導電性樹脂組成物が充填された配線板を積層してなる多層配線板の製造方法であって、
前記絶縁層の一方の面に、前記第1導体層を形成する工程と、
前記第1導体層の前記絶縁層に接する面と反対側の面に、前記層間導通穴の外周内に位置する大きさの突起部を形成する工程と、
前記絶縁層の他方の面に、マスク層を形成する工程と、
前記絶縁層に前記第1導体層を底部とする前記層間導通穴を形成する工程と、
前記層間導通穴に前記導電性樹脂組成物を充填する工程と、
前記マスク層を除去して、前記絶縁層と前記導電性樹脂組成物の端部とを露出させる工程と、
上記各工程を経て製作された配線板を含む複数の配線板を積層して熱圧着する工程と
を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。
Conductivity that electrically arranges the first conductor layer and the second conductor layer in the interlayer conduction hole by arranging the first conductor layer and the second conductor layer on both sides of the insulating layer having the interlayer conduction hole therein. A method for producing a multilayer wiring board obtained by laminating wiring boards filled with a resin composition,
Forming the first conductor layer on one surface of the insulating layer;
Forming a protrusion having a size located within the outer periphery of the interlayer conduction hole on the surface of the first conductor layer opposite to the surface in contact with the insulating layer;
Forming a mask layer on the other surface of the insulating layer;
Forming the interlayer conduction hole having the first conductor layer as a bottom in the insulating layer;
Filling the interlayer conductive holes with the conductive resin composition;
Removing the mask layer to expose the insulating layer and the end of the conductive resin composition;
And a step of laminating a plurality of wiring boards including the wiring board produced through each of the above steps and thermocompression bonding.
前記層間導通穴を形成する工程の後に、前記第1導体層の前記層間導通穴側となる面に金属層を形成する工程を更に含み、
前記金属層を底部とする前記層間導通穴に前記導電性樹脂組成物を充填することを特徴とする請求項3に記載の多層配線板の製造方法。
After the step of forming the interlayer conduction hole, further comprising the step of forming a metal layer on the surface of the first conductor layer on the interlayer conduction hole side,
The method for producing a multilayer wiring board according to claim 3, wherein the conductive resin composition is filled in the interlayer conduction hole having the metal layer as a bottom.
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