JP2009116268A - フォトマスク及びそれを使用した凸状パターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に塗布された感光性樹脂を露光して高さの異なる複数種の凸状パターンを形成するためのフォトマスク1であって、透明なガラス基板2の一面を覆って形成された不透明膜3に多数形成され、複数種の凸状パターンに対応した開口を有して紫外光を透過させる第1及び第2のマスクパターン4,5と、上記複数種の凸状パターンの高さの最も高い凸状パターンを形成するための第1のマスクパターン4に対応してガラス基板2に形成された集光レンズ4と、を備えたものである。
【選択図】図2
Description
上記ガラス基板2の一面には、不透明膜3が形成されている。この不透明膜3は、紫外線の透過を遮断するものであり、例えばクロム(Cr)の薄膜である。
図4に示すように、上記露光装置は、搬送手段10と、マスクステージ11と、光源12と、コンデンサーレンズ13と、撮像手段14と、照明手段15とを備えている。
先ず、露光装置のマスクステージ11上にフォトマスク1が集光レンズ6を形成した面を上にして第1及び第2の単位マスクパターン列7,8がカラーフィルタ基板16の搬送方向(矢印A方向)と略直交するように配置され固定される。
このフォトマスク1は、間隔Lで並んだ複数の第1の単位マスクパターン列7の列間に間隔3Lで第2の単位マスクパターン列8が形成されたものである。
2…ガラス基板
3…不透明膜
4…第1のマスクパターン(一のマスクパターン)
5…第2のマスクパターン(他のマスクパターン)
6…集光レンズ
7…第1の単位マスクパターン列
8…第2の単位マスクパターン列
16…カラーフィルタ基板
25…感光性樹脂
27…スペーサ(凸状パターン)
28…配向制御用リブ(凸状パターン)
Claims (10)
- 基板上に塗布された感光性樹脂を露光して高さの異なる複数種の凸状パターンを形成するためのフォトマスクであって、
透明なガラス基板の一面を覆って形成された不透明膜に多数形成され、前記複数種の凸状パターンに対応した開口を有して紫外光を透過させる複数種のマスクパターンと、
前記複数種のマスクパターンのうち前記複数種の凸状パターンの高さの最も高い凸状パターンを形成するための一のマスクパターンに対応して前記ガラス基板に形成された集光レンズと、
を備えたことを特徴とするフォトマスク。 - 前記複数種のマスクパターンは、同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列と他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列とを所定間隔で交互に複数列並べて構成されたことを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 前記複数種のマスクパターンは、同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する複数の単位マスクパターン列を所定間隔で複数列並べて形成し、該複数の単位マスクパターン列の列間の少なくとも一つに他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列を形成して構成されたことを特徴とする請求項1記載のフォトマスク。
- 基板上に塗布された感光性樹脂を露光して高さの異なる複数種の凸状パターンを形成する方法であって、
透明なガラス基板の一面を覆って形成された不透明膜に多数形成され、前記複数種の凸状パターンに対応した開口を有して紫外光を透過させる複数種のマスクパターンと、前記複数種のマスクパターンのうち前記複数種の凸状パターンの高さの最も高い凸状パターンを形成するための一のマスクパターンに対応して前記ガラス基板に形成された集光レンズと、を備えたフォトマスクを前記基板に対向して配置し、前記フォトマスクの上方から所定の光量で所定時間だけ紫外光を照射し、前記複数種のマスクパターンを透過したそれぞれ異なる照射エネルギーの露光光により前記感光性樹脂を露光する段階と、
前記露光された感光性樹脂を所定時間だけ現像して前記高さの異なる複数種の凸状パターンを形成する段階と、
を行なうことを特徴とする凸状パターン形成方法。 - 前記感光性樹脂を露光する段階には、前記複数種のマスクパターンが同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列と他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列とを所定間隔で交互に複数列並べて構成された前記フォトマスクを配置し、前記基板を前記単位マスクパターン列と交差する方向に一定速度で移動させ、前記基板面にその移動方向に予め分割設定された複数の露光領域が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して前記露光光を照射することを特徴とする請求項4記載の凸状パターン形成方法。
- 前記感光性樹脂を露光する段階には、前記複数種のマスクパターンが同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列と他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列とを所定間隔で交互に複数列並べて構成された前記フォトマスクを配置し、前記基板を前記フォトマスクに対して相対的に前記フォトマスクの面に平行な面内を所定距離だけステップ移動させ、そのステップ移動に同期して前記露光光を照射して前記基板面に予め分割設定された複数の露光領域を順次露光することを特徴とする請求項4記載の凸状パターン形成方法。
- 前記感光性樹脂を露光する段階には、前記複数種のマスクパターンが同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する複数の単位マスクパターン列を所定間隔で複数列並べて形成し、該複数の単位マスクパターン列の列間の少なくとも一つに他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列を形成して構成された前記フォトマスクを配置し、前記基板を前記単位マスクパターン列と交差する方向に一定速度で移動させ、前記基板が前記一のマスクパターンの単位マスクパターン列の列間隔と等しい距離だけ移動する毎に前記露光光を照射することを特徴とする請求項4記載の凸状パターン形成方法。
- 前記感光性樹脂を露光する段階には、前記複数種のマスクパターンが同種のパターンを略一直線状に並べて単位マスクパターン列とし、前記一のマスクパターンを構成する複数の単位マスクパターン列を所定間隔で複数列並べて形成し、該複数の単位マスクパターン列の列間の少なくとも一つに他のマスクパターンを構成する単位マスクパターン列を形成して構成された前記フォトマスクを配置し、前記基板を前記フォトマスクに対して相対的に前記フォトマスクの面に平行な面内にて前記単位マスクパターン列と交差する方向に前記一のマスクパターンの単位マスクパターン列の列間隔と等しい距離だけ順次ステップ移動し、その都度前記露光光を照射することを特徴とする請求項4記載の凸状パターン形成方法。
- 前記露光の光量及び照射時間は、前記感光性樹脂の前記一のマスクパターンに対応する部分の硬化反応が十分に進行し、且つ他のマスクパターンに対応する部分の硬化反応の進行が不十分となるように設定されたことを特徴とする請求項4〜8のいずれか1項に記載の凸状パターン形成方法。
- 前記基板は、カラーフィルタ基板であり、前記複数種の凸状パターンのうち前記高さの最も高い凸状パターンはセルギャップを制御するスペーサで、他の凸状パターンは液晶分子の配向を制御する配向制御用リブであることを特徴とする請求項4〜9のいずれか1項に記載の凸状パターン形成方法。
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