JP2009115788A - ダブルパターニング基板のオーバレイ測定 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上の第一構造と第二構造の間のオーバレイを測定する方法が提供される。構造は、平行線などの等距離要素を備え、第一及び第二構造の等距離要素が交互になる。本発明によれば、第一構造の要素の設計幅CD1は、第二構造の要素の設計幅CD2と異なる。設計幅の差を使用して、不適切に測定されたオーバレイ誤差を有する測定点を識別することができる。
【選択図】図4
Description
−基板上で調査される複数の対象点(xi,yi)を受け、
−対象点(xi,yi)毎に第一構造と第二構造とのオーバレイ誤差DPTOを割り出し、
−対象点(xi,yi)毎に第一要素の幅W1及び第二要素の幅W2を測定し、
−対象点(xi,yi)毎に第一要素の測定幅W1と第二要素の幅W2との差を割り出し、
−差の関数として、差についてほぼ同じ値を有する対象点の数の分布を割り出し、
−分布が、差CD1−CD2と比較して反対の記号を有する値W1−W2の周囲にサブ分布を含む場合、サブ分布に関連する対象点を、不適切に測定されたオーバレイ誤差を有するものとして識別することを含む。
−第一パターニングデバイスの第一露光を使用して、第一複数の等距離要素を備える第一構造を基板上に形成し、
−第二パターニングデバイスの第一露光を使用して、第二複数の等距離要素を備える第二構造を基板上に形成することを含み、第一複数の等距離要素が第二複数の等距離要素と交互になり、第一複数の等距離要素の設計幅は第二複数の等距離要素の設計幅と異なる。
− 放射ビームB(例えばUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
P1=(PL−PR)/2 (1)
これで、DPTOを下式のように計算することができる。
DPTO=P−P1 (2)
DPTOX=PX−(PLx+PRx)/2、ここでPXはX方向の設計ピッチである。
DPTOY=PY−(PLy+PRy)/2、ここでPYはY方向の設計ピッチである。
Claims (11)
- 基板上の第一構造と第二構造の間のオーバレイを測定する方法であって、前記第一構造は第一複数の等距離要素を備え、前記第二構造は第二複数の等距離要素を備え、前記第一複数の等距離要素が前記第二複数の等距離要素と交互になり、前記第一複数の等距離要素の設計幅CD1が前記第二複数の等距離要素の設計幅CD2とは異なり、前記方法は、
−前記基板上で調査される複数の対象点(xi,yi)を受け、
−対象点(xi,yi)毎に前記第一構造と前記第二構造とのオーバレイ誤差DPTOを割り出し、
−対象点(xi,yi)毎に第一要素の幅W1及び第二要素の幅W2を測定し、
−対象点(xi,yi)毎に前記第一要素の前記測定幅W1と前記第二要素の前記幅W2との差を割り出し、
−前記差の関数として、前記差についてほぼ同じ値を有する対象点の数の分布を割り出し、
−前記分布が、前記差CD1−CD2と比較して反対の記号を有する値W1−W2の周囲にサブ分布を含む場合、前記サブ分布に関連する対象点を、不適切に測定されたオーバレイ誤差を有するものとして識別することを含む、方法。 - 前記方法がさらに、
−正しいオーバレイ誤差にするために、前記不適切な測定オーバレイ誤差の記号を切り換えることを含む、請求項1に記載のオーバレイ測定方法。 - 前記オーバレイ誤差DPTOが、
−前記第一要素の第一縁部と、前記第一要素の隣に配置された前記第二要素の対応する第一縁部との間の距離PLを、第一所定方向で割り出し、
−前記第一要素の第二縁部と、前記第二要素の対応する第二縁部との間の距離PRを割り出し、前記第二縁部は前記第一縁部に対向して位置し、前記対応する第二縁部が前記対応する第一縁部に対向して位置し、さらに、
−下式、
DPTO=P−(PL+PR)/2、ここでPは設計ピッチである、
を使用して、各対象点(xi,yi)の前記オーバレイ誤差DPTOを計算することによって、
割り出される、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。 - 前記第一要素が、前記対象点(xi,yi)に又はその最も近くに存在する要素として局所化される、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。
- 前記複数の対象点(xi,yi)の前記DPTOが、走査型電子顕微鏡を使用して前記複数の対象点(xi,yi)それぞれによって割り出された領域の像Iiを作成することによって割り出される、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。
- 前記第一複数の等距離要素が第一複数の平行線を備え、前記第二複数の等距離要素が第二複数の平行線を備える、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。
- 前記第一複数の等距離要素が第一複数の実質的に円形の要素を備え、前記第二複数の等距離要素が第二複数の実質的に円形の要素を備える、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。
- 前記第一複数の等距離要素の前記幅が50nm未満である、前記請求項のいずれかに記載のオーバレイ測定方法。
- 基板上にオーバレイ測定構造を製造する方法であって、
−第一パターニングデバイスの第一露光を使用して、第一複数の等距離要素を備える第一構造を前記基板上に形成し、
−第二パターニングデバイスの第一露光を使用して、第二複数の等距離要素を備える第二構造を前記基板上に形成することを含み、前記第一複数の等距離要素が前記第二複数の等距離要素と交互になり、前記第一複数の等距離要素の設計幅が前記第二複数の等距離要素の設計幅と異なる、方法。 - 請求項9に記載の方法により製造されたオーバレイ測定構造。
- 請求項1から9に記載の方法を実行するために、機械実行可能命令で符号化された機械読み取り可能媒体。
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