JP2009088165A - フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 キャリブレーションマークに光の反射率が異なるパターンを作成し、このパターンを光で走査し、検出された光量データと対応させて高さ測定する測定点の位置を特定し、描画状況下で、前記走査及び前記高さ測定する測定点の位置の特定を行い、所定の光量データに対応する測定点の位置を前記描画状況の前後で比較し、描画状況下における位置ずれを検出し、この位置ずれから、描画状況下の高さ測定する測定点の位置の補正データを生成する高さ測定方法及び電子線描画装置を提供する。
【選択図】図4
Description
2 制御コンピュータ
3 高さ測定部
16 ステージ
17 マーク台
Claims (5)
- ステージ上に載置されたフォトマスクに電子線を用いて所定のパターンを描画するために、フォトマスク表面に対して斜め上方に設置した光源から、所定の位置に光軸を合わせて光を照射することにより、フォトマスク表面で反射した反射光の検出位置によりフォトマスク表面の形状を測定するフォトマスクの高さ測定方法であって、
前記ステージ上に設けられたキャリブレーションマークに光の反射率が異なるパターンを作成する工程と、このパターンが作成されたキャリブレーションマークの表面を上記光源から照射する光によって走査する工程と、この走査によって検出された光量データと対応させて高さ測定する測定点の位置を特定する工程と、描画状況下で、前記走査及び前記高さ測定する測定点の位置の特定を行う工程と、所定の光量データに対応する測定点の位置を前記描画状況の前後で比較し、描画状況下における位置ずれを検出し、この位置ずれから、描画状況下の高さ測定する測定点の位置の補正データを生成する工程とを有することを特徴とするフォトマスクの高さ測定方法。 - 前記検出された位置ずれから、前記光源の光軸の位置を調整する調整データを生成し、この調整データによって描画状況下の光源の照射位置を自動制御することを特徴とするフォトマスクの高さ測定方法。
- 前記高さ測定する測定点の位置は、前記走査によって検出された光量データに対して所定の閾値を設定し、この閾値を超えるデータのエッジ位置データを複数検出し、各エッジ位置データを重み平均して算出することを特徴とする請求項1または請求項2記載のフォトマスク高さ測定方法。
- 前記高さ測定する測定点の位置は、前記走査によって検出された光量データの微分値を求め、前記所定の閾値を超える微分値のエッジ位置データを複数検出し、各エッジ位置データを重み平均して算出することを特徴とする請求項1または請求項2記載のフォトマスク高さ測定方法。
- ステージ上に載置されたフォトマスク表面に対して斜め上方から光を照射する光源と、この光源から照射される光をフォトマスク表面で収束させる投光レンズと、前記フォトマスク表面で反射した前記光を受ける受光レンズと、この受光レンズにより収束された光が入射して、反射光の検出位置から位置を検出する光位置検出器とを有するフォトマスク表面の高さ測定手段を備えた電子線描画装置であって、
前記ステージ上に設け、光の反射率が異なるパターンが形成されたキャリブレーションマークを載置したマーク台と、このキャリブレーションマークの表面形状を前記高さ測定手段によって走査し、高さ測定をする測定点の位置を前記走査によって検出された光量データと対応させて記憶する記憶手段とを備え、描画状況下で、前記走査及び前記高さ測定する測定点の位置を特定し、所定の光量データに対応する測定点の位置を前記描画状況の前後で比較し、描画状況下における位置ずれを検出し、この位置ずれから、描画状況下の高さ測定する測定点の位置の補正データを生成する生成手段を有することを特徴とする電子線描画装置。
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