JP2009087667A - 荷電粒子ビーム用偏向器、荷電粒子ビーム用アセンブリおよび荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム用偏向器、荷電粒子ビーム用アセンブリおよび荷電粒子ビーム装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 荷電粒子ビーム20が通るビーム路を有する筒状体1の内側に、複数の絶縁体部4および複数の電極部2がある荷電粒子ビーム用偏向器100であって、ビーム路から見通せる位置に、電極部2と、少なくとも表面が半導電性または導電性である遮蔽体10とを配置するとともに、ビーム路から見通せない位置に、絶縁体部4を配置したことにより、帯電を防止しつつ、小型で高寸法精度の荷電粒子ビーム用偏向器を得ることができる。。
【選択図】 図1
Description
2:電極(電極部)
3a:ザグリ穴
3b:第1接続部材
4:絶縁周溝(絶縁体部)
5:導電ピン
5a:ロウ付部
6:接続穴
7:分極溝
7a:内周側溝
7b:絶縁縦溝(絶縁体部)
7c:外周側溝
8:内周側導電膜
9:外周側導電膜
10:帯電防止ピン(遮蔽体)
11:保持体
12:接地体
13a:ザグリ穴
13b:第2接続部材
16:接続穴
20:荷電粒子ビーム
100:荷電粒子ビーム用偏向器
200:荷電粒子ビーム用アセンブリ
Claims (7)
- 荷電粒子ビームが通過するためのビーム路を備えた筒状体の内側において、前記ビーム路から見通せる位置に、複数の電極部と、少なくとも表面が半導電性または導電性の遮蔽体とを配置するとともに、前記ビーム路から見通せない位置に、複数の絶縁体部を配置したことを特徴とする荷電粒子ビーム用偏向器。
- 前記複数の電極部は、前記ビーム路側から前記筒状体の外周側へ形成された溝を介して絶縁され、前記溝における前記外周側に前記遮蔽体が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム用偏向器。
- 前記遮蔽体の少なくとも表面が、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、炭素のいずれか1種以上からなることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子ビーム用偏向器。
- 前記絶縁体部がセラミックスからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の荷電粒子ビーム用偏向器。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の前記荷電粒子ビーム用偏向器が前記筒状体の中心軸方向に複数積層され、これら複数の荷電粒子ビーム用偏向器の電極部は互いに絶縁されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の荷電粒子ビーム用偏向器。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の荷電粒子ビーム用偏向器と、該荷電粒子ビーム用偏向器を保持するための保持体とを備えてなることを特徴とする荷電粒子ビーム用アセンブリ。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の荷電粒子ビーム用偏向器、または請求項6に記載の荷電粒子ビーム用アセンブリと、荷電粒子ビームを照射する照射手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
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JP2007254937A JP2009087667A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 荷電粒子ビーム用偏向器、荷電粒子ビーム用アセンブリおよび荷電粒子ビーム装置 |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09139184A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Nikon Corp | 静電偏向器の製造方法 |
JPH10261376A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置用静電偏向電極の製造方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007254937A patent/JP2009087667A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH09139184A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Nikon Corp | 静電偏向器の製造方法 |
JPH10261376A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置用静電偏向電極の製造方法 |
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