JP2009086357A - 感光性樹脂組成物、該組成物を用いるパターンの製造法および電子デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】耐久性及び耐熱性に優れる硬化パターンを形成できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物より形成された、良好な形状と特性のパターンを有する信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。
【選択図】なし

Description

本発明は半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、表示デバイス用の層間絶縁膜として使用されるポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物、該ポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物を用いた耐熱性を有する硬化レリーフパターンの製造方法及びレリーフパターンを含有する半導体装置に関するものである。

半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜には、優れた耐熱性と電気特性、機械特性などを併せ持つポリイミド樹脂が用いられている。このポリイミド樹脂は、現在は一般に感光性ポリイミド前駆体組成物の形で供され、塗布、活性光線によるパターニング、現像、熱イミド化処理等を施すことによって、半導体装置上に表面保護膜、層間絶縁膜等を容易に形成させることが出来、従来の非感光性ポリイミド前駆体組成物に比べて大幅な工程短縮が可能となるという特徴を有している。
ところが、感光性ポリイミド前駆体組成物は、その現像工程においては、現像液としてＮ-メチル-２-ピロリドンなどの大量の有機溶剤を用いる必要があり、近年の環境問題の高まりなどから、脱有機溶剤対策が求められてきている。これを受け、最近になって、フォトレジストと同様に、アルカリ性水溶液で現像可能な耐熱性感光性樹脂材料の提案が各種なされている。
中でも、アルカリ性水溶液可溶性のヒドロキシポリイミドを、感光性ジアゾキノン化合物などの光活性成分と混合した組成物をポジ型感光性樹脂組成物として用いる方法が、近年注目されている。

このポジ型感光性樹脂の現像メカニズムは、未露光部の感光性ジアゾキノン化合物がアルカリ性水溶液に不溶であるのに対し、露光することにより該感光性ジアゾキノン化合物が化学変化を起こしインデンカルボン酸化合物となってアルカリ性水溶液に可溶となることを利用したものである。この露光部と未露光部の間の現像液に対する溶解速度の差を利用し、未露光部のみのレリーフパターンの形成が可能となる（例えば、特許文献１参照）。

近年の半導体技術の発展に伴い、パターン形成後の硬膜温度（キュア温度）を下げる要求があるが、低温キュアに伴う様々な問題が生じている。例えば、低温による硬化が不十分であることによる耐薬品性の低下などであるが、最近では、低温の硬化条件でも高い耐薬品性を有するものが開示されている（例えば、特許文献２参照）。
特許文献３では、アルカリ可溶性樹脂としてポリアミド樹脂、ジアゾキノン化合物を含有する系に、該樹脂の環化を促進すべく脂肪族スルホン酸化合物を添加したポジ型感光性樹脂組成物が記載されている。

しかし、半導体内の配線の微細化や薄層化の進行に伴い、デバイスに残る感光性樹脂組成物から形成された硬化膜等の信頼性、耐久性に対する要求はさらに高まっている。
特開平１１−８４６４５号公報 特開２００７−１６２１４号公報 特開２００６−１０７８１号公報

本発明は、耐久性及び耐熱性に優れる硬化パターンを形成できる感光性樹脂組成物を提
供するものである。また、本発明は、良好な形状と特性のパターンを形成できることにより、信頼性の高い電子デバイスを提供するものである。

上記課題が下記の＜１＞〜＜５＞の構成により解決されることを見出した。

＜１＞（ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

（Ｒ_１は炭素数２〜３０の４〜８価の有機基を示す。Ｒ_２は炭素数２〜３０の２〜６価の有機基を示す。Ｅは酸性基もしくは酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表し、Ｅが複数ある場合は同一でも異なっていてもよい。ｒおよびｓは０〜４の整数であるが、ｒ+ｓ＞０である。）

＜２＞（ｄ）熱酸発生剤が、実質的に光照射によっては酸を発生せず、熱のみにより酸を発生する化合物であることを特徴とする上記＜１＞に記載の感光性樹脂組成物。

＜３＞（ｄ）熱酸発生剤が、下記一般式（２）で表されることを特徴とする、上記＜１＞または＜２＞に記載の感光性樹脂組成物。

式中、Ａは、ｈ価の連結基を表し、Ｒ₀は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、または環状アルキル基を表し、Ｒ_0’は、水素原子、アルキル基、またはアラルキル基を表し、ｈは、２〜８の整数を表す。

＜４＞ 上記＜１＞〜＜３＞の何れかに記載の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布して乾燥する工程、露光する工程、アルカリ水溶液および/または有機溶媒を用いて現像する工程を含むパターンの製造法。
＜５＞ 上記＜４＞に記載の製造法により得られるパターンを有する電子デバイス。

本発明の化合物は電子デバイス製造分野で汎用の塗布溶剤に十分な溶解性を有し、該化合物を用いた組成物は均一であり不溶物の析出がなく、該組成物の使用により得られたパターンは、耐久性及び耐熱性に優れ、良好な形状である。得られたパターンは、高い耐熱
性、高い機械強度を有し、かつ面状が良く、電子デバイスなどにおける表面保護膜・層間絶縁膜として利用できる。

以下、本発明の組成物について詳細に説明する。

（ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を含む樹脂
本発明の組成物は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含む樹脂を含有する。

（Ｒ_１は炭素数２〜３０の４〜８価の有機基を示す。Ｒ_２は炭素数２〜３０の２〜６価の有機基を示す。Ｅは酸性基もしくは酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表し、Ｅが複数ある場合は同一でも異なっていてもよい。ｒおよびｓは０〜４の整数であるが、ｒ+ｓ＞０である。）

一般式（１）において、Ｅは酸性基もしくは酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表し、具体的には、一般式（１ａ）で表される。
−Ａ−（Ｂ−ＰＧ）_ｎ （１ａ）
式中、Ａはｎ＋１価の連結基を表し、ＰＧは水素原子または酸分解性基を表し、Ｂは酸分解性基ＰＧにより酸性を示す部位が保護された酸性基の部分構造を表す。ＰＧが分解（脱離）して生成する酸性基としては、ｐＫａが１５以下であることが好ましく、より好ましくは２〜１２である。ＰＧが分解（脱離）して生成する酸性基（ＢＨ）の具体例としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２ＮＨ_２、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−ＯＨ等が挙げられ、好ましくは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ_２ＮＨ_２、および−Ｃ（ＣＦ_３）_２−ＯＨであり、より好ましくは、−ＯＨおよび−ＣＯＯＨである。
ｎは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、１が最も好ましい。

Ａで表されるｎ＋１価の連結基は、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ_１０）−、またはこれらを組み合わせてできる２価の基の任意の水素原子をｎ−１個除いたｎ＋１価の基を表し、Ｒ_１０は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、または炭素数１〜１０のアシル基を表す。

ＰＧで表される酸分解性基は、酸の作用により酸性基を発生できるものであれば特に限定されないが、酸性基に含まれるヘテロ原子と共に酸分解性の、エーテル、エステル、アセタール、ケタール、シリルエーテル、またはシリルエステルを形成できる基が代表的である。

ＰＧで表される酸分解性基としては、３級アルキル基（炭素数４〜１５の、好ましくは炭素数４〜１３の３級アルキル基で、例えば、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基）、下記一般式（１ｂ）、（１ｃ）および（１ｄ）で表されるものが好ましい。

一般式（１ｂ）において、Ｒ_２０はアルキル基（炭素数１〜１０の、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル）を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２は、水素原子またはアルキル基（炭素数１〜１０の、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル）を表す。Ｒ_２０とＲ_２１がともにアルキル基である場合に、互いに結合して炭素環を形成してもよい。

一般式（１ｃ）において、Ｒ_２３はアリール基（炭素数６〜２０のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）を表し、Ｒ_２４はアルキル基（炭素数１〜１０の、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル）を表す。Ｒ_２３で表されるアリール基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、Ｒ_１で表される基の置換基として挙げたものと同じである。
一般式（１ｄ）において、Ｒ_２５〜Ｒ_２７はアルキル基（炭素数１〜１０の、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル）またはアリール基（炭素数６〜２０のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル）を表す。

好ましいＰＧの具体例としては、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロピラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロフラニル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。

ｒおよびｓは、好ましくは０〜３の整数を表し、より好ましくは０〜２の整数を表す。ｒ+ｓは好ましくは１〜４の整数を表し、より好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは１および２である。

一般式（１）のＲ_１は炭素数２〜３０の４〜８価の有機基を示し、芳香族環および/または脂肪族基を有するものが好ましく、より好ましくは炭素数４〜２４の４〜７価の有機基で芳香族環および/または脂肪族基を有するものであり、特に好ましくは炭素数４〜２０の４〜６価の有機基で芳香族環および/または脂肪族基を有するものである。

Ｒ_１は好ましくは、下記の（Ｅ）rを含む一般式（１ｅ）もしくは（１ｆ）における構造を形成するものである。

ここで、Ｌ_１、Ｌ_２、およびＬ_３は炭素数５〜３０の複素環、炭素数６〜３０の芳香族炭素環（縮合環でもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）、炭素数３〜３０の脂
肪族炭素環（縮合環でもよく、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環等）を表し、Ｌ_１とＬ_２は同一であっても異なっていてもよい。Ｍは２価の連結基を表し、例えば、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基（置換基を有していてもよく、メチレン、エチレン、ヘキサフルオロイソプロピリデン等）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ_１１）−、またはこれらを組み合わせてできる基を表し、Ｒ_１１は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、または炭素数１〜１０のアシル基を表す。Ｅおよびｒは一般式（１）におけるＥおよびｒと同じ意味を表す。なお、ｒが１〜４のとき、Ｍ、Ｌ₁及びＬ₂のいずれか、またはＬ₃としての基にｒ個のＥが置換している。

一般式（１）のＲ_１はＥ基以外に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子）、直鎖、分岐、環状のアルキル基（炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基で、メチル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル、ビアダマンチル、ジアマンチル等）、アルキニル基（炭素数２〜１０のアルキニル基で、エチニル、フェニルエチニル等）、アリール基（炭素数６〜１０のアリール基で、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等）、アシル基（炭素数１〜１０のアシル基で、アセチル、ベンゾイル等）、アリールオキシ基（炭素数６〜１０のアリールオキシ基で、フェノキシ等）、アリールスルホニル基（炭素数６〜１０のアリールスルホニル基で、フェニルスルホニル等）、アルコキシ基（炭素数１〜１０のアルコキシ基で、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、ニトロ基、シアノ基、シリル基（炭素数１〜１０のシリル基で、トリエトキシシリル、メチルジエトキシシリル、トリビニルシリル等）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基で、メトキシカルボニル等）、カルバモイル基（炭素数１〜１０のカルバモイル基で、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル等）等が挙げられる。これらの置換基はさらに別の置換基で置換されていてもよい。

一般式（１）のＲ_２は炭素数２〜３０の２〜６価の有機基を示し、芳香族環および/または脂肪族基を有するものが好ましく、より好ましくは炭素数２〜２４の２〜５価の有機基で芳香族環および/または脂肪族基を有するものであり、特に好ましくは炭素数２〜２０の２〜４価の有機基で芳香族環および/または脂肪族基を有するものである。

Ｒ_２は好ましくは、下記の（Ｅ)ｓを含む一般式（１ｇ）または（１ｈ）における構造を形成するものである。

ここで、Ｌ_４、Ｌ_５、およびＬ_６は先に説明したＬ_１、Ｌ_２、およびＬ_３と同じ意味である。Ｅおよびｓは一般式（１）におけるＥおよびｓと同じ意味を表す。なお、ｓが１〜４のとき、Ｍ、Ｌ₄及びＬ₅のいずれか、またはＬ₆としての基にs 個のＥが置換している。

一般式（１）のＲ_２はＥ基以外に置換基を有していてもよく、置換基の例はＲ_１で表される基の置換基として挙げたものと同じである。

一般式（１）で表される繰り返し単位は、Ｒ_１を核として少なくとも４個のカルボキシル基を有する酸成分と、Ｒ_２を核として少なくとも２個のアミノ基を有するジアミン成分
から構成される。

酸成分の例としては、ピロメリット酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）二フタル酸無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸無水物などの芳香族テトラカルボン酸無水物や、シクロブタンテトラカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸無水物、などの脂肪族テトラカルボン酸無水物などを挙げることができる。好ましくは、ピロメリット酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）二フタル酸無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸無水物であり、より好ましくはピロメリット酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）二フタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸無水物であり、特に好ましくは、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）二フタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸無水物である。

ジアミン成分の例としては、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メチレン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ビフェニル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、などのヒドロキシル基含有ジアミン、３，５−ジアミノ安息香酸、３−カルボキシ−４，４’−ジアミノジフェニルエーテルなどのカルボキシル基含有ジアミン、３−スルホン酸−４，４’−ジアミノジフェニルエーテルなどのスルホン酸含有ジアミン、ジチオヒドロキシフェニレンジアミンなどを挙げることができる。好ましくは、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，５−ジアミノ安息香酸、３−カルボキシ−４，４’−ジアミノジフェニルエーテルであり、より好ましくは、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，５−ジアミノ安息香酸であり、特に好ましくは、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、３，５−ジアミノ安息香酸である。

一般式（１）で表される繰り返し単位を含む樹脂は、分子量に特に制限はないが、アルカリ溶解速度、膜物性等の面で、質量平均分子量で、１，０００〜５００，０００が好ましく、３，０００〜３００，０００がより好ましく、５，０００〜２００，０００が特に好ましい。なお、本発明において分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。

本発明におけるポリイミド樹脂の製造方法の一例を示すと、有機溶媒中、ジアミン化合
物とテトラカルボン酸二無水物とを−２０〜５０℃で数分間から数日間反応させることにより、ポリアミド酸を得、次いで加熱もしくは脱水閉環剤による処理によりポリイミド樹脂を得るものである。このポリアミド酸の合成反応に使用できる有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒、ベンゼン、アニソール、ジフェニルエーテル、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、ピリジンのような芳香族系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタンのようなハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグリムのようなエーテル系溶媒等を例示することができる。特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒を使用すると、高分子量のポリアミド酸を得ることができる。

上記のようにして得られたポリアミド酸は、次いで脱水閉環され、ポリイミド樹脂とする。脱水閉環する方法は公知の方法を用いることができ、例えばトルエン、キシレン等の還流による熱環化法等を使用することができる。このポリイミド樹脂は、脱水する際に用いたトルエン、キシレン等を含んでいるため、水、メタノール等の貧溶剤へポリイミド樹脂溶液を投入、再沈殿を行い、更にこれを乾燥しポリイミド樹脂の粉末とする。これを所望の有機溶媒へ溶解させ、本発明に使用する可溶性ポリイミド樹脂の溶液とする。

この方法における本発明のポリイミド樹脂の分子量は、ジアミン化合物との仕込量によって制限され、等モル量使用したときに高分子量のポリイミド樹脂を製造することができる。

重合反応に用いる有機溶媒の沸点は５０℃以上が好ましく、より好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１５０℃以上である。
反応液中の溶質の濃度は好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。

（ｂ）光照射により酸を発生する化合物
本発明の感光剤は、露光により画像を形成する機能を感光剤に付与するかつ／またはそのきっかけを与える化合物を指す。具体的には露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）や感光性のキノンジアジド化合物、ジヒドロピリジン化合物を挙げることができる。これら感光剤は２種以上を併用して用いることもできる。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。

（ｂ１）光酸発生剤
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。

たとえば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートを挙げることができる。好ましい感光剤としては、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートを挙げることができる。

また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、たとえば、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号等に記載の化合物を用いることができる。

さらに米国特許第３,７７９,７７８号、欧州特許第１２６,７１２号等に記載の光によ
り酸を発生する化合物も使用することができる。

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の内で好ましい化合物として、下記一般式（ＺＩ）、（ＺII）、（ＺIII）で表される化合物を挙げることができる。

一般式（ＺＩ）〜（ZIII）において、
Ｒ₂₀₁〜Ｒ₂₀₇は、各々独立に有機基を表す。
Ｒ₂₀₁〜Ｒ₂₀₇の有機基の炭素数は、一般的に１〜３０、好ましくは１〜２０である。
Ｒ₂₀₁〜Ｒ₂₀₃のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ₂₀₁〜Ｒ₂₀₃の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ^4-、ＰＦ^6-、ＳｂＦ^6-などが挙げられ、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。

好ましい有機アニオンとしては、下記一般式に示す有機アニオンが挙げられる。

上記一般式に於いて、
Ｒｃ₁は、有機基を表す。
Ｒｃ₁における有機基として、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくは置換していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの複数が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ₂−、−Ｓ−、−ＳＯ₃−、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒｄ₁）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。
Ｒｄ₁は、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒｃ₃、Ｒｃ₄及びＲｃ₅は、各々独立に、有機基を表す。
Ｒｃ₃、Ｒｃ₄及びＲｃ₅の有機基としては、Ｒｃ₁における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、好ましくは、炭素数１〜４のパーフロロアルキル基である。
Ｒｃ₃とＲｃ₄が結合して環を形成していてもよい。
Ｒｃ₃とＲｃ₄が結合して形成される基としてはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数２〜４のパーフロロアルキレン基である。
Ｒｃ₁及びＲｃ₃〜Ｒｃ₅の有機基として、好ましくは１位がフッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子またはフロロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。また、Ｒｃ₃とＲｃ₄が結合して環を形成することにより光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上し、好ましい。

特定の置換基としては、トリアリールスルホニウム塩のアリール基の少なくとも一つが電子吸引性基を置換基として有することが好ましく、更に、アリール骨格に結合する置換基のハメット値の総和が０．１８より大きいことが好ましい。

ここで、電子吸引性基とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔ置換基定数σ）が０より大きい置換基を意味する。本発明においては、高感度化の観点から、特定光酸発生剤中のアリール骨格に結合する置換基のハメット値の総和が０．１８以上であることが好ましく、０．４６より大きいことがより好ましく、０．６０より大きいことが更に好ましい。
また、ハメット値は、トリアリールスルホニウム塩構造を有するカチオンの電子吸引性の程度を表すものであり、高感度化の観点からは特に上限値はないが、反応性と安定性との観点からは、０．４６を超え４．０未満であることが好ましく、より好ましくは０．５０を超え、３．５未満であり、特に好ましくは０．６０を超え３．０未満の範囲である。

なお、本発明におけるハメット値は、稲本直樹 編、化学セミナー１０ ハメット則−構造と反応性−（１９８３年、丸善（株）発行）に記載の数値を用いている。
アリール骨格に導入する電子吸引性基としては、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、エステル基、スルホキシド基、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、カルボニル基等が挙げられる。これらの置換基のハメット値を以下に示す。トリフルオロメチル基（−ＣＦ₃、ｍ：０．４３、ｐ：０．５４）、ハロゲン原子〔例えば、−Ｆ（ｍ：０．３４、ｐ：０．０６）、−Ｃｌ（ｍ：０．３７、ｐ：０．２３）、−Ｂｒ（ｍ：０．３９、ｐ：０．２３）、−Ｉ（ｍ：０．３５、ｐ：０．１８）〕、エステル基（例えば、−ＣＯＣＨ₃、ｏ：０．３７、ｐ：０．４５）、スルホキシド基（例えば、−ＳＯＣＨ₃、ｍ：０．５２、ｐ：０．４５）、シアノ基（−ＣＮ、ｍ：０．５６、ｐ：０．６６）、アミド基（例えば、−ＮＨＣＯＣＨ₃、ｍ：０．２１、ｐ：０．００）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ、ｍ：０．３７、ｐ：０．４５）、カルボニル基（−ＣＨＯ、ｍ：０．３６、ｐ：（０４３））等が挙げられる。かっこ内は、その置換基のアリール骨格における導入位置と、そのハメット値を表し、（ｍ：０．５０）とは、当該置換基がメタ位に導入された時のハメット値が０．５０であることを示す。

これらの置換基のなかでも、疎水性の観点から、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等の非イオン性の置換基が好ましく、なかでも、反応性の観点から−Ｃｌが好ましく、疎水性を与えるという観点からは、−Ｆ、−ＣＦ₃、−Ｃｌ、−Ｂｒが好ましい。

これらの置換基は、トリアリールスルホニウム塩構造の３つのアリール骨格のいずれか一つに導入されていてもよく、２以上のアリール骨格に導入されていてもよい。また、３つのアリール骨格のそれぞれに導入される置換基は、１つでも複数でもよい。本発明においては、これらのアリール骨格に導入された置換基のハメット値の総和が０．１８を超えるものが好ましく、０．４６を越えるものがより好ましい。導入される置換基の数は、任意である。例えば、トリアリールスルホニウム塩構造のアリール骨格のうち１ヶ所に特にハメット値の大きい（例えば、ハメット値が単独で０．４６を超える）置換基を１つだけ導入していてもよい。また、例えば、複数の置換基が導入されそれぞれのハメット値の合計が０．４６を超えるものを導入してもよい。

上記のように、置換基のハメット値は導入される位置によって異なるため、本発明に係る特定光酸発生剤におけるハメット値の総和は、置換基の種類、導入位置、導入数により確定されることになる。
なお、ハメット値は、通常、ｍ位、ｐ位で表されるが、本発明においては、電子吸引性の指標として、ｏ位での置換基効果はｐ位と同値として計算する。好ましい置換位置としては、合成上の観点からｍ位、ｐ位が好ましく、ｐ位が最も好ましい。
本発明において好ましいのは、ハロゲン原子により３置換以上されているスルホニウム塩であり、最も好ましいのは、クロロ基により３置換されているスルホニウム塩であり、具体的には、３つのアリール骨格のそれぞれにハロゲン原子、最も好ましくは、−Ｃｌが導入されたトリアリールスルホニウム塩構造を有するものが好ましく、−Ｃｌがｐ位に置換されているものがより好ましい。

本発明の組成物が含有するトリアリールスルホニウム塩が有するスルホン酸アニオンとしては、例えば、アリールスルホン酸アニオン、アルカンスルホン酸アニオンなどが挙げられ、フッ素原子又はフッ素原子を有する有機基で置換されているアニオンが好ましい。

トリアリールスルホニウム塩構造を有する化合物は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．第１１２巻（１６）、１９９０年；ｐｐ．６００４−６０１５、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８８年；ｐｐ．５５７１−５５７３、ＷＯ０２／０８１４３９Ａ１パンフレット、或いは欧州特許（ＥＰ）第１１１３００５号明細書等に記載の方法により容易に合成することが可能である。

以下に具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の内で好ましい化合物（光酸発生剤）としては、発生酸としてｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル乃至はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子吸引基としてはＦ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
光酸発生剤としては、例えばＮ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート等を挙げることができる。
光酸発生剤として好ましいイミドスルホネート化合物としては、以下の一般式の化合物を挙げることができる。

式中、Ｃ₁ （炭素原子）とＣ₂ （炭素原子）間は単結合あるいは二重結合で結合され、Ｒ₅₁ 又はＲ₅₂は、同じでも異なってもよく、下記（１）〜（４）のいずれかを表し、（１）それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基（２）Ｃ₁、Ｃ₂ とともに１つあるいは複数のヘテロ原子を含んでよい単環または多環を形成する。（３）Ｃ₁ とＣ₂ を含む縮合した芳香環を形成する、（４）Ｎ−スルフォニルオキシイミドを含む残基を表す。
Ｒ₅₃はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してよいアラルキル基、又は樟脳基を表す。

一般式（ＰＡ−５）における、Ｒ₅₁およびＲ₅₂が（１）のケースに当たる場合、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基の様な炭素数１〜４個のアルキル基があげられる。シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等炭素数３〜８個のものがあげられる。アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基の様な炭素数６〜１４個のものをあげることができる。Ｒ₅₁およびＲ₅₂が（２）のケースに当たる場合、例えば以下の様な部分構造をあげることができる。

Ｒ₅₁およびＲ₅₂が（３）のケースに当たる場合、例えば以下の様な部分構造をあげることができる。

Ｒ₅₁およびＲ₅₂が（４）のケースに当たる場合は、いわゆる少なくとも２つのＮ−スルフォニルオキシイミド残基が上記（１）〜（３）の部分構造を有するＲ₅₁およびＲ₅₂の部分で単結合もしくは以下のような２価の有機基で結合したものをあげることができる。但し、下記連結基は単独であるいは２つ以上の組合せで使用される。
〔２価の有機基〕：−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯ₂ −、−ＮＨＳＯ₂−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯ₂ −

Ｒ₅₃のアルキル基としては炭素数１〜２０個の直鎖あるいは分岐のアルキル基をあげることができる。好ましくは炭素数１〜１６個の直鎖あるいは分岐のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２個のものである。炭素数が２１個以上のアルキル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。ハロゲン化アルキル基としては上記アルキル基の１つあるいは２つ以上の水素原子がハロゲン化されたものをあげることができる。置換するハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子をあげることができる。好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。但し、置換するハロゲン原子は一分子当たり複数の種類であってもよい。環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜１２個のシクロアルキル基やノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデカニル基等の多環状置換基をあげることができる。アルケニル基としては炭素数１〜２０個の直鎖あるいは分岐のアルケニル基をあげることができる。好ましくは炭素数１〜１６個の直鎖あるいは分岐のアルケニル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２個のものである。炭素数が２１個以上のアルケニル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。

Ｒ₅₃のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基をあげることができ、アラルキル基としてはベンジル基をあげることができる。アリール基とアラルキル基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基等のアリール基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基、ホルミル基、アセチル基等のアシル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子をあげることができる。好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。なおアリール基、アラルキル基上の置換基は２種類以上であっても構わない。
以下にこれらの化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

光酸発生剤として好ましいオキシムスルホネート化合物としては以下の一般式（ＰＡ−６）の化合物を挙げることができる。

一般式（ＰＡ−６）中、Ｒ₆₁及びＲ₆₂は、炭素数１から１６の置換基を有していても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、を表す。また、Ｒ₆₁及びＲ₆₂は、炭素数２から８の置換基を有していても良いアルキレン鎖、アルケニレン鎖、アルキニリン鎖、または、置換基を有していても良いフェニレン、フリーレン、チエニレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ−、−ＣＯ−を含む連結鎖を介して、別の一般式（ＰＡ−６）で表される化合物のＲ₆₁またはＲ₆₂と結合されていても良い。
Ｒ₃は炭素数１〜１６個の置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していても良いアリール基を表す。

上記一般式（ＰＡ−６）中、Ｒ₆₁及びＲ₆₂は、炭素数１から１６の置換基を有していても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、を表す。また、Ｒ₆₁及びＲ₆₂は、炭素数２から８の置換基を有していても良いアルキレン鎖、アルケニレン鎖、アルキニリン鎖、または、置換基を有していても良いフェニレン、フリーレン、チエニレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ−、−ＣＯ−を含む連結鎖を介して、別の一般式（ＰＡ−６）で表される化合物のＲ₆₁またはＲ₆₂と結合されていても良い。即ち、一般式（ＰＡ−６）で表される化合物は、オキシムスルホネート構造が連結鎖を介して２つ又は３つ有するものも包含する。
Ｒ₆₃は炭素数１〜１６個の置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していても良いアリール基を表す。

Ｒ₆₁〜Ｒ₆₃における炭素数１〜１６個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｉ−オクチル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロ−ｔ−ブチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロウンデシル基、１，１−ビストリフルオロメチルエチル基、等が挙げられる。

Ｒ₆₁及びＲ₆₂におけるアルケニル基としては、アリル基、メタリル基、ビニル基、メチルアリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、５−ヘキセニル基、２−オキソ−３−ペンテニル基、デカペンタエニル基、７−オクテニル基等が挙げられる。

Ｒ₆₁及びＲ₆₂におけるアルキニル基としては、エチニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基、４−ヘキシニル基、２−オクチニル基、フェニルエチニル基、シクロヘキシルエチニル基等が挙げられる。

Ｒ₆₁〜Ｒ₆₃におけるシクロアルキル基としては、置換基を有していてもよい、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような炭素数３〜８個のものが挙げられる。

Ｒ₆₁及びＲ₆₂におけるシクロアルケニル基としては、シクロブテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンタジエニル基、ビシクロ〔４．２．４〕ドデカ−３，７−ジエン−５−イル基等が挙げられる。

Ｒ₆₁〜Ｒ₆₃におけるアリール基としては、置換基を有していてもよい、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフチル基のような炭素数６〜１４個のものが挙げられる。

上記の置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、沃素原子）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、下記一般式（１Ａ）で示される基等が挙げられる。
ここでアルキル基、シクロアルキル基は上記で挙げたものと同義である。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基のような炭素数１〜４個のものが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フリル基、チエニル基などが挙げられる。

上記式（１Ａ）中、Ｒ₆₁及びＲ₆₂は、前記一般式（ＰＡ−６）中のＲ₆₁及びＲ₆₂と同義である。

一般式（ＰＡ−６）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

より好ましいオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記（ｚ６６）〜（ｚ７０）が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物において、光酸発生剤の配合量は、樹脂の総量１００質量部に対して、０．５〜３０質量部が好ましく、２〜２０質量部がより好ましい。酸発生剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

（ｂ２）キノンジアジド感光剤
ｏ−キノンジアジド感光剤は、例えば、ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリド類とヒドロキシ化合物、アミノ化合物などとを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。

前記ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリド類としては、例えば、ベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド等が使用できるが、感度の点ではナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドの使用が好ましい。

前記ヒドロキシ化合物としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン，２，３，４，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４ｂ，５，９ｂ，１０−テトラヒドロ−１，３，６，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルインデノ［２，１−ａ］インデン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどが使用できる。

アミノ化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、３，３’−ジアミノ４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが使用できる。

ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドとヒドロキシ化合物及び／又はアミノ化合物とは、ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリド１モルに対して、ヒドロキシ基とアミノ基の合計が０．５〜１当量になるように配合されることが好ましい。脱塩酸剤とｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドの好ましい割合は、１／１〜１／０．９の範囲である。好ましい反応温度は０〜４０℃、好ましい反応時間は１〜２４時間とされる。

反応溶媒としては、ジオキサン、１，３−ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等の溶媒が用いられる。脱塩酸剤としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物において、キノンジアジド感光剤の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、樹脂の総量１００質量部に対して、１〜２５質量部が好ましく、５〜２０質量部がより好ましい。
キノンジアジド感光剤以外の感光剤の配合量は、樹脂の総量１００質量部に対して、０．１〜１５質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。

キノンジアジド感光剤としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。

（式中、Ｄは、独立して、Ｈまたは以下の基のいずれかである。）

ただし、各々の化合物において少なくとも１つのＤが、上記のキノンジアジド基であればよい。

（ｂ３）増感剤
本発明の組成物において、上記スルホニウム塩との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために増感剤を添加することが好ましい。増感剤は、活性光線または放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、スルホニウムと接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより重合開始剤は化学変化を起こして分解し、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。

好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン）。中でも増感剤として、特にアントラセン誘導体が好ましい。

好ましい具体例としては、以下に示す（Ｃ−１）〜（Ｃ−２６）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上述のような増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。

増感剤の添加量は、感光剤１００質量部に対して、２０〜２００質量部が好ましく、３０〜１５０質量部がより好ましい。

（ｃ）架橋剤
本発明では改質剤として架橋剤を使用する。ここで、架橋剤とは、酸によりポリマーと架橋する材料であり、例えばメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、フェノール化合物もしくはフェノールのエーテル化合物や、エポキシ化合物、チオエポキシ化合物、イソシアネート化合物、アジド化合物、またはアルケニルエーテル基などの２重結合を含む化合物を挙げることができるが、膜物性、耐熱性の点でメチロール系架橋剤、メラミン系・グリコールウリル系架橋剤が好ましく使用される。
また、以下に示す（ｃ１）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を含有する化合物及び（ｃ２）メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物が好ましい。

（ｃ１）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を含有する化合物
本発明の組成物にはアルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を含有する化合物を添加しても良い。本化合物はリソグラフィー性能を損なうことなく、硬化時のパターンの融解や熱収縮を防止することが知られている。また、低温キュアプロセスに適用した場合には、耐薬品性を改善することが可能であることが知られている。
当該化合物が有するアルコキシメチル基またはアシルオキシメチル基は、炭素数２〜５が好ましく、炭素数２または３がさらに好ましい。アルコキシメチル基の場合には特に炭素数２が好ましく、アシルオキシメチル基の場合には特に炭素数３が好ましい。
当該化合物が有するアルコキシメチル基及びアシルオキシメチル基の総数は１〜１０が好ましく、より好ましくは２〜８、特に好ましくは３〜６である。
当該化合物の分子量は好ましくは１５００以下であり、１８０〜１２００がより好ましい。

本発明におけるアルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を含有する化合物としては、アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基が、（ＣＬ−１）直接フェノール誘導体及び(ＣＬ−２) 窒素原子に結合した化合物や（ＣＬ−３）トリアジン誘導体（メラミン系）の芳香族炭素原子に結合した化合物を挙げることができる。
（ＣＬ−１）化合物としては、例えば下記一般式の様な化合物を挙げることができる。

式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を表し、Raは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、または、酸の作用によ
り分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を示す。
Rbは各々独立にアルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を示し、Aはｍ価の連結基を表す。連結基としては、アルキレン基（例えばメチレン、エチレン、プロピレン等）、シクロアルキレン基（シクロへキシレン、シクロペンチレン等）、アリーレン基（１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフチレン等）、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、およびこれらに基を組み合わせた２価の基における任意の水素原子をｍ−２個除いたｍ価の基が挙げられる。Ａが１価の場合は、水素原子、上記２価の基に対応する１価の基であるアルキル基、アリール基などが挙げられる。
ｐとしては１，２、ｑは０〜２、ｍとしては１〜８、好ましくは２〜６である。

Ｒ_ａとしての酸により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基とは、酸の作用により分解し、水酸基、カルボキシル基のようなアルカリ可溶性基を生じる基であり、例えば、酸の作用により脱離する基、又は−Ｃ(Ｒ⁴)₂−ＣＯＯＲ⁵（Ｒ⁴は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ⁵は酸の作用により脱離する基を表す。）が挙げられる。
酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基として、Ｒ⁰が酸の作用により脱離する基であるとき、酸の作用により、Ｒ^０自体が離脱することで、−ＯＨが生じ、またＲ⁰が−Ｃ(Ｒ⁴)₂ＣＯＯＲ⁵であるとき、酸の作用によりＲ⁵が離脱することで、−ＣＯＯＨが生じる。
酸の作用により脱離する基としては、例えばアセタール基や３級エステル基を挙げることができる。
アセタール基の具体例としては、メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロピラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。

エステル型基としては具体例としては、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基を挙げることができる。

（ＣＬ−１）のアルコキシメチル基を有する化合物としては、例えば、具体的に以下の構造を挙げることができる。
なお、アシルオキシメチル基を有する化合物は下記化合物のアルコキシメチル基をアシルオキシメチル基に変更した化合物を挙げることができる。
アルコキシメチル基又はアシルオキシメチルを分子内に有する化合物は、以下の化合物に限定されるものではない。

（ＣＬ−２）の化合物としては、下記一般式で表される化合物を挙げることができる。

式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を表し、Ｒ₁₀₁およびR₁₀₂は一価の有機基を表し、Ｒ₁₀₁とR₁₀₂がお互い結合して５〜８員の環を形成してもよい。
グリコールウリル化合物としては、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がメトキシメチル基化した化合物、又はその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物が挙げられる。ウレア化合物としてはテトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの１〜４個のメチロール基がメトキシメチル基化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルウレアなどが挙げられる。

アルコキシメチル基を有する化合物としては、例えば、具体的に以下の構造を挙げることができる。
なお、アシルオキシメチル基を有する化合物は下記化合物のアルコキシメチル基をアシルオキシメチル基に変更した化合物を挙げることができる。
アルコキシメチル基又はアシルオキシメチルを分子内に有する化合物は、以下の化合物に限定されるものではない。

（ＣＬ−３）の化合物としては、メラミン化合物を挙げることができる。メラミン化合物を具体的に例示すると、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンの１〜６個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物及びその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の１〜６個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物が挙げられる。

アルコキシメチル基及びアシルオキシメチル基の少なくとも１つを含有する化合物は、
市販のものを用いても、公知の方法により合成したものを用いても良い。

（ｃ２）メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物
本発明の組成物は、膜物性を向上させる目的で、メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物を混ぜて使用してもよい。
メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルからなる群から選択される化合物である。本化合物添加により膜物性が向上することがわかっている。そのため、アクリロイル基、メタクリロイル基を１分子中に２個以上、更に好ましくは４官能以上ある化合物がこのましい。

好ましい具体例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。

架橋剤の添加量は本発明の樹脂１００質量部に対して、１〜２０質量部が好ましく、３〜１５質量部がより好ましい。

（ｄ）熱酸発生剤
低温硬化で得られる硬化パターン、膜の物性を改良するために、熱酸発生剤が使用される。本発明の熱酸発生剤とは、熱により酸が発生する化合物であり、通常、熱分解点が１３０℃〜２５０℃、好ましくは１５０℃〜２２０℃の範囲の化合物であり、例えば、加熱によりスルホン酸、カルボン酸、ジスルホニルイミドなどの低求核性の酸を発生する化合物である。
発生酸としてはｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子吸引基の置換したアルキル乃至はアリールカルボン酸、同じく電子吸引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子吸引基としてはＦ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
熱酸発生剤としては、上記露光により酸を発生する光酸発生剤の適用が可能である。例えばスルホニウム塩やヨードニウム塩等のオニウム塩、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等を挙げることができる。中でもＮ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートが好ましい。

本発明においては、熱酸発生剤は露光光の照射により実質的に酸を発生せず、熱によってのみ酸を発生する化合物が好ましく、熱によってスルホン酸を発生する化合物を使用することが好ましい。
露光光の照射により実質的に酸を発生するか否かは、例えば、光照射の前後での化合物のＩＲスペクトル、ＮＭＲスペクトルの変化の有無により判定することができる。

具体的には、下記一般式（ＴＡ−１０）で表されるスルホン酸エステルを挙げることができる。

上記式において、Ｒ’およびＲ”はそれぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素数１〜１０の直鎖または分岐または環状のアルキル基または置換を有していても良い炭素数６〜２０のアリール基を示す。置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ビニル基、アセチレン基炭素数１〜１０の直鎖または環状のアルキル基が挙げられる。
スルホン酸エステルの好ましい具体例として下記が挙げられる。

該スルホン酸エステルの分子量は、一般的には２３０〜１０００、好ましくは２３０〜８００である。

該スルホン酸エステルとして、下記一般式（２）で表される化合物が、耐熱性の点で更に好ましく使用できる。

Ａは、ｈ価の連結基を表す。
Ｒ₀は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、または環状アルキル基を表す。
Ｒ_0’は、水素原子、アルキル基、またはアラルキル基を表す。
ｈは、２〜８の整数を表す。

Ａとしてのｈ価の連結基は、例えば、アルキレン基（例えばメチレン、エチレン、プロピレン等）、シクロアルキレン基（シクロへキシレン、シクロペンチレン等）、アリーレン基（１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフチレン等）、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、およびこれらに基を組み合わせた基などの２価の基の任意の水素原子をｈ−２個除いたｈ価の基が挙げられる。
Ａとしての連結基の炭素数は一般的に１〜１５であり、１〜１０であることが好ましく、１〜６であることがさらに好ましい。
Ｒ₀およびＲ_0’のアルキル基としては、一般的には炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜１５のアルキル基、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基である。具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等を挙げることができる。
Ｒ₀およびＲ_0’のアラルキル基としては、一般的には炭素数７〜２５のアラルキル基であり、好ましくは炭素数７〜２０のアラルキル基、更に好ましくは炭素数７〜１５のアラルキル基である。具体的にはベンジル、トルイルメチル、メシチルメチル、フェネチル等を挙げることができる。
Ｒ₀の環状アルキル基としては、一般的には炭素数３〜２０の環状アルキル基であり、
好ましくは炭素数４〜２０の環状アルキル基、更に好ましくは炭素数５〜１５の環状アルキル基である。具体的にはシクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、樟脳基等を挙げることができる。

Ａとしての連結基は、さらに置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基（炭素数１〜１０のアルキル基であり、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等）、アラルキル基（炭素数７〜１５のアラルキル基であり、具体的にはベンジル、トルイルメチル、メシチルメチル、フェネチル等）、アリール基（炭素数６〜１０のアリール基であり、具体的にはフェニル、トルイル、キシリル、メシチル、ナフチル等）、アルコキシ基（アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、具体的には、メトキシ、エトキシ、直鎖又は分岐プロポキシ、直鎖又は分岐ブトキシ、直鎖又は分岐ペントキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（炭素数６〜１０のアリールオキシ基であり、具体的にはフェノキシ、トルイルオキシ、１−ナフトキシ等）、アルキルチオ基（直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい、炭素数１〜１０のアルキルチオ基であり、具体的には、メチルチオ、エチルチオ、直鎖又は分岐プロピルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、具体的にはフェニルチオ、トルイルチオ、１−ナフチルチオ等）、アシルオキシ基（炭素数２〜１０のアシルオキシ基で、具体的には、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基であり、具体的にはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、直鎖又は分岐プロポキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル等）、を挙げることができる。

一般式（２）において、Ｒ₀はアルキル基およびアリール基が好ましい。Ｒ_0’は水素原子および炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基およびエチル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。

本発明のスルホン酸エステルとしては、下記の様な具体的化合物を例としてあげること
ができるが、これに限るものではない。

（ｅ）密着促進剤
本発明におけるポジ型感光性樹脂組成物には、必要により密着性付与のための有機ケイ素化合物、シランカップリング剤、レベリング剤等の密着促進剤を添加してもよい。これらの例としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、アセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレートなどが挙げられる。密着促進剤を用いる場合は、樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。

（ｆ）溶剤
溶剤は本発明の組成物を溶解できるものであれば特に限定されないが、塗布時に溶剤が必要以上に蒸発して塗布時に組成物の固形分が析出しないようにするため、１００℃以上の沸点の溶剤が好ましい。
好ましい溶媒には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３―エトキシプロピオン酸エチル、３―メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブタノール、シクロヘキサノンを挙げることができる。
また、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、プロピレンカーボネートなど沸点が高い溶媒を補助的に使用してもよい。
しかしながら、キュア後に膜中に溶剤が残留すると十分な膜物性が得られないために、キュア温度以上の沸点の溶剤（高沸点溶媒）を溶剤中の３０質量％を超えて含むことは好ましくない。高沸点溶媒の添加量は、一般的に３０質量％以下であり、好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。

（ｇ）パターン形成方法
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、レリーフパターンを形成する方法としては、（１）本発明の感光性樹脂組成物を適当な基板上にコートし、（２）コートされたこの基板をベーキングし（プリベーク）、（３）活性光線または放射線で露光し、（４）必要に応じ後加熱、（５）水性現像剤で現像し、そして（６）硬化することにより、硬化されたレリーフパターンを形成することができる。

コートされ、露光された基板を、現像に先立って、高温でベーキングすることもできる。また、現像された基板を、硬化前にリンスしてもよい。

このように、本発明の感光性樹脂組成物により、加熱硬化後の厚みが所定厚み（例えば０．１〜３０μｍ）になるように、半導体素子上に塗布し、プリベーク、露光、現像、加熱硬化して半導体装置を製造できる。

以下、レリーフパターンを形成する方法についてより詳細に説明する。

本発明の感光性樹脂組成物は、好適な基板上にコートされる。基板は、例えばシリコンウエハーのような半導体材料またはセラミック基材、ガラス、金属またはプラスチックである。コーティング方法には、噴霧コーティング、回転コーティング、オフセット印刷、ローラーコーティング、スクリーン印刷、押し出しコーティング、メニスカスコーティング、カーテンコーティング、および浸漬コーティングがあるが、これらに限られることはない。

該コーティング膜は、残留する溶媒を蒸発させるために、方法に応じて、約７０〜１３０℃の高められた温度で数分から半時間予めベーキングされる。引き続いて、得られる乾燥フィルムはマスクを通して好ましいパターンで活性光線または放射線に露光される。活
性光線または放射線として、Ｘ線、電子ビーム、紫外線、可視光線などが使用し得る。最も好ましい放射線は波長が４３６ｎｍ（ｇ−ライン）および３６５ｎｍ（ｉ−ライン）を有するものである。

活性光線または放射線への露光に続いてコートされ、露光された基板を約７０〜１３０℃の温度に加熱するのが有利である。コートされ、露光された基板は短時間、一般的には数秒〜数分、この温度範囲で加熱される。本方法のこの段階は普通、露光後ベーキングと技術上称される。

次いで、該コーティング膜は水性現像剤で現像され、そしてレリーフパターンが形成される。水性現像剤には、無機アルカリ（例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水）、１級アミン（例えば、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン）、２級アミン（例えば、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン）、３級アミン（例えば、トリエチルアミン）、アルコールアミン（例えば、トリエタノールアミン）、４級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド）、およびこれらの混合物のようなアルカリ溶液がある。最も好ましい現像剤はテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドを含有するものである。加えて、現像剤に適当な量の界面活性剤が添加されてよい。現像は浸漬、噴霧、パドリング、または他の同様な現像方法によって実施されることができる。

場合によっては、レリーフパターンは次いで脱イオン水を使用してすすぎ洗いされる。次いで、耐熱性の大きい樹脂の最終的なパターンを得るために、レリーフパターンを硬化させる。硬化は耐熱性、耐薬品性、膜強度の大きい膜を形成させるために実施される。一般的には、約３００〜４００℃の温度で加熱硬化されてきた。一方、本発明の組成物は、３００℃未満、より具体的には２００℃〜２５０℃で従来の組成物と同等以上の膜物性を有する膜が得られる。

以下の実施例は、本発明を説明するものであり、その範囲を限定するものではない。

＜実施例および比較例で使用している化合物群＞

実施例１
＜アルカリ可溶性基を有するポリイミドの合成＞
撹拌機、温度計、窒素導入管を備えた２リットルのフラスコ中に、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン７１７ｍｌ、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸無水物（アルドリッチ製）６４．２５ｇ（３２７．６ｍｍｏｌ）、ヘキサフルオロ−２,２−ビス（３−
アミノ４−ヒドロキシフェニル）プロパン（日本化薬（株）製）１２０ｇ（３２７．６ｍｍｏｌ）、を添加し、室温で６時間撹拌し反応させた後、重合溶液を蒸留水１０リットルに投じて、１時間撹拌した。析出物を回収、洗浄した後、減圧乾燥して、ヒドロキシル基含有ポリアミド酸（Ｐ−１）１５０ｇを合成した。

得られた（Ｐ−１）８０ｇを撹拌機、温度計、窒素導入管を備えた１リットルのフラスコに中に仕込み、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン３２０ｍｌ、硫酸１．６ｇを加えて、１８０℃で８時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を５リットルの蒸留水に投入し、析出物を回収、洗浄した後、減圧乾燥してヒドロキシル基含有ポリイミド（Ｐ−２）６０ｇを得た。得られたＰ−２の固有粘度は０．７０ｄＬ/ｇであった。

得られた樹脂（Ｐ−２）２１．８ｇを０．２リットルのフラスコ中に仕込み、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加えて溶解し、エチルビニルエーテル７．２ｇ（９９．４ｍｍｏｌ）と１０−カンファースルホン酸０．０２ｇ（０．０８３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。この反応液をトリエチルアミンにより中和し、蒸留水、酢酸エチルにより抽出した後、有機層を濃縮することにより、フェノール性水酸基が３０％保護されたポリイミド溶液（Ｐ−３）を得た。得られたポリイミド溶液の固形分は４０質量％であった。

＜ポジ型感光性樹脂組成物の作製＞
ポリイミド溶液（Ｐ−３）２１２．５質量部（固形分として８５質量部）、２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）（東洋合成工業（株）製）５質量部、架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰ（本州化学工業（株）製）１０質量部、熱酸発生剤（Ｔ−２）５質量部、をＰＧＭＥＡ２００質量部に溶解した後、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過し、感光性樹脂組成物を得た。

＜特性評価＞
この感光性樹脂組成物をシリコンウェハー上にスピンコーターを用いて塗布した後、オーブン中１２５℃で３分間乾燥し、膜厚７μｍの塗膜を得た。この塗膜にガラスマスクを通して高圧水銀灯からのi線（３６５ｎｍ）を照射した後、２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に６０秒間パドル現像することによって露光部を溶解除去し純水でリンスした。その結果、シリコンウェハー上に１μｍの抜きパターンが解像しているのが確認できた。

また、別に、感光性樹脂組成物を同様に４インチのシリコンウェハー上に塗布し、オーブン中で１８０℃３０分間、２３０℃で３０分間、２８０℃で３０分間の順序で加熱し、樹脂を硬化させた。得られた塗膜を剥離して、破断伸び、耐熱性（５％質量減少温度）を、それぞれマイクロオートグラフ ＭＳＴ−Ｉ形（島津製作所社製）、ＳＤＴ Ｑ６００（ティー・エイ・インスツルメント社製）で測定した。結果を表１に示した。
破断伸び及び５％質量減少温度の測定条件は以下のとおりである。
破断伸び：キュア後の膜を幅６ｍｍ、長さ７０ｍｍの短冊状に切り取り、測定部分の長さが５０ｍｍになるように長さ方向の両端を１０ｍｍずつ装置に固定し、室温、５ｍｍ/分で引張試験（室温：２３℃）を行い、「破断伸び」を、（破断時の長さ/元の長さ）×１００（％）として算出した。
５％質量減少温度：膜の質量を、窒素気流下、１０℃/分の昇温レートで５００℃まで測定し、室温２３℃での質量を１００とした場合の、質量が９５になった時の温度を「５％質量減少温度」とした。

実施例２
実施例１の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、ニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例３
実施例１の感光性樹脂組成物中の光酸発生剤２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）を、等質量部のトリアリールスルホニウム塩（ＰＡＧ−１）に変更した以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例４
実施例３の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、等質量部のニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製）に変更した以外は、実施例３と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例５
実施例１の感光性樹脂組成物中の光酸発生剤２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）を、等質量部のオキシムスルホネート系光酸発生剤（ｚ７０）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）に変更した以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例６
実施例５の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、等質量部のニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製）に変更した以外は、実施例５と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例７
ポリイミド（Ｐ−２）８５質量部、光酸発生剤２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）１５質量部、架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰ（本州化学工業（株）製）１０質量部、熱酸発生剤（Ｔ−２）５質量部、をＰＧＭＥＡ２００質量部に溶解した後、０．２μｍのＰＴＦＥ製フィルターで濾過して、感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例８
実施例７の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、等質量部のニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製）に変更した以外は、実施例７と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例９
実施例７の感光性樹脂組成物中の光酸発生剤２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）を、等質量部のトリアリールスルホニウム塩（ＰＡＧ−１）に変更した以外は、実施例７と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例１０
実施例９の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、ニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製））に変更した以外は、実施例９と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例１１
実施例７の感光性樹脂組成物中の光酸発生剤２，３，４−トリス[−２−ジアゾ−１（２Ｈ）−ナフタレノン−４−スルフォニルオキシ]ベンゾフェノン（ＮＱＤ−１）を、オキシムスルホネート系光酸発生剤（ｚ７０）に変更した以外は、実施例７と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

実施例１２
実施例１１の感光性樹脂組成物中の架橋剤ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰを、ニカラックＮ２７０２（三和ケミカル（株）製）に変更した以外は、実施例１１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例１
実施例１の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例２
実施例２の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例２と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例３
実施例３の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例３と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例４
実施例４の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例４と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例５
実施例７の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例７と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例６
実施例８の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例８と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例７
実施例９の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例９と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

比較例８
実施例１０の感光性樹脂組成物から、熱酸発生剤を除いた以外は、実施例１０と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして評価を行った。

以上の実施例１〜１２及び比較例１〜８の評価結果を表１に示す。

比較例に比べ、本発明の感光性樹脂組成物を用いた実施例は、破断伸び、耐熱性が優れていることがわかる。

Claims (5)

1. （ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
   
   （Ｒ_１は炭素数２〜３０の４〜８価の有機基を示す。Ｒ_２は炭素数２〜３０の２〜６価の有機基を示す。Ｅは酸性基もしくは酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表し、Ｅが複数ある場合は同一でも異なっていてもよい。ｒおよびｓは０〜４の整数であるが、ｒ+ｓ＞０である。）
2. （ｄ）熱酸発生剤が、実質的に光照射によっては酸を発生せず、熱のみにより酸を発生する化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
3. （ｄ）熱酸発生剤が、下記一般式（２）で表されることを特徴とする、請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
   式中、Ａは、ｈ価の連結基を表し、Ｒ₀は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、または環状アルキル基を表し、Ｒ_0’は、水素原子、アルキル基、またはアラルキル基を表し、ｈは、２〜８の整数を表す。
4. 請求項１〜３の何れかに記載の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布して乾燥する工程、露光する工程、アルカリ水溶液および/または有機溶媒を用いて現像する工程を含むパターンの製造法。
5. 請求項４に記載の製造法により得られるパターンを有する電子デバイス。