JP2009072694A - 材料の高密度酸化法及びデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】波長190nm以下の光3を、マスク2を被覆した被酸化固体材料1に対して照射する。そして、被酸化固体材料1の露光した部分に、高品質の酸化物4に改質する。また、光3を集光レンズ5を介して被酸化固体材料1に集光照射することで、被酸化固体材料1に対して酸化物4を位置選択的に形成する。
【選択図】図1
Description
上述した第1形態における材料の高密度酸化法の実験概略構成において、光3として波長157nmのF2 レーザを用いた。レーザ照射部分でのエネルギー密度は、約50mJ/cm2 /pulse一定とした。また、パルス繰り返し周波数は10Hz一定とした。被酸化固体材料1はシリカガラス基板上に真空蒸着によって形成されたアルミニウム薄膜(膜厚約10nm)を用い、実験は大気中で行った。
2 マスク
3 光
4 酸化物
5 集光レンズ
6 被酸化液体材料
7 容器
8 透過性基体
9 基体
Claims (9)
- 波長190nm以下の光を被酸化固体材料に照射し、該光を照射した部分に酸化物を形成することを特徴とする材料の高密度酸化法。
- 波長190nm以下の光を被酸化液体材料に照射し、該光を照射した部分に酸化物を形成することを特徴とする材料の高密度酸化法。
- 請求項1記載の高密度酸化法により形成された酸化物を用いたことを特徴とするデバイス。
- 請求項2記載の高密度酸化法により形成された酸化物を用いたことを特徴とするデバイス。
- 請求項1記載の高密度酸化法において、位置選択的に酸化物が形成されたことを特徴とするデバイス。
- 請求項2記載の高密度酸化法において、位置選択的乃至は空間選択的に酸化物が形成されたことを特徴とするデバイス。
- 被酸化固体材料からなる薄膜乃至は被酸化液体材料からなる薄液膜に、波長190nm以下の光を照射し、酸化物薄膜を形成することを特徴とする材料の高密度酸化法。
- 請求項7記載の高密度酸化法と、既存の化学エッチングとを組み合わせることにより、前記酸化物薄膜を位置選択的に形成することを特徴とするデバイス。
- 請求項7記載の高密度酸化法と、既存の薄膜乃至は薄液形成法とを組み合わせることにより、酸化物薄膜を積層させることを特徴とするデバイス。
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JP2014091846A (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-19 | Technical Research & Development Institute Ministry Of Defence | 耐食性を有する鉄の形成法及びデバイス |
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- 2007-09-20 JP JP2007243997A patent/JP5266490B2/ja active Active
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