JP2009071019A - Display unit, and electronic apparatus equipped with the display unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置および当該表示装置を備えた電子機器に関し、特に、基板上に、バンクによって行列状に区画された画素領域が設けられ、所定の機能層から成る表示素子が前記画素領域に形成される表示装置に関する。 The present invention relates to a display device and an electronic apparatus including the display device, and in particular, a pixel region partitioned in a matrix by banks is provided on a substrate, and a display element including a predetermined functional layer is provided in the pixel region. The present invention relates to a display device to be formed.
従来から、基板上に形成された所定の領域に、インクジェット方式を利用して機能液を塗布し、所定のパターンの機能層を形成する場合、塗布等のプロセス精度に起因して、基板上で異なる機能液が混合するという問題が発生することが知られている。特に、機能液を塗布する領域間の基板面に沿う距離が短い高精細なパターンの機能層を形成する場合は、このような問題が発生しやすくなる。 Conventionally, when a functional liquid is applied to a predetermined region formed on a substrate by using an ink jet method to form a functional layer having a predetermined pattern, due to process accuracy such as coating, It is known that a problem of mixing different functional liquids occurs. In particular, when a high-definition functional layer having a short distance along the substrate surface between regions to which the functional liquid is applied is formed, such a problem is likely to occur.
そこで、通常は機能層が形成される領域間に、それぞれの領域を仕切るバンクを設け、このバンクによって機能液の混合を防止しようとする技術が多く開示されている(例えば、特許文献1参照)。 Thus, many techniques have been disclosed in which banks that partition the respective regions are usually provided between the regions where the functional layers are formed, and the functional liquid is prevented from being mixed by the banks (for example, see Patent Document 1). .
ところで、通常インクジェット方式では、機能液の液滴をノズルから噴射し、基板上にバンクによって形成された所定の領域に機能液を塗布するとき、ノズルの位置精度や形状誤差、あるいは噴射条件の違いなどによって、噴射された液滴の着弾位置が基板面に沿った方向において少なからずバラツキが生ずることがある。 By the way, in the normal ink jet method, when functional liquid droplets are ejected from nozzles and functional liquid is applied to a predetermined region formed by a bank on a substrate, nozzle position accuracy, shape error, or difference in ejection conditions For example, the landing positions of the ejected droplets may vary in the direction along the substrate surface.
このため、このようなバラツキが生じても、噴射された機能液の液滴がバンクを乗り越えて隣接する領域に流出することなく、所定の領域内にきちんと留まるようにするためには、バンク幅を、液滴の着弾位置のバラツキを考慮した幅以上に設定する必要がある。従って、バンク幅は、基板面に沿う方向において、着弾位置のバラツキを考慮した幅よりも狭くすることができず、その結果、高精細なパターンを形成することができないという課題が生じてしまうことになる。 For this reason, in order to ensure that even if such variations occur, the ejected liquid droplets of the functional liquid do not flow over the bank and flow into the adjacent area and stay within the predetermined area, the bank width Needs to be set to be equal to or larger than the width in consideration of variations in the landing positions of the droplets. Therefore, the bank width cannot be narrower than the width considering the variation in landing position in the direction along the substrate surface, and as a result, there arises a problem that a high-definition pattern cannot be formed. become.
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[適用例1]基板上に、バンクによって行列状に区画された画素領域が設けられ、所定の機能層から成る表示素子が前記画素領域に形成される表示装置であって、前記機能層のうち少なくとも1つは機能液の塗布によって形成される機能層であり、少なくとも前記区画された行もしくは前記区画された列のいずれかの画素領域において、隣接する前記画素領域に形成される前記表示素子の前記基板に対向する面は、当該基板からの高さが互いに異なることを特徴とする。 [Application Example 1] A display device in which pixel regions partitioned in a matrix by banks are provided on a substrate, and a display element including a predetermined functional layer is formed in the pixel region, At least one is a functional layer formed by application of a functional liquid, and at least in the pixel region of either the partitioned row or the partitioned column, the display element formed in the adjacent pixel region The surfaces facing the substrate have different heights from the substrate.
画素が高密度になると、画素領域を区画するバンクが狭くなってしまうため、画素領域に形成された表示素子間の平面(沿面)距離が短くなってしまう。そこで、この構成によれば、隣接する表示素子の基板からの高さを異ならしめることによって、表示素子間に存在するバンクの沿面距離を長くすることができる。この結果、表示素子間の平面距離が短くなってもバンクの沿面距離が短くなることを抑制することができるので、表示素子を形成するために画素領域に塗布された機能液が、隣接する画素領域間で混ざり合うことを抑制することができる。 When the density of the pixels is increased, the banks that partition the pixel region are narrowed, so that the plane (creeping) distance between display elements formed in the pixel region is shortened. Therefore, according to this configuration, it is possible to increase the creeping distance of the banks existing between the display elements by making the heights of the adjacent display elements different from the substrate. As a result, it is possible to suppress the creepage distance of the bank from being shortened even if the planar distance between the display elements is shortened, so that the functional liquid applied to the pixel region for forming the display element is applied to adjacent pixels. Mixing between areas can be suppressed.
[適用例2]上記表示装置であって、前記隣接する画素領域間に位置する前記バンクの沿面において、前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域の周辺には、当該画素領域に塗布される前記機能液に対して撥液処理が行われ、前記基板からの高さが低い方の前記表示素子が形成される画素領域の周辺には、前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域に塗布される前記機能液に対して親液処理が行われていることを特徴とする。 Application Example 2 In the display device, on the creeping surface of the bank located between the adjacent pixel regions, there is a region around the pixel region where the display element having a higher height from the substrate is formed. The functional liquid applied to the pixel region is subjected to a liquid repellent treatment, and the height from the substrate is around the pixel region where the display element having a lower height from the substrate is formed. A lyophilic treatment is performed on the functional liquid applied to a pixel region where the display element having a higher height is formed.
隣接する画素領域間に位置するバンク沿面において、基板からの高さが高い位置に表示素子が形成される画素領域に塗布する機能液が、重力によって低い方の表示素子が形成される画素領域に流れ易い。そこで、高い方の表示素子が形成される画素領域の周辺を撥液性を呈するようにすることで、低い方の表示素子が形成される画素領域へ機能液が流れにくくする。また、流れたとしても、低い方の表示素子が形成された画素領域まで流れないようにするため、低い方の表示素子が形成される画素領域の周辺のバンク沿面を親液性を呈するようにすることで、塗布された機能液をバンクの沿面に留めることができる。この結果、高い方の表示素子が形成される画素領域に塗布された機能液が、低い方の表示素子が形成される画素領域に塗布される機能液と混ざり合うことを抑制することができる。 The functional liquid applied to the pixel area where the display element is formed at a position where the height from the substrate is high on the bank surface located between adjacent pixel areas is applied to the pixel area where the lower display element is formed by gravity. Easy to flow. Therefore, by making the periphery of the pixel region where the higher display element is formed liquid repellent, the functional liquid is less likely to flow to the pixel region where the lower display element is formed. Further, even if it flows, the bank surface around the pixel area where the lower display element is formed is made lyophilic so as not to flow to the pixel area where the lower display element is formed. By doing so, the applied functional liquid can be kept on the creeping surface of the bank. As a result, it is possible to prevent the functional liquid applied to the pixel region where the higher display element is formed from being mixed with the functional liquid applied to the pixel region where the lower display element is formed.
[適用例3]上記表示装置であって、前記バンクの沿面形状は、前記基板からの高さが低い方の前記表示素子が形成される画素領域の開口面積が、前記基板に近づくほど大きくなる逆テーパ形状を含むことを特徴とする。 Application Example 3 In the display device, the creeping shape of the bank increases as the opening area of the pixel region in which the display element having a lower height from the substrate is formed approaches the substrate. It includes a reverse taper shape.
隣接する画素領域間に位置するバンク沿面において、基板面からの高さが高い方の表示素子が形成される画素領域に塗布する機能液が、重力によって低い方の表示素子が形成される画素領域に流れ易い。そこで、低い方の表示素子が形成される画素領域を区画するバンク沿面に逆テーパ部を形成する。こうすれば、この逆テーパ部に高い方の表示素子が形成される画素領域からこぼれて流れた機能液を留めて、低い方の表示素子が形成される画素領域に入り込まないようにすることができる。この結果、高い方の表示素子が形成される画素領域に塗布された機能液が、低い方の表示素子が形成される画素領域に塗布される機能液と混ざり合うことを抑制することができる。 A pixel region in which the functional liquid applied to the pixel region where the display element whose height is higher from the substrate surface is formed on the bank surface located between adjacent pixel regions is formed by the gravity. Easy to flow. Therefore, a reverse taper portion is formed along the bank surface that partitions the pixel region in which the lower display element is formed. In this way, the functional liquid that has spilled from the pixel area where the higher display element is formed is retained in the reverse tapered portion so that it does not enter the pixel area where the lower display element is formed. it can. As a result, it is possible to prevent the functional liquid applied to the pixel region where the higher display element is formed from being mixed with the functional liquid applied to the pixel region where the lower display element is formed.
[適用例4]上記表示装置であって、前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域には、当該表示素子の前記基板に対向する面と当接するように前記バンクが延在していることを特徴とする。 Application Example 4 In the display device, the pixel region in which the display element having a higher height from the substrate is formed is in contact with a surface of the display element facing the substrate. The bank is extended.
この構成によれば、バンクの形成と同時に、高い方の表示素子が形成される画素領域を形成することができるので、互いに高さの異なる表示素子を形成するための画素領域を容易に形成することが可能となる。また、高い方の表示素子が形成される画素領域をバンク材料で形成するため、行列状に画素領域を区画するバンクについて、バンク幅が狭い領域の発生を抑制することができる。この結果、バンクの形成が容易となる。 According to this configuration, since the pixel region in which the higher display element is formed can be formed simultaneously with the formation of the bank, the pixel region for forming display elements having different heights can be easily formed. It becomes possible. In addition, since the pixel region in which the higher display element is formed is formed of a bank material, the generation of a region with a narrow bank width can be suppressed for the banks that partition the pixel region in a matrix. As a result, the bank can be easily formed.
[適用例5]上記表示装置であって、前記機能液の塗布によって形成される機能層は、エレクトロルミネッセンス素子を形成する発光層であり、前記機能液は、当該発光層を形成する発光材料を含むことを特徴とする。 Application Example 5 In the display device, the functional layer formed by applying the functional liquid is a light emitting layer that forms an electroluminescence element, and the functional liquid is a light emitting material that forms the light emitting layer. It is characterized by including.
このように隣接する画素領域間において、形成される表示素子の基板からの高さを異ならしめることによって、形成される機能層間の距離が長くなる。この結果、隣接する画素領域間におけるバンクの沿面距離を大きくすることができるので、それぞれの画素領域に発光材料を含む機能液を噴射して塗布することによって発光層を形成しても、機能液が混入することを抑制することができる。従って、エレクトロルミネッセンス素子を形成する発光層を、機能液の塗布によって形成することが可能となる。 Thus, by making the height of the formed display element from the substrate different between the adjacent pixel regions, the distance between the formed functional layers becomes longer. As a result, the creepage distance of the bank between adjacent pixel regions can be increased, so that even if a light emitting layer is formed by spraying and applying a functional liquid containing a light emitting material to each pixel region, the functional liquid Can be mixed. Therefore, the light emitting layer for forming the electroluminescence element can be formed by applying the functional liquid.
[適用例6]上記[適用例1]ないし[適用例5]のいずれか一つの適用例に記載の表示装置を備えた電子機器であることを特徴とする。 Application Example 6 An electronic apparatus including the display device according to any one of Application Examples 1 to 5 described above.
上記表示装置によれば、高密度の画素を有することができるので、この表示装置を備えた電子機器は、高解像度の文字や画像を表示することができる。 According to the display device, since the display device can have high-density pixels, an electronic device including the display device can display high-resolution characters and images.
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施例となる表示装置100を搭載した電子機器としての携帯電話1を示した説明図である。本実施例の表示装置100は、エレクトロルミネッセンス素子としての有機ELを表示素子とするものであり、バックライトが不要で薄型化が可能であることから、画像や文字を高解像で表示する薄型の電子機器には好適な表示装置である。従って、本実施例の如く、携帯電話に搭載する表示装置として有効な表示装置の一つである。
Hereinafter, the present invention will be described based on examples. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a
表示装置100には、R(赤)G(緑)B(青)の各画素が複数形成され、カラー画像など所定の画像や文字を表示するように構成されている。なお、本実施例では、以降の説明を簡単にするために、図1に示すように、表示装置100は、列方向(図面縦方向)に4画素、行方向(図面横方向)に6画素の計24個の画素が形成されているものとする。もとより、実際には、行列それぞれの方向に数百画素といった多くの画素が形成されていることは言うまでもない。
A plurality of R (red), G (green), and B (blue) pixels are formed in the
次に、本実施例の表示装置100について、その表示原理を図2を用いて、また表示素子となる有機ELの構造を図3を用いて、順次説明する。
Next, the display principle of the
図2は、表示装置100の全体のレイアウトを回路構成とともに示した模式図である。表示装置100は、図示するように画素ごとに表示駆動されるアクティブマトリックス型の装置である。各画素はバンクによって長円形状に区画された領域を有し、基板10の中央部分に行列状に規則正しく配置され、基板10上に形成されている。もとより、各画素はバンクによって長円形状以外の形状に区画されてもよいし、配列も不規則であってもよいことは勿論である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the overall layout of the
各画素には、後述する有機ELが表示素子として、また、有機ELを表示(つまり発光)駆動するためのTFT(薄膜トランジスタ)14,15と保持容量16とが駆動素子として形成されている。なお、本実施例では有機ELはトップエミッション構造を有している。従って、駆動素子は表示素子と平面的に重なる位置であって、基板10と表示素子との間に形成されている。
In each pixel, an organic EL described later is formed as a display element, and TFTs (thin film transistors) 14 and 15 for driving the organic EL to display (that is, light emission) and a
基板10の外周部分には、走査駆動回路11とデータ駆動回路12、および給電端子13とが形成されている。走査駆動回路11からは走査線Gateが、データ駆動回路12からはデータ線Sigが、また、給電端子13からはこれに接続された電源供給線Comが、それぞれ各画素に形成された駆動素子に対して図2に示したように配線され、表示素子を発光駆動する。
A
まず、走査線Gateは、TFT14のゲートに接続され、走査線Gateを介して供給される電流信号に応じて、TFT14をオン/オフ制御する。そしてTFT14がオンすると、TFT14のソースに接続されたデータ線Sigから供給される画像信号に応じて、電源供給線Comから供給される電源によって保持容量16に所定の電圧が保持される。すると、保持容量16に保持された電圧は、TFT15のゲートに印加され、TFT15をオン状態にする。TFT15のソースおよびドレインはそれぞれ電源供給線Comと陽極120に接続され、保持容量16に保持された電圧に応じた、つまり画像信号に応じた電流が、電源供給線Comを介して陽極120に印加される。
First, the scanning line Gate is connected to the gate of the
各画素に形成される表示素子は、陽極120と陰極180(図3参照)との間に電流を流すことによって発光する。従って、陽極120に印加された電流が、総ての画素の表面に渡って形成された陰極180(不図示)に流れることによって、画像信号に応じた明るさで発光する。表示装置100は、こうして画像を表示する。
The display element formed in each pixel emits light by passing a current between the
次に、表示装置における具体的な画素構成について図3を用いて説明する。図3は、本実施例の適用前における表示装置の画素構成を示す模式図である。図3(a)は、図2に示した各画素のうち、行方向(図面横方向)に並んだ任意の3つの画素を示した平面図であり、図3(b)は、図3(a)におけるA−A断面を示した模式断面図で、表示素子の形成が終了した状態を示している。また、図3(c)は、有機ELの機能層を機能液の噴射によって塗布して形成する様子を示した模式図である。なお、各寸法は、説明の都合上必要に応じて誇張しているため、実際の寸法とは必ずしも一致していないことは言うまでもない。 Next, a specific pixel structure in the display device will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a pixel configuration of the display device before application of the present embodiment. FIG. 3A is a plan view showing any three pixels arranged in the row direction (the horizontal direction in the drawing) among the pixels shown in FIG. 2, and FIG. It is the schematic cross section which showed the AA cross section in a), and has shown the state which formation of the display element was complete | finished. FIG. 3C is a schematic diagram showing a state in which a functional layer of organic EL is applied and formed by jetting a functional liquid. In addition, since each dimension is exaggerated as needed for convenience of explanation, it goes without saying that the actual dimension does not necessarily match.
各画素は、図3(a)に示したように、エッチングによって形成された絶縁有機材料(例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂)からなるバンク(図中ハッチング部分)によって区画された画素領域を有し、それぞれ長円形状を呈している。そして各画素の画素領域には、RGBの各発光色が所定の配列で並ぶように表示素子が形成されている。本実施例では、各画素は、行方向にR、G、Bの順で繰り返し配列されているものとする。従って、図3(a)は、配列された複数の画素から、行方向について、順にR画素、G画素、B画素が並んだ3つの画素部分を取り出した状態を示している。 As shown in FIG. 3A, each pixel has a pixel region partitioned by a bank (hatched portion in the figure) made of an insulating organic material (for example, acrylic resin or polyimide resin) formed by etching, Each has an oval shape. In the pixel area of each pixel, display elements are formed so that the respective RGB emission colors are arranged in a predetermined arrangement. In this embodiment, each pixel is repeatedly arranged in the order of R, G, and B in the row direction. Therefore, FIG. 3A shows a state in which three pixel portions in which R pixels, G pixels, and B pixels are arranged in order in the row direction are extracted from a plurality of arranged pixels.
また、表示素子は、図3(b)に示したように、陽極120と陰極180との間に、正孔注入層140と各発光層(R発光層150、G発光層160、B発光層170)とが形成されたものである。従って、形成される発光層が異なることによって、それぞれ発光色の異なるR画素、G画素、B画素となる。
Further, as shown in FIG. 3B, the display element includes a hole injection layer 140 and each light emitting layer (R light emitting layer 150, G light emitting layer 160, B light emitting layer) between the
本実施例では、正孔注入層140は、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)/PSS(ポリスチレンスルフォン酸)用機能液(PEDOT:PSS重量比=1:50、固形分濃度0.5%、溶媒:ジエチレングリコール50%、残量純水)を画素領域に噴射後、真空乾燥および熱処理(200℃、10分間)を行い、50nmの厚さのPEDOT/PSS膜を形成したものである。また、各発光層は、RGBの各色を示す蛍光材料を溶質とし、シクロヘキシルベンゼン100%を溶媒とした機能液を、各画素領域における機能液の重量が同じになるように噴射し、以降真空乾燥および窒素雰囲気中での熱処理(130℃、1時間)を行って、それぞれ100nmの厚さの膜を形成したものである。 In this example, the hole injection layer 140 is made of PEDOT (polyethylenedioxythiophene) / PSS (polystyrene sulfonic acid) functional liquid (PEDOT: PSS weight ratio = 1: 50, solid content concentration 0.5%, solvent: After spraying diethylene glycol (50%, remaining pure water) onto the pixel region, vacuum drying and heat treatment (200 ° C., 10 minutes) are performed to form a PEDOT / PSS film having a thickness of 50 nm. In addition, each light emitting layer is sprayed with a functional liquid using a fluorescent material exhibiting each color of RGB as a solute and 100% cyclohexylbenzene as a solvent so that the weight of the functional liquid in each pixel region is the same, and thereafter vacuum dried. And a heat treatment in a nitrogen atmosphere (130 ° C., 1 hour) to form films each having a thickness of 100 nm.
バンクと陽極120との間には、長円形状の画素領域の外周に沿って所定幅が画素領域内に露出するように、無機絶縁膜130が形成されている。これは、正孔注入層140や発光層150,160,170を形成する機能液との親液性を高め、正孔注入層140や各発光層(150,160,170)がバンク近傍まできちんと形成されることによって、陽極120と陰極180との短絡を防止するようにするためである。もとより、正孔注入層140や発光層150,160,170がバンク近傍まできちんと形成できる場合は、無機絶縁膜130は形成する必要はない。
An inorganic insulating
また、本実施例の表示素子は、トップエミッション方式の有機ELであることから、発光光が陰極180側から射出するように、陽極120の基板10と対向する面側には、反射層110が形成されている。もとより、陽極120が反射層110を兼ねる場合は、反射層110を形成する必要はない。
Further, since the display element of this embodiment is a top emission type organic EL, a
反射層110としては、例えばAlが好適である。陽極120としては、ITO(酸化インジウムスズ)のように光透過性のある材料に限らず、酸化錫や金、銀、銅などの非光透過性のない材料であっても使用可能である。また、陰極180はITOなどの光透過性を有する材料で形成されている。もとより、金属材料であっても光が透過する程度に薄く形成されたものであれば陰極材料として使用してもよい。本実施例では、陰極180は電子注入層と兼ねており、LiF(厚さ5nm)とAl(厚さ5nm)を蒸着して形成したものである。
For example, Al is suitable as the
ここで本実施例においては、図3の説明からわかるように、表示素子は、例えばG画素であれば、反射層110、陽極120、正孔注入層140、G発光層160、陰極180の各機能層から構成される。なお、表示素子となる有機ELを形成する正孔注入層140や各発光層(150,160,170)など、各機能層に関する層の形成方法や、このような各機能層として使用可能な他の材料については、例えば前述した特許文献1などにおいて開示されている形成方法や材料を適用することができるため、ここでは説明を省略する。
In this embodiment, as can be seen from the description of FIG. 3, if the display element is a G pixel, for example, each of the
ところで、前述したように表示素子を発光駆動するための駆動素子は、表示素子と平面的に重なる位置であって、基板10と表示素子との間に形成されている。本実施例では、図3(b)に示したように、駆動素子であるTFT14,15や保持容量16は、基板10との間に位置し、表面全体が平坦化されたデバイス層20の内部に形成されている。そして、TFT15のドレイン電極は、デバイス層20において形成された図示しないスルーホールによって、各発光層の膜厚に影響を与えないように画素領域以外の部分において陽極120(または反射層110)と結線されている。
Incidentally, as described above, the driving element for driving the display element to emit light is formed between the
デバイス層20については本実施例としての本質ではないので、ここでは具体的な構成説明を省略する。また、以降の説明に用いる図面においては基板10に含まれるものとして扱うこととする。従って、以降の説明における基板10からの高さとは、平坦化されたデバイス層20からの高さを示すものとする。もとより、デバイス層20が平坦でない場合は、基板10の平面上からの高さを意味するものとする。
Since the device layer 20 is not the essence of the present embodiment, a specific configuration description is omitted here. Further, in the drawings used for the following description, it is assumed that they are included in the
本実施例では正孔注入層140と各発光層(150,160,170)を、画素領域に機能液を噴射して塗布することによって形成する。このとき、図3(c)に示したように、例えばG機能液滴を噴射ヘッドから噴射する場合、正しい着弾位置(例えば画素領域の中心)から噴射ヘッドが位置ずれを生じても、バンクの沿面距離によって、塗布されたR機能液(またはB機能液)とG機能液との間に充分な距離が確保されていれば、塗布されたG機能液が図中破線で示したように位置ずれを起こしても、R機能液と混ざることが抑制される。また、バンクの沿面には、撥液処理が施されており、表面張力によってG機能液は自ら正しい着弾位置に戻るように工夫されている。こうして、基板10上に、RGBの各画素に対応した有機ELが表示素子として形成される。
In this embodiment, the hole injection layer 140 and each light emitting layer (150, 160, 170) are formed by spraying and applying a functional liquid to the pixel region. At this time, as shown in FIG. 3C, for example, when the G function droplet is ejected from the ejection head, even if the ejection head is displaced from the correct landing position (for example, the center of the pixel area), If a sufficient distance is secured between the applied R functional liquid (or B functional liquid) and the G functional liquid depending on the creepage distance, the applied G functional liquid is positioned as indicated by the broken line in the figure. Even if the shift occurs, mixing with the R functional liquid is suppressed. Further, the creeping surface of the bank is subjected to a liquid repellent treatment, and the G functional liquid is devised so as to return to the correct landing position by the surface tension. Thus, an organic EL corresponding to each pixel of RGB is formed on the
さて、このように形成される表示素子について、画素密度を上げ高精細なパターンを有する画素配列の一例として、行方向の画素間隔を狭めた場合について、表示素子の形成において発生する不具合を、図4を用いて説明する。 As for an example of a pixel array having a high-definition pattern with an increased pixel density, a problem that occurs in the formation of the display element when the pixel spacing in the row direction is reduced is shown in FIG. 4 will be described.
図4(a)は図3(a)に示した画素配列について、行方向(図面横方向)における画素間隔を減少した場合を示したものである。図示するように、バンクによって区画されたRGBの各画像領域は、行方向において、介在するバンクが互いにBWの幅に近接する。そしてこのような場合において、形成すべきバンク形状を図4(b)に示した。 FIG. 4A shows a case where the pixel interval in the row direction (horizontal direction in the drawing) is reduced in the pixel array shown in FIG. As shown in the figure, in the RGB image areas partitioned by the banks, the intervening banks are close to each other in the width of BW in the row direction. In such a case, the bank shape to be formed is shown in FIG.
図4(b)は、図4(a)におけるB−B断面を示す模式図である。図示するように、バンクは図3に示した形状に比べて、バンクの高さをBH分高く形成している。こうすることによって、平面方向においてバンク幅が狭くなることによって減少した沿面距離を、高さ方向において増やすことになるので、例えば噴射ヘッドから噴射されるG機能液の着弾位置がずれた場合においても、図示するように沿面距離が確保され、G機能液がR機能液と混ざり合うことを抑制することが期待できるのである。 FIG.4 (b) is a schematic diagram which shows the BB cross section in Fig.4 (a). As shown in the figure, the bank is formed so that the height of the bank is higher by BH than the shape shown in FIG. By doing so, the creepage distance reduced by the narrowing of the bank width in the plane direction is increased in the height direction. For example, even when the landing position of the G functional liquid ejected from the ejection head is deviated. As shown in the figure, the creepage distance is secured, and it can be expected that the G functional liquid is prevented from being mixed with the R functional liquid.
しかしながら、図4(b)に示したバンク形状では、次のような不具合を生じる可能性がある。例えば、バンクの幅に対してバンクの壁面の高さが相当に高いために、バンクが折れるなどの破壊が生ずる。また、噴射される機能液をバンクがナイフのように切断してしまう。この結果、バンクに撥液処理が施されていても、表面張力によって機能液が一体にかたまることが阻害され、噴射された機能液総てが画素領域位置に塗布されない状況が起こり得る。あるいは、バンクをエッチングで形成する場合、エッチング量のバラツキによってバンクが残らなかったり、バンクの壁面高さが低くなったりしてしまう。このような場合は、噴射される機能液をそれぞれの画素領域に留めることが出来ず、機能液が互いに混ざり合ってしまう。 However, the bank shape shown in FIG. 4B may cause the following problems. For example, since the height of the wall surface of the bank is considerably higher than the width of the bank, the bank breaks or the like occurs. Further, the ejected functional liquid cuts the bank like a knife. As a result, even if the bank is subjected to the liquid repellent treatment, it is possible that the functional liquid is blocked by the surface tension and the sprayed functional liquid is not applied to the pixel region position. Alternatively, when the bank is formed by etching, the bank does not remain due to variations in the etching amount, or the wall surface height of the bank becomes low. In such a case, the functional liquid to be ejected cannot be retained in each pixel region, and the functional liquids are mixed with each other.
そこで、本実施例の表示装置は、高精細なパターン表示が可能な表示装置であって、バンクを安定して形成でき、噴射された機能液が混ざり合うことなく画素領域に正しく塗布されて表示素子を形成することができる表示装置を実現するものである。これを、図5および図6を用いて説明する。 Therefore, the display device according to the present embodiment is a display device capable of displaying a high-definition pattern, can stably form a bank, and is correctly applied to the pixel region without being mixed with the ejected functional liquid. A display device capable of forming an element is realized. This will be described with reference to FIGS.
図5は、図3(a)に示した画素配列について、画素密度を上げるべく行方向(図面横方向)における画素間隔を減少した場合に形成されるバンクの様子を示したものである。バンクによって区画されたRGBの各画像領域は、図4(a)と同様に、行方向においてバンク間隔が互いにBWの幅に近接したものとする。このとき図5に示すように、R画素領域とB画素領域は図4(a)と同じく周囲がバンクによって区画された画素領域とし、G画素領域(およびB画素領域の隣(図面右側)のR画素領域)については、図4(a)の場合とは異なり、画素領域全体にバンクを延在形成するのである。 FIG. 5 shows the state of the bank formed when the pixel interval in the row direction (horizontal direction in the drawing) is reduced to increase the pixel density in the pixel array shown in FIG. Each of the RGB image areas partitioned by the bank is assumed to have a bank interval close to the BW width in the row direction, as in FIG. 4A. At this time, as shown in FIG. 5, the R pixel region and the B pixel region are pixel regions that are partitioned by banks as in FIG. 4A, and are adjacent to the G pixel region (and next to the B pixel region (right side of the drawing)). For the (R pixel region), unlike the case of FIG. 4A, a bank is formed to extend over the entire pixel region.
図6は、図5におけるC−C断面を示す模式図である。図示するように、隣接する画素間におけるバンクの沿面距離を長くするため、図4(b)と同様に、バンクの高さをBH分高くしている。そして、図4(b)とは異なり、G画素領域(および隣のR画素領域)の基板10からの高さが、R画素領域およびB画素領域に対してRH1分高くなるように形成している。もとより、本実施例では、行方向において1画素おきに画素領域の基板10からの高さをRH1分高くなるようにバンクを延在形成し、隣接する画素領域間において、互いに画素領域の基板10からの高さが異なるようにしている。従って、図5においては、R画素とB画素が画素領域の基板10からの高さが低い方の画素領域となり、G画素(および隣のR画素)が、画素領域の基板10からの高さが高い方の画素領域となる。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a CC cross section in FIG. 5. As shown in the figure, in order to increase the creepage distance of the bank between adjacent pixels, the height of the bank is increased by BH as in FIG. Unlike FIG. 4B, the G pixel region (and the adjacent R pixel region) is formed so that the height from the
この結果、バンクの幅がBWと狭くなった部分についてのバンクの高さ寸法を、図4(b)に示した形状に比べて短くすることができる。従って、バンク幅が狭い部分の高さが低くなることによってバンクに加わる曲げ応力が緩和されるので、バンクが折れるなどの破壊が抑制される。また、バンクをエッチングで形成する場合、エッチング量のバラツキがあっても、一方の画素領域を形成するためのエッチング深さが少ないことから、バンクの片側の壁面を形成するためのエッチング量が少なくなるので、バンクの両側を深くエッチングする場合に比べてバンクが残る確率が高くなる。また、幅が狭いバンクの高さが低く抑制されるので、噴射される機能液をバンクがナイフのように切断する可能性も低くなる。この結果、バンクの沿面に施された撥液処理にともなう表面張力によって機能液が一体にかたまることができるので、互いに機能液が混ざり合うことなく、噴射された総ての機能液が本来の画素領域位置に留まり、その結果、表示素子が正しく形成されることになる。 As a result, the bank height dimension of the portion where the bank width becomes narrower to BW can be made shorter than the shape shown in FIG. Accordingly, the bending stress applied to the bank is reduced by reducing the height of the narrow bank portion, so that the breakage of the bank is suppressed. In addition, when a bank is formed by etching, even if there are variations in the etching amount, the etching depth for forming one pixel region is small, so the etching amount for forming one wall surface of the bank is small. Therefore, the probability that the bank remains is higher than that in the case where the both sides of the bank are etched deeply. Further, since the height of the narrow bank is suppressed to be low, the possibility that the bank cuts the ejected functional liquid like a knife becomes low. As a result, the functional liquid can be integrated together by the surface tension accompanying the liquid repellent treatment applied to the surface of the bank. As a result, the display element is correctly formed.
基板10からの高さ寸法RH1は、画素間のバンクの幅BWや、高くしたバンク寸法BHに応じて決定することが好ましい。例えば、高くしたバンク寸法BHを高さ寸法RH1の値としてもよい。あるいは、基板10からの高さが高い画素領域に噴射される機能液を総て溜めるために、画素領域を区画するバンク壁面に要求される高さ寸法を求め、求めたバンク壁面の高さから、高さ寸法RH1の値を算出するようにしてもよい。また、高さ寸法RH1の値は、1画素ずつ異なることとしても差し支えない。画素領域に噴射される機能液について、その総量が異なったり表面張力の値が異なったりする場合は、要求される壁面の高さが異なることになるからである。
The height dimension RH1 from the
ここで、本実施例の表示装置では、図6に示したように、バンクが延在した画素領域においては、反射層110と陽極120、および無機絶縁膜130は延在するバンク上に形成することになる。つまり、画素領域の高さの高い方のG画素領域(および隣のR画素領域)のように、行方向において1画素置きにバンク上に反射層110、陽極120、無機絶縁膜130を形成する。従って、本実施例の場合は、R画素領域とB画素領域に対応する反射層110、陽極120、無機絶縁膜130を基板10上にまず形成し、その後バンクを全面形成した後、バンクをエッチングして各画素領域を形成する。その際、R画素領域とB画素領域はフルエッチングを行いバンクを完全に除去する一方、G画素領域(および隣のR画素領域)はハーフエッチングを行い、基板10からの高さがRH1となるバンク面を残すことによって形成する。そして、形成したG画素領域(および隣のR画素領域)に再び反射層110、陽極120、無機絶縁膜130をバンク上に形成するのである。
Here, in the display device of this embodiment, as shown in FIG. 6, in the pixel region where the bank extends, the
従って本実施例では、基板10からの高さが高い方の画素領域(例えばG画素領域)に形成される反射層110および陽極120は、画素領域とほぼ同形状の長円形状を呈する。また、TFT15との接続は、詳細な説明を省略するが、バンクと、長円形状を呈する陽極120(または反射層110)内にスルーホール(不図示)を設けて行うことが可能である。
Therefore, in this embodiment, the
以上、説明したように、本実施例の表示装置によれば、隣り合う画素領域間におけるバンクの沿面距離を確保することができるので、表示素子を形成するために画素領域に塗布された機能液が、隣接する画素領域間で混ざり合うことを抑制することができる。また、画素間隔が狭い場合であっても、幅の狭いバンクの高さを低く抑制することができるので、バンクを安定して形成することが可能となる。 As described above, according to the display device of this embodiment, the creepage distance of the bank between the adjacent pixel regions can be secured, so that the functional liquid applied to the pixel region in order to form the display element. However, mixing between adjacent pixel regions can be suppressed. In addition, even when the pixel interval is narrow, the height of the narrow bank can be suppressed low, so that the bank can be formed stably.
本発明について、上述したように一実施例を用いて説明したが、本発明はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。以下変形例を挙げて説明する。 Although the present invention has been described using one embodiment as described above, the present invention is not limited to such an embodiment and can be implemented in various forms without departing from the spirit of the present invention. Of course. Hereinafter, a modification will be described.
(第1変形例)
上記実施例では、例えば図6に示したように、画素間のバンク形状は、基板10側に近づくほど幅が広くなる正テーパ形状を有しているものとして説明した。本変形例では、画素領域の基板10からの高さが低い方の画素領域を区画するバンクの壁面形状のうち、少なくとも画素間が狭くなった方向(上記実施例では行方向)について画素領域を区画するバンクの壁面形状を基板10に近づくほど画素領域の開口部面積が大きくなる逆テーパ形状に形成することとしてもよい。こうすることで、画素領域に噴射された機能液の一部が、隣接する画素領域に流れ込んでも、流れ込んだ機能液が、形成された逆テーパ形状を有するバンクの壁面部分に留まる確率を高めることができる。この結果、隣接する画素領域に噴射される機能液と混ざり合うことが抑制されることが期待できる。
(First modification)
In the above-described embodiment, for example, as illustrated in FIG. 6, the bank shape between the pixels has been described as having a positive taper shape that increases in width as it approaches the
本変形例について、具体的に図7を用いて説明する。図7(a)は、図5と同様、行方向(図面横方向)における画素間隔を減少した場合に形成されるバンクの様子を示したものである。ここで、本変形例は、バンクによって区画されたRGBの各画像領域のうち、行方向において、少なくとも各画素領域が互いに近接する領域(図中一点鎖線で囲んだ領域T)に位置するバンクの壁面形状を逆テーパとするのである。逆テーパ形状について、図7(b)を用いて説明する。 This modification will be specifically described with reference to FIG. FIG. 7A shows a state of the bank formed when the pixel interval in the row direction (the horizontal direction in the drawing) is reduced, as in FIG. Here, in the present modification, among the RGB image areas partitioned by the bank, in the row direction, at least each pixel area is located in an area close to each other (area T surrounded by a one-dot chain line in the drawing). The wall surface shape is a reverse taper. The reverse taper shape will be described with reference to FIG.
図7(b)は、図7(a)におけるD−D断面を示す模式図である。図示するように、R画素領域とB画素領域について、行方向におけるバンクの壁面は、基板10に近づくにつれて画素領域の開口面積が大きくなる(幅が広くなる)逆テーパに形成されている。逆テーパ形状は、異方性エッチングや、エッチング液の濃度制御、あるいはプラズマエッチング等など周知の技術によって形成することが可能である。なお、隣接する画素領域の一方を基板10からの高さが高くなるようにバンクを延在させているがゆえに、バンクに逆テーパを形成できることは言うまでもない。
FIG.7 (b) is a schematic diagram which shows the DD cross section in Fig.7 (a). As shown in the figure, for the R pixel region and the B pixel region, the wall surfaces of the banks in the row direction are formed in a reverse taper in which the opening area of the pixel region increases (the width increases) as it approaches the
この結果、例えば、図示するように、G機能液の噴射位置がずれて、隣接のR画素領域に一部が流れ込んでも、逆テーパ部分の壁面と基板10の面とがなす角度が鋭角であることから、流れ込んだG機能液が表面張力によって逆テーパ部分に留まる確率が高くなる。従って、噴射されたR機能液と混ざり合うことを抑制することができる。また仮に混ざり合ったとしても、混ざり合う領域は画素領域の端部に留まることが期待できるので、形成される表示素子の表示性能に対する影響を抑制することが可能となる。
As a result, for example, as shown in the drawing, even when the G functional liquid ejection position is shifted and a part flows into the adjacent R pixel region, the angle formed by the wall surface of the reverse tapered portion and the surface of the
さらに、本変形例において、基板10からの高さが低い方の画素領域を区画するバンクの壁面であって、その画素領域との境界近傍に、隣接する基板10からの高さが高い方の画素領域に噴射される機能液に対して、親液性処理を施すようにしてもよい。こうすれば、流れ込んだ機能液が親液性処理されたバンク壁面に付着し易くなるので、画素領域の周辺近傍に留まる確率をさらに高めることができる。
Further, in the present modification, the wall surface of the bank that defines the lower pixel region from the
この変形例についての一例を、図7(c)に示した。図示するように、バンクを上バンクと下バンクの2層にて形成し、基板10側に形成される下バンクについて、例えば基板10からの高さが高い方のG画素領域に噴射されるG機能液に対して親液性を有する材料もしくは親液性処理が可能な材料で形成する。もとより上バンクは、G画素領域に噴射されるG機能液に対して撥液性を有する材料もしくは撥液性処理が可能な材料で形成する。例えば、上バンクはポリイミド樹脂で形成し、下バンクは無機絶縁膜130と同じ材料で形成することとしてもよい。
An example of this modification is shown in FIG. As shown in the figure, the bank is formed of two layers, an upper bank and a lower bank, and the lower bank formed on the
なお、第1変形例において、陰極180(図3参照)を形成する際、形成を蒸着によって行う場合は、この逆テーパが形成されたバンク部分においては、陰極180が寸断されることが生じ得る。従って、第1変形例において陰極180が蒸着で形成される場合は、基板10からの高さが低い方の画素領域を区画するバンクの壁面の少なくとも一部は、正テーパになるようにすることが好ましい。もとより、画素領域の全周において逆テーパを形成する場合は、陰極180の形成は蒸着以外の方法(例えば厚膜印刷など)を用い、形成される高さが異なることによって段差が生ずる陰極間を電気的に接続できるようにすることが好ましい。
In the first modification, when the cathode 180 (see FIG. 3) is formed by vapor deposition, the cathode 180 may be cut off in the bank portion where the reverse taper is formed. . Therefore, when the cathode 180 is formed by vapor deposition in the first modified example, at least a part of the wall surface of the bank defining the pixel region having a lower height from the
(第2変形例)
上記実施例では、図6において説明したように、基板10からの高さが高い方の画素領域をバンクのハーフエッチングによって形成することとした。従って、幅が狭いバンク部分の高さ寸法が短くなることによってバンクが破壊される確率は低くなるものの、幅が狭いバンクが画素領域間に残って形成されることになり、バンクが破壊するリスクは存続する。そこで、本変形例は、幅の狭いバンクを形成することなく画素領域を区画するものである。こうすることで、バンクの破壊を回避するとともに、バンクの形成を容易にするものである。本変形例について、図8を用いて説明する。
(Second modification)
In the above embodiment, as described with reference to FIG. 6, the pixel region having the higher height from the
図8(a)は、図6に示した上記実施例の表示装置の模式断面図と同じ図である。図示するように、上記実施例では、前述したようにバンクの沿面距離を増やすため、画素間のバンクをBH分高くした。このため、幅が狭い(図5、BW)バンクが、隣接する画素領域間に存在することになった。 FIG. 8A is the same as the schematic cross-sectional view of the display device of the above-described embodiment shown in FIG. As shown in the figure, in the above-described embodiment, the bank between pixels is made higher by BH in order to increase the creepage distance of the bank as described above. For this reason, a bank having a narrow width (FIG. 5, BW) is present between adjacent pixel regions.
これに対して、本変形例は、図8(b)に示すように、基板10からの画素領域の高さをバンクの高さと等しい高さRH2にする。具体的には、前述したハーフエッチングを行わないようにすればよい。こうすることで、幅の狭いバンクは形成されないので、バンクが破壊されるリスクを回避することが可能である。
On the other hand, in this modification, as shown in FIG. 8B, the height of the pixel region from the
なお、本変形例の場合は、基板10からの高さが高い方の画素領域についてはバンクの壁面によって区画する替わりに、無機絶縁膜130によって画素領域を区画形成することが好ましい。こうすれば、無機絶縁膜130の親液性によって、例えば図示するように、バンク沿面に施された撥液処理と親液性を有する無機絶縁膜130によって、G画素領域に噴射されたG機能液が、区画されたG画素領域内に留まるようにすることが可能である。従って、例えば隣のR画素領域に噴射されたR機能液と混ざり合うことなく、表示素子を形成することができる。
In the case of this modification, it is preferable that the pixel region having a higher height from the
(第3変形例)
上記実施例では、行方向において画素間隔を狭くして画素密度を上げ高精細なパターンを有する表示装置として説明したが、列方向において画素間隔を狭くして画素密度を上げることとしてもよい。この場合は、説明は省略するが、列方向において1画素置きにバンクを延在させ、基板10からの画素領域の高さを高くすればよい。
(Third Modification)
In the above embodiment, the display device is described as having a high-definition pattern by increasing the pixel density by narrowing the pixel interval in the row direction. However, the pixel density may be increased by narrowing the pixel interval in the column direction. In this case, although explanation is omitted, a bank may be extended every other pixel in the column direction to increase the height of the pixel region from the
さらに、行方向および列方向同時に画素間隔を狭くして画素密度を上げることとしてもよい。この場合の一例を図9に示した。図示するように、バンクによって区画される画素領域について、基板10からの高さが高い画素領域と低い画素領域が、行方向および列方向において、互い違いとなる千鳥状に配置されるようにすればよい。
Further, the pixel density may be increased by narrowing the pixel interval at the same time in the row direction and the column direction. An example of this case is shown in FIG. As shown in the drawing, if the pixel areas partitioned by the banks are arranged such that the pixel areas with a high height and the low pixel areas from the
(その他の変形例)
上記実施例では、携帯電話に搭載される表示装置として説明したが、これに限らず携帯電話以外の電子機器に搭載されることとしてもよい。例えばビデオカメラやデジタルカメラ、あるいは携帯型パーソナルコンピュータなど、高精細なパターンを表示することが所望される電子機器には本実施例および変形例の表示装置は好適である。
(Other variations)
In the above-described embodiment, the display device is described as being mounted on a mobile phone. However, the display device is not limited to this and may be mounted on an electronic device other than the mobile phone. For example, the display device of this embodiment and the modification is suitable for an electronic device that is desired to display a high-definition pattern, such as a video camera, a digital camera, or a portable personal computer.
また、上記実施例では、表示素子の発光光の射出方向を陰極側とするトップエミッション方式であることとして説明したが、これに限らず、表示素子の発光光の射出方向を基板側とするボトムエミッション方式であることとしてもよい。この場合、基板の材料は光透過性を有する材料(例えばガラス)とすればよい。また、TFTなどの駆動素子は、発光素子と平面的に重ねることが出来ないため、基板と表示素子との間にデバイス層が介在しないことになる。従って、ボトムエミッションの場合は、画素領域の基板からの高さは、デバイス層を含まないことになる。 In the above embodiment, the top emission method is described in which the emission direction of the emitted light of the display element is the cathode side. However, the present invention is not limited thereto, and the bottom is the emission direction of the emitted light of the display element. It may be an emission method. In this case, the material of the substrate may be a light transmissive material (for example, glass). In addition, since a driving element such as a TFT cannot overlap with the light emitting element in a planar manner, a device layer is not interposed between the substrate and the display element. Therefore, in the case of bottom emission, the height of the pixel region from the substrate does not include the device layer.
また、上記実施例では、バンク幅が狭くなったときにバンクの高さを一律にBH分高くすることとしたが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、RGBの各機能液が有する表面張力に応じて、隣接する画素領域間のバンクに必要な沿面距離が異なる場合、その沿面距離に合わせて、隣接する画素領域間に必要な段差を形成するように、それぞれの画素領域についてバンクの高さを決定することとしてもよい。 In the above embodiment, when the bank width is narrowed, the height of the bank is uniformly increased by BH. However, the present invention is not limited to this. For example, when the creepage distance required for the banks between adjacent pixel regions differs according to the surface tension of each RGB functional liquid, a necessary step is formed between the adjacent pixel regions according to the creepage distance. As described above, the bank height may be determined for each pixel region.
また、上記実施例では、エレクトロルミネッセンス素子として有機ELを形成することとし、液滴の噴射によって塗布して形成する機能層が、正孔注入層と発光層であることとして説明したが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、陰極とは別に電子注入層を形成する場合は、この電子注入層を液滴の噴射によって形成する機能層としてもよい。あるいは発光層が正孔注入層を兼用する場合は、発光層のみが液滴の噴射によって塗布形成される機能層であることとしてもよい。また、エレクトロルミネッセンス素子として有機ELに限らず、無機ELであっても差し支えない。要は、表示素子を構成する機能層において、液滴の噴射によって塗布形成する機能層であればよい。 In the above embodiment, the organic EL is formed as the electroluminescence element, and the functional layers formed by applying the droplets by jetting are described as the hole injection layer and the light emitting layer. Of course, it is not limited to this. For example, when an electron injection layer is formed separately from the cathode, the electron injection layer may be a functional layer formed by droplet ejection. Alternatively, in the case where the light emitting layer also serves as the hole injection layer, only the light emitting layer may be a functional layer formed by application of droplets. Further, the electroluminescence element is not limited to the organic EL, and may be an inorganic EL. In short, any functional layer may be used as long as it is applied and formed by jetting droplets in the functional layer constituting the display element.
また、上記実施例では、表示素子としてエレクトロルミネッセンス素子を形成する場合を説明したが、表示素子として機能するものであれば、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、画素領域に発光ダイオードを形成する場合としてもよいし、あるいは、表示素子として画素領域にRGBのカラーフィルタ層を形成する場合としても差し支えない。勿論このような場合は、形成される機能層は上記実施例とは異なることは言うまでもない。 Moreover, although the case where an electroluminescence element is formed as a display element has been described in the above embodiment, the present invention is not necessarily limited to this as long as it functions as a display element. For example, a light emitting diode may be formed in the pixel region, or an RGB color filter layer may be formed in the pixel region as a display element. Of course, in such a case, it goes without saying that the functional layer to be formed is different from the above embodiment.
また、上記実施例では、バンクを画素領域に延在させて、基板10からの画素領域の高さが高くなるようにしたが、バンク以外を用いて画素領域の高さを高くすることとしてもよい。例えば、基板10からの高さが低い方の画素領域において形成する無機絶縁膜130を用いてもよい。この場合、無機絶縁膜130は、基板からの高さが低い方の画素領域を区画するバンクとしても機能する。
In the above embodiment, the bank is extended to the pixel area so that the height of the pixel area from the
また、上記第1変形例において、基板10からの高さが低い方の画素領域との境界近傍のバンク壁面に、隣接する基板10からの高さが高い方の画素領域に噴射される機能液に対して親液性処理を呈するようにしたが、上記実施例や第2変形例などにおいて実施することとしてもよいことは勿論である。
In the first modified example, the functional liquid is sprayed onto the bank wall surface in the vicinity of the boundary with the lower pixel region from the
1…携帯電話、10…基板、11…走査駆動回路、12…データ駆動回路、13…給電端子、14,15…TFT、16…保持容量、20…デバイス層、100…表示装置、110…反射層、120…陽極、130…無機絶縁膜、140…正孔注入層、150…R発光層、160…G発光層、170…B発光層、180…陰極。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記機能層のうち少なくとも1つは機能液の塗布によって形成される機能層であり、
少なくとも前記区画された行もしくは前記区画された列のいずれかの画素領域において、隣接する前記画素領域に形成される前記表示素子の前記基板に対向する面は、当該基板からの高さが互いに異なることを特徴とする表示装置。 A display device in which a pixel region partitioned in a matrix by banks is provided on a substrate, and a display element including a predetermined functional layer is formed in the pixel region,
At least one of the functional layers is a functional layer formed by application of a functional liquid,
In at least the pixel regions of the partitioned rows or the partitioned columns, the surfaces of the display elements formed in the adjacent pixel regions facing the substrate are different from each other in height from the substrate. A display device characterized by that.
前記隣接する画素領域間に位置する前記バンクの沿面において、前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域の周辺には、当該画素領域に塗布される前記機能液に対して撥液処理が行われ、前記基板からの高さが低い方の前記表示素子が形成される画素領域の周辺には、前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域に塗布される前記機能液に対して親液処理が行われていることを特徴とする表示装置。 The display device according to claim 1,
In the creeping area of the bank located between the adjacent pixel areas, the functional liquid applied to the pixel area is formed around the pixel area where the display element having a higher height from the substrate is formed. The liquid repellent treatment is performed, and the display element having the higher height from the substrate is formed around the pixel region where the display element having the lower height from the substrate is formed. A display device, wherein a lyophilic process is performed on the functional liquid applied to a pixel region.
前記バンクの沿面形状は、前記基板からの高さが低い方の前記表示素子が形成される画素領域の開口面積が、前記基板に近づくほど大きくなる逆テーパ形状を含むことを特徴とする表示装置。 The display device according to claim 1, wherein
The creeping shape of the bank includes a reverse taper shape in which an opening area of a pixel region in which the display element having a lower height from the substrate is formed becomes larger toward the substrate. .
前記基板からの高さが高い方の前記表示素子が形成される画素領域には、当該表示素子の前記基板に対向する面と当接するように前記バンクが延在していることを特徴とする表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 3,
In the pixel region where the display element whose height is higher from the substrate is formed, the bank extends so as to contact the surface of the display element facing the substrate. Display device.
前記機能液の塗布によって形成される機能層は、エレクトロルミネッセンス素子を形成する発光層であり、前記機能液は、当該発光層を形成する発光材料を含むことを特徴とする表示装置。 A display device according to any one of claims 1 to 4,
The functional layer formed by application of the functional liquid is a light emitting layer that forms an electroluminescence element, and the functional liquid includes a light emitting material that forms the light emitting layer.
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