JP2009048851A - Organic electroluminescent device and electronic apparatus - Google Patents

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弘和 柳原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent device which establishes a depositing condition of a luminous layer and has an excellent luminous property of each of luminous elements. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent device is provided with a plurality of luminous layers 70R, 70G, 70B in which there are arranged, on an element substrate, pixel regions composed of a plurality of sub-pixel regions 90R, 90G, 90B of different display colors in a matrix and each of the sub-pixel regions 90R, 90G, 90B has a different luminous color, and barrier ribs for dividing a plurality of the luminous layers 70R, 70G, 70B. At least one of the sub-pixel regions 90R, 90G, 90B composing the pixel regions has a different size from other sub-pixel regions 90R, 90G, 90B, and the sub-pixel regions 90R, 90G, 90B are composed of one rectangular region a, b, or a plurality of rectangular regions c, d, of which the longitudinal sides are combined crossing each other. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence device and an electronic apparatus.

近年、有機蛍光材料等の発光材料をインク化し、このインクを基体上に吐出するインクジェット法により、発光材料のパターニングを行う方法を採用して、陽極と陰極との間に、前記発光材料からなる発光層が挟持された発光素子を備えるカラー有機エレクトロルミネッセンス装置(有機EL装置)の開発が行われている。
ところで、前記インクジェット法を用いて有機EL装置を製造する場合には、配列形成された各画素(発光素子)の輝度、色純度、発光寿命等の発光特性を均一化することが重要であり、このような発光特性の均一化が、有機EL装置の製造歩留まりに大きく影響している。
各発光素子の発光特性を均一化することを目的とした装置がいくつか提案されている。例えば特許文献1においては、基板上における緑(G)の発光層の面積が、赤(R)や青(B)の発光層の面積よりも小さくなっている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−290441号公報
In recent years, a light emitting material such as an organic fluorescent material is converted into an ink, and a method of patterning the light emitting material by an ink jet method in which this ink is ejected onto a substrate is employed, and the light emitting material is formed between the anode and the cathode. Development of a color organic electroluminescence device (organic EL device) including a light emitting element in which a light emitting layer is sandwiched is underway.
By the way, when manufacturing an organic EL device using the inkjet method, it is important to uniform the light emission characteristics such as luminance, color purity, light emission lifetime, etc. of each pixel (light emitting element) formed in an array, Such uniform emission characteristics greatly affect the production yield of organic EL devices.
Several devices have been proposed for the purpose of uniforming the light emission characteristics of each light emitting element. For example, in Patent Document 1, the area of the green (G) light emitting layer on the substrate is smaller than the area of the red (R) or blue (B) light emitting layer (see, for example, Patent Document 1).
JP 2001-290441 A

しかしながら、発光素子の発光特性を均一化するためには、従来のように発光層の面積を色毎に変えることの他にも、各発光層を画素間で均一かつ平坦に形成することが必要である。特に、発光素子の色ムラや寿命は発光層の膜厚の均一性及び平坦性等の成膜条件によって大きく変動するため、この成膜条件が発光特性を向上させるために重要となってくる。   However, in order to make the light emission characteristics of the light emitting elements uniform, in addition to changing the area of the light emitting layer for each color as in the past, it is necessary to form each light emitting layer uniformly and flatly between pixels. It is. In particular, the color unevenness and lifetime of the light emitting element greatly vary depending on film forming conditions such as the uniformity and flatness of the thickness of the light emitting layer, and this film forming condition becomes important for improving the light emitting characteristics.

特許文献1のように従来の有機EL装置には、各サブ画素領域の面積を色毎に異ならせたものがある。すなわち、各発光素子の発光面積(発光層の面積)を異ならせることによって、色毎に異なる発光特性(発光寿命差)を均一化しようとするものである。ところが、このような発光層の形成材料をインクジェット法基板上に噴射する場合、材料によって液滴量(液滴サイズ)が異なることとなり、発光層を得るために行う乾燥処理の時間に差が生じてしまう。そのため、各発光層の膜形状を平坦にすることが困難であった。   Some conventional organic EL devices, such as Patent Document 1, have different areas of each sub-pixel region for each color. That is, different light emission characteristics (light emission lifetime differences) for each color are made uniform by varying the light emission area (area of the light emitting layer) of each light emitting element. However, when such a material for forming a light emitting layer is sprayed onto an ink jet substrate, the amount of liquid droplets (droplet size) varies depending on the material, resulting in a difference in the time of the drying process performed to obtain the light emitting layer. End up. Therefore, it is difficult to flatten the film shape of each light emitting layer.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、発光層の成膜条件を確立し、各発光素子の発光特性が良好な有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides an organic electroluminescence device and an electronic apparatus that establish the film-forming conditions of the light-emitting layer and have good light-emitting characteristics of each light-emitting element. It is an object.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、上記課題を解決するために、基板上に、表示色が異なる複数のサブ画素領域からなる画素領域がマトリクス状に配置され、サブ画素領域毎に発光色が異なる複数の発光層と、複数の発光層を区画する隔壁と、を画素領域内に有し、画素領域を構成する複数のサブ画素領域のうち少なくとも一つが、他のサブ画素領域と面積が異なっており、複数のサブ画素領域は、一つの矩形状領域、あるいは互いの長手方向が交差するように連結された複数の矩形状領域により構成されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the organic electroluminescence device of the present invention has a pixel area composed of a plurality of sub-pixel areas having different display colors arranged in a matrix on the substrate, and the emission color is different for each sub-pixel area. The pixel region has a plurality of light-emitting layers and partition walls that partition the plurality of light-emitting layers, and at least one of the plurality of sub-pixel regions constituting the pixel region is different in area from the other sub-pixel regions. The plurality of sub-pixel regions are configured by one rectangular region or a plurality of rectangular regions connected so that their longitudinal directions intersect each other.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置によれば、サブ画素領域が、一つの矩形状領域、あるいは複数の矩形状領域から構成されており、矩形状領域の数や長手方向長さによって、画素領域を構成する少なくとも一つのサブ画素領域の面積を異ならせている。また、サブ画素領域が複数の矩形状領域からなる場合、互いの長手方向が交差するように組み合わせているため、複数の矩形状領域からなるサブ画素領域の幅(すなわち、矩形状領域の短手方向長さ)と、一つの矩形状領域からなるサブ画素領域の幅と、を等しくでき、これによって、画素領域内における各サブ画素領域の幅を全て一定にすることができる。
これにより、例えば、発光層をインクジェット法等の液相法で形成する場合、各サブ画素領域毎に発光層の形成材料を均一な膜厚で配すことができる。すると、各材料の乾燥速度の差が抑えられて、膜表面の平坦性が確保されるとともに、均一な膜厚の発光層を得ることができる。このようにして、発光層の膜厚の均一性及び平坦性が確保され、サブ画素領域間での発光ムラを防止して、色ムラや寿命差を抑え、発光特性(輝度・色純度など)を向上させることができる。
また、画素を構成する複数のサブ画素領域のうちの少なくとも一つの面積を異ならせることによって、各サブ画素領域における発光寿命差を均一に抑えることができる。
According to the organic electroluminescence device of the present invention, the sub-pixel region is composed of one rectangular region or a plurality of rectangular regions, and the pixel region is configured by the number of rectangular regions and the length in the longitudinal direction. The areas of the at least one sub-pixel region are made different. In addition, when the sub-pixel area is composed of a plurality of rectangular areas, the sub-pixel areas are combined so that their longitudinal directions intersect each other, so that the width of the sub-pixel area composed of the plurality of rectangular areas (that is, the short side of the rectangular area) (The length in the direction) and the width of the sub-pixel region made up of one rectangular region can be made equal, whereby all the widths of the sub-pixel regions in the pixel region can be made constant.
Thereby, for example, when the light emitting layer is formed by a liquid phase method such as an ink jet method, the material for forming the light emitting layer can be arranged in a uniform film thickness for each sub-pixel region. Then, the difference in the drying speed of each material is suppressed, the flatness of the film surface is ensured, and a light emitting layer with a uniform film thickness can be obtained. In this way, the uniformity and flatness of the thickness of the light emitting layer is ensured, light emission unevenness between sub-pixel regions is prevented, color unevenness and life difference are suppressed, and light emission characteristics (luminance, color purity, etc.) Can be improved.
Further, by changing the area of at least one of the plurality of sub-pixel regions constituting the pixel, the light emission lifetime difference in each sub-pixel region can be suppressed uniformly.

また、隔壁は、開口面積が等しい開口部を複数有し、画素を構成するサブ画素領域のうち少なくとも一つは、他のサブ画素領域と異なる数の開口部を有していることが好ましい。
このような構成によれば、基板上に発光素子を形成するために、例えば、インクジェット法を用いて隔壁の各開口部内に発光層の形成材料等を塗布する際、基板上における全ての開口部の開口面積が同じであることから、各開口部に噴射される上記形成材料の液滴量(単位領域における液滴サイズ)が略同一となる。これにより、各開口部内に均一な膜厚で形成材料を塗布することができ、乾燥処理によって発光層を得る場合に、形成材料の乾燥速度が略等しくなる。よって、良好な乾燥成膜が可能となり、各開口部における発光層の膜表面を平坦にすることができる。したがって、各発光素子において発光ムラが生じることが防止され、優れた発光特性を得ることができる。また、各液滴トッドの配列規則性を均一にすることができ、インクジェット法による材料の噴射性が向上する。
The partition wall preferably includes a plurality of openings having the same opening area, and at least one of the sub-pixel regions constituting the pixel preferably has a different number of openings from the other sub-pixel regions.
According to such a configuration, in order to form the light emitting element on the substrate, for example, when the material for forming the light emitting layer is applied in each opening of the partition wall using an inkjet method, all the openings on the substrate are formed. Since the opening areas are the same, the amount of droplets of the forming material ejected to each opening (droplet size in the unit region) is substantially the same. Thereby, the forming material can be applied with a uniform film thickness in each opening, and when the light emitting layer is obtained by the drying process, the drying speed of the forming material becomes substantially equal. Therefore, favorable dry film formation is possible, and the film surface of the light emitting layer in each opening can be flattened. Therefore, uneven light emission is prevented from occurring in each light emitting element, and excellent light emission characteristics can be obtained. Moreover, the arrangement regularity of each droplet tod can be made uniform, and the jetting property of the material by the ink jet method is improved.

また、隔壁は、各サブ画素領域に対応する開口部を複数有し、各開口部の開口幅が略等しいことが好ましい。
このような構成によれば、基板上における全ての開口部の開口幅が等しくされており、基板上に発光素子を形成するために、例えばインクジェット法を用いて隔壁の開口部内に発光層の形成材料等を塗布する際、各開口部に噴射される各形成材料の広がりが開口部の幅方向で略等しくなる。これにより、各開口部内に均一な膜厚で各形成材料を塗布することができ、乾燥処理によって発光層を得る場合に、各形成材料の乾燥速度が略等しくなる。よって、良好な乾燥成膜が可能となり、各開口部における発光層の膜表面を平坦にすることができる。したがって、各発光素子において発光ムラが生じることが防止され、良好な発光特性を得ることができる。
The partition preferably has a plurality of openings corresponding to each sub-pixel region, and the opening widths of the openings are substantially equal.
According to such a configuration, the opening widths of all the openings on the substrate are made equal, and in order to form a light emitting element on the substrate, a light emitting layer is formed in the opening of the partition wall using, for example, an ink jet method. When a material or the like is applied, the spread of each forming material injected into each opening is substantially equal in the width direction of the opening. Thereby, each forming material can be apply | coated with uniform film thickness in each opening part, and when obtaining a light emitting layer by a drying process, the drying speed of each forming material becomes substantially equal. Therefore, favorable dry film formation is possible, and the film surface of the light emitting layer in each opening can be flattened. Therefore, uneven light emission is prevented from occurring in each light emitting element, and good light emission characteristics can be obtained.

また、隔壁が、複数の発光層を囲むように一体形成されていることが好ましい。
このような構成によれば、発光層の形成材料が隔壁の影響を受け難くなり、発光層として平坦な膜を得ることができる。また、隔壁の形成が容易となる。
Moreover, it is preferable that the partition walls are integrally formed so as to surround the plurality of light emitting layers.
According to such a configuration, the material for forming the light emitting layer is hardly affected by the partition walls, and a flat film can be obtained as the light emitting layer. In addition, the partition wall can be easily formed.

また、複数の発光層のうちの一つの発光色に対応する発光層が格子状をなし、他の発光色に対応する発光層を囲んでいることが好ましい。
このような構成によれば、格子状に形成した発光層の形成材料が隔壁の影響を受け難くなり、発光層としての平坦な膜を得ることができる。また、隔壁の形成が容易となる。
In addition, it is preferable that the light emitting layer corresponding to one of the plurality of light emitting layers has a lattice shape and surrounds the light emitting layers corresponding to the other light emitting colors.
According to such a configuration, the material for forming the light emitting layer formed in a lattice shape is hardly affected by the partition walls, and a flat film as the light emitting layer can be obtained. In addition, the partition wall can be easily formed.

また、発光寿命が短い色程、発光層の面積を大きくすることが好ましい。
このような構成によれば、低電流で所望の発光輝度が得られるようになり、各色の発光層における発光寿命を均一にすることができる。
Further, it is preferable to increase the area of the light emitting layer for a color having a short light emitting lifetime.
According to such a configuration, a desired light emission luminance can be obtained with a low current, and the light emission lifetime in the light emitting layer of each color can be made uniform.

本発明の電子機器は、先に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、発光ムラ(色ムラ)や発光寿命のバラツキのない有機エレクトロルミネッセンス装置を備えているので、表示品質に優れた表示部を具備した電子機器を提供することができる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the organic electroluminescence device described above.
According to the present invention, since the organic electroluminescence device having no light emission unevenness (color unevenness) or light emission life variation is provided, an electronic apparatus including a display unit having excellent display quality can be provided.

以下、本発明を詳しく説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
[有機EL装置の第1実施形態]
まず、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、「有機EL装置」と言う)の第1実施形態を説明する。
図1は、本発明の有機EL装置の一実施形態の配線構造を示す説明図、図2は、図1に示した有機EL装置の構成を模式的に示す平面図、図3は、図1に示した有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図、図4は、本発明の有機EL装置の要部の断面模式図である。
The present invention will be described in detail below. The embodiments described below show some aspects of the present invention and do not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in each figure shown below, in order to make each layer and each member the size which can be recognized on drawing, the scale is varied for each layer and each member.
[First Embodiment of Organic EL Device]
First, a first embodiment of an organic electroluminescence device of the present invention (hereinafter referred to as “organic EL device”) will be described.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a wiring structure of an embodiment of the organic EL device of the present invention, FIG. 2 is a plan view schematically showing the configuration of the organic EL device shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the main part of the organic EL device of the present invention.

本実施形態における有機EL装置1は、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色光を出射する3個のサブ画素領域で1個の画素を構成する有機EL装置である。以下、表示を構成する最小単位となる画素領域を「サブ画素領域」と称する。なお、画素の構成はこれに限らず、R(赤)、G(緑)で1個の画素を構成しても良いし、R(赤)、G(緑)、B(青)、C(シアン)で1個の画素を構成しても良く、サブ画素の色の構成に限定されるものではない。またサブ画素領域は発光領域(面積)と必ずしも一致しなければならないものではなく、同色の発光素子を複数含む領域であってもよい。   The organic EL device 1 in the present embodiment is an organic EL device in which one pixel is configured by three sub-pixel regions that emit light of each color of R (red), G (green), and B (blue). Hereinafter, the pixel area which is the minimum unit constituting the display is referred to as a “sub-pixel area”. Note that the pixel configuration is not limited to this, and one pixel may be configured with R (red) and G (green), or R (red), G (green), B (blue), and C ( Cyan) may constitute one pixel, and is not limited to the color configuration of sub-pixels. Further, the sub-pixel region does not necessarily have to coincide with the light emitting region (area), and may be a region including a plurality of light emitting elements of the same color.

図1に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、複数の走査線101と、走査線101に対して交差する方向に延びる複数の信号線102と、信号線102に並列に延びる複数の電源線103とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線101及び信号線102の各交点付近に、画素領域Aを形成したものである。   As shown in FIG. 1, the organic EL device 1 of the present embodiment includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction intersecting the scanning lines 101, and a plurality extending in parallel with the signal lines 102. The power source line 103 is wired, and the pixel region A is formed in the vicinity of each intersection of the scanning line 101 and the signal line 102.

信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路104が接続されている。走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路105が接続されている。また、画素領域Aの各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ122と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ122を介して信号線102から供給される画素信号を保持する保持容量capと、該保持容量capによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ123と、この駆動用薄膜トランジスタ123を介して電源線103に電気的に接続したときに該電源線103から駆動電流が流れ込む陽極(画素電極)111と、この画素電極111と陰極(対向電極)12との間に挟み込まれた発光機能層110とが設けられている。
なお、陽極(画素電極)111、陰極(対向電極)12、及び発光機能層110により、有機EL素子(以下、発光素子3とする)が構成されている。
Connected to the signal line 102 is a data side driving circuit 104 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch. A scanning side driving circuit 105 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101. In each of the pixel regions A, a switching thin film transistor 122 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101 and a pixel signal supplied from the signal line 102 via the switching thin film transistor 122 are provided. Is electrically connected to the power supply line 103 via the driving thin film transistor 123, the driving thin film transistor 123 to which the pixel signal held by the holding capacitor cap is supplied to the gate electrode, and the driving thin film transistor 123. In addition, an anode (pixel electrode) 111 into which a driving current flows from the power supply line 103 and a light emitting functional layer 110 sandwiched between the pixel electrode 111 and the cathode (counter electrode) 12 are provided.
The anode (pixel electrode) 111, the cathode (counter electrode) 12, and the light emitting functional layer 110 constitute an organic EL element (hereinafter referred to as the light emitting element 3).

このような構成によれば、走査線101が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ122がオンになると、そのときの信号線102の電位が保持容量capに保持され、該保持容量capの状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ123のチャネルを介して、電源線103から画素電極111に電流が流れ、さらに発光機能層110を介して陰極12に電流が流れる。すると、発光機能層110はこれを流れる電流量に応じて発光する。   According to such a configuration, when the scanning line 101 is driven and the switching thin film transistor 122 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor cap, and according to the state of the holding capacitor cap. The on / off state of the driving thin film transistor 123 is determined. Then, a current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 111 through the channel of the driving thin film transistor 123, and further a current flows to the cathode 12 through the light emitting functional layer 110. Then, the light emitting functional layer 110 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

(平面構造)
次に、図2及び図3を参照して、有機EL装置1の平面構造を説明する。
図2は、素子基板2上に形成された前述した各種配線,TFT,各種回路によって、発光素子3を発光させるTFT素子基板(以下「素子基板」という。)2を示す図である。有機EL装置1の素子基板2は、中央部分の実表示領域SA(図2中二点鎖線枠内)と、実表示領域SAの周囲に配置されたダミー領域SB(一点鎖線および二点鎖線の間の領域)とを備えている。
(Planar structure)
Next, the planar structure of the organic EL device 1 will be described with reference to FIGS.
FIG. 2 is a diagram showing a TFT element substrate (hereinafter referred to as “element substrate”) 2 that causes the light emitting element 3 to emit light by the above-described various wirings, TFTs, and various circuits formed on the element substrate 2. The element substrate 2 of the organic EL device 1 includes an actual display area SA in the center (inside the two-dot chain line frame in FIG. 2) and a dummy area SB (one-dot chain line and two-dot chain line) arranged around the actual display area SA. Between).

図2に示す実表示領域SAには、赤(R)、緑(G)または青(B)のいずれかの光を発するサブ画素領域90(90R,90G,90B)(図3(a))がマトリクス状に配置されている。図3(a)に示すように、サブ画素領域90R,90G,90Bの各々は、色毎にその大きさ(面積)及び形状が異なっている。具体的には、各サブ画素領域の大きさの関係が、サブ画素領域90B>サブ画素領域90G>サブ画素領域90Rとなっており、青(B)の発光領域が最も大きくなっている。また、画素領域内におけるサブ画素領域90R,90G,90Bの配置は、走査線101の延在方向にサブ画素領域90B,サブ画素領域90R,サブ画素領域90Gの順で繰り返されるよう配置されている。   In the actual display area SA shown in FIG. 2, sub-pixel areas 90 (90R, 90G, 90B) that emit any one of red (R), green (G), and blue (B) light (FIG. 3A). Are arranged in a matrix. As shown in FIG. 3A, each of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B has a different size (area) and shape for each color. Specifically, the relationship between the sizes of the sub-pixel areas is sub-pixel area 90B> sub-pixel area 90G> sub-pixel area 90R, and the blue (B) light-emitting area is the largest. In addition, the arrangement of the sub pixel areas 90R, 90G, and 90B in the pixel area is repeated in the order of the sub pixel area 90B, the sub pixel area 90R, and the sub pixel area 90G in the extending direction of the scanning line 101. .

次に、各サブ画素領域90R,90G,90Bについて詳述する。
図3(b)に示すように、サブ画素領域90R及びサブ画素領域90Gは、互いに大きさの異なる矩形状領域a、bから構成されており、各々の長手方向が信号線102に沿う姿勢となっている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさが異なる複数の矩形状領域c、dを組み合わせて構成されており、各々の長手方向が互いに直交し、平面視L字状を呈している。また、矩形状領域c、dは、各々の長手方向が信号線102或いは走査線101に沿って配置されている。なお矩形状領域というのは便宜上の名称であり、実際に矩形状でなくても良い。
Next, the sub pixel regions 90R, 90G, and 90B will be described in detail.
As shown in FIG. 3B, the sub-pixel region 90R and the sub-pixel region 90G are composed of rectangular regions a and b having different sizes, and each has a longitudinal direction along the signal line 102. It has become. On the other hand, the sub-pixel region 90B is configured by combining a plurality of rectangular regions c and d having different sizes, and the longitudinal directions of the sub-pixel regions 90B are orthogonal to each other and have an L shape in plan view. The rectangular regions c and d are arranged along the signal line 102 or the scanning line 101 in the longitudinal direction. The rectangular area is a name for convenience and does not have to be actually rectangular.

本実施形態ではサブ画素領域90Bの一部がサブ画素領域90R側に突出した形状のため、画素の一部において、信号線102の延在方向でサブ画素領域90Rとサブ画素領域90Bの一部とにより2色の配列となっている。 In the present embodiment, since a part of the sub pixel area 90B protrudes toward the sub pixel area 90R, a part of the sub pixel area 90R and a part of the sub pixel area 90B in the extending direction of the signal line 102 in a part of the pixel. Thus, an arrangement of two colors is obtained.

そして、サブ画素領域90R,90G,90Bが一つのまとまりとなって、表示単位画素(一画素)が構成されており、該表示単位画素はRGBの発光を混色させてフルカラー表示を行うようになっている。上述したように、色毎に表示領域の大きさを異ならせることによって、各色の経時輝度変化特性などを均一にしている。   The sub-pixel areas 90R, 90G, and 90B are combined into one display unit pixel (one pixel), and the display unit pixel performs full color display by mixing RGB light emission colors. ing. As described above, by changing the size of the display area for each color, the temporal luminance change characteristic of each color is made uniform.

また、各サブ画素領域90R,90G,90Bには、複数の発光素子3がそれぞれ配置されている。発光素子3の数はサブ画素領域90毎(色毎)に異なっており、例えば図3に示すようにサブ画素領域90R内には赤(R)を発光する発光素子3が2つ、サブ画素領域90G内には緑(G)を発光する発光素子3が3つ、サブ画素領域90B内には青(B)を発光する発光素子3が4つ設けられており、各々が各サブ画素領域90の外形に沿って列状に配置されている。この発光素子3の配置数を異ならせることによって、各サブ画素領域90R,90G,90Bの大きさを異ならせている。   In addition, a plurality of light emitting elements 3 are arranged in each of the sub pixel regions 90R, 90G, 90B. The number of the light emitting elements 3 is different for each sub-pixel region 90 (for each color). For example, as shown in FIG. 3, two sub-pixel regions 90R that emit red (R) have two light-emitting elements 3 and sub-pixels. Three light emitting elements 3 that emit green (G) are provided in the region 90G, and four light emitting elements 3 that emit blue (B) are provided in the sub-pixel region 90B. 90 are arranged in a line along the outer shape. By varying the number of the light emitting elements 3 arranged, the sizes of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B are varied.

図3(a),(b)に示すように、走査線101及び信号線102は、平面視でほぼ格子状に配線されており、走査線101及び信号線102の交点付近に画素駆動用の薄膜トランジスタ123が接続されている。   As shown in FIGS. 3A and 3B, the scanning lines 101 and the signal lines 102 are wired in a substantially lattice shape in plan view, and are used for driving pixels near the intersection of the scanning lines 101 and the signal lines 102. A thin film transistor 123 is connected.

また、実表示領域SAの図2中両側であってダミー領域SBの下層側には、走査側駆動回路105が配置されている。また、実表示領域SAの図2中上方側であってダミー領域SBの下層側には、検査回路106が配置されている。この検査回路106は、有機EL装置1の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(不図示)を備え、製造途中や出荷時における有機EL装置1の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。   Further, the scanning side drive circuit 105 is disposed on both sides of the actual display area SA in FIG. 2 and on the lower layer side of the dummy area SB. Further, an inspection circuit 106 is disposed above the actual display area SA in FIG. 2 and below the dummy area SB. The inspection circuit 106 is a circuit for inspecting the operating state of the organic EL device 1, and includes, for example, inspection information output means (not shown) for outputting inspection results to the outside. The apparatus 1 is configured to be able to inspect the quality and defects.

(断面構造)
次に、図3及び図4を参照して、有機EL装置1の断面構造を説明する。
図4に示すように本実施形態の有機EL装置1は、ガラス等からなる透明透光性を有する素子基板2上に、マトリックス状に配置された上記発光素子3とを具備して構成されている。そして、素子基板2上に形成される発光素子3は、画素電極111と、正孔注入輸送層60及び発光層70からなる発光機能層110と、陰極12とによって構成されている。また、素子基板2の厚さ方向において、発光素子3を含むEL素子部10と素子基板2との間には、回路素子部14が形成されている。この回路素子部14には、前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ122、駆動用の薄膜トランジスタ123等が形成されている。
(Cross-section structure)
Next, a cross-sectional structure of the organic EL device 1 will be described with reference to FIGS. 3 and 4.
As shown in FIG. 4, the organic EL device 1 of the present embodiment is configured to include the light-emitting elements 3 arranged in a matrix on an element substrate 2 made of glass or the like and having translucency. Yes. The light emitting element 3 formed on the element substrate 2 includes a pixel electrode 111, a light emitting functional layer 110 including the hole injection transport layer 60 and the light emitting layer 70, and the cathode 12. In addition, a circuit element unit 14 is formed between the EL element unit 10 including the light emitting element 3 and the element substrate 2 in the thickness direction of the element substrate 2. In the circuit element portion 14, the above-described scanning line, signal line, storage capacitor, thin film transistor 122 for switching, thin film transistor 123 for driving, and the like are formed.

また、陰極12は、その一端が素子基板2上に形成された陰極用配線(図示略)12aに接続されており、この配線の一端部が、図2に示すフレキシブル基板5上の配線5aに接続されている。なお、この配線5aは、フレキシブル基板5上に備えられた駆動IC6(駆動回路)に接続されている。   One end of the cathode 12 is connected to a cathode wiring (not shown) 12a formed on the element substrate 2, and one end of the wiring is connected to the wiring 5a on the flexible substrate 5 shown in FIG. It is connected. The wiring 5 a is connected to a driving IC 6 (driving circuit) provided on the flexible substrate 5.

また、本実施形態の有機EL装置1は、発光機能層110から素子基板2側に発した光が、回路素子部14及び素子基板2を透過して素子基板2の外側(観測者側)に出射されるとともに、発光機能層110から素子基板2と反対の側に発した光も、陰極12に反射されて回路素子部14及び素子基板2を透過し、素子基板2の外側(観測者側)に出射される、いわゆるボトムエミッション型となっている。   Further, in the organic EL device 1 of the present embodiment, light emitted from the light emitting functional layer 110 to the element substrate 2 side passes through the circuit element unit 14 and the element substrate 2 and is outside the element substrate 2 (observer side). Light that is emitted and emitted from the light emitting functional layer 110 to the side opposite to the element substrate 2 is also reflected by the cathode 12 and passes through the circuit element unit 14 and the element substrate 2 to be outside the element substrate 2 (observer side). ), So-called bottom emission type.

図4に示すように回路素子部14には、素子基板2上にSiOを主体とする下地保護層281が下地として形成され、その上にはシリコン層241が形成されている。このシリコン層241の表面には、SiO及び/又はSiNを主体とするゲート絶縁層282が形成されている。
また、シリコン層241のうち、ゲート絶縁層282を挟んでゲート電極242と重なる領域が、チャネル領域241aとされている。なお、このゲート電極242は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層241を覆い、ゲート電極242を形成したゲート絶縁層282の表面には、SiOを主体とする第1層間絶縁層283が形成されている。
As shown in FIG. 4, in the circuit element portion 14, a base protective layer 281 mainly composed of SiO 2 is formed as a base on the element substrate 2, and a silicon layer 241 is formed thereon. A gate insulating layer 282 mainly composed of SiO 2 and / or SiN is formed on the surface of the silicon layer 241.
In the silicon layer 241, a region overlapping with the gate electrode 242 with the gate insulating layer 282 interposed therebetween is a channel region 241a. The gate electrode 242 is a part of a scanning line (not shown). On the other hand, a first interlayer insulating layer 283 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the gate insulating layer 282 that covers the silicon layer 241 and on which the gate electrode 242 is formed.

また、シリコン層241のうち、チャネル領域241aのソース側には、低濃度ソース領域241bおよび高濃度ソース領域241Sが設けられる一方、チャネル領域241aのドレイン側には低濃度ドレイン領域241cおよび高濃度ドレイン領域241Dが設けられて、いわゆるLDD(Light Doped Drain)構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域241Sは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール243aを介して、ソース電極243に接続されている。このソース電極243は、電源線(図示せず)の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域241Dは、ゲート絶縁層282と第1層間絶縁層283とにわたって開孔するコンタクトホール244aを介して、ソース電極243と同一層からなるドレイン電極244に接続されている。   Further, in the silicon layer 241, a low concentration source region 241b and a high concentration source region 241S are provided on the source side of the channel region 241a, while a low concentration drain region 241c and a high concentration drain are provided on the drain side of the channel region 241a. The region 241D is provided to form a so-called LDD (Light Doped Drain) structure. Among these, the high-concentration source region 241S is connected to the source electrode 243 through a contact hole 243a that opens over the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283. The source electrode 243 is configured as a part of a power supply line (not shown). On the other hand, the high-concentration drain region 241D is connected to the drain electrode 244 made of the same layer as the source electrode 243 through a contact hole 244a that opens through the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283.

ソース電極243およびドレイン電極244が形成された第1層間絶縁層283の上層には、平坦化膜284が形成されている。この平坦化膜284は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用の薄膜トランジスタ123やソース電極243、ドレイン電極244などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。   A planarization film 284 is formed on the first interlayer insulating layer 283 where the source electrode 243 and the drain electrode 244 are formed. The planarizing film 284 is formed of a heat-resistant insulating resin such as acrylic or polyimide, and eliminates surface irregularities due to the driving thin film transistor 123, the source electrode 243, the drain electrode 244, and the like. It is a known one formed.

そして、この平坦化膜284の表面上には画素電極(陽極)111が形成されており、この画素電極111は、平坦化膜284に設けられたコンタクトホール111aを介してドレイン電極244に接続されている。すなわち、画素電極111は、ドレイン電極244を介して、シリコン層241の高濃度ドレイン領域241Dに接続されている。   A pixel electrode (anode) 111 is formed on the surface of the planarizing film 284, and the pixel electrode 111 is connected to the drain electrode 244 via a contact hole 111a provided in the planarizing film 284. ing. That is, the pixel electrode 111 is connected to the high concentration drain region 241D of the silicon layer 241 through the drain electrode 244.

また、画素電極111が形成された平坦化膜284の表面上には、図4に示すように、画素電極111の周縁部を覆い、その中央部を露出させる開口部25aを有する第1の隔壁25が、例えば、50nm程度の厚さで形成されている。この第1の隔壁25は、画素電極111の周縁部とその周囲を覆うことにより、画素電極111を区画し、隣り合う画素電極111間を絶縁するもので、SiO等の珪素酸化物や、珪素窒化物、珪素酸窒化物などの珪素系絶縁材料から形成されたものである。第1の隔壁25に設けられている全ての開口部25aの開口面積は等しく、したがって各発光素子3の発光面積も等しくなっている。 Further, on the surface of the planarization film 284 on which the pixel electrode 111 is formed, as shown in FIG. 4, a first partition wall having an opening 25a that covers the peripheral portion of the pixel electrode 111 and exposes the central portion thereof. 25 is formed with a thickness of about 50 nm, for example. The first partition 25 covers the peripheral edge of the pixel electrode 111 and the periphery thereof to partition the pixel electrode 111 and insulate between the adjacent pixel electrodes 111. Silicon oxide such as SiO 2 , It is formed from a silicon-based insulating material such as silicon nitride or silicon oxynitride. The opening areas of all the openings 25a provided in the first partition wall 25 are equal, and thus the light emitting areas of the respective light emitting elements 3 are also equal.

さらに、この第1の隔壁25上には、第2の隔壁221が、例えば2μm程度の厚さで形成されている。この第2の隔壁221は、素子基板2上における複数の発光機能層110を区画するよう機能するもので、該発光機能層110を納める開口部221a(図3(b)参照)を複数有している。第2の隔壁221に設けられている全ての開口部221aの開口面積は等しく、したがって各発光機能層110の膜厚も等しくなっている。   Further, a second partition 221 is formed on the first partition 25 with a thickness of about 2 μm, for example. The second partition 221 functions to partition the plurality of light emitting functional layers 110 on the element substrate 2 and has a plurality of openings 221a (see FIG. 3B) for accommodating the light emitting functional layers 110. ing. The opening areas of all the openings 221a provided in the second partition 221 are equal, and thus the thickness of each light emitting functional layer 110 is also equal.

具体的に、第2の隔壁221は、第1の隔壁25の画素電極111側の端縁部25b、すなわち第1の隔壁25の開口部25aを形成する端縁部25bを露出させた状態で形成されている。また、この第2の隔壁221は、アクリル系やポリイミド系等の耐熱性絶縁性樹脂からなるもので、親液処理や撥液処理がなされたことにより、発光層70の形成材料などに対する濡れ性が制御されたものである。   Specifically, the second partition 221 exposes the edge 25b on the pixel electrode 111 side of the first partition 25, that is, the edge 25b that forms the opening 25a of the first partition 25. Is formed. The second partition 221 is made of a heat-resistant insulating resin such as acrylic or polyimide, and has wettability with respect to the material for forming the light-emitting layer 70 due to lyophilic treatment or lyophobic treatment. Is controlled.

そして、画素電極111上には、第1の隔壁25の開口部25a内に、正孔注入輸送層60が厚さ5nm〜50nm程度で形成され、さらにこの正孔注入輸送層60上で第1の隔壁25の開口部25a内と第2の隔壁221の開口部221a内に、発光層70が形成されている。すなわち、画素電極(陽極)111側から正孔注入輸送層60、発光層70がこの順で積層されたことにより、画素電極(陽極)111上に発光機能層110が形成されている。   On the pixel electrode 111, a hole injection / transport layer 60 is formed with a thickness of about 5 nm to 50 nm in the opening 25 a of the first partition wall 25. A light emitting layer 70 is formed in the opening 25 a of the partition wall 25 and in the opening 221 a of the second partition wall 221. That is, the light emitting functional layer 110 is formed on the pixel electrode (anode) 111 by laminating the hole injecting and transporting layer 60 and the light emitting layer 70 in this order from the pixel electrode (anode) 111 side.

画素電極111は、ボトムエミッション型である本実施形態では、透光性導電材料によって形成され、具体的にはITOが好適に用いられている。本実施形態における画素電極111は、図3(a)に示すサブ画素領域90R,90G,90Bに応じて色毎に面積が異なっている。より詳しくは、サブ画素領域と略同一(類似)の形状を有している。このため発光素子3毎に画素電極111を設ける必要がなく、回路構成を簡略化できる。
このような画素電極111上に形成される正孔注入輸送層60は、開口部25aに対応すべく選択的に形成される。
In the present embodiment, which is a bottom emission type, the pixel electrode 111 is formed of a translucent conductive material, and specifically, ITO is suitably used. The pixel electrode 111 in the present embodiment has a different area for each color according to the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B shown in FIG. More specifically, it has substantially the same (similar) shape as the sub-pixel region. Therefore, it is not necessary to provide the pixel electrode 111 for each light emitting element 3, and the circuit configuration can be simplified.
The hole injection / transport layer 60 formed on the pixel electrode 111 is selectively formed to correspond to the opening 25a.

このような正孔注入輸送層60の上に、発光層70(70R,70G,70B(図3(b)参照))が厚さ100nm程度で形成される。発光層70は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いて形成されている。発光層70を形成する材料としては、特にフルカラー表示をなす場合、赤色、緑色、青色の各波長域に対応する光を発光する材料が用いられ、それぞれが予め設定された状態に形成配置される。   A light emitting layer 70 (70R, 70G, 70B (see FIG. 3B)) is formed on the hole injecting and transporting layer 60 with a thickness of about 100 nm. The light emitting layer 70 is formed using a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence. As a material for forming the light emitting layer 70, materials that emit light corresponding to each of the red, green, and blue wavelength regions are used, particularly when full color display is performed, and each is formed and arranged in a preset state. .

陰極12は、図4に示したように発光層70を覆って形成されたもので、例えばCaが厚さ5nm程度に形成され、その上にAlが厚さ300nm程度に形成されて構成されたものである。このような積層構造の電極とされたことにより、特にAlは反射層としても機能するものとなっている。なお、陰極12についても透光性を有するな材料を用いれば、発光した光を陰極側からも出射させることができる。透光性を有するな材料としては、ITO、Pt、Ir、Ni、もしくはPdを用いることができる。膜厚としては、透光性を確保するうえで、75nm程度とするのが好ましく、さらにこの膜厚より薄くするのがより好ましい。
また、この陰極12上には、接着層51を介して封止基板(図示せず)が貼着されている。
The cathode 12 is formed so as to cover the light emitting layer 70 as shown in FIG. 4, and is formed, for example, by forming Ca to a thickness of about 5 nm and forming Al thereon to a thickness of about 300 nm. Is. Since the electrode has such a laminated structure, particularly Al functions as a reflective layer. Note that if the cathode 12 is made of a light-transmitting material, the emitted light can be emitted from the cathode side. As the light-transmitting material, ITO, Pt, Ir, Ni, or Pd can be used. The film thickness is preferably about 75 nm in order to ensure translucency, and more preferably thinner than this film thickness.
Further, a sealing substrate (not shown) is stuck on the cathode 12 via an adhesive layer 51.

ここで、発光機能層110において正孔注入輸送層60は、正孔を発光層70に注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入輸送層60内部において輸送する機能をも有している。したがって、このような正孔注入輸送層60を画素電極111と発光層70との間に設けることにより、発光層70では、正孔注入輸送層60から注入された正孔と、陰極12から注入される電子とを再結合させ、発光をなすようになっている。   Here, the hole injecting and transporting layer 60 in the light emitting functional layer 110 has a function of injecting holes into the light emitting layer 70 and also has a function of transporting holes in the hole injecting and transporting layer 60. . Therefore, by providing such a hole injecting and transporting layer 60 between the pixel electrode 111 and the light emitting layer 70, in the light emitting layer 70, the holes injected from the hole injecting and transporting layer 60 and the cathode 12 are injected. Recombination with the generated electrons causes light emission.

(有機EL装置の製造方法)
次に、このような構成の有機EL装置1の製造方法について図5及び図6を用いて説明する。図5は、有機EL装置の素子基板側の工程図であって、図6は、有機EL装置の封止基板(図示せず)側の工程図である。
まず、従来と同様にして素子基板2上に回路素子部14を形成する。そして、素子基板2の全面を覆うように画素電極111となる透光性導電膜を、ITOによって形成する。次いで、この導電膜をパターニングすることにより、図5(a)に示すように平坦化膜284のコンタクトホール111aを介してドレイン電極244と導通する画素電極111を形成する。
(Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 having such a configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a process diagram on the element substrate side of the organic EL device, and FIG. 6 is a process diagram on the sealing substrate (not shown) side of the organic EL device.
First, the circuit element portion 14 is formed on the element substrate 2 in the same manner as in the prior art. Then, a light-transmitting conductive film that becomes the pixel electrode 111 is formed of ITO so as to cover the entire surface of the element substrate 2. Next, the conductive film is patterned to form a pixel electrode 111 that is electrically connected to the drain electrode 244 through the contact hole 111a of the planarization film 284 as shown in FIG.

次いで、画素電極111上および平坦化膜284上に、SiO等の珪素系絶縁材料をCVD法等で成膜して厚さ50nm程度の隔壁層(図示せず)を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図5(b)に示すように、形成する各発光素子3の画素領域毎に開口部25a(図示略)を形成すると同時に、第1の隔壁25を形成する。 Next, a silicon-based insulating material such as SiO 2 is formed on the pixel electrode 111 and the planarizing film 284 by a CVD method or the like to form a partition layer (not shown) having a thickness of about 50 nm. The partition wall layer is patterned using a known photolithography technique and etching technique. As a result, as shown in FIG. 5B, an opening 25a (not shown) is formed for each pixel region of each light emitting element 3 to be formed, and at the same time, a first partition 25 is formed.

次いで、第1の隔壁25上および画素電極111上に、有機樹脂材料を成膜して厚さ2μm程度の隔壁層(図示せず)を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図5(c)に示すように第1の隔壁25上の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に、該第1の隔壁25の端縁部25bを露出させた状態で有機樹脂材料からなる第2の隔壁221を形成する。   Next, an organic resin material is formed on the first partition wall 25 and the pixel electrode 111 to form a partition layer (not shown) having a thickness of about 2 μm. Subsequently, a known photolithography technique and etching technique are formed. Is used to pattern the partition wall layer. As a result, as shown in FIG. 5C, the organic resin is exposed with the edge 25b of the first partition wall 25 exposed at a predetermined position on the first partition wall 25, specifically, a position surrounding the pixel region. A second partition 221 made of a material is formed.

次いで、図6(a)に示すように、第1の隔壁25に囲まれた領域内に正孔注入輸送層60を形成する。この正孔注入輸送層60の形成工程では、第2の隔壁221に囲まれた領域に正孔注入輸送層60の形成材料を選択的に配する必要上、特に液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。すなわち、このインクジェット法により、液状の正孔注入輸送層60の形成材料を、第2の隔壁221の開口部221a内に例えば厚さ50nm程度に配する(塗布する)。
このとき、第2の隔壁221における全ての開口部221a内に、略等しい液滴量(液滴サイズ)の正孔注入輸送層60の形成材料を噴射する。このようにして、各開口部221a内に均一な膜厚で正孔注入輸送層60の形成材料を塗布する。
正孔注入輸送層60の形成材料としては、例えば正孔注入輸送層形成成分を有機溶媒に溶解したものを用いる。
Next, as shown in FIG. 6A, a hole injection / transport layer 60 is formed in a region surrounded by the first partition walls 25. In the step of forming the hole injection / transport layer 60, the ink jet method, which is a droplet discharge method, is particularly necessary because it is necessary to selectively dispose the material for forming the hole injection / transport layer 60 in the region surrounded by the second partition 221. Is preferably employed. That is, by this ink jet method, the liquid hole injecting and transporting layer 60 is formed (applied) with a thickness of, for example, about 50 nm in the opening 221a of the second partition 221.
At this time, a material for forming the hole injecting and transporting layer 60 having substantially the same droplet amount (droplet size) is injected into all the openings 221a in the second partition 221. In this manner, the material for forming the hole injecting and transporting layer 60 is applied to each opening 221a with a uniform film thickness.
As a forming material of the hole injecting and transporting layer 60, for example, a material in which a hole injecting and transporting layer forming component is dissolved in an organic solvent is used.

次いで、真空にて脱溶媒を行い、さらに、正孔注入輸送層60の形成材料を200℃で10分程度加熱し、熱処理を行う。すると、この乾燥処理により、材料中の有機溶媒が気化して除去され、残った正孔注入輸送層形成成分によって正孔注入輸送層60として機能する乾燥成膜が得られる。
各開口部221a内における正孔注入輸送層60の形成材料の塗布量(膜厚)が等しいため、各開口部221a毎に材料の乾燥速度(成膜時間)に大きな差が生じることはなく、略同時間で乾燥成膜を得ることができる。このようにして、第1の隔壁25の各開口部25a内に、表面が平坦で均一な膜厚の正孔注入輸送層60を形成する。
Next, the solvent is removed in vacuum, and the material for forming the hole injecting and transporting layer 60 is heated at 200 ° C. for about 10 minutes to perform heat treatment. Then, by this drying treatment, the organic solvent in the material is vaporized and removed, and a dry film that functions as the hole injection transport layer 60 is obtained by the remaining hole injection transport layer forming component.
Since the application amount (film thickness) of the forming material of the hole injection transport layer 60 in each opening 221a is equal, there is no great difference in the material drying speed (film formation time) for each opening 221a. A dry film can be obtained in substantially the same time. In this manner, the hole injecting and transporting layer 60 having a flat surface and a uniform film thickness is formed in each opening 25a of the first partition wall 25.

次いで、図6(b)に示すように、正孔注入輸送層60の上に発光層70を形成する。この発光層70の形成工程では、正孔注入輸送層60の形成と同様に、液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。すなわち、インクジェット法により、各色の発光層70の形成材料を所定の正孔注入輸送層60上に噴射し、その後、真空にて脱溶媒を行い、さらに、N2雰囲気にて130℃で1時間程度熱処理を行い、第1の隔壁25の開口部25a内及び第2の隔壁221の開口部221a内に、発光層70(70R,70G,70B)を形成する。
この工程において、各開口部221a内に、RGBの発光材料に関係なく、略等しい液滴量で各発光層70の形成材料を噴射し、開口部221a内に発光層70の形成材料を均一な膜厚で塗布する。これにより、開口部221a毎に、上記形成材料の乾燥速度(成膜時間)に大きな差が生じることはなく、略同時間で発光層70として機能する乾燥成膜が得られる。このようにして、各開口部211a内に、表面が平坦で均一な膜厚の発光層70R,70G,70Bを形成する。
Next, as shown in FIG. 6B, the light emitting layer 70 is formed on the hole injecting and transporting layer 60. In the formation process of the light emitting layer 70, as in the formation of the hole injecting and transporting layer 60, an ink jet method which is a droplet discharge method is suitably employed. That is, the material for forming the light emitting layer 70 of each color is sprayed onto the predetermined hole injecting and transporting layer 60 by the ink jet method, and then the solvent is removed in vacuum, and further, at 130 ° C. for 1 hour in N 2 atmosphere The light emitting layer 70 (70R, 70G, 70B) is formed in the opening 25a of the first partition 25 and the opening 221a of the second partition 221 by performing a degree of heat treatment.
In this step, the material for forming each light-emitting layer 70 is ejected into each opening 221a with substantially the same amount of droplets regardless of the RGB light-emitting materials, and the material for forming the light-emitting layer 70 is uniformly formed in each opening 221a. Apply by film thickness. As a result, there is no significant difference in the drying speed (film formation time) of the forming material for each opening 221a, and a dry film formation that functions as the light emitting layer 70 can be obtained in substantially the same time. In this way, the light emitting layers 70R, 70G, and 70B having a flat surface and a uniform film thickness are formed in each opening 211a.

次いで、図6(c)に示すように、発光層70及び第2の隔壁221を覆って例えばフッ化リチウム(LiF)を厚さ5nm程度、アルミニウム(Al)を厚さ300nm程度に積層し、陰極12を形成する。また、この陰極12の形成では、正孔注入輸送層60や発光層70の形成とは異なり、蒸着法やスパッタ法等で行うことにより、画素領域にのみ選択的に形成するのでなく、素子基板2の略全面に陰極12を形成する。
その後、陰極12上に接着層51を形成し、さらにこの接着層51によって封止基板(図示せず)を接着し、封止を行う。これにより、本実施形態の有機EL装置1を得る。
Next, as shown in FIG. 6C, for example, lithium fluoride (LiF) is laminated to a thickness of about 5 nm and aluminum (Al) is laminated to a thickness of about 300 nm so as to cover the light emitting layer 70 and the second partition 221. A cathode 12 is formed. Further, in forming the cathode 12, unlike the formation of the hole injecting and transporting layer 60 and the light emitting layer 70, the cathode substrate 12 is not selectively formed only in the pixel region by vapor deposition or sputtering. 2 is formed on substantially the entire surface.
Thereafter, an adhesive layer 51 is formed on the cathode 12, and a sealing substrate (not shown) is further adhered by the adhesive layer 51 to perform sealing. Thereby, the organic EL device 1 of the present embodiment is obtained.

したがって、前述したように各サブ画素の実質的な領域を、図3(b)及び図4に示した発光素子3の数によって規定することができる。第1の隔壁25の各開口部25aの開口面積は全て等しく、各開口部221a内に配される発光層70の形成材料の重量は色(材料)に関わらず等しいものとなる。これにより、各発光層70の膜厚を均一にすることができ、発光素子3間での発光ムラを防止して、色ムラや寿命差を抑え、発光特性を向上させることができる。   Therefore, as described above, the substantial area of each sub-pixel can be defined by the number of light-emitting elements 3 shown in FIGS. 3B and 4. The opening areas of the openings 25a of the first partition 25 are all the same, and the weight of the material for forming the light emitting layer 70 disposed in each opening 221a is the same regardless of the color (material). Thereby, the film thickness of each light emitting layer 70 can be made uniform, the light emission nonuniformity between the light emitting elements 3 can be prevented, a color nonuniformity and a lifetime difference can be suppressed, and a light emission characteristic can be improved.

すなわち、発光層70内で膜厚のバラツキがあると、膜厚が薄い部分で抵抗が小さくなって輝度が高くなり、その分輝度寿命が短くなる。そして、各発光素子3の発光層70内において部分的に寿命がつきた部分が生ずると、その発光素子3を備える単一画素全体の輝度が寿命であると判断されてしまう。したがって、発光層70内で膜厚が不均一になると結果的に画素の寿命が短くなってしまうのである。   That is, if there is a variation in the film thickness in the light emitting layer 70, the resistance is reduced and the luminance is increased in the portion where the film thickness is thin, and the luminance life is shortened accordingly. Then, when a part with a partial lifetime occurs in the light emitting layer 70 of each light emitting element 3, it is determined that the luminance of the entire single pixel including the light emitting element 3 is the lifetime. Therefore, if the film thickness is not uniform in the light emitting layer 70, the lifetime of the pixel is shortened as a result.

しかし、本発明によれば、上述したように各発光素子3間において発光層70内の膜厚を均一にできるため、複数の発光素子3間での発光特性を均一にできる。画素(サブ画素)は、このような発光素子3の集合体から構成されるため、画素領域(サブ画素領域)間での発光特性を均一にできるとともに、画素領域(サブ画素領域)としての寿命を長くすることができる。これにより、得られる有機EL装置1の発光特性を良好にすることができる。   However, according to the present invention, since the film thickness in the light emitting layer 70 can be made uniform between the light emitting elements 3 as described above, the light emission characteristics among the plurality of light emitting elements 3 can be made uniform. Since the pixel (sub-pixel) is composed of such an assembly of the light-emitting elements 3, the light emission characteristics between the pixel regions (sub-pixel regions) can be made uniform, and the lifetime as the pixel region (sub-pixel region) Can be lengthened. Thereby, the light emission characteristic of the organic EL device 1 obtained can be improved.

よって、このようにして得られた有機EL装置1は、画素領域(サブ画素領域)内での発光特性が均一になっていることから、例えばフルカラー表示を行う表示装置として好適なものとなる。   Therefore, the organic EL device 1 obtained in this way is suitable as a display device that performs full-color display, for example, because the light emission characteristics in the pixel region (sub-pixel region) are uniform.

また、RGBの各発光層70R,70G,70Bの形成材料をインクジェット法用いて基板上に配す場合に、材料に関わらず液滴量が等しく、且つ各ノズルの配列規則性を同一とすることで、噴射性が安定し、これによりインクジェット法による成膜を容易にすることができる。   Further, when the forming materials of the RGB light emitting layers 70R, 70G, and 70B are arranged on the substrate using the ink jet method, the amount of droplets is the same regardless of the material and the arrangement regularity of each nozzle is the same. Thus, the jetting property is stabilized, and this makes it easy to form a film by the ink jet method.

また、発光層70の形成材料によって発光寿命が異なることから、発光寿命が短い色程、サブ画素3の面積を大きくすることで、各発光層70における発光寿命差が抑えられる。さらに、低電流で所望の発光輝度が得られるようになる。   In addition, since the light emission lifetime varies depending on the material for forming the light emitting layer 70, the difference in the light emission lifetime in each light emitting layer 70 can be suppressed by increasing the area of the sub-pixel 3 as the color with a shorter light emission lifetime. Furthermore, a desired light emission luminance can be obtained with a low current.

(実施例)
正孔注入輸送層60の成膜方法としてインクジェット法を用い、さらに発光層70の形成材料として赤色、緑色、青色の蛍光材料を用いてこれをインクジェット法で成膜した。これ以外は、上記した製造方法とほぼ同様にして、本発明品としての有機EL装置を作製した。
ただし、正孔注入輸送層60及び発光層70は、次の材料を用いて形成した。
(Example)
An ink jet method was used as a method for forming the hole injection transport layer 60, and red, green, and blue fluorescent materials were used as the material for forming the light emitting layer 70, and this was formed by the ink jet method. Except for this, an organic EL device as a product of the present invention was fabricated in substantially the same manner as in the manufacturing method described above.
However, the hole injection transport layer 60 and the light emitting layer 70 were formed using the following materials.

正孔注入輸送層60を、重量比(PEDOT:PSS=1:50)、固形分濃度0.5%の3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)、及び、溶媒として濃度50%のジエチレングリコールの添加水からなる正孔注入輸送の形成材料を用いて形成した。   The hole injection transport layer 60 is used as a weight ratio (PEDOT: PSS = 1: 50), 3,4-polyethylenedioxythiophene-polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) having a solid content concentration of 0.5%, and a solvent. It was formed using a hole injecting and transporting forming material consisting of water added with 50% diethylene glycol.

インクジェット法を用いて、上記正孔注入輸送性材料を第1の隔壁25の開口部25a及び第2の隔壁221の開口部221a内に噴射した後、真空にて脱溶媒を行い、さらに、200℃で10分程度、熱処理を行い、膜厚50nm程度の正孔注入輸送層60を形成した。   After injecting the hole injecting and transporting material into the opening 25a of the first partition wall 25 and the opening 221a of the second partition wall 221 using an inkjet method, the solvent is removed in a vacuum, and 200 Heat treatment was performed at about 10 minutes for about 10 minutes to form a hole injecting and transporting layer 60 having a thickness of about 50 nm.

正孔注入輸送層60上に、RGBを発光する発光層70R,70G,70Bを形成する。各発光層70R,70G,70Bを、溶質としてRGB色を示す蛍光材料と、溶媒として濃度100%のシクロヘキシルベンゼンからなる形成材料とからなる形成材料を用いて形成した。具体的には、インクジェット法を用いて、各開口部221a内に、等しい液滴量(液滴サイズ)の形成材料を噴射し、真空にて脱溶媒を行い、さらに、N2雰囲気にて130℃で1時間程度、乾燥処理を行い、膜厚100nm程度の発光層70R,70G,70Bを形成した。本実施例では、各開口部221a内に噴射される各形成材料の重量がそれぞれ共通となるようにした。   On the hole injecting and transporting layer 60, the light emitting layers 70R, 70G, and 70B that emit RGB are formed. Each of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B was formed using a forming material made of a fluorescent material showing RGB color as a solute and a forming material made of cyclohexylbenzene at a concentration of 100% as a solvent. Specifically, a forming material having an equal droplet amount (droplet size) is jetted into each opening 221a by using an inkjet method, and the solvent is removed in a vacuum, and further, 130 ° C. in an N 2 atmosphere. Then, a drying process was performed for about 1 hour to form light emitting layers 70R, 70G, and 70B having a film thickness of about 100 nm. In this embodiment, the weights of the respective forming materials injected into the respective openings 221a are made common.

各発光層70R,70G,70B及び第2の隔壁221を覆うようにして、フッ化リチウム(LiF)を厚さ5nm、アルミニウム(Al)を厚さ300nmを蒸着により積層し、陰極12を形成した。
このようにして、発光色に関わらず、発光領域(開口部25aの開口面積)が等しい発光素子3を構成した。本実施例では、各サブ画素領域90R,90G,90B内に複数の発光素子3を列状に備え、発光素子3の配置数を異ならせることによって、サブ画素領域90R,90G,90Bの面積を異ならせたものである。各サブ画素領域90R,90G,90Bは、上述したように、開口部221aの直径によって規定される短手方向長さが一定で、発光素子3の数によって長手方向長さが異なる矩形状領域からなる。
The cathode 12 was formed by depositing 5 nm thick lithium fluoride (LiF) and 300 nm thick aluminum (Al) by vapor deposition so as to cover each of the light emitting layers 70R, 70G, 70B and the second partition 221. .
In this way, the light emitting element 3 having the same light emitting region (opening area of the opening 25a) regardless of the light emission color was configured. In the present embodiment, a plurality of light emitting elements 3 are arranged in a row in each of the sub pixel regions 90R, 90G, 90B, and the number of the light emitting elements 3 is arranged to vary the area of the sub pixel regions 90R, 90G, 90B. It is different. As described above, each of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B is a rectangular region having a constant short-side length defined by the diameter of the opening 221a and a long-side length depending on the number of light-emitting elements 3. Become.

そして、陰極12上の接着層51を介して素子基板2と封止基板(図示せず)とを接合して封止を行い、本発明品としての有機EL装置1を得た。   Then, the element substrate 2 and the sealing substrate (not shown) were bonded via the adhesive layer 51 on the cathode 12 to perform sealing, and the organic EL device 1 as the product of the present invention was obtained.

(比較例)
また、比較例として、色毎に発光領域(開口部の開口面積)が異なる発光層を備えた発光素子を作製した。この比較例では、色毎に発光領域(開口部の開口面積)が異なる発光素子を各色のサブ画素領域に一つずつ備えることによって、各サブ画素領域の面積を異ならせるようにした。
(Comparative example)
As a comparative example, a light emitting element including a light emitting layer having a different light emitting region (opening area of the opening) for each color was manufactured. In this comparative example, the area of each sub-pixel region is made different by providing one light-emitting element having a different light-emitting region (opening area of the opening) for each color in each sub-pixel region.

素子基板上に、各発光素子(サブ画素領域)を区画する隔壁を形成し、色毎に開口面積の異なる開口部内に発光層及び正孔注入輸送層を形成した。なお、正孔注入輸送層及び発光層は、上記実施例と同様の材料を用いて、インクジェット法により成膜した。開口部の開口面積の大きさが色毎に異なるため、各開口部内に異なる液滴量(液滴サイズ)の形成材料を噴射し、上記実施例と同様の条件で乾燥処理を行うことで各色の発光層を形成した。各サブ画素領域は、短手方向及び長手方向の長さ比が、色毎に異なる矩形状領域からなる。
このようにして、発光領域が色毎に異なる発光素子を形成し、比較品としての有機EL装置を作製した。
A partition wall for partitioning each light emitting element (subpixel region) was formed on the element substrate, and a light emitting layer and a hole injecting and transporting layer were formed in openings having different opening areas for each color. Note that the hole injecting and transporting layer and the light emitting layer were formed by an inkjet method using the same materials as in the above examples. Since the size of the opening area of each opening is different for each color, each color is formed by spraying a forming material having a different droplet amount (droplet size) into each opening and performing a drying process under the same conditions as in the above embodiment. The light emitting layer was formed. Each sub-pixel region is formed of a rectangular region in which the length ratio in the short side direction and the long side direction is different for each color.
In this manner, light emitting elements having different light emitting regions for respective colors were formed, and an organic EL device as a comparative product was manufactured.

上述のように作製した有機EL装置を発光させ、発光特性を目視で調べたところ、本発明品の有機EL装置では、サブ画素間での発光ムラは認められなかった。
一方、比較例品の有機EL装置では、サブ画素間に発光ムラが認められた。このような発光ムラは、発光層70R,70G,70Bの膜厚が不均一であることによるものと考えられる。比較品の開口部の開口面積は、RGB毎に異なっており、各開口部に噴射される形成材料の重量がそれぞれ異なっている。そのため、各開口部内における塗布材料の膜厚が全て均一になるとは限らないため、乾燥処理に掛かる時間が材料毎に異なるとともに乾燥後の膜厚も不均一となる。
以上の結果より、本発明品の有機EL発光装置1は、上述した方法で形成することにより、発光層70の膜厚の均一性及び平坦性等の成膜条件を確立でき、発光素子3の色ムラや寿命バラツキを抑えて、発光特性の良好なものとなる。また、各開口部221aに噴射される形成材料の液滴量が略等しいことから、インクジェット法(液滴吐出法)による成膜も良好且つ容易にできることが確認された。
When the organic EL device produced as described above was caused to emit light and the light emission characteristics were examined visually, in the organic EL device of the present invention, no light emission unevenness was observed between the sub-pixels.
On the other hand, in the organic EL device of the comparative example, light emission unevenness was observed between the sub-pixels. Such uneven light emission is considered to be due to the non-uniform thickness of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B. The opening area of the opening of the comparative product is different for each RGB, and the weight of the forming material injected into each opening is different. For this reason, since the film thickness of the coating material in each opening is not always uniform, the time required for the drying process varies depending on the material, and the film thickness after drying becomes nonuniform.
From the above results, the organic EL light emitting device 1 according to the present invention can be formed by the above-described method, thereby establishing film forming conditions such as uniformity and flatness of the thickness of the light emitting layer 70. Color unevenness and life variation are suppressed, and light emission characteristics are improved. In addition, since the amount of droplets of the forming material injected into each opening 221a is substantially equal, it was confirmed that film formation by the ink jet method (droplet discharge method) can be performed well and easily.

[有機EL装置の第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態における有機EL装置について説明する。なお、以下の各実施形態においては、第1実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を省略する。ここで、図7は第2実施形態の有機EL装置の画素構造を模式的に示す平面図である。
[Second Embodiment of Organic EL Device]
Next, an organic EL device according to a second embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Here, FIG. 7 is a plan view schematically showing the pixel structure of the organic EL device of the second embodiment.

上記第1実施形態における有機EL装置1は、各サブ画素領域90R,90G,90B内に、発光領域の等しい発光素子3が複数備えられており、各サブ画素領域90R,90G,90Bの面積に応じて設けられる発光素子3の数が異なっていたが、本発明の第2の実施形態における有機EL素子は、各サブ画素領域90R,90G,90B内に、各サブ画素領域90R,90G,90Bの面積に応じて発光領域を異ならせた発光素子3を一つずつ備えている点において異なっている。   The organic EL device 1 according to the first embodiment includes a plurality of light emitting elements 3 having the same light emitting region in each of the sub pixel regions 90R, 90G, 90B, and has an area of each sub pixel region 90R, 90G, 90B. The number of light-emitting elements 3 provided differs depending on the organic EL element according to the second embodiment of the present invention, but the sub-pixel areas 90R, 90G, 90B are included in the sub-pixel areas 90R, 90G, 90B. The difference is that one light-emitting element 3 having a different light-emitting region according to the area is provided.

図7に示すように、本実施形態における有機EL装置は、上記実施形態同様、色毎に大きさが異なるサブ画素領域90R,90G,90Bを有しており、サブ画素領域90R,90G,90B内に、これら各サブ画素領域90R,90G,90Bの大きさに対応して発光領域を異ならせた発光素子を一つずつ備えている。言い換えれば、各サブ画素領域90R,90G,90Bの大きさ(面積)は、RGB毎に発光面積が異なる発光層70R,70G,70Bの発光面積によって規定される。   As shown in FIG. 7, the organic EL device according to the present embodiment has sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B having different sizes for each color, as in the above-described embodiment, and the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B. Inside, one light-emitting element having a different light-emitting region corresponding to the size of each of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B is provided. In other words, the sizes (areas) of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B are defined by the light-emitting areas of the light-emitting layers 70R, 70G, and 70B having different light-emitting areas for each RGB.

素子基板2上に設けられる隔壁は、各発光層70R,70G,70Bを区画するもので、上記サブ画素領域90R,90G,90Bに対応すべく色によって開口面積を異ならせた開口部221r,221g,221bが画素毎に複数設けられている。   The partition provided on the element substrate 2 partitions the light emitting layers 70R, 70G, and 70B, and the openings 221r and 221g having different opening areas depending on colors to correspond to the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B. , 221b are provided for each pixel.

各開口部221r,221g,221bにおける開口部の幅W(開口幅)は各々の延在方向で略均一とされているとともに、各開口部221r,221g,221b全ての開口幅が略均一となっている。そのため、インクジェット法を用いて、各開口部221r,221g,221b内に発光層の各形成材料を供給する場合に、開口部221r,221g,221b内における各形成材料の広がりが開口幅方向で一定となる。   The width W (opening width) of the opening in each opening 221r, 221g, 221b is substantially uniform in each extending direction, and the opening width of all the openings 221r, 221g, 221b is substantially uniform. ing. Therefore, when each forming material of the light emitting layer is supplied into each of the openings 221r, 221g, and 221b using the ink jet method, the spread of each forming material in the openings 221r, 221g, and 221b is constant in the opening width direction. It becomes.

これにより、サブ画素領域ごとに発光領域を異ならせた場合であっても、各開口部221r,221g,221b内における発光層70の形成材料の膜厚が均一となり、各開口部221r,221g,221b内における上記形成材料の乾燥速度の差を抑えることができる。よって、良好な乾燥成膜が可能となり、得られる各発光層70R,70G,70Bの膜厚の均一性及び平坦性を確保することができる。   As a result, even when the light emitting region is different for each sub-pixel region, the film thickness of the material for forming the light emitting layer 70 in each of the openings 221r, 221g, 221b becomes uniform, and each of the openings 221r, 221g, The difference in the drying speed of the forming material in 221b can be suppressed. Therefore, favorable dry film formation is possible, and the uniformity and flatness of the film thickness of each light emitting layer 70R, 70G, 70B obtained can be ensured.

また、各発光層70R,70G,70Bは、形成材料に(発光色)よって発光寿命の長さが異なるため、発光寿命の短い色ほど面積を大きく形成している。面積の関係は、サブ画素領域90R,90G,90Bに対応して、発光層70B>発光層70G>発光層70Rとし、これにより、各発光層70R,70G,70Bの発光寿命を略等しくすることが可能である。   In addition, each light emitting layer 70R, 70G, 70B has a longer light emission lifetime depending on the material to be formed (light emission color). The area relationship is such that the light emitting layer 70B> the light emitting layer 70G> the light emitting layer 70R corresponding to the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B, thereby making the light emitting lifetimes of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B substantially equal. Is possible.

[有機EL装置の他の実施形態]
次に、有機EL装置の他の実施形態について述べる。
なお、以下の各実施形態においては、第1実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を省略する。ここで、図8〜図13は他の実施形態の有機EL装置の画素構造を模式的に示す平面図である。
図8〜図13に示す有機EL装置は、サブ画素領域90R,90G,90Bの大きさが色によって異なっており、具体的には、略同面積のサブ画素領域90R,90Gよりも、サブ画素領域90Bの面積の方が大きい。以下の説明では、各有機EL装置における各サブ画素領域90R,90G,90Bを、一つの矩形状領域、あるいは複数の矩形状領域で表す。矩形状領域の短手方向長さは一定となっており、長手方向長さを異ならせることで各サブ画素領域90R,90G,90Bの面積を異ならせている。
[Other Embodiments of Organic EL Device]
Next, another embodiment of the organic EL device will be described.
In the following embodiments, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Here, FIGS. 8 to 13 are plan views schematically showing a pixel structure of an organic EL device according to another embodiment.
In the organic EL devices shown in FIGS. 8 to 13, the sizes of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B are different depending on colors. Specifically, the sub-pixel regions 90R and 90G have substantially the same area. The area of the region 90B is larger. In the following description, each sub-pixel region 90R, 90G, 90B in each organic EL device is represented by one rectangular region or a plurality of rectangular regions. The length of the rectangular region in the short direction is constant, and the areas of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B are made different by changing the length in the longitudinal direction.

図8に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさ(長手方向長さ)が略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が異なる複数(2つ)の矩形状領域から構成されており、各々の長手方向が、走査線101或いは信号線102に沿って互いに直交しているとともに、互いの長手方向一端側同士を突き合わせた平面視略L字形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 8, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size (length in the longitudinal direction), and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90 </ b> B is composed of a plurality (two) of rectangular regions having different sizes (lengths in the longitudinal direction), and the longitudinal directions of the sub-pixel regions 90 </ b> B are along the scanning line 101 or the signal line 102. In addition to being orthogonal to each other, it has a substantially L shape in plan view in which one end side in the longitudinal direction is abutted with each other.

図9に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさ(長手方向長さ)が略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が異なる複数(2つ)の矩形状領域から構成されており、長手方向が走査線101に沿う一方の矩形状領域の中央部に、長手方向が信号線102に沿う他方の矩形状領域の長手方向一端側を突き合わせた平面視略T字形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 9, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size (length in the longitudinal direction), and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90B is composed of a plurality (two) of rectangular regions having different sizes (longitudinal lengths), and the longitudinal direction is at the center of one rectangular region along the scanning line 101. The longitudinal direction is substantially T-shaped in a plan view in which one end side in the longitudinal direction of the other rectangular region along the signal line 102 is abutted.

図10に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさ(長手方向長さ)が略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が略等しい複数(例えば2つ)の矩形状領域から構成されており、長手方向が走査線101に沿う矩形状領域と、長手方向が信号線102に沿う矩形状領域と、を互いの長手方向中央で交差した平面視略十文字形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 10, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size (length in the longitudinal direction), and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90B is composed of a plurality of (for example, two) rectangular regions whose sizes (lengths in the longitudinal direction) are substantially equal, and a rectangular region whose longitudinal direction is along the scanning line 101 and the longitudinal direction. Is a substantially cross-shaped shape in plan view that intersects the rectangular region along the signal line 102 at the center in the longitudinal direction of each other.

図11に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさ(長手方向長さ)が略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が異なる複数(例えば、3つ)の矩形状領域から構成され、長手方向が信号線102に沿う矩形状領域の両端側に、長手方向が走査線101に沿う矩形状領域の中央部を突き合わせた平面視略H字形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 11, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size (length in the longitudinal direction), and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90B is composed of a plurality of (for example, three) rectangular regions having different sizes (lengths in the longitudinal direction), and the longitudinal direction extends longitudinally on both ends of the rectangular region along the signal line 102. The direction is substantially H-shaped in a plan view in which the central part of the rectangular region along the scanning line 101 is abutted.

図12に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさが略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が異なる複数(例えば、3つ)の矩形状領域から構成され、長手方向が信号線102に沿う矩形状領域と、長手方向が走査線101に沿う一対の矩形状領域との端部同士が連結された平面視略コ字形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 12, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size, and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90B is composed of a plurality of (for example, three) rectangular regions having different sizes (lengths in the longitudinal direction), and the longitudinal direction is a rectangular region along the signal line 102 and the longitudinal direction is scanned. It has a substantially U shape in plan view in which ends of a pair of rectangular regions along the line 101 are connected to each other.

図13に示す有機EL装置において、サブ画素領域90R,90Gは、大きさが略等しい矩形状領域からそれぞれ構成され、各々の長手方向が信号線102に沿っている。一方、サブ画素領域90Bは、大きさ(長手方向長さ)が異なる複数(例えば、3つ)の矩形状領域から構成されており、長手方向が信号線102に沿う矩形状領域と、当該矩形状領域の両端に、長手方向が走査線101に沿う一対の矩形状領域の一端側がそれぞれ連結された形状となっている。   In the organic EL device shown in FIG. 13, the sub-pixel regions 90 </ b> R and 90 </ b> G are each composed of a rectangular region having substantially the same size, and each longitudinal direction is along the signal line 102. On the other hand, the sub-pixel region 90B is composed of a plurality of (for example, three) rectangular regions having different sizes (lengths in the longitudinal direction), and the rectangular region whose longitudinal direction extends along the signal line 102 and the rectangular region. One end side of a pair of rectangular regions whose longitudinal direction is along the scanning line 101 is connected to both ends of the shape region.

以上述べた図8〜図13に示す有機EL装置では、サブ画素領域90R,90G,90B内に、各サブ画素領域90R,90G,90Bの面積に対応すべく発光領域を異ならせた発光素子3が一つずつ備えられており、これによってRGBからなる表示単位画素(画素領域)が構成されている。
各有機EL装置の隔壁(不図示)は、各発光層70R,70G,70Bを囲むようにして一体形成されたものであって、各サブ画素領域90R,90G,90B間で、開口幅(矩形状領域の短手方向長さ)が等しい開口部を有し、開口長さ(矩形状領域の長手方向長さ)を変化させることで開口部同士の開口面積、すなわち各サブ画素領域90R,90G,90Bの面積を異ならせている。
そのため、各発光層70をインクジェット法で形成する場合、各開口部内に噴射された形成材料が開口幅方向(矩形状領域の短手方向)で均一な広がりをなす。これにより、各開口部内に均一な膜厚で形成材料を塗布することができ、乾燥処理によって発光層70R,70G,70Bを得る場合に、形成材料の乾燥速度が略等しくなる。よって、良好な乾燥成膜が可能となり、各開口部における発光層70R,70G,70Bの膜表面を平坦にすることができる、したがって、各発光素子3において発光ムラが生じることが防止され、良好な発光特性を得ることができる。
以上述べた図7〜図13に示す有機EL装置では、開口部221r,221g,221bの形状は矩形状であったが、図14に示すように矩形状の角部に曲線を有する形状としてもよい。
In the organic EL device shown in FIGS. 8 to 13 described above, the light-emitting element 3 in which the light-emitting regions are different in the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B so as to correspond to the areas of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B. Are provided one by one, thereby constituting a display unit pixel (pixel region) made of RGB.
A partition wall (not shown) of each organic EL device is integrally formed so as to surround each light emitting layer 70R, 70G, 70B, and has an opening width (rectangular region) between the sub pixel regions 90R, 90G, 90B. Of the sub-pixel regions 90R, 90G, and 90B by changing the opening length (longitudinal direction length of the rectangular region). The areas are different.
Therefore, when each light emitting layer 70 is formed by the ink jet method, the forming material injected into each opening portion spreads uniformly in the opening width direction (short direction of the rectangular region). Thereby, the forming material can be applied with a uniform film thickness in each opening, and when the light emitting layers 70R, 70G, and 70B are obtained by the drying process, the drying speed of the forming material becomes substantially equal. Therefore, favorable dry film formation is possible, and the film surfaces of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B in each opening can be flattened. Light emission characteristics can be obtained.
In the organic EL device shown in FIGS. 7 to 13 described above, the shapes of the openings 221r, 221g, and 221b are rectangular. However, as shown in FIG. Good.

上述した各有機EL装置は、複数の発光層70を囲むようにして一体形成された不図示の隔壁を備えている。以下に示す有機EL装置では、第2の隔壁221が、平面視で略矩形の枠状のバンクを複数有して構成され、当該バンクが所定のピッチで素子基板2上に配置された構成となっている。このような隔壁221によって区画される各発光層70R,70G,70Bは、そのうちの一つの発光層70Bが格子状をなし、他の発光層70R,70Gを囲むようにして形成されている。具体的には、図15に示すように、発光層70Bが格子状をなし、発光層70Bによって囲まれた領域内に各発光層70R,70Gが配置されている。   Each of the organic EL devices described above includes a partition wall (not shown) integrally formed so as to surround the plurality of light emitting layers 70. In the organic EL device described below, the second partition 221 is configured to include a plurality of substantially rectangular frame-shaped banks in plan view, and the banks are arranged on the element substrate 2 at a predetermined pitch. It has become. Each of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B partitioned by the partition 221 is formed such that one of the light emitting layers 70B has a lattice shape and surrounds the other light emitting layers 70R and 70G. Specifically, as shown in FIG. 15, the light emitting layer 70B has a lattice shape, and the light emitting layers 70R and 70G are arranged in a region surrounded by the light emitting layer 70B.

なお、各サブ画素領域は、図中の一点鎖線で示されるように各々が矩形状領域からなっており、サブ画素領域90R,90G内には、発光層70R,70Gを有する発光素子3が備えられ、サブ画素領域90B内には、発光層70Bの一部を用いて形成された発光素子3が備えられている。   Each sub-pixel region is formed of a rectangular region as indicated by a one-dot chain line in the figure, and the light-emitting element 3 having the light-emitting layers 70R and 70G is provided in the sub-pixel regions 90R and 90G. In the sub-pixel region 90B, the light emitting element 3 formed using a part of the light emitting layer 70B is provided.

発光層70の端部は、隔壁221の影響を受けて断面形状が変形しやすい。つまり、開口部221r,221g,221b内に充填された各発光層70の形成材料は、隔壁221の開口部221r,221g,221bを構成する壁部に拡展し、壁面に沿って上昇する虞がある。そこで、図15に示す有機EL装置のように、発光層70Bを格子状に形成し、他の発光層70R,70Gを囲むように構成することによって、発光層70Bの長手方向を区切る開口部221rの壁部がサブ画素領域90B内に位置しないことから、発光層70Bの表面をより平坦化することができる。これにより、良好な発光輝度が得られ、発光素子の発光特性を向上させることができる。   The end portion of the light emitting layer 70 is easily deformed in cross section due to the influence of the partition 221. That is, the forming material of each light emitting layer 70 filled in the openings 221r, 221g, and 221b may spread on the wall portion that forms the openings 221r, 221g, and 221b of the partition wall 221 and rise along the wall surface. There is. Therefore, as in the organic EL device shown in FIG. 15, the light emitting layer 70B is formed in a lattice shape and is configured to surround the other light emitting layers 70R and 70G, thereby opening 221r that divides the longitudinal direction of the light emitting layer 70B. Is not located in the sub-pixel region 90B, the surface of the light emitting layer 70B can be further flattened. Thereby, good light emission luminance can be obtained, and the light emission characteristics of the light emitting element can be improved.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもなく、上記各実施形態を組み合わせても良い。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. However, it goes without saying that the present invention is not limited to such examples, and the above embodiments may be combined. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.

(電子機器)
次に、実施形態の有機EL装置を備えた電子機器の例について説明する。
図16(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図16(a)において、符号50は携帯電話本体を示し、符号51は有機EL装置を備えた表示部を示している。
図16(b)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図16(b)において、符号60は情報処理装置、符号61はキーボードなどの入力部、符号63は情報処理本体、符号62は有機EL装置を備えた表示部を示している。
図16(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図16(c)において、符号70は時計本体を示し、符号71は有機EL装置を備えたEL表示部を示している。
図16(a)〜(c)に示す電子機器は、先の実施形態に示した有機EL装置が備えられたものであるので、表示特性が良好な電子機器となる。
(Electronics)
Next, an example of an electronic apparatus including the organic EL device according to the embodiment will be described.
FIG. 16A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 16A, reference numeral 50 denotes a mobile phone body, and reference numeral 51 denotes a display unit including an organic EL device.
FIG. 16B is a perspective view illustrating an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 16B, reference numeral 60 denotes an information processing apparatus, reference numeral 61 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 63 denotes an information processing body, and reference numeral 62 denotes a display unit including an organic EL device.
FIG. 16C is a perspective view illustrating an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 16C, reference numeral 70 denotes a watch body, and reference numeral 71 denotes an EL display unit including an organic EL device.
Since the electronic devices shown in FIGS. 16A to 16C are provided with the organic EL device described in the previous embodiment, the electronic devices have good display characteristics.

なお、電子機器としては、上記電子機器に限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ(PC)及びエンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することができる。   In addition, as an electronic device, it is not restricted to the said electronic device, It can apply to a various electronic device. For example, a desktop computer, a liquid crystal projector, a multimedia personal computer (PC) and an engineering workstation (EWS), a pager, a word processor, a television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, an electronic notebook, an electronic The present invention can be applied to electronic devices such as a desktop computer, a car navigation device, a POS terminal, and a device having a touch panel.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもなく、上記各実施形態を組み合わせても良い。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. However, it goes without saying that the present invention is not limited to such examples, and the above embodiments may be combined. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.

例えば、上記実施形態においては、各サブ画素領域90R,90G,90Bが、一つあるいは複数の矩形状領域から構成されるとしたが、矩形状領域には、領域の端部が丸みを帯びた楕円状領域等も含まれる。
また、開口部221aの幅Wが、インクジェット法によって噴射される各発光層70の形成材料の液滴サイズに対応していることが好ましい。
For example, in the above embodiment, each sub-pixel region 90R, 90G, and 90B is composed of one or a plurality of rectangular regions, but the end of the region is rounded in the rectangular region. An elliptical region and the like are also included.
The width W of the opening 221a preferably corresponds to the droplet size of the material for forming each light emitting layer 70 ejected by the ink jet method.

本発明の本実施形態の有機EL装置の配線構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the wiring structure of the organic electroluminescent apparatus of this embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態における有機EL装置の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態における有機EL装置の要部の断面図である。It is sectional drawing of the principal part of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態における有機EL装置の素子基板側の工程図である。It is process drawing by the side of the element substrate of the organic EL device in a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態における有機EL装置の封止基板側の工程図である。It is process drawing by the side of the sealing substrate of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in 2nd Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における有機EL装置の画素構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の実施形態における電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device in embodiment of this invention. 従来の有機EL装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional organic EL apparatus typically.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL装置 2…素子基板 3…発光素子 25…第1の隔壁
70(70R,70G,70B)…発光層
90R,90G,90B…サブ画素領域
221…第2の隔壁 221a…開口部 a,b,c,d…矩形状領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL apparatus 2 ... Element board | substrate 3 ... Light emitting element 25 ... 1st partition 70 (70R, 70G, 70B) ... Light emitting layer 90R, 90G, 90B ... Sub-pixel area | region 221 ... 2nd partition 221a ... Opening part a , B, c, d ... rectangular area

Claims (7)

基板上に、表示色が異なる複数のサブ画素領域からなる画素領域がマトリクス状に配置され、
前記サブ画素領域毎に発光色が異なる複数の発光層と、
前記複数の発光層を区画する隔壁と、を前記画素領域内に有し、
前記画素領域を構成する前記複数のサブ画素領域のうち少なくとも一つが、他の前記サブ画素領域と面積が異なっており、
前記複数のサブ画素領域は、一つの矩形状領域、あるいは互いの長手方向が交差するように連結された複数の矩形状領域により構成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
On the substrate, pixel regions composed of a plurality of sub-pixel regions having different display colors are arranged in a matrix,
A plurality of light-emitting layers having different emission colors for each of the sub-pixel regions;
Partition walls for partitioning the plurality of light emitting layers, and in the pixel region,
At least one of the plurality of sub-pixel regions constituting the pixel region is different in area from the other sub-pixel regions,
The plurality of sub-pixel regions are configured by one rectangular region or a plurality of rectangular regions connected so that their longitudinal directions intersect each other.
前記隔壁は、開口面積が等しい開口部を複数有し、
前記画素を構成する前記サブ画素領域のうち少なくとも一つは、他のサブ画素領域と異なる数の前記開口部を有していることを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The partition has a plurality of openings having the same opening area,
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein at least one of the sub-pixel regions constituting the pixel has a different number of the openings from other sub-pixel regions.
前記隔壁は、前記各サブ画素領域に対応する開口部を複数有し、
前記各開口部の開口幅が略等しいことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The partition has a plurality of openings corresponding to the sub-pixel regions,
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the opening widths of the openings are substantially equal.
前記隔壁が、前記複数の発光層を囲むように一体形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 3, wherein the partition wall is integrally formed so as to surround the plurality of light emitting layers. 前記複数の発光層のうちの一つの発光色に対応する発光層が格子状をなし、他の発光色に対応する発光層を囲んでいることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   4. The light emitting layer corresponding to one of the plurality of light emitting layers has a lattice shape and surrounds a light emitting layer corresponding to another light emitting color. 5. The organic electroluminescence device according to Item. 発光寿命が短い色程、前記発光層の面積を大きくすることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the area of the light emitting layer is increased as the color has a shorter light emission lifetime. 上記請求項1乃至6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 6.
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