JP2009068008A - Polyimide composition, flexible wiring board and manufacturing method of the flexible wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide composition which, even after alkali development, does not cause surface deposition of a white powder even when acid cleaning is not conducted, a flexible wiring board obtained using the composition and a manufacturing method thereof, and to provide a polyimide composition which has an improved alkali developability, enables alkali development with sodium carbonate in particular and is suitably used as a cover lay material for a flexible wiring board, a flexible wiring board obtained using the composition and a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: A hydrolyzate produced upon alkali development after light exposure can be fixed into a polyimide by reacting the hydrolyzate with a crosslinking agent. Thus, the surface deposition of the white powder can be prevented without conducting acid cleaning after the alkali development. Selection of a specific material as a component of the polyimide compound can enhance alkali solubility and impart a low elasticity and a flame retardance, which are required of a cover lay material for a flexible wiring board. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリイミド組成物及びそのポリイミド組成物により形成されたポリイミド層を有するフレキシブル配線板に関するものであり、そのフレキシブル配線板を製造する方法に関する。   The present invention relates to a polyimide composition and a flexible wiring board having a polyimide layer formed of the polyimide composition, and relates to a method of manufacturing the flexible wiring board.

一般にポリイミド樹脂は、無水ピロメリット酸二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミノジフェニルエーテル等の芳香族ジアミンとをジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒中で等モル反応させ容易に得られる高重合度のポリイミド前駆体を、膜などに成形し加熱又は化学イミド化して得られる。   Generally, a polyimide resin is easily obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride such as pyromellitic dianhydride and an aromatic diamine such as diaminodiphenyl ether in an aprotic polar solvent such as dimethylacetamide. The polyimide precursor having a high degree of polymerization obtained is formed into a film or the like, and is obtained by heating or chemical imidization.

そして、このポリイミド樹脂は、優れた耐熱性、耐薬品性、耐放射線性、電気絶縁性、機械的性質などの性質を併せ持つことから、銅箔等の導体上に形成され、フレキシブル配線板などの種々の電子デバイスに広く利用されている。   And since this polyimide resin has properties such as excellent heat resistance, chemical resistance, radiation resistance, electrical insulation and mechanical properties, it is formed on a conductor such as copper foil, Widely used in various electronic devices.

フレキシブル配線板等の電子デバイスに用いられるポリイミド樹脂を形成するポリイミド組成物としては、酸二無水物とジアミノポリシロキサンとエポキシ樹脂とを有機溶媒に均一に溶解してなるポリイミド組成物がある(例えば、特許文献1参照)。また、ポリカルボン酸と、ジイソシアネートと、ポリイソシアネートとエポキシ樹脂とを含有したポリイミド組成物も開示され、屈曲性の高い材料を提供するものがある(例えば、特許文献2及び3参照)。   As a polyimide composition for forming a polyimide resin used for an electronic device such as a flexible wiring board, there is a polyimide composition obtained by uniformly dissolving an acid dianhydride, diaminopolysiloxane, and an epoxy resin in an organic solvent (for example, , See Patent Document 1). In addition, a polyimide composition containing polycarboxylic acid, diisocyanate, polyisocyanate, and epoxy resin is also disclosed, and there is one that provides a highly flexible material (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

特許第2598215号明細書Japanese Patent No. 2598215 特開2005−2192号公報JP 2005-2192 A 特開2004−137370号公報JP 2004-137370 A

フレキシブル配線板等に利用される感光性のポリイミド組成物は、導体上で所定の形状となるようにアルカリ現像によるパターン形成が行われる。例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムといったアルカリ溶液で所定の箇所を除去して、パターンを形成することができる。本発明者らは、このアルカリ現像後、湿熱環境下での電圧印加試験(イオンマイグレーション試験)を行ったところ、その表面に白粉が表出することを発見した。この白粉は、アルカリ現像により除去されなかったポリイミド表面に残存したアルカリ溶液がポリイミドを加水分解することで、分子量が低下した脆弱層が形成され、この状態でイオンマイグレーション試験を行うことで脆弱層の加水分解が進行し、最終的に粉状となって表面に表出したものと考えれる。このような白粉の表出は、電子部品の信頼性を著しく損ねる恐れがあり、従来にはない課題である。   A photosensitive polyimide composition used for a flexible wiring board or the like is subjected to pattern formation by alkali development so as to have a predetermined shape on a conductor. For example, a pattern can be formed by removing a predetermined portion with an alkaline solution such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. The inventors of the present invention conducted a voltage application test (ion migration test) in a moist heat environment after the alkali development, and found that white powder appeared on the surface. The white powder has a weakened layer with reduced molecular weight formed by hydrolyzing the polyimide with the alkaline solution remaining on the polyimide surface that has not been removed by alkali development. It is considered that the hydrolysis progressed and finally became powdery and appeared on the surface. Such exposure of white powder may significantly impair the reliability of electronic components and is an unprecedented problem.

上記した特許文献1のポリイミド組成物は、シロキサン成分の含有による耐熱性の低下を補うためにエポキシ樹脂を含有させている。この特許文献1では、アルカリ溶液によるアルカリ現像を行っていない。エポキシ樹脂は、耐熱性の低下を補うために添加され、かつ、エポキシの硬化温度以上で熱硬化されているため、アルカリ溶液による加水分解物をポリイミドに固定化することができない。そのため、ポリイミド表面に白粉が表出してしまう。特許文献2及び3も、特許文献1と同様に、アルカリ現像を行っておらず、エポキシ樹脂は、耐薬品性、耐湿性の向上のために用いられているため、アルカリ溶液による加水分解物をポリイミドに固定化することができない。そのため、ポリイミド表面に白粉が表出してしまう。   The above-described polyimide composition of Patent Document 1 contains an epoxy resin in order to compensate for a decrease in heat resistance due to the inclusion of a siloxane component. In Patent Document 1, alkali development with an alkali solution is not performed. The epoxy resin is added to compensate for a decrease in heat resistance and is thermally cured at a temperature equal to or higher than the curing temperature of the epoxy. Therefore, the hydrolyzate from the alkaline solution cannot be immobilized on the polyimide. For this reason, white powder appears on the polyimide surface. In Patent Documents 2 and 3, as in Patent Document 1, alkali development is not performed, and the epoxy resin is used for improving chemical resistance and moisture resistance. It cannot be immobilized on polyimide. For this reason, white powder appears on the polyimide surface.

この白粉は、アルカリ溶液での加水分解物であるため、加水分解の原因となるアルカリ溶液をアルカリ現像後に酸によって洗浄することによって白粉の表出を防止することは可能である。しかしながら、酸による洗浄は、製造工程が増えてしまうという問題がある。   Since this white powder is a hydrolyzate in an alkaline solution, it is possible to prevent the white powder from appearing by washing the alkaline solution causing hydrolysis with an acid after alkali development. However, the cleaning with an acid has a problem that the manufacturing process increases.

そこで発明者らは、先の出願(特願2006−214837号)により、酸二無水物と、ヒドロキシル基を有するジアミンとの反応によって得られるポリイミド化合物と感光剤と架橋剤とを含有することを特徴とするポリイミド組成物、フレキシブル配線板及びフレキシブル配線板の製造方法を完成させた。   Therefore, the inventors of the present application (Japanese Patent Application No. 2006-214837) contain a polyimide compound obtained by a reaction between an acid dianhydride and a diamine having a hydroxyl group, a photosensitive agent, and a crosslinking agent. The polyimide composition, the flexible wiring board, and the manufacturing method of a flexible wiring board which were characterized were completed.

この本発明のポリイミド組成物は、アルカリ現像工程(以下、アルカリ現像)で生成する加水分解物を、架橋剤によりポリイミドに固定化することができ、アルカリ溶液による加水分解の進行を停止することができ、アルカリ現像を行っても、ポリイミド表面に白粉が表出することを防ぐことができた。   In the polyimide composition of the present invention, the hydrolyzate produced in the alkali development step (hereinafter referred to as alkali development) can be immobilized on the polyimide with a crosslinking agent, and the progress of hydrolysis by the alkaline solution can be stopped. It was possible to prevent the white powder from appearing on the polyimide surface even when alkaline development was performed.

しかしながら、ポリイミド化合物の選択によっては、アルカリ溶解性が十分でなく、また環境負荷から要請される炭酸ナトリウム系のアルカリ溶解性が十分でなかった。   However, depending on the selection of the polyimide compound, the alkali solubility is not sufficient, and the sodium carbonate-based alkali solubility required from the environmental load is not sufficient.

また、ポリイミド組成物をフレキシブル配線板のカバーレイ材として使用する場合には、当然に要求される低弾性、及び難燃性についても十分でなかった。   Moreover, when using a polyimide composition as a cover-lay material of a flexible wiring board, it was not enough about the low elasticity and flame retardance which are naturally required.

本発明者らは、このような新しい課題を鑑みて鋭意研究を行った。そこで、本発明は、アルカリ現像後においても、酸洗浄を行うことなく、白粉の表出のないポリイミド組成物を提供すること、及びそのポリイミド組成物を用いたフレキシブル配線板及びその製造方法を提供することを第1の目的とする。   The present inventors have conducted intensive research in view of such a new problem. Therefore, the present invention provides a polyimide composition that does not expose white powder without acid washing even after alkali development, and provides a flexible wiring board using the polyimide composition and a method for producing the same. This is the first purpose.

また、本発明者らは、アルカリ溶解性に基づくアルカリ現像性を改善し、特に炭酸ナトリウム系のアルカリ現像性を可能とするポリイミド組成物、及びそのポリイミド組成物を用いたフレキシブル配線板及びその製造方法を提供することを第2の目的とする。   In addition, the inventors have improved the alkali developability based on alkali solubility, in particular, a polyimide composition that enables sodium carbonate-based alkali developability, and a flexible wiring board using the polyimide composition and its production A second object is to provide a method.

また、フレキシブル配線板のカバーレイ材として好適なポリイミド組成物、及びそのポリイミド組成物を用いたフレキシブル配線板及びその製造方法を提供することを第3の目的とする。   A third object is to provide a polyimide composition suitable as a coverlay material for a flexible wiring board, a flexible wiring board using the polyimide composition, and a method for producing the same.

上記の課題を達成する本発明のポリイミド組成物は、酸二無水物と、ヒドロキシル基を有するジアミンとの反応によって得られるポリイミド化合物と、感光剤と、架橋剤とを含有することを特徴とするポリイミド組成物であって、酸二無水物が3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含み、ヒドロキシル基を有するジアミンが3,3'−ジアミノ−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含むことを特徴とする。   The polyimide composition of the present invention that achieves the above object comprises a polyimide compound obtained by a reaction between an acid dianhydride and a diamine having a hydroxyl group, a photosensitive agent, and a crosslinking agent. A polyimide composition, wherein the acid dianhydride comprises 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, and the diamine having a hydroxyl group is 3,3′-diamino-4,4 ′ -Dihydroxydiphenyl sulfone is included.

また、本発明は、このようなポリイミド組成物をフレキシブル配線板のカバーレイ材として使用したカバーレイ付きフレキシブル配線板である。   Moreover, this invention is a flexible wiring board with a coverlay which used such a polyimide composition as a coverlay material of a flexible wiring board.

また、本発明は、このようなポリイミド組成物をフレキシブル配線板のカバーレイ材として使用するとともに、アルカリ溶液で処理した際に生じるポリイミド化合物の加水分解物を架橋剤と加熱硬化させるカバーレイ付きフレキシブル配線板の製造方法である。   In addition, the present invention uses such a polyimide composition as a coverlay material for flexible wiring boards, and also has a flexible coverlay that heats and cures a hydrolyzate of a polyimide compound that is generated when treated with an alkaline solution. It is a manufacturing method of a wiring board.

本発明のポリイミド組成物は、ジアミン成分がヒドロキシル基を有し、及び感光剤を有することで、露光とアルカリ溶液への浸漬によるアルカリ現像で所定のパターンが形成できる。   In the polyimide composition of the present invention, the diamine component has a hydroxyl group and a photosensitizer so that a predetermined pattern can be formed by exposure and alkali development by immersion in an alkali solution.

ここで、アルカリ現像で除去されなかったポリイミド組成物の表面にはアルカリ溶液に起因する加水分解物が残存するが、ポリイミド組成物中に含まれる架橋剤によって、アルカリ現像で生成する加水分解物をポリイミドに固定化することができる。これにより、アルカリ溶液による加水分解の進行を停止することができ、アルカリ現像を行っても、ポリイミド表面に白粉が表出することを防ぐことができる。すなわち、本発明のポリイミド組成物は、フレキシブル配線板上で加水分解物をポリイミド層に固定化することができる。   Here, although the hydrolyzate resulting from the alkali solution remains on the surface of the polyimide composition that has not been removed by the alkali development, the hydrolyzate generated by the alkali development is caused by the crosslinking agent contained in the polyimide composition. It can be immobilized on polyimide. Thereby, the progress of the hydrolysis by the alkaline solution can be stopped, and even if the alkali development is performed, the white powder can be prevented from appearing on the polyimide surface. That is, the polyimide composition of this invention can fix a hydrolyzate to a polyimide layer on a flexible wiring board.

更に、本発明のポリイミド化合物は、酸二無水物として3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含み、ヒドロキシル基を有するジアミンが3,3'−ジアミノ−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンから構成され、このアルカリ溶液に対して極めて高い溶解性を有する。   Furthermore, the polyimide compound of the present invention contains 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride as an acid dianhydride, and the diamine having a hydroxyl group is 3,3′-diamino-4, It is composed of 4'-dihydroxydiphenyl sulfone and has extremely high solubility in this alkaline solution.

更に、ジアミン成分として、フェニル基が含有されたシロキサンジアミンを含むことにより、高い難燃性、低弾性を得ることができ、フレキシブル配線板のカバーレイ材として好適である。   Furthermore, by including a siloxane diamine containing a phenyl group as a diamine component, high flame retardancy and low elasticity can be obtained, which is suitable as a coverlay material for a flexible wiring board.

本発明は、感光剤を有することで、露光後のアルカリ現像によって所定のパターンを形成できる。このアルカリ現像で生成する加水分解物は、架橋剤と反応させることでポリイミドに固定化することができ、白粉の表出を防止することができる。したがって、アルカリ現像を行っても、酸による洗浄を行うことなく、白粉の表出を防止することができる。   In the present invention, by having a photosensitive agent, a predetermined pattern can be formed by alkali development after exposure. The hydrolyzate produced by this alkali development can be immobilized on polyimide by reacting with a crosslinking agent, and the white powder can be prevented from being exposed. Therefore, even if alkali development is performed, it is possible to prevent the white powder from appearing without washing with an acid.

更に、ポリイミド化合物を構成する酸二無水物、及びジアミン成分に特定材料を選択したことにより、アルカリ溶解性を高めることができ、更にフレキシブル配線板のカバーレイ材として必要な低弾性、難燃性を得ることができる。   Furthermore, by selecting a specific material for the acid dianhydride and diamine component that constitutes the polyimide compound, it is possible to increase alkali solubility, and further, low elasticity and flame resistance required as a coverlay material for flexible wiring boards Can be obtained.

以下、本発明のポリイミド組成物及びポリイミド組成物の製造方法について説明する。なお、本発明は、以下の説明に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。   Hereinafter, the polyimide composition of this invention and the manufacturing method of a polyimide composition are demonstrated. Note that the present invention is not limited to the following description, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.

本発明のポリイミド組成物は、アルカリ現像によって表面に白粉が発生することを防ぐことができるポリイミド組成物である。このポリイミド組成物は、酸二無水物と、ヒドロキシル基を有するジアミンとの反応によって得られるポリイミド化合物と、感光剤と、架橋剤とを含有してなるものである。   The polyimide composition of the present invention is a polyimide composition that can prevent white powder from being generated on the surface by alkali development. This polyimide composition contains a polyimide compound obtained by a reaction between an acid dianhydride and a diamine having a hydroxyl group, a photosensitive agent, and a crosslinking agent.

ポリイミド組成物中に感光剤を含有させることで、露光後にアルカリ現像を行うことでパターンを形成することができる。一般に、ポリイミド化合物は、アルカリに対して加水分解を受けやすい。ポリイミドの加水分解は、2段階の過程を経ると考えられる。一段階目でポリイミド中のイミド環が開環し、ポリアミド酸構造(脆弱層)と分解が起こる。さらにアルカリが存在している場合には、このアミド骨格も加水分解を受けてポリマー鎖が切れるまでに至る。この状態で加水分解が進み続けると、最終的に分子量低下を招き、この低分子量成分が「白粉」として表面へ出ると考えられる。アルカリ現像の段階では、一段階目のアミドへの加水分解が生じていると考えられる(脆弱層形成)。このとき、アルカリに浸漬している時間が比較的短いため、分子量低下までは起こらない。よって、外見上膜劣化は確認できない。しかしながら、湿熱エージング試験等でアルカリにより侵食された目に見えない脆弱層がエージング条件により加水分解が促進され表面に白粉を生じさせることがわかった。本発明は、架橋剤を含有させることで、ポリイミドの加水分解物に架橋剤が反応し、ポリイミドへの固定化が可能となり、白粉の表出を防止することができる。   By including a photosensitizer in the polyimide composition, a pattern can be formed by performing alkali development after exposure. In general, polyimide compounds are susceptible to hydrolysis with respect to alkali. Polyimide hydrolysis is thought to go through a two-step process. In the first stage, the imide ring in the polyimide is opened, and the polyamic acid structure (fragile layer) and decomposition occur. Further, when an alkali is present, this amide skeleton is also hydrolyzed until the polymer chain is broken. If hydrolysis continues in this state, the molecular weight is eventually lowered, and it is considered that this low molecular weight component comes to the surface as “white powder”. In the alkali development stage, it is considered that hydrolysis to the first stage amide occurs (fragile layer formation). At this time, since the time of immersion in the alkali is relatively short, the molecular weight does not decrease. Therefore, no apparent film deterioration can be confirmed. However, it has been found in the wet heat aging test and the like that the invisible fragile layer eroded by alkali is accelerated by the aging conditions to produce white powder on the surface. In the present invention, by containing a cross-linking agent, the cross-linking agent reacts with the hydrolyzate of polyimide, and the immobilization on the polyimide becomes possible, thereby preventing the white powder from being exposed.

なお、フレキシブル配線板のカバーレイ材として使用されるポリイミド組成物は、1GPa以上の高い弾性率を必要とせず、むしろ低弾性を得るためにポリイミド化合物のジアミン成分の一部にシロキサンジアミンが使用される。このシロキサンジアミンの使用によりポリイミド層全体は低弾性化し、その結果PCT試験(プレッシャークッカー試験)を必須とする用途に用いられることは少なくなるが、加水分解が全くなくなるわけではない。   In addition, the polyimide composition used as the coverlay material of the flexible wiring board does not require a high elastic modulus of 1 GPa or more, but rather siloxane diamine is used as a part of the diamine component of the polyimide compound in order to obtain low elasticity. The By using this siloxane diamine, the entire polyimide layer has a low elasticity, and as a result, it is rarely used for applications requiring a PCT test (pressure cooker test), but it does not completely eliminate hydrolysis.

本発明において使用される酸二無水物は、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含む。このDSDAは、合成されるポリイミドのアルカリ溶解性を向上させることができる。このDSDAは、電気陰性度が大きい硫黄原子、酸素原子を有しており、これら原子が共役を介してイミドカルボニル炭素までおよび、塩基の求核攻撃を受けやすくなるため、アルカリ溶解性が向上するものであると考えられる。   The acid dianhydrides used in the present invention include 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride. This DSDA can improve the alkali solubility of the polyimide to be synthesized. This DSDA has sulfur and oxygen atoms with high electronegativity, and these atoms reach the imide carbonyl carbon through conjugation and are susceptible to base nucleophilic attack, so that alkali solubility is improved. It is thought to be a thing.

本発明において使用される他の酸二無数物は、例えば、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)、4,4'−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、3,4,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,4,3',4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA又はs−BPDA)、4,4'−オキシジフタル酸無水物(ODPA)、9,9−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン二無水物(BPF−PA)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等といった芳香族酸二無水物や脂環式酸二無水物が挙げられる。   Other acid dinumerators used in the present invention include, for example, pyromellitic dianhydride (PMDA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride (NTCDA), 4,4′- (Hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA), 3,4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,4,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid Anhydride (BPDA or s-BPDA), 4,4′-oxydiphthalic anhydride (ODPA), 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorene dianhydride (BPF-PA ), 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, etc. It said aromatic acid dianhydride and alicyclic acid dianhydride.

前記酸二無水物と反応し、ポリイミド化合物を生成させるジアミンは、現像性を高めるために、分子中にヒドロキシル基を有するものが用いられる。先願発明では、ポリイミドの溶解性向上の観点から、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BIS−AP−AF)を使用したが、本発明においては、3,3'−ジアミノ−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン(BSDA)を含むことを特徴とするポリイミド組成物を使用する。   As the diamine that reacts with the acid dianhydride to form a polyimide compound, one having a hydroxyl group in the molecule is used in order to improve developability. In the invention of the prior application, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (BIS-AP-AF) was used from the viewpoint of improving the solubility of polyimide. A polyimide composition characterized by comprising 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone (BSDA) is used.

このBSDAは、ヒドロキシル基とスルホン基を有することで、DSDAと同様に電気陰性度が大きな硫黄原子、酸素原子を有しており、その結果、高いアルカリ溶解性を示す。   Since this BSDA has a hydroxyl group and a sulfone group, it has a sulfur atom and an oxygen atom having a large electronegativity like DSDA, and as a result, exhibits high alkali solubility.

本発明のポリイミド組成物をフレキシブル配線板のカバーレイ材として使用する場合には、他のジアミン成分として、下記構造式1に示される、シロキサンジアミンを使用する。   When the polyimide composition of the present invention is used as a coverlay material for a flexible wiring board, a siloxane diamine represented by the following structural formula 1 is used as another diamine component.

上記構造式1中、R及びRは、置換されてもよいアルキレン基であるが、その具体例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基を挙げることができる。置換基としては、メチル基、エチル基、等の低級アルキル基、フェニル基等のアリール基を挙げることができる。なかでも、原材料の入手の容易さからトリメチレン基が望ましい。また、R及びRは同一であっても、互いに相違していてもよいが、原材料の入手が困難となることから同一である方が望ましい。 In the structural formula 1, R 1 and R 2 are alkylene groups which may be substituted. Specific examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, and a hexamethylene group. Can be mentioned. Examples of the substituent include a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, and an aryl group such as a phenyl group. Of these, a trimethylene group is desirable because of the availability of raw materials. R 1 and R 2 may be the same or different from each other, but they are preferably the same because it is difficult to obtain raw materials.

また、上記構造式1中、mは1〜30の整数であるが、好ましくは1〜20、より好ましくは2〜20の整数である。これは、mが0であると原材料の入手が困難となり、30を越えると、溶媒に混ざらず分離してしまうためである。一方、nは0〜20の整数であるが、好ましくは1〜20、より好ましくは1〜10の整数である。これは、nが1以上であると難燃性に優れたジフェニルシロキサン単位が導入されることになり、導入されない場合よりも難燃性が向上し、20を越えると低弾性への寄与が小さくなるためである。   Moreover, in said Structural Formula 1, m is an integer of 1-30, Preferably it is 1-20, More preferably, it is an integer of 2-20. This is because it is difficult to obtain raw materials when m is 0, and when m exceeds 30, the raw materials are separated without being mixed with the solvent. On the other hand, n is an integer of 0 to 20, preferably 1 to 20, more preferably an integer of 1 to 10. This is because when n is 1 or more, a diphenylsiloxane unit excellent in flame retardancy is introduced, the flame retardancy is improved as compared with the case where it is not introduced, and when it exceeds 20, the contribution to low elasticity is small. It is to become.

このようなジメチルシリレン骨格を有することで、本発明のポリイミド組成物層からなるカバーレイ層に好ましい低弾性を与え、その結果フレキシブル配線板の反りを小さくすることができる。   By having such a dimethylsilylene skeleton, preferable low elasticity is given to the coverlay layer formed of the polyimide composition layer of the present invention, and as a result, the warp of the flexible wiring board can be reduced.

特に、ジメチルシリレン骨格とジフェニルシリレン骨格とを有するシロキサンジアミンを使用したポリイミド組成物は、低弾性と難燃性を与え、フレキシブル配線板のカバーレイ材に好適である。このようなシロキサンジアミンの具体例としては、ジメチルシリレン骨格を有するKF−8010、ジメチルシリレン骨格及びジフェニルシリレン骨格を有するX−22−9409、X−22−1660B−3(いずれも信越化学工業製)を挙げることができる。   In particular, a polyimide composition using a siloxane diamine having a dimethylsilylene skeleton and a diphenylsilylene skeleton gives low elasticity and flame retardancy, and is suitable as a coverlay material for flexible wiring boards. Specific examples of such siloxane diamines include KF-8010 having a dimethylsilylene skeleton, X-22-9409 and X-22-1660B-3 having a dimethylsilylene skeleton and a diphenylsilylene skeleton (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Can be mentioned.

ジアミン中のBSDAは、30〜60モル%の範囲で使用される。BSDAが30モル%以上であると、DSDAと併用により好ましいアルカリ溶解性を示し、70モル%以内であると適度なアルカリ溶解性を維持できると共に現像条件を調整しやすい。   BSDA in diamine is used in the range of 30-60 mol%. When the BSDA is 30 mol% or more, preferable alkali solubility is exhibited when used in combination with DSDA, and when it is within 70 mol%, moderate alkali solubility can be maintained and development conditions can be easily adjusted.

一方、ジアミン中の上記シロキサンジアミンは、40〜70モル%の範囲で使用される。40%以上であれば反りが低く抑えられる効果がある。   On the other hand, the said siloxane diamine in diamine is used in 40-70 mol%. If it is 40% or more, there is an effect that warpage can be kept low.

なお、ジメチルジシリレン骨格のみを有するシロキサンジアミンは、ジアミン中のモル%が増加するに従い難燃性が低下する傾向があるが、ジフェニルシリレン骨格を有するシロキサンジアミンは、難燃性に与える影響が小さい。いずれのシロキサンジアミンであっても、70モル%以内であれば、低反りの効果を維持しながら、難燃性に影響を与えない効果がある。   In addition, although the siloxane diamine having only the dimethyldisilylene skeleton tends to decrease in flame retardancy as the mol% in the diamine increases, the siloxane diamine having a diphenylsilylene skeleton has a small effect on the flame retardancy. . Any siloxane diamine has an effect of not affecting the flame retardancy while maintaining the effect of low warpage as long as it is within 70 mol%.

ところで、ポリイミドのモノマーとしてヒドロキシル基を有するジアミンを使用することで、アルカリ溶液への溶解性が向上する。本発明においては、下記で説明するように感光剤を使用することで、露光した部分にアルカリ溶解性を付与するようにしているが、露光されていない部分もアルカリ溶液によってポリイミドの一部が加水分解を受けてしまい、ポリイミド表面に白粉を表出させてしまう。   By the way, the solubility to an alkaline solution improves by using the diamine which has a hydroxyl group as a monomer of a polyimide. In the present invention, as described below, a photosensitive agent is used to impart alkali solubility to the exposed part. However, in the unexposed part, part of the polyimide is hydrolyzed by the alkaline solution. It will be decomposed and white powder will be exposed on the polyimide surface.

ここで、ヒドロキシル基を有するジアミンを使用したポリイミドへのアルカリ溶液による影響について説明する。まず、上記のBIS−AP−AFとPMDA又はBPDAとを使用してそれぞれ形成されたポリイミドをフィルム状とした。比較として、2,2'−ビストリフルオロメチル−4,4'−ジアミノビフェニル(TFMB)とPMDA又はBPDAとを使用してそれぞれ形成されたポリイミドをフィルム状とした。そして、この4種類のポリイミドフィルムのアルカリ溶液への浸漬の前後の赤外線吸収スペクトルを測定した。アルカリ溶液への浸漬は、室温下でおこなわれ、3wt%の水酸化ナトリウム溶液が使用され、この溶液に所定時間浸漬させて行われた。そして、アルカリ溶液に浸漬させたポリイミドフィルムは、蒸留水で洗浄し、乾燥させた後、赤外線吸収スペクトルを測定した。BIS−AP−AFとPMDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルを図1に示し、BIS―AP―AFとBPDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルを図2に示し、TFMBとPMDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルを図3に示し、TFMBとBPDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルを図4に示す。   Here, the influence of the alkali solution on the polyimide using the diamine having a hydroxyl group will be described. First, polyimides respectively formed using the BIS-AP-AF and PMDA or BPDA were formed into a film. As a comparison, a polyimide formed using 2,2′-bistrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl (TFMB) and PMDA or BPDA, respectively, was formed into a film. And the infrared absorption spectrum before and behind immersion to the alkaline solution of these four types of polyimide films was measured. The immersion in the alkaline solution was performed at room temperature, and a 3 wt% sodium hydroxide solution was used, and the immersion was performed for a predetermined time in this solution. And the polyimide film immersed in the alkaline solution was washed with distilled water and dried, and then the infrared absorption spectrum was measured. The infrared absorption spectrum of polyimide by BIS-AP-AF and PMDA is shown in FIG. 1, the infrared absorption spectrum of polyimide by BIS-AP-AF and BPDA is shown in FIG. 2, and the red color of polyimide by TFMB and PMDA. The external absorption spectrum is shown in FIG. 3, and the infrared absorption spectrum of polyimide by TFMB and BPDA is shown in FIG.

その結果、ヒドロキシル基を有するBIS−AP−AFを使用したポリイミドフィルムは、図1及び図2のように、イミドカルボニルを示すピーク(1778cm−1及び1730cm−1)がなくなり、アルカリ溶液への浸漬によってイミドカルボニルが消失していることが分かった。また、BSDAを使用したポリイミドフィルムも同様な結果であった。一方、ヒドロキシル基を有さないTFMBを使用したポリイミドフィルムは、図3及び図4のように、アルカリ溶液への浸漬前後でスペクトルの変化は見られなかった。これにより、ヒドロキシル基を有するジアミンを使用することで、アルカリ溶液によるポリイミドの加水分解が起き、その表面に白粉を表出させることがわかった。本発明は、ヒドロキシル基を有するジアミンを使用したポリイミドがアルカリ現像によって生成した加水分解物を架橋剤と反応させてポリイミドに固定化し、白粉の表出を防止することができるものである。 As a result, the polyimide film using BIS-AP-AF having a hydroxyl group has no peaks (1778 cm −1 and 1730 cm −1 ) indicating imide carbonyl as shown in FIG. 1 and FIG. 2 and is immersed in an alkaline solution. It was found that imidocarbonyl disappeared. The same results were obtained with a polyimide film using BSDA. On the other hand, as for the polyimide film using TFMB which does not have a hydroxyl group, the change of the spectrum was not seen before and after immersion in an alkaline solution like FIG.3 and FIG.4. Thus, it was found that by using a diamine having a hydroxyl group, hydrolysis of polyimide by an alkaline solution occurred, and white powder was exposed on the surface. In the present invention, a hydrolyzate produced by alkali development of a polyimide using a diamine having a hydroxyl group is reacted with a crosslinking agent to be immobilized on the polyimide, thereby preventing the appearance of white powder.

同様の効果を示すジアミンとして、4,4'−ジアミノ−3,3'−ビフェニルジオール(HAB)、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(BAHF)、3,3'−ジアミノ−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン(BSDA)等も用いることができるが、アルカリ現像性及び併用するシロキサンジアミンの効果を損なわない組み合わせとして本発明では少なくともBSDAを使用する。   As diamines having similar effects, 4,4′-diamino-3,3′-biphenyldiol (HAB), 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene (BAHF), 3,3 ′ -Diamino-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone (BSDA) or the like can also be used, but at least BSDA is used in the present invention as a combination that does not impair the alkali developability and the effect of the siloxane diamine used together.

ポリイミド組成物に含有されるポリイミド化合物は、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、γ−ブチロラクトン等の溶媒に上記のような酸二無水物とジアミンとを溶解させて溶媒中の酸二無水物とジアミンとを付加重合させた後、環化脱水反応(溶液中での加熱イミド化や脱水剤による化学イミド化)により生成する。ポリイミド前駆体中にトルエン、キシレン等の共沸剤を添加し、180℃以上に加熱撹拌することでポリアミック酸成分の脱水反応を行い、ポリアミック酸の一部又は全てを閉環したポリイミド成分を形成する。このとき、必要に応じてトリエチルアミン等の3級アミン、芳香族系イソキノリン、ピリジン等の塩基性触媒や、安息香酸、パラヒドロキシ安息香酸等の酸触媒をイミド化の触媒として添加してもよく、これらの化合物を単独で使用しても、複数の化合物を併用してもよい。また、脱水環化試薬である無水酢酸/ピリジン系やジシクロヘキシルカルボジイミド等の化学イミド化剤によってもポリアミック酸を閉環することができる。   The polyimide compound contained in the polyimide composition is obtained by dissolving the above acid dianhydride and diamine in a solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), triethylene glycol dimethyl ether (triglyme), or γ-butyrolactone. The acid dianhydride and the diamine in the solvent are subjected to addition polymerization, and then formed by a cyclization dehydration reaction (heat imidization in a solution or chemical imidation with a dehydrating agent). Add an azeotropic agent such as toluene or xylene into the polyimide precursor and heat and stir to 180 ° C. or higher to dehydrate the polyamic acid component to form a polyimide component in which part or all of the polyamic acid is closed. . At this time, if necessary, a tertiary amine such as triethylamine, a basic catalyst such as aromatic isoquinoline, pyridine, or an acid catalyst such as benzoic acid or parahydroxybenzoic acid may be added as a catalyst for imidation. These compounds may be used alone or a plurality of compounds may be used in combination. The polyamic acid can also be ring-closed by a chemical imidizing agent such as acetic anhydride / pyridine or dicyclohexylcarbodiimide which is a dehydrating cyclization reagent.

ポリイミド組成物には、感光剤が含有される。この感光剤の含有により、形成されるポリイミド組成物に感光性を付与することができる。その感光剤としては、例えば、ジアゾナフトキノン化合物が挙げられる。上記のジアゾナフトキノン化合物を含有したポリイミド組成物は、露光によりアルカリ溶解性が変化する。露光する前は、アルカリ水溶液への溶解性が低い。一方、露光された後は、ジアゾナフトキノン化合物の分子構造が変化してケテンが生じ、水と反応してカルボン酸が生じる。そして、生成したカルボン酸がアルカリ水溶液とさらに反応して溶解する。したがって、光照射することで、アルカリ水溶液への溶解性が高くなる。   The polyimide composition contains a photosensitizer. By containing this photosensitizer, photosensitivity can be imparted to the formed polyimide composition. Examples of the photosensitizer include a diazonaphthoquinone compound. The polyimide composition containing the diazonaphthoquinone compound changes its alkali solubility upon exposure. Before exposure, the solubility in an alkaline aqueous solution is low. On the other hand, after exposure, the molecular structure of the diazonaphthoquinone compound changes to produce ketene, which reacts with water to produce carboxylic acid. And the produced | generated carboxylic acid further reacts with alkaline aqueous solution, and melt | dissolves. Therefore, the solubility in alkaline aqueous solution becomes high by irradiating light.

感光剤であるジアゾナフトキノン化合物を含有することにより、ヒドロキシル基を有することでアルカリ溶解性が比較的高いポリイミド化合物は、このヒドロキシル基とジアゾナフトキノン化合物が水素結合する。これにより、アルカリに溶解し易いヒドロキシル基が保護され、アルカリ溶解性が低下する。この状態のポリイミド化合物に露光を行うと、ジアゾナフトキノン化合物の分子構造が変化し、アルカリ溶解性が発現する。したがって、感光剤としてジアゾナフトキノン化合物を含有させることで、フレキシブル配線板への露光後、水酸化ナトリウム(NaOH)、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)等のアルカリ水溶液によってパターンを形成することができる。   By containing a diazonaphthoquinone compound as a photosensitizer, a polyimide compound having a hydroxyl group and relatively high alkali solubility has a hydrogen bond between the hydroxyl group and the diazonaphthoquinone compound. Thereby, the hydroxyl group which is easily dissolved in alkali is protected, and the alkali solubility is lowered. When the polyimide compound in this state is exposed to light, the molecular structure of the diazonaphthoquinone compound changes and alkali solubility is exhibited. Therefore, by containing a diazonaphthoquinone compound as a photosensitizer, sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), etc. after exposure to the flexible wiring board. The pattern can be formed with an alkaline aqueous solution.

ポリイミド組成物にこの感光剤を含有させる量としては、ポリイミド化合物100重量部に対して、10重量部から30重量部であることが好ましい。また、下記で説明する架橋剤とを併用することで白粉の表出が抑制される。   The amount of the photosensitive composition contained in the polyimide composition is preferably 10 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyimide compound. Moreover, the expression of white powder is suppressed by using together with the crosslinking agent demonstrated below.

感光剤のジアゾナフトキノン化合物としては、ジアゾナフトキノン骨格を有する化合物であれば特に限定されるものではないが、例えば、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンo−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンo−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸エステル等が挙げられる。   The diazonaphthoquinone compound of the photosensitizer is not particularly limited as long as it is a compound having a diazonaphthoquinone skeleton. For example, 2,3,4-trihydroxybenzophenone o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester, 2 3,4-trihydroxybenzophenone o-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester, 2,3,4-trihydroxybenzophenone o-benzoquinonediazide-4-sulfonic acid ester, and the like.

ポリイミド組成物には、複数の官能基(例えばエポキシ基)を有する架橋剤が含有される。この架橋剤は、アルカリ溶液によるアルカリ現像後のポリイミド化合物の加水分解物と、約200℃といった比較的低い温度で付加反応を起こし、ポリイミドにその加水分解物を固定化することができる。具体的には、ポリイミド化合物は、アルカリ溶液により、末端にアミノ基やカルボン酸基を有する加水分解物が生成する。架橋剤は、複数の官能基を有しており、この官能基がアミノ基やカルボキシル基と反応し、切断された結合を架橋剤によって再び結合させて、加水分解物をポリイミドに固定化する。これにより、加水分解物が白粉としてポリイミド表面に表出することを防止することができる。この架橋剤の官能基としては、エポキシ基やマレイミド基が好ましい。エポキシ基やマレイミド基を複数有する官能基であれば、比較的低い温度でアミノ基やカルボキシル基を有する加水分解物と反応させることができ、フレキシブル配線板に用いられても他の部材への加熱による影響を少なくすることができる。   The polyimide composition contains a crosslinking agent having a plurality of functional groups (for example, epoxy groups). This cross-linking agent can cause an addition reaction with a hydrolyzate of a polyimide compound after alkali development with an alkali solution at a relatively low temperature such as about 200 ° C., thereby immobilizing the hydrolyzate on the polyimide. Specifically, a hydrolyzate having an amino group or a carboxylic acid group at the terminal is generated from the polyimide compound by an alkaline solution. The cross-linking agent has a plurality of functional groups, and this functional group reacts with an amino group or a carboxyl group, and the broken bond is re-bonded by the cross-linking agent to fix the hydrolyzate to the polyimide. Thereby, it can prevent that a hydrolyzate expresses on the polyimide surface as white powder. As a functional group of this crosslinking agent, an epoxy group or a maleimide group is preferable. If it is a functional group having a plurality of epoxy groups or maleimide groups, it can be reacted with a hydrolyzate having an amino group or a carboxyl group at a relatively low temperature, and heating to other members even when used for flexible wiring boards Can reduce the influence of.

また、この架橋剤により、銅箔等の導体とポリイミドとの密着性を向上させることができる。   Moreover, the adhesiveness between conductors, such as copper foil, and a polyimide can be improved with this crosslinking agent.

ポリイミド組成物にこの架橋剤を含有させる量としては、ポリイミド化合物100重量部に対して、20重量部以下であることが好ましい。架橋剤が20重量部以上含有させた場合、ポリイミド組成物の安定性が悪くなり、粘度が上昇してしまうため、ポリイミド組成物の取り扱いが悪くなる。また、感光性が低下してしまうため、アルカリ現像が難しくなる。また、エポキシ基もアルカリ水溶液による加水分解を起こすおそれがあるため、架橋効果を維持させるには、1重量部以上添加することが望ましいく、更に、ポリイミド組成物にこの架橋剤を含有させる量として、5重量部から10重量部であることがより好ましい。この範囲の量をポリイミド組成物に含有させることで、白粉の表出の防止とともに、形成されるポリイミド表面の劣化を防止することも可能となる。   As a quantity which makes this polyimide composition contain this crosslinking agent, it is preferable that it is 20 weight part or less with respect to 100 weight part of polyimide compounds. When the crosslinking agent is contained in an amount of 20 parts by weight or more, the stability of the polyimide composition is deteriorated and the viscosity is increased, so that the handling of the polyimide composition is deteriorated. Moreover, since photosensitivity falls, alkali development becomes difficult. In addition, since epoxy groups may also be hydrolyzed by an alkaline aqueous solution, it is desirable to add 1 part by weight or more in order to maintain the crosslinking effect, and further, the amount of the polyimide composition containing this crosslinking agent. More preferably, it is 5 to 10 parts by weight. By including the amount in this range in the polyimide composition, it is possible to prevent the white powder from appearing and to prevent the formed polyimide surface from deteriorating.

エポキシ基を有する架橋剤は、形成されるポリイミド組成物に対して相溶性がよいものであれば特に限定するものではないが、例えば下記のような化合物を挙げることができる。架橋剤としては、ビスF型エポキシ化合物、ビスA型エポキシ化合物、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化合物、フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル化合物、ジブロモネオペンチルグリコールグリシジルエーテル等のハロゲン化された難燃性エポキシ化合物、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。   The crosslinking agent having an epoxy group is not particularly limited as long as it has good compatibility with the polyimide composition to be formed, and examples thereof include the following compounds. Examples of the crosslinking agent include bis-type epoxy compounds, bis-A type epoxy compounds, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate and other alicyclic epoxy compounds, sorbitol polyglycidyl ether, poly Glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether , Hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, polyethylene glycol glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl Glycidyl ether compounds such as ether, hydroquinone diglycidyl ether, glycidyl ester compounds such as diglycidyl phthalate and glycidyl terephthalate, halogenated flame retardant epoxy compounds such as dibromoneopentylglycol glycidyl ether, cresol novolac epoxy resin And phenol novolac epoxy resins.

また、官能基としてマレイミド基を有する架橋剤としては、4,4'−ジフェニルメタンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3'−ジメチル−5,5'−ジエチル−4,4'−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド等が挙げられる。   Examples of the crosslinking agent having a maleimide group as a functional group include 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, polyphenylmethane maleimide, m-phenylene bismaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5. Examples include '-diethyl-4,4'-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide and the like.

ポリイミド組成物には、オキサジン化合物が含有されていてもよい。オキサジン化合物は、分子内のオキサジン骨格が熱によって開環し、硬化する。このオキサジン化合物を本発明のポリイミド組成物に含有させることで、架橋剤として作用し、ポリイミド組成物に難燃性と、銅等の金属に対する密着性を向上させることができる。その添加量は、例えばポリイミド化合物100重量部に対して、5重量部以下といった少量でよい。   The polyimide composition may contain an oxazine compound. In the oxazine compound, the oxazine skeleton in the molecule is opened by heat and cured. By containing this oxazine compound in the polyimide composition of the present invention, it acts as a crosslinking agent, and the flame retardancy and adhesion to a metal such as copper can be improved in the polyimide composition. The addition amount may be as small as 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyimide compound, for example.

このオキサジン化合物としては、例えば、ビスフェノールF型ベンゾオキサジン(6,6'−(1−メチリデン)ビス[3,4−ジヒドロ−3−フェニル−2H−1,3−ベンゾオキサジン])、ビスフェノールS型ベンゾオキサジン(6,6'−スルホニルビス[3,4−ジヒドロ−3−フェニル−2H−1,3−ベンゾオキサジン])、ビスフェノールA型ベンゾオキサジン(下記構造式2)、フェノールノボラック型ベンゾオキサジン(下記構造式3)等が挙げられる。   Examples of the oxazine compound include bisphenol F-type benzoxazine (6,6 ′-(1-methylidene) bis [3,4-dihydro-3-phenyl-2H-1,3-benzoxazine]), bisphenol S-type. Benzoxazine (6,6′-sulfonylbis [3,4-dihydro-3-phenyl-2H-1,3-benzoxazine]), bisphenol A type benzoxazine (the following structural formula 2), phenol novolac type benzoxazine ( The following structural formula 3) and the like can be mentioned.

ポリイミド組成物には、防錆剤が含有されていてもよい。この防錆剤としては、例えば、ヒドラジド系の金属不活性剤である2,3−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]プロピオノヒドラジド(CDA−10)が挙げられ、フレキシブル配線板に使用する場合に、金属と接触するポリイミド組成物の樹脂劣化を防止することができる。   The polyimide composition may contain a rust preventive agent. Examples of the rust preventive include 2,3-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] propionohydrazide (CDA-), which is a hydrazide-based metal deactivator. 10), and when used for a flexible wiring board, resin deterioration of the polyimide composition in contact with the metal can be prevented.

CDA−10以外の防錆剤としては、ヒドラジド系のものとしてデカメチレンカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド、トリアゾール系のものとして3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of rust preventives other than CDA-10 include decamethylenecarboxylic acid disalicyloyl hydrazide as hydrazide-based compounds, and 3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole as triazole-based compounds. However, it is not limited to these.

本発明のポリイミド組成物は、DSDA、BSDA、シロキサンジアミンの重合により合成されたポリイミド組成物がNMP及びGBL等に溶解した溶液に、感光剤、架橋剤を添加することで、形成することができる。   The polyimide composition of the present invention can be formed by adding a photosensitizer and a crosslinking agent to a solution in which a polyimide composition synthesized by polymerization of DSDA, BSDA, and siloxane diamine is dissolved in NMP, GBL or the like. .

そして、このポリイミド組成物中の溶媒を蒸発させた後、露光することで、ポリイミド組成物中の感光剤の構造を変化させ、露光を行った箇所のアルカリ溶解性を高める。そして、アルカリ溶液に浸漬させることで、露光を行った箇所を除去し、所定のパターン(ポジパターン)を形成する。   And after evaporating the solvent in this polyimide composition, by exposing, the structure of the photosensitive agent in a polyimide composition is changed, and the alkali solubility of the location which performed exposure is improved. And the location which exposed was removed by being immersed in an alkaline solution, and a predetermined pattern (positive pattern) is formed.

ポジパターンが形成されたポリイミド組成物の表面には、アルカリ溶液が残存する。このアルカリ溶液がポリイミド化合物を加水分解することで、アミノ基やカルボキシル基を有する加水分解物を生成させる。このとき、架橋剤がアミノ基やカルボキシル基と反応し、加水分解物をポリイミドに固定化する。また、アルカリ溶液に浸漬させた後、ポリイミド組成物を加熱することで、架橋剤と加水分解物との反応を促進することができ、十分に加水分解物をポリイミドに固定化することができる。   An alkaline solution remains on the surface of the polyimide composition on which the positive pattern is formed. This alkaline solution hydrolyzes the polyimide compound to produce a hydrolyzate having an amino group or a carboxyl group. At this time, a crosslinking agent reacts with an amino group or a carboxyl group, and a hydrolyzate is fixed to polyimide. Moreover, after immersing in an alkaline solution, reaction of a crosslinking agent and a hydrolyzate can be accelerated | stimulated by heating a polyimide composition, and a hydrolyzate can fully be fixed to a polyimide.

したがって、加水分解物が白粉となってポリイミド表面に表出することを防ぐことができる。したがって、アルカリ現像を行っても白粉の発生のないポリイミド組成物を製造することができる。   Therefore, it can prevent that a hydrolyzate becomes white powder and it exposes on the polyimide surface. Therefore, it is possible to produce a polyimide composition that does not generate white powder even when alkali development is performed.

このポリイミド組成物は、図5のようなフレキシブル配線板に使用することができる。この場合、基材2上に所定のパターンを有するように形成した銅等の導体4を覆うように、公知のコーティング法でポリイミド組成物を塗布する。そして、ポリイミド組成物を乾燥させて、導体4上にポリイミド層3(未硬化状態)を形成する。このフレキシブル配線板1に対して、ポリイミド層3の取り除きたい部分に光があたるようなマスク層を備えて露光後、アルカリ溶液への浸漬によるアルカリ現像を行い、ポリイミド層3を十分に加熱して硬化状態とすることで、所定のポジパターンが形成されたポリイミド層3を有するフレキシブル配線板1となる。なお、本発明において、硬化状態とは、ポリイミド層を加熱することで架橋剤によって完全にポリイミド骨格が架橋した状態のことを示し、未硬化状態とは、硬化状態にまだ至っていない状態でのことである。   This polyimide composition can be used for a flexible wiring board as shown in FIG. In this case, the polyimide composition is applied by a known coating method so as to cover the conductor 4 such as copper formed on the base material 2 so as to have a predetermined pattern. Then, the polyimide composition is dried to form the polyimide layer 3 (uncured state) on the conductor 4. The flexible wiring board 1 is provided with a mask layer that exposes light to a portion of the polyimide layer 3 to be removed, and after exposure, alkali development is performed by immersion in an alkaline solution, and the polyimide layer 3 is sufficiently heated. By setting the cured state, the flexible wiring board 1 having the polyimide layer 3 on which a predetermined positive pattern is formed is obtained. In the present invention, the cured state means that the polyimide skeleton is completely crosslinked by the crosslinking agent by heating the polyimide layer, and the uncured state is a state that has not yet reached the cured state. It is.

このフレキシブル配線板1にアルカリ現像で除去されずに残されたポリイミド層2は、アルカリ溶液によって生成した加水分解物を架橋剤によってポリイミドに固定化する。したがって、アルカリ現像を行っても白粉の発生のないフレキシブル配線板を製造することができる。アルカリ現像後、フレキシブル配線板1を加熱することで、架橋剤と加水分解物との反応を促進することができ、十分に加水分解物を固定化することができる。このとき、架橋剤は、比較的低い温度で反応が進行するため、高温での加熱による他の部材への影響を少なくすることができる。   The polyimide layer 2 left on the flexible wiring board 1 without being removed by alkali development fixes the hydrolyzate produced by the alkaline solution to the polyimide by a crosslinking agent. Therefore, it is possible to produce a flexible wiring board that does not generate white powder even when alkali development is performed. By heating the flexible wiring board 1 after alkali development, the reaction between the crosslinking agent and the hydrolyzate can be promoted, and the hydrolyzate can be sufficiently immobilized. At this time, since the reaction of the crosslinking agent proceeds at a relatively low temperature, the influence on other members due to heating at a high temperature can be reduced.

また、このポリイミド組成物を利用したフレキシブル配線板1は、露光後のアルカリ現像によって所定のポジパターンを形成でき、白粉の表出のない配線板となる。そして、この配線板を電子部品に使用することで、信頼性の高い電子部品を提供することができる。   Moreover, the flexible wiring board 1 using this polyimide composition can form a predetermined positive pattern by alkali development after exposure, and becomes a wiring board free from white powder. And by using this wiring board for an electronic component, a highly reliable electronic component can be provided.

[実施例]
(ポリイミド組成物の作成)
[実施例1]
137.47g(100.48mmol)、のシロキサンジアミンであるX−22−9409(信越化学工業(株)製)、16.41g(純度99.5%、58.26mmol)のBSDAをDean−Starkを取り付けた500mlの四口セパラブルフラスコに投入し、窒素雰囲気下N−メチルピロドン238.5gで完全に溶解させた。その後、57.62g(純度99.7%、160.33mmol)のDSDAを加え、80℃で2時間攪拌させた後、イミド化縮合水を除去するための共沸剤トルエンを70mlを加え、オイルバスにて180℃で5時間攪拌保持還流させ、目的物を得た。
[Example]
(Preparation of polyimide composition)
[Example 1]
137.47 g (100.48 mmol) of siloxane diamine X-22-9409 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 16.41 g (purity 99.5%, 58.26 mmol) of BSDA was added to Dean-Stark. The solution was put into a 500 ml four-necked separable flask attached and completely dissolved with 238.5 g of N-methylpyrodon under a nitrogen atmosphere. Thereafter, 57.62 g (purity 99.7%, 160.33 mmol) of DSDA was added, and after stirring at 80 ° C. for 2 hours, 70 ml of toluene, an azeotropic agent for removing imidized condensed water, was added, The mixture was stirred and refluxed at 180 ° C. for 5 hours in a bath to obtain the desired product.

上記得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部、及びビスマレイミド系架橋剤(BMI−4000、大和化成工業製)10重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。   15 parts by weight of a diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and a bismaleimide-based crosslinking agent (BMI-4000, Yamato) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the obtained polyimide compound solution 10 parts by weight of Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to complete the target polyimide composition.

[実施例2]
143.34g(104.78mmol)、のシロキサンジアミンであるX−22−9409(信越化学工業(株)製)、18.71g(純度99.5%、66.41mmol)のBSDAをDean−Starkを取り付けた500mlの四口セパラブルフラスコに投入し、窒素雰囲気下N−メチルピロドン229.5gで完全に溶解させた。その後、58.45g(純度99.7%、162.65mmol)のDSDAを加え、80℃で2時間攪拌させた後、イミド化縮合水を除去するための共沸剤トルエン70ml加え、オイルバスにて180℃で5時間攪拌保持還流させ、目的物を得た。
[Example 2]
143.34 g (104.78 mmol) of siloxane diamine X-22-9409 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 18.71 g (purity 99.5%, 66.41 mmol) of BSDA was added to Dean-Stark. The solution was put into a 500 ml four-necked separable flask attached and completely dissolved with 229.5 g of N-methylpyrodon under a nitrogen atmosphere. Then, 58.45 g (purity 99.7%, 162.65 mmol) of DSDA was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours, and then 70 ml of an azeotropic agent toluene for removing imidized condensed water was added to the oil bath. The mixture was stirred and refluxed at 180 ° C. for 5 hours to obtain the desired product.

上記得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部、及びビスマレイミド系架橋剤(BMI−4000、大和化成工業製)10重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。   15 parts by weight of a diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and a bismaleimide-based crosslinking agent (BMI-4000, Yamato) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the obtained polyimide compound solution 10 parts by weight of Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to complete the target polyimide composition.

[実施例3]
106.41g(77.78mmol)、のシロキサンジアミンであるX−22−9409(信越化学工業(株)製)、25.72g(純度99.5%、91.30mmol)のBSDAをDean−Starkを取り付けた500mlの四口セパラブルフラスコに投入し、窒素雰囲気下N−メチルピロドン256.5gで完全に溶解させた。その後、61.37g(純度99.7%、170.77mmol)のDSDAを加え、80℃で2時間攪拌させた後、イミド化縮合水を除去するための共沸剤トルエン70ml加え、オイルバスにて180℃で5時間攪拌保持還流させ、目的物を得た。
[Example 3]
106.41 g (77.78 mmol) of siloxane diamine X-22-9409 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 25.72 g (purity 99.5%, 91.30 mmol) of BSDA was added to Dean-Stark. The solution was put into a 500 ml four-necked separable flask attached and completely dissolved with 256.5 g of N-methylpyrodon under a nitrogen atmosphere. Thereafter, 61.37 g (purity 99.7%, 170.77 mmol) of DSDA was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours, and then 70 ml of an azeotropic agent toluene for removing imidized condensed water was added to the oil bath. The mixture was stirred and refluxed at 180 ° C. for 5 hours to obtain the desired product.

上記得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部、及びビスマレイミド系架橋剤(BMI−4000、大和化成工業製)10重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。   15 parts by weight of a diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and a bismaleimide-based crosslinking agent (BMI-4000, Yamato) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the obtained polyimide compound solution 10 parts by weight of Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to complete the target polyimide composition.

[実施例4]
121.31g(88.67mmol)のシロキサンジアミンであるX−22−9409(信越化学工業(株)製)、31.16g(純度99.5%、110.61mmol)のBSDAをDean−Starkを取り付けた500mlの四口セパラブルフラスコに投入し、窒素雰囲気下N−メチルピロドン229.5gで完全に溶解させた。その後、68.03g(純度99.7%、189.30mmol)のDSDAを加え、80℃で2時間攪拌させた後、イミド化縮合水を除去するための共沸剤トルエン70ml加え、オイルバスにて180℃で5時間攪拌保持還流させ、目的物を得た。
[Example 4]
121.31 g (88.67 mmol) of siloxane diamine X-22-9409 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 31.16 g (purity 99.5%, 110.61 mmol) of BSDA attached to Dean-Stark The solution was poured into a 500 ml four-necked separable flask and completely dissolved with 229.5 g of N-methylpyrodon under a nitrogen atmosphere. Then, 68.03 g (purity 99.7%, 189.30 mmol) of DSDA was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours, and then 70 ml of an azeotropic agent toluene for removing imidized condensed water was added to the oil bath. The mixture was stirred and refluxed at 180 ° C. for 5 hours to obtain the desired product.

上記得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部、及びビスマレイミド系架橋剤(BMI−4000、大和化成工業製)10重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。   15 parts by weight of a diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and a bismaleimide-based crosslinking agent (BMI-4000, Yamato) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the obtained polyimide compound solution 10 parts by weight of Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to complete the target polyimide composition.

[実施例5]
実施例1で得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部及びビスF型エポキシ樹脂(807、ジャパンエポキシレジン(株)製)を5重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。
[Example 5]
15 parts by weight of diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and bis-F type epoxy resin (807, Japan) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the polyimide compound solution obtained in Example 1 5 parts by weight of Epoxy Resin Co., Ltd.) was added to complete the target polyimide composition.

[比較例1]
137.44g(100.46mmol)のシロキサンジアミンであるX−22−9409(信越化学工業(株)製)、18.98g(純度99.0%、51.30mmol)のBIS−AP−AFをDean−Starkを取り付けた500mlの四口セパラブルフラスコに投入し、窒素雰囲気下N−メチルピロドン238.5gで完全に溶解させた。その後、55.08g(純度99.7%、153.27mmol)のDSDAを加え、80℃で2時間攪拌させた後、イミド化縮合水を除去するための共沸剤トルエン70ml加え、オイルバスにて180℃で5時間攪拌保持還流させ、目的物を得た。
[Comparative Example 1]
137.44 g (100.46 mmol) of siloxane diamine, X-22-9409 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 18.98 g (purity 99.0%, 51.30 mmol) of BIS-AP-AF was added to Dean. -It was put into a 500 ml four-necked separable flask equipped with Stark, and completely dissolved with 238.5 g of N-methylpyrodon under a nitrogen atmosphere. Thereafter, 55.08 g (purity 99.7%, 153.27 mmol) of DSDA was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours, and then 70 ml of an azeotropic agent toluene for removing imidized condensed water was added to the oil bath. The mixture was stirred and refluxed at 180 ° C. for 5 hours to obtain the desired product.

上記得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部、及びビスマレイミド系架橋剤(BMI−4000、大和化成工業製)10重量部添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。   15 parts by weight of a diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) and a bismaleimide-based crosslinking agent (BMI-4000, Yamato) with respect to 100 parts by weight of the solid content of the obtained polyimide compound solution 10 parts by weight of Kasei Kogyo Co., Ltd. was added to complete the target polyimide composition.

[比較例2]
比較例1により得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)15重量部を添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。
[Comparative Example 2]
15 parts by weight of diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) is added to 100 parts by weight of the solid content of the polyimide compound solution obtained in Comparative Example 1, and the target polyimide composition is obtained. Completed.

[比較例3]
実施例1で得られたポリイミド化合物溶液の固形分100重量部に対し、ジアゾナフトキノン感光剤(4NT−300、東洋合成工業(株)製)を15重量部を添加して、目的のポリイミド組成物を完成させた。
[Comparative Example 3]
15 parts by weight of diazonaphthoquinone photosensitizer (4NT-300, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) is added to 100 parts by weight of the solid content of the polyimide compound solution obtained in Example 1, and the target polyimide composition is added. Was completed.

(現像性の確認)
実施例1乃至実施例4及び比較例1のポリイミド組成物を予め0.3μm相当の化学研磨処理を施した銅箔の片面に10μmとなるように塗布し、80℃10分で乾燥させた。
(Confirm development)
The polyimide compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were applied to one side of a copper foil that had been subjected to a chemical polishing treatment corresponding to 0.3 μm in advance to a thickness of 10 μm, and dried at 80 ° C. for 10 minutes.

次いで、解像度評価用のポジマスク(300μm/300μmのライン&スペースパターン)を介して超高圧水銀ランプを2500mJ/cmの積算光量にて露光を行い、水酸化ナトリウム3wt%40℃水溶液もしくは、炭酸ナトリウム1wt%40℃水溶液に浸漬し、その後40℃の温水で2分間浸漬することによりアルカリ現像を行なった。その後、蒸留水で十分に洗浄し乾燥させて一連の現像プロセスを完結させた。現像性の評価は、300μm/300μmのライン&スペースが開口した時の浸漬最小時間により評価した。なお、浸漬時間が短いほど好適である。 Next, an ultrahigh pressure mercury lamp is exposed with a cumulative light amount of 2500 mJ / cm 2 through a positive mask for resolution evaluation (300 μm / 300 μm line & space pattern), and 3 wt% sodium hydroxide 40 ° C. aqueous solution or sodium carbonate The substrate was immersed in a 1 wt% 40 ° C. aqueous solution and then immersed in warm water at 40 ° C. for 2 minutes for alkali development. Thereafter, it was thoroughly washed with distilled water and dried to complete a series of development processes. The developability was evaluated by the minimum immersion time when a 300 μm / 300 μm line & space was opened. In addition, it is so suitable that immersion time is short.

実施例1乃至実施例4のBSDA系ポリイミド組成物は、表1の通り、いずれも30秒以内の短い時間で、アルカリ現像することができる。また、実施例4については、炭酸ナトリウム系アルカリ水溶液に対しても現像することが可能となり作業性の向上が見込める。一方、実施例1と比較例1を比較した場合、BIS−AP−AF系ポリイミドは、BSDA系ポリイミドに比べて現像時間が長く、作業性が悪いことがわかる。   As shown in Table 1, the BSDA polyimide compositions of Examples 1 to 4 can be alkali-developed in a short time of 30 seconds or less. Moreover, about Example 4, it can develop also with respect to sodium carbonate type aqueous alkali solution, and the improvement of workability | operativity can be anticipated. On the other hand, when Example 1 and Comparative Example 1 are compared, it can be seen that BIS-AP-AF type polyimide has a longer development time than BSDA type polyimide and has poor workability.

(白粉の確認試験)
実施例1乃至実施例4並びに比較例1乃至比較例3のポリイミド組成物を予め0.3μm相当の化学研磨処理を施した評価用銅パターン(TEG)(35μm/35μmのライン&スペースパターン)基材上に10μmとなるように塗布し80℃10分で乾燥させカバー層を形成した。
(White powder confirmation test)
Copper pattern for evaluation (TEG) (35 μm / 35 μm line and space pattern) base obtained by subjecting the polyimide compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 to a chemical polishing treatment equivalent to 0.3 μm in advance It was applied on the material so as to have a thickness of 10 μm and dried at 80 ° C. for 10 minutes to form a cover layer.

次いで、ポジマスクを介して超高圧水銀ランプを2500mJ/cmの積算光量にて露光を行い、「現像性の確認」で評価した浸漬時間にて水酸化ナトリウム3wt%40℃水溶液へ浸漬し、その後40℃の温水で2分間浸漬することによりアルカリ現像を行なった。その後、蒸留水で十分に洗浄し乾燥させて一連の現像プロセスを完結させた。そのカバー層つきTEGを200℃1時間ポストベークした後放冷した。 Next, an ultra-high pressure mercury lamp is exposed through a positive mask with an integrated light amount of 2500 mJ / cm 2 and immersed in a 3 wt% sodium hydroxide 40 ° C. aqueous solution for the immersion time evaluated in “Confirmation of developability”. Alkali development was performed by immersing in warm water at 40 ° C. for 2 minutes. Thereafter, it was thoroughly washed with distilled water and dried to complete a series of development processes. The TEG with the cover layer was post-baked at 200 ° C. for 1 hour and then allowed to cool.

得られたTEGに配線を繋ぎ、85℃85%環境下にて30V印加して1000時間イオンマイグレーション試験を実施した。   Wiring was connected to the obtained TEG, and an ion migration test was performed for 1000 hours by applying 30 V in an environment of 85 ° C. and 85%.

実施例1乃至実施例5および比較例1は、架橋剤であるビスマレイミド(BMI−4000)または、エポキシ樹脂(Bis−F型)を入れることで白粉の発生を抑え込めることがわかる。   In Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, it can be seen that generation of white powder can be suppressed by adding bismaleimide (BMI-4000) or an epoxy resin (Bis-F type) as a crosslinking agent.

なお、表1は、実施例1乃至実施例5および比較例1乃至比較例3に従って合成したポリイミド化合物のジカルボン酸成分とジアミン成分との組成とそれに対する数値が表示されているが、それらの数値は、全ジアミン成分(X−22−9409、BSDA及びBIS−AP−AF)を合算して100モルとしたときの、それぞれの成分(即ち、DSDA、X−22−9409、BSDA、及びBIS−AP−AF)のモル数を表している。   In Table 1, the composition of the dicarboxylic acid component and the diamine component of the polyimide compounds synthesized according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 and the numerical values corresponding thereto are displayed. Are all components (ie, DSDA, X-22-9409, BSDA, and BIS-) when all diamine components (X-22-9409, BSDA and BIS-AP-AF) are combined to make 100 moles. AP-AF).

(難燃性)
平坦な25μm厚みのポリイミドフィルム(Upilex 25S、宇部興産(株)製)に実施例1のポリイミド組成物を乾燥厚みが10μmとなるように両面塗布し、80℃で10分間乾燥させた。次いで、窒素雰囲気下200℃で1時間加熱し、ポリイミド組成物の架橋を完結させた。得られたポリイミドフィルム片の燃焼試験を行ったところ、UL−94−VTM―0を満足した。
(Flame retardance)
The polyimide composition of Example 1 was coated on a flat 25 μm-thick polyimide film (Upilex 25S, Ube Industries, Ltd.) so that the dry thickness was 10 μm, and dried at 80 ° C. for 10 minutes. Subsequently, it heated at 200 degreeC under nitrogen atmosphere for 1 hour, and bridge | crosslinking of the polyimide composition was completed. When the combustion test of the obtained polyimide film piece was performed, UL-94-VTM-0 was satisfied.

BIS−AP−AFとPMDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of polyimide by BIS-AP-AF and PMDA. BIS―AP―AFとBPDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of polyimide by BIS-AP-AF and BPDA. TFMBとPMDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of polyimide by TFMB and PMDA. TFMBとBPDAとによるポリイミドの赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of polyimide by TFMB and BPDA. 本発明のフレキシブル配線板の断面図である。It is sectional drawing of the flexible wiring board of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 フレキシブル配線板
2 基材
3 ポリイミド層
4 導体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible wiring board 2 Base material 3 Polyimide layer 4 Conductor

Claims (8)

酸二無水物と、ヒドロキシル基を有するジアミンとの反応によって得られるポリイミド化合物と、
感光剤と、
架橋剤とを含有することを特徴とするポリイミド組成物であって、
酸二無水物が3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含み、
ヒドロキシル基を有するジアミンが3,3'−ジアミノ−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含むことを特徴とするポリイミド組成物。
A polyimide compound obtained by reacting an acid dianhydride with a diamine having a hydroxyl group;
A photosensitizer,
A polyimide composition comprising a crosslinking agent,
The acid dianhydride comprises 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride,
A polyimide composition, wherein the diamine having a hydroxyl group comprises 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone.
ジアミンは、下記構造式1
(上記構造式1中のmは1以上の整数であり、nは0又は1以上の整数であり、R及びRは、それぞれ独立に置換されていてもよいアルキレン基である)で示されるシロキサンジアミンを含むことを特徴とする請求項1記載のポリイミド組成物。
Diamine has the following structural formula 1
(In the structural formula 1, m is an integer of 1 or more, n is 0 or an integer of 1 or more, and R 1 and R 2 are each independently an optionally substituted alkylene group) The polyimide composition according to claim 1, comprising a siloxane diamine.
前記架橋剤は、複数のエポキシ基又はマレイミド基を有することを特徴とする請求項1記載のポリミド化合物。   The polyimide compound according to claim 1, wherein the crosslinking agent has a plurality of epoxy groups or maleimide groups. 前記架橋剤は、前記ポリイミド化合物に対して20重量部以下含有されることを特徴とする請求項1記載のポリミド組成物。   The polyimide composition according to claim 1, wherein the crosslinking agent is contained in an amount of 20 parts by weight or less based on the polyimide compound. 前記架橋剤は、前記ポリイミド化合物に対して5重量部以上10重量部以下の範囲で含有されていることを特徴とする請求項1記載のポリミド組成物。   The polyimide composition according to claim 1, wherein the crosslinking agent is contained in an amount of 5 parts by weight or more and 10 parts by weight or less based on the polyimide compound. 導体と、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のポリイミド組成物が塗布されて形成されたポリイミド組成物層を有することを特徴とするカバーレイ付きフレキシブル配線板。   A flexible wiring board with a coverlay, comprising a conductor and a polyimide composition layer formed by applying the polyimide composition according to any one of claims 1 to 5. 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のポリイミド組成物を調整する工程と、
前記ポリイミド組成物を導体に塗布して、ポリイミド層を形成する工程と、
前記ポリイミド層を露光後、前記アルカリ溶液で処理し、所定のパターンを形成する工程とを有することを特徴とするカバーレイ付きフレキシブル配線板の製造方法。
Adjusting the polyimide composition according to any one of claims 1 to 5,
Applying the polyimide composition to a conductor to form a polyimide layer;
And a step of forming a predetermined pattern by exposing the polyimide layer to the alkaline solution after exposure.
アルカリ溶液で処理した後、加熱することで、前記アルカリ溶液による前記ポリイミド化合物の加水分解で生成した加水分解物と前記架橋剤と反応させることを特徴とする請求項7記載のカバーレイ付きフレキシブル配線板の製造方法。   The flexible wiring with coverlay according to claim 7, wherein after the treatment with an alkaline solution, the hydrolyzate generated by hydrolysis of the polyimide compound with the alkaline solution is reacted with the crosslinking agent by heating. A manufacturing method of a board.
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