JP5354443B2 - Polyimide ink composition, protective film, and flexible printed wiring board - Google Patents

Polyimide ink composition, protective film, and flexible printed wiring board Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide ink composition forming a protective film that satisfies recent requirements and has a low modulus of elasticity and a small warpage even in the case in which a small amount of expensive monomer such as OPDA is used, forming a protective film hardly causing whitening on a protective film in gold plating and bad condition of plating adhesion etc., and satisfying other properties required for FPC protective film such as sufficient flame retardance etc., by printing. <P>SOLUTION: The polyimide ink composition comprises a soluble polyimide resin being a condensation product of a diamine component containing a silicone diamine and an aromatic tricarboxylic acid dianhydride, a solvent dissolving the soluble polyimide resin in which the composition ratio of the silicone diamine in the diamine component is &ge;66 wt.% and &le;80 wt.%. The protective film is formed from the polyimide ink composition. The flexible printed wiring board is equipped with the protective film. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、フレキシブルプリント配線板の保護膜の形成等に用いられるポリイミドインク組成物に関するものである。本発明は、さらに、該ポリイミドインク組成物により形成され、フレキシブルプリント配線板の配線等を保護する保護膜、及び該保護膜が設けられたフレキシブルプリント配線板に関する。   The present invention relates to a polyimide ink composition used for forming a protective film of a flexible printed wiring board. The present invention further relates to a protective film that is formed of the polyimide ink composition and protects the wiring of the flexible printed wiring board, and a flexible printed wiring board provided with the protective film.

フレキシブルプリント配線板(以下FPCと言う。)は、その外表面に、配線(銅箔パターン等)を保護するための保護膜(カバーレイ)を設ける場合が多い。近年、より耐熱性に優れた保護膜が望まれており、そこで耐熱性に優れるポリイミド樹脂からなる保護膜が提案されている。   In many cases, a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as FPC) is provided with a protective film (coverlay) for protecting wiring (copper foil pattern or the like) on its outer surface. In recent years, a protective film having higher heat resistance has been desired, and a protective film made of a polyimide resin having higher heat resistance has been proposed.

このポリイミドからなる保護膜を形成する方法として、例えば、ポリイミドフイルムからなるカバーレイフイルムを配線板上にラミネートする方法が広く用いられているが、ポリイミドインクを配線板上に印刷(塗布、乾燥)する方法も、保護膜の生産の容易さより、採用されている。   As a method for forming a protective film made of polyimide, for example, a method of laminating a cover lay film made of polyimide film on a wiring board is widely used, but polyimide ink is printed on the wiring board (coating and drying). This method is also adopted because of the ease of production of the protective film.

ポリイミドインクとしては、ポリアミック酸を含有し、配線板への塗布後加熱閉環(イミド化)して保護膜を形成するものも知られているが、このインクを使用した場合は、加熱閉環イミド化するために通常300℃以上の高温にする必要があり、配線板の基材がこの高温に耐えることができない場合がある。またイミド化時に形成されるポリイミドの収縮が大きく配線板がカールする問題等を生じやすい。そこで、溶剤に可溶なポリイミド(可溶性ポリイミド樹脂)を溶媒に溶解してなるポリイミドインク組成物を使用する方法が、WO2005/116152号公報(特許文献1、請求項1)等で提案されている。   Polyimide inks are also known that contain polyamic acid and form a protective film by heat ring closure (imidization) after application to the wiring board. When this ink is used, heat ring closure imidization is also known. In order to achieve this, it is usually necessary to raise the temperature to 300 ° C. or higher, and the substrate of the wiring board may not be able to withstand this high temperature. In addition, the polyimide formed during imidation has a large shrinkage and is likely to cause a problem that the wiring board is curled. Therefore, a method of using a polyimide ink composition obtained by dissolving a solvent-soluble polyimide (soluble polyimide resin) in a solvent is proposed in WO 2005/116152 (Patent Document 1, Claim 1) and the like. .

特許文献1では、可溶性ポリイミド樹脂として、芳香族テトラカルボン酸二無水物と、骨格にシロキサン基を有するシリコーンジアミンを含有するジアミン成分との重縮合物が開示されている(請求項1等)。そして、該ジアミン成分中に、シリコーンジアミンを15〜85重量%含有させた可溶性ポリイミド樹脂を使用することにより、基板の反りを防ぎ、良好な可撓性(低弾性率)、基板との密着性、耐熱性を有する保護膜が得られることが記載されている(段落0021)。   Patent Document 1 discloses a polycondensate of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and a diamine component containing a silicone diamine having a siloxane group in the skeleton as a soluble polyimide resin (Claim 1). And, by using a soluble polyimide resin containing 15 to 85% by weight of silicone diamine in the diamine component, the warpage of the substrate is prevented, good flexibility (low elastic modulus), and adhesion to the substrate. Describes that a heat-resistant protective film can be obtained (paragraph 0021).

又、近年、電気・電子機器等の分野において、より高度な難燃性が望まれる場合も多くなり、FPCについても、UL−94V−0(米国アンダーライターズラボラトリー規格)に適合するような難燃性が要求される場合も多い。そこで、前記ポリイミドインク組成物としても、難燃剤を添加して難燃性を付与したものが使用されている。そして難燃剤としては、環境上の要請から非ハロゲン系(ハロゲンフリー)の難燃剤が望まれている。このような要請を満たすものとして、特許文献1には、可溶性ポリイミド樹脂の溶液からなり、水酸化マグネシウム等の水和金属化合物等の無機難燃剤が添加されたポリイミドインク組成物が開示されている(段落0014)。
WO2005/116152号公報(請求項1、段落0014及び段落0021)
In recent years, more and more flame retardancy is desired in the fields of electrical and electronic equipment, and it is difficult for FPC to meet UL-94V-0 (US Underwriters Laboratory Standard). In many cases, flammability is required. Therefore, as the polyimide ink composition, a flame retardant added to impart flame retardancy is used. As a flame retardant, a non-halogen (halogen-free) flame retardant is desired due to environmental requirements. In order to satisfy such a requirement, Patent Document 1 discloses a polyimide ink composition comprising a solution of a soluble polyimide resin and added with an inorganic flame retardant such as a hydrated metal compound such as magnesium hydroxide. (Paragraph 0014).
WO 2005/116152 (Claim 1, paragraphs 0014 and 0021)

しかし、前記従来のポリイミドインク組成物より得られる保護膜は、無機難燃剤が含まれることにより高弾性率になり、柔軟性が低下して反りを十分に防止できない問題を有する。従って、低弾性率化、反り防止に関する近年の要請を十分満たすものではなく、その向上が望まれている。   However, the protective film obtained from the conventional polyimide ink composition has a problem in that it has a high elastic modulus due to the inclusion of an inorganic flame retardant, and the flexibility is lowered and warping cannot be sufficiently prevented. Therefore, it does not sufficiently satisfy the recent demands for lowering the elastic modulus and preventing warping, and improvements are desired.

保護膜の弾性率の低下、反りの低減は、ポリイミドを構成する酸モノマー(芳香族テトラカルボン酸二無水物等)として4,4’−オキシジフタル酸二無水物(以後、OPDAと言う。)等を使用することによりある程度達成できる。しかし、OPDAは高価であり、このような高価なモノマーの使用量が少ない場合であっても、低弾性率で反りの小さい保護膜を得ることができるポリイミドインク組成物が望まれていた。   The reduction of the elastic modulus and the warpage of the protective film is achieved by using 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (hereinafter referred to as OPDA) as an acid monomer (aromatic tetracarboxylic dianhydride or the like) constituting the polyimide. This can be achieved to some extent by using. However, OPDA is expensive, and there has been a demand for a polyimide ink composition capable of obtaining a protective film having a low elastic modulus and small warpage even when the amount of such expensive monomers used is small.

又、FPCの製造においては、ポリイミドインク組成物を印刷、乾燥して保護膜を形成した後金メッキ処理が行われる場合があり、この際に前処理として酸洗浄が行われることがある。しかし、無機難燃剤の水酸化マグネシウムが保護膜に含まれていると、水酸化マグネシウムは酸洗浄に使用する酸性処理剤に可溶なので、酸洗浄の際に保護膜表面から溶出し、膜の表面が劣化し、保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等が生じる問題があった。特に、条件が厳しいメッキ程この問題が顕著になる。   Further, in the manufacture of FPC, a polyimide ink composition may be printed and dried to form a protective film, and then gold plating may be performed. In this case, acid cleaning may be performed as a pretreatment. However, when magnesium hydroxide, an inorganic flame retardant, is contained in the protective film, magnesium hydroxide is soluble in the acid treatment agent used for acid cleaning, so it elutes from the surface of the protective film during acid cleaning, There was a problem that the surface deteriorated and whitening on the protective film or defects of plating adhesion occurred. In particular, this problem becomes more prominent as plating conditions are severe.

本発明は、上記の問題に鑑みなされたものであって、OPDAのような高価なモノマーの使用量が少ない場合であっても近年の要請を満たす低弾性率で反りの小さい保護膜を形成することができ、又、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくく、かつ十分な難燃性等、FPCの保護膜に求められるその他の諸特性も満たす保護膜を、印刷により形成することができるポリイミドインク組成物を提供することをその課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and forms a protective film with a low elastic modulus and a small warp that satisfies recent requirements even when the amount of expensive monomers such as OPDA used is small. In addition, a protective film satisfying other characteristics required for an FPC protective film, such as whitening on the protective film at the time of gold plating and difficulty in plating adhesion, and sufficient flame resistance, etc. It is an object of the present invention to provide a polyimide ink composition that can be formed by printing.

本発明は、さらに、このポリイミドインク組成物により形成される保護膜であって、低弾性率で反りが小さく、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくく、かつ十分な難燃性等FPCの保護膜に求められるその他の諸特性も満たすFPCの保護膜、及び該保護膜を有するFPCを提供する。   Further, the present invention is a protective film formed from this polyimide ink composition, has a low elastic modulus and a small warp, is less prone to whitening on the protective film during gold plating treatment, defects in plating adhesion, etc. The present invention provides an FPC protective film satisfying other properties required for an FPC protective film such as flame retardancy, and an FPC having the protective film.

本発明者は鋭意検討の結果、可溶性ポリイミド樹脂を含有するポリイミドインク組成物であって、該可溶性ポリイミド樹脂を構成するジアミン成分に、シリコーンジアミンを、特定の範囲の組成で含有させたことを特徴とするポリイミドインク組成物を用いることにより、水酸化マグネシウム等の無機難燃剤を配合しなくても、UL−94V−0もしくはVTM−0に適合する難燃性を有する保護膜が得られること、又、無機難燃剤を配合しないことにより、この保護膜は、低弾性率で反りが小さいとともに、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくいことを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies, the inventor is a polyimide ink composition containing a soluble polyimide resin, characterized in that the diamine component constituting the soluble polyimide resin contains silicone diamine in a specific range of composition. By using the polyimide ink composition, a protective film having flame retardancy suitable for UL-94V-0 or VTM-0 can be obtained without blending an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide. In addition, by not blending an inorganic flame retardant, this protective film has a low elastic modulus and a small warp, and it has been found that whitening on the protective film during gold plating treatment and defects in plating adhesion are unlikely to occur. completed.

本発明は、その請求項1として、シリコーンジアミンを含有するジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合物である可溶性ポリイミド樹脂、及び前記可溶性ポリイミド樹脂を溶解する溶媒を含有し、前記ジアミン成分中の、シリコーンジアミンの組成比が重量比で66%以上80%以下であることを特徴とするポリイミドインク組成物を提供する。   The present invention includes, as claim 1 thereof, a soluble polyimide resin that is a condensate of a diamine component containing a silicone diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride, and a solvent that dissolves the soluble polyimide resin, Provided is a polyimide ink composition, wherein the composition ratio of silicone diamine in the diamine component is 66% or more and 80% or less by weight.

ここで、可溶性ポリイミド樹脂とは、溶媒に可溶なポリイミドを意味する。ポリイミドは、ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸二無水物とを縮合反応させて得ることができる。具体的には、ジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸二無水物とを、略1:1の等モル量で溶媒に溶解し、加熱して縮合反応させることにより製造することができるが、具体的には、前記モル比は、0.95〜1.05の範囲が好ましく、より好ましくは0.98〜1.02の範囲である。   Here, the soluble polyimide resin means a polyimide soluble in a solvent. A polyimide can be obtained by subjecting a diamine component and an aromatic tetracarboxylic dianhydride to a condensation reaction. Specifically, it can be produced by dissolving a diamine component and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an equimolar amount of about 1: 1 in a solvent and heating to cause a condensation reaction. The molar ratio is preferably in the range of 0.95 to 1.05, more preferably in the range of 0.98 to 1.02.

この縮合反応に用いられる溶媒として、ポリイミドインク組成物の溶媒と同じものを用いると、ポリイミドインク組成物の製造の際に溶媒の置換操作が不要となるので、好ましい。従って、この溶媒としては、後述のポリイミド樹脂を溶解する溶媒として例示されるものが好ましく使用される。   It is preferable to use the same solvent as the solvent for the polyimide ink composition as the solvent used in this condensation reaction, because the operation for replacing the solvent becomes unnecessary during the production of the polyimide ink composition. Therefore, as this solvent, what is illustrated as a solvent which melt | dissolves the polyimide resin mentioned later is used preferably.

本発明は、可溶性ポリイミド樹脂を構成するジアミン成分が、シリコーンジアミンを含有し、その組成比が、全ジアミン成分中の、66重量%以上で80重量%以下であることを特徴とする。ポリイミドへの可溶性の付与は、ポリマー鎖中に溶媒との親和性が高い基を導入することにより行うことができるが、本発明では、ジアミン成分が溶媒との親和性が高いシリコーンジアミンを特定量含有しているので、このシリコーンジアミンにより可溶性が付与される。又、シリコーンジアミンを含有することにより、基板との密着性が向上する。   The present invention is characterized in that the diamine component constituting the soluble polyimide resin contains a silicone diamine, and the composition ratio thereof is 66% by weight or more and 80% by weight or less in the total diamine component. The addition of solubility to the polyimide can be performed by introducing a group having a high affinity with the solvent into the polymer chain. In the present invention, the diamine component has a specific amount of a silicone diamine having a high affinity with the solvent. Since it contains, solubility is provided by this silicone diamine. Moreover, adhesiveness with a board | substrate improves by containing silicone diamine.

さらに、シリコーンジアミンの組成比を前記の範囲内とすることにより、水酸化マグネシウム等の無機難燃剤を配合しなくても、UL−94V−0(もしくはVTM−0)に適合する難燃性を有し、かつ柔軟(低弾性率)で反りが生じにくい保護膜を形成するポリイミドインク組成物が得られる。   Furthermore, by setting the composition ratio of silicone diamine within the above range, flame retardancy suitable for UL-94V-0 (or VTM-0) can be achieved without blending an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide. A polyimide ink composition is obtained that forms a protective film that is flexible (low elastic modulus) and hardly warps.

即ち、シリコーンジアミンの組成比が66重量%未満の場合は、この可溶性ポリイミド樹脂からなるポリイミドインク組成物により形成される保護膜の弾性率が高くなり、反りを生じやすくなる。一方、80重量%を超える場合は、保護膜の難燃性が低下し、水酸化マグネシウム等の無機難燃剤を配合しない場合は、UL−94V−0に適合する難燃性が得られない。又、シリコーンジアミンの組成比が高くなると、保護膜のガラス転移温度が低下し耐熱性の問題が生じやすくなる傾向がある。   That is, when the composition ratio of the silicone diamine is less than 66% by weight, the elastic modulus of the protective film formed from the polyimide ink composition made of this soluble polyimide resin is increased, and warpage tends to occur. On the other hand, when it exceeds 80% by weight, the flame retardancy of the protective film is lowered, and when an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide is not blended, the flame retardancy conforming to UL-94V-0 cannot be obtained. Moreover, when the composition ratio of silicone diamine is increased, the glass transition temperature of the protective film tends to be lowered, and the problem of heat resistance tends to occur.

ここで、シリコーンジアミンとは、骨格にシロキサン基を有し、その末端等に一級アミノ基を2つ有する化合物であり、例えば下記構造式(I)で表されるものを用いることができる。   Here, the silicone diamine is a compound having a siloxane group in the skeleton and two primary amino groups at its ends, and for example, those represented by the following structural formula (I) can be used.

Figure 0005354443
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さらにこれ以外にも、フェニレン基を介してアミノ基がついている構造の化合物、例えば下記構造式(II)で表される化合物も、シリコーンジアミンの例として挙げることができる。   In addition to this, compounds having an amino group attached via a phenylene group, for example, a compound represented by the following structural formula (II) can also be mentioned as examples of silicone diamine.

Figure 0005354443
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シリコーンジアミンの重量平均分子量は、4000以下であることが好ましい。従って、式(I)、式(II)のaは、36程度以下が好ましい。又、特に銅箔との接着力を高めたい場合には、平均分子量1000以下、aは1〜9が好ましい。なお、ここでの重量平均分子量とは、GPCにより測定し、標準ポリスチレンを用いて計算により求めた値である。   The weight average molecular weight of the silicone diamine is preferably 4000 or less. Accordingly, a in formula (I) and formula (II) is preferably about 36 or less. In particular, when it is desired to increase the adhesive strength with the copper foil, the average molecular weight is 1000 or less, and a is preferably 1-9. Here, the weight average molecular weight is a value measured by GPC and obtained by calculation using standard polystyrene.

本発明のポリイミドインク組成物の製造には、市販のシリコーンジアミンを用いることができ、この市販のシリコーンジアミンとしては、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製のBY16−853U、BY16−853C、信越化学工業社製X−22−1660B−3、KF−8010、X−22−161A等を挙げることができる。シリコーンジアミンは、1種単独で、又は2種以上併用して用いることができる。   In the production of the polyimide ink composition of the present invention, a commercially available silicone diamine can be used. X-22-1660B-3, KF-8010, X-22-161A, etc. manufactured by the company can be mentioned. Silicone diamines can be used alone or in combination of two or more.

本発明のポリイミドインク組成物の製造に使用されるジアミン成分に含まれる、前記シリコーンジアミン以外のジアミンとしては、例えば、ビス(3−アミノプロピル)エーテルエタン、3,3’−ジアミノ−4,4’ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’ジアミノ−3,3’ジヒドロキシビフェニル、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、シロキサンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)エーテルエタン、N,N−ビス(3−アミノプロピル)エーテル、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、イソホロンジアミン、1,3’−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−ジフェニル スルホン、3,4’−ジアミノ−ジフェニル スルホン、3,3’−ジアミノ−ジフェニル スルホン、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、「APB」と言う。)、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン(以下、「BAPSM」と言う。)、4,4’ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’ジアミノ−4,4’ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン,3,5−ジアミノ安息香酸、2,6−ジアミノピリジン、4,4’ジアミノ−3,3’ジメトキシビフェニル、4,4’ジアミノ−3,3’ジメチルビフェニル、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン等が挙げられ、中でも、下記構造式(III)で表されるAPBや、BAPSMが好ましく使用できる。これらは、1種単独で、又は2種以上併用して用いることができる。   Examples of the diamine other than the silicone diamine contained in the diamine component used in the production of the polyimide ink composition of the present invention include bis (3-aminopropyl) ether ethane and 3,3′-diamino-4,4. 'Dihydroxydiphenylsulfone, 4,4'diamino-3,3'dihydroxybiphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, siloxane diamine, bis (3-aminopropyl) ether ethane N, N-bis (3-aminopropyl) ether, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, isophoronediamine, 1,3′-bis (aminomethyl) cyclohexane, 3,3′-dimethyl-4 , 4′-diaminodicyclohexylmethane, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl Silamine), 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diamino-diphenyl sulfone, 3,4'-diamino-diphenyl sulfone, 3,3 '-Diamino-diphenyl sulfone, 2,4'-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter referred to as “APB”) 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone (hereinafter referred to as “ APSM "), 4,4'bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′diamino-4,4′dihydroxydiphenyl sulfone, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzoic acid, 2,6- Examples include diaminopyridine, 4,4′diamino-3,3′dimethoxybiphenyl, 4,4′diamino-3,3′dimethylbiphenyl, 9,9′-bis (4-aminophenyl) fluorene and the like. APB and BAPSM represented by the structural formula (III) can be preferably used. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

Figure 0005354443
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他のジアミン成分に、分子内に水酸基を有するジアミンを含有させることにより、ポリイミドインク組成物より形成される膜にアルカリ可溶性を付与することができる。そして、このアルカリ可溶性のポリイミドインク組成物に、芳香族ポリヒドロキシ化合物のナフトキノンジアジドスルホニルエステル等のポジ型感光剤を配合することにより、感光性を付与することもできる。FPCの保護膜は、配線や素子部等を被覆するものであるが、一方パッド部等を露出させる場合がある。前記のようにして感光性が付与されたポリイミドインク組成物を用いることにより、先ず配線や素子等が形成されたFPCの基板上の全面にポリイミドインク組成物を塗布してポリイミド膜を形成した後、マスク等を通して所定部分のみ紫外線により露光し現像しパターン化して膜の一部を除去し、所定部分を露出させることができる。   By containing a diamine having a hydroxyl group in the molecule in another diamine component, alkali solubility can be imparted to the film formed from the polyimide ink composition. And photosensitivity can also be provided by mix | blending positive type photosensitizers, such as a naphthoquinone diazide sulfonyl ester of an aromatic polyhydroxy compound, with this alkali-soluble polyimide ink composition. The protective film of the FPC covers the wiring, the element portion, and the like, but sometimes the pad portion and the like are exposed. After using the polyimide ink composition to which photosensitivity is imparted as described above, the polyimide ink composition is first applied to the entire surface of the FPC substrate on which wirings, elements, and the like are formed to form a polyimide film. Then, only a predetermined portion is exposed to ultraviolet rays through a mask or the like, developed, and patterned to remove a part of the film, thereby exposing the predetermined portion.

可溶性ポリイミド樹脂を構成する芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、OPDA(下記構造式(IV)で表される)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、下記構造式(V)で表される3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下、「BTDA」と言う。)、3,3’,4,4’−ジフェニル スルホンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ(2,2,2)−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボンキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物等を挙げることができる。これらは、1種単独で、又は2種以上併用して用いることができる。   As aromatic tetracarboxylic dianhydride constituting the soluble polyimide resin, OPDA (represented by the following structural formula (IV)), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as “BTDA”) represented by the structural formula (V), 3,3 ′, 4,4′-diphenyl sulfonetetra Carboxylic dianhydride, bicyclo (2,2,2) -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride , Pyromellitic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarbonoxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene -1 , 2-dicarboxylic acid anhydride and the like. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

Figure 0005354443
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これらの中でもOPDAを使用すれば、より柔軟な保護膜が得られ反りを抑制することができる。しかし、本発明においては、シリコーンジアミンの組成比を特定の範囲とすることにより、保護膜を柔軟(低弾性率)で反りが生じにくいものとすることができるので、芳香族テトラカルボン酸二無水物中のOPDAの割合を低くしても、柔軟(低弾性率)で反りが生じにくい保護膜を得ることができる。従って、高価なOPDAの使用量を低減することができ、コスト低減を図ることができる。   Among these, if OPDA is used, a more flexible protective film can be obtained and warpage can be suppressed. However, in the present invention, by setting the composition ratio of silicone diamine within a specific range, the protective film can be made flexible (low elastic modulus) and hardly warped. Even if the ratio of OPDA in the product is lowered, a protective film that is flexible (low elastic modulus) and hardly warps can be obtained. Therefore, the amount of expensive OPDA used can be reduced, and the cost can be reduced.

本発明のポリイミドインク組成物は、前記の可溶性ポリイミド樹脂と溶媒を添加、混合することにより得られる。   The polyimide ink composition of the present invention can be obtained by adding and mixing the above soluble polyimide resin and a solvent.

ポリイミドインク組成物の溶媒、すなわち可溶性ポリイミド樹脂を溶解する溶媒としては、極性溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリドン、N,N’−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ジグライム、γ−ブチロラクトン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−バレロラクトン、フェノール、トルエン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミド等が例示される。この中でも、溶解性、揮発性、吸水性、臭気等の観点より、安息香酸メチル、γ−ブチロラクトンが好ましく使用される。使用量は、可溶性ポリイミド樹脂を完全に溶解する量以上が好ましい。   As a solvent for the polyimide ink composition, that is, a solvent for dissolving the soluble polyimide resin, a polar solvent is preferable, and N-methyl-2-pyrrolidone, N, N′-dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, diglyme, γ -Butyrolactone, methyl benzoate, ethyl benzoate, γ-valerolactone, phenol, toluene, dioxane, tetrahydrofuran, sulfolane, hexamethylphosphoramide and the like. Of these, methyl benzoate and γ-butyrolactone are preferably used from the viewpoints of solubility, volatility, water absorption, odor, and the like. The amount used is preferably equal to or greater than the amount that completely dissolves the soluble polyimide resin.

本発明のポリイミドインク組成物を使用することにより、水酸化マグネシウム等の無機難燃剤を配合しなくても、優れた難燃性を有する保護膜が得られるので、無機難燃剤の無添加を可能とし、その結果、保護膜の反りを防止し、かつ金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等の発生を防ぐことができる。   By using the polyimide ink composition of the present invention, a protective film having excellent flame retardancy can be obtained without blending an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide, so that the addition of an inorganic flame retardant is possible. As a result, it is possible to prevent the protective film from warping and to prevent whitening on the protective film during plating and the occurrence of defects in plating adhesion.

請求項2に記載の発明は、さらにヘキサメチルメトキシメラミン(以下、HMMMと言う。)等のメラミン化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載のポリイミドインク組成物である。前記のポリイミドインク組成物がHMMM等のメラミン化合物を含有する場合は、ポリイミドインク組成物を基板上に塗布しポリイミド膜を形成後、加熱することにより、ポリイミド間に架橋を生じさせて膜を硬化することができ、保護膜の、アセトン、メチルエチルケトンやアルコール等の溶媒への耐溶剤性を向上させることができる。   The invention according to claim 2 is the polyimide ink composition according to claim 1, further comprising a melamine compound such as hexamethylmethoxymelamine (hereinafter referred to as HMMM). When the polyimide ink composition contains a melamine compound such as HMMM, the polyimide ink composition is applied onto a substrate to form a polyimide film, and then heated to cause cross-linking between the polyimides and cure the film. Thus, the solvent resistance of the protective film to solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and alcohol can be improved.

ここで、HMMM等のメラミン化合物の添加量としては、0.1%〜10%が好ましい。又、膜を硬化するための加熱の条件としては、180℃〜200℃で10〜60分間が好ましい。   Here, the addition amount of a melamine compound such as HMMM is preferably 0.1% to 10%. The heating conditions for curing the film are preferably 180 ° C. to 200 ° C. for 10 to 60 minutes.

請求項3に記載の発明は、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物が、OPDAとBTDAの4:6〜6:4(モル比)の混合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のポリイミドインク組成物である。前記の例示された芳香族テトラカルボン酸二無水物の中でも、BTDAは低価格であり、ある程度の柔軟性を有するので好ましい。又、前記のように本発明では、OPDAの使用量を低減させても、保護膜に柔軟性を付与し、反りの問題を抑制することができる。   The invention according to claim 3 is characterized in that the aromatic tetracarboxylic dianhydride is a mixture of OPDA and BTDA in a ratio of 4: 6 to 6: 4 (molar ratio). 2. The polyimide ink composition according to 2. Among the aromatic tetracarboxylic dianhydrides exemplified above, BTDA is preferable because it is inexpensive and has a certain degree of flexibility. In addition, as described above, in the present invention, even when the amount of OPDA used is reduced, flexibility can be imparted to the protective film and the problem of warpage can be suppressed.

本発明は、前記のポリイミドインク組成物に加えて、この組成物を配線板の上に塗布し乾燥して得ることができるFPCの保護膜(請求項4)を提供する。本発明は、さらに又、前記保護膜を有することを特徴とするFPC(請求項5)を提供する。   In addition to the polyimide ink composition, the present invention provides an FPC protective film (Claim 4) that can be obtained by applying the composition onto a wiring board and drying it. The present invention further provides an FPC (Claim 5) comprising the protective film.

本発明の保護膜は、FPCの外表面に設けられ、配線や素子部等を保護するためにこれらを被覆するものである。本発明の保護膜及び本発明のFPCは、前記のポリイミドインク組成物を、FPC(基板)の外表面に塗布し、乾燥することにより得られる。従って、本発明の保護膜は、低弾性率で反りが小さく、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくく、かつ十分な難燃性を示すものである。   The protective film of the present invention is provided on the outer surface of the FPC and covers these in order to protect the wiring, the element portion, and the like. The protective film of the present invention and the FPC of the present invention are obtained by applying the polyimide ink composition to the outer surface of an FPC (substrate) and drying it. Therefore, the protective film of the present invention has a low elastic modulus and a small warpage, is less likely to cause whitening on the protective film during gold plating treatment, defects in plating adhesion, and the like, and exhibits sufficient flame retardancy.

なお、本発明で用いられる可溶性ポリイミド樹脂は、すでにイミド化しているものである。従って、塗膜形成の際にイミド環形成のために必要な高温での加熱は不要である。ただし、原料のポリイミドインク組成物がHMMM等の硬化剤を含有する場合は、塗布、乾燥後、加熱して硬化が行われる。後硬化により、ポリイミド間に架橋を生じさせて、保護膜の耐溶剤性を向上させることができる   The soluble polyimide resin used in the present invention is already imidized. Therefore, heating at a high temperature necessary for forming an imide ring is not necessary when forming a coating film. However, when the raw material polyimide ink composition contains a curing agent such as HMMM, it is cured by heating after coating and drying. Post-curing can cause cross-linking between polyimides and improve the solvent resistance of the protective film.

本発明のポリイミドインク組成物を用いることにより、水酸化マグネシウム等の無機難燃剤を配合しなくても、UL−94V−0に適合する難燃性を有する保護膜が得られる。そして、無機難燃剤を配合しないことにより、保護膜をより低弾性率化でき、反りを抑制できるとともに、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくくすることができる(優れた耐メッキ性が得られる。)。さらに、芳香族テトラカルボン酸二無水物中のOPDAの含有量が小さい場合でも低弾性率で反りが小さい保護膜が得られるので、高価なOPDAの使用量を低減することができ、低コスト化を図ることができる。   By using the polyimide ink composition of the present invention, a protective film having flame retardancy suitable for UL-94V-0 can be obtained without blending an inorganic flame retardant such as magnesium hydroxide. And by not mix | blending an inorganic flame retardant, while being able to make a protective film lower elastic modulus and suppressing curvature, it can make it difficult to produce the whitening on a protective film at the time of a gold plating process, the malfunction of plating adhesion, etc. ( Excellent plating resistance is obtained.) In addition, even when the content of OPDA in the aromatic tetracarboxylic dianhydride is small, a protective film with low elastic modulus and low warpage can be obtained, so the amount of expensive OPDA used can be reduced and the cost can be reduced Can be achieved.

従って、本発明の保護膜は、低弾性率で反りが小さく、金メッキ処理時の保護膜上の白化やメッキ付着の不具合等を生じにくく、かつ十分な難燃性を示すものであり、この保護膜を備える本発明のFPCは、難燃性が高く、反りが生じにくく、かつノンハロゲンであるので、これらの特性が求められる電子部品に好適に用いられる。   Therefore, the protective film of the present invention has a low elastic modulus and a small warp, is not prone to whitening on the protective film at the time of the gold plating process, plating adhesion failure, etc., and exhibits sufficient flame retardancy. The FPC of the present invention including a film has high flame retardancy, hardly warps, and is non-halogen. Therefore, the FPC is suitably used for an electronic component that requires these characteristics.

次に、本発明を実施するための最良の形態につき、以下に実施例により説明するが、本発明は、この実施例のみに限定されるものではない。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

合成例1(可溶性ポリイミド樹脂の合成)
1.冷却器、水分測定受器、機械式撹拌装置、及び窒素導入管を取り付けた1Lセパラプルフラスコ中に、窒素雰囲気下で、溶媒であるγ−ブチロラクトン60gと安息香酸メチル40gに、前記構造式(I)で表されるシリコーンジアミン(信越化学社製、KF−8010:式(I)で表され、式中のa=8〜9、平均分子量:約1000、表1中ではSiOnと記載する。)30g(0.03mol:全ジアミンに対し50モル%)を加えて溶解させる。さらに、触媒としてピリジン0.5g及び共沸溶媒としてのトルエン20gを加える。
Synthesis Example 1 (Synthesis of soluble polyimide resin)
1. In a 1 L separate flask equipped with a cooler, a moisture measuring receiver, a mechanical stirrer, and a nitrogen introduction tube, in a nitrogen atmosphere, 60 g of γ-butyrolactone and 40 g of methyl benzoate were mixed with the structural formula ( I) is represented by a silicone diamine (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF-8010: represented by formula (I), wherein a = 8 to 9, average molecular weight: about 1000, and in Table 1, it is described as SiOn. ) 30 g (0.03 mol: 50 mol% with respect to the total diamine) is added and dissolved. Further, 0.5 g of pyridine as a catalyst and 20 g of toluene as an azeotropic solvent are added.

2.酸二無水物として、BTDA(分子量:322.2)9.67g(0.03mol)、OPDA(分子量:310.2)9.31g(0.03mol)を徐々に加え、全量投入後、15分間撹拝し、その後、マントルヒーターで160℃まで加熱し1時間反応させる。この間、冷却水を流しておきトルエンを環流させる。水分測定受器に規定量の水が出たことを確認した後、加熱を止め室温付近(50℃以下)まで自然冷却する。 2. As acid dianhydride, 9.67 g (0.03 mol) of BTDA (molecular weight: 322.2) and 9.31 g (0.03 mol) of OPDA (molecular weight: 310.2) were gradually added, and the whole amount was added and then 15 minutes. After stirring, the mixture is heated to 160 ° C. with a mantle heater and allowed to react for 1 hour. During this time, the cooling water is poured and toluene is circulated. After confirming that a specified amount of water has come out of the moisture measuring receiver, the heating is stopped and it is naturally cooled to around room temperature (50 ° C. or lower).

3.次に、ジアミンとして、APB(分子量:292.3)8.77g(0.03mol:全ジアミンに対し50モル%)を加え、さらに、約30%の固形分となるよう、溶媒γ−ブチロラクトン40gを追加する。投入後15分間撹拝し、その後、オイルバスで160℃まで加熱し3時間反応させ反応液を得る。規定量の水が出たことを確認した後、減圧してこの反応液よりトルエンとピリジンを除去し、ワニス1を得た。 3. Next, 8.77 g (0.03 mol: 50 mol% with respect to the total diamine) of APB (molecular weight: 292.3) is added as a diamine, and further 40 g of a solvent γ-butyrolactone so as to have a solid content of about 30%. Add The mixture is stirred for 15 minutes, and then heated to 160 ° C. in an oil bath and reacted for 3 hours to obtain a reaction solution. After confirming that a specified amount of water had come out, the pressure was reduced and toluene and pyridine were removed from the reaction solution to obtain varnish 1.

合成例2〜4(ベースポリマーワニスの合成)
シリコーンジアミン(表1中ではSiOnと記載する。)とAPBのモル比を表1に示すように変えた以外は合成例1と同様にして、ワニス2(合成例2)、ワニス3(合成例3)、ワニス4(合成例4)を得た。
Synthesis Examples 2 to 4 (Synthesis of base polymer varnish)
Varnish 2 (Synthesis Example 2), Varnish 3 (Synthesis Example) except that the molar ratio of silicone diamine (indicated as SiOn in Table 1) and APB was changed as shown in Table 1, as in Synthesis Example 1. 3) Varnish 4 (Synthesis Example 4) was obtained.

実施例1、比較例1、2
ワニス1、ワニス2、及びワニス3のそれぞれ100重量部に対して、青色顔料(ピグメントブルー(銅フタロシアニン)0.8重量部、消泡剤(信越化学社製KS−603)0.8重量部を加えて溶解し、それぞれポリイミドインク組成物(インク)を得た。
Example 1, Comparative Examples 1 and 2
Blue pigment (pigment blue (copper phthalocyanine) 0.8 part by weight, anti-foaming agent (KS-603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.8 part by weight for each 100 parts by weight of varnish 1, varnish 2 and varnish 3 Were dissolved to obtain polyimide ink compositions (inks).

実施例2、比較例3
ワニス1、及びワニス3のそれぞれ100重量部に対して、HMMMを2.5重量部、青色顔料(ピグメントブルー(銅フタロシアニン)0.8重量部、消泡剤(信越化学社製KS−603)0.8重量部、を加えて溶解し、ポリイミドインク組成物(インク)を得た。
Example 2 and Comparative Example 3
2.5 parts by weight of HMMM, 0.8 parts by weight of blue pigment (pigment blue (copper phthalocyanine), defoaming agent (KS-603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) for 100 parts by weight of varnish 1 and varnish 3 0.8 parts by weight was added and dissolved to obtain a polyimide ink composition (ink).

比較例4
ワニス4の100重量部に対して、HMMMを2.5重量部、水酸化マグネシウム(MgOH)を4.0重量部、青色顔料(ピグメントブルー(銅フタロシアニン)0.8重量部、消泡剤(信越化学社製KS−603)0.8重量部を加えて溶解し、ポリイミドインク組成物(インク)を得た。
Comparative Example 4
With respect to 100 parts by weight of varnish 4, 2.5 parts by weight of HMMM, 4.0 parts by weight of magnesium hydroxide (MgOH), 0.8 parts by weight of blue pigment (pigment blue (copper phthalocyanine), defoaming agent ( Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KS-603) 0.8 parts by weight was added and dissolved to obtain a polyimide ink composition (ink).

前記の実施例1、2及び比較例1〜4で得られたポリイミドインク組成物(インク)のそれぞれについて、下記の方法により、反りの試験、接着力試験(銅箔に対する密着性)、難燃性試験、動的粘弾性測定、耐溶剤性試験等を行い、その結果を表1に示した。   For each of the polyimide ink compositions (inks) obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4, a warp test, an adhesion test (adhesiveness to copper foil), and flame retardancy were performed by the following methods. Table 1 shows the results of a property test, dynamic viscoelasticity measurement, solvent resistance test and the like.

[反りの試験]
厚み13μmの銅箔の上に、前記実施例又は比較例で得られたポリイミドインク組成物(インク)のそれぞれを、乾燥後の膜厚が10μmとなるように塗布、成膜した。その後、50mm角に切断して、120℃で60分乾燥し、さらに180℃で30分後硬化を行った後の、四隅の反り量の平均値を求めた。
[Curve test]
Each of the polyimide ink compositions (inks) obtained in the examples or comparative examples was applied and formed on a copper foil having a thickness of 13 μm so that the film thickness after drying was 10 μm. Then, it cut | disconnected to the 50 square mm, dried for 60 minutes at 120 degreeC, and also calculated | required the average value of the curvature amount of four corners after performing post-curing for 30 minutes at 180 degreeC.

[接着力試験(銅箔に対する密着性)]
反りの試験と同様に作成したサンプルを5mm幅に切断し、180°剥離試験により銅箔と成膜されたポリイミドとの接着力を評価した。
[Adhesion test (adhesion to copper foil)]
A sample prepared in the same manner as in the warp test was cut to a width of 5 mm, and the adhesive strength between the copper foil and the formed polyimide was evaluated by a 180 ° peel test.

[難燃性試験]
ポリイミドフィルムカプトン100EN(25μm厚)上に、前記実施例又は比較例で得られたポリイミドインク組成物(インク)のそれぞれを、乾燥後の膜厚が10μmとなるように塗布、成膜し、120℃で60分乾燥し、さらに180℃で30分後硬化を行った。このようにして得られたサンプルについて、UL94 フィルム材料の垂直燃焼性試験(VTM)に準拠して、難燃性を測定した。その結果を表1に示す。
[Flame retardance test]
On the polyimide film Kapton 100EN (25 μm thickness), each of the polyimide ink compositions (inks) obtained in the examples or comparative examples was applied and formed so that the film thickness after drying was 10 μm. The film was dried at 60 ° C. for 60 minutes, and further post-cured at 180 ° C. for 30 minutes. About the sample obtained in this way, the flame retardance was measured based on the vertical flammability test (VTM) of UL94 film material. The results are shown in Table 1.

[動的粘弾性測定]
前記実施例又は比較例で得られたポリイミドインク組成物(インク)のそれぞれを、乾燥後の膜厚が25μmとなるように成膜し、120℃で60分乾燥し、さらに180℃で30分後硬化を行ったサンプルについて、動的粘弾性測定装置(DMS)を用いて、Tg、tanδピーク温度(℃)、弾性率(25℃)を測定した。その結果を表1に示す。
[Dynamic viscoelasticity measurement]
Each of the polyimide ink compositions (inks) obtained in the examples or comparative examples was formed so that the film thickness after drying was 25 μm, dried at 120 ° C. for 60 minutes, and further at 180 ° C. for 30 minutes. About the sample which performed postcure, Tg, tan-delta peak temperature (degreeC), and the elasticity modulus (25 degreeC) were measured using the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMS). The results are shown in Table 1.

[耐メッキ性試験]
前記実施例又は比較例で得られたポリイミドインク組成物(インク)のそれぞれを、厚さ13μmの銅箔上に、塗布、成膜し、120℃で60分乾燥し、さらに180℃で30分後硬化を行ったサンプルについて、以下に示す無電解金メッキ処理を施し、試験体を得た。
[Plating resistance test]
Each of the polyimide ink compositions (inks) obtained in the examples or comparative examples was applied and formed on a 13 μm thick copper foil, dried at 120 ° C. for 60 minutes, and further at 180 ° C. for 30 minutes. About the sample which performed postcure, the electroless gold plating process shown below was given, and the test body was obtained.

(無電解金メッキ処理)
以下に示す工程を以下に示す順序で行った。具体的には、サンプルを、各工程の槽に順次浸漬した後、乾燥した。
脱脂処理(酸性脱脂=酸処理)、水洗、ソフトエッチング、水洗、デスミア処理、
塩化パラジウム触媒化、ニッケル(硝酸ニッケル)メッキ、
金(シアン化金カリウム)メッキ、水洗、乾燥
(Electroless gold plating process)
The following steps were performed in the order shown below. Specifically, the sample was dipped in a tank in each step in sequence and then dried.
Degreasing treatment (acid degreasing = acid treatment), water washing, soft etching, water washing, desmear treatment,
Palladium chloride catalyzed, nickel (nickel nitrate) plating,
Gold (potassium cyanide) plating, water washing, drying

得られた試験体につき、無電解金メッキ処理後の表面状態を目視により観察した。
評価基準:
○:変化なし
△:端部付近にダメージ有り
×:表面に粒状にメッキが付着
About the obtained test body, the surface state after an electroless gold plating process was observed visually.
Evaluation criteria:
Y: No change
Δ: Damage near the edge
×: Plating adheres to the surface in granular form

[耐溶剤性試験]
表1に示す溶剤のそれぞれに、反りの試験で使用したサンプルのそれぞれを室温で、5分間浸漬し、表面状態を目視により観察した。
評価基準:
◎:変化無し(表面つやのまま)
○:表面に一部ざらつく
△:一部溶解
×:溶解
[Solvent resistance test]
Each of the samples used in the warpage test was immersed in each of the solvents shown in Table 1 for 5 minutes at room temperature, and the surface state was observed visually.
Evaluation criteria:
◎: No change (with surface gloss)
○: Some roughness on the surface
Δ: Partial dissolution
×: dissolution

Figure 0005354443
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表1の結果より明らかなように、本発明例である実施例1、実施例2のポリイミドインク組成物を用いた場合は、優れた難燃性(VTM−0)を有するポリイミド樹脂膜(保護膜)が得られ、この保護膜は、反りをほとんど生じないものである。又、この保護膜は、銅箔との接着力、耐メッキ性、耐溶剤性のいずれについても実用レベルで十分な値が得られている。   As is clear from the results in Table 1, when the polyimide ink compositions of Examples 1 and 2 as examples of the present invention were used, a polyimide resin film having excellent flame retardancy (VTM-0) (protection) Film), and this protective film hardly causes warping. In addition, this protective film has a sufficient value at a practical level in terms of adhesive strength with copper foil, plating resistance, and solvent resistance.

一方、本発明の範囲よりもシリコーンジアミンの含有量が小さい(66重量%未満)ジアミン成分を用いて合成された比較例1のポリイミドインク組成物を用いた場合は、優れた難燃性(VTM−0)が得られるものの、この保護膜は、弾性率が高く大きな反りを生じる。又、本発明の範囲よりも、シリコーンジアミンの含有量が大きい(80重量%を超える場合)ジアミン成分を用いて合成された比較例2、3のポリイミドインク組成物から得られた保護膜は、難燃性が不十分でありVTM−0の難燃性が得られない。   On the other hand, when the polyimide ink composition of Comparative Example 1 synthesized using a diamine component having a silicone diamine content smaller than the range of the present invention (less than 66% by weight) is used, excellent flame retardancy (VTM −0), the protective film has a high elastic modulus and generates a large warp. Moreover, the protective film obtained from the polyimide ink composition of Comparative Examples 2 and 3 synthesized using a diamine component having a silicone diamine content larger than the range of the present invention (when exceeding 80% by weight) The flame retardancy is insufficient and the flame retardancy of VTM-0 cannot be obtained.

比較例4は、無機難燃剤の水酸化マグネシウムを含有させた例であり、VTM−0である。しかし、比較例4は、耐メッキ性に劣るとの問題がある。さらに、芳香族テトラカルボン酸二無水物としてOPDAのみを用いているにも係わらず反りが大きいとの問題もある。   Comparative Example 4 is an example in which magnesium hydroxide as an inorganic flame retardant is contained, and is VTM-0. However, Comparative Example 4 has a problem that it is inferior in plating resistance. Furthermore, there is also a problem that warpage is large despite using OPDA alone as the aromatic tetracarboxylic dianhydride.

実施例2及び比較例3は、HMMMを添加した例である。実施例1と実施例2の比較から明らかなように、HMMMの添加によりアセトンに対する耐溶剤性が向上している。   Example 2 and Comparative Example 3 are examples in which HMMM is added. As is clear from the comparison between Example 1 and Example 2, the solvent resistance to acetone is improved by the addition of HMMM.

Claims (5)

シリコーンジアミンを含有するジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸2無水物との縮合物である可溶性ポリイミド樹脂、前記可溶性ポリイミド樹脂を溶解する溶媒、及び前記可溶性ポリイミド樹脂の架橋剤であるメラミン化合物を含有し、前記ジアミン成分中の、シリコーンジアミンの組成比が66重量%以上で80重量%以下であることを特徴とするポリイミドインク組成物。 It contains a soluble polyimide resin that is a condensate of a diamine component containing a silicone diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride , a solvent that dissolves the soluble polyimide resin, and a melamine compound that is a crosslinking agent for the soluble polyimide resin. The composition ratio of silicone diamine in the diamine component is 66 wt% or more and 80 wt% or less. 前記メラミン化合物の含有量が0.1質量%〜10質量%であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドインク組成物。Content of the said melamine compound is 0.1 mass%-10 mass%, The polyimide ink composition of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記芳香族テトラカルボン酸2無水物が、4,4’−オキシジフタル酸二無水物と3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の4:6〜6:4(モル比)の混合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のポリイミドインク組成物。   The aromatic tetracarboxylic dianhydride is a 4: 6-6: 4 (molar ratio) of 4,4′-oxydiphthalic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. The polyimide ink composition according to claim 1, wherein the polyimide ink composition is a mixture of フレキシブルプリント配線板の配線を被覆する保護膜であって、請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のポリイミドインク組成物の硬化物よりなることを特徴とする保護膜。   A protective film for covering wiring of a flexible printed wiring board, comprising a cured product of the polyimide ink composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項4の保護膜を有することを特徴とするフレキシブルプリント配線板。   A flexible printed wiring board comprising the protective film according to claim 4.
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