JP2009064693A - Intermediate for touch switch, and manufacturing method of intermediate for touch switch - Google Patents

Intermediate for touch switch, and manufacturing method of intermediate for touch switch Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an intermediate for a touch switch of a capacitance type capable of achieving the reduction of cost and the improvement of reliability. <P>SOLUTION: The intermediate for the touch switch is provided with a base body 2, and a transparent conductive film 3 formed on one face of the base body 2. The transparent conductive film 3 has a transparent conductive layer pasted by in-mold molding on one face of the base body 2 molded by in-mold molding by the use of an in-mold film having the transparent conductive layer on a base film, and at the same time, with its end 3a in an exposed state, a coated area 3b except the end 3a is covered with the base film. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基体部と基体部の一面に形成された透明導電膜とを備えた静電容量式のタッチスイッチ用中間体、およびそのタッチスイッチ用中間体を製造するタッチスイッチ用中間体製造方法に関するものである。   The present invention relates to a capacitive touch switch intermediate body including a base portion and a transparent conductive film formed on one surface of the base portion, and a touch switch intermediate manufacturing method for manufacturing the touch switch intermediate body. It is about.

近年、携帯情報端末や現金自動預け払い機等の数多くの電気機器には、指先を触れる(タッチする)ことによって入力を行うことが可能なタッチ式の操作部が設けられている。このタッチ式の操作部は、光透過性を有する基体部の一面に透明導電膜を配設して構成されて、CRTやLCD等のディスプレイ上に取り付けられるタッチスイッチ(タッチパネル)を備えて構成されている。また、静電容量の変化に基づいてタッチの有無やタッチ位置を検出する静電容量式のタッチスイッチは、透明導電膜が配設された面がディスプレイ側に位置し、透明導電膜が配設されていない面(指先が触れられるタッチ面)が表側に位置するように取り付けられる。この場合、透明導電膜が露出した状態では、透明導電膜が損傷し易く、また、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響も受け易い。このため、これらに起因して、透明導電膜の表面電気抵抗値つまりタッチスイッチの特性(アンテナ特性等)が変化して、誤作動するおそれがある。このような不都合を解消可能なタッチスイッチとして、透明導電膜の上に透明の基板や保護層を配設したタッチスイッチ(例えば、特開平5−324203号公報に開示されたタッチパネル)が知られている。この場合、上記公報に開示されたタッチパネルは、透明導電膜、保護膜および電極端子を設けたガラス基板と、グレア防止膜及び保護膜を設けたガラス基板とを透明接着材を用いて貼り合わせることによって構成されている。
特開平5−324203号公報(第2−3頁、第1図)
2. Description of the Related Art In recent years, many electric devices such as portable information terminals and automatic teller machines are provided with touch-type operation units that allow input by touching (touching) a fingertip. This touch-type operation unit is configured by disposing a transparent conductive film on one surface of a light-transmitting base unit, and includes a touch switch (touch panel) attached on a display such as a CRT or LCD. ing. In addition, a capacitive touch switch that detects the presence or absence of a touch or a touch position based on a change in capacitance is such that the surface on which the transparent conductive film is disposed is located on the display side and the transparent conductive film is disposed. It is attached so that the surface that is not touched (the touch surface on which the fingertip can be touched) is located on the front side. In this case, in a state where the transparent conductive film is exposed, the transparent conductive film is easily damaged, and is also easily affected by surrounding environmental changes such as temperature and humidity. For this reason, due to these, the surface electrical resistance value of the transparent conductive film, that is, the touch switch characteristics (antenna characteristics, etc.) may change, causing a malfunction. As a touch switch that can eliminate such inconvenience, a touch switch in which a transparent substrate or a protective layer is disposed on a transparent conductive film (for example, a touch panel disclosed in JP-A-5-324203) is known. Yes. In this case, the touch panel disclosed in the above publication uses a transparent adhesive to attach a glass substrate provided with a transparent conductive film, a protective film and an electrode terminal, and a glass substrate provided with a glare prevention film and a protective film. It is constituted by.
JP-A-5-324203 (page 2-3, FIG. 1)

ところが、上記のタッチパネルには、以下の問題点がある。すなわち、このタッチパネルは、2枚のガラス基板を貼り合わせることによって構成されている。このため、このタッチパネルには、貼り合わせの工程が必要な分、製造工程が複雑で、製造コストの低減が困難であるという問題点が存在する。   However, the above touch panel has the following problems. That is, this touch panel is configured by bonding two glass substrates. For this reason, this touch panel has a problem that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is difficult to reduce because the bonding process is necessary.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、コストの低減を実現し得るタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and a main object of the present invention is to provide a touch switch intermediate body and a touch switch intermediate manufacturing method capable of realizing cost reduction.

上記目的を達成すべく本発明に係るタッチスイッチ用中間体は、基体部と、当該基体部の一面に形成された透明導電膜とを備えた静電容量式のタッチスイッチ用中間体であって、前記透明導電膜は、ベースフィルム上に透明導電層を有するインモールドフィルムを用いたインモールド成形によって成形された前記基体部の前記一面に当該インモールド成形によって貼合された当該透明導電層で構成されると共に、当該透明導電膜の電極形成領域が露出させられた状態で当該電極形成領域を除く領域が前記ベースフィルムによって覆われている。   To achieve the above object, an intermediate for a touch switch according to the present invention is a capacitive touch switch intermediate including a base portion and a transparent conductive film formed on one surface of the base portion. The transparent conductive film is the transparent conductive layer bonded by the in-mold molding to the one surface of the base portion formed by the in-mold molding using the in-mold film having the transparent conductive layer on the base film. In addition, a region excluding the electrode formation region is covered with the base film in a state where the electrode formation region of the transparent conductive film is exposed.

また、本発明に係るタッチスイッチ用中間体製造方法は、基体部と当該基体部の一面に形成された透明導電膜とを備えた静電容量式のタッチスイッチ用中間体を製造するタッチスイッチ用中間体製造方法であって、ベースフィルム上に透明導電層を有するインモールドフィルムを挟み込んだ状態のインモールド成形用金型のキャビティに対して樹脂を射出するインモールド成形によって前記基体部を成形すると共に当該インモールド成形によって当該基体部の一面に前記透明導電層を貼合することによって前記透明導電膜を形成した後に、前記ベースフィルムの所定部分を切り離して前記透明導電膜の電極形成領域を露出させると共に当該電極形成領域を除く領域を当該ベースフィルムによって覆われた状態に維持する。   Further, the touch switch intermediate manufacturing method according to the present invention is for a touch switch for manufacturing a capacitive touch switch intermediate including a base portion and a transparent conductive film formed on one surface of the base portion. An intermediate manufacturing method, wherein the base portion is molded by in-mold molding in which a resin is injected into a cavity of an in-mold molding mold in which an in-mold film having a transparent conductive layer is sandwiched between base films. In addition, after forming the transparent conductive film by bonding the transparent conductive layer to one surface of the base portion by the in-mold molding, a predetermined portion of the base film is separated to expose an electrode formation region of the transparent conductive film And the region excluding the electrode formation region is kept covered with the base film.

この場合、前記ベースフィルムの前記所定部分を他の部分から切り離すための切り込みが形成された前記インモールドフィルムを用いて前記インモールド成形を行った後に、前記所定部分を前記切り込みに沿って切り離すことができる。   In this case, after performing the in-mold molding using the in-mold film in which the notch for separating the predetermined part of the base film from the other part is formed, the predetermined part is separated along the notch. Can do.

本発明に係るタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、インモールドフィルムを用いたインモールド成形によって基体部の一面にインモールドフィルムの透明導電層を貼合して形成した透明導電膜の電極形成領域を露出させると共に透明導電膜における電極形成領域を除く領域をベースフィルムによって覆ったことにより、従来のタッチパネルおよび製造方法とは異なり、2枚のガラス基板を貼り合わせる煩雑な工程を省略することができるため、製造工程を簡略することができる結果、製造コストを低減することができる。また、従来のタッチパネルおよび製造方法では、両ガラス基板を隙間なく貼り合わせるのに高度な技術を要するため、両者の間に隙間が生じ易く、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響を十分に少なく抑えるのが困難な結果、誤作動が十分に少なく信頼性の高いタッチパネルの実現が困難である。これに対して、このタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法では、透明導電膜が基体部およびベースフィルムによって隙間のない状態で挟み込まれている。したがって、このタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、2枚のガラス基板の間に隙間の生じるおそれのある従来のタッチパネルおよび製造方法と比較して、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響を十分に少なく抑えることが可能な結果、誤作動が十分に少なく信頼性の高いタッチスイッチを構成することができる。さらに、従来のタッチパネルおよび製造方法では、ガラス基板を用いているため、ATMなどのような比較的大型で特定の箇所に設置するような設備の入力装置に用いるのには適しているものの、携帯型の機器の入力装置としては、重量が大きくなるという問題点や、落下や衝撃によって破損し易いという問題点がある。これに対して、このタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法では、インモールド成形によって基体部を樹脂で形成することができる。したがって、このタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、重量が軽くしかも破損し難いタッチスイッチを構成することができる。   According to the touch switch intermediate and the touch switch intermediate manufacturing method according to the present invention, the transparent conductive layer of the in-mold film is formed on one surface of the base portion by in-mold molding using the in-mold film. Unlike the conventional touch panel and the manufacturing method, the electrode film forming region of the transparent conductive film is exposed and the region excluding the electrode forming region in the transparent conductive film is covered with the base film. Since the process can be omitted, the manufacturing process can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the conventional touch panel and manufacturing method require advanced technology to bond both glass substrates without gaps, gaps are likely to occur between them, and the effects of changes in the surrounding environment such as temperature and humidity are sufficient. As a result that it is difficult to reduce the number, it is difficult to realize a highly reliable touch panel with sufficiently few malfunctions. On the other hand, in this touch switch intermediate and the touch switch intermediate manufacturing method, the transparent conductive film is sandwiched between the base portion and the base film without any gap. Therefore, according to the touch switch intermediate and the touch switch intermediate manufacturing method, compared with the conventional touch panel and the manufacturing method in which a gap may be generated between the two glass substrates, the temperature, humidity, and the like. As a result of being able to suppress the influence due to the surrounding environment change to a sufficiently low level, it is possible to configure a touch switch with a sufficiently low malfunction and a high reliability. Furthermore, since the conventional touch panel and the manufacturing method use a glass substrate, the touch panel is relatively large and is suitable for use in an input device of equipment installed at a specific location such as an ATM. As an input device of a type device, there are a problem that the weight is increased and a problem that it is easily damaged by dropping or impact. On the other hand, in the touch switch intermediate and the touch switch intermediate manufacturing method, the base portion can be formed of resin by in-mold molding. Therefore, according to the touch switch intermediate body and the touch switch intermediate manufacturing method, a touch switch that is light in weight and hardly damaged can be configured.

また、本発明に係るタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、ベースフィルムに切り込みを形成したインモールドフィルムを用いてインモールド成形を行った後に、ベースフィルムの所定部分を切り込みに沿って切り離して透明導電膜の電極形成領域を露出させることにより、切り取り用の器具を用いることなく、ベースフィルムの所定部分を容易に切り取ることができる結果、製造効率を十分に向上させることができる。   Moreover, according to the intermediate manufacturing method for a touch switch according to the present invention, after performing in-mold molding using the in-mold film in which the base film is cut, a predetermined portion of the base film is cut along the cut. By exposing the electrode forming region of the transparent conductive film, it is possible to easily cut a predetermined portion of the base film without using a cutting tool, and as a result, manufacturing efficiency can be sufficiently improved.

以下、本発明に係るタッチスイッチ用中間体およびタッチスイッチ用中間体製造方法の最良の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, the best mode of an intermediate for touch switch and a method for manufacturing an intermediate for touch switch according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、本発明に係るタッチスイッチ用中間体の一例としてのタッチスイッチ用中間体1(以下、単に「中間体1」ともいう)の構成について、図面を参照して説明する。   First, a configuration of a touch switch intermediate 1 (hereinafter also simply referred to as “intermediate 1”) as an example of a touch switch intermediate according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図1,2に示す中間体1は、例えば、電気機器等におけるタッチ式の操作部として機能する静電容量式のタッチスイッチに用いられる中間体であって、同図に示すように、基体部2、透明導電膜3および保護膜4を備えて構成され、後述するインモールド金型102(図3参照:以下、単に「金型102」ともいう)を用いたインモールド成形によって製造される。   An intermediate body 1 shown in FIGS. 1 and 2 is an intermediate body used for, for example, a capacitive touch switch that functions as a touch-type operation unit in an electric device or the like. As shown in FIG. 2, comprising a transparent conductive film 3 and a protective film 4, and is manufactured by in-mold molding using an in-mold mold 102 (see FIG. 3; hereinafter, also simply referred to as “mold 102”).

基体部2は、図1,2に示すように、例えば矩形の板状に構成され、金型102のキャビティ102a(図10参照)に透明性を有する樹脂(一例として、アクリル樹脂)を射出することによって成形される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the base portion 2 is configured in a rectangular plate shape, for example, and injects a transparent resin (an acrylic resin as an example) into the cavity 102 a (see FIG. 10) of the mold 102. It is formed by.

透明導電膜3は、後述する帯状のインモールドフィルム30(図6参照)における透明導電層33の切り取られた一部がインモールド成形によって基体部2の一面2aに貼合されることによって形成(配設)される。保護膜4は、インモールドフィルム30におけるベースフィルム31の切り取られた一部によって構成されて、図1,2に示すように、図外の駆動用の回路と透明導電膜3とを接続するための電極が形成される透明導電膜3の端部3a(本発明における電極形成領域)を除く被覆領域3bを覆うようにして透明導電膜3の上に配設されている。つまり、このタッチスイッチ用中間体1では、透明導電膜3の端部3aが基体部2の端部2cにおいて露出させられた状態で、被覆領域3bがベースフィルム31によって覆われている。この場合、透明導電膜3と基体部2の一面2aとの間にはインモールドフィルム30の熱溶融性樹脂層34が存在し、保護膜4と透明導電膜3との間にはインモールドフィルム30のアンカー層32が存在するが、図1,2ではその図示を省略している。なお、ベースフィルム31(つまり保護膜4)、アンカー層32、透明導電層33(つまり透明導電膜3)および熱溶融性樹脂層34の材料や形成方法等については後に詳述する。   The transparent conductive film 3 is formed by bonding a part of the transparent conductive layer 33 cut out in a band-shaped in-mold film 30 (see FIG. 6), which will be described later, to the one surface 2a of the base portion 2 by in-mold molding ( Arranged). The protective film 4 is constituted by a part of the base film 31 cut out of the in-mold film 30 and connects the driving circuit and the transparent conductive film 3 outside the figure as shown in FIGS. The transparent conductive film 3 is disposed on the transparent conductive film 3 so as to cover the covering region 3b except the end 3a (electrode forming region in the present invention) of the transparent conductive film 3 on which the electrode is formed. That is, in the touch switch intermediate 1, the covering region 3 b is covered with the base film 31 in a state where the end 3 a of the transparent conductive film 3 is exposed at the end 2 c of the base 2. In this case, the heat-meltable resin layer 34 of the in-mold film 30 exists between the transparent conductive film 3 and the one surface 2 a of the base portion 2, and the in-mold film is interposed between the protective film 4 and the transparent conductive film 3. There are 30 anchor layers 32, which are not shown in FIGS. The materials and forming methods of the base film 31 (that is, the protective film 4), the anchor layer 32, the transparent conductive layer 33 (that is, the transparent conductive film 3), and the hot-melt resin layer 34 will be described in detail later.

次に、製造装置101の構成について、図面を参照して説明する。   Next, the configuration of the manufacturing apparatus 101 will be described with reference to the drawings.

製造装置101は、図3に示すように、金型102、インモールドフィルム移動装置103および射出成形機104を備えて構成されている。金型102は、本発明に係るタッチスイッチ用中間体製造方法に従ってインモールド成形によって中間体1を製造可能な金型であって、固定側金型111および移動側金型121を備えて構成されている。この場合、金型102は、射出成形機104による1回の成形工程(1ショット)で4つの中間体1を成形可能(4個取り)に構成されている。また、金型102は、インモールドフィルム移動装置103によって移動させられるインモールドフィルム30を挟み込んだ状態で(図10参照)、固定側金型111の本体部113と移動側金型121の本体部123とが接合可能に構成されている。   As shown in FIG. 3, the manufacturing apparatus 101 includes a mold 102, an in-mold film moving apparatus 103, and an injection molding machine 104. The mold 102 is a mold capable of manufacturing the intermediate body 1 by in-mold molding according to the touch switch intermediate manufacturing method according to the present invention, and includes a fixed-side mold 111 and a moving-side mold 121. ing. In this case, the mold 102 is configured such that four intermediate bodies 1 can be molded (four pieces) in one molding step (one shot) by the injection molding machine 104. In addition, the mold 102 is sandwiched between the in-mold film 30 moved by the in-mold film moving device 103 (see FIG. 10), and the main body 113 of the fixed mold 111 and the main body of the moving mold 121 are inserted. 123 can be joined.

固定側金型111は、図4に示すように、ベース部112および本体部113を備えて構成されている。ベース部112は、板状に形成されて、射出成形機104の固定側取付部(図示せず)に取り付け可能に構成されている。本体部113は、ベース部112に固定されて、図10に示すように、インモールドフィルム30を挟み込んだ状態で、移動側金型121の本体部123と接合可能に構成されている。   As shown in FIG. 4, the fixed-side mold 111 includes a base portion 112 and a main body portion 113. The base portion 112 is formed in a plate shape and is configured to be attachable to a fixed side attachment portion (not shown) of the injection molding machine 104. The main body portion 113 is fixed to the base portion 112 and is configured to be able to be joined to the main body portion 123 of the moving-side mold 121 with the in-mold film 30 sandwiched therebetween as shown in FIG.

移動側金型121は、図5に示すように、ベース部122、本体部123、スペーサブロック124およびイジェクトプレート125を備えて構成されている。ベース部122は、板状に形成されて、射出成形機104における移動側取付部(図示せず)に取り付け可能に構成されている。本体部123は、スペーサブロック124を介してベース部122に固定されている。また、本体部123の金型面123aには、図5,9に示すように、キャビティ102aを構成する凹部123bが4つ形成されている。また、本体部123には、固定側金型111のスプルー113b(図4参照)と凹部123bの縁部に形成されたゲート123cとを繋ぐランナーを構成する溝123dが形成されている。イジェクトプレート125は、ベース部122と本体部123との間に配設されて、射出成形機104によってベース部122と本体部123との間を移動させられることにより、図外のイジェクトピンを本体部123の前方に突き出させる。   As shown in FIG. 5, the moving-side mold 121 includes a base portion 122, a main body portion 123, a spacer block 124, and an eject plate 125. The base part 122 is formed in a plate shape and is configured to be attachable to a moving side attaching part (not shown) in the injection molding machine 104. The main body portion 123 is fixed to the base portion 122 via the spacer block 124. Further, as shown in FIGS. 5 and 9, four recesses 123b constituting the cavity 102a are formed on the mold surface 123a of the main body 123. The main body 123 is formed with a groove 123d that constitutes a runner that connects the sprue 113b (see FIG. 4) of the fixed mold 111 and the gate 123c formed at the edge of the recess 123b. The eject plate 125 is disposed between the base portion 122 and the main body portion 123, and is moved between the base portion 122 and the main body portion 123 by the injection molding machine 104. It protrudes in front of the part 123.

インモールドフィルム移動装置103は、図3に示すように、固定側金型111と移動側金型121との間において、1回のインモールド成形(1ショット)毎に所定の長さ(例えば、図7,8に示す長さL)だけインモールドフィルム30を移動させる。   As shown in FIG. 3, the in-mold film moving apparatus 103 has a predetermined length (for example, for each in-mold molding (one shot) between the fixed-side mold 111 and the moving-side mold 121 (for example, The in-mold film 30 is moved by the length L) shown in FIGS.

ここで、インモールドフィルム30は、図6に示すように、上記したベースフィルム31、アンカー層32、透明導電層33および熱溶融性樹脂層34で構成されている。ベースフィルム31は、透明性および可撓性を有する樹脂フィルムであって、帯状に形成されている。この場合、ベースフィルム31の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム、セロハンフィルム、およびノルボルネンフィルム(一例として、JSR(株)製「アートン」(登録商標))等を用いることができる。また、ベースフィルム31の厚みは、5〜100μmが好ましく、取り扱い容易性や成形安定性を考慮すると15〜75μmがより好ましい。   Here, as shown in FIG. 6, the in-mold film 30 includes the base film 31, the anchor layer 32, the transparent conductive layer 33, and the hot-melt resin layer 34. The base film 31 is a resin film having transparency and flexibility, and is formed in a strip shape. In this case, as the material of the base film 31, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET), a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, a polycarbonate film, a nylon film, an acrylic film, a cellophane film, and a norbornene film (for example, JSR ( "Arton" (registered trademark) manufactured by Co., Ltd. Further, the thickness of the base film 31 is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 15 to 75 μm in view of ease of handling and molding stability.

また、図7,8に示すように、ベースフィルム31には、円形の孔31aおよび略長方形の孔31cが形成されている。この場合、孔31aは、インモールド成形の際に金型102に対するインモールドフィルム30の位置決めを行うための孔であって、一例として、1回の成形工程でインモールドフィルム移動装置103によって移動させられる長さL分の領域Aに4つずつ形成されている。また、孔31cは、1回の成形工程で成形される4つの中間体1を切り離すための孔であって、上記した領域Aに3つずつ形成されている。この場合、各孔31cは、図8に示すように、各々の縁部と金型102のキャビティ102a(同図に一点鎖線で示す)の縁部とが同じ位置となるように、その大きさや形成位置が規定されている。なお、同図では、理解を容易にするために、キャビティ102aの縁部の一部を示す一点鎖線を各孔31c上に図示している。さらに、同図に示すように、ベースフィルム31には、その一部(本発明における所定部分に相当し、後述する保護膜4の端部4a)を切り取るための切り込み31dが形成されている。   7 and 8, the base film 31 is formed with a circular hole 31a and a substantially rectangular hole 31c. In this case, the hole 31a is a hole for positioning the in-mold film 30 with respect to the mold 102 at the time of in-mold molding. For example, the hole 31a is moved by the in-mold film moving device 103 in one molding process. Four each are formed in the region A corresponding to the length L. The holes 31c are holes for separating the four intermediate bodies 1 formed in one molding step, and are formed in the above-described region A by three. In this case, as shown in FIG. 8, the size of each hole 31c is such that each edge and the edge of the cavity 102a of the mold 102 (shown by a one-dot chain line) are at the same position. The formation position is defined. In the figure, in order to facilitate understanding, a one-dot chain line showing a part of the edge of the cavity 102a is shown on each hole 31c. Further, as shown in the figure, the base film 31 is formed with a cut 31d for cutting out a part thereof (corresponding to a predetermined portion in the present invention and an end 4a of a protective film 4 described later).

アンカー層32は、剥離性を有する層であって、例えば、シリコーン系、アクリル系およびメラミン系等の各種の熱硬化型ハードコート剤を溶剤に溶解した液体をベースフィルム31の上に塗布して、乾燥させることによって形成されている。この場合、高い硬度が得られる点で優れているシリコーン系ハードコート剤を用いるのが好ましい。また、不飽和ポリエステル樹脂系およびアクリル系等のラジカル重合性ハードコート剤、並びにエポキシ系およびビニルエーテル系等のカチオン重合性ハードコート剤などの各種の紫外線硬化型ハードコート剤を熱硬化型ハードコート剤に代えて用いることもできる。この場合、硬化反応性や表面硬度の点で優れているアクリル系のラジカル重合性ハードコート剤を用いるのが望ましい。また、アンカー層32は、図8に示すように、ベースフィルム31の一面における各孔31cの形成部位間において帯状に形成されている。   The anchor layer 32 is a layer having releasability. For example, a liquid obtained by dissolving various thermosetting hard coat agents such as silicone, acrylic and melamine in a solvent is applied on the base film 31. It is formed by drying. In this case, it is preferable to use a silicone-based hard coating agent that is excellent in that high hardness can be obtained. Also, various ultraviolet curable hard coating agents such as unsaturated polyester resin-based and acrylic-based radical polymerizable hard coating agents, and epoxy-based and vinyl ether-based cationic polymerizable hard coating agents such as thermosetting hard coating agents. It can replace with and can also be used. In this case, it is desirable to use an acrylic radical polymerizable hard coating agent which is excellent in terms of curing reactivity and surface hardness. Further, as shown in FIG. 8, the anchor layer 32 is formed in a band shape between the portions where the holes 31 c are formed on one surface of the base film 31.

透明導電層33は、透明性および導電性を有する薄膜であって、アンカー層32の上、つまり上記した各孔31cの形成部位間において帯状に形成されている。透明導電層33の材料としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウムおよび亜鉛ドープ酸化インジウム等の酸化インジウムの微粒子、アンチモンドープ酸化錫(ATO)およびフッ素ドープ酸化錫(FTO)等の酸化錫の微粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛および硼素ドープ酸化亜鉛等の酸化亜鉛の微粒子、並びに酸化カドミウムなどの各種の導電性無機微粒子を用いることができる。この場合、優れた導電性が得られる点でITOを用いるのが好ましい。あるいは、ITOやATOを硫酸バリウム等の透明性を有する微粒子の表面にコーティングしたものを用いることもできる。また、これら微粒子の粒子径は、要求される光学特性および電気特性に応じて任意に規定することができるが、良好な光学特性(ヘイズ値)を得るためには、1.0μm以下に規定するのが好ましく、1nm〜100nmに規定するのがより好ましく、5nm〜100nmに規定するのがさらに好ましい。   The transparent conductive layer 33 is a thin film having transparency and conductivity, and is formed in a band shape on the anchor layer 32, that is, between the formation portions of the holes 31c described above. Examples of the material of the transparent conductive layer 33 include fine particles of indium oxide such as tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide and zinc-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), and fluorine-doped tin oxide (FTO). Tin oxide fine particles, aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide and other zinc oxide fine particles, and various conductive materials such as cadmium oxide Inorganic fine particles can be used. In this case, it is preferable to use ITO in terms of obtaining excellent conductivity. Or what coated ITO and ATO on the surface of fine particles which have transparency, such as barium sulfate, can also be used. The particle diameter of these fine particles can be arbitrarily defined according to the required optical characteristics and electrical characteristics, but in order to obtain good optical characteristics (haze value), it is specified to be 1.0 μm or less. Is more preferable, and it is more preferably specified in the range of 1 nm to 100 nm, and further preferably in the range of 5 nm to 100 nm.

熱溶融性樹脂層34は、所定の温度(例えば90℃程度)で溶融状態となる樹脂材料を透明導電層33の上に溶融した状態で塗布することによって形成されている。熱溶融性樹脂層34に用いる樹脂材料としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、オレフィン系樹脂、硝化綿系樹脂、ポリウレタン系樹脂、塩化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂および塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体等を用いることができる。なお、これらの中で、基体部2を構成する樹脂(一例として、アクリル樹脂)との相溶性の良好なものを熱溶融性樹脂層34用の樹脂として用いるが好ましい。この場合、熱溶融性樹脂層34の形成過程において、上記した溶融した熱溶融性樹脂層34用の樹脂を透明導電層33の上に塗布した際に、透明導電層33を構成する微粒子間の隙間に樹脂が含浸される。このため、このインモールドフィルム30では、透明導電層33が柔軟性を有して構成される。   The heat-meltable resin layer 34 is formed by applying a resin material that is in a molten state at a predetermined temperature (for example, about 90 ° C.) on the transparent conductive layer 33 in a molten state. Resin materials used for the heat-meltable resin layer 34 include polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, polycarbonate resins, olefin resins, nitrified cotton resins, polyurethane resins, chlorinated rubber resins, and polyamide resins. And vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and the like can be used. Among these, it is preferable to use a resin having good compatibility with the resin (for example, acrylic resin) constituting the base portion 2 as the resin for the hot-melt resin layer 34. In this case, in the formation process of the heat-meltable resin layer 34, when the above-described molten resin for the heat-meltable resin layer 34 is applied on the transparent conductive layer 33, the particles between the fine particles constituting the transparent conductive layer 33 are used. The gap is impregnated with resin. For this reason, in this in-mold film 30, the transparent conductive layer 33 is configured with flexibility.

射出成形機104は、一例として、横型の射出成形機であって、固定側取付部、移動側取付部、型締め機構、射出機構およびイジェクト機構(いずれも図示せず)などを備えて構成されている。   The injection molding machine 104 is a horizontal injection molding machine as an example, and includes a fixed side mounting portion, a moving side mounting portion, a mold clamping mechanism, an injection mechanism, an ejection mechanism (all not shown), and the like. ing.

次に、製造装置101(金型102)を用いて本発明に係るタッチスイッチ用中間体製造方法に従って中間体1を製造する工程について、図面を参照して説明する。   Next, the process of manufacturing the intermediate body 1 according to the touch switch intermediate manufacturing method according to the present invention using the manufacturing apparatus 101 (mold 102) will be described with reference to the drawings.

まず、図3に示すように、射出成形機104における図外の固定側取付部および移動側取付部に金型102の固定側金型111および移動側金型121をそれぞれ取り付ける。次いで、ベースフィルム31を固定側金型111の金型面113a(図4,9参照)に対向させるようにして、インモールドフィルム30をインモールドフィルム移動装置103にセットして、インモールドフィルム移動装置103を作動させる。この際に、インモールドフィルム移動装置103が、金型102の固定側金型111と移動側金型121との間においてインモールドフィルム30を所定の長さだけ移動させる。続いて、射出成形機104を作動させる。この際に、射出成形機104の型締め機構が移動側取付部を固定側取付部に向けて移動させることにより、図10に示すように、固定側金型111と移動側金型121とがインモールドフィルム30を挟み込んだ状態で互いに接合させられる。   First, as shown in FIG. 3, the fixed side mold 111 and the movable side mold 121 of the mold 102 are respectively attached to the fixed side mounting part and the moving side mounting part outside the figure in the injection molding machine 104. Next, the in-mold film 30 is set on the in-mold film moving device 103 so that the base film 31 faces the mold surface 113a (see FIGS. 4 and 9) of the fixed-side mold 111, and the in-mold film is moved. The device 103 is activated. At this time, the in-mold film moving device 103 moves the in-mold film 30 by a predetermined length between the stationary mold 111 and the movable mold 121 of the mold 102. Subsequently, the injection molding machine 104 is operated. At this time, the mold clamping mechanism of the injection molding machine 104 moves the moving side mounting portion toward the fixed side mounting portion, so that the fixed side mold 111 and the moving side mold 121 are moved as shown in FIG. They are bonded to each other with the in-mold film 30 sandwiched therebetween.

次いで、射出成形機104の射出機構が、流動状態の樹脂を圧送する。この際に、射出成形機104から圧送された樹脂がスプルー113bおよびランナーを通り、移動側金型121の本体部123に形成されているゲート123cからキャビティ102a内に射出される。続いて、ゲート123cからキャビティ102a内に射出された樹脂が、インモールドフィルム30をキャビティ102a構成する固定側金型111における本体部113の金型面113aに押し付けつつキャビティ102aに充填される。また、射出された樹脂の熱によってインモールドフィルム30の熱溶融性樹脂層34が溶融して樹脂との間で相溶状態となる。このため、成形後の基体部2の一面2aに熱溶融性樹脂層34を介して透明導電層33が確実に貼合される。   Next, the injection mechanism of the injection molding machine 104 pumps the resin in a fluid state. At this time, the resin pumped from the injection molding machine 104 passes through the sprue 113b and the runner, and is injected into the cavity 102a from the gate 123c formed in the main body 123 of the moving side mold 121. Subsequently, the resin injected from the gate 123c into the cavity 102a is filled into the cavity 102a while pressing the in-mold film 30 against the mold surface 113a of the main body 113 of the stationary mold 111 constituting the cavity 102a. Moreover, the heat-meltable resin layer 34 of the in-mold film 30 is melted by the heat of the injected resin and becomes compatible with the resin. For this reason, the transparent conductive layer 33 is reliably bonded to the one surface 2a of the base portion 2 after molding via the hot-melt resin layer 34.

次いで、所定の冷却時間が経過した後に、射出成形機104の型締め機構が固定側取付部から離反する向きに移動側取付部を移動させることにより、固定側金型111と移動側金型121との接合が解除されて、移動側金型121が固定側金型111から離反させられる。この際に、射出された樹脂が固化することによって成形された成形品(4つの基体部2)およびインモールドフィルム30が移動側金型121と共に固定側金型111から引き離される。続いて、射出成形機104のイジェクト機構が移動側金型121のイジェクトプレート125を本体部123側に移動させることにより、図外のイジェクトピンが本体部123の前方に突き出されて、インモールドフィルム30を介して繋がった状態の4つの基体部2がインモールドフィルム30と共に移動側金型121から取り出される。   Next, after a predetermined cooling time has elapsed, the fixed-side mold 111 and the movable-side mold 121 are moved by moving the moving-side mounting portion in a direction in which the mold clamping mechanism of the injection molding machine 104 moves away from the fixed-side mounting portion. And the moving side mold 121 is separated from the fixed side mold 111. At this time, the molded product (four base portions 2) and the in-mold film 30 formed by solidifying the injected resin are separated from the fixed mold 111 together with the moving mold 121. Subsequently, when the ejection mechanism of the injection molding machine 104 moves the ejection plate 125 of the movable mold 121 to the main body portion 123 side, an unillustrated ejection pin is projected forward of the main body portion 123, and the in-mold film The four base portions 2 connected through 30 are taken out of the moving mold 121 together with the in-mold film 30.

次いで、インモールドフィルム移動装置103が、インモールドフィルム30を所定の長さだけ移動させる。続いて、例えば、図11に示す破線の部分でインモールドフィルム30を切断する。これにより、図12に示すように、切断されたインモールドフィルム30(つまり、透明導電膜3および保護膜4)が貼り付いた状態の4つの基体部2が切り離される。次いで、図13に示すように、保護膜4(ベースフィルム31)の端部4aを切り取る。これにより、端部4aの下に位置する透明導電膜3(透明導電層33)の端部3aが露出させられる。また、透明導電膜3における端部3aを除く被覆領域3bは、保護膜4(ベースフィルム31)によって覆われた状態に維持される。以上により、中間体1の製造が完了する。   Next, the in-mold film moving device 103 moves the in-mold film 30 by a predetermined length. Subsequently, for example, the in-mold film 30 is cut at a broken line portion shown in FIG. Thereby, as shown in FIG. 12, the four base | substrate parts 2 of the state to which the cut | disconnected in-mold film 30 (namely, the transparent conductive film 3 and the protective film 4) adhered was cut | disconnected. Next, as shown in FIG. 13, the end 4a of the protective film 4 (base film 31) is cut off. Thereby, the edge part 3a of the transparent conductive film 3 (transparent conductive layer 33) located under the edge part 4a is exposed. Moreover, the covering region 3b except the end 3a in the transparent conductive film 3 is maintained in a state covered with the protective film 4 (base film 31). Thus, the production of the intermediate 1 is completed.

この場合、このインモールドフィルム30では、ベースフィルム31に切り込み31dが予め形成されているため、切り取り用の器具を用いることなく、保護膜4の端部4aを容易に切り取ることができる。また、熱溶融性樹脂層34によって透明導電膜3(透明導電層33)が基体部2の一面2aに確実に貼合されている(貼り付いている)。このため、保護膜4の端部4aの切り取りに伴って透明導電膜3が基体部2から剥がされる事態が確実に防止される。   In this case, in this in-mold film 30, since the cut 31d is previously formed in the base film 31, the end 4a of the protective film 4 can be easily cut without using a cutting tool. Further, the transparent conductive film 3 (transparent conductive layer 33) is securely bonded (attached) to the one surface 2 a of the base portion 2 by the heat-meltable resin layer 34. For this reason, the situation where the transparent conductive film 3 is peeled off from the base portion 2 along with the cutting off of the end portion 4a of the protective film 4 is reliably prevented.

また、このタッチスイッチ用中間体製造方法では、インモールドフィルム30のベースフィルム31の切り取った一部を保護膜4として用いて透明導電膜3の被覆領域3bをその保護膜4によって覆っている。このため、従来のタッチパネルおよび製造方法とは異なり、2枚のガラス基板を貼り合わせる煩雑な工程を省略することができるため、製造工程が簡略化される結果、製造コストの低減が可能となっている。また、従来のタッチパネルおよび製造方法では、両ガラス基板を隙間なく貼り合わせるのに高度な技術を要するため、両者の間に隙間が生じ易く、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響を十分に少なく抑えるのが困難な結果、誤作動が十分に少なく信頼性の高いタッチパネルの実現が困難である。これに対して、この中間体1およびタッチスイッチ用中間体製造方法では、ベースフィルム31と透明導電層33とがアンカー層32を介して密着しているインモールドフィルム30をインモールド成形によって基体部2の一面2aに密着するように配設している。つまり、隙間のない状態で透明導電膜3が基体部2および保護膜4によって挟み込まれている。このため、2枚のガラス基板の間に隙間の生じるおそれのある従来のタッチパネルおよび製造方法とは異なり、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響を十分に少なく抑えることが可能な結果、誤作動が十分に少なく信頼性の高いタッチスイッチを構成することが可能となっている。さらに、従来のタッチパネルおよび製造方法では、ガラス基板を用いているため、ATMなどのような比較的大型で特定の箇所に設置するような設備の入力装置に用いるのには適しているものの、携帯型の機器の入力装置としては、重量が大きくなるという問題点や、落下や衝撃によって破損し易いという問題点がある。これに対して、この中間体1およびタッチスイッチ用中間体製造方法では、基体部2がインモールド成形によって樹脂で形成されている。したがって、この中間体1およびこのタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、重量が軽くしかも破損し難いタッチスイッチを構成することが可能となっている。   Further, in this touch switch intermediate manufacturing method, a part of the base film 31 cut out of the in-mold film 30 is used as the protective film 4, and the covering region 3 b of the transparent conductive film 3 is covered with the protective film 4. For this reason, unlike the conventional touch panel and the manufacturing method, since the complicated process of bonding two glass substrates can be omitted, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. Yes. In addition, since the conventional touch panel and manufacturing method require advanced technology to bond both glass substrates without gaps, gaps are likely to occur between them, and the effects of changes in the surrounding environment such as temperature and humidity are sufficient. As a result that it is difficult to reduce the number, it is difficult to realize a highly reliable touch panel with sufficiently few malfunctions. In contrast, in the intermediate body 1 and the touch switch intermediate manufacturing method, the in-mold film 30 in which the base film 31 and the transparent conductive layer 33 are in close contact with each other via the anchor layer 32 is formed by in-mold molding. 2 is arranged in close contact with one surface 2a. That is, the transparent conductive film 3 is sandwiched between the base portion 2 and the protective film 4 without a gap. For this reason, unlike conventional touch panels and manufacturing methods that may cause a gap between two glass substrates, the effects of changes in the surrounding environment such as temperature and humidity can be suppressed to a sufficiently low level. It is possible to construct a highly reliable touch switch that operates sufficiently little. Furthermore, since the conventional touch panel and the manufacturing method use a glass substrate, the touch panel is relatively large and is suitable for use in an input device of equipment installed at a specific location such as an ATM. As an input device of a type device, there are a problem that the weight is increased and a problem that it is easily damaged by dropping or impact. On the other hand, in the intermediate body 1 and the touch switch intermediate manufacturing method, the base portion 2 is formed of resin by in-mold molding. Therefore, according to this intermediate body 1 and this touch switch intermediate manufacturing method, it is possible to constitute a touch switch that is light in weight and hardly damaged.

続いて、中間体1における基体部2の他面2b(タッチ面となる面:図2参照)に傷付き防止用のハードコート加工、および反射防止加工を施す。次いで、基体部2の端部2cにおいて露出している透明導電膜3の端部3aに金属膜を形成して電極とし、この電極と駆動用の回路とを接続する。以上によりタッチスイッチが完成する。   Subsequently, the other surface 2b (surface to be a touch surface: refer to FIG. 2) of the base body 2 in the intermediate body 1 is subjected to hard coat processing for preventing scratches and antireflection processing. Next, a metal film is formed on the end portion 3a of the transparent conductive film 3 exposed at the end portion 2c of the base portion 2 to form an electrode, and this electrode is connected to a driving circuit. Thus, the touch switch is completed.

このように、この中間体1およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、インモールドフィルム30を用いたインモールド成形によって基体部2の一面2aに透明導電層33を貼合して形成した透明導電膜3の端部3aを露出させると共に透明導電膜3の被覆領域3bをベースフィルム31によって覆ったことにより、従来のタッチパネルおよび製造方法とは異なり、2枚のガラス基板を貼り合わせる煩雑な工程を省略することができるため、製造工程を簡略することができる結果、製造コストを低減することができる。また、この中間体1およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、透明導電膜3が基体部2および保護膜4によって隙間のない状態で挟み込まれているため、2枚のガラス基板の間に隙間の生じるおそれのある従来のタッチパネルおよび製造方法と比較して、温度や湿度等の周囲の環境変化による影響を十分に少なく抑えることが可能な結果、誤作動が十分に少なく信頼性の高いタッチスイッチを構成することができる。さらに、この中間体1およびタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、ガラス基板を用いる従来のタッチパネルおよび製造方法とは異なり、基体部2をインモールド成形によって樹脂で形成することができるため、重量が軽くしかも破損し難いタッチスイッチを構成することができる。   Thus, according to the intermediate body 1 and the touch switch intermediate manufacturing method, the transparent conductive layer 33 is formed by bonding the transparent conductive layer 33 to the one surface 2a of the base portion 2 by in-mold molding using the in-mold film 30. Unlike the conventional touch panel and the manufacturing method, the complicated process of bonding two glass substrates by exposing the end 3a of the conductive film 3 and covering the covering region 3b of the transparent conductive film 3 with the base film 31. Since the manufacturing process can be simplified, the manufacturing cost can be reduced. Moreover, according to this intermediate body 1 and the touch switch intermediate manufacturing method, since the transparent conductive film 3 is sandwiched between the base portion 2 and the protective film 4 without a gap, it is interposed between the two glass substrates. Compared to conventional touch panels and manufacturing methods that may cause gaps, the effects of changes in the surrounding environment such as temperature and humidity can be suppressed to a sufficiently low level. A switch can be configured. Furthermore, according to the intermediate body 1 and the touch switch intermediate manufacturing method, unlike the conventional touch panel and manufacturing method using a glass substrate, the base portion 2 can be formed of resin by in-mold molding. It is possible to construct a touch switch that is light and difficult to break.

また、このタッチスイッチ用中間体製造方法によれば、ベースフィルム31に切り込み31dを形成したインモールドフィルム30を用いてインモールド成形を行った後に、保護膜4の端部4aを切り込み31dに沿って切り離して透明導電膜3の端部3aを露出させることにより、切り取り用の器具を用いることなく、保護膜4の端部4aを容易に切り取ることができる結果、製造効率を十分に向上させることができる。   Further, according to this touch switch intermediate manufacturing method, after performing in-mold molding using the in-mold film 30 in which the cut 31d is formed in the base film 31, the end 4a of the protective film 4 is cut along the cut 31d. By separating and exposing the end portion 3a of the transparent conductive film 3, the end portion 4a of the protective film 4 can be easily cut without using a cutting tool, thereby sufficiently improving the manufacturing efficiency. Can do.

なお、本発明は上記の構成に限定されない。例えば、矩形の板状に構成された基体部2を備えた例について上記したが、基体部2の形状はこれに限定されず任意の形状に規定することができる。例えば、湾曲形状の基体部を採用することもできるし、複数の板状のパネルを繋げた形状の基体部を採用することもできる。   In addition, this invention is not limited to said structure. For example, although the example provided with the base part 2 configured in the shape of a rectangular plate has been described above, the shape of the base part 2 is not limited to this and can be defined as an arbitrary shape. For example, a curved base portion may be employed, or a base portion having a shape in which a plurality of plate-like panels are connected may be employed.

また、帯状のインモールドフィルム30を用いてインモールド成形を行った後にインモールドフィルム30を切断する例について上記したが、基体部2に挟み込まれる大きさおよび形状に予め切断されたインモールドフィルム30を用いてインモールド成形を行うこともできる。   Further, the example of cutting the in-mold film 30 after performing the in-mold molding using the strip-shaped in-mold film 30 is described above. However, the in-mold film 30 previously cut into a size and a shape sandwiched between the base portions 2 is described. It is also possible to perform in-mold molding using.

タッチスイッチ用中間体1の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the intermediate body 1 for touch switches. タッチスイッチ用中間体1の側面図である。It is a side view of the intermediate body 1 for touch switches. 製造装置101の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing a configuration of a manufacturing apparatus 101. FIG. 固定側金型111の斜視図である。3 is a perspective view of a fixed side mold 111. FIG. 移動側金型121の斜視図である。3 is a perspective view of a moving side mold 121. FIG. インモールドフィルム30の断面図である。2 is a cross-sectional view of an in-mold film 30. FIG. インモールドフィルム30の平面図である。2 is a plan view of an in-mold film 30. FIG. インモールドフィルム30の1つの領域Aの構成を示す平面図である。4 is a plan view showing a configuration of one region A of the in-mold film 30. FIG. 金型102の断面図である。2 is a sectional view of a mold 102. FIG. 固定側金型111と移動側金型121とを接合した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which joined the stationary side metal mold | die 111 and the movement side metal mold | die 121. FIG. 切り離し前の中間体1の平面図である。It is a top view of intermediate body 1 before separation. 切り離し後の中間体1の平面図である。It is a top view of intermediate body 1 after separation. 保護膜4の端部4aを切り取っている状態の斜視図である。It is a perspective view in the state where end 4a of protective film 4 is cut off.

符号の説明Explanation of symbols

1 タッチスイッチ用中間体
2 基体部
2a 一面
3 透明導電膜
3a 端部
3b 被覆領域
4 保護膜
4a 端部
30 インモールドフィルム
31 ベースフィルム
31d 切り込み
33 透明導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Intermediate body for touch switches 2 Base part 2a One surface 3 Transparent electrically conductive film 3a End part 3b Covering area 4 Protective film 4a End part 30 In-mold film 31 Base film 31d Cut 33 Transparent conductive layer

Claims (3)

基体部と、当該基体部の一面に形成された透明導電膜とを備えた静電容量式のタッチスイッチ用中間体であって、
前記透明導電膜は、ベースフィルム上に透明導電層を有するインモールドフィルムを用いたインモールド成形によって成形された前記基体部の前記一面に当該インモールド成形によって貼合された当該透明導電層で構成されると共に、当該透明導電膜の電極形成領域が露出させられた状態で当該電極形成領域を除く領域が前記ベースフィルムによって覆われているタッチスイッチ用中間体。
A capacitive touch switch intermediate comprising a base portion and a transparent conductive film formed on one surface of the base portion,
The said transparent conductive film is comprised with the said transparent conductive layer bonded by the said in-mold shaping | molding on the said one surface of the said base | substrate part shape | molded by the in-mold shaping | molding using the in-mold film which has a transparent conductive layer on a base film. And an intermediate for a touch switch in which a region excluding the electrode forming region is covered with the base film in a state where the electrode forming region of the transparent conductive film is exposed.
基体部と当該基体部の一面に形成された透明導電膜とを備えた静電容量式のタッチスイッチ用中間体を製造するタッチスイッチ用中間体製造方法であって、
ベースフィルム上に透明導電層を有するインモールドフィルムを挟み込んだ状態のインモールド成形用金型のキャビティに対して樹脂を射出するインモールド成形によって前記基体部を成形すると共に当該インモールド成形によって当該基体部の一面に前記透明導電層を貼合することによって前記透明導電膜を形成した後に、前記ベースフィルムの所定部分を切り離して前記透明導電膜の電極形成領域を露出させると共に当該電極形成領域を除く領域を当該ベースフィルムによって覆われた状態に維持するタッチスイッチ用中間体製造方法。
A touch switch intermediate manufacturing method for manufacturing a capacitive touch switch intermediate comprising a base portion and a transparent conductive film formed on one surface of the base portion,
The base portion is formed by in-mold molding in which a resin is injected into a cavity of an in-mold molding die in which an in-mold film having a transparent conductive layer is sandwiched on a base film, and the base by the in-mold molding. After forming the transparent conductive film by pasting the transparent conductive layer on one surface of the part, a predetermined portion of the base film is cut off to expose the electrode forming region of the transparent conductive film and remove the electrode forming region A method for manufacturing an intermediate for a touch switch, wherein the region is maintained in a state covered with the base film.
前記ベースフィルムの前記所定部分を他の部分から切り離すための切り込みが形成された前記インモールドフィルムを用いて前記インモールド成形を行った後に、前記所定部分を前記切り込みに沿って切り離す請求項2記載のタッチスイッチ用中間体製造方法。   The said predetermined part is cut | disconnected along the said notch, after performing the said in-mold shaping | molding using the said in-mold film in which the notch for separating the said predetermined part of the said base film from another part was formed. Of manufacturing an intermediate for touch switch.
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