JP2009062257A - Bismuth-base glass composition and bismuth-base material - Google Patents

Bismuth-base glass composition and bismuth-base material Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bismuth-base glass composition which can be well softened in heat treatment such as sealing and can crystallize satisfactorily after being softened and which is little re-softened after crystallization in heat treatment such as evacuation. <P>SOLUTION: Disclosed is a bismuth-base glass composition having a composition which comprises by mass 60 to 84% of Bi<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 5.4 to 15% of B<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 10 to 27% of ZnO, 0 to 7% of CuO, 0 to 5% of Fe<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 0 to 10% of BaO+SrO+MgO+CaO and 0 to 5% of SiO<SB>2</SB>+Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, and being substantially free from PbO. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDP)、各種電子放出素子を有する各種形式のフィールドエミッションディスプレイ(以下、FED)、蛍光表示管(以下、VFD)等の平面表示装置および水晶振動子、ICパッケージ等の電子部品(電子部品の収納容器を含む)の封着、隔壁形成、サイドフレーム形成等に好適なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料に関するものである。   The present invention relates to a flat display device such as a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), various types of field emission displays (hereinafter referred to as FED) having various electron-emitting devices, a fluorescent display tube (hereinafter referred to as VFD), a crystal resonator, and an IC. The present invention relates to a bismuth-based glass composition and a bismuth-based material suitable for sealing electronic components (including electronic component storage containers) such as packages, partition wall formation, side frame formation, and the like.

従来から平面表示装置等の封着材料としてガラスが用いられている。ガラスは、樹脂系の接着剤に比べ、化学的耐久性および耐熱性に優れるとともに、平面表示装置等の気密信頼性を確保するのに適している。   Conventionally, glass has been used as a sealing material for flat display devices and the like. Glass is excellent in chemical durability and heat resistance as compared with a resin-based adhesive, and is suitable for ensuring airtight reliability of a flat display device or the like.

これらのガラスは、用途によっては機械的強度、流動性、電気絶縁性等の種々の特性が要求されるが、少なくとも平面表示装置等に使用される蛍光体の蛍光特性等を劣化させない温度で使用可能であることが要求される。それゆえ、上記特性を満足するガラスとして、ガラスの融点を下げる効果が極めて大きいPbOを多量に含有する鉛ホウ酸系ガラス(例えば、特許文献1参照)が広く用いられてきた。   These glasses require various properties such as mechanical strength, fluidity, and electrical insulation depending on the application, but they are used at a temperature that does not deteriorate at least the fluorescence properties of phosphors used in flat display devices. It is required to be possible. Therefore, as a glass that satisfies the above characteristics, lead borate glass (see, for example, Patent Document 1) containing a large amount of PbO that has an extremely large effect of lowering the melting point of the glass has been widely used.

ところが、最近、鉛ホウ酸系ガラスに含まれるPbOに対して環境上の問題が指摘されており、鉛ホウ酸系ガラスから実質的にPbOを含まないガラスに置き換えることが望まれている。そのため、鉛ホウ酸系ガラスの代替品として、様々な低融点ガラスが開発されている。その中でも、特許文献2等に記載されているビスマス系ガラス(Bi23−B23系ガラスとも称される)は、化学耐久性、機械的強度等の諸特性において鉛ホウ酸系ガラスと同等の特性を有するため、その代替候補として期待されている。 However, recently, environmental problems have been pointed out with respect to PbO contained in lead borate glass, and it is desired to replace lead borate glass with glass that does not substantially contain PbO. Therefore, various low melting glass has been developed as a substitute for lead borate glass. Among them, bismuth-based glass (also referred to as Bi 2 O 3 —B 2 O 3 -based glass) described in Patent Document 2 and the like is a lead borate based in various properties such as chemical durability and mechanical strength. Since it has the same properties as glass, it is expected as an alternative candidate.

ところで、封着材料に使用されるガラスは、用途に応じて結晶性、或いは非結晶性が選択される。一般的に、封着工程後に封着材料が軟化流動してはいけない用途、例えばPDP用の排気管の封着用途では、結晶性のガラスが選択される。この用途では、排気管の封着工程後に軟化点付近、例えば400〜420℃まで熱処理温度が上がる真空排気工程がある。このため、非結晶性のガラスを用いると、真空排気工程でガラスが再軟化し、このことに起因して、平面表示装置等に気密リークが発生しやすくなる。そこで、このような事態を防止するために、本用途では結晶性のガラスを選択するのが好ましいとされている(例えば、特許文献3、4参照)。
特開昭63−315536号公報 特開平6−24797号公報 特開2001−122640号公報 特開2001−10843号公報
By the way, the glass used for the sealing material is selected to be crystalline or non-crystalline depending on the application. Generally, crystalline glass is selected for applications in which the sealing material should not soften and flow after the sealing step, for example, sealing of exhaust pipes for PDP. In this application, there is a vacuum evacuation process in which the heat treatment temperature is increased to near the softening point, for example, 400 to 420 ° C. after the exhaust pipe sealing process. For this reason, when amorphous glass is used, the glass is re-softened in the evacuation process, and as a result, an airtight leak is likely to occur in a flat display device or the like. Therefore, in order to prevent such a situation, it is considered preferable to select crystalline glass in this application (see, for example, Patent Documents 3 and 4).
Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 63-315536 JP-A-6-24797 JP 2001-122640 A JP 2001-10843 A

特許文献2に記載のビスマス系ガラスは、ガラス組成を選択すれば、結晶性のガラスを得ることができる。しかし、この結晶性のガラスは、ガラス組成中にガラス構成成分(結晶を構成しない成分)であるB23を13質量%以上含有し、且つ結晶を構成する成分であるZnOを含有していないため、熱処理を行っても、十分に結晶が析出せず、結晶析出後の熱処理工程でガラスが再軟化しやすく、結局のところ、真空排気工程でガラスが再軟化する上記問題を解決することができなかった。 The bismuth-based glass described in Patent Document 2 can obtain crystalline glass if the glass composition is selected. However, this crystalline glass contains 13% by mass or more of B 2 O 3 which is a glass component (a component which does not constitute a crystal) in the glass composition, and contains ZnO which is a component which constitutes a crystal. Therefore, even if heat treatment is performed, crystals are not sufficiently precipitated, and the glass is easily re-softened in the heat treatment step after crystal precipitation. I could not.

更に、一般的に、ビスマス系ガラスは、鉛ホウ酸系ガラスと比べて熱的安定性が乏しく、つまり高温で失透しやすく、結晶の析出をコントロールすることが困難である。それ故、ビスマス系ガラスの結晶性を強めようとすると、封着工程で十分にガラスが流動する前に、ガラスが結晶化してしまい、封着材料としての機能を発揮できない場合が多い。   Furthermore, in general, bismuth-based glass has poor thermal stability compared to lead borate-based glass, that is, it tends to devitrify at high temperatures, and it is difficult to control crystal precipitation. Therefore, if the crystallinity of the bismuth-based glass is to be strengthened, the glass is often crystallized before the glass sufficiently flows in the sealing step, and the function as a sealing material is often not exhibited.

そこで、本発明は、熱処理工程、例えば封着工程で良好に軟化するとともに、軟化後に十分に結晶が析出し、しかも結晶析出後の熱処理工程、例えば真空排気工程で再軟化し難いビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料を得ることを技術的課題とする。   Therefore, the present invention provides a bismuth-based glass composition that is softened well in a heat treatment step, for example, a sealing step, and that crystals are sufficiently precipitated after softening, and that is not easily re-softened in a heat treatment step after crystal precipitation, for example, a vacuum exhaust step. To obtain a product and a bismuth-based material.

本発明者等は、鋭意努力の結果、ビスマス系ガラスのガラス組成範囲を、質量%で、ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜84%、B23 5.4〜15%、ZnO 10〜27%、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%に規制するとともに、実質的にPbOを含有しないことで上記課題を解決できることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜84%、B23 5.4〜15%、ZnO 10〜27%、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とする。ここで、本発明でいう「実質的にPbOを含有しない」とは、ガラス組成中のPbOの含有量が1000ppm以下の場合を指す。 As a result of diligent efforts, the present inventors have set the glass composition range of the bismuth-based glass in terms of mass%, and as the glass composition, mass%, Bi 2 O 3 60 to 84%, B 2 O 3 5.4 to 15 %, ZnO 10-27%, CuO 0-7%, Fe 2 O 3 0-5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5% and substantially containing PbO It is found that the above problem can be solved by not doing so, and is proposed as the present invention. That is, the bismuth-based glass composition of the present invention has, as a glass composition, mass%, Bi 2 O 3 60 to 84%, B 2 O 3 5.4 to 15%, ZnO 10 to 27%, CuO 0 to 7 %, Fe 2 O 3 0-5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, and substantially no PbO. Here, “substantially not containing PbO” in the present invention refers to a case where the content of PbO in the glass composition is 1000 ppm or less.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成範囲が上記のように規制されているため、結晶の析出(析出結晶量、結晶析出のタイミング、結晶化温度等)を容易にコントロールすることができる。すなわち、本発明のビスマス系ガラス組成物は、低温で良好な流動性を示し、低温で良好に封着することができる。その上、ガラスが軟化した後に十分な量の結晶が析出するため、結晶化後の熱処理工程でガラスが再軟化し難く、例えば真空排気工程でガラスが再軟化し難く、平面表示装置等の気密信頼性を確保することができる。   Since the glass composition range of the bismuth-based glass composition of the present invention is regulated as described above, the precipitation of crystals (the amount of precipitated crystals, the timing of crystal precipitation, the crystallization temperature, etc.) can be easily controlled. . That is, the bismuth-based glass composition of the present invention exhibits good fluidity at low temperatures and can be well sealed at low temperatures. In addition, since a sufficient amount of crystals are precipitated after the glass is softened, it is difficult for the glass to be resoftened in the heat treatment step after crystallization. For example, the glass is difficult to be softened again in the vacuum exhaust process. Reliability can be ensured.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、Bi23の含有量が60〜84質量%に規制されている。Bi23の含有量を60質量%以上にすれば、ガラスが低融点となり、低温で封着しやすくなる。一方、Bi23の含有量を84質量%以下にすれば、ガラスが軟化する前に、結晶が析出する事態を抑制することができ、封着工程で所望の流動性を確保しやすくなる。 In the bismuth-based glass composition of the present invention, the Bi 2 O 3 content is regulated to 60 to 84% by mass. If the content of Bi 2 O 3 is 60% by mass or more, the glass has a low melting point and is easy to seal at low temperatures. On the other hand, if the content of Bi 2 O 3 is 84% by mass or less, it is possible to suppress a situation where crystals are precipitated before the glass is softened, and it becomes easy to secure desired fluidity in the sealing step. .

本発明のビスマス系ガラス組成物は、B23の含有量が5.4〜15質量%に規制されている。B23の含有量を5.4質量%以上にすれば、ガラスが軟化する前に、結晶が析出する事態を抑制することができ、封着工程で所望の流動性を確保しやすくなる。一方、B23の含有量を15質量%以下にすれば、結晶の析出を容易にコントロールすることができ、特に熱処理工程で十分な量の結晶を析出させやすくなる。 In the bismuth-based glass composition of the present invention, the content of B 2 O 3 is regulated to 5.4 to 15% by mass. If the content of B 2 O 3 is 5.4% by mass or more, it is possible to suppress a situation in which crystals are precipitated before the glass is softened, and it becomes easy to secure desired fluidity in the sealing step. . On the other hand, if the content of B 2 O 3 is 15% by mass or less, the precipitation of crystals can be easily controlled, and a sufficient amount of crystals can be easily precipitated particularly in the heat treatment step.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、ZnOの含有量が10〜27質量%に規制されている。ZnOの含有量を10質量%以上にすれば、結晶の析出を容易にコントロールすることができ、特に低膨張の結晶を析出させて、ガラスの結晶化度を高めることができる。一方、ZnOの含有量を27質量%以下にすれば、結晶析出時期を遅らせることができるため、封着工程で所望の流動性を確保した上で、ガラスに結晶を析出させやすくなる。   In the bismuth-based glass composition of the present invention, the content of ZnO is regulated to 10 to 27% by mass. If the content of ZnO is 10% by mass or more, the precipitation of crystals can be easily controlled, and in particular, a low-expansion crystal can be precipitated to increase the crystallinity of the glass. On the other hand, if the content of ZnO is set to 27% by mass or less, the crystal precipitation time can be delayed, so that it becomes easy to precipitate crystals on the glass after ensuring the desired fluidity in the sealing step.

また、本発明のビスマス系ガラス組成物において、析出する結晶は、Bi23−B23−ZnO系の結晶であり、これらの結晶は低膨張であることから、結晶の析出前後でガラスの熱膨張係数が変動し難く、封着工程後に被封着物に不当な応力が残留し難くなり、平面表示装置等の気密信頼性を確保することができる。また、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ZnOの含有量を10質量%以上に規制しているため、これらの結晶を優先的に析出させることができる。 Further, in the bismuth-based glass composition of the present invention, the crystals to be precipitated are Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —ZnO-based crystals, and these crystals have low expansion. The coefficient of thermal expansion of the glass is difficult to change, and undue stress is hardly left on the object to be sealed after the sealing process, so that airtight reliability of a flat display device or the like can be ensured. Moreover, since the bismuth-type glass composition of this invention has controlled content of ZnO to 10 mass% or more, these crystals can be precipitated preferentially.

さらに、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成中に実質的にPbOを含有しない。このようにすれば、近年の環境的要請を的確に満たすことができる。   Furthermore, the bismuth-type glass composition of this invention does not contain PbO substantially in a glass composition. In this way, it is possible to accurately meet recent environmental demands.

第二に、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜79.9%、B23 5.4〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことに特徴付けられる。 Secondly, the bismuth-based glass composition of the present invention has, as a glass composition, mass%, Bi 2 O 3 60 to 79.9%, B 2 O 3 5.4 to 15%, ZnO 15 to 27%, CuO 0~5%, Fe 2 O 3 0~5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0~10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0~5%, MoO 3 + WO 3 0~5%, Sb 2 O 3 0~5%, It is characterized by containing 0 to 5% of In 2 O 3 + Ga 2 O 3 and substantially not containing PbO.

第三に、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Bi23 67〜79.9%、B23 5.6〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことに特徴付けられる。 Third, the bismuth-based glass composition of the present invention has a glass composition of mass%, Bi 2 O 3 67-79.9%, B 2 O 3 5.6-15%, ZnO 15-27%, CuO 0~5%, Fe 2 O 3 0~5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0~10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0~5%, MoO 3 + WO 3 0~5%, Sb 2 O 3 0~5%, It is characterized by containing 0 to 5% of In 2 O 3 + Ga 2 O 3 and substantially not containing PbO.

第四に、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜77%未満、B23 5.4〜10%、ZnO 10〜15%未満、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことに特徴付けられる。 Fourth, the bismuth-based glass composition of the present invention has, as a glass composition, mass%, Bi 2 O 3 60 to less than 77%, B 2 O 3 5.4 to 10%, ZnO less than 10 to 15%, CuO 0~7%, Fe 2 O 3 0~5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0~10%, SiO 2 + Al 2 O 3 containing 0 to 5%, and substantially characterized in that it does not contain the PbO.

第五に、本発明のビスマス系材料は、体積%表示で、上記のビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末40〜100%、耐火性フィラー粉末0〜60%含有し、且つ結晶性であることに特徴付けられる。なお、本発明のビスマス系材料は、耐火性フィラー粉末を添加することなく、ガラス粉末のみで構成されていても良い。また、本発明でいう「結晶性」とは、示差熱分析(DTA)装置の測定(大気中、昇温速度10℃/分、室温から測定開始)で600℃、望ましくは570℃、より望ましくは550℃、更に望ましくは530℃までに結晶化ピークが発現するものを指す。   Fifth, the bismuth-based material of the present invention contains 40 to 100% glass powder and 0 to 60% refractory filler powder composed of the above-mentioned bismuth-based glass composition, and is crystalline. Characterized by In addition, the bismuth-type material of this invention may be comprised only with glass powder, without adding a refractory filler powder. The “crystallinity” as used in the present invention is 600 ° C., preferably 570 ° C., more preferably measured by a differential thermal analysis (DTA) apparatus (in the atmosphere, the temperature rising rate is 10 ° C./min, starting from room temperature). Means a crystallizing peak that develops at 550 ° C., more preferably 530 ° C.

第六に、本発明のビスマス系材料は、結晶化温度が490〜570℃であることに特徴付けられる。また、本発明でいう「結晶化温度」とは、DTA装置の測定(大気中、昇温速度10℃/分、室温から測定開始)で結晶化ピークが発現する温度を指す。   Sixth, the bismuth-based material of the present invention is characterized by a crystallization temperature of 490 to 570 ° C. In addition, the “crystallization temperature” in the present invention refers to a temperature at which a crystallization peak appears in the measurement with a DTA apparatus (in the atmosphere, the temperature rising rate is 10 ° C./min, measurement starts from room temperature).

第七に、本発明のビスマス系材料は、耐火性フィラー粉末が、ZnO含有耐火性フィラー粉末であることに特徴付けられる。   Seventh, the bismuth-based material of the present invention is characterized in that the refractory filler powder is a ZnO-containing refractory filler powder.

第八に、本発明のビスマス系材料は、耐火性フィラー粉末が、ウイレマイト、酸化亜鉛、ガーナイト、ZnO・Al23・SiO2の群より選ばれた一種または二種以上であることに特徴付けられる。 Eighth, the bismuth-based material of the present invention is characterized in that the refractory filler powder is one or more selected from the group of willemite, zinc oxide, garnite, ZnO.Al 2 O 3 .SiO 2. Attached.

第九に、本発明のビスマス系材料は、封着に用いることに特徴付けられる。   Ninth, the bismuth-based material of the present invention is characterized by being used for sealing.

第十に、本発明のビスマス系材料は、平面表示装置または電子部品の隔壁に用いることに特徴付けられる。   Tenth, the bismuth-based material of the present invention is characterized in that it is used for a partition wall of a flat display device or an electronic component.

第十一に、本発明のビスマス系材料は、平面表示装置または電子部品のサイドフレームに用いることに特徴付けられる。   Eleventh, the bismuth-based material of the present invention is characterized by being used for a flat display device or a side frame of an electronic component.

第十二に、本発明のタブレットは、ビスマス系材料を所定形状に焼結させたタブレットであって、該ビスマス系材料が上記のビスマス系材料であることに特徴付けられる。なお、本発明のタブレットは、特に形状は限定されないが、排気管の固定を想定した場合、リング状であることが好ましい。   12thly, the tablet of this invention is the tablet which sintered the bismuth type material to the predetermined shape, Comprising: This bismuth type material is characterized by being said bismuth type material. In addition, the shape of the tablet of the present invention is not particularly limited, but it is preferable to have a ring shape when fixing the exhaust pipe is assumed.

第十三に、本発明のタブレット一体型排気管は、拡径された排気管の先端部に、上記のタブレットが取り付けられていることに特徴付けられる。ここで、本発明において、「排気管の先端部」とは、拡径化された排気管の表面部位を指し、拡径化された部分においてパネルと接する側の排気管底面または排気管外周側面を指す。また、タブレットは、排気管の先端部のみに接着される態様だけでなく、排気管の先端部の一部に接着される態様を含む。   Thirteenth, the tablet-integrated exhaust pipe of the present invention is characterized in that the above-mentioned tablet is attached to the distal end portion of the expanded exhaust pipe. Here, in the present invention, the “tip portion of the exhaust pipe” refers to the surface portion of the exhaust pipe having an enlarged diameter, and the exhaust pipe bottom surface or the exhaust pipe outer peripheral side surface on the side in contact with the panel in the enlarged diameter portion Point to. Further, the tablet includes not only an aspect in which the tablet is adhered only to the distal end portion of the exhaust pipe but also an aspect in which the tablet is adhered to a part of the distal end portion of the exhaust pipe.

第十四に、本発明のタブレット一体型排気管は、拡径された排気管の先端部に、上記のタブレットと、高融点タブレットとが取り付けられており、且つ上記のタブレットが拡径された排気管の先端部側に取り付けられ、高融点タブレットが上記のタブレットよりも後端部側に取り付けられていることに特徴付けられる。ここで、本発明でいう「高融点タブレット」とは、520℃未満で軟化変形しないタブレットを指し、例えば、ガラスタブレットの場合、DTA装置で測定した軟化点が520℃以上のタブレットを指す。   Fourteenth, in the tablet-integrated exhaust pipe of the present invention, the tablet and the high melting point tablet are attached to the tip of the expanded exhaust pipe, and the tablet is expanded in diameter. It is attached to the front-end | tip part side of an exhaust pipe, It is characterized by the high melting point tablet being attached to the back end part side rather than said tablet. Here, the “high melting point tablet” referred to in the present invention refers to a tablet that is not softened and deformed at less than 520 ° C. For example, in the case of a glass tablet, it refers to a tablet having a softening point measured by a DTA apparatus of 520 ° C. or higher.

本発明のビスマス系ガラス組成物において、ガラス組成範囲を上記のように限定した理由は下記の通りである。なお、以下の%表示は、特に断りがある場合を除き、質量%を指す。   The reason for limiting the glass composition range as described above in the bismuth-based glass composition of the present invention is as follows. In addition, the following% display points out the mass% except the case where there is particular notice.

Bi23は、ガラスの軟化点を下げるための主要成分であり、また析出結晶の結晶構成成分となる成分である。その含有量は60〜84%、好ましくは65.1〜79.9%、より好ましくは67〜79.3%、更に好ましくは72〜77%、特に好ましくは75〜77%未満である。Bi23の含有量が60%より少ないと、軟化点が上昇し、500℃以下の温度で封着し難くなる。Bi23の含有量が84%より多いと、ガラスの耐失透性が悪化し、封着工程で軟化する前に、ガラスに結晶が析出して、封着材料としての機能を発揮し難くなる。 Bi 2 O 3 is a main component for lowering the softening point of the glass, and is a component that becomes a crystal component of the precipitated crystal. The content is 60 to 84%, preferably 65.1 to 79.9%, more preferably 67 to 79.3%, still more preferably 72 to 77%, and particularly preferably 75 to 77%. When the content of Bi 2 O 3 is less than 60%, the softening point increases and it becomes difficult to seal at a temperature of 500 ° C. or lower. When the content of Bi 2 O 3 is more than 84%, the devitrification resistance of the glass deteriorates, and before it softens in the sealing process, crystals are deposited on the glass and the function as a sealing material is exhibited. It becomes difficult.

23は、ビスマス系ガラスのガラスネットワークを構成するために必須の成分である。その含有量は5.4〜15%、好ましくは5.6〜11%、より好ましくは6.5〜10%、更に好ましくは7〜9%である。B23の含有量が5.4%より少ないと、ガラスの耐失透性が悪化し、封着工程でガラスが軟化する前に、ガラスに結晶が析出して、封着材料としての機能を発揮し難くなる。B23の含有量が15%より多いと、結晶の析出をコントロールし難くなり、特に熱処理工程で十分な量の結晶が析出し難くなる。 B 2 O 3 is an essential component for constituting a glass network of bismuth-based glass. The content is 5.4 to 15%, preferably 5.6 to 11%, more preferably 6.5 to 10%, still more preferably 7 to 9%. When the content of B 2 O 3 is less than 5.4%, the devitrification resistance of the glass deteriorates, and before the glass softens in the sealing process, crystals are precipitated on the glass, It becomes difficult to demonstrate the function. When the content of B 2 O 3 is more than 15%, it becomes difficult to control the precipitation of crystals, and it becomes difficult to deposit a sufficient amount of crystals particularly in the heat treatment step.

ZnOは、溶融時にガラスの失透を抑制する効果があり、また低膨張の結晶を析出させて、ガラスの結晶化度を高めるために必須の成分である。その含有量は10〜27%、好ましくは12〜24%、より好ましくは12〜22%である。ZnOの含有量が10%より少ないと、熱処理工程でガラスに低膨張の結晶が析出し難くなる。ZnOの含有量が27%より多いと、結晶の析出時期が早まり、封着工程で所望の流動性を確保し難くなる。更に、Bi23の含有量が60〜77%未満の場合、ZnOの含有量は10〜15%未満がより好ましく、12〜15%未満が特に好ましく、13.5〜15%未満が最も好ましい。 ZnO has an effect of suppressing devitrification of the glass during melting, and is an essential component for increasing the crystallinity of the glass by precipitating low expansion crystals. Its content is 10 to 27%, preferably 12 to 24%, more preferably 12 to 22%. When the content of ZnO is less than 10%, it is difficult to deposit low expansion crystals on the glass in the heat treatment step. When the content of ZnO is more than 27%, the crystal precipitation time is advanced, and it becomes difficult to secure desired fluidity in the sealing step. Furthermore, when the content of Bi 2 O 3 is less than 60 to 77%, the content of ZnO is more preferably less than 10 to 15%, particularly preferably less than 12 to 15%, and most preferably less than 13.5 to 15%. preferable.

CuOは、ガラス溶融時の失透を抑制する成分であり、その含有量は0〜7%、好ましくは0〜5%、より好ましくは0〜3%、更に好ましくは0.1〜2%である。CuOの含有量が7%より多いと、ガラス組成のバランスを欠き、かえって溶融時にガラスが失透しやすくなる。   CuO is a component that suppresses devitrification during glass melting, and its content is 0 to 7%, preferably 0 to 5%, more preferably 0 to 3%, and still more preferably 0.1 to 2%. is there. If the CuO content is more than 7%, the glass composition is not balanced and the glass tends to devitrify when melted.

Fe23は、溶融時にガラスの失透を抑制する成分であり、その含有量は0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0.1〜3%である。Fe23の含有量が5%より多いと、逆にガラスが熱的に不安定になる。 Fe 2 O 3 is a component that suppresses the devitrification of the glass during melting, and its content is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0.1 to 3%. If the content of Fe 2 O 3 is more than 5%, the glass becomes thermally unstable.

BaO、SrO、MgOおよびCaOは、ガラスの溶融時の失透を抑制する効果があり、その含有量は、合量(BaO+SrO+MgO+CaO)で0〜10%、好ましくは0〜7%、より好ましくは0.1〜5%である。これらの成分の合量が10%より多いと、ガラスの軟化点が上昇し、500℃以下の低温で封着し難くなる。   BaO, SrO, MgO and CaO have an effect of suppressing devitrification at the time of melting of the glass, and the content thereof is 0 to 10% in total amount (BaO + SrO + MgO + CaO), preferably 0 to 7%, more preferably 0. .1-5%. When the total amount of these components is more than 10%, the softening point of the glass rises and it becomes difficult to seal at a low temperature of 500 ° C. or lower.

SiO2およびAl23は、ガラスの耐候性を高める効果があり、その含有量は合量(SiO2+Al23)で0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0〜1%である。これらの成分の合量が5%より多いと、ガラスの軟化点が高くなり、500℃以下の低温で封着し難くなる。 SiO 2 and Al 2 O 3 have the effect of enhancing the weather resistance of the glass, and the content thereof is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0 in terms of the total amount (SiO 2 + Al 2 O 3 ). ~ 1%. When the total amount of these components is more than 5%, the softening point of the glass becomes high and sealing becomes difficult at a low temperature of 500 ° C. or lower.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、上記成分以外にも、例えば、以下の成分を含有させることができる。   The bismuth-type glass composition of this invention can contain the following components other than the said component, for example.

MoO3およびWO3は、結晶の析出時期をコントロールしやすくする成分であり、その含有量は合量(MoO3+WO3)で0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0〜1%である。これらの成分の合量が5%よりも多いと、ガラス組成のバランスを欠き、ガラスの熱的安定性が悪化しやすくなり、逆に結晶の析出時期をコントロールし難くなる。 MoO 3 and WO 3 are components that make it easy to control the precipitation time of crystals, and the total content (MoO 3 + WO 3 ) is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0 to 0%. 1%. When the total amount of these components is more than 5%, the balance of the glass composition is lacking, and the thermal stability of the glass tends to deteriorate, and conversely, it becomes difficult to control the time of crystal precipitation.

Sb23は、結晶の析出時期をコントロールしやすくする成分であり、その含有量は0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0.1〜1%である。Sb23の含有量が5%より多いと、ガラス組成のバランスを欠き、ガラスが失透しやすくなり、逆に結晶の析出時期をコントロールし難くなる。 Sb 2 O 3 is a component that makes it easy to control the precipitation time of crystals, and its content is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0.1 to 1%. When the content of Sb 2 O 3 is more than 5%, the glass composition is not balanced and the glass tends to be devitrified, and conversely, it is difficult to control the crystal precipitation time.

In23およびGa23は、結晶の析出時期をコントロールしやすくする成分であり、その含有量は合量(In23+Ga23)で0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0〜1%である。これらの成分の合量が5%より多いと、ガラス組成のバランスを欠き、ガラスが失透しやすくなり、逆に結晶の析出時期をコントロールし難くなる。 In 2 O 3 and Ga 2 O 3 are components that make it easy to control the time of crystal precipitation, and the content thereof is 0 to 5%, preferably 0 to 0 in terms of the total amount (In 2 O 3 + Ga 2 O 3 ). 3%, more preferably 0 to 1%. When the total amount of these components is more than 5%, the balance of the glass composition is lost, and the glass tends to be devitrified, and conversely, it is difficult to control the crystal precipitation time.

また、本発明のビスマス系ガラス組成物は、任意成分として、さらに種々の成分を添加させることができる。例えば、Li2O、Na2O、K2O、Cs2O、La23、Gd23、Y23、CeO2等を10%まで添加可能である。Li2O、Na2O、K2OおよびCs2O等のアルカリ金属酸化物は、ガラスの軟化点を低くする成分である。ただし、アルカリ金属酸化物は、ガラスの失透を促進する作用を有するため、その添加量は合量で2%以下に制限するのが好ましい。La23、Gd23、Y23およびCeO2等の希土類酸化物は、ガラスを熱的に安定化する成分であるが、これらの成分の合量が5%より多いと、ガラスの軟化点が高くなり、500℃以下の低温で封着し難くなる。 Moreover, the bismuth-type glass composition of this invention can add a various component further as an arbitrary component. For example, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Cs 2 O, La 2 O 3 , Gd 2 O 3 , Y 2 O 3 , CeO 2 and the like can be added up to 10%. Alkali metal oxides such as Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and Cs 2 O are components that lower the softening point of glass. However, since the alkali metal oxide has an action of promoting devitrification of the glass, the addition amount is preferably limited to 2% or less in total. Rare earth oxides such as La 2 O 3 , Gd 2 O 3 , Y 2 O 3 and CeO 2 are components that thermally stabilize the glass, but when the total amount of these components is more than 5%, The softening point of glass becomes high and it becomes difficult to seal at a low temperature of 500 ° C. or lower.

各成分の好適な含有範囲を適宜選択し、好ましいガラス組成範囲とすることができる。その中でも、より好ましいガラス組成範囲として、
(1)質量%で、Bi23 60〜79.9%、B23 5.4〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しない、
(2)質量%で、Bi23 67〜79.9%、B23 5.6〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しない、
(3)質量%で、Bi23 60〜77%未満、B23 5.4〜10%、ZnO 10〜15%未満、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しない、
(4)質量%で、Bi23 71〜79.9%、B23 5.4〜11%、ZnO 15〜22%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しない、
(5)質量%で、Bi23 67〜77%未満、B23 6.5〜10%、ZnO 12〜15%未満、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しない等のガラスが挙げられる。
A suitable content range of each component can be appropriately selected to obtain a preferable glass composition range. Among these, as a more preferable glass composition range,
(1) By mass%, Bi 2 O 3 60-79.9%, B 2 O 3 5.4-15%, ZnO 15-27%, CuO 0-5%, Fe 2 O 3 0-5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, MoO 3 + WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5%, And substantially free of PbO,
(2) By mass%, Bi 2 O 3 67-79.9%, B 2 O 3 5.6-15%, ZnO 15-27%, CuO 0-5%, Fe 2 O 3 0-5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, MoO 3 + WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5%, And substantially free of PbO,
(3) By mass%, Bi 2 O 3 60 to less than 77%, B 2 O 3 5.4 to 10%, ZnO less than 10 to 15%, CuO 0 to 7%, Fe 2 O 3 0 to 5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, and substantially no PbO,
(4) By mass%, Bi 2 O 3 71-79.9%, B 2 O 3 5.4-11%, ZnO 15-22%, CuO 0-5%, Fe 2 O 3 0-5%, BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, MoO 3 + WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5%, And substantially free of PbO,
(5) By mass%, Bi 2 O 3 67 to less than 77%, B 2 O 3 6.5 to 10%, ZnO 12 to less than 15%, CuO 0 to 7%, Fe 2 O 3 0 to 5%, Examples of the glass include BaO + SrO + MgO + CaO 0 to 10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0 to 5%, and substantially no PbO.

ガラス組成範囲を上記範囲内に規制すれば、ガラスが軟化流動した後にBi23−B23−ZnO系の結晶を十分に析出させることができ、結果として、結晶の析出前後でガラスの熱膨張係数が変動し難く、封着工程後に被封着物に不当な応力が残留し難くなり、平面表示装置等の気密信頼性をより確保しやすくなる。 If the glass composition range is regulated within the above range, Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —ZnO-based crystals can be sufficiently precipitated after the glass has been softened and flowed. It is difficult for the thermal expansion coefficient to fluctuate, and undue stress does not easily remain on the object to be sealed after the sealing process, which makes it easier to ensure the airtight reliability of the flat display device or the like.

以上のガラス組成を有するビスマス系ガラス組成物は、500℃以下で良好な流動性を示し、30〜300℃の温度範囲における熱膨張係数が約90〜110×10-7/℃である。 The bismuth-based glass composition having the above glass composition exhibits good fluidity at 500 ° C. or lower, and has a thermal expansion coefficient of about 90 to 110 × 10 −7 / ° C. in a temperature range of 30 to 300 ° C.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、その粒度を調整することで結晶化温度を調節することができ、二段階の熱処理工程(熱処理工程が二回の場合)に対応することができる。例えば、460℃程度の低温で行う一次熱処理で、流動性を確保しつつ、ガラスの結晶化を完了させる場合には粒度を小さくすれば良く、例えば平均粒子径D50を0.1〜15μm、好ましくは0.2〜10μm未満にすればよい。また、一次熱処理で被封着物に融着させた後、二次熱処理でもう一方の被封着物に封着しながら、ガラスの結晶化を完了させる場合には、逆にビスマス系ガラス組成物のガラス粉末の粒度を大きくすれば良く、例えば平均粒子径D50を10超〜100μm、好ましくは15〜70μmとすればよい。ここで、「平均粒子径D50」は、レーザー回折法で測定した値を指す。 The bismuth-based glass composition of the present invention can adjust the crystallization temperature by adjusting the particle size, and can correspond to a two-stage heat treatment process (when the heat treatment process is performed twice). For example, in the primary heat treatment performed at a low temperature of about 460 ° C., in order to complete the crystallization of the glass while ensuring fluidity, the particle size may be reduced. For example, the average particle diameter D 50 is 0.1 to 15 μm, Preferably, it may be less than 0.2 to 10 μm. In addition, when the glass crystallization is completed while fusing to the material to be sealed by the primary heat treatment and then sealing to the other material to be sealed by the secondary heat treatment, conversely, the bismuth glass composition may be increased particle size of the glass powder, for example, an average particle diameter D 50 10 super ~100Myuemu, preferably may be set to 15~70Myuemu. Here, “average particle diameter D 50 ” refers to a value measured by a laser diffraction method.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス粉末単独でも、結晶化させることができ、しかもBi23−B23−ZnO系結晶等が析出することから、ガラスの熱膨張係数を確実に低下させることができる。それ故、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス粉末単独で封着材料として好適に使用することができる。また、本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス基板との熱膨張係数差が適切である場合には、ガラス粉末単独で隔壁形成材料、サイドフレーム形成材料等として使用することもできる。 The bismuth-based glass composition of the present invention can be crystallized even with a glass powder alone, and Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —ZnO-based crystals are precipitated, so that the thermal expansion coefficient of the glass is ensured. Can be lowered. Therefore, the bismuth-based glass composition of the present invention can be suitably used as a sealing material with glass powder alone. Moreover, the bismuth-type glass composition of this invention can also be used as a partition wall formation material, a side frame formation material, etc. by glass powder alone, when the difference in thermal expansion coefficient with a glass substrate is appropriate.

被封着物の熱膨張係数が低い場合、本発明のビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末に耐火性フィラー粉末を添加し、複合材料とするのが好ましい。ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末の混合割合は、好ましくはビスマス系ガラス粉末40〜99.9体積%、耐火性フィラー粉末0.1〜60体積%、より好ましくはビスマス系ガラス粉末40〜99体積%、耐火性フィラー粉末1〜60体積%、更に好ましくはビスマス系ガラス粉末50〜95体積%、耐火性フィラー粉末5〜45体積%、特に好ましくはビスマス系ガラス粉末60体積%以上90体積%未満、耐火性フィラー粉末10体積%超40体積%以下である。耐火性フィラー粉末の含有量が0.1体積%より小さいと、耐火性フィラー粉末を添加することによる効果が乏しくなる。耐火性フィラー粉末の含有量が60体積%より多いと、相対的にガラス粉末の含有量が少なくなり、ビスマス系材料の流動性が損なわれる傾向にある。   When the thermal expansion coefficient of the material to be sealed is low, it is preferable to add a refractory filler powder to the glass powder made of the bismuth glass composition of the present invention to obtain a composite material. The mixing ratio of the bismuth glass powder and the refractory filler powder is preferably 40 to 99.9% by volume of the bismuth glass powder, 0.1 to 60% by volume of the refractory filler powder, more preferably 40 to 99. Volume%, refractory filler powder 1 to 60 volume%, more preferably bismuth glass powder 50 to 95 volume%, refractory filler powder 5 to 45 volume%, particularly preferably bismuth glass powder 60 volume% or more and 90 volume% Less than 10% by volume and 40% by volume or less of the refractory filler powder. If the content of the refractory filler powder is less than 0.1% by volume, the effect of adding the refractory filler powder becomes poor. When the content of the refractory filler powder is more than 60% by volume, the content of the glass powder is relatively decreased, and the fluidity of the bismuth-based material tends to be impaired.

本発明のビスマス系材料において、耐火性フィラー粉末として、ウイレマイト、β−ユークリプタイト、ジルコン、酸化スズ、ムライト、石英ガラス、アルミナ等を一種または二種以上組み合わせて使用することができる。   In the bismuth-based material of the present invention, as the refractory filler powder, mayemite, β-eucryptite, zircon, tin oxide, mullite, quartz glass, alumina and the like can be used singly or in combination.

その中でも、ZnO含有耐火性フィラー粉末を添加すれば、ビスマス系材料の結晶種を変化させることなく、結晶化度を高めることができる。ZnO含有耐火性フィラーとしては、例えばウイレマイト(2ZnO・SiO2)、ガーナイト(ZnO・Al23)、酸化亜鉛(ZnO)、ZnO・Al23・SiO2等を一種または二種以上組み合わせて使用すればよい。特に、ウイレマイトは、熱膨張係数が小さく、上記の効果が顕著であるため、好ましい。なお、ZnO含有耐火性フィラー粉末を添加する場合、ガラス粉末において、ガラス組成中のB23の含有量を6.5%以上とするが好ましい。B23の含有量が6.5%未満であると、結晶化温度が低温側にシフトし過ぎて、所望の流動性を確保し難くなる傾向にある。 Among these, if the ZnO-containing refractory filler powder is added, the crystallinity can be increased without changing the crystal seed of the bismuth-based material. As the ZnO-containing refractory filler, for example, willemite (2ZnO · SiO 2 ), garnite (ZnO · Al 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), ZnO · Al 2 O 3 · SiO 2 and the like are used alone or in combination. Can be used. In particular, willemite is preferable because it has a small coefficient of thermal expansion and the above effects are remarkable. In the case of adding a ZnO-containing refractory filler powder, the glass powder, but the content of B 2 O 3 in the glass composition is 6.5% or more preferred. If the content of B 2 O 3 is less than 6.5%, the crystallization temperature tends to shift to the low temperature side, and it tends to be difficult to ensure the desired fluidity.

結晶核として作用する耐火性フィラー粉末、例えば酸化チタン、酸化鉄等を少量(例えば、0.1〜2%)添加すれば、ビスマス系ガラスの結晶化度を高めることができる。さらに、上記の耐火性フィラー粉末以外にも、ビスマス系材料の熱膨張係数の調整、流動性の調整および機械的強度の改善のために、シリカ、ジルコニア等の耐火性フィラー粉末を添加することができる。なお、結晶核として作用する耐火性フィラー粉末を添加する場合、ガラス粉末において、ガラス組成中のB23の含有量を6.5%以上とするのが好ましい。B23の含有量が6.5%未満であると、結晶化温度が低温側にシフトし過ぎて、所望の流動性を確保し難くなる。 If a small amount (for example, 0.1 to 2%) of a refractory filler powder that acts as a crystal nucleus, such as titanium oxide or iron oxide, is added, the crystallinity of the bismuth glass can be increased. In addition to the above refractory filler powder, it is possible to add a refractory filler powder such as silica or zirconia in order to adjust the thermal expansion coefficient of the bismuth-based material, adjust the fluidity and improve the mechanical strength. it can. In the case of adding a refractory filler powder, which acts as a crystal nucleus, the glass powder, the content of B 2 O 3 in the glass composition preferably 6.5% or more. When the content of B 2 O 3 is less than 6.5%, the crystallization temperature is excessively shifted to the low temperature side, and it becomes difficult to ensure desired fluidity.

本発明のビスマス系材料において、結晶化温度は490〜570℃が好ましく、500〜540℃がより好ましく、510〜530℃が更に好ましい。結晶化温度が490℃より低いと、結晶の析出時期が早くなり過ぎ、封着工程で所望の流動性を確保し難くなる。結晶化温度が570℃より高いと、封着工程で十分な量の結晶が析出しにくくなり、結晶析出後の熱処理工程、例えば真空排気工程でガラスが再軟化しやすくなり、平面表示装置等の気密信頼性を確保し難くなる。   In the bismuth-based material of the present invention, the crystallization temperature is preferably 490 to 570 ° C, more preferably 500 to 540 ° C, and still more preferably 510 to 530 ° C. When the crystallization temperature is lower than 490 ° C., the crystal deposition time becomes too early, and it becomes difficult to secure desired fluidity in the sealing step. When the crystallization temperature is higher than 570 ° C., it becomes difficult to deposit a sufficient amount of crystals in the sealing process, and the glass is easily re-softened in a heat treatment process after crystal deposition, for example, a vacuum evacuation process. It becomes difficult to ensure airtight reliability.

ビスマス系材料の熱膨張係数は、被封着物に対して5〜30×10-7/℃、好ましくは7〜20×10-7/℃程度低く設計することが重要である。これは、封着工程後に封着層にかかる歪を圧縮側にして封着層の破壊を防ぐためである。特に、PDP用高歪点ガラス基板(熱膨張係数75〜90×10-7/℃)の場合、封着材料の好適な熱膨張係数は55〜80×10-7/℃である。また、VFD用ソーダガラス基板(熱膨張係数85〜100×10-7/℃)の場合、封着材料の好適な熱膨張係数は70〜90×10-7/℃である。 It is important that the thermal expansion coefficient of the bismuth-based material is designed to be about 5 to 30 × 10 −7 / ° C., preferably about 7 to 20 × 10 −7 / ° C. lower than the material to be sealed. This is to prevent the sealing layer from being broken by setting the strain applied to the sealing layer after the sealing step to the compression side. In particular, in the case of a high strain point glass substrate for PDP (thermal expansion coefficient 75 to 90 × 10 −7 / ° C.), a suitable thermal expansion coefficient of the sealing material is 55 to 80 × 10 −7 / ° C. Further, in the case of a soda glass substrate for VFD (thermal expansion coefficient 85 to 100 × 10 −7 / ° C.), a suitable thermal expansion coefficient of the sealing material is 70 to 90 × 10 −7 / ° C.

ビスマス系材料は、粉末のまま使用しても良いが、ビークルと均一に混練し、ペーストとして使用すると取り扱いやすい。ビークルは、主に有機溶媒と樹脂とからなり、樹脂はペーストの粘性を調整する目的で添加される。また、必要に応じて、界面活性剤、増粘剤等を添加することもできる。作製されたペーストは、ディスペンサーやスクリーン印刷機等の塗布機を用いて塗布される。   The bismuth-based material may be used as a powder, but it is easy to handle when it is kneaded uniformly with a vehicle and used as a paste. The vehicle is mainly composed of an organic solvent and a resin, and the resin is added for the purpose of adjusting the viscosity of the paste. Moreover, surfactant, a thickener, etc. can also be added as needed. The produced paste is applied using an applicator such as a dispenser or a screen printer.

樹脂としては、アクリル酸エステル(アクリル樹脂)、エチルセルロース、ポリエチレングリコール誘導体、ニトロセルロース、ポリメチルスチレン、ポリエチレンカーボネート、メタクリル酸エステル等が使用可能である。特に、アクリル酸エステル、ニトロセルロースは、熱分解性が良好であるため、好ましい。   As the resin, acrylic acid ester (acrylic resin), ethyl cellulose, polyethylene glycol derivative, nitrocellulose, polymethylstyrene, polyethylene carbonate, methacrylic acid ester and the like can be used. In particular, acrylic acid esters and nitrocellulose are preferable because they have good thermal decomposability.

有機溶媒としては、N、N’−ジメチルホルムアミド(DMF)、α−ターピネオール、高級アルコール、γ−ブチルラクトン(γ−BL)、テトラリン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸エチル、酢酸イソアミル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、3−メトキシ−3−メチルブタノール、水、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン等が使用可能である。特に、α−ターピネオールは、高粘性であり、樹脂等の溶解性も良好であるため、好ましい。   As organic solvents, N, N′-dimethylformamide (DMF), α-terpineol, higher alcohol, γ-butyllactone (γ-BL), tetralin, butyl carbitol acetate, ethyl acetate, isoamyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether , Diethylene glycol monoethyl ether acetate, benzyl alcohol, toluene, 3-methoxy-3-methylbutanol, water, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl Ether, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene carbonate, dimethyl sulfoxide (DMSO) N- methyl-2-pyrrolidone and the like can be used. In particular, α-terpineol is preferable because it is highly viscous and has good solubility in resins and the like.

本発明のビスマス系材料は、所定形状に焼結し、タブレットとするのが好ましい。PDP等の平面表示装置において、排気管をパネルに封着させるために、リング状に成形加工されたタブレット(プレスフリット・ガラス焼結体・ガラス成形体等とも称される)が用いられている。タブレットには、排気管を挿入するための挿入孔が形成されており、この挿入孔に排気管を挿入し、排気管の先端部をパネルの排気孔の位置に合わせ、クリップ等で固定される。その後、タブレットの封着温度で熱処理を行い、タブレットを軟化させることにより、排気管がパネルに取り付けられる。本発明のビスマス系材料をタブレットに加工すれば、排気管の取り付けにあたって、排気設備への接続を容易にできるとともに、排気管の傾きをパネルに対して低減することができ、すなわちパネル面に対し垂直に取り付けることができ、更には平面表示装置の発光能力を維持しつつ気密信頼性が保たれるように取り付けることができる。特に、本発明のタブレットは、封着工程で所望の流動性を確保することができ、更に結晶化後の耐熱性が良好であるため、PDPの排気管の固定に好適である。   The bismuth-based material of the present invention is preferably sintered into a predetermined shape to form a tablet. In a flat display device such as a PDP, a tablet (also referred to as a press frit, a glass sintered body, a glass molded body, etc.) molded into a ring shape is used to seal the exhaust pipe to the panel. . The tablet has an insertion hole for inserting the exhaust pipe. The exhaust pipe is inserted into the insertion hole, and the tip of the exhaust pipe is aligned with the position of the exhaust hole of the panel and fixed with a clip or the like. . Thereafter, heat treatment is performed at the sealing temperature of the tablet to soften the tablet, whereby the exhaust pipe is attached to the panel. If the bismuth-based material of the present invention is processed into a tablet, the exhaust pipe can be easily connected to the exhaust equipment and the inclination of the exhaust pipe can be reduced with respect to the panel. It can be mounted vertically, and further, it can be mounted so that airtight reliability is maintained while maintaining the light emission capability of the flat display device. In particular, the tablet of the present invention is suitable for fixing an exhaust pipe of a PDP because desired fluidity can be ensured in the sealing step and heat resistance after crystallization is good.

本発明のタブレットは、以下のように複数回の熱工程を別途独立に経て、製造する。まず、ビスマス系材料にバインダーや溶剤を添加し、スラリーを形成する。その後、このスラリーをスプレードライヤー等の造粒装置に投入し、顆粒を作製する。その際、顆粒は、溶剤が揮発する程度の温度(100〜200℃程度)で熱処理される。さらに、作製された顆粒は、所定の寸法に設計された金型に投入され、リング状に乾式プレス成形され、プレス体が作製される。次に、ベルト炉等の熱処理炉にて、このプレス体に残存するバインダーを分解揮発させるとともに、ビスマス系ガラスの軟化点程度の温度で焼結し、タブレットが作製される。また、熱処理炉での焼結は、複数回行われる場合がある。焼結を複数回行うと、タブレットの強度が向上し、タブレットの欠損、破壊等を効果的に防止することができる。   The tablet of the present invention is produced through a plurality of independent heating processes as follows. First, a binder or solvent is added to a bismuth-based material to form a slurry. Thereafter, this slurry is put into a granulator such as a spray dryer to produce granules. At that time, the granules are heat-treated at a temperature at which the solvent volatilizes (about 100 to 200 ° C.). Furthermore, the produced granule is put into a mold designed to have a predetermined size and is dry press-molded into a ring shape to produce a pressed body. Next, the binder remaining in the press body is decomposed and volatilized in a heat treatment furnace such as a belt furnace, and sintered at a temperature about the softening point of the bismuth glass to produce a tablet. Further, the sintering in the heat treatment furnace may be performed a plurality of times. When the sintering is performed a plurality of times, the strength of the tablet is improved, and the tablet can be effectively prevented from being broken or broken.

本発明のタブレットは、拡径された排気管の先端部に取り付けてタブレット一体型排気管として用いることが好ましい。以上のような構成にすれば、パネル、タブレットおよび排気管の3つの部品を排気孔での中心位置合わせを同時に行う必要がなく、排気管取り付け作業を簡略化することができる。このようなタブレット一体型排気管を製造するためには、排気管の一端にタブレットを接触させた状態で熱処理し、タブレットを排気管の先端部に接着させておく必要がある。このような場合、一般に排気管を治具により固定し、この状態の排気管にタブレットを挿入し熱処理する方法を採用することができる。排気管を固定する治具は、タブレットが融着しない材質を用いることが好ましく、例えば、カーボン治具等が使用可能である。また、排気管とタブレットの接着は、ビスマス系ガラスの軟化点付近で5〜10分程度の短時間で行えばよい。さらに、本発明のタブレットは、封着工程で所望の流動性を確保することができるとともに、被封着物とタブレットの封着強度が良好である。さらに、封着工程でタブレットが流動した後に、十分な量の結晶が析出するため、その後の熱処理工程でタブレットが再軟化し難く、平面表示装置等の気密信頼性を確保することができる。   It is preferable that the tablet of the present invention is used as a tablet-integrated exhaust pipe by being attached to the distal end portion of the expanded exhaust pipe. With the above configuration, it is not necessary to simultaneously align the three parts of the panel, the tablet, and the exhaust pipe in the exhaust hole, and the exhaust pipe installation work can be simplified. In order to manufacture such a tablet-integrated exhaust pipe, it is necessary to heat-treat the tablet in contact with one end of the exhaust pipe and adhere the tablet to the tip of the exhaust pipe. In such a case, it is generally possible to employ a method of fixing the exhaust pipe with a jig and inserting a tablet into the exhaust pipe in this state to perform heat treatment. The jig for fixing the exhaust pipe is preferably made of a material to which the tablet is not fused, and for example, a carbon jig or the like can be used. Moreover, what is necessary is just to perform adhesion | attachment of an exhaust pipe and a tablet for a short time of about 5 to 10 minutes near the softening point of bismuth-type glass. Furthermore, the tablet of this invention can ensure desired fluidity | liquidity at a sealing process, and the sealing strength of a to-be-sealed thing and a tablet is favorable. Furthermore, since a sufficient amount of crystals precipitates after the tablet flows in the sealing process, the tablet is hardly re-softened in the subsequent heat treatment process, and airtight reliability of a flat display device or the like can be ensured.

排気管としては、アルカリ金属酸化物を所定量含有させたSiO2−Al23−B23系ガラスが好適であるが、特に日本電気硝子株式会社製の商品グレード「FE−2」が好適である。この排気管は、熱膨張係数が85×10-7/℃、耐熱温度が550℃であり、寸法が、例えば外径5mm、内径3.5mmである。また、排気管の先端部分を拡径化するのが好ましく、先端部にフレア部またはフランジ部を形成するのが好ましい。排気管の先端部分を拡径化する方法として、種々の方法を採用することができる。特に、排気管の先端部を回転させながらガスバーナーを用いて加熱し、数種類の治具を用いて所定の形状に加工する方法が量産性に優れるため好ましい。 As the exhaust pipe, SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 glass containing a predetermined amount of an alkali metal oxide is suitable, but in particular, product grade “FE-2” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. Is preferred. This exhaust pipe has a thermal expansion coefficient of 85 × 10 −7 / ° C., a heat resistant temperature of 550 ° C., and has dimensions of, for example, an outer diameter of 5 mm and an inner diameter of 3.5 mm. Moreover, it is preferable to enlarge the diameter of the tip of the exhaust pipe, and it is preferable to form a flare or flange at the tip. Various methods can be adopted as a method of expanding the tip portion of the exhaust pipe. In particular, a method of heating using a gas burner while rotating the tip of the exhaust pipe and processing it into a predetermined shape using several kinds of jigs is preferable because it is excellent in mass productivity.

このような構成のタブレット一体型排気管の一例を図1に示す。図1は、タブレット一体型排気管の断面図であり、排気管1の先端部が拡径化されており、排気管のパネル側の先端部分にタブレット2が接着されている。   An example of the tablet-integrated exhaust pipe having such a configuration is shown in FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a tablet-integrated exhaust pipe, where the tip of the exhaust pipe 1 is enlarged in diameter, and the tablet 2 is bonded to the tip of the exhaust pipe on the panel side.

本発明のタブレット一体型排気管は、拡径された排気管の先端部にタブレットと、高融点タブレットとが取り付けられており、且つタブレットを拡径された排気管の先端部側に取り付けて、高融点タブレットをタブレットよりも後端部側に取り付けることが好ましい。タブレット一体型排気管をこのような構成にすれば、タブレットが排気管の先端部側に取り付けられているので、パネル等に排気管を取り付ける際にパネル等と接触する面積は、排気管だけの場合よりも広くなり、安定してパネル等の上に排気管を自立させることができ、パネル等に対して傾くことなく垂直に取り付けることが容易になる。また、タブレット一体型排気管をこのような構成にすれば、タブレット一体型排気管を製造する工程において、タブレットを排気管に固着させる際、治具とタブレットの間に高融点タブレットを配置させることにより、タブレット一体型排気管を製造することができ、つまりタブレット一体型排気管の製造において、特殊な治具を使用する必要がなくなり、製造工程を簡略化することができる。   In the tablet-integrated exhaust pipe of the present invention, the tablet and the high melting point tablet are attached to the distal end portion of the expanded exhaust pipe, and the tablet is attached to the distal end side of the expanded exhaust pipe, It is preferable to attach the high melting point tablet to the rear end side of the tablet. If the tablet-integrated exhaust pipe is configured in this way, the tablet is attached to the tip of the exhaust pipe, so when attaching the exhaust pipe to the panel, the area that contacts the panel etc. It becomes wider than the case, and the exhaust pipe can be made to stand on a panel or the like stably, and it becomes easy to attach vertically without tilting to the panel or the like. If the tablet-integrated exhaust pipe is configured as described above, in the process of manufacturing the tablet-integrated exhaust pipe, when the tablet is fixed to the exhaust pipe, a high melting point tablet is placed between the jig and the tablet. Thus, the tablet-integrated exhaust pipe can be manufactured, that is, it is not necessary to use a special jig in manufacturing the tablet-integrated exhaust pipe, and the manufacturing process can be simplified.

上記構成のタブレット一体型排気管において、タブレットは、好ましくはガラス管の先端部の外周面に固着され、更に好ましくはガラス管の先端部の外周面のみに固着され、ガラス管先端部の先端面、すなわちパネル等と接着する面には固着されない。このようにすれば、パネル等に形成された排気孔へガラスが流れ込む事態を容易に防止できる。また、高融点タブレットは、排気管に直接接着せず、タブレットを介して排気管に固定すれば、封着工程で高融点タブレット部分をクリップで固定した状態で排気管を加圧封着できるため、好ましい。   In the tablet-integrated exhaust pipe having the above-described configuration, the tablet is preferably fixed to the outer peripheral surface of the front end portion of the glass tube, more preferably fixed only to the outer peripheral surface of the front end portion of the glass tube, and the front end surface of the front end portion of the glass tube That is, it is not fixed to the surface bonded to the panel or the like. In this way, it is possible to easily prevent the glass from flowing into the exhaust holes formed in the panel or the like. In addition, if the high melting point tablet is not directly bonded to the exhaust pipe, but is fixed to the exhaust pipe through the tablet, the exhaust pipe can be pressure sealed with the high melting point tablet part fixed with a clip in the sealing process. ,preferable.

高融点タブレットとしては、日本電気硝子株式会社製の商品グレード「ST−4」、「FN−13」を材料として用いるのが好ましい。高融点タブレットは、上記の方法で作製することができる。また、高融点タブレットの材質として、セラミックス、金属等を用いることもできる。   As the high melting point tablet, it is preferable to use product grades “ST-4” and “FN-13” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. as materials. The high melting point tablet can be produced by the above method. Moreover, ceramics, metal, etc. can also be used as a material of the high melting point tablet.

図2にこのような構成のタブレット一体型排気管の一例を示す。図2は、タブレット一体型排気管の断面図であり、排気管1の先端部が拡径化されており、排気管1のフランジ部分1a外周面側の先端部分にタブレット2が接着している。一方、高融点タブレット3は排気管1の外周面側に接着していない。また、タブレット2は、フランジ部分1aの先端部側に取り付けられて、高融点タブレット3がタブレット2よりもフランジ部分1aの後端部側に取り付けられている。   FIG. 2 shows an example of the tablet-integrated exhaust pipe having such a configuration. FIG. 2 is a cross-sectional view of the tablet-integrated exhaust pipe, where the tip of the exhaust pipe 1 has an enlarged diameter, and the tablet 2 is bonded to the tip of the exhaust pipe 1 on the outer peripheral surface side of the flange portion 1a. . On the other hand, the high melting point tablet 3 is not bonded to the outer peripheral surface side of the exhaust pipe 1. The tablet 2 is attached to the front end side of the flange portion 1 a, and the high melting point tablet 3 is attached to the rear end portion side of the flange portion 1 a than the tablet 2.

本発明のビスマス系材料は、封着材料として使用することが好ましい。その場合、本発明のビスマス系材料は、低温で封着可能であるため、耐熱性の乏しい部材の特性を劣化させることなく、封着することができる。また、本発明のビスマス系材料は、平面表示装置または電子部品の封着に使用することが好ましい。平面表示装置は、低温で封着することができれば、それだけ製造効率が向上するとともに、蛍光体等の他部材の特性劣化を防止することができる。一方、電子部品は、高温で特性が劣化する部材(例えば、水晶振動子パッケージの導電接着剤)を使用する場合がある。よって、本発明のビスマス系材料は、低温で封着可能であるため、これらの用途に好適である。   The bismuth-based material of the present invention is preferably used as a sealing material. In that case, since the bismuth-based material of the present invention can be sealed at a low temperature, it can be sealed without deteriorating the characteristics of a member having poor heat resistance. The bismuth-based material of the present invention is preferably used for sealing a flat display device or an electronic component. As long as the flat display device can be sealed at a low temperature, the manufacturing efficiency can be improved, and the deterioration of characteristics of other members such as a phosphor can be prevented. On the other hand, an electronic component may use a member whose characteristics deteriorate at a high temperature (for example, a conductive adhesive for a crystal resonator package). Therefore, the bismuth-based material of the present invention can be sealed at a low temperature and is suitable for these applications.

本発明のビスマス系材料は、PDPの封着に使用することが好ましい。PDPでは、封着工程の後、排気管を通してPDP内部を真空排気した後、希ガスを必要量注入して排気管を封止する。この真空排気工程は、排気効率を上げるため、できるだけ高温で行うことが好ましい。この点、本発明のビスマス系材料は、ガラスが流動した後に結晶が多く析出するため、その後の真空排気工程で再軟化し難く、排気温度を上昇させることができる。同様の理由により、本発明のビスマス系材料は、前面ガラス基板と背面ガラス基板の封着材料としても好適である。   The bismuth-based material of the present invention is preferably used for sealing PDP. In the PDP, after the sealing step, the inside of the PDP is evacuated through an exhaust pipe, and then a necessary amount of rare gas is injected to seal the exhaust pipe. This evacuation process is preferably performed at as high a temperature as possible in order to increase the exhaust efficiency. In this respect, the bismuth-based material of the present invention has a large amount of crystals deposited after the glass has flowed. Therefore, it is difficult to re-soften in the subsequent vacuum evacuation step, and the exhaust temperature can be raised. For the same reason, the bismuth-based material of the present invention is also suitable as a sealing material for the front glass substrate and the back glass substrate.

本発明のビスマス系材料は、平面表示装置または電子部品の隔壁形成材料として使用することが好ましい。本発明のビスマス系材料は、低温で焼結可能であることに加えて、焼結後に十分な量の結晶が析出するため、その後の熱処理工程で寸法変化が生じ難い。さらに、耐火性フィラー粉末を一定量含有させれば、隔壁の機械的強度、寸法安定性を更に高めることができる。なお、本発明のビスマス系材料は、低温で焼結可能であるとともに、結晶化後の耐熱性に優れることから、隔壁の一部を形成する目的、つまり隔壁の欠損部分を修復する目的で使用することもできる。   The bismuth-based material of the present invention is preferably used as a partition wall forming material for flat display devices or electronic parts. In addition to being sinterable at a low temperature, the bismuth-based material of the present invention precipitates a sufficient amount of crystals after sintering, so that a dimensional change hardly occurs in the subsequent heat treatment step. Furthermore, if a certain amount of refractory filler powder is contained, the mechanical strength and dimensional stability of the partition walls can be further improved. The bismuth-based material of the present invention can be sintered at a low temperature and has excellent heat resistance after crystallization. Therefore, the bismuth-based material is used for the purpose of forming a part of the partition wall, that is, for repairing the defect part of the partition wall. You can also

本発明のビスマス系材料は、平面表示装置または電子部品のサイドフレーム(支持枠、側面スペーサー)形成材料として使用することが好ましい。本発明のビスマス系材料は、ビスマス系ガラス組成物のガラス組成を上記範囲に規制していることから、サイドフレームの焼結工程後に結晶が析出し、サイドフレーム形成の際、サイドフレームを安定して形成することできるとともに、サイドフレームの寸法精度を容易に向上させることができる。さらに、ビスマス系ガラス粉末に耐火性フィラー粉末を添加すれば、サイドフレームの熱膨張係数を調整しやすくなり、サイドフレームの機械的強度を高めやすくなる。その結果、平面表示装置の装置内部が真空状態であっても装置内部を確実に支持することができるとともに、平面表示装置に機械的衝撃が与えられても、サイドフレームを起点にクラックが発生し難くなる。また、本発明のビスマス系材料は、上記のようにガラス組成範囲が規制されていることから、高歪点ガラス基板の歪点以下の温度(例えば、570℃以下)で緻密に焼結し、高歪点ガラス基板の歪点以下の温度でサイドフレームを形成することができる。   The bismuth-based material of the present invention is preferably used as a material for forming a side frame (support frame, side spacer) of a flat display device or electronic component. Since the bismuth-based material of the present invention regulates the glass composition of the bismuth-based glass composition within the above range, crystals are precipitated after the side frame sintering process, and the side frame is stabilized during the formation of the side frame. And the dimensional accuracy of the side frame can be easily improved. Furthermore, if the refractory filler powder is added to the bismuth-based glass powder, the thermal expansion coefficient of the side frame can be easily adjusted, and the mechanical strength of the side frame can be easily increased. As a result, the inside of the flat display device can be reliably supported even when the inside of the flat display device is in a vacuum state, and even if a mechanical shock is applied to the flat display device, a crack is generated from the side frame. It becomes difficult. Moreover, since the glass composition range is regulated as described above, the bismuth-based material of the present invention is densely sintered at a temperature lower than the strain point of the high strain point glass substrate (for example, 570 ° C. or lower), The side frame can be formed at a temperature below the strain point of the high strain point glass substrate.

特に、本発明のビスマス系材料は、FEDのサイドフレームに使用することが好ましい。本発明のビスマス系材料は、結晶の析出をコントロールしやすいため、サイドフレームの寸法精度を容易に向上させることができる。その結果、前面ガラス基板と背面ガラス基板の間隔を均一にすることができ、FEDの装置内部で前面板と背面板の間に印加される加速電圧にばらつきが生じたり、蛍光体に衝突する電子の速度が変化したりして、FEDの輝度特性に悪影響を及ぼす事態が生じ難い。   In particular, the bismuth-based material of the present invention is preferably used for a side frame of an FED. Since the bismuth-based material of the present invention can easily control the precipitation of crystals, the dimensional accuracy of the side frame can be easily improved. As a result, the distance between the front glass substrate and the rear glass substrate can be made uniform, the acceleration voltage applied between the front plate and the back plate inside the FED apparatus varies, and the velocity of electrons that collide with the phosphor. It is difficult to cause a situation in which the luminance characteristics of the FED are adversely affected.

以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.

表1〜4は本発明の実施例(試料a〜t)を示しており、表5は本発明の比較例(試料u〜x)を示している。   Tables 1 to 4 show examples (samples a to t) of the present invention, and Table 5 shows comparative examples (samples u to x) of the present invention.

Figure 2009062257
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表1〜5に記載の各試料は次のようにして調製した。   Each sample described in Tables 1 to 5 was prepared as follows.

まず、表に示したガラス組成となるように各種酸化物、炭酸塩等の原料を調合したガラスバッチを準備し、これを白金坩堝に入れて900〜1200℃で1〜2時間溶融した。次に、溶融ガラスの一部を熱膨張係数測定用試料としてステンレス製の金型に流し出し、その他の溶融ガラスは、水冷ローラーにより、薄片状に成形した。最後に、薄片状のガラスをボールミルにて粉砕後、目開き200メッシュの篩いを通過させて、平均粒子径D50が10μmの各試料を得た。 First, a glass batch in which raw materials such as various oxides and carbonates were prepared so as to have the glass composition shown in the table was prepared, and this was put in a platinum crucible and melted at 900 to 1200 ° C. for 1 to 2 hours. Next, a part of the molten glass was poured into a stainless steel mold as a sample for measuring the thermal expansion coefficient, and the other molten glass was formed into a thin piece by a water-cooled roller. Finally, the flaky glass was pulverized with a ball mill and then passed through a sieve having an opening of 200 mesh to obtain each sample having an average particle diameter D 50 of 10 μm.

各試料につき、ガラス転移点、軟化点、熱膨張係数、結晶化温度および結晶性について評価した。   Each sample was evaluated for glass transition point, softening point, thermal expansion coefficient, crystallization temperature and crystallinity.

ガラス転移点および熱膨張係数は、押棒式熱膨張係数測定(TMA)装置により求めた。   The glass transition point and the thermal expansion coefficient were determined by a push rod type thermal expansion coefficient measurement (TMA) apparatus.

軟化点は、DTA装置により求めた。測定は、大気中において、昇温速度10℃/分で行い、室温から測定を開始した。   The softening point was determined with a DTA apparatus. The measurement was performed in the atmosphere at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and the measurement was started from room temperature.

結晶化温度は、DTA装置で測定した。測定は、大気中において、昇温速度10℃/分で行い、室温から測定を開始した。また、結晶化温度より20℃低い温度で熱処理した焼成体を試料として、TMA装置により、500℃以下の温度領域におけるガラス転移点の有無および熱膨張係数を測定した。   The crystallization temperature was measured with a DTA apparatus. The measurement was performed in the atmosphere at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and the measurement was started from room temperature. Moreover, the presence or absence of a glass transition point and a thermal expansion coefficient in a temperature range of 500 ° C. or lower were measured with a TMA apparatus using a fired body heat-treated at a temperature 20 ° C. lower than the crystallization temperature as a sample.

結晶性の評価は、DTA装置により、570℃以下の温度で結晶化ピークが発現し、且つ、結晶化温度よりも20℃低い温度で熱処理した後、TMA装置で測定し、500℃以下の温度領域においてガラス転移点、屈伏点を示さない試料を「○」とし、それ以外の試料を「×」とした。   The crystallinity is evaluated with a DTA apparatus, where a crystallization peak appears at a temperature of 570 ° C. or lower and heat treatment is performed at a temperature 20 ° C. lower than the crystallization temperature, and then measured with a TMA apparatus. Samples that did not show a glass transition point or yield point in the region were marked with “◯”, and other samples were marked with “X”.

表6〜9は本発明の実施例(試料No.1〜20)を示しており、表10は本発明の比較例(試料No.21〜24)を示している。   Tables 6 to 9 show examples (samples Nos. 1 to 20) of the present invention, and Table 10 shows comparative examples (samples Nos. 21 to 24) of the present invention.

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表6〜10に示す割合でガラス粉末と耐火性フィラー粉末を混合し、ビスマス系材料(試料No.1〜24)を作製した。   Glass powder and refractory filler powder were mixed at the ratios shown in Tables 6 to 10 to prepare bismuth-based materials (sample Nos. 1 to 24).

耐火物フィラーとしては、ウイレマイトおよび二酸化スズ(錫石)を用いた。ウイレマイトの平均粒子径D50は11μmであり、二酸化スズの平均粒子径D50は8μmであった。 Willemite and tin dioxide (tin stone) were used as the refractory filler. The average particle diameter D 50 of willemite was 11 μm, and the average particle diameter D 50 of tin dioxide was 8 μm.

以上の試料を用いて、軟化点、結晶化温度、熱膨張係数、ガラス転移点、流動径および表面状態を評価した。   Using the above samples, the softening point, crystallization temperature, thermal expansion coefficient, glass transition point, flow diameter, and surface state were evaluated.

軟化点は、DTA装置により測定した。測定は、大気中において、昇温速度10℃/分で行い、室温から測定を開始した。結晶化温度は、DTA装置で測定した。測定は、大気中において、昇温速度10℃/分で行い、室温から測定を開始した。   The softening point was measured with a DTA apparatus. The measurement was performed in the atmosphere at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and the measurement was started from room temperature. The crystallization temperature was measured with a DTA apparatus. The measurement was performed in the atmosphere at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and the measurement was started from room temperature.

熱膨張係数、500℃以下の温度領域におけるガラス転移点の有無は、表6〜10に記載の熱処理条件で熱処理した試料を用いて、TMA装置により測定した。   The thermal expansion coefficient and the presence or absence of a glass transition point in a temperature range of 500 ° C. or less were measured with a TMA apparatus using samples heat-treated under the heat treatment conditions shown in Tables 6 to 10.

流動径は、ビスマス系材料の真比重に相当する質量の粉末を金型により外径20mmのボタン状にプレスし、次に得られたボタン試料を高歪点ガラス基板上に載置した後、電気炉で10℃/分で昇温し、表6〜10に記載の熱処理温度で10分間保持した後、10℃/分の速度で降温し、得られたボタン試料の直径をデジタルノギスで測定し、評価した。   The flow diameter is a powder having a mass corresponding to the true specific gravity of the bismuth-based material, pressed into a button shape having an outer diameter of 20 mm by a mold, and then placed on a high strain point glass substrate. The temperature was raised at 10 ° C./min in an electric furnace, held at the heat treatment temperature shown in Tables 6 to 10 for 10 minutes, the temperature was lowered at a rate of 10 ° C./min, and the diameter of the obtained button sample was measured with a digital caliper. And evaluated.

表面状態は、顕微鏡で観察し、上記ボタン表面全体に結晶が析出しているものを「○」とし、ボタン表面全体に結晶が析出していないものを「×」として評価した。   The surface state was observed with a microscope and evaluated as “◯” when crystals were deposited on the entire button surface, and “X” when crystals were not deposited on the entire button surface.

表6〜9から明らかなように、試料No.1〜20は、30〜300℃における熱膨張係数がソーダガラス基板や高歪点ガラス基板等に整合しており、封着材料として好適であると考えられる。また、試料No.1〜20は、表に示した熱処理条件で18mm以上の流動径を示し、良好な流動性を有しており、しかもガラスが軟化した後に結晶化するため、ガラス基板等に強固に融着しており、封着性能も優れていた。さらに、試料No.1〜20は、耐火物フィラー粉末としてウイレマイトまたは二酸化スズを用いており、熱処理後のボタンの表面が十分に結晶化しており、非結晶性のガラスに特有の性質であるガラス転移点が500℃以下の温度領域で観察されなかった。よって、試料No.1〜20は、高密度に結晶化している(結晶化度が高い)と考えられる。   As is clear from Tables 6 to 9, sample No. Nos. 1 to 20 have a thermal expansion coefficient at 30 to 300 ° C. matched with a soda glass substrate, a high strain point glass substrate, and the like, and are considered to be suitable as a sealing material. Sample No. Nos. 1 to 20 show a flow diameter of 18 mm or more under the heat treatment conditions shown in the table, have good fluidity, and crystallize after the glass is softened. The sealing performance was also excellent. Furthermore, sample no. Nos. 1 to 20 use willemite or tin dioxide as the refractory filler powder, the surface of the button after heat treatment is sufficiently crystallized, and the glass transition point, which is a characteristic characteristic of non-crystalline glass, is 500 ° C. It was not observed in the following temperature range. Therefore, sample no. 1 to 20 are considered to be crystallized at high density (high crystallinity).

一方、表10に示す試料No.21は、耐火物フィラー粉末としてウイレマイトを使用し、ボタン表面はマット状態であったものの、軟化点以下の温度でガラス転移点が確認でき、低密度に結晶化している(結晶化度が低い)と考えられる。試料No.22〜24は、耐火物フィラー粉末としてウイレマイトを使用しており、流動径が20mm以上であり、良好な流動性を示しているが、ボタンの表面には光沢があり、ボタンの表面が結晶化していなかった。   On the other hand, Sample No. No. 21 uses willemite as a refractory filler powder, and the button surface was in a matte state, but the glass transition point could be confirmed at a temperature below the softening point and crystallized at a low density (low crystallinity). it is conceivable that. Sample No. Nos. 22 to 24 use willemite as a refractory filler powder and have a flow diameter of 20 mm or more and good fluidity, but the button surface is glossy and the button surface is crystallized. It wasn't.

本発明のビスマス系材料は、PDP、FED、VFDおよび陰極線管(CRT)の封着材料、PDPの隔壁形成材料、PDP、FEDおよびVFDのサイドフレーム形成材料、水晶振動子、ICパッケージ等の電子部品の封着材料、磁気ヘッド−コア同士またはコアとスライダーの封着材料として好適である。   The bismuth-based material of the present invention includes PDP, FED, VFD and cathode ray tube (CRT) sealing materials, PDP partition wall forming materials, PDP, FED and VFD side frame forming materials, crystal resonators, IC packages, etc. It is suitable as a sealing material for parts, a magnetic head-core or between core and slider.

本発明のタブレット一体型排気管を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the tablet integrated exhaust pipe of this invention. 本発明のタブレット一体型排気管を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the tablet integrated exhaust pipe of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 排気管
2 タブレット
3 高融点タブレット
1 Exhaust pipe 2 Tablet 3 High melting point tablet

Claims (14)

ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜84%、B23 5.4〜15%、ZnO 10〜27%、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 As a glass composition, in mass%, Bi 2 O 3 60~84% , B 2 O 3 5.4~15%, ZnO 10~27%, CuO 0~7%, Fe 2 O 3 0~5%, BaO + SrO + MgO + CaO A bismuth-based glass composition containing 0 to 10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0 to 5%, and substantially free of PbO. ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜79.9%、B23 5.4〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 As a glass composition, in mass%, Bi 2 O 3 60~79.9% , B 2 O 3 5.4~15%, ZnO 15~27%, 0~5% CuO, Fe 2 O 3 0~5% BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, MoO 3 + WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5% And the bismuth-type glass composition characterized by not containing PbO substantially. ガラス組成として、質量%で、Bi23 67〜79.9%、B23 5.6〜15%、ZnO 15〜27%、CuO 0〜5%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%、MoO3+WO3 0〜5%、Sb23 0〜5%、In23+Ga23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とする請求項2に記載のビスマス系ガラス組成物。 As a glass composition, in mass%, Bi 2 O 3 67~79.9% , B 2 O 3 5.6~15%, ZnO 15~27%, 0~5% CuO, Fe 2 O 3 0~5% BaO + SrO + MgO + CaO 0-10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-5%, MoO 3 + WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5% And the bismuth-type glass composition of Claim 2 which does not contain PbO substantially. ガラス組成として、質量%で、Bi23 60〜77%未満、B23 5.4〜10%、ZnO 10〜15%未満、CuO 0〜7%、Fe23 0〜5%、BaO+SrO+MgO+CaO 0〜10%、SiO2+Al23 0〜5%含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 As a glass composition, in mass%, Bi less than 2 O 3 60~77%, B 2 O 3 5.4~10%, ZnO less than 10~15%, CuO 0~7%, Fe 2 O 3 0~5% BaO + SrO + MgO + CaO 0 to 10%, SiO 2 + Al 2 O 3 0 to 5%, and substantially free of PbO. 体積%表示で、請求項1〜4のいずれかに記載のビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末40〜100%と、耐火性フィラー粉末0〜60%を含有し、且つ結晶性であることを特徴とするビスマス系材料。   It contains the glass powder 40-100% which consists of the bismuth-type glass composition in any one of Claims 1-4 by volume% display, and 0-60% of refractory filler powders, and is crystalline. Characteristic bismuth-based material. 結晶化温度が490〜570℃であることを特徴とする請求項5に記載のビスマス系材料。   The bismuth-based material according to claim 5, wherein the crystallization temperature is 490 to 570 ° C. 耐火性フィラー粉末が、ZnO含有耐火性フィラー粉末であることを特徴とする請求項5または6に記載のビスマス系材料。   The bismuth-based material according to claim 5 or 6, wherein the refractory filler powder is a ZnO-containing refractory filler powder. 耐火性フィラー粉末が、ウイレマイト、酸化亜鉛、ガーナイト、ZnO・Al23・SiO2の群より選ばれた一種または二種以上であることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載のビスマス系材料。 Refractory filler powder, willemite, zinc oxide, gahnite, according to any one of claims 5-7, characterized in that it ZnO · Al 2 O 3 · SiO 2 than selected one or two or more groups Bismuth material. 封着に用いることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載のビスマス系材料。   The bismuth-based material according to any one of claims 5 to 8, which is used for sealing. 平面表示装置または電子部品の隔壁に用いることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載のビスマス系材料。   The bismuth-based material according to claim 5, wherein the bismuth-based material is used for a partition wall of a flat display device or an electronic component. 平面表示装置または電子部品のサイドフレームに用いることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載のビスマス系材料。   The bismuth-based material according to claim 5, wherein the bismuth-based material is used for a flat display device or a side frame of an electronic component. ビスマス系材料を所定形状に焼結させたタブレットであって、該ビスマス系材料が請求項5〜11のいずれかに記載のビスマス系材料であることを特徴とするタブレット。   A tablet obtained by sintering a bismuth-based material into a predetermined shape, wherein the bismuth-based material is the bismuth-based material according to any one of claims 5 to 11. 拡径された排気管の先端部に、請求項12に記載のタブレットが取り付けられていることを特徴とするタブレット一体型排気管。   A tablet-integrated exhaust pipe, wherein the tablet according to claim 12 is attached to a distal end portion of the exhaust pipe having an enlarged diameter. 拡径された排気管の先端部に、請求項12に記載のタブレットと、高融点タブレットとが取り付けられており、且つ前記タブレットが拡径された排気管の先端部側に取り付けられ、高融点タブレットが前記タブレットよりも後端部側に取り付けられていることを特徴とするタブレット一体型排気管。   The tablet according to claim 12 and a high melting point tablet are attached to a distal end portion of an exhaust pipe having an enlarged diameter, and the tablet is attached to a distal end portion side of the exhaust pipe having an enlarged diameter. A tablet-integrated exhaust pipe, wherein the tablet is attached to the rear end side of the tablet.
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