JP2009058969A - Method for producing lithographic printing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor which can be subjected to heat mode recording and simple development processing and in particular to provide a simple development processing method capable of efficiently and reliably removing a non-image area of a thermosensitive layer of a lithographic printing plate precursor provided with the thermosensitive layer containing microcapsules including a lipophilic compound, preferably a compound having a thermally reactive functional group. <P>SOLUTION: The method for producing a lithographic printing plate includes performing image recording in the lithographic printing plate precursor provided with a thermosensitive layer containing microcapsules including a lipophilic compound on a support having a hydrophilic surface, and removing a non-image area of the thermosensitive layer by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a processing solution. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ダイレクト感熱性平版印刷版用原版からの平版印刷版の作製方法に関するものである。より詳しくは、ディジタル信号に基づいた走査露光による画像記録が可能な感熱性平版印刷版用原板から平版印刷版を作製するための、簡易な現像処理方法に関する。   The present invention relates to a method for preparing a lithographic printing plate from a direct heat-sensitive lithographic printing plate precursor. More specifically, the present invention relates to a simple development processing method for producing a lithographic printing plate from a heat-sensitive lithographic printing plate precursor capable of recording an image by scanning exposure based on a digital signal.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。このような平版印刷版としては、従来から、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたPS版が広く用いられている。従来のPS版に於ける製版工程は、露光の後、非画像部を高アルカリの現像処理液で溶解除去する操作が必要であり、このような付加的な湿式の処理を簡易化又は不要化することが、従来技術に対して改善が望まれてきた一つの課題である。特に近年は、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、この面での改善の要請は一層強くなっている。   In general, a lithographic printing plate is composed of an oleophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. As such a lithographic printing plate, a PS plate in which an oleophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used. The plate making process in the conventional PS plate requires an operation of dissolving and removing the non-image area with a highly alkaline developing solution after exposure, and simplifies or eliminates such additional wet processing. This is one problem that has been desired to be improved with respect to the prior art. Particularly in recent years, disposal of the waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration of the global environment, and the demand for improvement in this aspect has become even stronger.

一方、近年のこの分野のもう一つの動向としては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及してきており、このような、ディジタル化技術に対応した、新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原板を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されている。   On the other hand, as another trend in this field in recent years, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread. Various new image output methods have been put into practical use. Along with this, a computer that carries a digitized image information in a high-convergence radiation such as laser light, scans and exposes the original plate with this light, and directly produces a printing plate without using a lith film. To-plate technology is drawing attention.

なかでも、最近、半導体レーザー、YAGレーザー等の固体レーザーで高出力のものが安価に入手できるようになってきたことから、高出力レーザーを用いた高パワー密度の露光を用いる製版方法が有望視されるようになっている。この方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光エネルギーが集中照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、形態や構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。つまり、画像情報はレーザー光などの光エネルギーによって入力されるが、画像記録は熱エネルギーによる反応によって記録される。
通常、このような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式はヒートモード記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギーに変えることを光熱変換と呼んでいる。
Among them, since solid-state lasers such as semiconductor lasers and YAG lasers have recently become available at low cost, plate-making methods using high-power density exposure using high-power lasers are promising. It has come to be. In this method, a large amount of light energy is concentrated on the exposure area during an instantaneous exposure time, and the light energy is efficiently converted into thermal energy, and the heat changes chemical changes, phase changes, forms and structures. A thermal change such as a change is caused and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, but image recording is recorded by a reaction by heat energy.
Usually, such a recording method using heat generated by high power density exposure is called heat mode recording, and changing light energy to heat energy is called photothermal conversion.

このようなヒートモード記録の平版印刷版用原板のなかで、簡易な現像処理に適した有望な方法の一つは、親水性バインダーポリマー中に疎水性熱可塑性ポリマー粒子を分散した親水層を画像形成感熱層とする感熱性平版印刷版用原板である。感熱層に熱を加えると疎水性熱可塑性ポリマー粒子が融着し、親水性感熱層表面が親油性画像部に変換することを利用した方法である。   Among such heat mode recording lithographic printing plate precursors, one promising method suitable for simple development processing is to image a hydrophilic layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer. A heat-sensitive lithographic printing plate precursor for forming a heat-sensitive layer. When heat is applied to the heat sensitive layer, the hydrophobic thermoplastic polymer particles are fused and the surface of the hydrophilic heat sensitive layer is converted into an oleophilic image area.

例えば、特許文献1〜3には、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体の微粒子を分散させた感熱層を親水性支持体上に設けた平版印刷版用原板が開示されている。これらの公報には、該平版印刷版用原板において、赤外線レーザー露光して熱可塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画像形成した後、印刷機、湿し水及び/又はインキを供給することにより現像(所謂、印刷機上現像)できることが記載されている。   For example, Patent Documents 1 to 3 disclose lithographic printing plate precursors in which a thermosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. In these publications, a printing press, dampening water and / or ink are supplied to the lithographic printing plate precursor plate after infrared laser exposure to form fine particles of thermoplastic hydrophobic polymer by heat. It is described that development (so-called development on a printing press) can be performed.

しかしながら、このような熱可塑性疎水性微粒子を含有する非画像部分の感熱層を、湿し水又は油性インキによる機上現像により、充分に除去することは困難であり、非画像部に感熱層成分が残存し、印刷において汚れを生じるという問題があった。   However, it is difficult to sufficiently remove the heat-sensitive layer of the non-image portion containing such thermoplastic hydrophobic fine particles by on-press development with dampening water or oil-based ink. Remains and causes stains in printing.

特許第2938397号公報Japanese Patent No. 2938397 特開平9−127683号公報JP-A-9-127683 国際公開第99/10186号パンフレットWO99 / 10186 pamphlet

従って、本発明の目的は、ヒートモード記録及び簡易現像処理可能な平版印刷版用原板から平版印刷版を作製する方法を提供することである。
更なる他の目的は、親油性化合物、好ましくは熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層を設けた平版印刷版用原板の非画像部の感熱層を効率的かつ確実に除去可能である簡易な現像処理方法を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor capable of heat mode recording and simple development processing.
Still another object is to efficiently and efficiently form a heat-sensitive layer in a non-image area of a lithographic printing plate precursor provided with a heat-sensitive layer containing a microcapsule containing a lipophilic compound, preferably a compound having a heat-reactive functional group. It is an object of the present invention to provide a simple development processing method that can be reliably removed.

本発明者は、上記の課題に対して、支持体上に設けられた親油性化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層の除去が、処理液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、効率的かつ確実に実施可能であることを見い出し、この発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
In order to solve the above problems, the present inventor removed the heat-sensitive layer containing the microcapsules encapsulating the lipophilic compound provided on the support by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of the treatment liquid. The present invention has been completed by finding out that it can be efficiently and surely implemented.
That is, the present invention is as follows.

(1)親水性表面を有する支持体上に、親油性化合物、好ましくは熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層を設けた平版印刷版用原板に、画像記録を行った後、処理液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより非画像部の感熱層を除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 (1) Image recording on a lithographic printing plate precursor provided with a thermosensitive layer containing a microcapsule encapsulating a lipophilic compound, preferably a compound having a heat-reactive functional group, on a support having a hydrophilic surface. A method for producing a lithographic printing plate, comprising: a step of removing a heat-sensitive layer in a non-image area by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a treatment liquid after the step.

以下に、更に、本発明の好ましい態様を挙げる。
(2)前記感熱層上に、処理液により除去可能なオーバーコート層を設けた平版印刷用原板を用いることを特徴とする前記(1)に記載の平版印刷版の作製方法。
(3)前記、画像記録を行った平版印刷版用原板の非画像部の感熱層除去を、擦り部材を備えた自動処理機により実施することを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の平版印刷版の作製方法。
The preferred embodiments of the present invention will be further described below.
(2) The method for producing a lithographic printing plate as described in (1) above, wherein a lithographic printing plate having an overcoat layer removable by a treatment liquid is used on the thermosensitive layer.
(3) In the above (1) or (2), the heat-sensitive layer removal of the non-image portion of the lithographic printing plate precursor on which image recording has been performed is performed by an automatic processor equipped with a rubbing member. A method for producing the described lithographic printing plate.

本発明の方法で用いられる平版印刷版用原版は、親水性支持体上の感熱層に、少なくとも親油性化合物、好ましくは熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有させ、コンピュータ等のデジタル信号に基づき、画像様に加熱或いはレーザー光走査の光熱変換により生じた熱により、感熱層の画像記録部において、マイクロカプセルが内包する熱反応性官能基を有する化合物やラジカル重合性化合物が反応し、また好ましくは、マイクロカプセル粒子間で溶融、融着が起こり、感熱層中に親水性樹脂を含有する場合、該樹脂が架橋・耐水化することにより疎水性となる。
本発明の平版印刷版の作製方法は、上記のヒートモード画像記録後の平版印刷版用原版を処理液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、非画像部の感熱層を効率的かつ確実に除去可能であり、簡易な現像処理方法により特に、印刷刷り出し時の汚れを防止できる優れた平版印刷版を得ることができる。
The lithographic printing plate precursor used in the method of the present invention contains a microcapsule containing at least a lipophilic compound, preferably a compound having a heat-reactive functional group, in a heat-sensitive layer on a hydrophilic support, and a computer or the like. Based on the digital signal of the above, a compound having a heat-reactive functional group or a radical polymerizable compound contained in the microcapsule is formed in the image recording portion of the heat sensitive layer by heat generated by image-like heating or photothermal conversion of laser light scanning. When the reaction occurs, and preferably, the microcapsule particles are melted and fused, and the heat-sensitive layer contains a hydrophilic resin, the resin becomes hydrophobic by crosslinking and water resistance.
The method for preparing a lithographic printing plate of the present invention is to efficiently and efficiently form a heat-sensitive layer in a non-image area by rubbing the lithographic printing plate precursor after heat mode image recording with a rubbing member in the presence of a treatment liquid. An excellent lithographic printing plate that can be surely removed and that can prevent stains at the time of printing and printing can be obtained by a simple development processing method.

本発明によれば、簡易な現像処理方法により、ヒートモード記録可能な平版印刷版用原板の非画像部の感熱層を効率的かつ確実に除去可能であり、特に、印刷刷り出し時の汚れを防止できる。   According to the present invention, it is possible to efficiently and surely remove the heat-sensitive layer in the non-image area of the lithographic printing plate precursor capable of heat mode recording by a simple development processing method. Can be prevented.

以下に本発明の平版印刷版の作製方法について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の作製方法が適用される平版印刷版用原板は、親水性表面を有する支持体上に、親油性化合物、好ましくは熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層を有することを特徴とする。
本発明に用いる平版印刷版用原板の感熱層は、上記のように、好ましくは、親油性化合物を内包するマイクロカプセルを含有するものであるが、後述のように、前記マイクロカプセルに加えて、必要に応じてこれらの反応を開始又は促進する化合物、親水性樹脂、光熱変換剤等を含有して構成され、さらに必要に応じて、他の構成成分を含有する。
The method for preparing the planographic printing plate of the present invention will be described in detail below.
A lithographic printing plate precursor to which the method for preparing a lithographic printing plate of the present invention is applied comprises a microcapsule encapsulating a lipophilic compound, preferably a compound having a thermoreactive functional group, on a support having a hydrophilic surface. It has the heat-sensitive layer to contain.
As described above, the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor for use in the present invention preferably contains a microcapsule encapsulating a lipophilic compound, but as described later, in addition to the microcapsule, As needed, it is comprised including the compound which starts or accelerates | stimulates these reactions, hydrophilic resin, a photothermal conversion agent, etc., and also contains other structural components as needed.

本発明における平版印刷版の作製方法は、上記の平版印刷版用原板に、画像記録を行った後、処理液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより非画像部の感熱層を除去する工程を含むことを特徴とする。
本発明における非画像部の感熱層の除去は、処理液の供給手段及び擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、特に限定しないが、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
図1に本発明の現像処理に適した自動処理機の配置図で示すように、処理液10を循環ポンプ11によりスプレーパイプ5に送り、シャワーリングして、回転ブラシロール1及び版面12(平版印刷用原板)に供給し、回転ブラシロール1で版面12を擦る自動処理機により非画像部の感熱層を除去する工程により、平版印刷版が作製される。
The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention comprises removing the heat-sensitive layer in the non-image area by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a treatment liquid after image recording is performed on the lithographic printing plate precursor. Including a process.
The removal of the heat-sensitive layer in the non-image area in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a processing liquid supply means and a rubbing member. Although it does not specifically limit as an automatic processor, The automatic processor which uses a rotating brush roll as a rubbing member is especially preferable.
As shown in the layout diagram of the automatic processor suitable for the development processing of the present invention in FIG. 1, the processing liquid 10 is sent to the spray pipe 5 by the circulation pump 11, showered, and the rotating brush roll 1 and the plate surface 12 (lithographic plate). The lithographic printing plate is produced by the process of removing the heat-sensitive layer in the non-image area by an automatic processor that supplies the printing plate to the printing original plate and rubs the plate surface 12 with the rotating brush roll 1.

以下、本発明の平版印刷版の作製方法が適用される平版印刷版用原板の各構成について説明する。
(親水性表面を有する支持体)
本発明に使用される親水性表面を有する支持体には、支持体自身が親水性であるもの、支持体の表面を親水化処理したもの、あるいは、支持体上に親水性層を備えたものを含む。
Hereinafter, each configuration of the lithographic printing plate precursor to which the lithographic printing plate preparation method of the present invention is applied will be described.
(Support having a hydrophilic surface)
The support having a hydrophilic surface used in the present invention includes a support that is hydrophilic per se, a support that has been hydrophilized, or a support that has a hydrophilic layer on the support. including.

本発明の平版印刷版用原板に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、顔料が分散された上記プラスチックフィルム、空洞を有する上記プラスチックフィルム、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。   The support used for the lithographic printing plate precursor of the present invention is a dimensionally stable plate-like material, for example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), Metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polystyrene , Polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), the above-mentioned plastic film in which a pigment is dispersed, the above-mentioned plastic film having cavities, the paper laminated or vapor-deposited with metal as described above, or the plastic film Beam and the like are included.

本発明の平版印刷版用原板に用いられる支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましい。
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a polyester film or an aluminum plate.
Among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight.
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum. However, since completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

上記の如き方法による粗面化は、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。
粗面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望により耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
The surface roughening by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further neutralized, and then anodized to increase wear resistance as desired. Processing is performed.
As the electrolyte used for anodizing the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好ましい。
1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインクが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号および第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、または電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general, but in general, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable.
The amount of the anodic oxide film is preferably 1.0 to 5.0 g / m 2 , and particularly preferably 1.5 to 4.0 g / m 2 .
If it is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is likely to be scratched, so-called “scratch stains” where ink adheres to the scratched part during printing. It tends to occur.
After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

また、本発明の支持体にポリエステルフィルム等の非導電性のものを用いる場合、支持体の感熱層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。
帯電防止層を支持体と後述の親水性層との間に設けた場合には、親水性層の密着性向上にも寄与する。
帯電防止層としては、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層が使用できる。
When a non-conductive material such as a polyester film is used for the support of the present invention, it is preferable to provide an antistatic layer on the heat-sensitive layer side, the opposite side, or both sides of the support.
In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer described later, it contributes to improving the adhesion of the hydrophilic layer.
As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed can be used.

帯電防止層に用いられる金属酸化物粒子の材料としては、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、MgO、BaO、MoO3、V25及びこれらの複合酸化物、並びに/又はこれらの金属酸化物に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。
金属酸化物としては、SiO2、ZnO、SnO2、Al23、TiO2、In23、MgOが好ましい。
異種原子を少量含む例としては、ZnOに対してAlあるいはIn、SnO2に対してSb、Nbあるいはハロゲン元素、In23に対してSnなどの異種原子を30モル%以下、好ましくは10モル%以下の量をドープしたものを挙げることができる。
金属酸化物粒子は、帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれていることが好ましい。金属酸化物粒子の粒子径は、平均粒子径が0.001〜0.5μmの範囲が好ましい。ここでいう平均粒子径とは、金属酸化物粒子の一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径も含んだ値である。
Examples of the material of the metal oxide particles used for the antistatic layer include SiO 2 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, and these A composite oxide and / or a metal oxide further containing a different atom in these metal oxides can be given. These may be used alone or in combination.
As the metal oxide, SiO 2, ZnO, SnO 2 , Al 2 O 3, TiO 2, In 2 O 3, MgO is preferred.
As an example containing a small amount of hetero atoms, Al or In with respect to ZnO, Sb, Nb or halogen elements with respect to SnO 2 , and hetero atoms such as Sn with respect to In 2 O 3 of 30 mol% or less, preferably 10 What doped the quantity below mol% can be mentioned.
The metal oxide particles are preferably contained in the antistatic layer in the range of 10 to 90% by weight. The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably in the range of 0.001 to 0.5 μm. The average particle diameter here is a value including not only the primary particle diameter of the metal oxide particles but also the particle diameter of the higher order structure.

帯電防止層に用いることができるマット剤としては、好ましくは平均粒径が0.5〜20μm、より好ましくは平均粒径が1.0〜15μmの粒径を持つ無機又は有機の粒子が挙げられる。
無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金属塩等が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン及びそれらの共重合体の架橋粒子が挙げられる。
マット剤は、帯電防止層中に1〜30重量%の範囲で含まれていることが好ましい。
The matting agent that can be used for the antistatic layer preferably includes inorganic or organic particles having an average particle size of 0.5 to 20 μm, more preferably an average particle size of 1.0 to 15 μm. .
Examples of the inorganic particles include metal oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, and zinc oxide, and metal salts such as calcium carbonate, barium sulfate, barium titanate, and strontium titanate. Examples of the organic particles include cross-linked particles of polymethyl methacrylate, polystyrene, polyolefin, and copolymers thereof.
The matting agent is preferably contained in the antistatic layer in the range of 1 to 30% by weight.

帯電防止層に用いることができるポリマーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。
ポリマーは、帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれていることが好ましい。
帯電防止層の厚みは、0.01〜1μmであることが好ましい。
Examples of polymers that can be used for the antistatic layer include proteins such as gelatin and casein, cellulose compounds such as carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, acetylcellulose, diacetylcellulose, and triacetylcellulose, dextran, agar, sodium alginate, and starch derivatives. And synthetic polymers such as saccharides such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, polystyrene, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyester, polyvinyl chloride, polyacrylic acid and polymethacrylic acid. .
The polymer is preferably contained in the antistatic layer in the range of 10 to 90% by weight.
The thickness of the antistatic layer is preferably 0.01 to 1 μm.

支持体の表面を親水性にするために、本発明の支持体上に設けることが可能な親水性層としては、例えば、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスや、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネート又はアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜が挙げられるが、ゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスあるいは金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜が好ましい。   In order to make the surface of the support hydrophilic, the hydrophilic layer that can be provided on the support of the present invention includes, for example, an organic hydrophilic matrix obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer. And a layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or an inorganic thin film having a surface containing a metal oxide However, an inorganic thin film having a surface containing an inorganic hydrophilic matrix or metal oxide obtained by sol-gel conversion is preferable.

本発明の親水性層の有機親水性マトリックス形成に使用する架橋反応としては、熱または光による共有結合形成、又は、多価金属塩によるイオン結合形成が可能である。
本発明に用いる有機親水性ポリマーとしては、架橋反応に用いることが可能な官能基を有するポリマーが好ましい。
好ましい官能基としては、例えば、−OH、−SH、−NH2、−NH−、−CO−NH2 、−CO−NH−、−O−CO−NH−、−NH−CO−NH−、−CO−OH、−CO−O−、−CO−O-、−CS−OH、−CO−SH、−CS−SH、−SO3H、−SO2 (O- )、−PO32 、−PO(O-2、−SO2−NH2 、−SO2−NH−、−CH=CH2、−CH=CH−、−CO−C(CH3)=CH2、−CO−CH=CH2、−CO−CH2−CO−、−CO−O−CO−、及び下記の官能基等が挙げられる。
As the crosslinking reaction used for forming the organic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, covalent bond formation by heat or light, or ionic bond formation by a polyvalent metal salt is possible.
The organic hydrophilic polymer used in the present invention is preferably a polymer having a functional group that can be used for a crosslinking reaction.
Preferred functional groups include, for example, —OH, —SH, —NH 2 , —NH—, —CO—NH 2 , —CO—NH—, —O—CO—NH—, —NH—CO—NH—, -CO-OH, -CO-O - , - CO-O -, -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -SO 3 H, -SO 2 (O -), - PO 3 H 2 , —PO (O ) 2 , —SO 2 —NH 2 , —SO 2 —NH—, —CH═CH 2 , —CH═CH—, —CO—C (CH 3 ) ═CH 2 , —CO— CH = CH 2 , —CO—CH 2 —CO—, —CO—O—CO—, and the following functional groups may be mentioned.

Figure 2009058969
Figure 2009058969

特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基が好ましい。   In particular, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an epoxy group are preferable.

このような本発明の有機親水性ポリマーとしては、公知の水溶性バインダーを用いることが可能であり、例えば、ポリビニルアルコール(ケン化度60%以上のポリビニルアセテート)、カルボキシ変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコール、澱粉およびその誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびその塩、ヒドロキシエチルセルロースのようなセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体及びその塩、スチレン−マレイン酸共重合体及びその塩、ポリアクリル酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、ポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルホスホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩、ポリ(メタクリロイロキシプロパンスルホン酸)及びその塩、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリ(メタクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド)、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリアクリルアミド等が挙げられる。これらのポリマーは、親水性を損なわない限りにおいて、コポリマーであっても良く、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、20重量%〜99重量%、好ましくは25重量%〜95重量%、より好ましくは30重量%〜90重量%である。   As such an organic hydrophilic polymer of the present invention, a known water-soluble binder can be used. For example, modified polyvinyl alcohol such as polyvinyl alcohol (polyvinyl acetate having a saponification degree of 60% or more), carboxy-modified polyvinyl alcohol or the like. Alcohol, starch and derivatives thereof, carboxymethylcellulose and salts thereof, cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, gum arabic, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer and salts thereof, styrene-maleic acid copolymer And its salts, polyacrylic acid and its salts, polymethacrylic acid and its salts, polyethylene glycol, polyethyleneimine, polyvinylphosphonic acid and its salts, polystyrene sulfonic acid and its salts, poly (methacryloyl) Carboxy acid) and salts thereof, polyvinyl sulfonic acid and salts thereof, poly (methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium chloride), polyhydroxyethyl methacrylate, polyhydroxyethyl acrylate, polyacrylamide and the like. These polymers may be copolymers as long as hydrophilicity is not impaired, and may be used alone or in combination of two or more. The amount used is 20% to 99% by weight, preferably 25% to 95% by weight, more preferably 30% to 90% by weight, based on the total solid content of the hydrophilic layer.

本発明においては、有機親水性ポリマーの架橋を公知の架橋剤により行うことが可能である。
公知の架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物、多官能エポキシ化合物、多官能アミン化合物、ポリオール化合物、多官能カルボキシル化合物、アルデヒド化合物、多官能(メタ)アクリル化合物、多官能ビニル化合物、多官能メルカプト化合物、多価金属塩化合物、ポリアルコキシシラン化合物およびその加水分解物、ポリアルコキシチタン化合物およびその加水分解物、ポリアルコキシアルミニウム化合物およびその加水分解物、ポリメチロール化合物、ポリアルコキシメチル化合物等が挙げられ、公知の反応触媒を添加し、反応を促進することも可能である。
その使用量は親水性層の塗布液中の総固形分重量に対して、1重量%〜50重量%、好ましくは3重量%〜40重量%、より好ましくは5重量%〜35重量%である。
In the present invention, the organic hydrophilic polymer can be crosslinked with a known crosslinking agent.
Known crosslinking agents include polyfunctional isocyanate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional amine compounds, polyol compounds, polyfunctional carboxyl compounds, aldehyde compounds, polyfunctional (meth) acrylic compounds, polyfunctional vinyl compounds, polyfunctional mercapto compounds. , Polyvalent metal salt compounds, polyalkoxysilane compounds and hydrolysates thereof, polyalkoxytitanium compounds and hydrolysates thereof, polyalkoxyaluminum compounds and hydrolysates thereof, polymethylol compounds, polyalkoxymethyl compounds, etc. It is also possible to add a known reaction catalyst to promote the reaction.
The amount used is 1% to 50% by weight, preferably 3% to 40% by weight, more preferably 5% to 35% by weight, based on the total solid content in the coating solution of the hydrophilic layer. .

本発明の親水性層の無機親水性マトリックス形成に使用することができるゾル−ゲル変換が可能な系は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ基も有していて、これらが混在した樹脂状構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であり、エーテル結合化が進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。また、水酸基の一部が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っている。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明に用いることができるが、以下はもっとも好ましく用いることのできるシロキサン結合によるゾル−ゲル変換系について説明する。アルミニウム、チタン及びジルコニウムを用いるゾル−ゲル変換は、下記の説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができる。   In the system capable of sol-gel conversion that can be used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, the bonding group coming out of the polyvalent element forms a network structure through oxygen atoms, At the same time, the polyvalent metal also has unbonded hydroxyl groups and alkoxy groups, and is a polymer having a resinous structure in which these are mixed, and is in a sol state when there are many alkoxy groups and hydroxyl groups. As bonding proceeds, the network-like resin structure becomes stronger. In addition, when a part of the hydroxyl group is bonded to the solid fine particles, the surface of the solid fine particles is modified to change the hydrophilicity. The polyvalent binding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, and the like. Any of these can be used in the present invention, but the following are most preferably used. A sol-gel conversion system using siloxane bonds that can be formed will be described. Sol-gel conversion using aluminum, titanium, and zirconium can be performed by replacing silicon described below with each element.

すなわち、特に好ましく用いられるのは、ゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を含んだ系である。
以下に、ゾル−ゲル変換を利用する系についてさらに説明する。ゾル−ゲル変換によって形成される無機親水性マトリックスは、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を有する樹脂であり、少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を含んだゾル
の系である塗布液を、塗布、乾燥、経時する間に、シラノール基の加水分解縮合が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行することにより形成される。
また、このゲル構造のマトリックスのなかには、膜強度、柔軟性等の物理的性能向上や、塗布性の改良、親水性の調整等を目的として、上記の有機親水性ポリマーや架橋剤などを添加することも可能である。
ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(I)で示され、また少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(II)で示されるシラン化合物の加水分解により得られ、必ずしも一般式(II)のシラン化合物の部分加水分解物単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分加水重合したオリゴマーからなっていてもよく、あるいは、シラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であってもよい。
That is, a system including a silane compound having at least one silanol group capable of sol-gel conversion is particularly preferably used.
Hereinafter, a system using sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic matrix formed by sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and a coating liquid which is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group is applied. During drying and aging, hydrolysis and condensation of silanol groups proceed to form a siloxane skeleton structure, and gelation proceeds.
In addition, the above organic hydrophilic polymer and crosslinking agent are added to the gel structure matrix for the purpose of improving physical performance such as film strength and flexibility, improving coatability, and adjusting hydrophilicity. It is also possible.
A siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (I), and a silane compound having at least one silanol group is obtained by hydrolysis of a silane compound represented by the following general formula (II): The partial hydrolyzate of the silane compound of the general formula (II) does not necessarily need to be a single hydrolyzate. In general, the silane compound may consist of a partially hydrolyzed oligomer, or a mixed composition of the silane compound and its oligomer. There may be.

Figure 2009058969
Figure 2009058969

上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも1種の化合物のゾル−ゲル変換によって形成され、一般式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは水酸基を表し、他は下記一般式(II)中の記号のR0及びYから選ばれる有機残基を表わす。 The siloxane-based resin of the general formula (I) is formed by sol-gel conversion of at least one silane compound represented by the following general formula (II), and R 01 to R 03 in the general formula (I). At least one of them represents a hydroxyl group, and the other represents an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the following general formula (II).

一般式(II)
(R0 n Si(Y)4-n
Formula (II)
(R 0 ) n Si (Y) 4-n

一般式(II)中、R0は、水酸基、炭化水素基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす)、−OR1、−OCOR2 又は、−N(R3 )(R4 )を表す(R1 、R2は、各々炭化水素基を表し、R3、R4 は同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化水素基を表す)、nは0,1,2又は3を表わす。 In general formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom (representing a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), —OR 1 , —OCOR 2 or —N (R 3 ) (R 4 ) (R 1 , R 2). Each represents a hydrocarbon group, R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group), and n represents 0, 1, 2, or 3.

一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘテロ環基とは、例えば、炭素数1〜12の置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等;これらの基に置換される基としては、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR' 基(R' は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、1−ブロモエチル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す)、−OCOR''基(R''は、前記R' と同一の内容を表わす)、−COOR''基、−COR''基、−N(R''' )(R''' )基(R'''は、水素原子又は前記R' と同一の内容を表わし、各々同じでも異なってもよい)、−NHCONHR''基、−NHCOOR''基、−Si(R'')3基、−CONHR''' 基、−NHCOR''基等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基中に複数置換されてもよい)、 The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 in the general formula (II) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group or an ethyl group). , Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc .; these groups include halogen atoms (chlorine atom, fluorine atom, bromine group) Atom), hydroxy group, thiol group, carboxy group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group) Decyl group, propenyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl 1-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.), -OCOR ″ group (R ″ represents the above R , -COOR ″ group, —COR ″ group, —N (R ′ ″) (R ′ ″) group (R ′ ″ represents a hydrogen atom or R ′ and Represents the same contents, and may be the same or different), —NHCONHR ″ group, —NHCOOR ″ group, —Si (R ″) 3 group, —CONHR ′ ″ group, —NHCOR ″ group, etc. These substituents may be substituted in plural in the alkyl group),

炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられる)、炭素数7〜14の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基等;これらの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、 C2-C12 linear or branched alkenyl group which may be substituted (for example, vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc. Examples of the group substituted by the group include those having the same contents as the group substituted by the alkyl group), an aralkyl group having 7 to 14 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; examples of the group substituted by these groups include those having the same content as the group substituted by the alkyl group, and a plurality of substituted groups. You may)

炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、
又は、窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有する縮環してもよいヘテロ環基(例えば、該ヘテロ環としては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基としては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
C5-C10 alicyclic group which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group, etc.) Examples of the group include those having the same content as the substituent of the alkyl group, and may be substituted in plural, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group). And the substituent may be the same as the group substituted with the alkyl group, or may be substituted in plural)
Or a heterocyclic group which may be condensed, containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring) , Pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring, piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. A group having the same content as a group substituted by an alkyl group may be mentioned, and a plurality of groups may be substituted).

一般式(II)中のYの−OR1 基、−OCOR2基又は−N(R3)(R4)基の置換基としては、例えば、以下の置換基を表す。
−OR1基において、R1 は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル基、1−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メトキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオキサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
Examples of the substituent of the —OR 1 group, —OCOR 2 group, or —N (R 3 ) (R 4 ) group of Y in the general formula (II) represent the following substituents.
In the —OR 1 group, R 1 is an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, Nonyl, decyl, propenyl, butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2-methoxyethyl, 2- (methoxyethyloxo) ethyl Group, 1- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group , Methoxycyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methyl base Benzyl group, bromobenzyl group, etc.).

−OCOR2 基において、R2 は、R1 と同一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。
又、−N(R3)(R4 )基において、R3 、R4 は、互いに同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の−OR1基のR1 と同様の内容のものが挙げられる)を表わす。より好ましくは、R3 とR4 の炭素数の総和が16個以内である。
一般式(II)で示されるシラン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is exemplified by the aryl group in R above). The same as the above).
In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted ( for example, represent the like) the same contents as R 1 -OR 1 group of said. More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is 16 or less.
Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−プロピルシラン、テトラt−ブトキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン
、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、
Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra n-propylsilane, tetra t-butoxysilane, tetra n-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, methyltrichlorosilane, methyltri Bromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltrit-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, Ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, -Propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane , N-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-decyltrit-butoxy Silane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltrit-butyl Xysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldi Ethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane,

トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit- Butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycol Sidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethyl Xysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyl Diethoxysila, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltrit-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane Γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyl Methoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane, β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and the like.

本発明の親水性層の無機親水性マトリックス形成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物とともに、Ti,Zn,Sn,Zr,Al等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用することができる。
用いられる金属化合物として、例えば、Ti(OR54(R5はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiCl4、Ti(CH3COCHCOCH32 (OR52、Zn(OR52 、Zn(CH3 COCHCOCH32、Sn(OR54 、Sn(CH3 COCHCOCH34、Sn(OCOR54、SnCl4 、Zr(OR54、Zr(CH3COCHCOCH34 、Al(OR53、Al(
CH3COCHCOCH33等が挙げられる。
Along with the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, it is bonded to a resin during sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. A metal compound capable of forming a film can be used in combination.
Examples of the metal compound used include Ti (OR 5 ) 4 (R 5 is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.), TiCl 4 , Ti (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 ( OR 5 ) 2 , Zn (OR 5 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , Sn (OR 5 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Sn (OCOR 5 ) 4 , SnCl 4 , Zr (OR 5 ) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (OR 5 ) 3 , Al (
CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like.

更に一般式(II)で示されるシラン化合物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を併用することが好ましい。
触媒は、酸あるいは塩基性化合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度については特に限定しないが、濃度が高い場合は加水分解・重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、塩基性触媒の程度は1N(水溶液での濃度換算)以下が望ましい。
Furthermore, in order to promote hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination.
As the catalyst, an acid or a basic compound is used as it is or in a state in which it is dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst and a basic catalyst, respectively). The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, the hydrolysis / polycondensation rate tends to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, the degree of the basic catalyst is desirably 1 N (concentration in aqueous solution) or less.

酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。   The type of acidic catalyst or basic catalyst is not particularly limited. Specifically, the acidic catalyst includes hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, Basic catalysts such as carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids obtained by substituting R in the structural formula represented by RCOOH with other elements or substituents, and sulfonic acids such as benzenesulfonic acid include ammonia water and the like. Examples thereof include ammoniacal bases and amines such as ethylamine and aniline.

上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992年)等の成書等に詳細に記述されている。   For more details on the above sol-gel method, see Sakuo Sakuo, “Science of Sol-Gel Method”, Agne Jofusha (published) (1988), Satoshi Hirashima “Functional thin film by the latest sol-gel method. It is described in detail in books such as "Creation Technology" General Technology Center (published) (1992).

本発明の上記有機又は無機親水性マトリックスの親水性層中には、上記以外にも、親水性の程度の制御、親水性層の物理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上など種々の目的の化合物を添加することができる。例えば、可塑剤、顔料、色素、界面活性剤、親水性の粒子等が挙げられる。   In addition to the above, in the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention, control of the degree of hydrophilicity, improvement of the physical strength of the hydrophilic layer, and dispersibility between the compositions constituting the layer It is possible to add compounds for various purposes such as improvement of coating properties, improvement of coating properties, and improvement of printability. For example, plasticizers, pigments, dyes, surfactants, hydrophilic particles and the like can be mentioned.

親水性の粒子としては、特に限定されないが、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜の強化などに用いることができる。より好ましくは、シリカ、アルミナ、酸化チタン又はこれらの混合物である。
本発明の上記有機又は無機親水性マトリックスの親水性層においては、特に、シリカ、アルミナ、酸化チタン等の金属酸化物粒子を含有することが好ましい態様である。
The hydrophilic particles are not particularly limited, but preferably include silica, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate and the like. These can be used for promoting hydrophilicity or strengthening the film. More preferably, it is silica, alumina, titanium oxide or a mixture thereof.
In the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention, it is particularly preferable that metal oxide particles such as silica, alumina and titanium oxide are contained.

シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si−)を構成している。
本発明において、好ましく用いることができるシリカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もしくは、極性溶媒中に分散した粒子径1〜100nmのシリカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監修「高純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエムシー(1991年)に記載されている。
Silica has many hydroxyl groups on the surface, and the inside constitutes a siloxane bond (—Si—O—Si—).
In the present invention, silica that can be preferably used is ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm dispersed in water or a polar solvent, also referred to as colloidal silica. Specifically, it is described in Toshiro Kaga and Hayashi Hayashi, “Applied Technology of High-Purity Silica”, Volume 3, CMC Co., Ltd. (1991).

又好ましく用いることができるアルミナとしては、5〜200nmのコロイドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等)を安定剤として分散されたものである。
又好ましく用いることができる酸化チタンとしては、平均一次粒径が50〜500nmのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタンを、必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒中に分散したものである。
Alumina that can be preferably used is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm, an anion in water (for example, a halogen atom ion such as a fluorine ion or a chlorine ion, an acetate ion). Or the like, as a stabilizer.
Titanium oxide that can be preferably used is an anatase type or rutile type titanium oxide having an average primary particle size of 50 to 500 nm dispersed in water or a polar solvent using a dispersant as required. is there.

本発明において、好ましく用いることができる親水性の粒子の平均一次粒径は、1〜5
000nmであり、より好ましくは、10〜1000nmである。本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子は、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、5重量%〜90重量%、好ましくは10重量%〜70重量%、より好ましくは20重量%〜60重量%である。
In the present invention, the average primary particle size of hydrophilic particles that can be preferably used is 1 to 5.
000 nm, and more preferably 10 to 1000 nm. In the hydrophilic layer of the present invention, these hydrophilic particles may be used alone or in combination of two or more. The amount used is 5% to 90% by weight, preferably 10% to 70% by weight, more preferably 20% to 60% by weight, based on the total solid content weight of the hydrophilic layer.

本発明に用いる上記の有機または無機親水性マトリックスの親水性層は、例えば、水や、メタノール、エタノール等の極性溶剤等の適当な溶剤の単独又はこれらの混合溶媒に溶解あるいは分散して、支持体上に塗布、乾燥、硬化される。
その塗布重量は乾燥後の重量で、0.1〜5g/m2が適当であり、好ましくは0.3〜3g/m2 、さらに好ましくは0.5〜2g/m2 である。親水性層の乾燥後の塗布重量は、0.1g/m2より低すぎると、湿し水等の親水性成分の保持性の低下や、膜強度の低下など好ましくない結果を与え、高すぎると、膜が脆くなり、耐刷性の低下などの好ましくない結果を与える。
The hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix used in the present invention is supported by dissolving or dispersing in an appropriate solvent such as water, a polar solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. It is applied, dried and cured on the body.
The coating weight is 0.1-5 g / m 2 , preferably 0.3-3 g / m 2 , more preferably 0.5-2 g / m 2 after drying. If the coating weight after drying of the hydrophilic layer is too lower than 0.1 g / m 2 , it gives an unfavorable result such as a decrease in retention of hydrophilic components such as fountain solution and a decrease in film strength, and is too high. And the film becomes brittle and gives undesirable results such as a decrease in printing durability.

本発明の親水性層に用いる金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜は、薄膜の表面が親水性の金属酸化物により構成されておれば特に限定されず、親水性の金属酸化物を表面に有する金属又は金属化合物の薄膜を含む。
本発明の親水性層に使用できる金属又は金属化合物としては、d−ブロック(遷移)金属、f−ブロック(ランタノイド)金属、アルミニウム、インジウム、鉛、スズ、又は珪素および合金やそれぞれの金属に対応する金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属硫化物、金属ハロゲン化物が挙げられ、これらは、混合(均一な混合膜、不均一な混合膜及び積層膜を含む)して用いることもできる。
なかでも、金属酸化物薄膜そのものが特に好ましく、金属酸化物の薄膜としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の薄膜および混合した薄膜が、本発明の親水性層として好適に用いることができる。
金属及び金属化合物の薄膜表面は、実質上、大気中において、高酸化の状態にあり、表面は、金属酸化物により構成されており、本発明において使用可能であるが、本発明においては、親水性層の親水性を確保するために、親水性層である無機薄膜の表面は、金属酸化物より構成されることが必須である。
このため、薄膜を形成した後、表面の酸化を促進するために、加熱処理や加湿処理、グロー放電処理等の処理を施しても良い。さらには、金属酸化物を薄膜表面上に積層しても良い。
The inorganic thin film having a surface containing a metal oxide used for the hydrophilic layer of the present invention is not particularly limited as long as the surface of the thin film is composed of a hydrophilic metal oxide. A thin film of a metal or a metal compound.
The metal or metal compound that can be used in the hydrophilic layer of the present invention corresponds to d-block (transition) metal, f-block (lanthanoid) metal, aluminum, indium, lead, tin, silicon and alloys, and respective metals. Metal oxides, metal carbides, metal nitrides, metal borides, metal sulfides, metal halides, which are mixed (including uniform mixed films, non-uniform mixed films and laminated films) It can also be used.
In particular, the metal oxide thin film itself is particularly preferable. As the metal oxide thin film, indium oxide, tin oxide, tungsten oxide, manganese oxide, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like and mixed thin films However, it can be suitably used as the hydrophilic layer of the present invention.
The thin film surface of the metal and the metal compound is substantially in a highly oxidized state in the atmosphere, and the surface is composed of a metal oxide and can be used in the present invention. In order to ensure the hydrophilicity of the hydrophilic layer, it is essential that the surface of the inorganic thin film that is the hydrophilic layer is composed of a metal oxide.
For this reason, after forming a thin film, in order to promote the oxidation of the surface, heat treatment, humidification treatment, glow discharge treatment or the like may be performed. Furthermore, a metal oxide may be laminated on the thin film surface.

本発明の親水性層に用いる金属又は金属化合物の薄膜形成には、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などのPVD法(物理蒸着法)あるいはCVD法(化学蒸着法)などが適宜用いられる。
例えば真空蒸着法においては、加熱方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等を用いることができる。
また、反応性ガスとして、酸素や窒素等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いても良い。
For the thin film formation of the metal or metal compound used for the hydrophilic layer of the present invention, a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method or a CVD method (chemical vapor deposition method) is appropriately used. It is done.
For example, in the vacuum evaporation method, resistance heating, high frequency induction heating, electron beam heating, or the like can be used as the heating method.
Further, as the reactive gas, oxygen or nitrogen may be introduced, or reactive vapor deposition using means such as ozone addition or ion assist may be used.

スパッタ法を用いる場合は、ターゲット材料として純金属または目的とする金属化合物を用いることができ、純金属を用いる時は反応性ガスとして酸素や窒素等を導入する。スパッタ電源としては、直流電源、パルス型直流電源、高周波電源を用いることができる。   In the case of using a sputtering method, a pure metal or a target metal compound can be used as a target material. When pure metal is used, oxygen, nitrogen, or the like is introduced as a reactive gas. As the sputtering power source, a DC power source, a pulse DC power source, or a high frequency power source can be used.

上記の方法による薄膜形成に先だって、下層との密着性を向上させるため、基体加熱等による基体脱ガスや下層表面への真空グロー処理を施してもよい。
例えば、真空グロー処理においては、1〜10mtorr程度の圧力下で基体に高周波を印加しグロー放電を形成させ、発生したプラズマによる基板処理を行うことができる。
また、印加電圧を上げたり、酸素や窒素などの反応性ガスを導入することにより効果を向上させることも可能である。
Prior to the formation of the thin film by the above method, in order to improve the adhesion to the lower layer, the substrate may be degassed by heating the substrate or the surface of the lower layer may be subjected to a vacuum glow process.
For example, in the vacuum glow process, a substrate can be processed with the generated plasma by applying a high frequency to the substrate under a pressure of about 1 to 10 mtorr to form a glow discharge.
Further, the effect can be improved by increasing the applied voltage or introducing a reactive gas such as oxygen or nitrogen.

本発明の親水性層に用いる親水性表面を有する金属又は金属化合物の薄膜の厚みは、10nm〜3000nmが好ましい。さらに好ましくは20〜1500nmである。薄すぎると、湿し水の保持性の低下や、膜強度の低下など好ましくない結果を与え、厚すぎると、薄膜形成に時間を要するため製造適性上好ましくない。   As for the thickness of the thin film of the metal or metal compound which has a hydrophilic surface used for the hydrophilic layer of this invention, 10 nm-3000 nm are preferable. More preferably, it is 20-1500 nm. If it is too thin, unfavorable results such as a decrease in dampening water retention and a decrease in film strength are given.

本発明の支持体上に上記の親水性層を設ける場合には、支持体の親水性層側の表面は、親水性層の表面積の向上や上層との密着向上の観点から、サンドブラスト処理等による粗面化処理やコロナ処理等による表面改質処理が施されても良い。   When the hydrophilic layer is provided on the support of the present invention, the surface on the hydrophilic layer side of the support is subjected to sandblasting or the like from the viewpoint of improving the surface area of the hydrophilic layer or improving adhesion with the upper layer. Surface modification treatment such as roughening treatment or corona treatment may be performed.

本発明の平版印刷版用原板は、支持体の親水性表面上に本発明の感熱層を設けたものであるが、必要に応じてその間に、例えばホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩のような無機下塗層、又は有機下塗層を設けることができる。
有機下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
The original plate for a lithographic printing plate of the present invention is provided with the heat-sensitive layer of the present invention on the hydrophilic surface of a support. If necessary, a water-soluble metal salt such as zinc borate is provided between them. An inorganic undercoat layer or an organic undercoat layer can be provided.
Various organic compounds are used as the organic subbing layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and optionally substituted phenylphosphones. Organic phosphonic acids such as acids, naphthylphosphonic acids, alkylphosphonic acids, glycerophosphonic acids, methylenediphosphonic acids and ethylenediphosphonic acids, optionally substituted phenylphosphoric acids, naphthylphosphonic acids, alkylphosphoric acids and glycerophosphoric acids Of organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine Hides such as hydrochloride -Alanine, and hydrochlorides of amines having a carboxy group, may be used by mixing two or more.

この下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体の親水性表面上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。
前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
本発明で使用する支持体は、ブロッキングを防止する観点から、支持体の裏面の最大粗さ深度(Rt)が少なくとも、1.2μm以上であることが好ましく、さらに、支持体の裏面(即ち、本発明の平版印刷版用原板の裏面)が本発明の平版印刷版用原板の表面上を滑る時の動摩擦係数(μk)が2.6以下であることが好ましい。
This undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is applied to the hydrophilic surface of the support and dried, and water or methanol, The substrate is adsorbed by immersing the support in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent such as ethanol or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof, and then the organic undercoat layer is formed by washing and drying with water or the like. It is a method of providing.
In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by weight of the organic compound can be applied by various methods.
In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. The coating amount of the undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 .
From the viewpoint of preventing blocking, the support used in the present invention preferably has a maximum roughness depth (Rt) of at least 1.2 μm on the back surface of the support, and further, the back surface of the support (that is, The dynamic friction coefficient (μk) when the back surface of the lithographic printing plate precursor) of the present invention slides on the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention is preferably 2.6 or less.

本発明で用いられる上記の支持体の厚みはおよそ0.05mm〜0.6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。   The thickness of the support used in the present invention is about 0.05 mm to 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm.

(感熱層)
本発明の感熱層は、親油性化合物、好ましくは熱反応性官能基を有する化合物を内包す
るマイクロカプセルを含有する。
(Thermosensitive layer)
The heat-sensitive layer of the present invention contains microcapsules encapsulating a lipophilic compound, preferably a compound having a heat-reactive functional group.

上記の熱反応性官能基としては、重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、その反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基など)、同じく付加反応を行うエポキシ基、その反応相手であるアミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基もしくはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基もしくはヒドロキシル基などを挙げることができる。しかし、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でも良い。   Examples of the thermally reactive functional group include an ethylenically unsaturated group that undergoes a polymerization reaction (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, vinyloxy group, and allyl group), an isocyanate group that undergoes an addition reaction, or a block thereof. , A functional group having an active hydrogen atom that is the reaction partner (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), an epoxy group that also performs an addition reaction, an amino group that is the reaction partner, a carboxyl group or a hydroxyl group, condensation Examples thereof include a carboxyl group and a hydroxyl group or amino group for performing the reaction, and an acid anhydride and amino group or hydroxyl group for performing the ring-opening addition reaction. However, any functional group capable of performing any reaction may be used as long as a chemical bond is formed.

本発明に用いられるマイクロカプセルは、好ましくは、熱反応性官能基を有する化合物を内包している。この親油性化合物としては、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基、イソシアナート基、及びブロック化したイソシアナート基を分子内に有する化合物を挙げることができる。   The microcapsule used in the present invention preferably contains a compound having a thermoreactive functional group. This lipophilic compound has a polymerizable unsaturated group, hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, acid anhydride group, amino group, epoxy group, isocyanate group, and blocked isocyanate group in the molecule. A compound can be mentioned.

重合性不飽和基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基などを少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物が好ましく、この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物、及びそれらの共重合体である。   The compound having a polymerizable unsaturated group is preferably a compound having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, vinyloxy group, and allyl group. Such compounds are widely known in the industrial field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These are, as chemical forms, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof.

例として、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)、そのエステル、不飽和カルボン酸アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カルボン酸アミドと単官能もしくは多官能のイソシアネートまたはエポキシドとの付加反応物、および単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアナート基やエポキシ基などの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、アミンまたはチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能アルコール、アミンまたはチオールとの置換反応物も好適である。
また、別の好適な例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸又はクロロメチルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。
Examples include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, unsaturated carboxylic acid amides, preferably unsaturated carboxylic acids and Examples include esters with aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyvalent amines.
Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group and the like with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxide, and a monofunctional or A dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further a halogen group or a tosyloxy group A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
Another preferred example is a compound obtained by replacing the unsaturated carboxylic acid with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.

不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルである重合性化合物の具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等を挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable compound that is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetra Methylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate , Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyl) Oxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることができる。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloyloxy- 2-hydroxy Propoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (can be given methacryloyloxy ethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙げることができる。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることができる。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等を挙げることができる。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等を挙げることができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240. Examples thereof include those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149, and those containing an amino group described in JP-A-1-165613.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等を挙げることができる。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(A)で示される水酸基を有する不飽和モノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性不飽和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A urethane compound containing two or more polymerizable unsaturated groups in one molecule obtained by adding an unsaturated monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

一般式(A)
CH2=C(Rm)COOCH2CH(Rn)OH(ただし、RmおよびRnは、HまたはCH3を示す。)
Formula (A)
CH 2 ═C (R m ) COOCH 2 CH (R n ) OH (where R m and R n represent H or CH 3 )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレートや、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なものとして挙げることができる。   Also, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A No. 62-39417 and JP-B 62-39418 can also be mentioned as preferable examples.

さらに、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げることができる。   Further suitable are radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can be mentioned.

その他の好適なものの例としては、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報、同52−30490号公報の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号公報、特公平1−40337号公報、同1−40336号公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なものとして挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接着協会誌、20巻7号、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも好適に使用することができる。   Examples of other suitable ones include polyester acrylates and epoxy resins as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates reacted with (meth) acrylic acid. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-A-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. It can be mentioned as a suitable thing. In some cases, compounds containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 are also preferably used. Further, those introduced as photocurable monomers and oligomers in Journal of Japan Adhesion Association, Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be suitably used.

エチレン性不飽和化合物の共重合体の好適なものとしては、アリルメタクリレートの共重合体を挙げることができる。例えば、アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、アリルメタクリレート/エチルメタクリレート共重合体、アリルメタクリレート/ブチルメタクリレート共重合体などを挙げることができる。
好適なビニルオキシ基を有する化合物としては、分子内に、ビニルオキシ基を2つ以上含有する化合物が好ましく、多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、又は多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができる。
Preferable examples of the copolymer of the ethylenically unsaturated compound include an allyl methacrylate copolymer. For example, allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, allyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer, allyl methacrylate / butyl methacrylate copolymer and the like can be mentioned.
As a suitable compound having a vinyloxy group, a compound containing two or more vinyloxy groups in the molecule is preferable, a reaction between a polyhydric alcohol or polyhydric phenol and acetylene, or a polyhydric alcohol or polyhydric phenol and a halogenated compound. It can be synthesized by reaction with an alkyl vinyl ether.

具体例としてエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、1,2−ジ(ビニルエーテルメトキシ)ベンゼン、1,2−ジ(ビニルエーテルエトキシ)ベンゼンなどが挙げられる。   Specific examples include ethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,3-butanediol divinyl ether, tetramethylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, trimethylolethane trivinyl ether, hexanediol di Vinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, sorbitol pentavinyl ether, ethylene glycol diethylene vinyl ether, triethyleneglycol Rudiethylene vinyl ether, ethylene glycol dipropylene vinyl ether, triethylene glycol diethylene vinyl ether, trimethylolpropane triethylene vinyl ether, trimethylolpropane diethylene vinyl ether, pentaerythritol diethylene vinyl ether, pentaerythritol triethylene vinyl ether, pentaerythritol tetraethylene vinyl ether, 1,2- Examples thereof include di (vinyl ether methoxy) benzene and 1,2-di (vinyl ether ethoxy) benzene.

好適なエポキシ化合物としては、グリセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール類もしくはポリフェノール類又はそれらの水素添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。   Suitable epoxy compounds include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols or polyphenols or hydrogenated polyglycidyl ethers. Etc.

好適なイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、又は、それらをアルコールもしくはアミンでブロックした化合物を挙げることができる。   Suitable isocyanate compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexanephenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, or alcohols or amines thereof. Mention may be made of blocked compounds.

好適なアミン化合物としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミンなどが挙げられる。   Suitable amine compounds include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

好適なヒドロキシル基を有する化合物としては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリスリトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリフェノール類などを挙げることができる。
好適なカルボキシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられる。
好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられる。
Suitable compounds having a hydroxyl group include compounds having a terminal methylol group, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, bisphenols and polyphenols, and the like.
Suitable compounds having a carboxyl group include aromatic polyvalent carboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and phthalic acid, and aliphatic polyvalent carboxylic acids such as adipic acid.
Suitable acid anhydrides include pyromellitic acid anhydride and benzophenone tetracarboxylic acid anhydride.

マイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許2800457号、同2800458号にみられるコアセルベーションを利用した方法、英国特許990443号、米国特許3287154号、特公昭38−19574号公報、同42−446号公報、同42−711号公報にみられる界面重合法による方法、米国特許3418250号、同3660304号にみられるポリマーの析出による方法、米国特許3796669号に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許3914511号に見られるイソシアネート壁材料を用いる方法、米国特許4001140号、同4087376号、同4089802号にみられる尿素―ホルムアルデヒド系もしくは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許4025445号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許930422号、米国特許3111407号にみられるスプレードライング法、英国特許952807号、同967074号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method for microencapsulation, a known method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, British Patent 990443, U.S. Pat. No. 4, method of interfacial polymerization found in US Pat. No. 42-711, US Pat. No. 3,418,250, method of polymer precipitation shown in US Pat. No. 3,660,304, method of using isocyanate polyol wall material found in US Pat. No. 3,796,669, US Pat. No. 3,914,511 shows a method using an isocyanate wall material, and a urea-formaldehyde-based or urea-formaldehyde-resorcinol-based wall forming material found in US Pat. Nos. 4001140, 4087376, and 4089802. A method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose as shown in U.S. Pat. No. 4,025,445, an in situ method by monomer polymerization as shown in JP-B-36-9163 and 51-9079, and British Patent 930422. No. 3, U.S. Pat. No. 3,111,407, spray drying methods, British Patent Nos. 952807, and No. 967074, but are not limited thereto.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。マイクロカプセル壁に親油性化合物を導入しても良い。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. A lipophilic compound may be introduced into the microcapsule wall.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜20μmが好ましいが、中でも0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で、良好な解像度と経時安定性が得られる。
このようなマイクロカプセルは、カプセル同志が熱により溶融し、合体してもよいし、合体しなくとも良い。要は、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面もしくはマイクロカプセル外に滲み出したもの、又は、マイクロカプセル壁に浸入したものが、熱により化学反応を起こせば良い。添加された親水性樹脂、又は、添加された低分子化合物と反応してもよい。また2種類以上のマイクロカプセルに、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせることによって、マイクロカプセル同士を反応させてもよい。
従って、熱によってマイクロカプセル同志が、熱で溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。
The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
In such a microcapsule, the capsules may be melted by heat and united, or may not be united. In short, among the microcapsule inclusions, the one that oozes out of the capsule surface or outside the microcapsule at the time of application, or the one that enters the microcapsule wall may cause a chemical reaction by heat. You may react with the added hydrophilic resin or the added low molecular weight compound. Alternatively, two or more types of microcapsules may be reacted with each other by providing functional groups that can thermally react with different functional groups.
Therefore, it is preferable for image formation that the microcapsules are fused and merged by heat, but it is not essential.

マイクロカプセルの感熱層への添加量は、固形分換算で、好ましくは50重量%以上、さらに好ましくは60〜95重量%である。この範囲内で、良好な現像性と同時に、良好な感度および耐刷性が得られる。   The addition amount of the microcapsules to the heat-sensitive layer is preferably 50% by weight or more, more preferably 60 to 95% by weight in terms of solid content. Within this range, good sensitivity and printing durability can be obtained simultaneously with good developability.

マイクロカプセルを感熱層に添加する場合、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマイクロカプセル分散媒中に添加することができる。このような溶剤によって、内包された親油性化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。
このような溶剤としては、マイクロカプセル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存するが、多くの市販されている溶剤から容易に選択することができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウレタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類等が好ましい。
When microcapsules are added to the heat-sensitive layer, a solvent that dissolves the inclusions and swells the wall material can be added to the microcapsule dispersion medium. Such a solvent promotes the diffusion of the encapsulated lipophilic compound out of the microcapsule.
Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material of the microcapsule wall, the wall thickness, and the inclusion, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of water-dispersible microcapsules composed of crosslinked polyurea and polyurethane walls, alcohols, ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like are preferable.

具体的化合物としては、メタノール、エタノール、第3ブタノール、n−プロパノール、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を2種以上用いても良い。   Specific compounds include methanol, ethanol, tertiary butanol, n-propanol, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, γ-butyl lactone, N, There are N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like, but not limited thereto. Two or more of these solvents may be used.

マイクロカプセル分散液には溶解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることができる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるものであるが、通常、塗布液の5〜95重量%が好ましく、より好ましい範囲は、10〜90重量%、特に好ましい範囲は15〜85重量%である。   A solvent that does not dissolve in the microcapsule dispersion but dissolves when the solvent is mixed can also be used. The amount to be added is determined by the combination of materials, but is usually preferably 5 to 95% by weight of the coating solution, more preferably 10 to 90% by weight, and particularly preferably 15 to 85% by weight.

本発明の感熱層には、このように親油性化合物を内包するマイクロカプセルを用いるので、必要に応じてこれらの反応を開始又は促進する化合物を添加してもよい。反応を開始又は促進する化合物としては、熱によりラジカル又はカチオンを発生するような化合物を挙げることができ、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩又はジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。
これらの化合物は、感熱層固形分の1〜20重量%の範囲で添加することができる。好ましくは3〜10重量%の範囲である。この範囲内で、現像性を損なわず、良好な反応開始又は促進効果が得られる。
Since the microcapsules encapsulating the lipophilic compound are used in the heat-sensitive layer of the present invention, a compound that initiates or accelerates these reactions may be added as necessary. Examples of the compound that initiates or accelerates the reaction include compounds that generate radicals or cations by heat, such as lophine dimer, trihalomethyl compound, peroxide, azo compound, diazonium salt, or diphenyliodonium salt. And onium salts, acylphosphine, imide sulfonate and the like.
These compounds can be added in the range of 1 to 20% by weight of the heat-sensitive layer solid content. Preferably it is the range of 3 to 10 weight%. Within this range, good reaction initiation or acceleration effect can be obtained without impairing developability.

本発明の感熱層には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂を添加することにより現像性が良好となるばかりか、感熱層自体の皮膜強度も向上する。
親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基
を有するものが好ましい。
A hydrophilic resin may be added to the heat-sensitive layer of the present invention. By adding a hydrophilic resin, not only the developability is improved, but also the film strength of the thermosensitive layer itself is improved.
As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。   Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Homopolymers and copolymers of methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Homopolymers of limers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight And copolymers, methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

親水性樹脂の感熱層への添加量は、感熱層固形分の5〜40重量%が好ましく、10〜30重量%がさらに好ましい。この範囲内で、良好な現像性と皮膜強度が得られる。   The amount of the hydrophilic resin added to the heat-sensitive layer is preferably 5 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight of the heat-sensitive layer solids. Within this range, good developability and film strength can be obtained.

本発明の平版印刷版用原板は、感熱層あるいは、それに隣接する層(親水性層、下塗層または後述のオーバーコート層)内に、光熱変換剤を含有させることにより、レーザー光照射等による画像記録が可能となる。また、感熱層に含有される場合、光熱変換剤は、マイクロカプセルに内包されていても良いし、マイクロカプセルの外に含有されても良い。かかる光熱変換剤としては、レーザー光源の波長を吸収する物質であればよく、種々の顔料、染料および金属微粒子を用いることができる。特に、700〜1200nmの少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であることが好ましい。   The lithographic printing plate precursor of the present invention comprises a heat-sensitive layer or a layer adjacent thereto (hydrophilic layer, undercoat layer or overcoat layer described later) containing a photothermal conversion agent, thereby irradiating with a laser beam or the like. Image recording is possible. Moreover, when it contains in a heat sensitive layer, the photothermal conversion agent may be included in the microcapsule, and may be contained outside the microcapsule. As such a photothermal conversion agent, any substance that absorbs the wavelength of the laser light source may be used, and various pigments, dyes, and metal fine particles can be used. In particular, a light absorbing material having an absorption band in at least a part of 700 to 1200 nm is preferable.

顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線を発光するレーザでの利用に適する点で好ましい。かかる赤外線を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好ましい。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲にあることが更に好ましい。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Surface treatment methods include surface coating with a hydrophilic resin or lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, silane coupling agent, epoxy compound, isocyanate compound, etc.) A method of bonding to the pigment surface is conceivable. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes. Among these pigments, those that absorb infrared rays are preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared rays. Carbon black is preferable as the pigment that absorbs infrared rays. The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm.

染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)又は特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
Examples of the dye include commercially available dyes and literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970, “Chemical Industry”, May 1986, P. 45-51, “Near Infrared Absorbing Dye”, “90 Development and market trends of age functional pigments "Chapter 2. 2.3 (1990) CMC) or known dyes described in patents can be used.
Specifically, infrared absorbing dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, polymethine dyes, and cyanine dyes are preferable.

さらに、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料、 特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染料や米国特許第4,756,993号記載の染料、米国特許第4,973,572号記載のシアニン染料、特開平10−268512号公報記載の染料、特開平11−235883号公報記載のフタロシアニン化合物を挙げることができる。   Further, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, JP Methine dyes described in JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187 Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., and JP-A-58-112792 Squarylium dye, cyanine dye described in British Patent 434,875, dye described in US Pat. No. 4,756,993, US Pat. No. 4,973,572 And the phthalocyanine compounds described in JP-A-11-235883.

また、染料として米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン染料、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン社製エポライトIII−178、エポライトIII−130、エポライトIII−125等も好ましく用いられる。
これらの色素のなかで、好適に使用可能な水溶性のシアニン色素のいくつかの具体例を以下に示す。
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A No. 57-142645, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59 -84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in Japanese Patent Publication No. 5-13514 and No. 5-19702 , Eporin Co. Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like is also preferably used.
Among these dyes, some specific examples of water-soluble cyanine dyes that can be suitably used are shown below.

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上記の有機系の光熱変換剤は、感熱層中に30重量%まで添加することができる。好ましくは5〜25重量%であり、特に好ましくは7〜20重量%である。この範囲内で、良好な感度が得られる。   The organic photothermal conversion agent can be added up to 30% by weight in the heat sensitive layer. Preferably it is 5-25 weight%, Most preferably, it is 7-20 weight%. Within this range, good sensitivity can be obtained.

本発明の感熱層には、光熱変換剤として金属微粒子も用いることができる。金属微粒子の多くは光熱変換性であって、かつ自己発熱性であるが、好ましい金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体もしくは合金、又は、それらの酸化物または硫化物の微粒子が挙げられる。
これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好ましい金属は、光照射時に熱による合体をし易い、融点がおよそ1000℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸収をもつ金属、例えば、Re、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、PbおよびSnである。
また、特に好ましいのは、融点も比較的低く、赤外線に対する吸光度も比較的高い金属の微粒子、例えば、Ag、Au、Cu、Sb、GeおよびPbで、最も好ましい元素としては、Ag、AuおよびCuが挙げられる。
In the heat-sensitive layer of the present invention, metal fine particles can also be used as a photothermal conversion agent. Most of the metal fine particles are photothermal convertible and self-heating, but preferable metal fine particles include Si, Al, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr. , Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn, W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, or oxide or sulfide fine particles thereof.
Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals are those that are likely to coalesce by heat when irradiated with light, have a melting point of about 1000 ° C. or less, and have absorption in the infrared, visible, or ultraviolet region, such as Re, Sb, Te, Au, Ag, Cu, Ge, Pb and Sn.
Particularly preferred are metal fine particles such as Ag, Au, Cu, Sb, Ge and Pb, which have a relatively low melting point and a relatively high absorbance to infrared rays, and the most preferred elements are Ag, Au and Cu. Is mentioned.

また、例えばRe、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子と、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自己発熱性金属の微粒子とを混合使用するなど、2種以上の光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、
Pt、Pdなど微小片としたときに光吸収が特に大きい金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いることも好ましい。
Also, for example, fine particles of low melting point metal such as Re, Sb, Te, Au, Ag, Cu, Ge, Pb, Sn, and fine particles of self-heating metal such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W, Ge Or a mixture of two or more photothermal conversion substances. Ag,
It is also preferable to use a combination of a small metal piece having a particularly large light absorption when combined with another fine metal piece such as Pt and Pd.

これらの粒子の粒径は、好ましくは10μm以下、より好ましくは0.003〜5μm、特に好ましくは0.01〜3μmである。この範囲内で、良好な感度と解像力が得られる。   The particle diameter of these particles is preferably 10 μm or less, more preferably 0.003 to 5 μm, and particularly preferably 0.01 to 3 μm. Within this range, good sensitivity and resolution can be obtained.

本発明において、これらの金属微粒子を光熱変換剤として用いる場合、その添加量は、好ましくは感熱層固形分の10重量%以上であり、より好ましくは20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上で用いられる。この範囲内で高い感度が得られる。   In the present invention, when these metal fine particles are used as a photothermal conversion agent, the amount added is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more, based on the solid content of the heat sensitive layer. Used in High sensitivity is obtained within this range.

本発明の平版印刷版用原板の感熱層には、さらに、上記マイクロカプセルに含有される親油性化合物と反応することができる官能基およびその保護基を有する低分子化合物を含有することができる。これらの化合物の添加量は、感熱層中5重量%〜40重量%が好ましく、特に5重量%〜20重量%が好ましい。これより少ないと架橋効果が少なく耐刷性が低くなり、これより多いと経時後の現像性が悪くなってしまう。このような化合物の具体例としては、前記マイクロカプセルに内包される親油性化合物の具体例と同様のものを挙げることができる。   The thermosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention may further contain a low molecular compound having a functional group capable of reacting with the lipophilic compound contained in the microcapsule and a protective group thereof. The amount of these compounds added is preferably 5% by weight to 40% by weight in the heat sensitive layer, and particularly preferably 5% by weight to 20% by weight. If the amount is less than this, the crosslinking effect is small and the printing durability is lowered. Specific examples of such compounds include the same examples as the specific examples of lipophilic compounds encapsulated in the microcapsules.

本発明の感熱層には、さらに必要に応じて上記以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、画像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするため、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。添加量は、感熱層塗布液全固形分に対し0.01〜10重量%が好ましい。
更に、本発明の感熱層中には、露光したとき画像部と非画像部を鮮明にするため発色系または消色系の化合物が添加されることが好ましい。例えば、ジアゾ化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤と共にロイコ染料(ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクトン体等)やpH変色染料(例えば、エチルバイオレット、ビクトリアプア−ブルーBOH等の染料)が用いられる。これらの染料は、マイクロカプセルに内包されても良いし、マイクロカプセルの外に含有されても良い。
In addition to the above, various compounds may be added to the heat-sensitive layer of the present invention as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant in order to make it easy to distinguish between an image area and a non-image area after image formation. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Further, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can also be suitably used. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.
Furthermore, it is preferable to add a coloring or decoloring compound in the heat-sensitive layer of the present invention in order to sharpen the image area and the non-image area when exposed. For example, a leuco dye (leucomalachite green, leuco crystal violet, crystal violet lactone, etc.) and a pH-changing dye (eg ethyl violet, Victoria Poor Blue BOH, etc.) together with a thermal acid generator such as a diazo compound or diphenyliodonium salt Dyes). These dyes may be included in the microcapsule or may be contained outside the microcapsule.

また、本発明においては、感熱層塗布液の調製中又は保存中においてエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01〜5重量%が好ましい。   In the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the ethylenically unsaturated compound during preparation or storage of the heat sensitive layer coating solution. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to 5% by weight based on the weight of the total composition.

また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸やその誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感熱層の表面に偏在
させてもよい。高級脂肪酸やその誘導体の添加量は、感熱層固形分の約0.1〜約10重量%が好ましい。
If necessary, higher fatty acids such as behenic acid and behenic acid amide or derivatives thereof are added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and are unevenly distributed on the surface of the heat-sensitive layer in the drying process after coating. Also good. The amount of the higher fatty acid or derivative thereof added is preferably about 0.1 to about 10% by weight based on the solid content of the heat sensitive layer.

さらに、本発明の感熱層には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えることができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer can be added to the heat-sensitive layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

本発明の感熱層は、必要な上記各成分を溶剤に分散あるいは溶解して塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50重量%である。   The heat-sensitive layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by weight.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.4〜5.0g/m2が好ましい。この範囲より塗布量が少なくなると、見かけの感度は大きくなるが、画像記録の機能を果たす感熱層の皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。 Moreover, although the heat sensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after application | coating and drying changes with uses, generally 0.4-5.0 g / m < 2 > is preferable. When the coating amount is less than this range, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the heat-sensitive layer that performs the function of image recording deteriorate. Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

感熱層塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、感熱層全固形分の0.01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。   A surfactant for improving the coating property, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added to the heat-sensitive layer coating solution. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer.

(オーバーコート層)
本発明の平版印刷版用原板は、感熱層表面の親油性物質による汚染防止や傷防止のため、感熱層上に、オーバーコート層を設けることができる。本発明に使用されるオーバーコート層は印刷時、湿し水等の親水性印刷液体により容易に除去できるものであり、親水性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用いる親水性の有機高分子化合物としては、乾燥によってできた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但し加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリアミン塩、ポリアクリル酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルアミド、その共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン、その共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ等)、その変性体 、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることができる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもできる。
(Overcoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, an overcoat layer can be provided on the heat-sensitive layer in order to prevent contamination and scratches by the lipophilic substance on the surface of the heat-sensitive layer. The overcoat layer used in the present invention can be easily removed with a hydrophilic printing liquid such as dampening water during printing, and contains a resin selected from hydrophilic organic polymer compounds. As the hydrophilic organic polymer compound used here, a film formed by drying has a film-forming ability. Specifically, polyvinyl acetate (however, a hydrolysis rate of 65% or more), polyacrylamine salt , Polyacrylic acid copolymer, alkali metal salt or amine salt thereof, polymethacrylic acid, alkali metal salt or amine salt thereof, polymethacrylic acid copolymer, alkali metal salt or amine salt thereof, polyacrylamide, copolymer thereof , Polyhydroxyethyl acrylate, polyvinyl pyrrolidone, copolymer thereof, polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid, alkali metal salt thereof, or Amine salt, poly-2-acrylamide-2-methyl -1-Propanesulfonic acid copolymer, alkali metal salt or amine salt thereof, gum arabic, fiber derivative (for example, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.), modified product thereof, white dextrin, pullulan, enzyme Decomposed etherified dextrin and the like can be mentioned. Further, two or more kinds of these resins can be mixed and used depending on the purpose.

また、オーバーコート層には、前記の親水性光熱変換剤を添加しても良い。さらに、オーバーコート層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオン系界面活性剤を添加することができる。オーバーコート層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2が好ましい。この範囲内で、現像性を損なわず、指紋付着汚れなどの親油性物質による感熱層表面の良好な汚染防止や傷の防止ができる。 In addition, the hydrophilic photothermal conversion agent may be added to the overcoat layer. Furthermore, in order to ensure the uniformity of coating, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether or polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in the case of aqueous solution coating. . The dry coating amount of the overcoat layer is preferably 0.1 to 2.0 g / m 2 . Within this range, developability is not impaired, and the surface of the heat-sensitive layer can be satisfactorily prevented from being contaminated or scratched by an oleophilic substance such as a fingerprint adhering stain.

(画像形成及び製版)
本発明の平版印刷版用原板は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザーによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー、YAGレーザー等の固体高出力赤外線レーザーによる露光が好適である。
(Image formation and plate making)
The lithographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording by a thermal recording head or the like, scanning exposure by an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, or the like is used, but a semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm. Exposure with a solid high-power infrared laser such as a laser or YAG laser is preferred.

画像記録された本発明の平版印刷版用原板は、次いで、処理液の存在下、擦り部材により版面を擦ることにより、非画像部の感熱層を除去し(オーバーコート層がある場合には、オーバーコート層も、同時に除去される。)、非画像部において、親水性の支持体表面を露出させ、平版印刷版が作製される。
本発明において使用可能な擦り部材としては、例えば、不織布、綿布、綿パッド、モルトン、ゴムブレードやブラシ等が挙げられる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention on which the image has been recorded is then removed in the presence of the treatment liquid by rubbing the plate surface with a rubbing member to remove the heat-sensitive layer in the non-image area (if there is an overcoat layer, The overcoat layer is also removed at the same time.) In the non-image area, the surface of the hydrophilic support is exposed to produce a lithographic printing plate.
Examples of the rubbing member usable in the present invention include non-woven fabric, cotton cloth, cotton pad, molton, rubber blade, brush and the like.

本発明において使用される処理液としては、親水性の処理液が適しており、例えば、水単独または水を主成分とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液や界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液が好ましい。
また、本発明の処理液には、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリクレン等)や、下記の極性溶剤が挙げられる。
As the treatment liquid used in the present invention, a hydrophilic treatment liquid is suitable. For example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component is preferable, and in particular, the composition is the same as that of generally known dampening water. An aqueous solution containing an aqueous solution or a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.) is preferred.
Further, the treatment liquid of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, Xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (trichlene, etc.), and the following polar solvents.

極性溶剤としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート等)が挙げられる。   Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), esters (ethyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Diethylene glycol acetate, diethyl alcohol Rate, etc.), others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate and the like).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、処理液に、溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40重量%未満が望ましい。
本発明の処理液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が好適に使用できる。
本発明の処理液に使用できるノニオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキ
サイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。これらノニオン性界面活性剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトール及び/又はソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
If the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. If the treatment liquid contains a solvent, it is safe and flammable. In view of the above, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by weight.
As the surfactant used in the treatment liquid of the present invention, a nonionic surfactant can be suitably used from the viewpoint of foam suppression.
Nonionic surfactants that can be used in the treatment liquid of the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adducts, higher Alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, oil and fat ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, etc. , Fatty acid ester of glycerol of polyhydric alcohol type, fatty acid ester of pentaerythritol, sorbitol and Fatty acid esters of Rubitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines. These nonionic surfactants may be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の処理液に使用するノニオン性界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。
さらに、処理液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10重量%が好ましく、0.01〜5重量%がより好ましい。また、処理液に、アルカリ性剤(例えば、炭酸ナトリウム、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、ケイ酸塩類等)又は酸性剤(例えば、リン酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロリン酸、シュウ酸、リンゴ酸、酒石酸、ホウ酸、アミノ酸類等)、防腐剤(例えば、安息香酸及びその誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、3−イソチアゾロン化合物、2−ブロモ−2−ニトロ−1、3−プロパンジオール、2−ピリジンチオール−1−オキサイドナトリウム塩等)を添加したものも使用可能である。
処理液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
In addition, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the treatment liquid of the present invention is HLB (Hydrophile-Lipophile).
The (Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the treatment liquid is preferably 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.01 to 5% by weight. In addition, an alkaline agent (for example, sodium carbonate, triethanolamine, diethanolamine, sodium hydroxide, silicates, etc.) or an acidic agent (for example, phosphoric acid, phosphorous acid, metaphosphoric acid, pyrophosphoric acid, oxalic acid) , Malic acid, tartaric acid, boric acid, amino acids, etc.), preservatives (for example, benzoic acid and its derivatives, sodium dehydroacetate, 3-isothiazolone compounds, 2-bromo-2-nitro-1, 3-propanediol, 2 -Pyridinethiol-1-oxide sodium salt and the like) can also be used.
Although the temperature of a process liquid can be used at arbitrary temperature, Preferably it is 10 to 50 degreeC.

本発明における非画像部の感熱層の除去は、処理液の供給手段及び擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版用原板を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号公報、特開昭60−59351号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版用原板をシリンダーを回転させながら擦り処理を行う、US5148746号、US5568768号、GB2297719号に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。図1に本発明の現像処理に適した自動処理機の1例として、処理液10を循環ポンプ11によりスプレーパイプ5に送り、シャワーリングして、回転ブラシロール1及び版面12(平版印刷版用原版)に供給し、回転ブラシロール1で版面12を擦る自動現像処理機を例示した。なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理することも任意に可能である。   The removal of the heat-sensitive layer in the non-image area in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a processing liquid supply means and a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061, JP-A-60-59351, which performs rubbing while conveying an original plate for lithographic printing plate after image recording, Examples thereof include an automatic processor described in US Pat. No. 5,148,746, US Pat. No. 5,568,768 and GB 2277719, which rubs the lithographic printing plate precursor after image recording set on the cylinder while rotating the cylinder. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. As an example of an automatic processor suitable for the development processing of the present invention shown in FIG. 1, a processing liquid 10 is sent to a spray pipe 5 by a circulation pump 11 and showered, and a rotating brush roll 1 and a plate surface 12 (for lithographic printing plates) are used. An example of an automatic developing processing machine that is supplied to the original plate and rubs the plate surface 12 with the rotating brush roll 1 is illustrated. In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water and dried.

使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷付き難さ、さらには、平版印刷版用原版の支持体の腰の強さ等を考慮し、適宜選択することができる。
上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチック又は金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属又はプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック又は金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.1
0等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、及び、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
The rotating brush roll that can be used can be selected as appropriate in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor.
As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, a metal or plastic in which brush materials are implanted in rows, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-159533, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-100534, or Japanese Utility Model Publication No. 62-167253. A brush roll in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without any gap can be used. The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, nylon 6.6, nylon 6.1).
Polyamides such as polyamides such as 0, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylates, and polyolefins such as polypropylene and polystyrene), for example, the fiber diameter is The thing of 20-400 micrometers and the length of the hair 5-30 mm can be used conveniently. Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版用原板の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であっても良いが、図1に例示した自動処理機のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感熱層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention, but the automatic processor illustrated in FIG. As described above, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the heat sensitive layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

以下に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲は、これによって限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the scope of the present invention is of course not limited thereto.

〔実施例1〕
(アルミニウム支持体の作成)
99.5重量%アルミニウムに、銅を0.01重量%、チタンを0.03重量%、鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含有するJISA1050アルミニウム材(熱伝導率0.48cal/cm・sec・℃)の厚み0.24mm圧延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,10−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更に、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて160クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした後、水洗した。次に、50℃、30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗した。さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.7g/m2とした。
この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの0.2重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
[Example 1]
(Creation of aluminum support)
JIS A1050 aluminum material (heat conductivity of 0.1% by weight) containing 99.5% by weight aluminum, 0.01% by weight copper, 0.03% by weight titanium, 0.3% by weight iron and 0.1% by weight silicon. 48 cal / cm · sec · ° C.) using a 0.24 mm-thick rolled plate, a 400-mesh Pamiston (made by Kyoritsu Ceramics) 20 wt% aqueous suspension and a rotating nylon brush (6,10-nylon) The surface was grained and washed thoroughly with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and then washed with running water. Further, neutralize with 1 wt% nitric acid, and then in a 0.7 wt% nitric acid aqueous solution (containing 0.5 wt% aluminum), a rectangular wave with an anode voltage of 10.5 volts and a cathode voltage of 9.3 volts Using an alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, current waveform described in the example of JP-B-58-5796), electrolytic surface roughening treatment was performed at an anode time electricity of 160 clones / dm 2. It was. After washing with water, it was immersed in a 10 wt% sodium hydroxide aqueous solution at 35 ° C., etched so that the amount of dissolved aluminum was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, it was immersed in an aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C. and 30% by weight, desmutted, and then washed with water. Further, a porous anodic oxide film formation treatment was performed using a direct current in a 20 wt% sulfuric acid aqueous solution (containing 0.8 wt% aluminum) at 35 ° C. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 and the weight of the anodic oxide film was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time.
The support was washed with water, immersed in a 0.2 wt% aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried.

(親油性化合物を内包するマイクロカプセル1の合成)
油相成分としてタケネートD−110N(武田薬品工業製,三官能イソシアネート)30g、カレンズMOI(昭和電工製,2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート)10g、トリメチロールプロパントリアクリレート10g、アリルメタクリレートとブチルメタクリレートの共重合体(モル比 60/40)10g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.5μmであった。
(Synthesis of microcapsule 1 encapsulating a lipophilic compound)
Takenate D-110N (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trifunctional isocyanate) 30 g, Karenz MOI (Showa Denko, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate) 10 g, trimethylolpropane triacrylate 10 g, allyl methacrylate and butyl methacrylate as oil phase components 10 g of a polymer (molar ratio 60/40) and 0.1 g of pionine A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.5 μm.

(感熱層の形成)
上記支持体上に、下記組成の塗布液を塗布、乾燥(90℃,2分)することにより、乾燥塗布重量1g/m2の感熱層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Formation of heat-sensitive layer)
A coating liquid having the following composition was coated on the support and dried (90 ° C., 2 minutes) to form a heat-sensitive layer having a dry coating weight of 1 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor.

(感熱層塗布液1)
上記の合成したマイクロカプセル1の分散液 25g
ポリアクリル酸 0.5g
(重量平均分子量 25000)
ソルビトールトリアクリレート 1.0g
光熱変換剤A(下記) 0.3g
t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g
水 70g
1−メトキシ−2−プロパノール 30g
(Thermosensitive layer coating solution 1)
25 g of the dispersion of the above synthesized microcapsule 1
Polyacrylic acid 0.5g
(Weight average molecular weight 25000)
Sorbitol triacrylate 1.0g
Photothermal conversion agent A (below) 0.3g
0.3 g of t-butyldiphenyliodonium sulfate
70g of water
30 g of 1-methoxy-2-propanol

Figure 2009058969
Figure 2009058969

(平版印刷版の作製)
このようにして得た平版印刷版用原板を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter 3244VFSにて、版面エネルギー200mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した後、図1と同様の機構の回転ブラシロールを2本有する自動処理機を用いて、現像処理を行った。回転ブラシロールとしては、1本目のブラシロールに、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径90mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.94m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径60mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.63m/sec)させた。平版印刷版用原板の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。
処理液は、下記の処理液1を用い、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。
(Preparation of lithographic printing plate)
The lithographic printing plate precursor thus obtained was exposed under conditions of a plate surface energy of 200 mJ / cm 2 and a resolution of 2400 dpi using a Trendsetter 3244VFS manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, and the same as in FIG. Development processing was performed using an automatic processor having two rotating brush rolls of the above mechanism. As the rotating brush roll, a brush roll having an outer diameter of 90 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) is used for the first brush roll, and the same direction as the conveying direction is used. Min. 200 revolutions (peripheral speed 0.94 m / sec at the tip of the brush), and the second brush roll was implanted with fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) 60 mm outer diameter The brush roll was rotated 200 times per minute in the direction opposite to the conveying direction (peripheral speed of the brush tip: 0.63 m / sec). The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min.
The treatment liquid used was the following treatment liquid 1, showered from a spray pipe with a circulation pump, and supplied to the plate surface.

(処理液1)
レオドールTW−O106 0.5g
(花王(株)製、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、
HLB=10.0)
EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液) 2.0g
水 97.5g
(Processing liquid 1)
RHEODOL TW-O106 0.5g
(Manufactured by Kao Corporation, polyoxyethylene sorbitan monooleate,
HLB = 10.0)
EU-3 (Etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 2.0 g
97.5g of water

(印刷評価)
次いで、上記の得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け印刷を実施(使用した湿し水:IF−102(富士写真フイルム(株)製)を4体積%添加した水溶液,使用したインキ:TKハイエコーSOYMZ墨(東洋インキ(株)製))し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、刷り出し10枚目以内に、非画像部の汚れは無くなり、画像部のインキ着肉性も良好な印刷物が得られた。
(Print evaluation)
Subsequently, the obtained lithographic printing plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and printing was performed (fountain solution used: IF-102 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) was added at 4% by volume. Water, used ink: TK Hi-Echo SOYMZ ink (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) and evaluated the number of non-image area inks to be printed at the time of printing. The smudges on the areas disappeared, and a printed matter with good ink fillability on the image areas was obtained.

〔比較例1〕
実施例1の平版印刷版用原板を実施例1と同様に画像露光後、実施例1の自動処理機の回転ブラシロールを取り外した以外は実施例1と同様に現像処理を行った。すなわち、擦り部材で擦ることなく、処理液洗浄のみを実施した。その後、得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、実施例1と同様に印刷を実施し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、非画像部の汚れが無くなるまで、50枚を要した。
[Comparative Example 1]
The lithographic printing plate precursor of Example 1 was subjected to development processing in the same manner as in Example 1 except that the rotating brush roll of the automatic processor in Example 1 was removed after image exposure in the same manner as in Example 1. That is, only the treatment liquid cleaning was performed without rubbing with a rubbing member. Thereafter, the obtained lithographic printing plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and printing was carried out in the same manner as in Example 1 to evaluate the number of non-image area inks to be removed during printing. 50 sheets were required until the non-image area was clean.

〔比較例2〕
実施例1の平版印刷版用原板を実施例1と同様に画像露光後、なんら処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、実施例1と同様に印刷を実施し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、非画像部の汚れが無くなるまで、50枚を要した。
[Comparative Example 2]
The lithographic printing plate precursor of Example 1 was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without any treatment after image exposure in the same manner as in Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. As a result of evaluating the number of non-image area inks to be removed at the time of printing, 50 sheets were required until the non-image area was free of contamination.

〔実施例2〕 [Example 2]

(親油性化合物を内包するマイクロカプセル2の合成)
油相成分としてタケネートD−110N(武田薬品工業製,三官能イソシアネート)40g、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル20g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.6μmであった。
(Synthesis of microcapsule 2 encapsulating a lipophilic compound)
As oil phase components, Takenate D-110N (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trifunctional isocyanate) 40 g, diethylene glycol diglycidyl ether 20 g, and Pionein A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.6 μm.

(感熱層の形成)
実施例1の感熱層塗布液を、下記組成の塗布液に変える以外は、実施例1と同様にして感熱層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Formation of heat-sensitive layer)
A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a heat sensitive layer in the same manner as in Example 1 except that the heat sensitive layer coating solution of Example 1 was changed to a coating solution having the following composition.

(感熱層塗布液2)
上記の合成したマイクロカプセル2の分散液 25g
ポリアクリル酸 0.5g
(重量平均分子量 25000)
ジエチレントリアミン 1.0g
光熱変換剤A 0.3g
t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g
水 70g
1−メトキシ−2−プロパノール 30g
(Thermosensitive layer coating solution 2)
25 g of the dispersion of the above synthesized microcapsule 2
Polyacrylic acid 0.5g
(Weight average molecular weight 25000)
Diethylenetriamine 1.0g
Photothermal conversion agent A 0.3g
0.3 g of t-butyldiphenyliodonium sulfate
70g of water
30 g of 1-methoxy-2-propanol

次いで、得られた平版印刷版用原板を実施例1と同様に画像露光、現像処理、印刷を実施し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、刷り出し10枚目以内に、非画像部の汚れは無くなり、画像部のインキ着肉性も良好な印刷物が得られた。   Subsequently, the obtained lithographic printing plate precursor was subjected to image exposure, development processing and printing in the same manner as in Example 1 and evaluated for the number of non-image area inks to be printed at the time of printing. Within the eyes, the non-image area was free from smudges, and a printed matter with good ink fillability in the image area was obtained.

〔実施例3〕
(親油性化合物を内包するマイクロカプセル3の合成)
油相成分としてタケネートD−110N(武田薬品工業製,三官能イソシアネート)40g、ビスフェノールAのビス(ビニルオキシエチル)エーテル15g、光熱変換剤B(下記)5g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてテトラエエチレンペンタミン1gを溶解したPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.4μmであった。
Example 3
(Synthesis of microcapsule 3 encapsulating lipophilic compound)
As oil phase components, Takenate D-110N (Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trifunctional isocyanate) 40 g, Bisphenol A bis (vinyloxyethyl) ether 15 g, Photothermal conversion agent B (below) 5 g, Pionine A41C (Takemoto Yushi) 0. 1 g was dissolved in 60 g of ethyl acetate. 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) in which 1 g of tetraethylenepentamine was dissolved as an aqueous phase component was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.4 μm.

Figure 2009058969
Figure 2009058969

(感熱層の形成)
実施例1の感熱層塗布液を、下記組成の塗布液に変える以外は、実施例1と同様にして感熱層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Formation of heat-sensitive layer)
A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a heat sensitive layer in the same manner as in Example 1 except that the heat sensitive layer coating solution of Example 1 was changed to a coating solution having the following composition.

(感熱層塗布液3)
上記の合成したマイクロカプセル3の分散液 25g
ジフェニルヨードニウムのトリフルオロメチルスルホン酸塩 0.5g
メガファックF−171 0.05g
(大日本インキ工業(株)製、フッ素系界面活性剤 )
水 100g
(Thermosensitive layer coating solution 3)
25 g of the dispersion of the above synthesized microcapsule 3
Diphenyliodonium trifluoromethylsulfonate 0.5g
Megafuck F-171 0.05g
(Dainippon Ink Industries, Fluorosurfactant)
100g of water

次いで、得られた平版印刷版用原板を実施例1と同様に画像露光、現像処理、印刷を実施し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、刷り出し10枚目以内に、非画像部の汚れは無くなり、画像部のインキ着肉性も良好な印刷物が得られた。   Subsequently, the obtained lithographic printing plate precursor was subjected to image exposure, development processing and printing in the same manner as in Example 1 and evaluated for the number of non-image area inks to be printed at the time of printing. Within the eyes, the non-image area was free from smudges, and a printed matter with good ink fillability in the image area was obtained.

〔実施例4〕
感熱層上に、下記のオーバーコート層を形成する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版用原板を得た。
Example 4
A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following overcoat layer was formed on the heat-sensitive layer.

(オーバーコート層の形成)
感熱層上に、下記オーバーコート層塗布液を塗布、加熱乾燥(100℃、2分)することにより、乾燥塗布重量0.3g/m2のオーバーコート層を形成した。
(Formation of overcoat layer)
On the heat-sensitive layer, the following overcoat layer coating solution was applied and dried by heating (100 ° C., 2 minutes) to form an overcoat layer having a dry coating weight of 0.3 g / m 2 .

(オーバーコート層塗布液)
・アラビアガム 1g
・エマレックス710 0.025g
(日本エマルジョン(株)製、ポリオキシエチレンラウリルエーテール)
・水 19g
(Overcoat layer coating solution)
・ 1g gum arabic
・ Emalex 710 0.025g
(Nippon Emulsion Co., Ltd., polyoxyethylene lauryl ether)
・ Water 19g

次いで、実施例1と同様にして、画像露光、現像処理、印刷を実施し、刷り出し時の非画像部のインキが払われる枚数を評価したところ、刷り出し10枚目以内に、非画像部の汚れは無くなり、画像部のインキ着肉性も良好な印刷物が得られた。   Next, in the same manner as in Example 1, image exposure, development processing, and printing were carried out, and the number of non-image area inks to be removed at the time of printing was evaluated. As a result, there was no smudge, and a printed matter with good ink fillability in the image area was obtained.

本発明の平版印刷版の作製方法に適した自動現像処理機の構成を示す配置図である。FIG. 2 is a layout view showing a configuration of an automatic developing processor suitable for a method for producing a lithographic printing plate according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 回転ブラシロール
2 受けロール
3 搬送ロール
4 搬送ガイド板
5 スプレーパイプ
6 管路
7 フィルター
8 給版台
9 排版台
10 処理液(タンク)
11 循環ポンプ
12 平版印刷版用原板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rotating brush roll 2 Receiving roll 3 Conveying roll 4 Conveying guide plate 5 Spray pipe 6 Pipe line 7 Filter 8 Plate feed table 9 Discharge plate 10 Processing liquid (tank)
11 Circulating pump 12 Planographic printing plate

Claims (1)

親水性表面を有する支持体上に、親油性化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層を設けた平版印刷版用原板に、画像記録を行った後、処理液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより非画像部の感熱層を除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の作製方法。   Image recording was performed on a lithographic printing plate precursor provided with a thermosensitive layer containing microcapsules encapsulating a lipophilic compound on a support having a hydrophilic surface, and then the plate surface was rubbed with a rubbing member in the presence of a treatment liquid. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising the step of removing the heat-sensitive layer in the non-image area by rubbing the surface.
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