JP2001341448A - Original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for lithographic printing plate

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JP2001341448A
JP2001341448A JP2000165997A JP2000165997A JP2001341448A JP 2001341448 A JP2001341448 A JP 2001341448A JP 2000165997 A JP2000165997 A JP 2000165997A JP 2000165997 A JP2000165997 A JP 2000165997A JP 2001341448 A JP2001341448 A JP 2001341448A
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JP
Japan
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acid
heat
water
printing plate
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000165997A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Maemoto
一夫 前本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate which exhibits good press developing properties and has high sensitivity and high plate wear and can prevent sticking between plates when they are stored by pilling up from being generated. SOLUTION: This original plate has a heat-sensitive layer including microcapsules containing a compound with a functional group being reactive by heating and a water-soluble overcoat layer on the heat-sensitive layer, and the dynamic frictional coefficient when one face is slid on another face is below 2.5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はネガ型の平版印刷版
用原版に関する。より詳しくは、ディジタル信号に基づ
いた走査露光による製版が可能であり、高感度且つ高耐
刷性で汚れのない印刷物を与えることが可能であり、現
像することなしにそのまま印刷機に装着し印刷すること
が可能な平版印刷版用原版に関する。
The present invention relates to a negative type lithographic printing plate precursor. More specifically, plate making by scanning exposure based on digital signals is possible, and it is possible to give printed matter with high sensitivity, high printing durability and no stain, and to print directly by attaching it to a printing machine without developing. Lithographic printing plate precursor that can be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用刷版については、多数の研究が
なされている。その中で、一層の工程合理化と廃液処理
問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理する
ことなしに印刷機に装着して印刷できる現像不要平版印
刷用原版が研究され、種々の方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Numerous studies have been made on printing plates for computer-to-plate systems, which have been remarkably advanced in recent years. Among them, with the aim of further streamlining the process and solving the problem of waste liquid treatment, development-free lithographic printing plate precursors that can be mounted on a printing machine and printed without developing after exposure have been studied, and various methods have been studied. Proposed.

【0003】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリン
ダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによ
って、印刷用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ば
れる方法がある。すなわち、印刷版用原版を露光後、そ
のまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完
了する方式である。このような機上現像に適した平版印
刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有
し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに
適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。
[0003] One of the methods for eliminating the processing step is to mount an exposed printing plate precursor on a cylinder of a printing press, and supply a dampening solution and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development for removing an image portion. In other words, the printing plate precursor is mounted on a printing machine as it is after exposure, and the processing is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such on-press development has a photosensitive layer that is soluble in fountain solution and ink solvent, and is suitable for development on a printing machine placed in a bright room. It is required to have a light room handling property.

【0004】例えば、日本特許2938397号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷版用原版が開示されている。この公報には、
該平版印刷版用原版において、赤外線レーザー露光して
熱可塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画
像形成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し
水および/またはインキにより機上現像できることが記
載されている。しかしながら、このように単に熱による
合体で画像を作る方法では、良好な機上現像性を示すも
のの、画像強度が弱いために耐刷性が不十分となる。ま
た、アルミニウム基板上に直接感熱層を設けた場合、発
生した熱がアルミニウム基板により奪われるために基板
・感熱層界面上では熱による合体が起こらず、耐刷性が
不十分となってしまう。
For example, Japanese Patent No. 2938397 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. ing. In this publication,
In the lithographic printing plate precursor, an image is formed by exposing the thermoplastic hydrophobic polymer particles by heat by exposing the plate to an infrared laser and then mounting the plate on a printing press cylinder, and printing with a dampening solution and / or ink. It is described that the above can be developed. However, in such a method of forming an image simply by heat coalescence, although good on-press developability is exhibited, printing durability is insufficient due to low image strength. Further, when the heat-sensitive layer is provided directly on the aluminum substrate, the generated heat is taken away by the aluminum substrate, so that coalescence due to heat does not occur on the interface between the substrate and the heat-sensitive layer, resulting in insufficient printing durability.

【0005】特開平9−127683号、特開平9−1
23387号、特開平9−123388号、特開平9−
131850号公報およびWO99−10186号公報
にも熱可塑性微粒子を熱による合体後、機上現像により
印刷版を作製することが記載されているが、同様に画像
強度が弱く、耐刷性が不十分という問題がある。
[0005] JP-A-9-127683 and JP-A-9-9-1
23387, JP-A-9-123388, JP-A-9-
JP-A-131850 and WO99-10186 also describe that a printing plate is produced by on-press development after the thermoplastic fine particles are united by heat, but similarly the image strength is weak and the printing durability is insufficient. There is a problem.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】一方、感熱層表面の汚
染防止のため、感熱層上に親水性樹脂のオーバーコート
層を設けることが提案されている。しかし、前記粒子成
分を含有する感熱層上にオーバーコート層を有する平版
印刷版用原版を積み重ねて保存した際にその表面と裏面
でくっついてしまうという問題点を有している。この現
象は、感熱層内にある粒子成分および親水性樹脂が長期
保存した際に、オーバーコート層まで泣き出してくる
(マイグレーション)ために起こると考えられる。
On the other hand, it has been proposed to provide an overcoat layer of a hydrophilic resin on the heat-sensitive layer in order to prevent contamination of the surface of the heat-sensitive layer. However, when a lithographic printing plate precursor having an overcoat layer is stacked and stored on the heat-sensitive layer containing the particle component, there is a problem that the lithographic printing plate precursor sticks on the front surface and the back surface. This phenomenon is considered to occur because the particle component and the hydrophilic resin in the heat-sensitive layer cry to the overcoat layer (migration) when stored for a long time.

【0007】従って、本発明の目的は、上記のような先
行技術の欠点を克服した平版印刷版用原版を提供するこ
とである。すなわち機上現像性が良好であり、高感度、
かつ高耐刷性を有し、積み重ね保存時のプレート間のく
っつきを防止できる平版印刷版用原版を提供することで
ある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor that overcomes the disadvantages of the prior art as described above. That is, on-press developability is good, high sensitivity,
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that has high printing durability and can prevent sticking between plates during stacking and storage.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、以下の構成を採用
することにより、前記従来技術の欠点を克服することを
見出した。即ち、本発明は以下の通りである。 (1)支持体上に、熱により反応する官能基を有する化
合物を含有しているマイクロカプセルを含む感熱層と、
該感熱層の上に水溶性オーバーコート層とを有し、か
つ、1つの面が他の面上を滑るときの動摩擦係数が2.
5以下であることを特徴とする平版印刷版用原版。 (2)前記水溶性オーバーコート層に光熱変換材料を含
有することを特徴とする前記(1)記載の平版印刷版用
原版。 (3)前記水溶性オーバーコート層にフッ素原子および
ケイ素原子のうちの少なくともいずれかを有する化合物
を含有することを特徴とする前記(1)または(2)記
載の平版印刷版用原版。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, have found that the following constitution can be used to overcome the disadvantages of the prior art. That is, the present invention is as follows. (1) a heat-sensitive layer including a microcapsule containing a compound having a functional group that reacts by heat on a support;
A water-soluble overcoat layer is provided on the heat-sensitive layer, and the coefficient of dynamic friction when one surface slides on the other surface is 2.
An original plate for a lithographic printing plate, wherein the number is 5 or less. (2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the water-soluble overcoat layer contains a light-to-heat conversion material. (3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the water-soluble overcoat layer contains a compound having at least one of a fluorine atom and a silicon atom.

【0009】本発明の平版印刷版用原版は、支持体上の
感熱層中に、熱反応性基を有する化合物を内包するマイ
クロカプセルと、親水性高分子バインダーとを含有さ
せ、該感熱層上に水溶性高分子化合物からなるオーバー
コート層を設け、形成したオーバーコート層の表面の後
述する動摩擦係数が2.5以下であることを満足させる
ことにより、良好な機上現像性を示しながら、ヒートモ
ード露光等により加熱された画像部の皮膜強度が向上
し、耐刷性に優れたものになる。さらに、水溶性高分子
化合物に起因する長期積み重ね保存時の平版印刷版用原
版間のくっつきを防止することが可能となった。なお、
本発明における平版印刷版用原版又はオーバーコート層
の表面の動摩擦係数は、標準ASTMD1894に従っ
た測定法により測定したものである。すなわち下にある
材料の表面が上にある材料の裏面と接触しているように
平版印刷版原版が置かれる。該材料の裏面は支持体に対
して感熱層・水溶性オーバーコート層が設けられていな
い面を意味し、表面は支持体に対して感熱層・オーバー
コート層が設けられている面を意味する。同摩擦係数に
ついては3000枚積み重ね35℃75%の温湿度で3
日間放置した後、一番下のサンプルを測定した。本発明
では搬送性の観点から、上記の動摩擦係数(μk)の数
値範囲は2.5以下であり、好ましくは0.03以上
1.2以下である。上記の動摩擦係数は、親水性を保持
し印刷時に容易に除去でき、かつ保存時のプレート間の
くっつきを防止できる離型性を有し、また、画像形成層
内にあるマイクロカプセルおよび親水性樹脂のマイグレ
ーションを防止できるバリヤー性(遮弊性)を発現できる
オーバーコート層について鋭意検討することにより、見
出すことができた。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises a heat-sensitive layer on a support containing microcapsules containing a compound having a heat-reactive group and a hydrophilic polymer binder. By providing an overcoat layer made of a water-soluble polymer compound on the surface of the formed overcoat layer, by satisfying that the coefficient of dynamic friction described below is 2.5 or less, while exhibiting good on-press developability, The film strength of the image area heated by heat mode exposure or the like is improved, and the printing durability is excellent. Furthermore, it has become possible to prevent sticking between planographic printing plate precursors during long-term stacking storage caused by the water-soluble polymer compound. In addition,
The kinetic friction coefficient of the surface of the lithographic printing plate precursor or the overcoat layer in the present invention is measured by a measuring method according to standard ASTM D1894. That is, the lithographic printing plate precursor is placed such that the surface of the underlying material is in contact with the back surface of the overlying material. The back surface of the material means a surface on which the heat-sensitive layer / water-soluble overcoat layer is not provided on the support, and the front surface means a surface on which the heat-sensitive layer / overcoat layer is provided on the support. . Regarding the same coefficient of friction, 3000 sheets were stacked at 35 ° C and 75% temperature and humidity.
After standing for days, the bottom sample was measured. In the present invention, from the viewpoint of transportability, the numerical range of the dynamic friction coefficient (μk) is 2.5 or less, preferably 0.03 or more and 1.2 or less. The above dynamic friction coefficient has a releasability that retains hydrophilicity, can be easily removed at the time of printing, and prevents sticking between plates during storage, and has a microcapsule and a hydrophilic resin in the image forming layer. Could be found by intensive studies on an overcoat layer capable of exhibiting a barrier property (shielding property) capable of preventing migration.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。先ず、本発明の平版印刷版用原版が有する感熱層に
ついて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. First, the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.

【0011】〔熱反応性基を有する化合物を内包するマ
イクロカプセル〕本発明の平版印刷版用原版の感熱層に
含まれるマイクロカプセルは、熱反応性基を有する化合
物を内包している。この熱反応性官能基を有する化合物
としては、重合性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基あるいはカルボキシレート基あるいは酸無水物、
アミノ基、エポキシ基、および、イソシアナート基ある
いはそのブロック体から選ばれた少なくとも一個の官能
基を有する化合物を挙げることができる。
[Microcapsules encapsulating a compound having a heat-reactive group] The microcapsules contained in the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention include a compound having a heat-reactive group. Compounds having this heat-reactive functional group include polymerizable unsaturated groups, hydroxyl groups, carboxyl groups or carboxylate groups or acid anhydrides,
Examples include compounds having at least one functional group selected from an amino group, an epoxy group, an isocyanate group or a block thereof.

【0012】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、あるいはそれらの共
重合体である。
As the compound having a polymerizable unsaturated group,
At least one ethylenically unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group;
And preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. These are, in chemical form, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures or copolymers thereof.

【0013】例として、不飽和カルボン酸(例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など)、そのエステルおよび
アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、
ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カ
ルボン酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネー
トまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能も
しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基な
どの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル
またはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、
アミンおよびチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多
官能アルコール、アミンおよびチオールとの置換反応物
も好適である。また、別の好適な例として、上記の不飽
和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸あるいはクロロメチ
ルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。
Examples include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids and fatty acids. Esters with aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amines. Also,
An addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxide; A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, and a monofunctional or polyfunctional alcohol,
Addition reactants with amines and thiols, and also substituted reactants with unsaturated carboxylic esters or amides having a leaving group such as a halogen group or a tosyloxy group, and monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols. It is suitable. Another preferred example is a compound in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.

【0014】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable compound which is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane Triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate,
Pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate,
Examples thereof include sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.

【0015】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloyloxy-2 Hydroxypropoxy) phenyl]
Examples include dimethylmethane and bis- [p- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane.

【0016】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。
Examples of the itaconic acid ester include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
Examples thereof include 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.

【0017】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。
The crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like can be mentioned. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Maleic esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate,
Sorbitol tetramalate and the like can be mentioned.

【0018】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−
5241号、特開平2−226149号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。
Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334,
Aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-196231
Examples thereof include those having an aromatic skeleton described in JP-A-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613.

【0019】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭54−21726記載の
シクロへキシレン構造を有すものを挙げることができ
る。
Specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyamine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples thereof include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide. Examples of other preferred amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0020】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(I)で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。 一般式(I) CH2=C(R1)COOCH2CH(R2)OH (ただし、R1およびR2は、HまたはCH3を示す。)
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule and an unsaturated monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (I) added to one molecule. Urethane compounds containing at least two polymerizable unsaturated groups are exemplified. Formula (I) CH 2 CC (R 1 ) COOCH 2 CH (R 2 ) OH (where R 1 and R 2 represent H or CH 3 )

【0021】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭58−4
9860号、特公昭56−17654号、特公昭62−
39417、特公昭62−39418号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and JP-B-58-4.
9860, JP-B-56-17654, JP-B-62-
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in 39417 and JP-B-62-39418 are also preferable.

【0022】さらに、特開昭63−277653号、特
開昭63−260909号、特開平1−105238号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are preferable. It can be mentioned as.

【0023】その他の好適なものの例としては、特開昭
48−64183号公報、特公昭49−43191号公
報、同52−30490号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭46−43946号公報、
特公平1−40337号公報、同1−40336号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、20巻7号、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。
Other preferred examples include polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting a resin with (meth) acrylic acid. In addition, JP-B-46-43946,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40337 and JP-A-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned as preferable ones. In some cases, compounds containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 are also preferably used. In addition, Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
Those introduced as photocurable monomers and oligomers in (4 years) can also be suitably used.

【0024】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素
添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
Suitable epoxy compounds include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols or polyphenols or hydrogenated products thereof. And polyglycidyl ether.

【0025】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いは、それらをアルコールあるいはアミンでブロックし
た化合物を挙げることができる。
Suitable isocyanate compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, or alcohol Alternatively, a compound blocked with an amine can be mentioned.

【0026】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。
Suitable amine compounds include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

【0027】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリス
リトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリ
フェノール類などを挙げることができる。好ましカルボ
キシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、ト
リメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、
アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられ
る。好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水物、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられ
る。
Suitable compounds having a hydroxyl group include compounds having a terminal methylol group, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, and bisphenols and polyphenols. Preferred compounds having a carboxyl group include pyromellitic acid, trimellitic acid, aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid,
Examples thereof include aliphatic polycarboxylic acids such as adipic acid. Preferred acid anhydrides include pyromellitic anhydride,
Benzophenone tetracarboxylic anhydride and the like.

【0028】エチレン状不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート/メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート/エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート/ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。
Preferred examples of the copolymer of the ethylenically unsaturated compound include a copolymer of allyl methacrylate. For example, an allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, an allyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer, an allyl methacrylate / butyl methacrylate copolymer, and the like can be given.

【0029】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造
方法としては、米国特許2800457号、同2800
458号にみられるコアセルベーションを利用した方
法、英国特許990443号、米国特許3287154
号、特公昭38−19574号、同42−446号、同
42−711号にみられる界面重合法による方法、米国
特許3418250号、同3660304号にみられる
ポリマーの析出による方法、米国特許3796669号
に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方
法、米国特許3914511号に見られるイソシアネー
ト壁材料を用いる方法、米国特許4001140号、同
4087376号、同4089802号にみられる尿素
―ホルムアルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−
レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許4
025445号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特
公昭36−9163号、同51−9079号にみられる
モノマー重合によるin situ法、英国特許930
422号米国特許3111407号にみられるスプレー
ドライング法、英国特許952807号、同96707
4号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに
限定されるものではない。
As a method for microencapsulation, a known method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, US Pat.
U.S. Pat. No. 3,287,154, U.S. Pat. No. 3,287,154.
No. 38-19574, JP-B-42-446, JP-B-42-711, a method by precipitation of a polymer shown in U.S. Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, U.S. Pat. No. 3,796,669. U.S. Pat. No. 3,914,511, U.S. Pat. No. 4,087,376, U.S. Pat. No. 4,089,802, a method using an isocyanate polyol wall material as disclosed in U.S. Pat.
Method using resorcinol-based wall forming material, US Pat.
No. 025445, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079, an in situ method by monomer polymerization, and British Patent 930.
No. 422, U.S. Pat. No. 3,111,407, Spray drying method, British Patent Nos. 952807, 96707
No. 4, but not limited thereto.

【0030】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレ
タンが好ましい。マイクロカプセル壁に熱反応性官能基
を有する化合物を導入しても良い。
The preferred microcapsule wall used in the present invention has three-dimensional crosslinks and has a property of swelling by a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. A compound having a thermoreactive functional group may be introduced into the microcapsule wall.

【0031】上記のマイクロカプセルの平均粒径は、
0.01〜20μmが好ましいが、中でも0.05〜
2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが
特に好ましい。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、
また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。この
ようなマイクロカプセルは、カプセル同志が熱により合
体してもよいし、合体しなくとも良い。要は、マイクロ
カプセル内包物のうち、塗布時にカプセル表面あるいは
マイクロカプセル外に滲み出したもの、あるいは、マイ
クロカプセル壁に浸入したものが、熱により化学反応を
起こせば良い。添加された親水性樹脂、あるいは、添加
された低分子化合物と反応してもよい。また2種類以上
のマイクロカプセルに、それぞれ異なる官能基で互いに
熱反応するような官能基をもたせることによって、マイ
クロカプセル同士を反応させてもよい。従って、熱によ
ってマイクロカプセル同志が、熱で溶融合体することは
画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。
The average particle size of the above microcapsules is
0.01 to 20 μm is preferred, and 0.05 to
2.0 μm is more preferred, and 0.10 to 1.0 μm is particularly preferred. If the average particle size is too large, the resolution will be poor,
On the other hand, if it is too small, the stability over time deteriorates. In such microcapsules, the capsules may or may not be united by heat. The point is that, among the microcapsule inclusions, those that have oozed out of the capsule surface or the outside of the microcapsules during application, or those that have penetrated into the microcapsule wall, may cause a chemical reaction by heat. It may react with the added hydrophilic resin or the added low molecular compound. The microcapsules may be reacted with each other by providing two or more types of microcapsules with functional groups that react with each other with different functional groups. Therefore, it is preferable from the viewpoint of image formation that the microcapsules are melted and united by heat, but it is not essential.

【0032】マイクロカプセルの感熱層への添加量は、
固形分換算で、好ましくは10〜60重量%、さらに好
ましくは15〜40重量%である。この範囲内で、良好
な機上現像性と同時に、良好な感度および耐刷性が得ら
れる。
The amount of the microcapsules added to the heat-sensitive layer is as follows:
It is preferably from 10 to 60% by weight, more preferably from 15 to 40% by weight in terms of solid content. Within this range, good sensitivity and printing durability can be obtained simultaneously with good on-press developability.

【0033】マイクロカプセルを感熱層に添加する場
合、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマイク
ロカプセル分散媒中に添加することができる。このよう
な溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化
合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。こ
のような溶剤としては、マイクロカプセル分散媒、マイ
クロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存する
が、多くの市販されている溶剤から容易に選択すること
ができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウレタン壁から
なる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、
エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多
価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類などが
好ましい。
When the microcapsules are added to the heat-sensitive layer, a solvent capable of dissolving the inclusions and swelling the wall material can be added to the microcapsule dispersion medium. Such a solvent promotes the diffusion of the encapsulated compound having a thermoreactive functional group out of the microcapsules. Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material, wall thickness, and inclusions of the microcapsule wall, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of water-dispersible microcapsules composed of crosslinked polyurea and polyurethane walls, alcohols,
Preferred are ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like.

【0034】具体的化合物としては、メタノール、エタ
ノール、第3ブタノール、n−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケ
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を
2種以上用いても良い。
Specific compounds include methanol, ethanol, tertiary butanol, n-propanol, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, and γ-butyl lactone. , N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc., but are not limited thereto. Two or more of these solvents may be used.

【0035】マイクロカプセル分散液には溶解しない
が、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることが
できる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるもの
であるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分
となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、
塗布液の5〜95重量%が有効であり好ましい範囲は、
10〜90重量%、より好ましい範囲は15〜85重量
%である。
A solvent which does not dissolve in the microcapsule dispersion but can be dissolved by mixing the above-mentioned solvent can be used. The amount of addition is determined by the combination of materials. If the amount is less than the appropriate value, image formation becomes insufficient, and if the amount is too large, the stability of the dispersion is deteriorated. Normal,
An effective range of 5 to 95% by weight of the coating solution is preferable.
10 to 90% by weight, more preferably 15 to 85% by weight.

【0036】〔親水性樹脂〕本発明の平版印刷版用原版
の感熱層中には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹
脂を添加することで機上現像性が良好となるばかりか、
感熱層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては3
次元架橋していないものが機上現像性が良好で好まし
い。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボ
キシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミ
ノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチル
などの親水基を有するものが好ましい。具体的な親水性
樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉
誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそれらのNa
塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢
酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイ
ン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、
ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロ
キシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー
及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホ
モポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチ
ルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエ
チレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー
類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少
なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%
の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ア
クリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリ
ルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロール
アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、2−ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及びその
塩のホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができ
る。
[Hydrophilic resin] A hydrophilic resin may be added to the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. The addition of the hydrophilic resin not only improves the on-press developability,
The film strength of the heat-sensitive layer itself also increases. 3 as hydrophilic resin
Those having no dimensional cross-linking are preferable because of good on-press developability. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable. As specific hydrophilic resins, gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na
Salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and salts thereof,
Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate And copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight.
Of polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymer and copolymer, methacrylamide homopolymer and polymer, N-methylol acrylamide homopolymer and copolymer, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid And a homopolymer and a copolymer thereof, and the like.

【0037】親水性樹脂の感熱層中への添加量は、2%
〜40%が好ましく、3%〜30%がさらに好ましい。
2%より少ないと、皮膜強度が弱く、40%より多いと
機上現像性は良くなるものの耐刷性が悪くなってしま
う。
The amount of the hydrophilic resin added to the heat-sensitive layer is 2%
-40% is preferable, and 3% -30% is more preferable.
If it is less than 2%, the film strength is low, and if it is more than 40%, on-press developability is improved, but printing durability is deteriorated.

【0038】〔反応を開始あるいは促進する化合物〕本
発明の平版印刷版用原版の感熱層には、上記の熱反応性
基を有する化合物を含有するマイクロカプセルを用いる
ので、必要に応じてこれらの反応を開始あるいは促進す
るような化合物を添加してもよい。たとえば熱によりラ
ジカルあるいはカチオンを発生するような化合物を挙げ
ることができ、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合
物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジ
フェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシ
ルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。
これらの化合物は感熱層において1重量%〜20重量%
の範囲で添加することができる。好ましくは3重量%〜
10重量%の範囲である。これより多いと機上現像性が
悪くなり、これより少ないと反応開始あるいは促進効果
が弱くなり耐刷性が劣化する。
[Compound that Initiates or Promotes the Reaction] In the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, microcapsules containing the compound having a heat-reactive group described above are used. A compound that initiates or accelerates the reaction may be added. Examples thereof include compounds that generate radicals or cations by heat.Onium salts containing lophine dimer, trihalomethyl compound, peroxide, azo compound, diazonium salt or diphenyliodonium salt, acylphosphine, imidosulfo Nart and the like.
These compounds are present in the heat-sensitive layer in an amount of from 1% by weight to 20% by weight.
Can be added. Preferably from 3% by weight
It is in the range of 10% by weight. If it is more than this, the on-press developability will be poor, and if it is less than this, the effect of initiating or accelerating the reaction will be weakened and the printing durability will deteriorate.

【0039】また、熱反応性基を有する化合物を含有す
るマイクロカプセルを用いる場合、その反応を効率よく
進めるために、反応を開始あるいは促進する化合物をマ
イクロカプセル内に含有させることが好ましい。これら
の化合物をマイクロカプセル内に含有させることで、熱
反応性基を有する化合物とあらかじめ良く混ざり合った
状態にすることができ、レーザー照射すると、内包物が
拡散しながら反応が可能となる。これにより、本発明の
平版印刷版用原版の耐刷性がさらに向上できる。
When a microcapsule containing a compound having a heat-reactive group is used, it is preferable that a compound that initiates or accelerates the reaction be contained in the microcapsule in order to promote the reaction efficiently. By including these compounds in the microcapsules, the microcapsules can be preliminarily mixed with the compound having a heat-reactive group, and when irradiated with laser, the reaction can be performed while the inclusions are diffused. Thereby, the printing durability of the lithographic printing plate precursor of the present invention can be further improved.

【0040】〔その他の添加物〕本発明では、その感熱
層中に、さらに必要に応じて上記以外に種々の化合物を
添加してもよい。例えば、上記上記マイクロカプセルに
含有される熱反応性基を有する化合物と反応することが
できる官能基およびその保護基を有する低分子化合物を
含有することができる。これらの化合物の添加量は、感
熱層中5重量%〜40重量%が好ましく、特に5重量%
〜20重量%が好ましい。これより少ないと架橋効果が
少なく耐刷性が不十分となり、これより多いと経時後の
機上現像性が悪くなってしまうことがある。このような
化合物の具体例としては、前記マイクロカプセルに含有
される熱反応性基を有する化合物の具体例と同様のもの
を挙げることができる。
[Other Additives] In the present invention, various compounds other than those described above may be further added to the heat-sensitive layer, if necessary. For example, a low molecular compound having a functional group capable of reacting with the compound having a thermoreactive group contained in the microcapsule and a protective group thereof can be contained. The addition amount of these compounds is preferably 5% by weight to 40% by weight in the heat-sensitive layer, particularly 5% by weight.
-20% by weight is preferred. If the amount is less than this, the cross-linking effect is small and the printing durability becomes insufficient. Specific examples of such a compound include those similar to the specific examples of the compound having a thermoreactive group contained in the microcapsules.

【0041】また、可視光域に大きな吸収を持つ染料を
画像の着色剤として使用することができる。具体的に
は、オイルイエロー#101、オイルイエロー#10
3、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
A dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 10
3. Oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-50
5 (from Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., and JP-A-62-29324
No. 7 can be mentioned. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can be suitably used.

【0042】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、感熱層塗布液全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these coloring agents since the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is based on the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.
The ratio is 0.01 to 10% by weight.

【0043】また、本発明においては、感熱層塗布液の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を
阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望
ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、
p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾ
ール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フ
ェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感熱層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
1重量%〜約10重量%が好ましい。
In the present invention, a small amount of thermal polymerization inhibitor is used to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond which can be radically polymerized during preparation or storage of the coating solution for the thermosensitive layer. It is desirable to add an agent. Hydroquinone, as a suitable thermal polymerization inhibitor,
p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4 -Methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% by weight based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the heat-sensitive layer in a drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative to be added is about 0.1% of the total composition.
1% to about 10% by weight is preferred.

【0044】また、本発明における感熱層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
The heat-sensitive layer coating solution of the present invention contains a nonionic resin such as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 in order to widen the stability of processing under development conditions. Surfactant, JP 59
An amphoteric surfactant as described in JP-A-121044 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether.

【0045】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感熱
層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, and N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the coating solution for the heat-sensitive layer is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0046】さらに、本発明に係る感熱層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。
Further, a plasticizer is added to the heat-sensitive layer coating solution according to the present invention, if necessary, to impart flexibility and the like to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

【0047】本発明の平版印刷版用原版を製造するに
は、通常、感熱層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶
かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合
して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固
形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
In order to produce the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the above-mentioned components necessary for the heat-sensitive layer coating solution are usually dissolved in a solvent and coated on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water and the like, but are not limited thereto. Absent. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

【0048】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感
熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版
印刷版用原版についていえば一般的に0.5〜5.0g
/m 2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、
回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を
挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見
かけの感度は大になるが、画像記録の機能を果たす感熱
層の皮膜特性は低下する。
The feeling on the support obtained after coating and drying
The coating amount (solid content) of the thermal layer varies depending on the application.
Generally speaking, 0.5 to 5.0 g of the printing plate precursor
/ M TwoIs preferred. Various methods for applying
Can be used, for example, a bar coater coating,
Spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating
Cloth, air knife coating, blade coating, roll coating etc.
Can be mentioned. As the application amount decreases,
Sensitivity is high, but the function of image recording is high
The film properties of the layer are reduced.

【0049】本発明に係る感熱層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−17
0950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全感熱層
の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。
The coating solution for the heat-sensitive layer according to the present invention may contain a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-17.
No. 0950 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire thermosensitive layer.

【0050】〔オーバーコート層〕本発明の平版印刷版
用原版は、親油性物質による感熱層表面の汚染防止のた
め、感熱層上に、水溶性オーバーコート層が形成されて
いる。本発明に使用される水溶性オーバーコート層は印
刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機高分子
化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用いる水溶
性の有機高分子化合物としては、塗布乾燥によってでき
た被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的には、
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル(但し加水分解
率65%以上のもの)、ポリアクリル酸およびそのアル
カリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアクリル酸共重合体
およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタク
リル酸およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリ
メタクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、ポリアクリルアミドおよびその共重合体、ポ
リヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリド
ン及びその共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリ
ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ
−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスル
ホン酸及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリ−
2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホ
ン酸共重合体およびそのアルカリ金属塩あるいはアミン
塩、アラビアガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシ
メチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチ
ルセルローズ等)およびその変性体、ホワイトデキスト
リン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等を
挙げることができる。また、目的に応じて、これらの樹
脂を二種以上混合して用いることもできる。これら水溶
性樹脂の中でアラビアガムが機上現像性の観点からもっ
とも好ましい。
[Overcoat Layer] In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a water-soluble overcoat layer is formed on the heat-sensitive layer in order to prevent contamination of the surface of the heat-sensitive layer by a lipophilic substance. The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As the water-soluble organic polymer compound used here, a film formed by coating and drying has a film forming ability, and specifically,
Polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate (having a hydrolysis rate of 65% or more), polyacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its Alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylamide and its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone and its copolymer, polyvinyl methyl ether, polyvinyl methyl ether / Maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid and its alkali metal salt or amine salt, poly-
2-acrylamide-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic, cellulose derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof , White dextrin, pullulan, enzymatically degraded etherified dextrin and the like. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination. Among these water-soluble resins, gum arabic is most preferred from the viewpoint of on-press developability.

【0051】〔フッ素原子含有化合物あるいは珪素原子
含有化合物〕本発明の平版印刷版用原版の水溶性オーバ
ーコート層中には、前記の積み重ね保存時のプレート間
のくっつきを防止のため、離型性を有するフッ素原子含
有化合物あるいは珪素原子含有化合物を含有させること
が好ましい。フッ素化合物としては水溶性あるいは水分
散性のフッ素系界面活性剤が用いられる。具体的にはF
置換ドデカン酸、F置換オクタン酸、F置換ヘキサン
酸、F置換酪酸、これらカルボン酸のアンモニウム塩、
パーフルオロアルキル基とエチレンオキシ基を同一分子
中に有する化合物などが挙げられる。珪素原子含有化合
物としては、水溶性あるいは水分散性のシリコーンオイ
ルが用いられる。具体的にはポリエーテル変性シリコー
ンオイルを挙げることができる。これらの化合物のオー
バーコート層全固形物中に占める割合は0.05〜5.
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1%〜3重量
%である。0.05%より少ないと平版印刷版用原版を
積み重ねた際にくっつきやすく、またプレートをアルミ
ニウム片で擦った際に傷がつき傷汚れが発生しやすい、
5重量%より多いとオーバーコート層の現像性が悪くな
り損紙が増えてしまう。
[Fluorine atom-containing compound or silicon atom-containing compound] The water-soluble overcoat layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention contains a releasing agent for preventing sticking between the plates during stacking and storage. It is preferable to contain a fluorine atom-containing compound or a silicon atom-containing compound having the following formula. As the fluorine compound, a water-soluble or water-dispersible fluorine-based surfactant is used. Specifically, F
Substituted dodecanoic acid, F-substituted octanoic acid, F-substituted hexanoic acid, F-substituted butyric acid, ammonium salts of these carboxylic acids,
Examples include compounds having a perfluoroalkyl group and an ethyleneoxy group in the same molecule. As the silicon atom-containing compound, a water-soluble or water-dispersible silicone oil is used. Specific examples include polyether-modified silicone oil. The proportion of these compounds in the total solid content of the overcoat layer is 0.05 to 5.
It is preferably 0% by weight, more preferably 0.1% to 3% by weight. If it is less than 0.05%, it tends to stick when lithographic printing plate precursors are stacked, and scratches and scratches easily occur when the plate is rubbed with a piece of aluminum.
If the content is more than 5% by weight, the developability of the overcoat layer will deteriorate and the waste paper will increase.

【0052】また、オーバーコート層には、後述の水溶
性光熱変換剤を含有することが好ましい。さらに、オー
バーコート層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶
液塗布の場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの
非イオン系界面活性剤を添加することができる。オーバ
ーコート層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2
好ましい。それより少ないと、指紋付着汚れを起こし、
それより多いと、機上現像性が悪くなる。
The overcoat layer preferably contains a water-soluble photothermal conversion agent described below. Furthermore, in the case of aqueous solution application, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether and polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in order to ensure uniformity of application. . Dry coating amount of the overcoat layer, 0.1 to 2.0 g / m 2 is preferred. If it is less than that, fingerprints will be stained,
If it is more than that, the on-press developability deteriorates.

【0053】〔光熱変換材料〕また本発明の平版印刷版
用原版は、その感熱層内またはそれに隣接する層内、よ
り好ましくは前記オーバーコート層内に光熱変換材料を
含有していることにより、レーザー光照射等により画像
書き込みを行うことができる。その光熱変換材料として
は、カーボンブラック・金属微粒子および色素など光源
の波長を吸収するものであれば特に限定されないが特に
赤外線を吸収し熱に変換する化合物が好ましい。
[Light-to-heat conversion material] The lithographic printing plate precursor of the present invention contains a light-to-heat conversion material in the heat-sensitive layer or in a layer adjacent thereto, more preferably in the overcoat layer. Image writing can be performed by laser light irradiation or the like. The light-to-heat conversion material is not particularly limited as long as it absorbs the wavelength of the light source, such as carbon black / metal fine particles and dye, but a compound that absorbs infrared rays and converts it into heat is particularly preferable.

【0054】光熱変換材料は700nm以上の光を吸収
する物質が特に好ましく、種々の顔料や染料を用いる事
ができる。顔料としては、市販の顔料およびカラーイン
デックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔
料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」C
MC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用
できる。
The photothermal conversion material is particularly preferably a substance that absorbs light of 700 nm or more, and various pigments and dyes can be used. Examples of pigments include commercially available pigments and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986), "Printing ink technology" C
MC Publishing, 1984) can be used.

【0055】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
Examples of the kind of the pigment include a black pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0056】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
これらの顔料中、赤外光又は近赤外光を吸収するもの
が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適
する点で特に好ましい。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, etc.). A method of bonding to the surface of the pigment is conceivable. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo), "Printing Ink Technology"
(CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
Among these pigments, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0057】そのような赤外光又は近赤外光を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散し易く、かつ親水性を損わないものと
して、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたカ
ーボンブラックが有用である。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black, carbon black coated with a hydrophilic resin, and carbon black modified with silica sol are preferably used. Among these, carbon black whose surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol is useful as a material that is easily dispersed in a water-soluble resin and does not impair hydrophilicity.

【0058】顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. As the disperser, an ultrasonic disperser,
Sand mills, attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, dispersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three-roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0059】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among these dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0060】赤外光又は近赤外光を吸収する染料として
は、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−
84356号、特開昭60−78787号、米国特許
4,973,572号明細書、特開平10−26851
2号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−1
73696号、特開昭58−181690号、特開昭5
8−194595号等に記載されているメチン染料、特
開昭58−112793号、特開昭58−224793
号、特開昭59−48187号、特開昭59−7399
6号、特開昭60−52940号、特開昭60−637
44号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭5
8−112792号等に記載されているスクワリリウム
染料、英国特許434,875号記載のシアニン染料や
米国特許第4,756,993号明細書記載の染料、米
国特許第4,973,572号明細書に記載のシアニン
染料および特開平10−268512号記載の染料を挙
げることができる。
Dyes which absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
No. 84356, JP-A-60-78787, U.S. Pat. No. 4,973,572, JP-A-10-26851
No. 2, etc .;
73696, JP-A-58-181690, JP-A-5-181
Methine dyes described in JP-A-8-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793.
JP-A-59-48187, JP-A-59-7399
No. 6, JP-A-60-52940, JP-A-60-637
No. 44, etc .;
Squarylium dyes described in JP-A-8-112792, cyanine dyes described in British Patent 434,875, dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993, and U.S. Pat. No. 4,973,572. And the dyes described in JP-A-10-268512.

【0061】[0061]

【化1】 Embedded image

【0062】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は、置換又は未置換のアルキル基;Z 1及びZ2は置換も
しくは未置換のフェニル基又はナフタレン基;Lは置換
又は未置換のメチン基で、該置換基は、炭素数8以下の
アルキル基、ハロゲン原子又はアミノ基であるか、該メ
チン基がその2つのメチン炭素上の置換基が相互に結合
して形成された置換基を有していても良いシクロヘキセ
ン環またはシクロペンテン環を含むものであってもよ
く、該置換基は炭素数6以下のアルキル基またはハロゲ
ン原子;Xはアニオン基;nは1又は2;そしてR1
2、R3、R4、R5、R6、Z1及びZ2の少なくとも一
つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミン塩
基を有する置換基を示す。)
(Wherein R1, RTwo, RThree, RFour, RFiveAnd R6
Is a substituted or unsubstituted alkyl group; Z 1And ZTwoAlso replace
Or unsubstituted phenyl or naphthalene group; L is substituted
Or an unsubstituted methine group, wherein the substituent has 8 or less carbon atoms
An alkyl group, a halogen atom or an amino group,
The tin group is a substituent on the two methine carbons bonded to each other
Cyclohexene optionally having substituents formed by
Or a ring containing a cyclopentene ring
And the substituent is an alkyl group having 6 or less carbon atoms or halogen.
X is an anionic group; n is 1 or 2;1,
RTwo, RThree, RFour, RFive, R6, Z1And ZTwoAt least one of
One is an acidic group or an alkali metal base or an amine salt of an acidic group
It shows a substituent having a group. )

【0063】[0063]

【化2】 Embedded image

【0064】(式中、R11は置換もしくは未置換のアル
キル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もし
くは未置換のヘテロ環基;R12及びR15は水素原子又は
水素原子の代りに置換できる基:R13及びR14は水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換のアルコキシ基
又は置換もしくは未置換のアルキル基、但しR13及びR
14は同時に水素原子ではない:R16及びR17は置換もし
くは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリー
ル基、アシル基又はスルホニル基、又はR16とR 17で非
金属5員環もしくは6員環の形成を示す。)
(Wherein R11Is a substituted or unsubstituted al
Killed, substituted or unsubstituted aryl or substituted
Or an unsubstituted heterocyclic group; R12And RFifteenIs a hydrogen atom or
A group which can be substituted in place of a hydrogen atom: R13And R14Is hydrogen field
Atom, halogen atom, substituted or unsubstituted alkoxy group
Or a substituted or unsubstituted alkyl group, provided that R13And R
14Are not simultaneously hydrogen atoms: R16And R17Is a replacement
Or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl
Group, acyl group or sulfonyl group, or R16And R 17In non
The formation of a 5- or 6-membered metal ring is shown. )

【0065】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
ht III−178、Epolight III−130、
Epolight III−125等は特に好ましく用い
られる。これらの染料中、特に好ましいものは上記の式
(I)の水溶性のシアニン染料である。下記に具体的な
化合物を列記する。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, Epolig manufactured by Eporin Co.
ht III-178, Epollight III-130,
Epollight III-125 and the like are particularly preferably used. Particularly preferred among these dyes are the water-soluble cyanine dyes of the above formula (I). Specific compounds are listed below.

【0066】[0066]

【化3】 Embedded image

【0067】[0067]

【化4】 Embedded image

【0068】[0068]

【化5】 Embedded image

【0069】[0069]

【化6】 Embedded image

【0070】[0070]

【化7】 Embedded image

【0071】[0071]

【化8】 Embedded image

【0072】[0072]

【化9】 Embedded image

【0073】[0073]

【化10】 Embedded image

【0074】[0074]

【化11】 Embedded image

【0075】次に、光熱変換性の金属微粒子について述
べる。金属粒子の多くは、光熱変換性であってかつ自己
発熱性でもある。好ましい金属微粒子として、Si、A
l、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、
Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、R
h、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの
単体又は合金あるいはそれらの酸化物、硫化物の微粒子
が挙げられる。これらの金属微粒子を構成する金属の中
でも好ましい金属は、光照射によって熱融着し易い融点
がおよそ1000℃以下で赤外、可視又は紫外線領域に
吸収をもつ金属、たとえばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb及びSnである。また、とくに好
ましいのは、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も
比較的高い金属の微粒子、たとえばAg、Au、Cu、
Sb、Ge及びPbで、とくに好ましい元素はAg、A
u及びCuが挙げられる。
Next, the light-heat converting metal fine particles will be described. Many of the metal particles are photothermal and self-heating. Preferred metal fine particles include Si, A
1, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu,
Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, R
Simple particles or alloys of h, In, Sn, W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, or fine particles of oxides and sulfides thereof. Among the metals constituting these fine metal particles, preferred metals are those which have a melting point of about 1000 ° C. or less and easily absorb in the infrared, visible or ultraviolet regions, such as Re, Sb, Te, and Au. , A
g, Cu, Ge, Pb and Sn. Particularly preferred are metal fine particles having a relatively low melting point and a relatively high absorbance to heat rays, such as Ag, Au, Cu, and the like.
Among Sb, Ge and Pb, particularly preferred elements are Ag, A
u and Cu.

【0076】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子
とTi、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自己
発熱性金属の微粒子を混合使用するなど、2種以上の光
熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、P
t、Pdなど微小片としたときに光吸収がとくに大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことは好ましい。以上に述べた金属単体及び合金の微粒
子は、表面を親水性化処理することによって、本発明の
効果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性
でかつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性
剤で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性
基を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水
性高分子皮膜を設けるなどの方法を用いることができ
る。特に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例
えば鉄微粒子の場合は、70℃のケイ酸ナトリウム(3
%)水溶液に30秒浸漬する方法によって表面を十分に
親水性化することができる。他の金属微粒子も同様の方
法で表面シリケート処理を行うことができる。
Further, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb, Sn and other low melting point metal particles and self-heating metal particles such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W, Ge, etc. It may be composed of a substance. Ag, P
It is preferable to use a combination of a metal-type micro-piece and a metal-type micro-piece, which have a particularly large light absorption when used as a micro-piece such as t or Pd. The effects of the present invention are more exerted by subjecting the surfaces of the above-described metal simple substance and alloy fine particles to hydrophilic treatment. Means of surface hydrophilicity is a compound that is hydrophilic and has an adsorptivity to particles, such as a surface treatment with a surfactant, or a surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts with the constituent substances of the particles, A method such as providing a protective colloid hydrophilic polymer film can be used. Particularly preferred is a surface silicate treatment. For example, in the case of iron fine particles, sodium silicate (3
%) The surface can be made sufficiently hydrophilic by immersing it in an aqueous solution for 30 seconds. Other metal fine particles can be subjected to surface silicate treatment in the same manner.

【0077】これらの粒子の粒径は、10μm以下、好
ましくは、0.003〜5μm、さらに好ましくは、
0.01〜3μmである。微小であるほど、熱融着温度
は低下する、つまりヒートモードの光感度が高くなって
好都合であるが、粒子の分散が難しく、10μm以上で
は、印刷物の解像度が悪くなる。本発明において、これ
らの光熱変換材料を用いる場合、その添加量は、感熱層
またはオーバーコート層の全固形分中、1重量%以上で
あり、好ましくは2重量%以上、特に好ましくは5重量
%以上で用いられる。光熱変換材料の含有量が1重量%
未満であると感度が低くなってしまう。
The particle size of these particles is 10 μm or less, preferably 0.003 to 5 μm, and more preferably
0.01 to 3 μm. The finer the particle size, the lower the heat-sealing temperature, that is, the higher the light sensitivity in the heat mode, which is advantageous. In the present invention, when these light-to-heat conversion materials are used, the amount of addition is 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, particularly preferably 5% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer or overcoat layer. Used above. 1% by weight of light-to-heat conversion material
If it is less than this, the sensitivity is lowered.

【0078】〔支持体〕本発明の平版印刷版用原版にお
いて前記感熱層を塗布可能な親水性支持体としては、寸
度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィル
ム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
[Support] In the lithographic printing plate precursor of the present invention, the hydrophilic support to which the heat-sensitive layer can be applied is a dimensionally stable plate-like material such as paper or plastic (for example, Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate) on which polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc. are laminated;
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Preferred supports include a polyester film or an aluminum plate.

【0079】本発明の平版印刷版用原版に使用する支持
体としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れ
たアルミニウム板を使用することが好ましい。この目的
に供されるアルミニウム材質としては、JIS 105
0材、JIS 1100材、JIS 1070材、Al
−Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg系
合金、Al−Zr系合金、Al−Mg−Si系合金など
が挙げられる。
As the support used in the lithographic printing plate precursor of the present invention, it is preferable to use an aluminum plate which is lightweight and has excellent surface treatment properties, workability and corrosion resistance. Aluminum materials used for this purpose include JIS 105
0 material, JIS 1100 material, JIS 1070 material, Al
-Mg-based alloy, Al-Mn-based alloy, Al-Mn-Mg-based alloy, Al-Zr-based alloy, Al-Mg-Si-based alloy and the like.

【0080】支持体に使用し得るアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 (1)JIS 1050材に関しては、下記の技術が開
示されている。特開昭59−153861号、特開昭6
1−51395、特開昭62−146694、特開昭6
0−215725、特開昭60−215726、特開昭
60−215727、特開昭60−215728、特開
昭61−272357、特開昭58−11759、特開
昭58−42493、特開昭58−221254、特開
昭62−148295、特開平4−254545、特開
平4−165041、特公平3−68939、特開平3
−234594、特公平1−47545、特開昭62−
140894号公報など。また、特公平1−3591
0、特公昭55−28874号等も知られている。
Known techniques relating to aluminum materials that can be used for the support are listed below. (1) For JIS 1050 material, the following technology is disclosed. JP-A-59-153861;
1-51395, JP-A-62-146694, JP-A-6-146694
0-215725, JP-A-60-215726, JP-A-60-215727, JP-A-60-215728, JP-A-61-272357, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58 -212254, JP-A-62-148295, JP-A-4-254545, JP-A-4-165541, JP-B-3-68939, JP-A-3-31989
234594, Tokkyo 1-47545, JP-A-62-2
No. 140894. In addition, Tokuhei 1-3591
0, Japanese Patent Publication No. 55-28874 and the like are also known.

【0081】(2)JIS 1070材に関しては、下
記の技術が開示されている。特開平7−81264、特
開平7−305133、特開平8−49034、特開平
8−73974、特開平8−108659、特開平8−
92679号など。
(2) With respect to JIS 1070 material, the following technology is disclosed. JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108657, JP-A-8-108
92679 and the like.

【0082】(3)Al−Mg系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特公昭62−5080、特公
昭63−60823、特公平3−61753、特開昭6
0−203496、特開昭60−203497、特公平
3−11635、特開昭61−274993、特開昭6
2−23794、特開昭63−47347、特開昭63
−47348、特開昭63−47349、特開昭64−
61293、特開昭63−135294、特開昭63−
87288、特公平4−73392、特公平7−100
844、特開昭62−149856、特公平4−733
94、特開昭62−181191、特公平5−7653
0、特開昭63−30294、特公平6−37116号
など。また、特開平2−215599、特開昭61−2
01747号等も知られている。
(3) With respect to Al-Mg based alloys, the following techniques are disclosed. JP-B-62-5080, JP-B-63-60823, JP-B-3-61753, JP-A-6
0-203496, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635, JP-A-61-274993, JP-A-62-14973.
2-32794, JP-A-63-47347, JP-A-63-63
-47348, JP-A-63-47349, JP-A-64-
61293, JP-A-63-135294, JP-A-63-135
87288, JP 4-73392, JP 7-100
844, JP-A-62-149856, JP-B-4-733
94, JP-A-62-181191, Japanese Patent Publication No. 5-7653
0, JP-A-63-30294 and JP-B-6-37116. Further, JP-A-2-215599, JP-A-61-2
No. 01747 is also known.

【0083】(4)Al−Mn系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特開昭60−230951、
特開平1−306288、特開平2−293189号な
ど。また、特公昭54−42284、特公平4−192
90、特公平4−19291、特公平4−19292、
特開昭61−35995、特開昭64−51992、U
S5009722、US5028276、特開平4−2
26394等も知られている。 (5)Al−Mn−Mg系合金に関しては、下記の技術
が開示されている。特開昭62−86143、特開平3
−222796、特公昭63−60824、特開昭60
−63346、特開昭60−63347、EP2237
37、特開平1−283350、US4818300、
BR1222777等が知られている。
(4) With respect to Al-Mn alloys, the following techniques are disclosed. JP-A-60-230951,
JP-A-1-306288 and JP-A-2-293189. In addition, Japanese Patent Publication 54-42284, Japanese Patent Publication 4-192
90, Japanese Patent Publication 4-19291, Japanese Patent Publication 4-19292,
JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, U
S5009722, US5028276, JP-A-4-24-2
26394 and the like are also known. (5) With respect to Al-Mn-Mg based alloys, the following technology is disclosed. JP-A-62-86143, JP-A-Hei 3
-22,796, JP-B-63-60824, JP-A-Showa 60
-63346, JP-A-60-63347, EP2237
37, JP-A-1-283350, US4818300,
BR1222777 and the like are known.

【0084】(6)Al−Zr系合金に関して、下記の
技術が知られている。特公昭63−15978、特開昭
61−51395、特開昭63−143234、特開昭
63−143235等が知られている。 (7)Al−Mg−Si系合金に関しては、BR142
1710等が知られている。
(6) The following techniques are known for Al-Zr alloys. JP-B-63-15978, JP-A-61-51395, JP-A-63-143234, JP-A-63-143235 and the like are known. (7) For the Al-Mg-Si alloy, BR142
1710 and the like are known.

【0085】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Arガス、Clガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルターや、
アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とするフィ
ルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィルタリ
ング、あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合わせ
た処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中の、
非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯にとけ
込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されることが
望ましい。
The following contents can be used as a method for producing an aluminum plate for a support. The aluminum alloy melt having the above-mentioned content components and alloy component ratios is subjected to a cleaning treatment and cast according to a conventional method. For the cleaning process,
In order to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing treatment using Ar gas, Cl gas, etc., so-called rigid media filters such as ceramic tube filters and ceramic foam filters,
Filtering using a filter material such as alumina flakes or alumina balls, filtering using a glass cloth filter or the like, or processing combining degassing and filtering is performed. These cleaning processes are performed in the molten metal.
It is desirable that the method be implemented in order to prevent defects due to foreign matter such as nonmetallic inclusions and oxides and defects due to gas dissolved in the molten metal.

【0086】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
6−57342、特開平3−162530、特開平5−
140659、特開平4−231425、特開平4−2
76031、特開平5−311261、特開平6−13
6466等が知られている。溶湯の脱ガスに関しては、
特開平5−51659、特開平5−51660、実開平
5−49148、特開平7−40017号などが知られ
ている。以上のように、清浄化処理を施された溶湯を使
って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に
代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代
表される、駆動鋳型を用いる方法がある。DC鋳造法を
用いた場合、冷却速度は、1〜300℃/秒の範囲で凝
固される。1℃/秒未満であると、粗大な金属間化合物
が多数形成される。
With respect to the filtering of molten metal, JP-A-6-57342, JP-A-3-162530, and JP-A-5-
140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-2
76031, JP-A-5-311261, JP-A-6-13
6466 and the like are known. Regarding degassing of molten metal,
JP-A-5-51659, JP-A-5-51660, JP-A-5-49148, and JP-A-7-40017 are known. As described above, casting is performed using the molten metal subjected to the cleaning treatment. Regarding the casting method, there are a method using a fixed mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method. When the DC casting method is used, the solidification is performed at a cooling rate of 1 to 300 ° C./sec. When the temperature is less than 1 ° C./sec, a large number of coarse intermetallic compounds are formed.

【0087】連続鋳造法には、ハンター法、3C法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、100〜1000℃/
秒の範囲で凝固される。一般的に、DC鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴がある。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平3−7
9798、特開平5−201166、特開平5−156
414、特開平6−262203、特開平6−1229
49、特開平6−210406、特開平6−26230
8等が開示されている。
The continuous casting method includes a method using a cooling roll, represented by the Hunter method and the 3C method, a Hadley method, a method using a cooling belt represented by the Al Swiss Caster II type, and a method using a cooling block. It is being done. The cooling rate when using the continuous casting method is 100 to 1000 ° C. /
Coagulated in seconds. Generally, since the cooling rate is higher than that of the DC casting method, there is a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. Regarding the continuous casting method, the inventors of the present invention disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-7 / 1990.
9798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156
414, JP-A-6-262203, JP-A-6-1229
49, JP-A-6-210406, JP-A-6-26230
8 etc. are disclosed.

【0088】DC鋳造を行った場合、板厚300〜80
0mmの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の1〜30mm、望ましくは、1〜
10mmを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理が行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、450〜620℃で1
時間以上、48時間以下の熱処理が施される。1時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、350〜500
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280℃〜6
00℃で2〜20時間、望ましくは、350〜500℃
で2〜10時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて4
00〜600℃で360秒以下、望ましくは、450〜
550℃で120秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、10℃/秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。
When DC casting is performed, the thickness is 300 to 80.
A 0 mm ingot can be manufactured. The ingot, according to the usual method,
Facing is performed and the surface layer is 1 to 30 mm, preferably 1 to 30 mm.
10 mm is cut. Thereafter, a soaking process is performed as necessary. In the case of performing the soaking treatment, 1 to 450 ° C. to 620 ° C. is used to prevent the intermetallic compound from becoming coarse.
The heat treatment is performed for at least 48 hours. When the time is shorter than 1 hour, the effect of the soaking treatment becomes insufficient. Next, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. The starting temperature of hot rolling is 350 to 500
It is in the range of ° C. Intermediate annealing treatment may be performed before, after, or during the cold rolling. The intermediate annealing conditions in this case are set to 280 ° C. to 6 ° C. using a batch annealing furnace.
00 ° C for 2 to 20 hours, desirably 350 to 500 ° C
Heating for 2 to 10 hours or using a continuous annealing furnace for 4 hours.
360 seconds or less at 00 to 600 ° C., desirably 450 to
Heat treatment at 550 ° C. for 120 seconds or less can be employed. Heating at a rate of 10 ° C./sec or higher using a continuous annealing furnace can also make the crystal structure fine.

【0089】以上の工程によって、所定の厚さ0.1〜
0.5mmに仕上げられたAl板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。
By the above steps, a predetermined thickness of 0.1 to 0.1
The flatness of the Al plate finished to 0.5 mm may be improved by a straightening device such as a roller leveler or a tension leveler in order to improve the flatness. The flatness may be improved after the plate is cut into a sheet, but it is desirable to improve the flatness in a continuous coil state in order to improve productivity. Further, in order to process the board width to a predetermined width, a slitter line is usually passed. The end face of the plate cut by the slitter has one or both of a shear surface and a fracture surface when cut by a slitter blade.

【0090】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±10μm以内、望ましくは±6μm以内が良い。
また、幅方向の板厚差は6μm以内、望ましくは3μm
以内がよい。また、板幅の精度は、±1.0mm以内、
望ましくは±0.5mm以内が望ましい。Al板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ(Ra)で、Ra=0.1〜
1.0μm程度に仕上げるのがよい。Raが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感熱層塗布をし
たとき、Alのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感熱層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ra=0.1μm以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。
The accuracy of the thickness of the plate is preferably within ± 10 μm, preferably within ± 6 μm over the entire length of the coil.
The thickness difference in the width direction is within 6 μm, preferably 3 μm.
Within is good. Also, the accuracy of the board width is within ± 1.0mm,
Preferably, it is within ± 0.5 mm. The surface roughness of the Al plate is easily affected by the surface roughness of the rolling roll,
Finally, the center line surface roughness (Ra) is Ra = 0.1 to
It is preferable to finish to about 1.0 μm. If Ra is too large, the original roughness of Al, that is, the rough rolling streaks transferred by the rolling rolls can be seen from above the heat-sensitive layer when the surface-roughening treatment for a lithographic printing plate and the heat-sensitive layer are applied. Is not preferable in appearance. Roughness of Ra = 0.1 μm or less is industrially undesirable because the surface of the rolling roll needs to be finished to an excessively low roughness.

【0091】また、Al板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Al板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は3mg/m2以上で100mg/m2以下、望
ましい上限は50mg/m2以下、更に望ましくは10
mg/m2以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平6
−210308号等が開示されている。
Further, a thin oil film may be formed on the surface of the Al plate in order to prevent generation of scratches due to friction between the Al plates. Oil slicks may be volatile,
A non-volatile one is appropriately used. If there is too much oil,
A slip failure occurs in the production line, but if there is no oil amount, a defect occurs during transportation of the coil. Therefore, the oil amount is 3 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, and a desirable upper limit is 50 mg / m 2. m 2 or less, more preferably 10
mg / m 2 or less is good. Regarding cold rolling,
No. -210308 is disclosed.

【0092】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚1〜10mmの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て0.1〜0.5mmの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平6−2205
93、特開平6−210308、特開平7−5411
1、特開平8−92709等が開示されている。
In the case of performing continuous casting, for example, using a cooling roll such as a Hunter method can directly and continuously cast and roll a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm, and has an advantage that the hot rolling step can be omitted. In addition, when a cooling roll such as the Hasley method is used, a cast plate having a plate thickness of 10 to 50 mm can be cast,
In general, a hot-rolled roll is arranged immediately after casting and continuously rolled to obtain a continuously cast rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm. These continuous cast rolled sheets are finished to a thickness of 0.1 to 0.5 mm through the steps of cold rolling, intermediate annealing, improvement of flatness, slits, etc., as described in the case of DC casting. Can be Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition when the continuous casting method is used, refer to JP-A-6-2205.
93, JP-A-6-210308, JP-A-7-5541
1, JP-A-8-92709 and the like are disclosed.

【0093】上記方法で製造したAl板は表面に粗面化
処理等の表面処理を行い、感熱層を塗布して平版印刷版
用原版とすることができる。粗面化処理には、機械的粗
面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み
合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保す
るための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すための
処理を行うことも好ましい。
The Al plate produced by the above method can be subjected to a surface treatment such as a surface roughening treatment, and a heat-sensitive layer can be applied to obtain a lithographic printing plate precursor. In the surface roughening treatment, mechanical surface roughening, chemical surface roughening, and electrochemical surface roughening are performed alone or in combination. Further, it is also preferable to perform an anodic oxidation treatment for securing the surface with difficulty in scratching or a treatment for increasing the hydrophilicity.

【0094】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が
行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。
The surface treatment of the support will be described below. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, for example, a surfactant to remove rolling oil on the surface,
A degreasing treatment with an organic solvent or an alkaline aqueous solution may be performed. In the case of alkali, treatment such as neutralization and removal of smut may be performed with an acidic solution.

【0095】次いで支持体と感熱層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材/水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第896,563号公報、特開昭5
3−67507号公報、特開昭54−146234号公
報及び特公昭48−28123号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭53−1232
04号公報、特開昭54−63902号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭56−55261号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the heat-sensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment is performed to roughen the surface of the support. Specific means of the graining method include sand blast, ball grain, wire grain, brush grain using a nylon brush and an abrasive / water slurry,
There is a mechanical graining method using a honing grain or the like in which an abrasive / water slurry is sprayed onto the surface at a high pressure, and a chemical graining method in which the surface is roughened with an etching agent composed of an alkali, an acid, or a mixture thereof. . In addition, British Patent No. 896,563,
JP-A-3-67507, JP-A-54-146234 and JP-B-48-28123 describe the method of electrochemical graining, or JP-A-53-1232.
No. 04, JP-A-54-63902 and a combination of the mechanical graining method and the electrochemical graining method described in JP-A-56-55261. A method is also known in which a graining method is combined with a chemical graining method using a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid. Also, a method of bonding the granular material to the support material with an adhesive or a method having the effect thereof to roughen the surface, or a continuous band or roll having fine unevenness is pressed against the support material to remove the unevenness. A rough surface may be formed by transferring.

【0096】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ
水溶液の具体例としては、例えばフッ酸、フッ化ジルコ
ン酸、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの
アルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカ
リ水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用
することができる。化学的処理はこれらの酸またはアル
カリの0.05〜40重量%水溶液を用い、40℃〜1
00℃の液温において5〜300秒処理するのが一般的
である。
A plurality of such surface roughening methods may be performed in combination, and the order, the number of repetitions, and the like can be arbitrarily selected. When a plurality of surface roughening treatments are combined, a chemical treatment with an acid or alkali aqueous solution can be performed during that time to make the subsequent surface roughening treatment uniform. Specific examples of the above-mentioned acid or alkali aqueous solution include, for example, acids such as hydrofluoric acid, fluorinated zirconic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, and alkali aqueous solutions such as sodium hydroxide, sodium silicate, and sodium carbonate. . These acid or alkali aqueous solutions can be used alone or in combination of two or more. The chemical treatment uses a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis,
In general, the treatment is performed at a liquid temperature of 00 ° C. for 5 to 300 seconds.

【0097】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭4
8−28123号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭53−12739号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。本発明
に用いられるアルミニウム支持体の場合には、前述のよ
うな前処理を施した後、通常、耐摩耗性、耐薬品性、保
水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸
化皮膜を形成させる。
Since a smut is formed on the surface of the support obtained by the above-described roughening treatment, ie, graining treatment, a treatment such as washing with water or alkali etching is appropriately performed to remove the smut. Is generally preferred. Examples of such processing include, for example,
Examples thereof include a treatment method such as an alkali etching method described in JP-A-8-28123 and a desmutting sulfate method described in JP-A-53-12739. In the case of the aluminum support used in the present invention, after performing the pretreatment as described above, usually, in order to improve abrasion resistance, chemical resistance, and water retention, an oxide film is formed on the support by anodic oxidation. Is formed.

【0098】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質
により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的に
は電解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸
化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film.
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Since the treatment conditions of anodization vary depending on the electrolyte used, it cannot be specified unconditionally, but generally, the concentration of the electrolyte is a 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C.,
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt" is likely to occur.

【0099】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化
皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ水
溶液(例えば数%の苛性ソーダ水溶液)や、熔融塩中で
の陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用い
た無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理なども
行うことができる。陽極酸化処理を行う前に、特開平4
−148991号や特開平4−97896号に記載され
ている水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭
63−56497号や特開昭63−67295号に記載
されている金属ケイ酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜
生成処理や、特開昭56−144195号に記載されて
いる化成皮膜生成処理などを行うこともできる。
[0099] Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of the lithographic printing plate, the back around the electric lines of force, on the back surface of 0.01 to 3 g / m 2 anode Generally, an oxide film is formed. Further, an anodic oxidation treatment in an alkaline aqueous solution (for example, a caustic soda aqueous solution of several%) or a molten salt, or an anodic oxidation treatment for forming a non-porous anodic oxide film using, for example, an ammonium borate aqueous solution can be performed. . Before performing anodizing treatment,
A hydrated oxide film described in JP-A-148991 or JP-A-4-97896 may be formed. An acid salt solution, a hydrated oxide film forming treatment, a chemical conversion film forming treatment described in JP-A-56-144195, and the like can also be performed.

【0100】本発明の平版印刷版用原版に用いられるア
ルミニウム支持体は、陽極酸化処理後に有機酸もしくは
その塩による処理、または該有機酸もしくはその塩を感
熱層塗布の下塗り層として用いることができる。有機酸
またはその塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン
酸、有機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好
ましくは有機カルボン酸またはその塩である。有機カル
ボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラ
ウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノ
カルボン酸類;オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪
族モノカルボン酸類;シュウ酸、コハク酸、アジピン
酸、マレイン酸等の脂肪族ジカルボン酸類;乳酸、グル
コン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボ
ン酸類;安息香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸
等の芳香族カルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VI
bおよびVIII族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げら
れる。上記有機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、
酢酸、酪酸、プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、
コハク酸および安息香酸の上記金属塩およびアンモニウ
ム塩である。これらの化合物は単独でも2種以上組み合
わせて用いてもよい。
The aluminum support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be treated with an organic acid or a salt thereof after anodizing treatment, or the organic acid or a salt thereof can be used as an undercoat layer applied to a heat-sensitive layer. . Examples of the organic acid or a salt thereof include an organic carboxylic acid, an organic phosphonic acid, an organic sulfonic acid or a salt thereof, and preferably an organic carboxylic acid or a salt thereof. Examples of the organic carboxylic acids include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, lauric acid, palmitic acid and stearic acid; unsaturated aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid and linoleic acid; oxalic acid, succinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, and maleic acid; oxycarboxylic acids such as lactic acid, gluconic acid, malic acid, tartaric acid, and citric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, mandelic acid, salicylic acid, and phthalic acid; , IIb, IIIb, IVa, VI
Group b and VIII metal salts and ammonium salts. Preferred among the organic carboxylate salts are formic acid,
Acetic acid, butyric acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid,
The above-mentioned metal salts and ammonium salts of succinic acid and benzoic acid. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0101】これらの化合物は水、アルコールに0.0
01〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度
となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては
25〜95℃、好ましくは50〜95℃の温度範囲、p
Hは1〜13、好ましくは2〜10分、10秒〜20
分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬するか、処
理液を支持体に塗布する。
These compounds are used in water and alcohol in 0.0
It is preferably dissolved in a concentration of from 0.01 to 10% by weight, particularly from 0.01 to 1.0% by weight. The processing conditions include a temperature range of 25 to 95 ° C, preferably 50 to 95 ° C.
H is 1 to 13, preferably 2 to 10 minutes, 10 seconds to 20
The support is immersed in the support for 10 minutes, preferably 10 seconds to 3 minutes, or the treatment liquid is applied to the support.

【0102】また、さらに陽極酸化処理後、以下のよう
な化合物溶液による処理や、これらの化合物を、感熱層
塗布の下塗り層として用いることができる。好適に用い
られる化合物としては、例えば、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β
−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリプトフ
ァン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシ
エチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸;スルフ
ァミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のアミノス
ルホン酸;1−アミノメチルホスホン酸、1−ジメチル
アミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホン
酸、2−アミノプロピルホスホン酸、4−アミノフェニ
ルホスホン酸、1−アミノエタン−1,1−ジホスホン
酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホス
ホン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホスホ
ン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホスホン
酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のア
ミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。
Further, after the anodic oxidation treatment, treatment with the following compound solution or these compounds can be used as an undercoat layer applied to the heat-sensitive layer. Suitable compounds include, for example, optionally substituted phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, organic phosphonic acids such as methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, substituted Phenyl phosphate, naphthyl phosphate, which may have a group,
Organic phosphoric acids such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, organic phosphinic acids such as optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, glycine, β
-Amino acids such as alanine, valine, serine, threonine, aspartic acid, glutamic acid, arginine, lysine, tryptophan, parahydroxyphenylglycine, dihydroxyethylglycine, and anthranilic acid; aminosulfonic acids such as sulfamic acid and cyclohexylsulfamic acid; 1-amino acid Methylphosphonic acid, 1-dimethylaminoethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, 2-aminopropylphosphonic acid, 4-aminophenylphosphonic acid, 1-aminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-amino-1-phenyl Aminophosphonic acids such as methane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminobutane-1,1-diphosphonic acid, and ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid; Compounds, and the like.

【0103】また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸(メ
タンスルホン酸等)またはシュウ酸と、アルカリ金属、
アンモニア、低級アルカノールアミン(トリエタノール
アミン等)、低級アルキルアミン(トリエチルアミン
等)等との塩も好適に使用することができる。
Further, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfonic acid (such as methanesulfonic acid) or oxalic acid, an alkali metal,
Salts with ammonia, lower alkanolamines (such as triethanolamine), lower alkylamines (such as triethylamine) and the like can also be suitably used.

【0104】ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよび
その鉱酸塩、ポリ(メタ)アクリル酸およびその金属
塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、(メ
タ)アクリル酸アルキルエステルと2−アクリルアミド
−2−メチル−1−プロパンスルホン酸およびその金属
塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリ
マーおよびその(メタ)アクリル酸とのコポリマー、ポ
リビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用す
ることができる。さらに可溶性デンプン、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセル
ロース、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソー
ダ、ゼラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に
使用することができる。これらの化合物は単独でも2種
以上を組み合わせて用いてもよい。
Polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethyleneimine and its mineral salts, poly (meth) acrylic acid and its metal salts, polystyrenesulfonic acid and its metal salts, alkyl (meth) acrylate and 2-acrylamide Water-soluble polymers such as 2-methyl-1-propanesulfonic acid and metal salts thereof, polymers of trialkylammonium methylstyrene styrene and copolymers thereof with (meth) acrylic acid, and polyvinylphosphonic acid can also be suitably used. it can. Further, soluble starch, carboxymethylcellulose, dextrin, hydroxyethylcellulose, gum arabic, guar gum, sodium alginate, gelatin, glucose, sorbitol and the like can also be suitably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0105】処理の場合、これらの化合物は水かつ/ま
たはメチルアルコールに0.001〜10重量%、特に
0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解されるの
が好ましく、処理条件としては25〜95℃、好ましく
は50〜95℃の温度範囲、pHは1〜13、好ましく
は2〜10、10秒〜20分、好ましくは10秒〜3分
間支持体を浸漬する。
In the case of treatment, these compounds are preferably dissolved in water and / or methyl alcohol at a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. The temperature is in the range of 25 to 95 ° C., preferably 50 to 95 ° C., and the pH is 1 to 13, preferably 2 to 10, 10 seconds to 20 minutes, and preferably 10 seconds to 3 minutes.

【0106】感熱層塗布の下塗り層として用いる場合
は、同様に水かつ/またはメチルアルコールに0.00
1〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度と
なるように溶解され、必要に応じて、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、平版印刷
版用原版の調子再現性改良のために黄色系染料を添加す
ることもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜
200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100
mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2未満であ
ると汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られな
い。また、200mg/m2を越えると耐刷力が低下す
る。
When used as an undercoat layer for coating the heat-sensitive layer, water and / or methyl alcohol are similarly used.
It is dissolved so as to have a concentration of 1 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight, and if necessary, a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide or the like, hydrochloric acid, phosphoric acid or the like. Adjust the pH with an acidic substance,
It can also be used in the range of ~ 12. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg / m 2.
mg / m 2 . If the above-mentioned coating amount is less than 2 mg / m 2 , a sufficient effect for the original purpose such as prevention of stain cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 200 mg / m 2 , the printing durability will decrease.

【0107】なお支持体と感熱層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感熱層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、
5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100%、好ましく
は60〜100%である。
An intermediate layer for improving the adhesion between the support and the heat-sensitive layer may be provided. To improve adhesion,
Generally, the intermediate layer is made of a diazo resin or a phosphoric acid compound adsorbed on aluminum, for example. The thickness of the intermediate layer is arbitrary and must be such a thickness that a uniform bond-forming reaction with the upper thermosensitive layer can be performed when exposed. Normal,
The dry solid has a good coating ratio of about 1 to 100 mg / m 2 ,
5-40 mg / m 2 are particularly good. The usage ratio of the diazo resin in the intermediate layer is 30 to 100%, preferably 60 to 100%.

【0108】以上のような処理及び下塗り層付与の前
に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあ
と、現像液や湿し水への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感熱
層成分の残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮
膜の親水性向上、感熱層との密着性向上等を目的に、以
下のような処理を行うことができる。そのひとつとして
は、陽極酸化皮膜をアルカリ金属のケイ酸塩水溶液と接
触させて処理するシリケート処理が挙げられる。この場
合、アルカリ金属ケイ酸塩の濃度は0.1〜30重量
%、好ましくは0.5〜15重量%であり、25℃での
pHが10〜13.5である水溶液に5〜80℃、好ま
しくは10〜70℃、より好ましくは15〜50℃で
0.5〜120秒間接触させる。接触させる方法は、浸
せきでもスプレーによる吹き付けでも、いかなる方法に
よってもかまわない。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液はp
Hが10より低いと液はゲル化し、13.5より高いと
陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。
Before the above treatment and the application of the undercoat layer, the support subjected to the anodic oxidation treatment is washed with water, and then the dissolution of the anodic oxide film in a developing solution or dampening solution is suppressed, and the components of the heat-sensitive layer are removed. The following treatments can be performed for the purpose of suppressing residual film, improving the strength of the anodic oxide film, improving the hydrophilicity of the anodic oxide film, improving the adhesion to the heat-sensitive layer, and the like. One of them is a silicate treatment in which an anodized film is brought into contact with an aqueous solution of an alkali metal silicate for treatment. In this case, the concentration of the alkali metal silicate is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C is 10 to 13.5. , Preferably 10 to 70 ° C, more preferably 15 to 50 ° C for 0.5 to 120 seconds. The contacting method may be any method such as dipping or spraying. The alkali metal silicate aqueous solution is p
When H is lower than 10, the liquid gels, and when H is higher than 13.5, the anodic oxide film is dissolved.

【0109】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のp
H調整に使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。な
お、上記処理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVb
族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩として
は、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネ
シウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸
塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水
溶性塩が挙げられる。第IVb族金属塩としては、四塩化
チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ
酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化
酸化ジルコニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属
もしくは第IVb族金属塩は単独または2種以上組み合わ
せて使用する事ができる。これらの金属塩の好ましい範
囲は、0.01〜10重量%であり、更に好ましくは
0.05〜5.0重量%である。
The alkali metal silicate used in the present invention includes sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like. P of aqueous alkali metal silicate solution
Hydroxides used for H adjustment include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. The above-mentioned processing solution contains an alkaline earth metal salt or IVb.
A group metal salt may be blended. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate and borate. Is mentioned. Examples of Group IVb metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, and the like. The alkaline earth metal or Group IVb metal salt can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.05 to 5.0% by weight.

【0110】他には、各種封孔処理も挙げられ、一般的
に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水
蒸気封孔、沸騰水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸
塩/重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂
含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ
土類塩などによる)などを用いる事ができるが、印刷版
用支持体としての性能(感熱層との密着性や親水性)、
高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が
比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平4
−176690号公報にも開示されている加圧または常
圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70%以
上・蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極酸化
皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理
法としては、支持体を80〜100℃程度の熱水または
アルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、
これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬また
は吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例として
は、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VI
a、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム
塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属
塩としては、例えばLiO2、NaNO2、KNO2、M
g(NO22、Ca(NO22、Zn(NO32、Al
(NO23、Zr(NO24、Sn(NO23、Cr
(NO23、Co(NO22、Mn(NO22、Ni
(NO22等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が
好ましい。亜硝酸塩は2種以併用することもできる。
In addition, various sealing treatments can also be mentioned. Steam sealing, boiling water (hot water) sealing, and metal salt sealing (generally known as methods for sealing an anodic oxide film) are also available. Chromate / dichromate seal, nickel acetate seal, etc.), oil impregnated seal, synthetic resin seal, low temperature seal (by red blood salt or alkaline earth salt, etc.) can be used. , Performance as a support for a printing plate (adhesion with a heat-sensitive layer and hydrophilicity),
From the viewpoints of high-speed processing, low cost, and low pollution, steam sealing is relatively preferred. As the method, for example,
No. 176690 discloses a method for continuously or discontinuously applying pressurized or normal pressure steam to a anodic oxide film at a relative humidity of 70% or more and a steam temperature of 95 ° C. or more for about 2 to 180 seconds. And the like. As another sealing treatment method, a method of immersing or spraying the support in hot water or an aqueous alkali solution at about 80 to 100 ° C.,
Alternatively or subsequently, it can be dipped or sprayed with a nitrous acid solution. Examples of nitrites include Ia, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VIa of the periodic table.
a, VIIa, and VIII metal nitrites or ammonium salts, ie, ammonium nitrite, such as LiO 2 , NaNO 2 , KNO 2 , M
g (NO 2 ) 2 , Ca (NO 2 ) 2 , Zn (NO 3 ) 2 , Al
(NO 2 ) 3 , Zr (NO 2 ) 4 , Sn (NO 2 ) 3 , Cr
(NO 2 ) 3 , Co (NO 2 ) 2 , Mn (NO 2 ) 2 , Ni
(NO 2 ) 2 and the like are preferable, and alkali metal nitrite is particularly preferable. Two or more nitrites can be used in combination.

【0111】処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金
属の種類により異なるので一義的には決定できないが、
例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般
的には0.001〜10重量%、より好ましくは0.0
1〜2重量%、浴温度は一般的には室温から約100℃
前後、より好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的
には15〜300秒、より好ましくは10〜180秒の
それぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のp
Hは8.0〜11.0に調製されていることが好まし
く、8.5〜9.5に調製されていることが特に好まし
い。亜硝酸水溶液のpHを上記の範囲に調製するには、
例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することが
できる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが
例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以
外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いること
ができる。
The processing conditions vary depending on the state of the support and the type of alkali metal, and cannot be uniquely determined.
For example, when sodium nitrite is used, the concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight.
1-2% by weight, bath temperature generally from room temperature to about 100 ° C
Before and after, more preferably at 60 to 90 ° C., and the treatment time may be generally selected from the respective ranges of 15 to 300 seconds, more preferably 10 to 180 seconds. Nitrous acid aqueous solution
H is preferably adjusted to 8.0 to 11.0, and particularly preferably adjusted to 8.5 to 9.5. To adjust the pH of the nitrous acid aqueous solution to the above range,
For example, it can be suitably prepared using an alkaline buffer or the like. Examples of the alkaline buffer include, but are not limited to, a mixed aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, and a mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide. Mixed aqueous solution,
A mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, and the like can be suitably used. Further, as the alkaline buffer, an alkali metal salt other than sodium, for example, a potassium salt can be used.

【0112】以上のような、シリケート処理または封孔
処理を施したあと、感熱層との密着性をアップさせるた
めに特開平5−278362号公報に開示されている酸
性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平4−
282637号公報や特開平7−314937号公報に
開示されている有機層を設けてもよい。
After the silicate treatment or the sealing treatment as described above, the acidic aqueous solution treatment and the hydrophilic undercoat disclosed in JP-A-5-278362 are applied to improve the adhesion to the heat-sensitive layer. And Japanese Patent Application Laid-Open
An organic layer disclosed in JP-A-282637 or JP-A-7-314937 may be provided.

【0113】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合
物および特開平6−35174号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC
254、Si(OC374、Si(OC494など
のケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それ
から得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れてお
り特に好ましい。
After the above-mentioned treatment or undercoating is applied to the surface of the support, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. It is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC 4 H 9) is easily available and inexpensive alkoxy compounds of silicon such as 4, the coating layer of the obtained therefrom metal oxide in developing solution Excellent and particularly preferred.

【0114】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと感熱層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難く、著しく検版性が悪いものとなってしまう。
The preferred characteristics of the lithographic printing plate support are 0.10 to 1.2 μm in center line average roughness. When the thickness is less than 0.10 μm, the adhesion to the heat-sensitive layer decreases,
Significant reduction in printing durability occurs. If it is larger than 1.2 μm, the stain on printing will be deteriorated. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.5 as a reflection density value.
65, and when it is whiter than 0.15, the halation at the time of image exposure is too strong and hinders image formation.
If it is less than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection work after development, and the plate inspection is extremely poor.

【0115】なお、本発明の平版印刷版用原版は、その
支持体として、粗面化処理を行なった後陽極酸化処理を
行なったアルミニウム基板を用いることにより、より良
好な機上現像性を得ることができる。その場合、さらに
シリケート処理を行なったアルミニウム基板を用いるこ
とが、より好ましい。
In the lithographic printing plate precursor of the present invention, better on-press developability can be obtained by using, as a support, an aluminum substrate which has been subjected to a surface roughening treatment and then subjected to an anodic oxidation treatment. be able to. In that case, it is more preferable to use an aluminum substrate further subjected to a silicate treatment.

【0116】本印刷版はアルミニウム基板上に水に不溶
な親水性層あるいはレーザー露光により発熱しかつ水に
不溶な親水性である層、あるいはアルミニウム基板上に
断熱性を持たせるために有機ポリマーよりなる断熱層を
設けたうえに、水に不溶な親水性層あるいはレーザー露
光により発熱しかつ水に不溶な親水性である層を設けて
もよい。例えば、アルミニウム基板上にシリカ微粒子と
親水性樹脂の親水性層を設けてよい。さらにこの親水性
層内に先に挙げた光熱変換材料を導入し、発熱性親水性
層としてもよい。このようにすることでアルミニウム基
板に熱が逃げ難くなるのみか、レーザー露光により発熱
する親水性基板として用いることができる。更にこの親
水性層とアルミニウム基板の間に有機ポリマーからなる
中間層を設けると、より一層熱がアルミ基板に逃げるこ
とを抑制することができる。支持体としては、機上現像
性の観点から、多孔質でないものが良く、また親水性有
機高分子材料を40%以上含むような水により膨潤する
ような支持体はインクが払われ難く問題となってしま
う。
The printing plate is made of a hydrophilic layer insoluble in water on an aluminum substrate, a hydrophilic layer which generates heat by laser exposure and is insoluble in water, or an organic polymer for imparting heat insulation to the aluminum substrate. In addition to the heat insulating layer, a hydrophilic layer insoluble in water or a hydrophilic layer that generates heat by laser exposure and is insoluble in water may be provided. For example, a hydrophilic layer of silica fine particles and a hydrophilic resin may be provided on an aluminum substrate. Further, the above-mentioned photothermal conversion material may be introduced into the hydrophilic layer to form a heat-generating hydrophilic layer. This makes it difficult for heat to escape to the aluminum substrate, or it can be used as a hydrophilic substrate that generates heat by laser exposure. Further, when an intermediate layer made of an organic polymer is provided between the hydrophilic layer and the aluminum substrate, the escape of heat to the aluminum substrate can be further suppressed. The support is preferably non-porous from the viewpoint of on-press developability, and a support which swells with water containing 40% or more of a hydrophilic organic polymer material is difficult to be dispensed with ink. turn into.

【0117】本発明に使用される親水層は3次元架橋し
ており、水及び/又はインキを使用する平版印刷で、浸
し水に溶けない層であり、下記のコロイドからなること
が望ましい。ベリリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモン又は遷移金属の
酸化物又は水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイド
である。場合によってはこれらの元素の複合体からなる
コロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の
元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に
未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これら
が混在した構造となっている。活性なアルコキシ基や水
酸基が多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行する
につれ粒子径は大きくなり不活性になる。コロイドの粒
子は一般的には2nmから500nmで、シリカの場合
5nmから100nmの球形のものが本発明では好適で
ある。アルミニウムのコロイドのように100×10n
mのような羽毛状のものも有効である。更には、10n
mから50nmの球状粒子が50nmから400nmの
長さに連なったパールネック状のコロイドも用いること
ができる。
The hydrophilic layer used in the present invention is three-dimensionally crosslinked, is a lithographic printing using water and / or ink, and is a layer that is insoluble in soaking water, and is preferably made of the following colloids. It is a colloid comprising a sol-gel conversion system of an oxide or hydroxide of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony or a transition metal. In some cases, a colloid composed of a complex of these elements may be used. These colloids have a structure in which the above elements form a network structure via an oxygen atom and also have an unbonded hydroxyl group or alkoxy group, and these are mixed. From the initial hydrolysis-condensation stage, which is rich in active alkoxy groups and hydroxyl groups, the particle size increases and becomes inactive as the reaction proceeds. Colloidal particles are generally 2 nm to 500 nm, and in the case of silica, spherical particles having a diameter of 5 nm to 100 nm are suitable in the present invention. 100 × 10n like aluminum colloid
A feather-like material such as m is also effective. Furthermore, 10n
A pearl neck-shaped colloid in which spherical particles of m to 50 nm are connected in a length of 50 to 400 nm can also be used.

【0118】コロイドはそのもの単独で用いてもよく、
更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能であ
る。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤
を添加しても良い。通常、コロイドは安定剤によって安
定化されている場合が多い。カチオンに荷電しているコ
ロイドではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに
荷電しているコロイドではカチオン基を有する化合物が
安定剤として添加されている。たとえば、ケイ素のコロ
イドではアニオンに荷電しているので、安定剤としてア
ミン系の化合物が添加され、アルミニウムのコロイドで
はカチオンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が
添加されている。この様なコロイドを基板上に塗布する
と、常温で透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイ
ドの溶媒が蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤
を除去できる温度に加熱することによって、強固な3次
架橋を行い、本発明に好ましい親水層となる。
The colloid may be used alone,
Furthermore, it is also possible to mix and use with a hydrophilic resin. Further, a colloidal crosslinking agent may be added to promote crosslinking. Usually, colloids are often stabilized by stabilizers. For a colloid charged with a cation, a compound having an anionic group is added as a stabilizer, and conversely, for a colloid charged with an anion, a compound having a cationic group is added as a stabilizer. For example, a silicon colloid is charged with an anion, so an amine compound is added as a stabilizer, and an aluminum colloid is charged with a cation, so a strong acid such as hydrochloric acid or acetic acid is added. When such a colloid is applied on a substrate, a transparent film is often formed at room temperature.However, gelation is incomplete only by evaporation of the colloid solvent, and by heating to a temperature at which the stabilizer can be removed, By performing strong tertiary cross-linking, it becomes a hydrophilic layer preferable in the present invention.

【0119】上記のような安定化剤を用いずに、出発物
質(例えば、ジ、トリ及び/又はテトラアルコキシシラ
ン)から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾル状
態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反応を
完了させても良い。この場合、安定化剤を含む場合より
も低温で三次元架橋させることができる。
Without using the above-mentioned stabilizer, a hydrolysis and condensation reaction is directly carried out from a starting material (for example, di, tri and / or tetraalkoxy silane) to form an appropriate sol state and directly onto a substrate. The reaction may be completed by coating and drying. In this case, three-dimensional crosslinking can be performed at a lower temperature than when a stabilizer is included.

【0120】この他、適当な加水分解縮合反応物を有機
溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適であ
る。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得ら
れる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルーエテルやメ
チルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、
常温での乾燥が可能となる。とくに本発明では、メタノ
ールやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易
であり有用である。
In addition, a colloid prepared by dispersing and stabilizing an appropriate hydrolysis-condensation reaction product in an organic solvent is also suitable for the present invention. Just by evaporating the solvent, a three-dimensionally crosslinked film is obtained. If these solvents are low boiling solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and methyl ethyl ketone,
Drying at room temperature becomes possible. In particular, in the present invention, the colloid of a methanol or ethanol solvent is easily cured at a low temperature and is useful.

【0121】上記のコロイドと共に用いる親水性樹脂と
しては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチ
ル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を
有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、ア
ラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボ
キシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースア
セテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイ
ン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー
類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル
酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、
ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール
類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアル
コール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量
%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビ
ニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホ
モポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポ
リマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドの
ホモポリマー及びコポリマー、2−アクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸あるいはその塩のホモポリ
マー及びコポリマー等を挙げることができる。
As the hydrophilic resin used together with the above colloid, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl and carboxymethyl are preferable. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers,
Hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and a degree of hydrolysis of at least 60% by weight; Preferably at least 80% by weight of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, 2-acrylamide- 2
And homopolymers and copolymers of methylpropanesulfonic acid or a salt thereof.

【0122】特に好ましい親水性樹脂は水溶性でない水
酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレートのホモポリマー及びコポリマーとヒドロキ
シエチルアクリレートのコポリマーである。これらの親
水性樹脂はコロイドと共に用いられるが、その添加割合
は親水性樹脂が水溶性の場合、親水層の全固形分の40
重量%以下が好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合
は全固形分の20重量%以下が好ましい。
Particularly preferred hydrophilic resins are non-water soluble hydroxyl group-containing polymers, specifically, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers and hydroxyethyl acrylate copolymers. These hydrophilic resins are used together with a colloid, and the addition ratio thereof is 40% of the total solid content of the hydrophilic layer when the hydrophilic resin is water-soluble.
% By weight or less, and in the case of a hydrophilic resin that is not water-soluble, preferably 20% by weight or less of the total solid content.

【0123】これらの親水性樹脂はそのまま用いること
もできるが、印刷時の耐刷力を増加さる目的で、コロイ
ド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。この様
な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グ
リオキザール、ポリイソシアネート及びテトラアルコキ
シシランの初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素や
ヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。本発
明の親水層には上記の酸化物又は水酸化物のコロイドと
親水性樹脂以外に、コロイドの架橋を促進する架橋剤を
添加してもよい。その様な架橋剤としてはテトラアルコ
キシシランの初期加水分解縮合物、トリアルコキシシリ
ルプロピル−N,N,N−トリアルキルアンモニウムハ
ライドあるいはアミノプロピルトリアルコキシシランが
好ましい。その添加割合は親水層の全固形分の5重量%
以下であることが好ましい。
These hydrophilic resins can be used as they are, but a crosslinking agent for a hydrophilic resin other than colloid may be added for the purpose of increasing the printing durability during printing. Examples of such a crosslinking agent for a hydrophilic resin include initial hydrolysis and condensation products of formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate and tetraalkoxysilane, dimethylol urea and hexamethylol melamine. In addition to the above-mentioned colloid of the oxide or hydroxide and the hydrophilic resin, a crosslinking agent which promotes the crosslinking of the colloid may be added to the hydrophilic layer of the present invention. As such a crosslinking agent, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide or aminopropyltrialkoxysilane is preferable. The addition ratio is 5% by weight of the total solids in the hydrophilic layer.
The following is preferred.

【0124】更に本発明の親水層には、感熱感度を高め
るために親水性の光熱変換材料を添加してもよい。特に
好ましい光熱変換材料は水溶性の赤外線吸収染料で、前
記の式(I)のスルホン酸基やスルフォン酸のアルカリ
金属塩基あるいはアミン塩基を有するシアニン染料であ
る。これらの染料の添加割合は親水層の全量に対し、1
重量%〜20重量%で、更に好ましくは5重量%〜15
重量%である。
Further, a hydrophilic photothermal conversion material may be added to the hydrophilic layer of the present invention in order to enhance the heat sensitivity. A particularly preferred photothermal conversion material is a water-soluble infrared absorbing dye, and is a cyanine dye having a sulfonic acid group or an alkali metal base of sulfonic acid or an amine base of the formula (I). The addition ratio of these dyes is 1 to the total amount of the hydrophilic layer.
% To 20% by weight, more preferably 5% to 15% by weight.
% By weight.

【0125】本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚み
は0.1μmから10μmであることが好ましい。より
好ましくは、0.5μmから5μmである。薄すぎる
と、親水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。ま
た厚すぎると、解像度が低下する。以後、有機ポリマー
よりなる中間層について述べる。中間層に用いることの
できる有機ポリマーはポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、クレゾール樹脂、レゾール樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ビニル樹脂など通常使用さ
れる有機ポリマーであれば問題なく使用することができ
る。これらは0.1g/m2〜5.0g/m2の塗布量で
あることが好ましい。0.1g/m2以下だと断熱効果
が小さく、5.0g/m2より大きいと非画像部の耐刷
性が劣化する。
The coating thickness of the three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer of the present invention is preferably from 0.1 μm to 10 μm. More preferably, it is 0.5 μm to 5 μm. If it is too thin, the durability of the hydrophilic layer will be poor, and the printing durability during printing will be poor. On the other hand, if the thickness is too large, the resolution is reduced. Hereinafter, the intermediate layer made of an organic polymer will be described. Organic polymers that can be used for the intermediate layer include polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, cresol resins, resole resins,
Any commonly used organic polymer such as polyvinyl acetal resin and vinyl resin can be used without any problem. It is preferred that these are the coating weight of 0.1g / m 2 ~5.0g / m 2 . If it is 0.1 g / m 2 or less, the heat insulating effect is small, and if it is more than 5.0 g / m 2 , the printing durability of the non-image portion is deteriorated.

【0126】本発明の平版印刷版用原版は高出力のレー
ザー露光により、画像形成することができるが、サーマ
ルヘッドのような書込み機を用いてもよい。特に本発明
では赤外または近赤外領域で発光するレーザーを用いる
ことが好ましい。特に近赤外領域で発光するレーザーダ
イオードが特に好ましい。また、紫外線ランプによる記
録も可能であるが、本発明においては、波長760nm
から1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半
導体レーザにより画像露光されることが好ましい。レー
ザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮
するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが
好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以
内であることが好ましい。記録材料に照射されるエネル
ギーは10〜300mJ/cm2であることが好まし
い。
The lithographic printing plate precursor of the present invention can form an image by high-power laser exposure, but a writer such as a thermal head may be used. In particular, in the present invention, it is preferable to use a laser that emits light in the infrared or near-infrared region. In particular, a laser diode that emits light in the near infrared region is particularly preferable. Further, recording with an ultraviolet lamp is also possible, but in the present invention, the wavelength is 760 nm.
It is preferable to perform image exposure using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays of from 1200 to 1200 nm. The output of the laser is preferably 100 mW or more, and in order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. Further, the exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is preferably from 10 to 300 mJ / cm 2 .

【0127】このようにして露光されたプレートは処理
することなく、印刷機のシリンダーに取り付けられる。
このようにして取り付けられたプレートは以下のような
手順で印刷することができる。 (1)印刷版に湿し水を供給し、機上で現像した後に更
にインクを供給して印刷を開始する方法、(2)印刷版
に湿し水およびインクを供給し、機上で現像した後に印
刷を開始する方法、(3)インクを版に供給し、湿し水
を供給すると同時に紙を供給し印刷を開始する方法など
がある。またこれらのプレートは特許第2938398
号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取り
付けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水及び/またはインクをつけて機上現
像することも可能であり、好ましくは水又は水溶液によ
って現像可能な、あるいは現像することなしにそのまま
印刷機に装着し印刷することが可能なものである。
The plate thus exposed is mounted without processing on a cylinder of a printing press.
The plate thus attached can be printed by the following procedure. (1) A method in which dampening water is supplied to the printing plate and development is performed on the machine, and then ink is further supplied to start printing. (2) A dampening solution and ink are supplied to the printing plate and developed on the machine. And (3) supplying ink to the plate and supplying dampening water, and at the same time supplying paper and starting printing. These plates are disclosed in Japanese Patent No. 2938398.
As described in the above item, after being mounted on the printing press cylinder, it is also possible to expose by a laser mounted on the printing press and then apply on-press development with dampening water and / or ink. Preferably, it can be developed with water or an aqueous solution, or can be directly mounted on a printing machine without being developed for printing.

【0128】[0128]

〔実施例1〜6、比較例1〜3〕[Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 3]

〔支持体の作製〕 (アルミニウム基板の作製)厚み0.24mmのアルミ
ニウム板(材質JISA1050)を、ナイロンブラシ
と400メッシュのパミストン水懸濁液を用いてその表
面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を15重量
%水酸化ナトリウム水溶液に浸してエッチングをした
後、水洗した。さらに1重量%硝酸で中和し、次に0.
7重量%硝酸水溶液中で矩形波交番波形電流を用い、1
60クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。水洗後、10重量%水酸化ナトリウム水溶液
中に浸してエッチングした後、水洗した。次に30重量
%硫酸水溶液中に浸してデスマットした後、水洗した。
さらに、20重量%硫酸水溶液中で直流電流を用いて陽
極酸化処理を行い、酸化皮膜量3.0g/m2とし、次
いで水洗、乾燥した。
[Preparation of Support] (Preparation of Aluminum Substrate) An aluminum plate (material: JISA1050) having a thickness of 0.24 mm is grained with a nylon brush and a 400 mesh pumice water suspension, and thoroughly washed with water. did. The plate was immersed in a 15% by weight aqueous solution of sodium hydroxide for etching, and then washed with water. Further neutralize with 1% by weight nitric acid, then add 0.
Using a square wave alternating current in a 7% by weight nitric acid aqueous solution,
The electrolytic surface roughening treatment was carried out at an anode charge of 60 coulombs / dm 2 . After washing with water, the film was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide for etching, and then washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight sulfuric acid aqueous solution to be desmutted and then washed with water.
Further, an anodic oxidation treatment was performed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution using a direct current to adjust the oxide film amount to 3.0 g / m 2, and then washed with water and dried.

【0129】〔感熱層の形成〕 (熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカ
プセル(1)の調製)油相成分として、キシレンジイソ
シアネート40g、トリメチロールプロパンジアクリレ
ート10g、アリルメタクリレートとブチルメタクリレ
ートの共重合体(モル比7/3)10g、パイオニンA
41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶
解した。水相成分として、PVA205(クラレ製)の
4%水溶液を120g作製した。油相成分および水相成
分をホモジナイサーを用いて10000rpmで乳化し
た。その後、水を40g添加し、室温で30分、さらに
40℃で3時間撹拌した。このようにして得られたマイ
クロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径
は0.5μmであった。
[Formation of heat-sensitive layer] (Preparation of microcapsule (1) encapsulating a compound having a heat-reactive functional group) As oil phase components, 40 g of xylene diisocyanate, 10 g of trimethylolpropane diacrylate, allyl methacrylate and butyl methacrylate 10 g of a copolymer (molar ratio 7/3) of pionin A
0.1 g of 41C (manufactured by Takemoto Yushi) was dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content of 20% and an average particle size of 0.5 μm.

【0130】 (感熱層(1)塗布液) 調製したマイクロカプセル(1) 固形分換算で5g トリメチロールプロパントリアクリレート 1g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.3g 水 60g 1−メトキシ−2−プロパノール 40g(Coating Solution of Thermosensitive Layer (1)) Prepared microcapsules (1) 5 g in terms of solid content Trimethylolpropane triacrylate 1 g 0.3 g of infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.3 g Water 60 g 40 g of 1-methoxy-2-propanol

【0131】感熱層の形成は、上記感熱層塗布液を用
い、乾燥塗布量が1.0g/m2になるように塗布、乾
燥(オーブンで80℃60秒間)した。
The heat-sensitive layer was formed by using the above-mentioned heat-sensitive layer coating solution so as to have a dry coating amount of 1.0 g / m 2 and dried (at 80 ° C. for 60 seconds in an oven).

【0132】〔オーバーコート層の形成〕次いで、感熱
層(1)上に、下記組成のオーバーコート層塗布液(O
C−1、実施例1)、(OC−2、実施例2)、(OC
−3、実施例3)、(OC−4、実施例4)、(OC−
5、実施例5)、(OC−6、実施例6)、(OC−
7、実施例7)、(OC−8、比較例1)を塗布し、8
0℃で2分間乾燥して、乾燥塗布重量約1.0g/m2
のオーバーコート層を有する平版印刷版用原版を作製し
た。また、オーバーコート層の無い平版印刷版用原版も
作製し、比較例2とした。
[Formation of Overcoat Layer] Next, on the heat-sensitive layer (1), an overcoat layer coating solution (O
C-1, Example 1), (OC-2, Example 2), (OC
-3, Example 3), (OC-4, Example 4), (OC-
5, Example 5), (OC-6, Example 6), (OC-
7, Example 7), (OC-8, Comparative Example 1) was applied, and
After drying at 0 ° C. for 2 minutes, the dry coating weight is about 1.0 g / m 2.
A lithographic printing plate precursor having an overcoat layer was prepared. In addition, a lithographic printing plate precursor without an overcoat layer was prepared, and Comparative Example 2 was used.

【0133】 (オーバーコート層塗布液OC−1) アラビアガム 2.2g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g フッ素系界面汚牲剤サーフロンS−141(加硝子製) 0.04g 水 42g(Overcoat Layer Coating Solution OC-1) Arabic Gum 2.2 g Polyoxyethylene Nonylphenyl Ether 0.04 g Fluorosurfactant Surflon S-141 (manufactured by Kayasu Glass) 0.04 g Water 42 g

【0134】 (オーバーコート層塗布液OC−2) アラビアガム 2.2g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g ポリエーテル変性シリコーンオイルX−22−812 (信越シリコーン製) 0.04g 水 42g(Coating solution OC-2 for overcoat layer) Arabic gum 2.2 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Polyether-modified silicone oil X-22-812 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) 0.04 g Water 42 g

【0135】 (オーバーコート層塗布液OC−3) アラビアガム 2.2g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.4g フッ素系界面活性剤サーフロンS−141(旭硝子製) 0.04g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g 水 42g(Overcoat Layer Coating Solution OC-3) Arabic gum 2.2 g Infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.4 g Fluorosurfactant Surflon S-141 (manufactured by Asahi Glass) 0 0.04 g Polyoxyethylene nonyl phenyl ether 0.04 g Water 42 g

【0136】 (オーバーコート層塗布液OC−4) アラビアガム 2.2g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g ポリエーテル変性シリコーンオイルX−22−812 (信越シリコーン製) 0.04g 水 42g(Overcoat Layer Coating Solution OC-4) Gum Arabic 2.2 g Infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.4 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Polyether-modified silicone oil X-22-812 (Shin-Etsu Silicone) 0.04 g Water 42 g

【0137】 (オーバーコート層塗布液OC−5) アラビアガム 2.2g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g ポリエーテル変性シリコーンオイルX−22−812 (信越シリコーン製) 0.002g 水 42g(Coating solution OC-5 for overcoat layer) Arabic gum 2.2 g Infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.4 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Polyether-modified silicone oil X-22-812 (made by Shin-Etsu Silicone) 0.002 g water 42 g

【0138】 (オーバーコート層塗布液OC−6) ポリアクリル酸 2.2g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g ポリエーテル変性シリコーンオイルX−22−812 (信越シリコーン製) 0.04g 水 42g(Overcoat Layer Coating Solution OC-6) Polyacrylic acid 2.2 g Infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.4 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Polyether-modified silicone Oil X-22-812 (Shin-Etsu Silicone) 0.04 g Water 42 g

【0139】 (オーバーコート層塗布液OC−7) アラビアガム 2.2g 本明細書記載の赤外線吸収水溶性染料(I−32) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g ポリエーテル変性シリコーンオイルX−22−812 (信越シリコーン製) 0.18g 水 42g(Coating solution OC-7 for overcoat layer) Arabic gum 2.2 g Infrared absorbing water-soluble dye (I-32) described in this specification 0.4 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Polyether-modified silicone oil X-22-812 (made by Shin-Etsu Silicone) 0.18 g water 42 g

【0140】 (オーバーコート層塗布液OC−8) アラビアガム 2.2g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g 水 42g(Overcoat Layer Coating Solution OC-8) Arabic Gum 2.2 g Polyoxyethylene Nonylphenyl Ether 0.04 g Water 42 g

【0141】このようにして得られた平版印刷版用原版
を、35℃75%の温湿度で3日間、3000枚積み重
ね保存した際の表面と裏面のくっつき具合を官能評価し
た。また、表面の動摩擦係数は、前記のように、標準A
STMD1894に従った測定法により測定した。この
平版印刷版用原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザ
を搭載したクレオ社製トレンドセッター3244VFS
にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面
エネルギー150mJ/cm2、解像度2400dpi
の条件で露光した後、処理することなく、ハイデルベル
グ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取付け、湿し水
を供給した後、すぐにインキを供給し、同時に紙を供給
して印刷を行い、その際の非面像部が汚れなくなるまで
の紙の枚数を調べた(損紙枚数として表1に示す)。傷
汚れ発生率は平版印刷版用原版をアルミニウム片で10
0個所擦り印刷した時の汚れの発生率を調べた。
The lithographic printing plate precursor thus obtained was subjected to sensory evaluation on the degree of sticking of the front and back surfaces when 3000 sheets were stacked and stored at 35 ° C. and 75% temperature and humidity for 3 days. The coefficient of kinetic friction of the surface is, as described above, a standard A
It was measured by a measuring method according to STMD1894. This lithographic printing plate precursor was converted to a Creo Trendsetter 3244 VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
, Output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 150 mJ / cm 2 , resolution 2400 dpi
After exposure under the conditions of the above, without processing, attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg Co., and after supplying fountain solution, immediately supply ink, and simultaneously supply paper to perform printing, At that time, the number of sheets until the non-surface image portion was not stained was examined (shown in Table 1 as the number of damaged sheets). The scratch and dirt generation rate was 10 pieces of aluminum plate for the lithographic printing plate precursor.
The occurrence rate of dirt when rubbing printing was performed at 0 places was examined.

【0142】[0142]

【表1】 [Table 1]

【0143】表1の結果から明らかなように、本発明の
実施例1〜7の平版印刷版用原版はオーバーコート層に
適量のフッ素原子あるいは珪素原子含有化合物(離型
剤)を添加することにより、動摩擦係数が規定値(2.
5以下)の範囲にあれば、プレート間のくっつきおよび
傷汚れは発生せず、特に実施例1〜6の平版印刷版用原
版は損紙枚数も少なく満足すべき結果を得たが、比較例
1、2の平版印刷版用原版(動摩擦係数が2.5以上)
はプレート間のくっつきおよび傷汚れが不満足な結果で
あった。
As is clear from the results shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 7 of the present invention were prepared by adding an appropriate amount of a compound containing a fluorine atom or a silicon atom (release agent) to the overcoat layer. , The dynamic friction coefficient becomes a specified value (2.
5 or less), there is no sticking between the plates and no scratches and stains are generated. In particular, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 6 have satisfactory results with a small number of waste sheets. 1 and 2 planographic printing plate precursors (dynamic friction coefficient is 2.5 or more)
Was an unsatisfactory result of sticking between the plates and fouling.

【0144】〔実施例7〜12、比較例4〜6〕 (親水性Agコロイドの調製方法)クエン酸ナトリウム
水溶液(32質量%)560mlを撹拌しながら、硫酸第
一鉄水溶液(30質量%)100mlを添加した。均一に
混合した後、激しく撹拌しながら、硝酸銀水溶液(10
質量%)100mlを30秒以内に添加終了するように添
加した。約10分後に撹拌を停止した。出来上がったA
gコロイド中の不要な塩類を除去するために、限外濾過
装置で水洗(超濾過)を施した。限外濾過装置は米国A
micon社製のCH2PRS型を用い、フィルターは
SIY30(カットオフ分子量30,000)を用い
た。水洗は、電導度が約50μS/cmになるまで行っ
た。水洗後、Ag濃度が6質量%になるように調整し
た。Agコロイドの平均粒子サイズは18nmであっ
た。
[Examples 7 to 12, Comparative Examples 4 to 6] (Method of preparing hydrophilic Ag colloid) While stirring 560 ml of an aqueous sodium citrate solution (32% by mass), an aqueous solution of ferrous sulfate (30% by mass) was stirred. 100 ml were added. After the mixture is mixed uniformly, the silver nitrate aqueous solution (10
% By mass) was added so that the addition was completed within 30 seconds. After about 10 minutes, stirring was stopped. Finished A
g In order to remove unnecessary salts in the colloid, the colloid was washed with water (ultrafiltration) using an ultrafiltration apparatus. Ultrafiltration equipment is US A
The CH2PRS type manufactured by Micon was used, and SIY30 (cutoff molecular weight 30,000) was used as a filter. Rinsing was performed until the conductivity reached about 50 μS / cm. After washing with water, the Ag concentration was adjusted to 6% by mass. The average particle size of the Ag colloid was 18 nm.

【0145】(感熱層の形成)下記組成からなる水系塗
布液をペイントシェーカーで10分間分散して調製し、
前記アルミニウム支持体上にバーコーターにて、乾燥膜
質量が3.0g/m2になるように塗布を行い、次いで
オーブンにて80℃10分間乾燥した。
(Formation of heat-sensitive layer) An aqueous coating solution having the following composition was prepared by dispersing with a paint shaker for 10 minutes.
The aluminum support was coated with a bar coater so that the dry film mass became 3.0 g / m 2 , and then dried in an oven at 80 ° C. for 10 minutes.

【0146】 (感熱層(2)塗布液組成) 酸化チタン粉末(和光純薬(株)製、ルチル型、平均粒子径0.2μm) 20g PVA117(クラレ(株)製)5%水溶液 70g コロイダルシリカ分散物20%水溶液 60g 調製した銀コロイド水溶液(6質量%) 150g ゾルゲル調製液 28g 合成したマイクロカプセル(1)(固形分9.5%) 115g 水 20g(Composition of Thermal Sensitive Layer (2) Coating Solution) Titanium oxide powder (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., rutile type, average particle size: 0.2 μm) 20 g PVA117 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% aqueous solution 70 g colloidal silica Dispersion 20% aqueous solution 60 g Prepared aqueous silver colloid solution (6% by mass) 150 g Sol-gel preparation solution 28 g Synthesized microcapsule (1) (solid content 9.5%) 115 g Water 20 g

【0147】ここに使用したゾルゲル調製液は、下記の
組成をもつ。
The sol-gel preparation used here has the following composition.

【0148】 (ゾルゲル調製液:室温、2時間熟成) テトラエトキシシラン 15.0g エタノール 30.0g 0.1モル/リットル硝酸 4.5g(Sol-gel preparation liquid: room temperature, aged for 2 hours) Tetraethoxysilane 15.0 g Ethanol 30.0 g 0.1 mol / L nitric acid 4.5 g

【0149】(オーバーコート層の形成)次いで、上記
感熱層(2)上に、上記組成のオーバーコート層塗布液
(OC−1、実施例8)、(OC−2、実施例9)、
(OC−3、実施例10)、(OC−4、実施例1
1)、(OC−5、実施例12)、(OC−6、実施例
13)、(OC−7、実施例14)、(OC−8、比較
例3)を塗布し、80℃で2分間乾燥して、乾燥塗布重
量約1.0g/m2のオーバーコート層を有する感熱性
の平版印刷用原版を作製した。またオーバーコート層の
無い平版印刷版用原版を作製し、比較例4とした。
(Formation of Overcoat Layer) Next, the overcoat layer coating solution (OC-1, Example 8), (OC-2, Example 9),
(OC-3, Example 10), (OC-4, Example 1)
1), (OC-5, Example 12), (OC-6, Example 13), (OC-7, Example 14), (OC-8, Comparative Example 3) After drying for 1 minute, a heat-sensitive lithographic printing plate precursor having an overcoat layer having a dry coating weight of about 1.0 g / m 2 was prepared. Also, a lithographic printing plate precursor without an overcoat layer was prepared, and Comparative Example 4 was made.

【0150】このようにして得られた平版印刷版用原版
を、35℃75%の温湿度で3日間、3000枚積み重
ね保存した際の表面と裏面のくっつき具合を官能評価し
た。同時に、表面の動摩擦係数は、前記のように、標準
ASTMD1894に従った測定法により測定した。ま
たレーザービームの走査型露光装置としてPEARLs
etter74(Presstek社製)を用いて版面
エネルギー200mJ/cm2、解像度2400dpi
の条件で露光し、露光部表面に熱融着した画像領域が形
成された。印刷機にRYOBI−3200MCDを用
い、湿し水にEU−3(富士写真フイルム(株)製)の
1容量%水溶液を用い、インキはGEOS(N)墨を用
いた。はじめに、湿し水で10回転ロールアップ(なら
し運転)を行い、次いでインクを供給して印刷を行なっ
た。その際の非画像部が汚れなくなるまでの紙の枚数を
調べた(損紙枚数として表2に示す)。傷汚れ発生率は
平版印刷版用原版をアルミニウム片で100個所擦り印
刷した時の汚れの発生率を調べた。
The lithographic printing plate precursors thus obtained were subjected to sensory evaluation for the degree of sticking of the front and back surfaces when 3000 sheets were stacked and stored at 35 ° C. and 75% temperature and humidity for 3 days. At the same time, the coefficient of kinetic friction of the surface was measured by a measuring method according to standard ASTM D1894, as described above. PEARLs is used as a laser beam scanning exposure system.
plate energy: 200 mJ / cm 2 , resolution: 2400 dpi using ETER74 (manufactured by Presstek)
Exposure was performed under the conditions described above, and an image area thermally fused to the exposed portion surface was formed. RYOBI-3200MCD was used as a printing machine, a 1% by volume aqueous solution of EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a dampening solution, and GEOS (N) black was used as an ink. First, roll-up (run-in operation) was performed 10 times with dampening water, and then ink was supplied to perform printing. At that time, the number of sheets until the non-image portion was not stained was examined (shown in Table 2 as the number of damaged sheets). The occurrence rate of scratches and stains was determined by examining the occurrence rate of stains when rubbing and printing 100 parts of the lithographic printing plate precursor with aluminum pieces.

【0151】[0151]

【表2】 [Table 2]

【0152】表2の結果から明らかなように、本発明の
実施例8〜14の平版印刷版用原版はオーバーコート層
に適量のフッ素原子あるいは珪素原子含有化合物(離型
剤)を添加することにより、動摩擦係数が規定値(2.
5以下)の範囲にあれば、プレート間のくっつきおよび
傷汚れは発生せず、特に実施例8〜13の平版印刷版用
原版は損紙枚数も少なく満足すべき結果を得たが、比較
例3、4の平版印刷版用原版(動摩擦係数が2.5以
上)はプレート間のくっつきおよび傷汚れが不満足な結
果であった。
As is clear from the results in Table 2, the lithographic printing plate precursors of Examples 8 to 14 of the present invention were prepared by adding an appropriate amount of a compound containing a fluorine atom or a silicon atom (release agent) to the overcoat layer. , The dynamic friction coefficient becomes a specified value (2.
5 or less), there is no sticking between the plates and no scratches and stains are generated. In particular, the lithographic printing plate precursors of Examples 8 to 13 have satisfactory results with a small number of waste sheets, but comparative examples. The lithographic printing plate precursors of Nos. 3 and 4 (having a coefficient of kinetic friction of 2.5 or more) were unsatisfactory in sticking between plates and flaws and stains.

【0153】[0153]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版は、支持体上
の感熱層中に、熱反応性基を有する化合物を内包するマ
イクロカプセルと、親水性高分子バインダーとを含有さ
せ、該感熱層上に水溶性高分子化合物からなるオーバー
コート層を設け、形成したオーバーコート層の表面の後
述する動摩擦係数が2.5以下であることを満足させる
ことにより、良好な機上現像性を示しながら、ヒートモ
ード露光等により加熱された画像部の皮膜強度が向上
し、耐刷性に優れたものになる。さらに、水溶性高分子
化合物に起因する長期保存時の平版印刷版用原版間のく
っつきを防止することが可能となった。
According to the lithographic printing plate precursor of the present invention, the heat-sensitive layer on the support contains microcapsules containing a compound having a heat-reactive group and a hydrophilic polymer binder. By providing an overcoat layer made of a water-soluble polymer compound on the layer and satisfying that the dynamic friction coefficient described below of the surface of the formed overcoat layer is 2.5 or less, it shows good on-press developability. However, the film strength of the image area heated by heat mode exposure or the like is improved, and the printing durability is excellent. Furthermore, it has become possible to prevent sticking between planographic printing plate precursors during long-term storage caused by the water-soluble polymer compound.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 CC17 DA03 DA05 DA10 FA10 2H096 AA06 BA06 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 AA27 DA23 DA25 DA27 DA28 DA38 DA46 DA50 DA51 DA52 DA74 EA02 EA03 EA10 FA06 FA14 FA16  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 CC17 DA03 DA05 DA10 FA10 2H096 AA06 BA06 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 AA27 DA23 DA25 DA27 DA28 DA52 DA46 DA50 DA50 EA10 FA06 FA14 FA16

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、熱により反応する官能基を
有する化合物を含有しているマイクロカプセルを含む感
熱層と、該感熱層の上に水溶性オーバーコート層とを有
し、かつ、1つの面が他の面上を滑るときの動摩擦係数
が2.5以下であることを特徴とする平版印刷版用原
版。
1. A heat-sensitive layer containing a microcapsule containing a compound having a functional group that reacts by heat on a support, and a water-soluble overcoat layer on the heat-sensitive layer; A lithographic printing plate precursor characterized in that a coefficient of dynamic friction when one surface slides on another surface is 2.5 or less.
【請求項2】 前記水溶性オーバーコート層に光熱変換
材料を含有することを特徴とする請求項1記載の平版印
刷版用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the water-soluble overcoat layer contains a light-to-heat conversion material.
【請求項3】 前記水溶性オーバーコート層にフッ素原
子およびケイ素原子のうちの少なくともいずれかを有す
る化合物を含有することを特徴とする請求項1または2
記載の平版印刷版用原版。
3. The water-soluble overcoat layer contains a compound having at least one of a fluorine atom and a silicon atom.
The lithographic printing plate precursor described.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1354720A2 (en) 2002-04-15 2003-10-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP2005329708A (en) * 2004-03-19 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of lithographic plate
JP2007055224A (en) * 2005-01-26 2007-03-08 Fujifilm Corp Lithographic printing original plate, lithographic printing method and package of lithographic printing original plate precursors

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