JP2008188995A - Plate making method of lithographic printing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate which forms images with heat, shows good on-press developing nature, and can obtain more printed matters. <P>SOLUTION: The original plate for a lithographic printing plate is characterized by keeping a hydrophilic support overlaid with a thermal layer consisting of a microcapsule whose exterior wall is torn by heat used for image formation and containing a compound having a functional group capable of reacting by the heat with a photothermal conversion material contained in a thermal layer or its adjoining layer, wherein the hydrophilic support desirably is an aluminum substrate which is sujected to anodization processing after subjected to roughening processing, and the aluminum substrate is desirably performed with silicate processing further. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は親水性表面を有する支持体、及び親水性の画像形成層からなるネガ型の平版印刷版用原版に関する。より詳しくは、ディジタル信号に基づいた走査露光による製版が可能であり、高感度且つ高耐刷性で残色、汚れのない印刷物を与えることが可能な平版印刷版用原版に関する。   The present invention relates to a negative lithographic printing plate precursor comprising a support having a hydrophilic surface and a hydrophilic image forming layer. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of making a plate by scanning exposure based on a digital signal, and capable of giving a printed material with high sensitivity and high printing durability and free from residual color and stains.

親水性の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原版としては、従来、親水性支持体上に、親油性の感光性樹脂層(インク受容層)を設けたPS版が広く用いられ、その平版印刷版用原版からの平版印刷版の製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液によって溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。   It consists of a hydrophilic non-image part. As such a lithographic printing plate precursor, conventionally, a PS plate in which an oleophilic photosensitive resin layer (ink receiving layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. From the lithographic printing plate precursor, As a method for making a lithographic printing plate, a desired printing plate is usually obtained by performing mask exposure via a lithographic film and then dissolving and removing the non-image area with a developer.

近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及してきており、この様な、ディジタル化技術に対応した、新しい画像出力方式が種々実用される様になってきた。これに伴い、レーザ光の様な指向性の高い活性放射線をディジタル化された画像情報に応じて走査し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ プレート(CTP)技術が切望されており、これに適応した印刷版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。   In recent years, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology have been put into practical use. It has become. Along with this, computer-to-plate (CTP) technology that scans a highly directional active radiation such as laser light according to digitized image information and directly produces a printing plate without using a lith film is anxious. Therefore, it is an important technical problem to obtain a printing plate precursor adapted to this.

他方、従来のPS版に於ける製版行程は、露光の後、非画像部を溶解除去する工程が不可欠であり、この様な付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来技術に対し、改善の望まれてきたもう一つの課題である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。処理の簡素化、乾式化、無処理化は、この様な環境面と、先述のディジタル化に伴った工程の合理化の両方の観点から、従来にも増して、強く望まれるようになっている。   On the other hand, in the plate making process in the conventional PS plate, the step of dissolving and removing the non-image portion after the exposure is indispensable, and such additional wet processing is indispensable in the prior art. On the other hand, it is another issue that has been desired to be improved. Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry. From the viewpoint of both the environmental aspects and the rationalization of the process accompanying the digitization described above, the simplification, the dry process, and the non-treatment of the process are strongly desired more than before. .

この様な観点から、従来の処理工程をなくす方法の一つとして次のような方法が提案されている。即ち、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷過程のなかで行えるような感光層を用い、現像工程を行うことなく、露光後、印刷機上で現像し最終的な印刷版を得る方式である。この様な方法での平版印刷版の製版方式は機上現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば、湿し水やインク溶剤に可溶な感光層の使用、印刷機中の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行う方法等が挙げられる。しかしながら、従来のPS版を機上現像方式の印刷版に応用する場合、原版は露光後も、感光層が定着されないため、例えば、印刷機に装着するまでの間、版を完全に遮光及び/もしくは恒温条件にて保存しなければならないといった大きな問題点があった。   From this point of view, the following method has been proposed as one of the methods for eliminating the conventional processing steps. That is, using a photosensitive layer that can remove the non-image portion of the printing plate precursor in a normal printing process, without performing a development process, after exposure, the image is developed on a printing machine and the final printing plate is prepared. It is a method to obtain. A lithographic printing plate making method in this way is called an on-press development method. Specific methods include, for example, the use of a photosensitive layer soluble in dampening water or an ink solvent, and a method of performing mechanical removal by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press. However, when a conventional PS plate is applied to an on-press development printing plate, the photosensitive layer is not fixed after exposure of the original plate. For example, the plate is completely shielded from light and / or until it is mounted on the printing press. Or there was a big problem that it must be stored under constant temperature conditions.

上述のような技術課題に対し、走査露光による印刷版の製造法として、最近、半導体レーザ、YAGレーザ等の固体レーザで高出力なものが安価に入手できるようになってきたことから、特に、これらのレーザを用いる方法が有望視されるようになってきた。これらの高出力レーザを用いた高パワー密度露光系では、従来の低〜中パワー密度露光用感光材料系に利用される光反応とは異なった、様々な現象を利用できる。具体的には、化学変化の他、相変化、形態変化、等の構造変化を利用できる。通常、このような高パワー密度露光による記録方式はヒートモード記録と呼ばれる。高パワー密度露光系では、多くの場合、感材に吸収された光エネルギーは、熱に変換され、生じた熱によって、所望の現象が引き起こされると信じられる為である。   For the technical problems as described above, as a method for producing a printing plate by scanning exposure, a solid laser such as a semiconductor laser or a YAG laser has recently become available at low cost. A method using these lasers has been considered promising. In the high power density exposure system using these high output lasers, various phenomena different from the photoreaction used in the conventional photosensitive material system for low to medium power density exposure can be used. Specifically, in addition to chemical changes, structural changes such as phase changes and morphological changes can be used. Usually, such a recording method using high power density exposure is called heat mode recording. This is because, in a high power density exposure system, in many cases, light energy absorbed by a light-sensitive material is converted into heat, and it is believed that a desired phenomenon is caused by the generated heat.

この様なヒートモード記録方式の大きな長所は露光後の像の定着が必須ではないことにある。即ち、ヒートモード感材の画像記録に利用される現象は、普通の強度の光に対する暴露や、普通の環境温度下では実質的に生じないため、露光後の画像の定着は必須ではない。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若しくは可溶化する感光層を用い、画像露光後、任意の時間、たとえ環境光に暴露させてから現像(非画像部の除去)を行っても得られる画像に変化が生じないシステムが可能である。従って、ヒートモード記録によれば、先述の機上現像方式に望ましい平版印刷版用原版を得ることも可能となる。   The great advantage of such a heat mode recording method is that it is not essential to fix the image after exposure. That is, since the phenomenon used for image recording of the heat mode light-sensitive material does not substantially occur under exposure to light of ordinary intensity or under ordinary environmental temperature, fixing of the image after exposure is not essential. Therefore, for example, a photosensitive layer that is insolubilized or solubilized by heat mode exposure is used, and after image exposure, an image can be obtained even after exposure to ambient light and development (removal of non-image areas). A system that does not change is possible. Therefore, according to the heat mode recording, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor desirable for the above-described on-press development method.

ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好ましい製造法の一つとして、親水性の支持体上に親水性の画像形成層を設け、画像状にヒートモード露光し、親水性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現像により未露光部を除去する方法が提案されている。また、従来のヒートモード方式原版には、非画像部の汚れ性が悪い、若しくは画像部の強度が弱いという別の大きな問題があった。即ち、画像形成層中の支持体近傍での露光による溶解性変化が、画像形成層表面近傍に比較して小さいという点の改良が必要であった。該ヒートモード方式原版においては、ヒートモード露光時の熱の発生は記録層中の光吸収剤の光吸収に基くものであるため、熱の発生量は記録層表面で大きく、支持体近傍では小さいため、支持体近傍での記録層の溶解性変化の程度が比較的小さくなってしまうものである。結果としてしばしば、ヒートモードネガ型原版においては、本来疎水性のインク受容層を提供すべき露光部において、インク受容性層が現像及び/又は印刷工程中に除去されることがあった。この様な、ネガ型原版における画像部インク受容性層の除去は、印刷性能上耐刷性が悪いという問題を生じる。特に、印刷適性上好ましい、Alのような熱伝導性の高い金属支持体を用いた場合、熱拡散によって、一層、支持体近傍での温度上昇が妨げられるため、上述のような問題は顕著である。基板付近の十分な溶解性変化を得るためには、極端に大きな露光エネルギーを要するか、若しくは露光後の加熱といった後処理を実施する必要があった。   As one of the preferred methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophilic image forming layer is provided on a hydrophilic support, the image is exposed to heat mode, and the hydrophilic layer is soluble and dispersible. A method has been proposed in which the unexposed portion is removed by wet development as required. Further, the conventional heat mode method master has another serious problem that the non-image area is poorly soiled or the image area is weak. That is, it is necessary to improve that the change in solubility due to exposure in the vicinity of the support in the image forming layer is smaller than that in the vicinity of the surface of the image forming layer. In the heat mode type original plate, the heat generation during the heat mode exposure is based on the light absorption of the light absorber in the recording layer, so that the heat generation amount is large on the surface of the recording layer and small in the vicinity of the support. For this reason, the degree of change in the solubility of the recording layer in the vicinity of the support becomes relatively small. As a result, often in a heat mode negative master, the ink receptive layer may be removed during the development and / or printing process in the exposed areas where a hydrophobic ink receptive layer should be provided. Such removal of the image area ink-receptive layer in the negative master causes a problem that printing durability is poor in terms of printing performance. In particular, when a metal support having a high thermal conductivity such as Al, which is preferable in terms of printability, is used, the temperature increase near the support is further hindered by thermal diffusion. is there. In order to obtain a sufficient change in solubility in the vicinity of the substrate, extremely large exposure energy is required, or post-processing such as heating after exposure has to be performed.

例えば、特許第2938397号公報(特許文献1)に記載されているように、熱可塑性疎水性重合体微粒子を赤外線レーザー露光により熱融着させ画像形成させた上で、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し水および/あるいはインクにより機上現像する方法がある。しかしながらこのように単に熱融着で画像を作る方法では、良好な機上現像性を示すものの、アルミニウム基板上に直接感熱層を設けた場合、発生した熱がアルミニウム基板により奪われるために基板〜感熱層界面上で反応が起こらず、耐刷性が不十分となってしまう。同様に特開平9−127683号公報(特許文献2)あるいは国際公開第99/10186号パンフレット(特許文献3)にも熱可塑性微粒子を熱融着し機上現像により画像形成することが記載されているが、耐刷性が不十分となってしまう。   For example, as described in Japanese Patent No. 2938397 (Patent Document 1), thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are thermally fused by infrared laser exposure to form an image, and then a plate is placed on a printing machine cylinder. There are methods for on-press development with mounting, fountain solution and / or ink. However, in such a method of simply forming an image by thermal fusion, although good on-machine developability is exhibited, when a heat-sensitive layer is provided directly on the aluminum substrate, the generated heat is taken away by the aluminum substrate, so that the substrate No reaction occurs on the interface of the heat sensitive layer, resulting in insufficient printing durability. Similarly, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-127683 (Patent Document 2) or International Publication No. 99/10186 pamphlet (Patent Document 3) describes that thermoplastic fine particles are thermally fused to form an image by on-machine development. However, the printing durability is insufficient.

また、特開平8−48020号公報(特許文献4)に記載されているように親油性感熱性層を多孔質親水性支持体上に設けて、赤外線レーザーを露光し、熱により基板に固着する方法が挙げられているが、親油性の皮膜では機上現像性が悪く、インキローラーあるいは印刷物へ親油性感熱層のかすが付着してしまう。また、特開平10−287062号公報(特許文献5)に記載されているように親油性感熱性層を親水性膨潤層上に設けた場合、アルミニウム基板による熱の吸収は抑制されるが、親水性膨潤層が湿し水により膨潤していない状態でインクをつけるとインクの払いが悪くなり、損紙が多くなってしまう。
特許第2938397号公報 特開平9−127683号公報 国際公開第99/10186号パンフレット 特開平8−48020号公報 特開平10−287062号公報
Further, as described in JP-A-8-48020 (Patent Document 4), an oleophilic heat-sensitive layer is provided on a porous hydrophilic support, exposed to an infrared laser, and fixed to the substrate by heat. Although a method is mentioned, the on-machine developability is poor in an oleophilic film, and debris of the oleophilic heat-sensitive layer adheres to the ink roller or printed matter. In addition, when the lipophilic heat-sensitive layer is provided on the hydrophilic swelling layer as described in JP-A-10-287062 (Patent Document 5), the absorption of heat by the aluminum substrate is suppressed. If ink is applied in a state where the water-swelling layer is not swollen by the fountain solution, the ink is poorly discharged and the amount of waste paper increases.
Japanese Patent No. 2938397 JP-A-9-127683 WO99 / 10186 pamphlet JP-A-8-48020 Japanese Patent Laid-Open No. 10-287062

以上のように、機上現像性が良好であり、感度が高く、かつ高耐刷性を示す感熱性の感材はいまだ得られていない。そこで本発明は熱により画像を形成する印刷機上現像可能な平版印刷版用原版において、良好な機上現像性を示し、かつ、より多くの印刷物を得るようにすることを目的とするものである。   As described above, a heat-sensitive material having good on-press developability, high sensitivity, and high printing durability has not been obtained yet. Accordingly, the object of the present invention is to provide an excellent on-press developability and to obtain more printed matter in a lithographic printing plate precursor that can be developed on a printing press that forms an image by heat. is there.

本発明は、親水性支持体上に、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基を有する化合物を含有しているマイクロカプセルからなる感熱層を設け、光熱変換材料を感熱層かその隣接する層に含有していることにより、機上現像性が良好でありながら、かつ高耐刷である、印刷機上で現像可能な平版印刷版用原版を与えるものである。   The present invention provides a photothermal conversion material by providing a thermosensitive layer comprising a microcapsule containing a compound having a functional group whose outer wall is broken by heat used for image formation and reacts by the heat on a hydrophilic support. By containing it in the heat-sensitive layer or a layer adjacent thereto, a lithographic printing plate precursor that can be developed on a printing press while having good on-press developability and high printing durability is provided.

本発明の平版印刷版用原版は、親水性支持体上に設ける感熱層中に、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基を有する化合物を含有しているマイクロカプセルを含有させることにより、高感度且つ高耐刷性で残色、汚れのない印刷物を与えることが可能であり、さらに良好な機上現像性を示し、かつ、より多くの印刷物を得ることができたものである。また、支持体として、陽極酸化処理、さらにはシリケート処理を行ったアルミニウム基板を用いることにより、より良好な機上現像性を示すことができた。   The lithographic printing plate precursor of the present invention is a microcapsule containing a compound having a functional group that is broken by heat used for image formation and has a functional group that reacts with heat in a heat-sensitive layer provided on a hydrophilic support. By containing the ink, it is possible to provide a printed material with high sensitivity and high printing durability and free from residual color and smudge, and further exhibit excellent on-press developability, and more printed materials can be obtained. It is a thing. Moreover, by using an anodized aluminum substrate and further an silicate-treated aluminum substrate as the support, better on-press developability could be exhibited.

以下本発明について詳細に説明する。
〔マイクロカプセル〕
本発明に使用されるマイクロカプセルは、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基(熱反応性基ともいう)を有する化合物を含有しており、その平均粒径は0.01μm〜20μmが好ましいが、その中でも0.05μm〜2.0μmが更に好ましく、特に0.10μm〜1.0μmが最適である。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。
The present invention will be described in detail below.
[Microcapsule]
The microcapsule used in the present invention contains a compound whose outer wall is broken by heat used for image formation and has a functional group (also referred to as heat-reactive group) that reacts with the heat, and its average particle size is 0.01 μm to 20 μm is preferable, among which 0.05 μm to 2.0 μm is more preferable, and 0.10 μm to 1.0 μm is particularly preferable. If the average particle size is too large, the resolution will be poor, and if it is too small, the stability over time will be poor.

これらのマイクロカプセルは、その中に含有される上記化合物の熱反応性基を介してマイクロカプセル同士で反応できる構造としても良いし、感熱層内に他の添加物として後述の親水性樹脂または低分子化合物を含有する場合にはそれらと反応できる構造としても良い。また2種類以上のマイクロカプセルに、互いに熱反応するような熱反応性基をそれぞれ持たせてマイクロカプセル同士を反応させることのできる構造としても良い。すなわち、これらの熱反応性基による反応としては、不飽和基による重合反応、イソシアナート基あるいはそれのブロック体と活性水素原子を有する化合物(例えばアミン、アルコール、カルボン酸など)による付加反応、エポキシ基とアミノ基・カルボキシル基・ヒドロキシル基との付加反応、カルボキシル基とヒドロキシル基あるいはアミノ基との縮合反応、酸無水物とアミノ基あるいはヒドロキシル基との開環付加反応などを挙げることができ、これらは化学結合が形成されればどのような反応でもよい。   These microcapsules may have a structure in which the microcapsules can react with each other via the heat-reactive group of the above-described compound contained therein, or a hydrophilic resin described below or a low content as another additive in the heat-sensitive layer. When molecular compounds are contained, a structure capable of reacting with them may be used. Alternatively, two or more types of microcapsules may have a heat-reactive group capable of reacting with each other so that the microcapsules can react with each other. That is, the reaction by these thermally reactive groups includes a polymerization reaction by an unsaturated group, an addition reaction by an isocyanate group or a block thereof and a compound having an active hydrogen atom (for example, amine, alcohol, carboxylic acid, etc.), epoxy Group and amino group / carboxyl group / hydroxyl group addition reaction, carboxyl group and hydroxyl group or amino group condensation reaction, acid anhydride and amino group or hydroxyl group ring-opening addition reaction, etc. These may be any reaction as long as a chemical bond is formed.

このような熱反応性基を有する化合物を含有するマイクロカプセルは、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート、酸無水物およびそれらを保護した基等の熱反応性基を有する化合物(後に詳述する)をマイクロカプセルに内包させるか、これらの化合物をマイクロカプセルの外壁に導入する方法により得ることができる。また、熱反応性基を有する化合物をマイクロカプセルに内包させると同時に、マイクロカプセルの外壁に該化合物を導入しても良い。   Microcapsules containing such a compound having a heat-reactive group include, for example, acrylate groups, methacrylate groups, vinyl groups, allyl groups, epoxy groups, amino groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, isocyanates, acid anhydrides, and the like. It can be obtained by encapsulating a compound having a thermoreactive group such as a group protected in detail (described later in detail) in a microcapsule or introducing these compounds into the outer wall of the microcapsule. In addition, the compound having a heat-reactive group may be encapsulated in the microcapsule and simultaneously introduced into the outer wall of the microcapsule.

マイクロカプセルに含有される熱反応性基を有する化合物としては、不飽和基を有する化合物が挙げられ、不飽和基を有する化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。   Examples of the compound having a thermally reactive group contained in the microcapsule include a compound having an unsaturated group, and the compound having an unsaturated group is a radically polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. And selected from compounds having at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the radical polymerizable compound that is an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butanediol diacrylate. , Tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4- Cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol Triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, etc. is there.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。   Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。   Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149号記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149, those containing an amino group described in JP-A-1-165613, and the like are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

一般式(A)
CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH
(ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示す。)
Formula (A)
CH 2 = C (R 41) COOCH 2 CH (R 42) OH
(However, R 41 and R 42 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。   Furthermore, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 may be used.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, those introduced as photocurable monomers and oligomers in Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used.

エポキシ化合物としては、このましくはグリセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素添加物のポリグリシジルエーテル体などが挙げられる。イソシアネートを有する化合物としては、好ましくはトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、あるいはそれらをアルコールあるいはアミン類でブロックした化合物を挙げることができる。アミン化合物としては、好ましくはエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミンなどが挙げられる。   Examples of the epoxy compound include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols or polyphenols, or polyhydrides thereof. A glycidyl ether body etc. are mentioned. The compound having an isocyanate is preferably tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, or alcohols or amines thereof. Examples of the compound blocked with a kind. As the amine compound, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like are preferably used.

ヒドロキシル基を有する化合物としては好ましくは、末端メチロールを有するような化合物、ペンタエリスリトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリフェノール類などを挙げることができる。カルボキシル基を有する化合物としては好ましくは、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられる。酸無水物としては好ましくは、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられる。   Preferred examples of the compound having a hydroxyl group include compounds having terminal methylol, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, bisphenols and polyphenols, and the like. Preferable examples of the compound having a carboxyl group include aromatic polyvalent carboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and phthalic acid, and aliphatic polyvalent carboxylic acids such as adipic acid. Preferable examples of the acid anhydride include pyromellitic acid anhydride and benzophenone tetracarboxylic acid anhydride.

以上具体的に詳述した熱反応性基を有する化合物が含有されたマイクロカプセルを本発明の平版印刷版用原版の感熱層に含有させることにより、該マイクロカプセルの外壁が画像形成時の熱により破れ、該マイクロカプセルに含有させる該化合物が感熱層中に放出されると共に化学反応を起こし、これにより感熱層の画像部の分子構造は三次元架橋体に変化する。よって、画像形成前後において、画像部の水又は水溶液に対する溶解性の差は大きいものとなり、良好な機上現像性を示す。また、マイクロカプセルとしては画像形成に用いる熱で外壁が破れるものを使用しているため、前記化合物がマイクロカプセル外の化合物と確実に熱反応できるので、前記三次元架橋体の架橋密度は非常に高いものであると考えられる。よって、画像形成後において、高い強度を有する画像部が得られると考えられ、より多くの印刷物を得ることができる。   By including the microcapsules containing the compound having a heat-reactive group specifically described in detail in the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the outer wall of the microcapsules is heated by the heat during image formation. This is broken and the compound contained in the microcapsule is released into the heat-sensitive layer and causes a chemical reaction, whereby the molecular structure of the image portion of the heat-sensitive layer is changed to a three-dimensional crosslinked body. Therefore, the difference in the solubility of the image portion in water or aqueous solution before and after image formation becomes large, and good on-press developability is exhibited. In addition, since the outer wall of the microcapsule is broken by heat used for image formation, the compound can surely react with the compound outside the microcapsule, so that the crosslinking density of the three-dimensional crosslinked body is very high. It is considered expensive. Therefore, it is considered that an image portion having high strength can be obtained after image formation, and more printed matter can be obtained.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。マイクロカプセルの外壁には、前記したように、熱反応性基を有する化合物を導入しても良い。   The preferred microcapsule wall material used in the present invention is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. As described above, a compound having a thermally reactive group may be introduced into the outer wall of the microcapsule.

熱反応性基を有する化合物を含有物としてマイクロカプセル化する方法としては、公知のマイクロカプセル化法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許2800457号、同2800458号明細書に見られるコアセルベーションを利用した方法、英国特許990443号、米国特許3287154号明細書、特公昭38−19574号、同42−446号、同42−711号に見られる界面重合法による方法、米国特許3418250号、同3660304号明細書に見られるポリマーの析出による方法、米国特許3796669号明細書に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許3914511号明細書に見られるイソシアネート壁材料を用いる方法、米国特許4001140号、同4087376号、同4089802号明細書に見られる尿素―ホルムアルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許4025445号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号に見られるモノマー重合によるin situ法、英国特許930422号、米国特許3111407号にみられるスプレードライング法、英国特許952807号、同967074号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method for microencapsulating a compound having a heat-reactive group as an inclusion, a known microencapsulation method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in US Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, British Patent 990443, US Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574, 42-446, 42-711, interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304, polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol wall A method using a material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, a urea-formaldehyde system or a urea formaldehyde-reso found in US Pat. Nos. 4001140, 4087376, and 4089802. A method using a sinol-based wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and a monomer polymerization method as shown in Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. Situ method, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. are not limited thereto.

〔光熱変換材料〕
また本発明の平版印刷版用原版は、その感熱層内またはそれに隣接する層内に光熱変換材料を含有していることにより、レーザー光照射等により画像書き込みを行うことができる。さらに、光熱変換材料から発生される熱を有効に利用するために、光熱変換材料をマイクロカプセル内に含有させることが好ましい。光熱変換材料をマイクロカプセル内に含有することでマイクロカプセルの外壁破壊、内包物質の放出、反応物質の反応活性化に対し、有効に熱を利用できる。これにより、本発明の平版印刷版用原版の耐刷性が向上できる。その光熱変換材料としては、カーボンブラック・金属微粒子および色素など光源の波長を吸収するものであれば特に限定されないが特に赤外線を吸収し熱に変換する化合物が好ましい。
[Photothermal conversion material]
Further, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can carry out image writing by laser light irradiation or the like by containing a photothermal conversion material in the heat sensitive layer or in a layer adjacent thereto. Furthermore, in order to effectively use the heat generated from the photothermal conversion material, the photothermal conversion material is preferably contained in the microcapsules. By containing the photothermal conversion material in the microcapsule, heat can be effectively used for the destruction of the outer wall of the microcapsule, the release of the encapsulated substance, and the reaction activation of the reactant. Thereby, the printing durability of the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be improved. The photothermal conversion material is not particularly limited as long as it absorbs the wavelength of the light source such as carbon black, metal fine particles, and a dye, but a compound that absorbs infrared rays and converts it into heat is particularly preferable.

光熱変換材料は700nm以上の光を吸収する物質が特に好ましく、種々の顔料や染料を用いる事ができる。顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   The photothermal conversion material is particularly preferably a substance that absorbs light of 700 nm or more, and various pigments and dyes can be used. Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。これらの顔料中、赤外光又は近赤外光を吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Surface treatment methods include surface coating with a hydrophilic resin or lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, silane coupling agent, epoxy compound, isocyanate compound, etc.) A method of bonding to the pigment surface is conceivable. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes. Among these pigments, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferred because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

そのような赤外光又は近赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートされたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水溶性の樹脂と分散し易く、かつ親水性を損わないものとして、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたカーボンブラックが有用である。   As the pigment that absorbs infrared light or near infrared light, carbon black, carbon black coated with a hydrophilic resin, or carbon black modified with silica sol is preferably used. Among these, carbon black whose surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol is useful as it is easily dispersible with a water-soluble resin and does not impair the hydrophilicity.

顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemical Society, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among these dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

赤外光又は近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号、米国特許4,973,572号明細書、特開平10−268512号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染料や米国特許第4,756,993号明細書記載の染料、米国特許第4,973,572号明細書に記載のシアニン染料および特開平10−268512号記載の染料を挙げることができる。   Examples of dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, and US Pat. No. 4,973,572. Cyanine dyes described in JP-A-10-268512, etc., methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc. Disclosed in JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Naphthoquinone dyes, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., cyanine dyes described in British Patent 434,875 and US Pat. No. 4,756,993 Dyes Saisho described can include cyanine dyes and dyes described in JP-10-268512 Patent forth described in U.S. Patent 4,973,572.

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[式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、置換又は未置換のアルキル基;Z1及びZ2は置換もしくは未置換のフェニル基又はナフタレン基;Lは置換又は未置換のメチン基で、該置換基は、炭素数8以下のアルキル基、ハロゲン原子又はアミノ基であるか、該メチン基がその2つのメチン炭素上の置換基が相互に結合して形成された置換基を有していても良いシクロヘキセン環またはシクロペンテン環を含むものであってもよく、該置換基は炭素数6以下のアルキル基またはハロゲン原子;Xはアニオン基;nは1又は2;そしてR1、R2、R3、R4、R5、R6、Z1及びZ2の少なくとも一つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミン塩基を有する置換基を示す。 [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are substituted or unsubstituted alkyl groups; Z 1 and Z 2 are substituted or unsubstituted phenyl groups or naphthalene groups; A substituted or unsubstituted methine group, and the substituent is an alkyl group having a carbon number of 8 or less, a halogen atom or an amino group, or the methine group is bonded to the substituents on the two methine carbons; It may include a cyclohexene ring or a cyclopentene ring which may have a substituent formed, and the substituent is an alkyl group having 6 or less carbon atoms or a halogen atom; X is an anionic group; n is 1 or 2; and at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , Z 1 and Z 2 represents an acidic group or a substituent having an alkali metal base or amine base of an acidic group.

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[式中、R11は置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もしくは未置換のヘテロ環基;R12及びR15は水素原子又は水素原子の代りに置換できる基:R13及びR14は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換のアルコキシ基又は置換もしくは未置換のアルキル基、但しR13及びR14は同時に水素原子ではない:R16及びR17は置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、アシル基又はスルホニル基、又はR16とR17で非金属5員環もしくは6員環の形成を示す。] [Wherein, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group; R 12 and R 15 represent a hydrogen atom or a group that can be substituted for a hydrogen atom: R 13 and R 14 are a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkoxy group or a substituted or unsubstituted alkyl group, provided that R 13 and R 14 are not simultaneously a hydrogen atom: R 16 and R 17 are substituted or unsubstituted. A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an acyl group or a sulfonyl group, or the formation of a nonmetallic 5-membered or 6-membered ring by R 16 and R 17 is shown. ]

また、染料として米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物、エポリン社製Epolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等は特に好ましく用いられる。これらの染料中、マイクロカプセル内に内包させる場合は、合成上の観点から、水と混合しない溶剤に溶解可能なものが好ましい。酢酸エチルに溶解できるものがさらに好ましい。具体的には炭素数4以上のアルキル鎖を含む油溶性シアニン、油溶性フタロシアニン、油溶性ポリメチン色素等が挙げられる。マイクロカプセル外に添加する場合、特に好ましいものは上記の式(I)の水溶性のシアニン染料である。下記に具体的な化合物を列記する。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59 -84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 5 and the pyrylium compounds disclosed in JP-B Nos. 5-13514 and 5-19702, Phosphorus Ltd. Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used. Among these dyes, when they are encapsulated in microcapsules, those that are soluble in a solvent that is not mixed with water are preferable from the viewpoint of synthesis. More preferred are those that can be dissolved in ethyl acetate. Specific examples include oil-soluble cyanine containing an alkyl chain having 4 or more carbon atoms, oil-soluble phthalocyanine, and oil-soluble polymethine dye. When added outside the microcapsules, the water-soluble cyanine dye of the above formula (I) is particularly preferable. Specific compounds are listed below.

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次に、光熱変換性の金属微粒子について述べる。金属粒子の多くは、光熱変換性であってかつ自己発熱性でもある。好ましい金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体又は合金あるいはそれらの酸化物、硫化物の微粒子が挙げられる。これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好ましい金属は、光照射によって熱融着し易い融点がおよそ1000℃以下で赤外、可視又は紫外線領域に吸収をもつ金属、たとえばRe、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb及びSnである。また、とくに好ましいのは、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も比較的高い金属の微粒子、たとえばAg、Au、Cu、Sb、Ge及びPbで、とくに好ましい元素はAg、Au及びCuが挙げられる。   Next, the photothermal conversion metal fine particles will be described. Many of the metal particles are photothermally convertible and self-heating. As preferable metal fine particles, Si, Al, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn, W, Te , Pb, Ge, Re, and Sb, or their oxides or sulfides. Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals are metals having a melting point of about 1000 ° C. or less that is easily heat-bonded by light irradiation and having absorption in the infrared, visible, or ultraviolet region, such as Re, Sb, Te, Au, and the like. , Ag, Cu, Ge, Pb and Sn. Particularly preferred are fine metal particles such as Ag, Au, Cu, Sb, Ge, and Pb, which have a relatively low melting point and a relatively high absorbance to heat rays, and particularly preferred elements include Ag, Au, and Cu. .

また、例えばRe、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子とTi、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自己発熱性金属の微粒子を混合使用するなど、2種以上の光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、Pt、Pdなど微小片としたときに光吸収がとくに大きい金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いることは好ましい。以上に述べた金属単体及び合金の微粒子は、表面を親水性化処理することによって、本発明の効果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性でかつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性剤で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性基を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水性高分子皮膜を設けるなどの方法を用いることができる。特に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例えば鉄微粒子の場合は、70℃のケイ酸ナトリウム(3%)水溶液に30秒浸漬する方法によって表面を十分に親水性化することができる。他の金属微粒子も同様の方法で表面シリケート処理を行うことができる。   For example, fine particles of low melting point metal such as Re, Sb, Te, Au, Ag, Cu, Ge, Pb, Sn and fine particles of self-heating metal such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W, Ge are used. You may be comprised by 2 or more types of photothermal conversion substances, such as mixing use. In addition, it is preferable to use a combination of a metal piece with a particularly large light absorption when combined with other metal minute pieces such as Ag, Pt, and Pd. The effects of the present invention are further exhibited by subjecting the fine particles of the simple metal and alloy described above to a hydrophilic treatment on the surface. Surface hydrophilization means surface treatment with a hydrophilic compound that has adsorptivity to particles, such as a surfactant, or a surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts with the constituent material of the particle, A method such as providing a protective colloidal hydrophilic polymer film can be used. Particularly preferred is surface silicate treatment. For example, in the case of iron fine particles, the surface can be sufficiently rendered hydrophilic by a method of dipping in an aqueous solution of sodium silicate (3%) at 70 ° C. for 30 seconds. Other metal fine particles can also be subjected to surface silicate treatment by the same method.

これらの粒子の粒径は、10μm以下、好ましくは、0.003〜5μm、さらに好ましくは、0.01〜3μmである。微小であるほど、熱融着温度は低下する、つまりヒートモードの光感度が高くなって好都合であるが、粒子の分散が難しく、10μm以上では、印刷物の解像度が悪くなる。本発明において、これらの光熱変換材料を用いる場合、その添加量は、感熱層の全固形分中、1重量%以上であり、好ましくは2重量%以上、特に好ましくは5重量%以上で用いられる。光熱変換材料の含有量が1重量%未満であると感度が低くなってしまう。   The particle diameter of these particles is 10 μm or less, preferably 0.003 to 5 μm, and more preferably 0.01 to 3 μm. The finer the temperature, the lower the thermal fusing temperature, that is, the higher the heat mode photosensitivity, which is advantageous, but the dispersion of the particles is difficult, and the resolution of the printed matter is worse at 10 μm or more. In the present invention, when these photothermal conversion materials are used, the addition amount is 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, particularly preferably 5% by weight or more in the total solid content of the heat-sensitive layer. . If the content of the photothermal conversion material is less than 1% by weight, the sensitivity is lowered.

〔親水性樹脂〕
本発明の平版印刷版用原版の感熱層中には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂を添加することで機上現像性が良好となるばかりか、感熱層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては3次元架橋していないものが機上現像性が良好で好ましい。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及びその塩のホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。
[Hydrophilic resin]
A hydrophilic resin may be added to the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. By adding a hydrophilic resin, not only the on-press developability is improved, but also the film strength of the thermosensitive layer itself is increased. A hydrophilic resin that is not three-dimensionally cross-linked is preferred because of good on-press developability. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their Na salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxy Homopolymers and copolymers of butyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene Glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight, Mention may be made of homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, and homopolymers and copolymers of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and its salts.

親水性樹脂の感熱層中への添加量は、2%〜40%が好ましく、3%〜30%がさらに好ましい。2%より少ないと、皮膜強度が弱く、40%より多いと機上現像性は良くなるものの耐刷性が悪くなってしまう。   The amount of the hydrophilic resin added to the heat-sensitive layer is preferably 2% to 40%, more preferably 3% to 30%. When it is less than 2%, the film strength is weak, and when it is more than 40%, the on-press developability is improved but the printing durability is deteriorated.

〔反応を開始あるいは促進する化合物〕
本発明の平版印刷版用原版の感熱層には、上記の熱反応性基を有する化合物を含有するマイクロカプセルを用いるので、必要に応じてこれらの反応を開始あるいは促進するような化合物を添加してもよい。たとえば熱によりラジカルあるいはカチオンを発生するような化合物を挙げることができ、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。これらの化合物は感熱層において1重量%〜20重量%の範囲で添加することができる。好ましくは3重量%〜10重量%の範囲である。これより多いと機上現像性が悪くなり、これより少ないと反応開始あるいは促進効果が弱くなり耐刷性が劣化する。
[Compound that initiates or accelerates the reaction]
In the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, microcapsules containing a compound having the above-mentioned heat-reactive group are used. Therefore, if necessary, a compound that initiates or accelerates these reactions may be added. May be. Examples include compounds that generate radicals or cations by heat, such as lophine dimers, trihalomethyl compounds, peroxides, azo compounds, diazonium salts or diphenyliodonium salts, onium salts, acylphosphines, imide sulfones. Narto etc. are mentioned. These compounds can be added in the range of 1% by weight to 20% by weight in the heat sensitive layer. Preferably it is the range of 3 weight%-10 weight%. If the amount is more than this, the on-press developability deteriorates, and if it is less than this, the reaction initiation or acceleration effect becomes weak and the printing durability deteriorates.

また、反応を効率よく進めるために、反応を開始あるいは促進する化合物をマイクロカプセル内に含有させることが好ましい。これらの化合物をマイクロカプセル内に含有させることで、熱反応性基を有する化合物とあらかじめ良く混ざり合った状態にすることができ、レーザー照射すると、内包物が放出しながら反応が可能となる。これにより、本発明の平版印刷版用原版の耐刷性がさらに向上できる。   Moreover, in order to advance reaction efficiently, it is preferable to contain the compound which starts or accelerates | stimulates reaction in a microcapsule. By containing these compounds in the microcapsules, it can be well mixed with the compound having a heat-reactive group in advance, and when irradiated with a laser, the reaction can be performed while the inclusions are released. Thereby, the printing durability of the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be further improved.

〔マイクロカプセルに含有される熱反応性基を有する化合物と反応する低分子化合物〕
本発明の平版印刷版用原版の感熱層には、さらに、画像形成に用いる熱で上記マイクロカプセルに含有される熱反応性基を有する化合物と反応することができる官能基およびその保護基を有する低分子化合物を含有することができる。これらの化合物の添加量は、感熱層中5重量%〜40重量%が好ましく、特に5重量%〜20重量%が好ましい。これより少ないと架橋効果が少なく耐刷性が不十分となり、これより多いと経時後の機上現像性が悪くなってしまう。このような化合物の具体例としては、前記マイクロカプセルに含有される熱反応性基を有する化合物の具体例と同様のものを挙げることができる。
[Low molecular weight compound that reacts with compound having thermoreactive group contained in microcapsule]
The heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention further has a functional group capable of reacting with a compound having a heat-reactive group contained in the microcapsule by heat used for image formation and a protective group thereof. A low molecular weight compound can be contained. The amount of these compounds added is preferably 5% by weight to 40% by weight in the heat sensitive layer, and particularly preferably 5% by weight to 20% by weight. If it is less than this, the crosslinking effect is small and the printing durability is insufficient, and if it is more than this, the on-press developability after aging deteriorates. Specific examples of such a compound include the same compounds as those of the compound having a thermally reactive group contained in the microcapsule.

〔その他の添加物〕
本発明では、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
[Other additives]
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. In addition, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、感熱層塗布液全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合である。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. In addition, the addition amount is a ratio of 0.01 to 10% by weight with respect to the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.

また、本発明においては、感熱層塗布液の調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感熱層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.1重量%〜約10重量%が好ましい。   In the present invention, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added in order to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond capable of radical polymerization during preparation or storage of a heat-sensitive layer coating solution. It is desirable to do. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by weight to about 5% by weight with respect to the weight of the total composition. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the heat-sensitive layer in the course of drying after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably from about 0.1% to about 10% by weight of the total composition.

また、本発明における感熱層塗布液中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号や特開平3−208514号に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特開平4−13149号に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。   Further, in the heat-sensitive layer coating solution of the present invention, a nonionic surfactant as described in JP-A-62-251740 or JP-A-3-208514 is used in order to broaden the processing stability against development conditions. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.

両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感熱層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。   Specific examples of amphoteric surfactants include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N- Examples include betaine type (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the heat-sensitive layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

さらに、本発明に係る感熱層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the heat-sensitive layer coating liquid according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

本発明の平版印刷版用原版を製造するには、通常、感熱層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。   In order to produce the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the above-mentioned components necessary for the heat-sensitive layer coating solution are usually dissolved in a solvent and coated on a suitable support. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷版用原版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録の機能を果たす感熱層の皮膜特性は低下する。 Moreover, although the heat-sensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, it is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 for a lithographic printing plate precursor. Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the heat-sensitive layer that performs the image recording function decrease.

本発明に係る感熱層塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感熱層の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。   In the heat-sensitive layer coating liquid according to the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A-62-170950 can be added. . A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire heat sensitive layer.

〔オーバーコート層〕
本発明の平版印刷版用原版は、親油性物質による感熱層表面の汚染防止のため、感熱層上に、水溶性オーバーコート層を設けることができる。本発明に使用される水溶性オーバーコート層は印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用いる水溶性の有機高分子化合物としては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但し加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリアクリルアミドおよびその共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン及びその共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ等)およびその変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることができる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもできる。
[Overcoat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a water-soluble overcoat layer can be provided on the heat-sensitive layer in order to prevent contamination of the surface of the heat-sensitive layer with an oleophilic substance. The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed during printing and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As the water-soluble organic polymer compound used here, a film formed by coating and drying has film-forming ability. Specifically, polyvinyl acetate (however, a hydrolysis rate of 65% or more), polyacrylic Acid and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine Salt, polyacrylamide and copolymer thereof, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone and copolymer thereof, polyvinyl methyl ether, polyvinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamide-2-methyl-1- Propanesulfonic acid and its alkali Metal salt or amine salt, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and alkali metal salt or amine salt thereof, gum arabic, fiber derivative (for example, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, Methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like. Further, two or more kinds of these resins can be mixed and used depending on the purpose.

また、オーバーコート層には、前記の水溶性光熱変換剤を添加しても良い。さらに、オーバーコート層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオン系界面活性剤を添加することができる。オーバーコート層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2が好ましい。それより少ないと、指紋付着汚れを起こし、それより多いと、機上現像性が悪くなる。 Further, the water-soluble photothermal conversion agent may be added to the overcoat layer. Furthermore, in order to ensure the uniformity of coating, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether or polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in the case of aqueous solution coating. . The dry coating amount of the overcoat layer is preferably 0.1 to 2.0 g / m 2 . If it is less than that, fingerprint adhesion contamination will occur, and if it is more than that, the on-press developability will be poor.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版用原版において前記感熱層を塗布可能な親水性支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
[Support]
The hydrophilic support to which the heat-sensitive layer can be applied in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). Laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene , Polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. A preferable support includes a polyester film or an aluminum plate.

本発明の平版印刷版用原版に使用する支持体としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れたアルミニウム板を使用することが好ましい。この目的に供されるアルミニウム材質としては、JIS 1050材、JIS 1100材、JIS 1070材、Al−Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg系合金、Al−Zr系合金、Al−Mg−Si系合金などが挙げられる。   As the support used for the lithographic printing plate precursor according to the present invention, it is preferable to use an aluminum plate that is lightweight and excellent in surface treatment, workability, and corrosion resistance. Aluminum materials used for this purpose include JIS 1050, JIS 1100, JIS 1070, Al-Mg alloy, Al-Mn alloy, Al-Mn-Mg alloy, Al-Zr alloy, Al -Mg-Si based alloys and the like.

支持体に使用し得るアルミニウム材質に関する公知技術を以下に列挙する。
(1)JIS 1050材に関しては、下記の技術が開示されている。
特開昭59−153861号、特開昭61−51395、特開昭62−146694、特開昭60−215725、特開昭60−215726、特開昭60−215727、特開昭60−215728、特開昭61−272357、特開昭58−11759、特開昭58−42493、特開昭58−221254、特開昭62−148295、特開平4−254545、特開平4−165041、特公平3−68939、特開平3−234594、特公平1−47545、特開昭62−140894号公報など。また、特公平1−35910、特公昭55−28874号等も知られている。
Known techniques relating to aluminum materials that can be used for the support are listed below.
(1) Regarding the JIS 1050 material, the following technology is disclosed.
JP 59-153861, JP 61-51395, JP 62-146694, JP 60-215725, JP 60-215726, JP 60-215727, JP 60-215728, JP-A-61-272357, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58-212254, JP-A-62-148295, JP-A-4-254545, JP-A-4-165541, JP-B-3 -68939, JP-A-3-234594, JP-B-1-47545, JP-A-62-140894, and the like. Japanese Patent Publication No. 1-35910, Japanese Patent Publication No. 55-28874, and the like are also known.

(2)JIS 1070材に関しては、下記の技術が開示されている。
特開平7−81264、特開平7−305133、特開平8−49034、特開平8−73974、特開平8−108659、特開平8−92679号など。
(2) Regarding the JIS 1070 material, the following technology is disclosed.
JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108659, JP-A-8-92679, and the like.

(3)Al−Mg系合金に関しては、下記の技術が開示されている。
特公昭62−5080、特公昭63−60823、特公平3−61753、特開昭60−203496、特開昭60−203497、特公平3−11635、特開昭61−274993、特開昭62−23794、特開昭63−47347、特開昭63−47348、特開昭63−47349、特開昭64−61293、特開昭63−135294、特開昭63−87288、特公平4−73392、特公平7−100844、特開昭62−149856、特公平4−73394、特開昭62−181191、特公平5−76530、特開昭63−30294、特公平6−37116号など。また、特開平2−215599、特開昭61−201747号等も知られている。
(3) Regarding the Al—Mg alloy, the following technique is disclosed.
JP-B-62-5080, JP-B-63-60823, JP-B-3-61753, JP-A-60-203497, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635, JP-A-61-274993, JP-A-62-2 23794, JP-A 63-47347, JP-A 63-47348, JP-A 63-47349, JP-A 64-61293, JP-A 63-135294, JP-A 63-87288, JP-B 4-73392, Japanese Patent Publication No. 7-100904, Japanese Patent Publication No. 62-149856, Japanese Patent Publication No. 4-73394, Japanese Patent Publication No. Sho 62-181191, Japanese Patent Publication No. 5-76530, Japanese Patent Publication No. 63-30294, Japanese Patent Publication No. 6-37116, and the like. JP-A-2-215599, JP-A-61-201747, and the like are also known.

(4)Al−Mn系合金に関しては、下記の技術が開示されている。
特開昭60−230951、特開平1−306288、特開平2−293189号など。また、特公昭54−42284、特公平4−19290、特公平4−19291、特公平4−19292、特開昭61−35995、特開昭64−51992、US5009722、US5028276、特開平4−226394等も知られている。
(5)Al−Mn−Mg系合金に関しては、下記の技術が開示されている。
特開昭62−86143、特開平3−222796、特公昭63−60824、特開昭60−63346、特開昭60−63347、EP223737、特開平1−283350、US4818300、BR1222777等が知られている。
(4) Regarding the Al—Mn alloy, the following techniques are disclosed.
JP-A-60-230951, JP-A-1-306288, JP-A-2-293189, and the like. JP-B-54-42284, JP-B-4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19292, JP-A-61-35995, JP-A-64-51592, US5009722, US5028276, JP-A-4-226394, etc. Is also known.
(5) Regarding the Al—Mn—Mg based alloy, the following techniques are disclosed.
JP-A-62-286143, JP-A-3-222296, JP-B-63-60824, JP-A-60-63346, JP-A-60-63347, EP223737, JP-A-1-283350, US48818300, BR1222777 and the like are known. .

(6)Al−Zr系合金に関して、下記の技術が知られている。
特公昭63−15978、特開昭61−51395、特開昭63−143234、特開昭63−143235等が知られている。
(7)Al−Mg−Si系合金に関しては、BR1421710等が知られている。
(6) The following techniques are known for Al—Zr alloys.
Japanese Patent Publication Nos. 63-15978, 61-513395, 63-143234, 63-143235 and the like are known.
(7) Regarding the Al—Mg—Si based alloy, BR14221710 and the like are known.

また、支持体用アルミニウム板の製造方法としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラックス処理、Arガス、Clガス等を使った脱ガス処理や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルターや、アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とするフィルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィルタリング、あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合わせた処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中の、非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯にとけ込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されることが望ましい。   Moreover, the following content can be used as a manufacturing method of the aluminum plate for support bodies. The aluminum alloy melt containing the above-described components and alloy components is subjected to a cleaning treatment according to a conventional method and cast. In the cleaning process, in order to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing process using Ar gas, Cl gas, etc., so-called rigid media such as ceramic tube filter, ceramic foam filter, etc. Filtering using a filter, a filter using alumina flakes, alumina balls, or the like, a filtering using a glass cloth filter, or a combination of degassing and filtering is performed. These cleaning treatments are desirably carried out in order to prevent defects due to foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal, and defects due to gas dissolved in the molten metal.

溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57342、特開平3−162530、特開平5−140659、特開平4−231425、特開平4−276031、特開平5−311261、特開平6−136466等が知られている。溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659、特開平5−51660、実開平5−49148、特開平7−40017号などが知られている。以上のように、清浄化処理を施された溶湯を使って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される、駆動鋳型を用いる方法がある。DC鋳造法を用いた場合、冷却速度は、1〜300℃/秒の範囲で凝固される。1℃/秒未満であると、粗大な金属間化合物が多数形成される。   Regarding the filtering of molten metal, JP-A-6-57342, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-312661, JP-A-6-136466, etc. are known. It has been. Regarding degassing of the molten metal, Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-51659, 5-51660, 5-49148, and 7-70017 are known. As described above, casting is performed using the molten metal that has been subjected to the cleaning treatment. As for the casting method, there are a method using a fixed mold represented by a DC casting method and a method using a driving mold represented by a continuous casting method. When the DC casting method is used, the cooling rate is solidified in the range of 1 to 300 ° C./second. When it is less than 1 ° C./second, a large number of coarse intermetallic compounds are formed.

連続鋳造法には、ハンター法、3C法に代表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いた場合の冷却速度は、100〜1000℃/秒の範囲で凝固される。一般的に、DC鋳造法に比べて、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する、合金成分の固溶度を高くできる特徴がある。連続鋳造法に関しては、本願発明者らによって、特開平3−79798、特開平5−201166、特開平5−156414、特開平6−262203、特開平6−122949、特開平6−210406、特開平6−262308等が開示されている。   For the continuous casting method, a method using a cooling roll represented by the Hunter method and the 3C method, a Hazeley method, a cooling belt represented by Al Swiss Caster II, and a method using a cooling block are industrially used. It has been broken. When the continuous casting method is used, the cooling rate is solidified in the range of 100 to 1000 ° C./second. In general, since the cooling rate is higher than that in the DC casting method, there is a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. With respect to the continuous casting method, the inventors of the present application disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 3-79798, 5-201166, 5-156414, 6-262203, 6-122949, 6-210406, 6-210406, 6-262308 and the like are disclosed.

DC鋳造を行った場合、板厚300〜800mmの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、面削を行われ、表層の1〜30mm、望ましくは、1〜10mmを切削される。その後、必要に応じて、均熱化処理が行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化してしまわないように、450〜620℃で1時間以上、48時間以下の熱処理が施される。1時間より短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次いで、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板とする。熱間圧延の開始温度としては、350〜500℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280℃〜600℃で2〜20時間、望ましくは、350〜500℃で2〜10時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて400〜600℃で360秒以下、望ましくは、450〜550℃で120秒以下の加熱処理が採用できる。連続焼鈍炉を使って、10℃/秒以上の昇温速度で加熱すると、結晶組織を細かくすることもできる。   When DC casting is performed, an ingot having a thickness of 300 to 800 mm can be produced. The ingot is chamfered according to a conventional method, and 1 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, of the surface layer is cut. Thereafter, soaking treatment is performed as necessary. When performing the soaking process, heat treatment is performed at 450 to 620 ° C. for 1 hour or more and 48 hours or less so that the intermetallic compound does not become coarse. When it is shorter than 1 hour, the effect of the soaking treatment is insufficient. Next, hot rolling and cold rolling are performed to obtain an aluminum rolled sheet. The hot rolling start temperature is in the range of 350 to 500 ° C. An intermediate annealing treatment may be performed before, after, or during the cold rolling. The intermediate annealing conditions in this case are a method of heating at 280 ° C. to 600 ° C. for 2 to 20 hours using a batch type annealing furnace, preferably 2 to 10 hours at 350 to 500 ° C., or 400 using a continuous annealing furnace. A heat treatment at ˜600 ° C. for 360 seconds or shorter, desirably 450-550 ° C. for 120 seconds or shorter can be employed. When heated using a continuous annealing furnace at a heating rate of 10 ° C./second or more, the crystal structure can be made finer.

以上の工程によって、所定の厚さ0.1〜0.5mmに仕上げられたAl板は平面性を改善するために、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加工するため、スリッタラインを通すことが通常行われる。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは両方が生じる。   In order to improve the flatness of the Al plate finished to a predetermined thickness of 0.1 to 0.5 mm by the above steps, the flatness may be improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the plate is cut into a sheet, but in order to improve the productivity, it is desirable to improve the flatness in a continuous coil state. Further, in order to process the plate width into a predetermined width, a slitter line is usually passed. When the end face of the plate cut by the slitter is cut by the slitter blade, one or both of a shear plane and a fracture surface are generated.

板の厚みの精度は、コイル全長にわたって、±10μm以内、望ましくは±6μm以内が良い。また、幅方向の板厚差は6μm以内、望ましくは3μm以内がよい。また、板幅の精度は、±1.0mm以内、望ましくは±0.5mm以内が望ましい。Al板の表面粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、最終的に中心線表面粗さ(Ra)で、Ra=0.1〜1.0μm程度に仕上げるのがよい。Raが大きすぎると、平版印刷版用としての粗面化処理、感熱層塗布をしたとき、Alのもともとの粗さすなわち、圧延ロールによって転写された粗い圧延条痕が感熱層の上から見えるため、外観上好ましくない。Ra=0.1μm以下の粗さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要が有るため、工業的に望ましくない。   The accuracy of the thickness of the plate is within ± 10 μm, preferably within ± 6 μm over the entire length of the coil. The plate thickness difference in the width direction is within 6 μm, preferably within 3 μm. Further, the accuracy of the plate width is within ± 1.0 mm, preferably within ± 0.5 mm. The surface roughness of the Al plate is likely to be affected by the surface roughness of the rolling roll, but it is preferable that the surface roughness is finally about Ra = 0.1 to 1.0 μm as the centerline surface roughness (Ra). If Ra is too large, when roughening treatment for lithographic printing plate and heat sensitive layer application, the original roughness of Al, that is, rough rolling streaks transferred by the rolling roll can be seen from above the heat sensitive layer. It is not preferable in appearance. A roughness of Ra = 0.1 μm or less is industrially undesirable because it is necessary to finish the surface of the rolling roll with an excessively low roughness.

また、Al板同士の摩擦によるキズの発生を防止するために、Al板の表面に、薄い油膜をもうけても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるので、油量は3mg/m2以上で100mg/m2以下、望ましい上限は50mg/m2以下、更に望ましくは10mg/m2以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平6−210308号等が開示されている。 Further, a thin oil film may be provided on the surface of the Al plate in order to prevent generation of scratches due to friction between the Al plates. As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary. If the amount of oil is too large, a slip failure will occur in the production line, but if there is no amount of oil, there will be a problem that scratches will occur during coil transportation, so the amount of oil will be 3 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2. Hereinafter, the desirable upper limit is 50 mg / m 2 or less, and more desirably 10 mg / m 2 or less. Regarding cold rolling, JP-A-6-210308 and the like are disclosed.

連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いると板厚1〜10mmの鋳造板を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できるメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロールを用いると、板厚10〜50mmの鋳造板が鋳造でき、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が得られる。これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造の場合に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面性改善、スリット等の工程を経て0.1〜0.5mmの板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条件、冷間圧延条件については、特開平6−220593、特開平6−210308、特開平7−54111、特開平8−92709等が開示されている。   When continuous casting is performed, for example, when a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly continuously cast and rolled, and a merit that a hot rolling process can be omitted is obtained. Further, when a cooling roll such as the Husley method is used, a cast plate having a thickness of 10 to 50 mm can be cast. Generally, a hot rolling roll is arranged immediately after casting and continuously rolled, so that a thickness of 1 to 1 is obtained. A 10 mm continuous cast and rolled plate is obtained. These continuous cast and rolled sheets are finished to a thickness of 0.1 to 0.5 mm through processes such as cold rolling, intermediate annealing, flatness improvement, and slitting, as described in the case of DC casting. It is done. Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition when the continuous casting method is used, JP-A-6-220593, JP-A-6-210308, JP-A-7-54111, JP-A-8-92709, and the like are disclosed.

上記方法で製造したAl板は表面に粗面化処理等の表面処理を行い、感熱層を塗布して平版印刷版用原版とすることができる。粗面化処理には、機械的粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保するための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を行うことも好ましい。   The Al plate produced by the above method can be subjected to a surface treatment such as a roughening treatment on the surface, and a heat-sensitive layer can be applied to form a lithographic printing plate precursor. In the roughening treatment, mechanical roughening, chemical roughening, and electrochemical roughening are performed alone or in combination. Moreover, it is also preferable to perform an anodizing process for ensuring the scratch resistance of the surface or a process for increasing hydrophilicity.

以下に支持体の表面処理について説明する。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中和、スマット除去などの処理を行ってもよい。   The surface treatment of the support will be described below. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface may be performed as necessary. In the case of an alkali, treatments such as neutralization and smut removal may be performed with an acidic solution.

次いで支持体と感熱層の密着性を良好にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされている。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンドブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロンブラシと研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、研磨材/水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニンググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、またアルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッチング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法がある。また英国特許第896,563号公報、特開昭53−67507号公報、特開昭54−146234号公報及び特公昭48−28123号公報に記載されている電気化学的砂目立て方法、または特開昭53−123204号公報、特開昭54−63902号公報に記載されている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法とを組み合わせた方法、特開昭56−55261号公報に記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯やロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することによって粗面を形成させてもよい。   Next, in order to improve the adhesion between the support and the heat-sensitive layer and to provide water retention to the non-image area, a so-called graining treatment is performed to roughen the surface of the support. Specific means of this graining method include sandblasting, ball grain, wire grain, nylon brush and brush grain made of abrasive / water slurry, mechanical sand made of honing grain that sprays abrasive / water slurry on the surface at high pressure, etc. There is a sharpening method, and there is a chemical sanding method in which the surface is roughened with an etching agent comprising an alkali, an acid, or a mixture thereof. Further, the electrochemical graining method described in British Patent No. 896,563, JP-A-53-67507, JP-A-54-146234 and JP-B-48-28123, or JP A method combining the mechanical graining method and the electrochemical graining method described in JP-A-53-123204 and JP-A-54-63902, described in JP-A-56-55261 A combination of a mechanical graining method and a chemical graining method with a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid is also known. In addition, the above-mentioned support material is bonded with a granular material by an adhesive or a method having an effect thereof, and the surface is roughened, or a continuous band or roll having fine unevenness is pressure-bonded to the support material to form unevenness. The rough surface may be formed by transferring.

これらのような粗面化方法は複数を組み合わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わせる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ水溶液の具体例としては、例えばフッ酸、フッ化ジルコン酸、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカリ水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用することができる。化学的処理はこれらの酸またはアルカリの0.05〜40重量%水溶液を用い、40℃〜100℃の液温において5〜300秒処理するのが一般的である。   These roughening methods may be performed in combination, and the order, the number of repetitions, and the like can be arbitrarily selected. When a plurality of roughening treatments are combined, chemical treatment with an acid or alkaline aqueous solution can be performed in order to uniformly perform the subsequent roughening treatment. Specific examples of the acid or alkali aqueous solution include acids such as hydrofluoric acid, fluorinated zirconic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, and alkali aqueous solutions such as sodium hydroxide, sodium silicate, and sodium carbonate. . These acid or alkali aqueous solutions can be used alone or in combination of two or more. The chemical treatment is generally carried out using a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis at a liquid temperature of 40 to 100 ° C. for 5 to 300 seconds.

前述のような粗面化処理すなわち砂目立て処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成しているので、このスマットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチング法や特開昭53−12739号公報に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。本発明に用いられるアルミニウム支持体の場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させる。   Since smut is formed on the surface of the support obtained by the roughening treatment, that is, the graining treatment as described above, a treatment such as washing with water or alkali etching is appropriately performed to remove the smut. Is generally preferred. Examples of such treatment include treatment methods such as the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and the sulfuric acid desmut method described in Japanese Patent Laid-Open No. 53-12739. In the case of the aluminum support used in the present invention, after the pretreatment as described above, an oxide film is usually formed on the support by anodic oxidation in order to improve wear resistance, chemical resistance and water retention. To form.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。 Any electrolyte that forms a porous oxide film can be used for the anodizing treatment of an aluminum plate, and generally sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. . The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte. The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used and cannot be specified. However, in general, the electrolyte concentration is 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. It is appropriate if the voltage is in the range of 1 to 100 V and the electrolysis time is in the range of 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is easily scratched, so that the ink adheres to the scratched part during printing. “Scratches and dirt” are likely to occur.

尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ水溶液(例えば数%の苛性ソーダ水溶液)や、熔融塩中での陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用いた無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理なども行うことができる。陽極酸化処理を行う前に、特開平4−148991号や特開平4−97896号に記載されている水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭63−56497号や特開昭63−67295号に記載されている金属ケイ酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜生成処理や、特開昭56−144195号に記載されている化成皮膜生成処理などを行うこともできる。 Such anodizing treatment is applied to the surface used for printing on the support of the lithographic printing plate, but an anodized film of 0.01 to 3 g / m 2 is also formed on the back surface due to the back of the lines of electric force. It is common to form. In addition, an alkaline aqueous solution (for example, a several percent aqueous solution of caustic soda), an anodizing treatment in a molten salt, an anodizing treatment for forming a nonporous anodized film using an aqueous ammonium borate solution, or the like can also be performed. . Before the anodizing treatment, a hydrated oxide film described in JP-A-4-148991 and JP-A-4-97896 may be formed. A treatment in a metal silicate solution described in 63-67295, a hydrated oxide film production treatment, a chemical film production treatment described in JP-A-56-144195, and the like can also be performed.

本発明の平版印刷版用原版に用いられるアルミニウム支持体は、陽極酸化処理後に有機酸もしくはその塩による処理、または該有機酸もしくはその塩を感熱層塗布の下塗り層として用いることができる。有機酸またはその塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン酸、有機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好ましくは有機カルボン酸またはその塩である。有機カルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノカルボン酸類;オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪族モノカルボン酸類;シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸等の脂肪族ジカルボン酸類;乳酸、グルコン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボン酸類;安息香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸等の芳香族カルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VIbおよびVIII族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げられる。上記有機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、酢酸、酪酸、プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、コハク酸および安息香酸の上記金属塩およびアンモニウム塩である。これらの化合物は単独でも2種以上組み合わせて用いてもよい。   The aluminum support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be treated with an organic acid or a salt thereof after anodizing treatment, or the organic acid or a salt thereof can be used as an undercoat layer applied with a heat-sensitive layer. Examples of the organic acid or salt thereof include organic carboxylic acid, organic phosphonic acid, organic sulfonic acid or salt thereof, and the organic carboxylic acid or salt thereof is preferable. Examples of organic carboxylic acids include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, lauric acid, palmitic acid and stearic acid; unsaturated aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid and linoleic acid; oxalic acid and succinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid and maleic acid; oxycarboxylic acids such as lactic acid, gluconic acid, malic acid, tartaric acid and citric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, mandelic acid, salicylic acid and phthalic acid; and Ia IIb, IIIb, IVa, VIb and Group VIII metal salts and ammonium salts. Among the organic carboxylates, the metal salts and ammonium salts of formic acid, acetic acid, butyric acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, succinic acid and benzoic acid are preferable. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらの化合物は水、アルコールに0.001〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては25〜95℃、好ましくは50〜95℃の温度範囲、pHは1〜13、好ましくは2〜10分、10秒〜20分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬するか、処理液を支持体に塗布する。   These compounds are preferably dissolved in water and alcohol to a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. The treatment conditions are 25 to 95 ° C., preferably 50 The temperature range of ˜95 ° C. and the pH is 1 to 13, preferably 2 to 10 minutes, 10 seconds to 20 minutes, preferably 10 seconds to 3 minutes, or the treatment liquid is applied to the support.

また、さらに陽極酸化処理後、以下のような化合物溶液による処理や、これらの化合物を、感熱層塗布の下塗り層として用いることができる。好適に用いられる化合物としては、例えば、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリプトファン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシエチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸;スルファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のアミノスルホン酸;1−アミノメチルホスホン酸、1−ジメチルアミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホン酸、2−アミノプロピルホスホン酸、4−アミノフェニルホスホン酸、1−アミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のアミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。   Further, after the anodizing treatment, treatment with a compound solution as described below, or these compounds can be used as an undercoat layer applied with a heat sensitive layer. Suitable compounds include, for example, phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, which may have a substituent, substituted Organic phosphoric acid such as phenyl phosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a group, phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent Amino acids such as organic phosphinic acid, glycine, β-alanine, valine, serine, threonine, aspartic acid, glutamic acid, arginine, lysine, tryptophan, parahydroxyphenylglycine, dihydroxyethylglycine, anthranilic acid; sulfamic acid Aminosulfonic acids such as cyclohexylsulfamic acid; 1-aminomethylphosphonic acid, 1-dimethylaminoethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, 2-aminopropylphosphonic acid, 4-aminophenylphosphonic acid, 1-aminoethane-1, 1-diphosphonic acid, 1-amino-1-phenylmethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminobutane-1,1-diphosphonic acid, ethylenediaminetetramethylene Examples thereof include compounds such as aminophosphonic acid such as phosphonic acid.

また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸(メタンスルホン酸等)またはシュウ酸と、アルカリ金属、アンモニア、低級アルカノールアミン(トリエタノールアミン等)、低級アルキルアミン(トリエチルアミン等)等との塩も好適に使用することができる。   Also suitable are salts of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfonic acid (methanesulfonic acid, etc.) or oxalic acid with alkali metal, ammonia, lower alkanolamine (triethanolamine, etc.), lower alkylamine (triethylamine, etc.), etc. Can be used.

ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよびその鉱酸塩、ポリ(メタ)アクリル酸およびその金属塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸およびその金属塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリマーおよびその(メタ)アクリル酸とのコポリマー、ポリビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用することができる。さらに可溶性デンプン、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセルロース、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソーダ、ゼラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に使用することができる。これらの化合物は単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyethyleneimine and its mineral salt, poly (meth) acrylic acid and its metal salt, polystyrene sulfonic acid and its metal salt, (meth) acrylic acid alkyl ester and 2-acrylamide-2- A water-soluble polymer such as methyl-1-propanesulfonic acid and its metal salt, a trialkylammonium chloride methylstyrene polymer and a copolymer thereof with (meth) acrylic acid, and polyvinylphosphonic acid can also be suitably used. Furthermore, soluble starch, carboxymethyl cellulose, dextrin, hydroxyethyl cellulose, gum arabic, guar gum, sodium alginate, gelatin, glucose, sorbitol and the like can be suitably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

処理の場合、これらの化合物は水かつ/またはメチルアルコールに0.001〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては25〜95℃、好ましくは50〜95℃の温度範囲、pHは1〜13、好ましくは2〜10、10秒〜20分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬する。   In the case of treatment, these compounds are preferably dissolved in water and / or methyl alcohol to a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. The support is immersed in a temperature range of ˜95 ° C., preferably 50 to 95 ° C., pH 1 to 13, preferably 2 to 10, 10 seconds to 20 minutes, preferably 10 seconds to 3 minutes.

感熱層塗布の下塗り層として用いる場合は、同様に水かつ/またはメチルアルコールに0.001〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度となるように溶解され、必要に応じて、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。また、平版印刷版用原版の調子再現性改良のために黄色系染料を添加することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2未満であると汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られない。また、200mg/m2を越えると耐刷力が低下する。 When used as an undercoat layer for heat-sensitive layer application, it is similarly dissolved in water and / or methyl alcohol to a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight, and if necessary The pH can be adjusted with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid, and the pH can be used in the range of 1-12. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying of the organic undercoat layer is suitably 2 to 200 mg / m 2 , preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , a sufficient effect for the original purpose such as prevention of contamination cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 200 mg / m 2 , the printing durability decreases.

なお支持体と感熱層との密着性を高めるための中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さは任意であり、露光した時に、上層の感熱層と均一な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中におけるジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100%、好ましくは60〜100%である。 An intermediate layer for improving the adhesion between the support and the heat-sensitive layer may be provided. In order to improve the adhesion, the intermediate layer is generally composed of a diazo resin, a phosphoric acid compound adsorbed on aluminum, for example. The thickness of the intermediate layer is arbitrary, and it must be a thickness capable of performing a uniform bond-forming reaction with the upper heat-sensitive layer when exposed. Usually, the application ratio of about 1 to 100 mg / m 2 is good as a dry solid, and 5 to 40 mg / m 2 is particularly good. The ratio of the diazo resin used in the intermediate layer is 30 to 100%, preferably 60 to 100%.

以上のような処理及び下塗り層付与の前に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあと、現像液や湿し水への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感熱層成分の残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮膜の親水性向上、感熱層との密着性向上等を目的に、以下のような処理を行うことができる。そのひとつとしては、陽極酸化皮膜をアルカリ金属のケイ酸塩水溶液と接触させて処理するシリケート処理が挙げられる。この場合、アルカリ金属ケイ酸塩の濃度は0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜15重量%であり、25℃でのpHが10〜13.5である水溶液に5〜80℃、好ましくは10〜70℃、より好ましくは15〜50℃で0.5〜120秒間接触させる。接触させる方法は、浸せきでもスプレーによる吹き付けでも、いかなる方法によってもかまわない。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液はpHが10より低いと液はゲル化し、13.5より高いと陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。   Prior to the treatment and application of the undercoat layer as described above, the anodized support is washed with water, and then the dissolution of the anodized film in the developer and fountain solution is suppressed, and the residual film of the heat-sensitive layer component is suppressed. The following treatments can be performed for the purpose of improving the strength of the anodized film, improving the hydrophilicity of the anodized film, and improving the adhesion to the heat-sensitive layer. One example is a silicate treatment in which the anodic oxide film is treated by bringing it into contact with an alkali metal silicate aqueous solution. In this case, the concentration of the alkali metal silicate is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and 5 to 80 ° C. in an aqueous solution having a pH of 10 to 13.5 at 25 ° C. The contact is preferably performed at 10 to 70 ° C., more preferably at 15 to 50 ° C. for 0.5 to 120 seconds. The contact method may be any method, such as dipping or spraying. When the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution gels, and when it is higher than 13.5, the anodized film is dissolved.

本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpH調整に使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記処理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVb族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性塩が挙げられる。第IVb族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属もしくは第IVb族金属塩は単独または2種以上組み合わせて使用する事ができる。これらの金属塩の好ましい範囲は、0.01〜10重量%であり、更に好ましくは0.05〜5.0重量%である。   As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Examples of the hydroxide used for adjusting the pH of the alkali metal silicate aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend an alkaline-earth metal salt or a group IVb metal salt with the said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Is mentioned. Examples of the Group IVb metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, and zirconium chloride oxide. Alkaline earth metals or Group IVb metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.05 to 5.0% by weight.

他には、各種封孔処理も挙げられ、一般的に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水蒸気封孔、沸騰水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸塩/重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ土類塩などによる)などを用いる事ができるが、印刷版用支持体としての性能(感熱層との密着性や親水性)、高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平4−176690号公報にも開示されている加圧または常圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70%以上・蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極酸化皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理法としては、支持体を80〜100℃程度の熱水またはアルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬または吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例としては、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VIa、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属塩としては、例えばLiO2、NaNO2、KNO2、Mg(NO22、Ca(NO22、Zn(NO32、Al(NO23、Zr(NO24、Sn(NO23、Cr(NO23、Co(NO22、Mn(NO22、Ni(NO22等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は2種以併用することもできる。 In addition, various sealing treatments are also mentioned, and generally known as a sealing treatment method for an anodized film, water vapor sealing, boiling water (hot water) sealing, metal salt sealing (chromate). / Bichromate seal, nickel acetate seal, etc.), oil-impregnated seal, synthetic resin seal, low temperature seal (due to red blood salt or alkaline earth salt, etc.) can be used. Water vapor sealing is relatively preferred from the standpoints of performance as a support for a substrate (adhesion and hydrophilicity with a heat-sensitive layer), high-speed processing, low cost, low pollution, and the like. As the method, for example, a pressurized or normal pressure steam disclosed in JP-A-4-176690 is continuously or non-continuously set at a relative humidity of 70% or more and a steam temperature of 95 ° C. or more for 2 seconds to 180 seconds. For example, a method of contacting the anodized film for about 2 seconds may be mentioned. Other sealing treatment methods include a method of immersing or spraying the support in hot water or an alkaline aqueous solution of about 80 to 100 ° C., or alternatively, or subsequently immersing or spraying with a nitrous acid solution. it can. Examples of nitrites include nitrites or ammonium salts of metals of groups Ia, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VIa, VIIa, VIII of the periodic table, i.e. ammonium nitrite, For example, LiO 2 , NaNO 2 , KNO 2 , Mg (NO 2 ) 2 , Ca (NO 2 ) 2 , Zn (NO 3 ) 2 , Al (NO 2 ) 3 , Zr (NO 2 ) 4 , Sn (NO 2) ) 3 , Cr (NO 2 ) 3 , Co (NO 2 ) 2 , Mn (NO 2 ) 2 , Ni (NO 2 ) 2 and the like are preferable, and alkali metal nitrite is particularly preferable. Two or more nitrites can be used in combination.

処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金属の種類により異なるので一義的には決定できないが、例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般的には0.001〜10重量%、より好ましくは0.01〜2重量%、浴温度は一般的には室温から約100℃前後、より好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的には15〜300秒、より好ましくは10〜180秒のそれぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のpHは8.0〜11.0に調製されていることが好ましく、8.5〜9.5に調製されていることが特に好ましい。亜硝酸水溶液のpHを上記の範囲に調製するには、例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することができる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いることができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いることができる。   The treatment conditions vary depending on the state of the support and the type of alkali metal, and therefore cannot be uniquely determined. For example, when sodium nitrite is used, the concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more Preferably 0.01 to 2 wt%, bath temperature is generally from room temperature to about 100 ° C, more preferably 60 to 90 ° C, treatment time is generally 15 to 300 seconds, more preferably 10 to 180. Select from each range of seconds. The pH of the aqueous nitrous acid solution is preferably adjusted to 8.0 to 11.0, particularly preferably 8.5 to 9.5. In order to adjust the pH of the aqueous nitrous acid solution to the above range, it can be suitably prepared using, for example, an alkaline buffer solution or the like. Examples of the alkaline buffer include, but are not limited to, a mixed aqueous solution of sodium bicarbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium bicarbonate, sodium chloride and sodium hydroxide. A mixed aqueous solution, a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, or the like can be suitably used. The alkali buffer may be an alkali metal salt other than sodium, such as a potassium salt.

以上のような、シリケート処理または封孔処理を施したあと、感熱層との密着性をアップさせるために特開平5−278362号公報に開示されている酸性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平4−282637号公報や特開平7−314937号公報に開示されている有機層を設けてもよい。   After performing the silicate treatment or the sealing treatment as described above, an acidic aqueous solution treatment and a hydrophilic undercoat disclosed in JP-A-5-278362 can be performed in order to improve the adhesion with the heat-sensitive layer. An organic layer disclosed in JP-A-4-282737 and JP-A-7-314937 may be provided.

支持体表面に以上のような処理或いは、下塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および特開平6−35174号記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。 After the above-described treatment or undercoating is applied to the support surface, a back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a back coat, a coating layer made of a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. Preferably used. Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.

平版印刷版用支持体として好ましい特性としては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmである。0.10μmより低いと感熱層と密着性が低下し、著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大きい場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像が見難く、著しく検版性が悪いものとなってしまう。   A preferable characteristic as a support for a lithographic printing plate is a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. If it is lower than 0.10 μm, the adhesiveness with the heat-sensitive layer is lowered, resulting in a significant reduction in printing durability. When it is larger than 1.2 μm, the stain property at the time of printing deteriorates. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.65 as a reflection density value. If the density is whiter than 0.15, the halation at the time of image exposure is too strong, which hinders image formation, and 0.65. In the case of a blacker color, it is difficult to see the image in the plate inspection work after development, and the plate inspection property is extremely poor.

なお、本発明の平版印刷版用原版は、その支持体として、粗面化処理を行なった後陽極酸化処理を行なったアルミニウム基板を用いることにより、より良好な機上現像性を得ることができる。その場合、さらにシリケート処理を行なったアルミニウム基板を用いることが、より好ましい。   The lithographic printing plate precursor according to the present invention can obtain better on-press developability by using an aluminum substrate that has been subjected to roughening and then anodized as the support. . In that case, it is more preferable to use an aluminum substrate that has been further silicate-treated.

本印刷版はアルミニウム基板上に水に不溶な親水性層あるいはレーザー露光により発熱しかつ水に不溶な親水性である層、あるいはアルミニウム基板上に断熱性を持たせるために有機ポリマーよりなる断熱層を設けたうえに、水に不溶な親水性層あるいはレーザー露光により発熱しかつ水に不溶な親水性である層を設けてもよい。例えば、アルミニウム基板上にシリカ微粒子と親水性樹脂の親水性層を設けてよい。さらにこの親水性層内に先に挙げた光熱変換材料を導入し、発熱性親水性層としてもよい。このようにすることでアルミニウム基板に熱が逃げ難くなるのみか、レーザー露光により発熱する親水性基板として用いることができる。更にこの親水性層とアルミニウム基板の間に有機ポリマーからなる中間層を設けると、より一層熱がアルミ基板に逃げることを抑制することができる。支持体としては、機上現像性の観点から、多孔質でないものが良く、また親水性有機高分子材料を40%以上含むような水により膨潤するような支持体はインクが払われ難く問題となってしまう。   This printing plate is a hydrophilic layer insoluble in water on an aluminum substrate, a hydrophilic layer that generates heat by laser exposure and is insoluble in water, or a heat insulating layer made of an organic polymer to provide heat insulation on the aluminum substrate. In addition, a hydrophilic layer insoluble in water or a hydrophilic layer that generates heat by laser exposure and is insoluble in water may be provided. For example, a hydrophilic layer of silica fine particles and a hydrophilic resin may be provided on an aluminum substrate. Furthermore, the photothermal conversion material listed above may be introduced into the hydrophilic layer to form an exothermic hydrophilic layer. This makes it difficult for heat to escape to the aluminum substrate, or it can be used as a hydrophilic substrate that generates heat by laser exposure. Furthermore, if an intermediate layer made of an organic polymer is provided between the hydrophilic layer and the aluminum substrate, it is possible to further prevent heat from escaping to the aluminum substrate. The support is preferably not porous from the viewpoint of on-press developability, and the support that swells with water containing 40% or more of the hydrophilic organic polymer material has a problem that ink is difficult to be removed. turn into.

本発明に使用される親水層は3次元架橋しており、水及び/又はインキを使用する平版印刷で、浸し水に溶けない層であり、下記のコロイドからなることが望ましい。ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン又は遷移金属の酸化物又は水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイドである。場合によってはこれらの元素の複合体からなるコロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これらが混在した構造となっている。活性なアルコキシ基や水酸基が多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行するにつれ粒子径は大きくなり不活性になる。コロイドの粒子は一般的には2nmから500nmで、シリカの場合5nmから100nmの球形のものが本発明では好適である。アルミニウムのコロイドのように100×10nmのような羽毛状のものも有効である。更には、10nmから50nmの球状粒子が50nmから400nmの長さに連なったパールネック状のコロイドも用いることができる。   The hydrophilic layer used in the present invention is three-dimensionally cross-linked, is a layer that does not dissolve in immersion water in lithographic printing using water and / or ink, and is preferably composed of the following colloids. It is a colloid comprising a sol-gel conversion system of oxide or hydroxide of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony or transition metal. In some cases, it may be a colloid composed of a complex of these elements. These colloids have a structure in which the above elements form a network structure through oxygen atoms and at the same time have an unbonded hydroxyl group or alkoxy group, and these are mixed. From the initial hydrolysis-condensation stage where there are many active alkoxy groups and hydroxyl groups, the particle size increases and becomes inactive as the reaction proceeds. The colloidal particles are generally 2 nm to 500 nm, and in the case of silica, those having a spherical shape of 5 nm to 100 nm are suitable in the present invention. A feather-like material such as 100 × 10 nm like an aluminum colloid is also effective. Furthermore, a pearl neck colloid in which spherical particles of 10 nm to 50 nm are connected in a length of 50 nm to 400 nm can also be used.

コロイドはそのもの単独で用いてもよく、更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能である。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤を添加しても良い。通常、コロイドは安定剤によって安定化されている場合が多い。カチオンに荷電しているコロイドではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに荷電しているコロイドではカチオン基を有する化合物が安定剤として添加されている。たとえば、ケイ素のコロイドではアニオンに荷電しているので、安定剤としてアミン系の化合物が添加され、アルミニウムのコロイドではカチオンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が添加されている。この様なコロイドを基板上に塗布すると、常温で透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイドの溶媒が蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤を除去できる温度に加熱することによって、強固な3次架橋を行い、本発明に好ましい親水層となる。   The colloid may be used alone or may be used by mixing with a hydrophilic resin. In order to promote crosslinking, a colloidal crosslinking agent may be added. Usually, colloids are often stabilized by stabilizers. In a colloid charged with a cation, a compound having an anion group is added as a stabilizer, whereas in a colloid charged with an anion, a compound having a cation group is added as a stabilizer. For example, since an anion is charged in a colloid of silicon, an amine compound is added as a stabilizer, and in a colloid of aluminum, a cation is charged, so a strong acid such as hydrochloric acid or acetic acid is added. When such a colloid is coated on a substrate, many of them form a transparent film at room temperature, but gelation is incomplete when the solvent of the colloid is evaporated, and heating to a temperature at which the stabilizer can be removed. , A strong tertiary cross-linking is performed, and a hydrophilic layer preferable for the present invention is obtained.

上記のような安定化剤を用いずに、出発物質(例えば、ジ、トリ及び/又はテトラアルコキシシラン)から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾル状態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反応を完了させても良い。この場合、安定化剤を含む場合よりも低温で三次元架橋させることができる。   Without using a stabilizer as described above, a hydrolytic condensation reaction is directly performed from a starting material (for example, di, tri and / or tetraalkoxysilane), an appropriate sol state is created, and is directly coated on a substrate. The reaction may be completed by drying. In this case, three-dimensional crosslinking can be performed at a lower temperature than when a stabilizer is included.

この他、適当な加水分解縮合反応物を有機溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適である。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得られる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルーエテルやメチルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、常温での乾燥が可能となる。とくに本発明では、メタノールやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易であり有用である。   In addition, a colloid obtained by dispersing and stabilizing an appropriate hydrolysis-condensation reaction product in an organic solvent is also suitable for the present invention. A film that is three-dimensionally crosslinked can be obtained simply by evaporating the solvent. When a solvent having a low boiling point such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether or methyl ethyl ketone is selected as these solvents, drying at room temperature becomes possible. In particular, in the present invention, a colloid of methanol or ethanol solvent is useful because it can be easily cured at a low temperature.

上記のコロイドと共に用いる親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸あるいはその塩のホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができる。   As hydrophilic resin used with said colloid, what has hydrophilic groups, such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl, is preferable, for example. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and their sodium salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids And salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxy Homopolymers and copolymers of butyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene Recalls, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight, Mention may be made of homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, and homopolymers and copolymers of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or its salts.

特に好ましい親水性樹脂は水溶性でない水酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマーとヒドロキシエチルアクリレートのコポリマーである。これらの親水性樹脂はコロイドと共に用いられるが、その添加割合は親水性樹脂が水溶性の場合、親水層の全固形分の40重量%以下が好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合は全固形分の20重量%以下が好ましい。   Particularly preferred hydrophilic resins are hydroxyl-containing polymers that are not water soluble, specifically hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate. These hydrophilic resins are used together with colloids, but the addition ratio is preferably 40% by weight or less based on the total solid content of the hydrophilic layer when the hydrophilic resin is water-soluble, and the total solid content when the hydrophilic resin is not water-soluble. It is preferably 20% by weight or less.

これらの親水性樹脂はそのまま用いることもできるが、印刷時の耐刷力を増加さる目的で、コロイド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。この様な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グリオキザール、ポリイソシアネート及びテトラアルコキシシランの初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素やヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。本発明の親水層には上記の酸化物又は水酸化物のコロイドと親水性樹脂以外に、コロイドの架橋を促進する架橋剤を添加してもよい。その様な架橋剤としてはテトラアルコキシシランの初期加水分解縮合物、トリアルコキシシリルプロピル−N,N,N−トリアルキルアンモニウムハライドあるいはアミノプロピルトリアルコキシシランが好ましい。その添加割合は親水層の全固形分の5重量%以下であることが好ましい。   Although these hydrophilic resins can be used as they are, a crosslinking agent for hydrophilic resins other than colloids may be added for the purpose of increasing the printing durability during printing. Examples of such a hydrophilic resin crosslinking agent include initial hydrolysis / condensation products of formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate and tetraalkoxysilane, dimethylol urea and hexamethylol melamine. In addition to the above-mentioned oxide or hydroxide colloid and hydrophilic resin, the hydrophilic layer of the present invention may contain a crosslinking agent that promotes crosslinking of the colloid. As such a crosslinking agent, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide or aminopropyltrialkoxysilane is preferable. The addition ratio is preferably 5% by weight or less of the total solid content of the hydrophilic layer.

更に本発明の親水層には、感熱感度を高めるために親水性の光熱変換材料を添加してもよい。特に好ましい光熱変換材料は水溶性の赤外線吸収染料で、前記の式(I)のスルホン酸基やスルフォン酸のアルカリ金属塩基あるいはアミン塩基を有するシアニン染料である。これらの染料の添加割合は親水層の全量に対し、1重量%〜20重量%で、更に好ましくは5重量%〜15重量%である。   Furthermore, a hydrophilic photothermal conversion material may be added to the hydrophilic layer of the present invention in order to increase the thermal sensitivity. A particularly preferred photothermal conversion material is a water-soluble infrared-absorbing dye, which is a cyanine dye having a sulfonic acid group of formula (I) or an alkali metal base or an amine base of sulfonic acid. The addition ratio of these dyes is 1% by weight to 20% by weight, more preferably 5% by weight to 15% by weight, based on the total amount of the hydrophilic layer.

本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚みは0.1μmから10μmであることが好ましい。より好ましくは、0.5μmから5μmである。薄すぎると、親水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。また厚すぎると、解像度が低下する。以後、有機ポリマーよりなる中間層について述べる。中間層に用いることのできる有機ポリマーはポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、クレゾール樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ビニル樹脂など通常使用される有機ポリマーであれば問題なく使用することができる。これらは0.1g/m2〜5.0g/m2の塗布量であることが好ましい。0.1g/m2以下だと断熱効果が小さく、5.0g/m2より大きいと非画像部の耐刷性が劣化する。 The coating thickness of the three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer of the present invention is preferably 0.1 μm to 10 μm. More preferably, it is 0.5 μm to 5 μm. If it is too thin, the durability of the hydrophilic layer is inferior and the printing durability during printing is inferior. If it is too thick, the resolution is lowered. Hereinafter, an intermediate layer made of an organic polymer will be described. The organic polymer that can be used for the intermediate layer can be used without any problem as long as it is a commonly used organic polymer such as polyurethane resin, polyester resin, acrylic resin, cresol resin, resol resin, polyvinyl acetal resin, vinyl resin. It is preferred that these are the coating weight of 0.1g / m 2 ~5.0g / m 2 . When it is 0.1 g / m 2 or less, the heat insulating effect is small, and when it is larger than 5.0 g / m 2 , the printing durability of the non-image area is deteriorated.

本発明の平版印刷版用原版は高出力のレーザー露光により、画像形成することができるが、サーマルヘッドのような書込み機を用いてもよい。特に本発明では赤外または近赤外領域で発光するレーザーを用いることが好ましい。特に近赤外領域で発光するレーザーダイオードが特に好ましい。なお、この場合、その感熱層に含まれるマイクロカプセルの外壁が破れるエネルギー量で行う必要がある。また、紫外線ランプによる記録も可能であるが、本発明においては、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。 Although the lithographic printing plate precursor of the present invention can form an image by high-power laser exposure, a writing machine such as a thermal head may be used. In particular, in the present invention, it is preferable to use a laser that emits light in the infrared or near infrared region. A laser diode that emits light in the near infrared region is particularly preferable. In this case, it is necessary to carry out with an energy amount that can break the outer wall of the microcapsule contained in the heat sensitive layer. In addition, although recording with an ultraviolet lamp is possible, in the present invention, image exposure is preferably performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 .

このようにして露光されたプレートは処理することなく、印刷機のシリンダーに取り付けられる。このようにして取り付けられたプレートは以下のような手順で印刷することができる。
(1)印刷版に湿し水を供給し、機上で現像した後に更にインクを供給して印刷を開始する方法、(2)印刷版に湿し水およびインクを供給し、機上で現像した後に印刷を開始する方法、(3)インクを版に供給し、湿し水を供給すると同時に紙を供給し印刷を開始する方法などがある。またこれらのプレートは特許第2938398号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取り付けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿し水及び/またはインクをつけて機上現像することも可能であり、好ましくは水又は水溶液によって現像可能な、あるいは現像することなしにそのまま印刷機に装着し印刷することが可能なものである。
The plate exposed in this way is attached to the cylinder of the printing press without processing. The plate attached in this way can be printed in the following procedure.
(1) Supplying dampening water to the printing plate and developing it on the machine, then supplying ink and starting printing. (2) Supplying dampening water and ink to the printing plate and developing on the machine There are a method of starting printing after printing, and (3) a method of supplying ink to the plate, supplying dampening water, and simultaneously supplying paper and starting printing. Further, as described in Japanese Patent No. 2938398, these plates are mounted on a printing machine cylinder, exposed by a laser mounted on the printing machine, and then dampened with water and / or ink. The image can be developed on top, and is preferably developable with water or an aqueous solution, or can be mounted on a printing machine and printed without being developed.

以下、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1〜6、比較例1〜3
支持体(1)の作成(アルミニウム基板の作成)
99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A1050合金の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理を行った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板厚0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated with an Example, this invention is not limited to these Examples.
Examples 1-6, Comparative Examples 1-3
Preparation of support (1) (preparation of aluminum substrate)
A molten metal of JIS A1050 alloy containing 99.5% or more of aluminum and Fe 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, and Cu 0.013% was subjected to a cleaning treatment and cast. In the cleaning process, a degassing process was performed to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter process was performed. The casting method was a DC casting method. The solidified 500 mm thick ingot was chamfered 10 mm from the surface and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so as not to coarsen the intermetallic compound. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, cold rolling was performed to obtain an aluminum rolled plate having a thickness of 0.30 mm. By controlling the roughness of the rolling roll, the centerline average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm. Then, it applied to the tension leveler in order to improve planarity.

次に平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。   Next, the surface treatment for making a lithographic printing plate support was performed. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, degreasing treatment was carried out with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal treatment were carried out with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds.

次いで支持体と感熱層の密着性を良好にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。(アルミニウム基板A) Next, in order to improve the adhesion between the support and the heat-sensitive layer and to provide water retention to the non-image area, a so-called graining treatment was performed to roughen the surface of the support. While maintaining an aqueous solution containing 1% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate at 45 ° C. and flowing an aluminum web through the aqueous solution, an alternating waveform with a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect power supply cell Then, electrolytic graining was performed by giving an anode side electric quantity of 240 C / dm 2 . Thereafter, etching treatment was performed with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal treatment were performed with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds. (Aluminum substrate A)

さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。(アルミニウム基板B)
この後印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。以上により作成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。(アルミニウム基板C)
Furthermore, in order to improve wear resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. An anodized film of 2.5 g / m 2 by using a 20% sulfuric acid aqueous solution as an electrolyte at 35 ° C. and carrying out an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power feeding cell while carrying an aluminum web into the electrolyte. It was created. (Aluminum substrate B)
Thereafter, a silicate treatment was performed in order to ensure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. The treatment was carried with a 1.5% aqueous solution of sodium silicate 3 maintained at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds and further washed with water. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Ra (center line surface roughness) of the support prepared as described above was 0.25 μm. (Aluminum substrate C)

支持体(2)の作成(アルミ基板上に発熱性親水性層を設けた支持体の作成)
メタノール240gにメタノールシリカゾル (日産化学(株)製:10nm〜20nmのシリカ粒子を30重量%含有するメタノール溶液からなるコロイド)45.2g、ポリ2−ヒドロキシエチルメタクリレート1.52g、赤外線吸収染料(I−32)3.2gを溶解し、先に得られたアルミニウム基板C上にバー塗布を行った。オーブンを用いて100度30秒の条件で乾燥させた。塗布量は1.0g/m2であった。
Preparation of support (2) (preparation of support with exothermic hydrophilic layer provided on aluminum substrate)
Methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: colloid consisting of methanol solution containing 30% by weight of silica particles of 10 nm to 20 nm) 45.2 g of methanol, 1.52 g of poly-2-hydroxyethyl methacrylate, infrared absorbing dye (I -32) 3.2 g was dissolved, and bar coating was performed on the aluminum substrate C obtained previously. It dried on 100 degree and 30 second conditions using oven. The coating amount was 1.0 g / m 2 .

支持体(3)の作成(アルミ基板上に断熱性層を設け更に発熱性親水層を設けた支持体の作成)
断熱性層の塗布
メチルエチルケトン100g、乳酸メチル90gにポリビニルブチラール樹脂10gを溶解し、先に得られたアルミニウム基板C上にバー塗布を行った。オーブンを用い100度、1分の条件で乾燥した。塗布量は0.5g/m2であった。
発熱性親水性層の塗布
メタノール240gにメタノールシリカゾル45.2g、ポリ2−ヒドロキシエチルメタクリレート1.52g、赤外線吸収染料(I−32)3.2gを溶解し、先に得られた断熱層上にバー塗布を行った。オーブンを用いて100度30秒の条件で乾燥させた。塗布量は1.0g/m2であった。
Preparation of support (3) (preparation of support with a heat-insulating layer on an aluminum substrate and a heat-generating hydrophilic layer)
Application of heat insulating layer 10 g of polyvinyl butyral resin was dissolved in 100 g of methyl ethyl ketone and 90 g of methyl lactate, and bar coating was performed on the aluminum substrate C obtained previously. It dried on 100 degree and 1 minute conditions using oven. The coating amount was 0.5 g / m 2 .
Application of Exothermic Hydrophilic Layer Dissolve 45.2 g of methanol silica sol, 1.52 g of poly-2-hydroxyethyl methacrylate and 3.2 g of infrared absorbing dye (I-32) in 240 g of methanol. Bar coating was performed. It dried on 100 degree and 30 second conditions using oven. The coating amount was 1.0 g / m 2 .

マイクロカプセルの合成
熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成(1)
油相成分としてキシレンジイソシアネート40g、トリメチロールプロパンジアクリレート10g、アリルメタクリレートとブチルメタクリレートの共重合体(モル比 60/40)パイオニンA41C(竹本油脂製)10gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに40度で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.5μmであった。
Synthesis of microcapsules whose outer wall is broken by the heat of synthesis of microcapsules (1)
As an oil phase component, 40 g of xylene diisocyanate, 10 g of trimethylolpropane diacrylate, 10 g of a copolymer of allyl methacrylate and butyl methacrylate (molar ratio 60/40), Pionein A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.5 μm.

熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成(2)
油相成分としてイソホロンジイソシアネート30g、ヘキサメチレンジイソシアネート10g、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル20g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに40度で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.7μmであった。
Synthesis of microcapsules whose outer walls are broken by heat (2)
As oil phase components, 30 g of isophorone diisocyanate, 10 g of hexamethylene diisocyanate, 20 g of diethylene glycol diglycidyl ether, and 0.1 g of Pionine A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The thus obtained microcapsule liquid had a solid content of 20% and an average particle size of 0.7 μm.

熱により合体する微粒子状ポリマーの合成(1)(比較例)(反応基を持たない)
スチレン15g、ポリオキシエチレンフェノール水溶液(濃度9.84×10-3mol・l-1)200mlを加え、250rpmでかき混ぜながら、系内を窒素ガスで置換する。この液を25℃にした後、セリウム(IV)アンモニウム塩水溶液(濃度0.984×10-3mol・l-1)10ml添加する。この際、硝酸アンモニウム水溶液(濃度58.8×10-3mol・l-1)を加え、pH1.3〜1.4に調整する。その後8時間これを攪拌した。このようにして得られた液の固形分濃度は9.5%であり、平均粒径は0.4μmであった。
Synthesis of particulate polymer that coalesces by heat (1) (comparative example) (no reactive group)
15 g of styrene and 200 ml of a polyoxyethylenephenol aqueous solution (concentration 9.84 × 10 −3 mol·l −1 ) are added, and the system is replaced with nitrogen gas while stirring at 250 rpm. After the temperature of this liquid is 25 ° C., 10 ml of an aqueous cerium (IV) ammonium salt solution (concentration 0.984 × 10 −3 mol·l −1 ) is added. At this time, an aqueous ammonium nitrate solution (concentration 58.8 × 10 −3 mol·l −1 ) is added to adjust the pH to 1.3 to 1.4. This was then stirred for 8 hours. The liquid thus obtained had a solid content concentration of 9.5% and an average particle size of 0.4 μm.

感熱層の塗布
以上のように作成した支持体(1)、(2)、(3)上に、合成例(1)、(2)のマイクロカプセルおよび合成例(1)の熱により合体する微粒子状ポリマーをそれぞれ含有する以下の組成よりなる塗布液を作成し、感熱層の塗布を行った。
Application of heat-sensitive layer Fine particles to be combined with the microcapsules of Synthesis Examples (1) and (2) and the heat of Synthesis Example (1) on the supports (1), (2) and (3) prepared as described above The coating liquid which consists of the following compositions each containing a shape polymer was created, and the heat sensitive layer was apply | coated.

感熱層塗布液組成
水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
合成したマイクロカプセル(1)、(2)、 5 g
熱により合体する微粒子状ポリマー(1)(固形分換算で)
ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5g
p−ジアゾジフェニルアミンの硫酸塩 0.3g
赤外線吸収染料(I−32) 0.3g
Thermosensitive layer coating solution composition Water 70 g
1-methoxy-2-propanol 30 g
Synthesized microcapsules (1), (2), 5 g
Particulate polymer that coalesces by heat (1) (in terms of solid content)
Polyhydroxyethyl acrylate 0.5g
0.3 g of sulfate of p-diazodiphenylamine
Infrared absorbing dye (I-32) 0.3g

以上の液をバー塗布した後、オーブンで90度120秒の条件で乾燥した。塗布量は0.5g/m2であった。このようにして得られた機上現像可能な平版印刷版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter 3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した後、処理することなく、印刷機ハイデルSOR−Mのシリンダーに取付け、湿し水を供給したのち、インキを供給し、さらに紙を供給し印刷を行った。すべてのプレートについて問題なく機上現像することができ印刷可能であった。各プレートで得られた印刷物の枚数を表−1に記載した。 After the above liquid was applied by a bar, it was dried in an oven at 90 ° C. for 120 seconds. The coating amount was 0.5 g / m 2 . The on-press developable lithographic printing plate thus obtained was output by a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm 2 , After exposure at a resolution of 2400 dpi, without being processed, it was attached to a cylinder of a printing machine Heidel SOR-M, dampening water was supplied, ink was supplied, paper was further supplied, and printing was performed. All plates could be developed on-press without problems and were printable. The number of printed materials obtained on each plate is shown in Table-1.

Figure 2008188995
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以上の結果から、マイクロカプセルを感熱層に有する平版印刷版の方が耐刷性について良好であることが分かった。またアルミニウム基板上に発熱性親水層を設けた支持体、あるいはアルミ基板上に断熱性層を設け更にその上に発熱性親水層を設けた支持体の方が耐刷性について良好となることが分かった。レーザー照射時に熱で外壁が破れるマイクロカプセル(1)および(2)は、熱により合体する微粒子状ポリマー(1)よりも低エネルギー露光時に耐刷性が高いことが分かった。   From the above results, it was found that the lithographic printing plate having microcapsules in the heat-sensitive layer has better printing durability. In addition, a support having an exothermic hydrophilic layer provided on an aluminum substrate, or a support having an insulating layer provided on an aluminum substrate and further provided with an exothermic hydrophilic layer may have better printing durability. I understood. It was found that the microcapsules (1) and (2) whose outer walls are broken by heat upon laser irradiation have higher printing durability at the time of low energy exposure than the fine particle polymer (1) which is coalesced by heat.

実施例7
支持体(3)の上に下記よりなる、感熱性層塗布液を塗布した。
Example 7
On the support (3), a thermosensitive layer coating solution comprising the following was applied.

水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
合成したマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 5 g
ポリアクリル酸(重量平均分子量 25000) 0.5g
ソルビトールトリアクリレート 1.0g
赤外線吸収染料(I−31) 0.3g
t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g
70 g of water
1-methoxy-2-propanol 30 g
Synthesized microcapsule (1) (in terms of solid content) 5 g
Polyacrylic acid (weight average molecular weight 25000) 0.5g
Sorbitol triacrylate 1.0g
Infrared absorbing dye (I-31) 0.3g
0.3 g of t-butyldiphenyliodonium sulfate

このようにして得られたプレートを、マルチチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel T−9000CTPにて、ビーム1本当たりの出力250mW、外面ドラム回転数800rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。実施例1〜6と同様に印刷したところ15000枚の正常な印刷を行うことができた。   The plate thus obtained was subjected to the conditions of 250 mW per beam output, 800 rpm external drum rotation, and 2400 dpi resolution on a Luxel T-9000CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with a multichannel laser head. Exposed. When printing was performed in the same manner as in Examples 1 to 6, normal printing of 15000 sheets could be performed.

実施例8
支持体(3)の上に下記よりなる、感熱性層塗布液を塗布した。
Example 8
On the support (3), a thermosensitive layer coating solution comprising the following was applied.

水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
マイクロカプセル(2)(固形分換算で) 5 g
ポリアクリル酸(重量平均分子量 25000) 0.5g
ジエチレントリアミン 1.0g
赤外線吸収染料(I−31) 0.3g
t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g
70 g of water
1-methoxy-2-propanol 30 g
Microcapsule (2) (in terms of solid content) 5 g
Polyacrylic acid (weight average molecular weight 25000) 0.5g
Diethylenetriamine 1.0g
Infrared absorbing dye (I-31) 0.3g
0.3 g of t-butyldiphenyliodonium sulfate

このようにして得られたプレートを、マルチチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel T−9000CTPにて、ビーム1本当たりの出力250mW、外面ドラム回転数800rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。実施例1〜6と同様に印刷したところ30000枚の正常な印刷を行うことができた。   The plate thus obtained was subjected to the conditions of 250 mW per beam output, 800 rpm external drum rotation, and 2400 dpi resolution on a Luxel T-9000CTP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with a multichannel laser head. Exposed. When printing was performed in the same manner as in Examples 1 to 6, normal printing of 30000 sheets could be performed.

実施例9〜11
下記マイクロカプセル(3)および(4)を合成し、前記支持体(1)の上に下記よりなる感熱性層塗布液を塗布した以外は、実施例1〜6と同様に、平版印刷版用原版の作成、画像露光、印刷を行った。
Examples 9-11
The following microcapsules (3) and (4) were synthesized, and for a lithographic printing plate, as in Examples 1 to 6, except that a heat-sensitive layer coating liquid comprising the following was coated on the support (1). Preparation of the original plate, image exposure, and printing were performed.

熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成(3)
油相成分としてキシレンジイソシナナエート40g、トリメチロールプロパンジアクリレート9g、アリルメタクリレートとブチルアクリレートの共重合体8g(モル比60/40)赤外線吸収染料(I−33)3g、パイオニンA41C(竹本油脂性)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてはPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後水を40g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間撹拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.6μmであった。
Synthesis of microcapsules whose outer walls are broken by heat (3)
As an oil phase component, 40 g of xylene diisocinanaate, 9 g of trimethylolpropane diacrylate, 8 g of a copolymer of allyl methacrylate and butyl acrylate (molar ratio 60/40) 3 g of infrared absorbing dye (I-33), Pionine A41C (Takemoto Oil A) 0.1 g was dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.6 μm.

熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成(4)
油相成分としてキシレンジイソシナナエート40g、トリメチロールプロパンジアクリレート9g、アリルメタクリレートとブチルアクリレートの共重合体8g(モル比60/40)赤外線吸収染料(I−33)3g、パイオニンA41C(竹本油脂性)0.1g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル1.0gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてはPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。その後水を40g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間撹拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.6μmであった。
Synthesis of microcapsules whose outer walls are broken by heat (4)
As an oil phase component, 40 g of xylene diisocinanaate, 9 g of trimethylolpropane diacrylate, 8 g of a copolymer of allyl methacrylate and butyl acrylate (molar ratio 60/40) 3 g of infrared absorbing dye (I-33), Pionine A41C (Takemoto Oil A) 0.1 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile (1.0 g) was dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid thus obtained had a solid content concentration of 20% and an average particle size of 0.6 μm.

実施例9の感熱性層塗布液
水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
合成したマイクロカプセル(3) 5 g
ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5g
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩 0.3g
Thermosensitive layer coating solution of Example 9 70 g of water
1-methoxy-2-propanol 30 g
Synthesized microcapsule (3) 5 g
Polyhydroxyethyl acrylate 0.5g
p-diazodiphenylamine sulfate 0.3 g

実施例10の感熱性層塗布液
水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
合成したマイクロカプセル(3) 5 g
ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5g
パラジアゾジフェニルアミン硫酸塩 0.3g
赤外線吸収染料(I−32) 0.1g
Thermosensitive layer coating solution of Example 10 Water 70 g
1-methoxy-2-propanol 30 g
Synthesized microcapsule (3) 5 g
Polyhydroxyethyl acrylate 0.5g
Paradiazodiphenylamine sulfate 0.3g
Infrared absorbing dye (I-32) 0.1g

実施例11の感熱性層塗布液
水 70 g
1−メトキシ−2−プロパノール 30 g
合成したマイクロカプセル(4) 5 g
ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5g
パラジアゾジフェニルアミン硫酸塩 0.3g
赤外線吸収染料(I−32) 0.1g
Heat-sensitive layer coating solution of Example 11 Water 70 g
1-methoxy-2-propanol 30 g
Synthesized microcapsule (4) 5 g
Polyhydroxyethyl acrylate 0.5g
Paradiazodiphenylamine sulfate 0.3g
Infrared absorbing dye (I-32) 0.1g

実施例9、10における印刷可能枚数はいずれも15000枚であり、実施例11における印刷可能枚数は25000枚であり、マイクロカプセル内に光熱変換物質を含まない実施例1(9000枚)に比べ高耐刷性を示し、さらに反応を開始促進する化合物をマイクロカプセル内に入れることでさらなる高耐刷性を示した。   In Examples 9 and 10, the number of printable sheets is 15000 sheets, the number of printable sheets in Example 11 is 25000 sheets, which is higher than that of Example 1 (9000 sheets) that does not contain a photothermal conversion substance in the microcapsules. A compound exhibiting printing durability and further promoting initiation of the reaction was placed in a microcapsule to further increase printing durability.

実施例12〜14
前記支持体(1)の作成工程によって得られるアルミニウム基板A〜Cを用いた以外は、実施例1と同様に、平版印刷版用原版の作成、画像露光、印刷を行い、その機上現像性を評価した。なお、機上現像性は、印刷開始から100枚目の印刷物における150線/インチの網点のシャドー部が、何%まで再現できるかを観察し、その値が高いほど良好なものとした。結果を下記表−2に示す。
Examples 12-14
Except for using the aluminum substrates A to C obtained by the production process of the support (1), the lithographic printing plate precursor was prepared, image-exposed, and printed in the same manner as in Example 1, and its on-machine developability. Evaluated. The on-press developability was determined by observing how much the shadow portion of the dot of 150 lines / inch in the 100th printed material from the start of printing can be reproduced, and the higher the value, the better. The results are shown in Table-2 below.

Figure 2008188995
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上記表−2より、支持体として、陽極酸化処理、さらにはシリケート処理を行ったアルミニウム基板を用いた方が、機上現像性に優れていることが解った。   From Table 2 above, it was found that the use of an anodized aluminum substrate and further an silicate-treated aluminum substrate as the support was superior in on-press developability.

Claims (3)

親水性支持体上に、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基を有する化合物を含有しているマイクロカプセルからなる感熱層を設け、光熱変換材料を感熱層かその隣接する層に含有していることを特徴とする平版印刷版用原版。   On the hydrophilic support, a heat-sensitive layer comprising a microcapsule containing a compound having a functional group whose outer wall is broken by the heat used for image formation and reacts by the heat is provided, and the photothermal conversion material is the heat-sensitive layer or its A lithographic printing plate precursor, which is contained in an adjacent layer. 前記親水性支持体が粗面化処理を行なった後、陽極酸化処理を行なったアルミニウム基板であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版用原版。   2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the hydrophilic support is an anodized aluminum substrate after a surface roughening treatment. 前記アルミニウム基板がさらにシリケート処理を行なったものであることを特徴とする請求項2記載の平版印刷版用原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the aluminum substrate is further subjected to a silicate treatment.
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