JP2002079772A - Original film for lithographic printing plate, method of making lithographic printing plate using the same and method of printing - Google Patents

Original film for lithographic printing plate, method of making lithographic printing plate using the same and method of printing

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JP2002079772A
JP2002079772A JP2000268673A JP2000268673A JP2002079772A JP 2002079772 A JP2002079772 A JP 2002079772A JP 2000268673 A JP2000268673 A JP 2000268673A JP 2000268673 A JP2000268673 A JP 2000268673A JP 2002079772 A JP2002079772 A JP 2002079772A
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JP
Japan
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group
printing plate
layer
lithographic printing
printing
Prior art date
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Application number
JP2000268673A
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Japanese (ja)
Inventor
Noribumi Inno
紀文 因埜
Kazuo Maemoto
一夫 前本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original film for a lithographic printing plate having excellent on-press developability and high sensitivity, showing high plate wear and being excellent in scumming properties (ink clearing properties) in printing, a method of making the lithographic printing plate using the same and a method of printing. SOLUTION: The original film has a hydrophilic layer and a heat-sensitive layer containing microcapsules each containing a compound having a thermally reactive functional group, in this sequence, on a plastic film substrate. The film is subjected to image exposure by laser light and mounted, as it is, on a press to be subjected to printing. In another way, the film is subjected to the image exposure on the press by the laser light after it is mounted thereon, and subjected to printing as it is.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要のコンピ
ュータ・ツウ・プレートシステム用の平版印刷版用原版
及びそれを用いた平版印刷版の製版、印刷方法に関す
る。より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線走査
露光による画像記録が可能であり、画像記録したものは
従来のような液体による現像工程を経ることなしに、そ
のまま印刷機に装着して印刷することが可能な平版印刷
版用原版及びそれを用いた平版印刷版の製版、印刷方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor for a computer-to-plate system which does not require development, and a lithographic printing plate making and printing method using the same. More specifically, it is possible to record an image by infrared scanning exposure based on a digital signal, and the recorded image can be directly attached to a printing machine and printed without going through a conventional liquid developing process. The present invention relates to a possible lithographic printing plate precursor and a method of making and printing a lithographic printing plate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用平版印刷版用原版については、
多数の研究がなされている。その中で、より一層の工程
合理化と廃液処理問題の解決を目指すものとして、露光
後、そのまま印刷機に装着して印刷可能な平版印刷用原
版が研究され、種々の方法が提案されている。有望な方
法の一つは、親水性バインダーポリマー中に疎水性熱可
塑性ポリマー粒子を分散した親水層を画像形成層(感熱
層)とする平版印刷版用原版である。感熱層に熱を加え
ると疎水性熱可塑性ポリマー粒子が融着し、親水性感熱
層表面が親油性画像部に変換することを利用した方法で
ある。
2. Description of the Related Art With regard to lithographic printing plates for computer-to-plate systems, which have been remarkably progressing in recent years,
Numerous studies have been done. Among them, with the aim of further streamlining the process and solving the problem of waste liquid treatment, a planographic printing plate precursor that can be directly mounted on a printing machine and printed after exposure has been studied, and various methods have been proposed. One promising method is a lithographic printing plate precursor in which a hydrophilic layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is used as an image forming layer (thermosensitive layer). This method utilizes the fact that when heat is applied to the heat-sensitive layer, the hydrophobic thermoplastic polymer particles are fused and the surface of the hydrophilic heat-sensitive layer is converted into an oleophilic image area.

【0003】かかる疎水性熱可塑性ポリマー粒子の熱融
着を利用した方式の中で、処理工程をなくす方法の一つ
に、露光済みの平版印刷版用原版を印刷機のシリンダー
に装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを
供給することによって、平版印刷版用原版の非画像部を
除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、平
版印刷版用原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通
常の印刷過程の中で処理が完了する方式である。このよ
うな機上現像に適した平版印刷版用原版は、湿し水やイ
ンキ溶剤に可溶な感光層を有し、しかも、明室に置かれ
た印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有
することが必要とされる。
One of the methods utilizing the thermal fusion of the hydrophobic thermoplastic polymer particles to eliminate the processing step is to mount an exposed lithographic printing plate precursor on a cylinder of a printing machine, There is a method called on-press development in which a non-image portion of a lithographic printing plate precursor is removed by supplying a dampening solution and ink while rotating the plate. That is, the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine as it is after exposure, and the processing is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such on-press development has a photosensitive layer that is soluble in fountain solution and ink solvent, and is suitable for development on a printing machine placed in a bright room. It is necessary to have a light room handling property.

【0004】例えば、特許第2938397号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷版用原版が開示されている。この公報には、
該平版印刷版用原版において、赤外線レーザー露光して
熱可塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画
像形成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し
水及び/又はインキを供給することにより機上現像でき
ることが記載されている。
For example, Japanese Patent No. 2938397 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. ing. In this publication,
In the lithographic printing plate precursor, an image is formed by exposing the thermoplastic hydrophobic polymer particles by heat by exposing the plate to infrared rays, and then mounting the plate on a cylinder of a printing press and supplying fountain solution and / or ink. It is described that on-press development can be performed by carrying out.

【0005】また、特開平9−127683号公報およ
びWO99−10186号公報にも熱可塑性微粒子を熱
による合体後、機上現像により印刷版を作製することが
記載されている。しかしながら、このような熱による微
粒子の合体で画像を作る方法は、良好な機上現像性を示
すものの、アルミニウム支持体と画像との接着力が弱
く、また画像強度も弱いために、耐刷性が不十分という
問題があった。この対策として、接着力の強いリン酸浴
陽極酸化皮膜を使用することが知られているが、この方
法では、印刷における汚れ性(インキ払い性)が劣化し
てしまう欠点があった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-127683 and WO99-10186 also disclose that a printing plate is prepared by on-press development after combining thermoplastic fine particles by heat. However, such a method of forming an image by coalescence of fine particles by heat shows good on-press developability, but the adhesion between the aluminum support and the image is weak, and the image strength is also low, so that the printing durability is poor. Was insufficient. As a countermeasure against this, it is known to use a phosphoric acid bath anodic oxide film having a strong adhesive force, but this method has a drawback in that the stain property (ink removal property) in printing deteriorates.

【0006】また、特開平8−48020号公報には、
親油性感熱性層を多孔質親水性支持体上に設けて、赤外
線レーザで露光し、熱により親油性感熱性層を基板に固
着する方法が記載されている。しかし、親油性の皮膜で
は機上現像性が悪く、インキローラー又は印刷物へ親油
性感熱層のカスが付着する問題がある。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-48020 discloses that
A method is described in which a lipophilic thermosensitive layer is provided on a porous hydrophilic support, exposed to infrared laser, and the lipophilic thermosensitive layer is fixed to a substrate by heat. However, a lipophilic film has poor on-press developability, and there is a problem that scum of the lipophilic thermosensitive layer adheres to an ink roller or printed matter.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記のような先行技術の欠点を克服した平版印刷版
用原版及びそれを用いた平版印刷版の製版、印刷方法を
提供することであり、即ち、良好な機上現像性を有し、
感度が高く、かつ高耐刷性を示し、しかも印刷での汚れ
性(インキ払い性)が良好な平版印刷版用原版及びそれ
を用いた平版印刷版の製版、印刷方法を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which overcomes the above-mentioned drawbacks of the prior art, and a lithographic printing plate making and printing method using the same. That is, having good on-press developability,
It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor having high sensitivity, high printing durability, and good stainability (ink removal property) in printing, and a lithographic printing plate making and printing method using the same. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、熱反応性の化合物による画像強度の向上と断熱性
のプラスチック支持体による熱反応性の向上によって耐
刷性を確保し、さらに、特定の親水性層によって印刷汚
れを良化させて、上記目的を達成できることを見出し、
本発明に到達した。即ち、本発明は以下の通りである。 (1)プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、
熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプ
セルを含有する感熱層とをこの順に有することを特徴と
する平版印刷版用原版。
Means for Solving the Problems As a result of diligent studies, the present inventor has ensured printing durability by improving the image strength with a heat-reactive compound and improving the thermal reactivity with a heat-insulating plastic support, Further, it has been found that the above-mentioned object can be achieved by improving the printing stain by a specific hydrophilic layer,
The present invention has been reached. That is, the present invention is as follows. (1) a hydrophilic layer on a plastic film support,
A lithographic printing plate precursor comprising, in this order, a heat-sensitive layer containing microcapsules containing a compound having a heat-reactive functional group.

【0009】(2)前記親水性層が、ゾル−ゲル変換に
より形成した無機マトリックスを含有することを特徴と
する前記(1)に記載の平版印刷版用原版。 (3)前記親水性層が、金属酸化物を含有する表面を有
する無機薄膜であることを特徴とする前記(1)に記載
の平版印刷版用原版。 (4)前記感熱層上に、水溶性オーバーコート層を更に
有することを特徴とする前記(1)〜(3)に記載の平
版印刷版用原版。
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the hydrophilic layer contains an inorganic matrix formed by sol-gel conversion. (3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the hydrophilic layer is an inorganic thin film having a surface containing a metal oxide. (4) The lithographic printing plate precursor as described in any of (1) to (3) above, further including a water-soluble overcoat layer on the heat-sensitive layer.

【0010】(5)プラスチックフィルム支持体上に、
親水性層と、熱反応性官能基を有する化合物を内包する
マイクロカプセルを含有する感熱層とをこの順に有する
平版印刷版用原版を、レーザー光によって画像露光し、
そのまま印刷機に取り付けて印刷するか、又は印刷機に
取り付けた後に、印刷機上でレーザー光によって画像露
光し、そのまま印刷することを特徴とする平版印刷版の
製版及び印刷方法。
(5) On a plastic film support,
A lithographic printing plate precursor having, in this order, a hydrophilic layer and a heat-sensitive layer containing microcapsules containing a compound having a heat-reactive functional group, is image-exposed by laser light,
A plate making and printing method for a lithographic printing plate, wherein the lithographic printing plate is mounted on a printing machine as it is for printing, or after being mounted on the printing machine, image-exposed with a laser beam on the printing machine and printed.

【0011】本発明によれば、レーザー光によって画像
露光後、そのまま直接印刷機に装着して印刷することが
可能な機上現像型の平版印刷版用原版であって、良好な
機上現像性を有し、感度が高く、かつ高耐刷性を示し、
しかも印刷での汚れのない平版印刷版用原版を得ること
ができる。
According to the present invention, there is provided an on-press development type lithographic printing plate precursor that can be directly mounted on a printing press and printed as it is after image exposure with a laser beam, and has excellent on-press developability. Having high sensitivity and high printing durability,
Moreover, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor free of stains in printing.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の平版印刷版用原版は、プラ
スチックフィルム支持体上に、親水性層と、熱反応性官
能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有
する感熱層とをこの順に有するものである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The lithographic printing plate precursor according to the invention has a hydrophilic layer and a heat-sensitive layer containing microcapsules containing a compound having a thermoreactive functional group on a plastic film support in this order.

【0013】〔プラスチック支持体〕本発明において使
用される支持体は、感熱層の熱反応を促進するため、断
熱性であることが重要であり、熱伝導率が0.03ca
l/cm・sec・℃以下であることが好ましく、0.
01cal/cm・sec・℃以下であることがさらに
好ましい。このため、本発明においては、プラスチック
支持体が用いられる。本発明に用いられるプラスチック
支持体としては、通常の印刷機にセットできる程度のた
わみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に耐える寸度
的に安定な板状物が用いられる。例えば、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、有機高分子樹脂が塗布さ
れている紙、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、有
機高分子樹脂が塗布されている上記プラスチックフィル
ム、顔料が分散されている上記プラスチックフィルム、
空洞を含有する上記プラスチックフィルム等が含まれ
る。
[Plastic Support] It is important that the support used in the present invention is heat-insulating in order to promote the thermal reaction of the heat-sensitive layer, and has a thermal conductivity of 0.03 ca.
1 / cm · sec · ° C. or less.
It is more preferable that the temperature is not more than 01 cal / cm · sec · ° C. For this reason, a plastic support is used in the present invention. As the plastic support used in the present invention, a dimensionally stable plate which has flexibility enough to be set in an ordinary printing press and at the same time withstands a load applied during printing is used. For example, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), paper coated with an organic polymer resin, plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, Cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), the plastic film coated with an organic polymer resin, the plastic film in which pigments are dispersed,
The above-mentioned plastic film containing a cavity is included.

【0014】また、本発明の支持体には、支持体の断熱
性を損なわない範囲において、支持体の親水性層側また
は反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好
ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた
場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電
防止層としては、金属酸化物微粒子やマット剤を分散し
たポリマー層が使用できる。
The support of the present invention is preferably provided with an antistatic layer on the hydrophilic layer side, on the opposite side, or on both sides of the support as long as the heat insulating property of the support is not impaired. When the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion to the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed can be used.

【0015】帯電防止層に用いられる金属酸化物粒子の
材料としては、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2
Al23、In23、MgO、BaO、MoO3、V2
5及びこれらの複合酸化物、及び/又はこれらの金属酸
化物に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げることがで
きる。これらは単独で用いてもよく、混合して用いても
よい。好ましい金属酸化物としては、SiO2、Zn
O、SnO2、Al23、TiO 2、In23、MgOで
ある。異種原子を少量含む例としては、ZnOに対して
AlあるいはIn、SnO2に対してSb、Nbあるい
はハロゲン元素、In23に対してSnなどの異種原子
を30モル%以下、好ましくは10モル%以下の量をド
ープしたものを挙げることができる。金属酸化物粒子
は、帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれて
いることが好ましい。金属酸化物粒子の粒子径は、平均
粒子径が0.001〜0.5μmの範囲が好ましい。こ
こでいう平均粒子径とは、金属酸化物粒子の一次粒子径
だけでなく高次構造の粒子径も含んだ値である。
The metal oxide particles used in the antistatic layer
The material is SiOTwo, ZnO, TiOTwo, SnOTwo,
AlTwoOThree, InTwoOThree, MgO, BaO, MoOThree, VTwoO
FiveAnd their composite oxides and / or their metal acids
Can further include metal oxides containing heteroatoms.
Wear. These may be used alone or in combination.
Good. Preferred metal oxides include SiO 2Two, Zn
O, SnOTwo, AlTwoOThree, TiO Two, InTwoOThreeWith MgO
is there. As an example containing a small amount of a heteroatom, ZnO
Al or In, SnOTwoSb, Nb or
Is a halogen element, InTwoOThreeHeterogeneous atoms such as Sn
In an amount of 30 mol% or less, preferably 10 mol% or less.
Can be mentioned. Metal oxide particles
Is contained in the antistatic layer in the range of 10 to 90% by weight.
Is preferred. The average particle size of the metal oxide particles is
The particle diameter is preferably in the range of 0.001 to 0.5 μm. This
The average particle size here is the primary particle size of the metal oxide particles.
The value includes not only the particle size of the higher-order structure but also the particle size of the higher-order structure.

【0016】帯電防止層に用いることができるマット剤
としては、好ましくは平均粒径が0.5〜20μm、よ
り好ましくは平均粒径が1.0〜15μmの粒径を持つ
無機又は有機の粒子が挙げられる。無機粒子としては、
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸化亜
鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、チ
タン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金属塩等
が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、ポリオレフィン及びそれらの共
重合体の架橋粒子が挙げられる。マット剤は、帯電防止
層中に1〜30重量%の範囲で含まれていることが好ま
しい。
The matting agent that can be used in the antistatic layer is preferably an inorganic or organic particle having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm, more preferably an average particle diameter of 1.0 to 15 μm. Is mentioned. As inorganic particles,
Examples thereof include metal oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, and zinc oxide, and metal salts such as calcium carbonate, barium sulfate, barium titanate, and strontium titanate. Examples of the organic particles include cross-linked particles of polymethyl methacrylate, polystyrene, polyolefin, and a copolymer thereof. The matting agent is preferably contained in the antistatic layer in a range of 1 to 30% by weight.

【0017】帯電防止層に用いることができるポリマー
としては、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク
質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物、デ
キストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の
糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリア
クリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリス
チレン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリ
メタクリル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。ポリマ
ーは、帯電防止層中に10〜90重量%の範囲で含まれ
ていることが好ましい。
Examples of the polymer which can be used in the antistatic layer include proteins such as gelatin and casein; cellulose compounds such as carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, acetylcellulose, diacetylcellulose and triacetylcellulose; dextran, agar and sodium alginate. , Sugars such as starch derivatives, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyacrylate, polymethacrylate, polystyrene, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone,
Examples include synthetic polymers such as polyester, polyvinyl chloride, polyacrylic acid, and polymethacrylic acid. The polymer is preferably contained in the antistatic layer in the range of 10 to 90% by weight.

【0018】帯電防止層の厚みは、0.01〜1μmで
あることが好ましい。また、本発明で使用する支持体の
親水性層側の表面は、親水性層の表面積の向上や上層と
の密着向上の観点から、サンドブラスト処理等による粗
面化やコロナ処理等による表面改質を施すことが可能で
ある。
The thickness of the antistatic layer is preferably from 0.01 to 1 μm. In addition, the surface of the support used in the present invention on the hydrophilic layer side is roughened by sandblasting or surface modified by corona treatment from the viewpoint of improving the surface area of the hydrophilic layer and improving the adhesion to the upper layer. Can be applied.

【0019】本発明で使用する支持体は、ブロッキング
を防止する観点から、支持体の裏面の最大粗さ深度(R
t)が少なくとも、1.2μm以上であることが好まし
く、さらに、支持体の裏面(即ち、本発明の平版印刷版
用原版の裏面)が本発明の平版印刷版用原版の表面上を
滑る時の動摩擦係数(μk)が2.6以下であることが
好ましい。このため、支持体の裏面には、前述のマット
剤を含有する帯電防止層を設けたり、サンドブラスト処
理を施す等による粗面化が成されることが好ましい。本
発明で用いられる上記の支持体の厚みはおよそ0.05
〜0.6mm程度、好ましくは0.1〜0.4mm、特に
好ましくは0.15〜0.3mmである。
The support used in the present invention has a maximum roughness depth (R) on the back surface of the support from the viewpoint of preventing blocking.
t) is preferably at least 1.2 μm or more, and when the back surface of the support (that is, the back surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention) slides on the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention. Has a dynamic friction coefficient (μk) of 2.6 or less. For this reason, it is preferable that the back surface of the support is roughened by providing an antistatic layer containing the above-mentioned matting agent, or by performing sandblasting. The thickness of the support used in the present invention is about 0.05.
It is about 0.6 mm, preferably about 0.1 to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 to 0.3 mm.

【0020】〔親水性層〕次に本発明の平版印刷版用原
版における上記支持体上に設けられる親水性層について
説明する。本発明に使用する親水性層としては、例え
ば、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋するこ
とにより得られる有機親水性マトリックスや、ポリアル
コキシシラン、チタネート、ジルコネート又はアルミネ
ートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換によ
り得られる無機親水性マトリックスを有する層、あるい
は、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜が挙げ
られるが、ゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マ
トリックスあるいは金属酸化物を含有する表面を有する
無機薄膜が好ましい。
[Hydrophilic layer] Next, the hydrophilic layer provided on the support in the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described. As the hydrophilic layer used in the present invention, for example, an organic hydrophilic matrix obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer, polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate hydrolysis, condensation reaction A layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion, or an inorganic thin film having a surface containing a metal oxide. An inorganic thin film having a containing surface is preferred.

【0021】本発明の親水性層の有機親水性マトリック
ス形成に使用する架橋反応としては、熱または光による
共有結合形成、又は、多価金属塩によるイオン結合形成
が可能である。本発明に用いる有機親水性ポリマーとし
ては、架橋反応に用いることが可能な官能基を有するポ
リマーが好ましい。好ましい官能基としては、例えば、
−OH、−SH、−NH2、−NH−、−CO−NH
2 、−CO−NH−、−O−CO−NH−、−NH−C
O−NH−、−CO−OH、−CO−O−、−CO−O
-、−CS−OH、−CO−SH、−CS−SH、−S
3H、−SO2(O- )、−PO32 、−PO(O
-2 、−SO2−NH2、−SO2−NH−、−CH=
CH2、−CH=CH−、−CO−C(CH3)=C
2、−CO−CH=CH2、−CO−CH2−CO−、
−CO−O−CO−、および下記官能基等が挙げられ
る。
As the crosslinking reaction used for forming the organic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, a covalent bond can be formed by heat or light, or an ionic bond can be formed by a polyvalent metal salt. As the organic hydrophilic polymer used in the present invention, a polymer having a functional group that can be used for a crosslinking reaction is preferable. Preferred functional groups include, for example,
-OH, -SH, -NH 2, -NH -, - CO-NH
2 , -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-C
O-NH-, -CO-OH, -CO-O-, -CO-O
- , -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -S
O 3 H, —SO 2 (O ), —PO 3 H 2 , —PO (O
-) 2, -SO 2 -NH 2 , -SO 2 -NH -, - CH =
CH 2, -CH = CH -, - CO-C (CH 3) = C
H 2, -CO-CH = CH 2, -CO-CH 2 -CO-,
—CO—O—CO— and the following functional groups.

【0022】[0022]

【化1】 Embedded image

【0023】特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル
基、エポキシ基が好ましい。
Particularly, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and an epoxy group are preferred.

【0024】このような本発明の有機親水性ポリマーと
しては、公知の水溶性バインダーを用いることが可能で
あり、例えば、ポリビニルアルコール(ケン化度60%
以上のポリビニルアセテート)、カルボキシ変性ポリビ
ニルアルコール等の変性ポリビニルアルコール、澱粉お
よびその誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそ
の塩、ヒドロキシエチルセルロースのようなセルロース
誘導体、カゼイン、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体及びそ
の塩、スチレン−マレイン酸共重合体及びその塩、ポリ
アクリル酸及びその塩、ポリメタクリル酸及びその塩、
ポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、ポリビ
ニルホスホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及
びその塩、ポリ(メタクリロイロキシプロパンスルホン
酸)及びその塩、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポ
リ(メタクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウム
クロライド)、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、
ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリアクリルアミ
ド等が挙げられる。これらのポリマーは、親水性を損な
わない限りにおいて、コポリマーであっても良く、1種
単独で用いても、2種以上を併用して用いても良い。そ
の使用量は親水性層の総固形分重量に対して、20重量
%〜99重量%、好ましくは25重量%〜95重量%、
より好ましくは30重量%〜90重量%である。
As such an organic hydrophilic polymer of the present invention, a known water-soluble binder can be used. For example, polyvinyl alcohol (a saponification degree of 60%
Polyvinyl acetate), modified polyvinyl alcohol such as carboxy-modified polyvinyl alcohol, starch and derivatives thereof, carboxymethyl cellulose and salts thereof, cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, casein, gelatin, gum arabic, polyvinyl pyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid Copolymer and its salt, styrene-maleic acid copolymer and its salt, polyacrylic acid and its salt, polymethacrylic acid and its salt,
Polyethylene glycol, polyethyleneimine, polyvinylphosphonic acid and its salt, polystyrenesulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxypropanesulfonic acid) and its salt, polyvinylsulfonic acid and its salt, poly (methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride) , Polyhydroxyethyl methacrylate,
Polyhydroxyethyl acrylate, polyacrylamide and the like can be mentioned. These polymers may be copolymers as long as hydrophilicity is not impaired, and may be used alone or in combination of two or more. The amount used is from 20% by weight to 99% by weight, preferably from 25% by weight to 95% by weight, based on the total solid weight of the hydrophilic layer,
More preferably, it is 30% by weight to 90% by weight.

【0025】本発明においては、有機親水性ポリマーの
架橋を公知の架橋剤により行うことが可能である。公知
の架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物、多官
能エポキシ化合物、多官能アミン化合物、ポリオール化
合物、多官能カルボキシル化合物、アルデヒド化合物、
多官能(メタ)アクリル化合物、多官能ビニル化合物、
多官能メルカプト化合物、多価金属塩化合物、ポリアル
コキシシラン化合物およびその加水分解物、ポリアルコ
キシチタン化合物およびその加水分解物、ポリアルコキ
シアルミニウム化合物およびその加水分解物、ポリメチ
ロール化合物、ポリアルコキシメチル化合物等が挙げら
れ、公知の反応触媒を添加し、反応を促進することも可
能である。その使用量は親水性層の塗布液中の総固形分
重量に対して、1重量%〜50重量%、好ましくは3重
量%〜40重量%、より好ましくは5重量%〜35重量
%である。
In the present invention, the organic hydrophilic polymer can be crosslinked with a known crosslinking agent. Known crosslinking agents include polyfunctional isocyanate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional amine compounds, polyol compounds, polyfunctional carboxyl compounds, aldehyde compounds,
Polyfunctional (meth) acrylic compound, polyfunctional vinyl compound,
Polyfunctional mercapto compounds, polyvalent metal salt compounds, polyalkoxysilane compounds and their hydrolysates, polyalkoxytitanium compounds and their hydrolysates, polyalkoxyaluminum compounds and their hydrolysates, polymethylol compounds, polyalkoxymethyl compounds, etc. It is also possible to add a known reaction catalyst to accelerate the reaction. The use amount thereof is 1% by weight to 50% by weight, preferably 3% by weight to 40% by weight, more preferably 5% by weight to 35% by weight based on the total solid content in the coating solution of the hydrophilic layer. .

【0026】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に使用することができるゾル−ゲル変換が可能な
系は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して
網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基
やアルコキシ基も有していて、これらが混在した樹脂状
構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水
酸基が多い段階ではゾル状態であり、エーテル結合化が
進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。ま
た、水酸基の一部が固体微粒子に結合することによって
固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働き
をも併せ持っている。ゾル−ゲル変換を行う水酸基やア
ルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニ
ウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これ
らはいずれも本発明に用いることができるが、以下はも
っとも好ましく用いることのできるシロキサン結合によ
るゾル−ゲル変換系について説明する。アルミニウム、
チタン及びジルコニウムを用いるゾル−ゲル変換は、下
記の説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施する
ことができる。
The system capable of sol-gel conversion which can be used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention has a network structure in which a bonding group derived from a polyvalent element has a network structure via an oxygen atom. At the same time, the polyvalent metal also has an unbonded hydroxyl group or alkoxy group, and is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed. Yes, the network-like resin structure becomes stronger as the ether bond progresses. In addition, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of the hydroxyl group to the solid fine particles and changing the degree of hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like, and any of these can be used in the present invention. A sol-gel conversion system based on a siloxane bond will be described. aluminum,
The sol-gel conversion using titanium and zirconium can be carried out by substituting silicon for each element described below.

【0027】すなわち、特に好ましく用いられるのは、
ゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール
基を有するシラン化合物を含んた系である。以下に、ゾ
ル−ゲル変換を利用する系についてさらに説明する。ゾ
ル−ゲル変換によって形成される無機親水性マトリック
スは、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を
有する樹脂であり、少なくとも1個のシラノール基を有
するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗
布、乾燥、経時する間に、シラノール基の加水分解縮合
が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進
行することにより形成される。
That is, particularly preferably used are:
This is a system containing a silane compound having at least one silanol group and capable of sol-gel conversion. Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic matrix formed by the sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group. During the drying and aging, the hydrolytic condensation of the silanol groups proceeds to form the structure of the siloxane skeleton, which is formed by the progress of gelation.

【0028】また、このゲル構造のマトリックスのなか
には、膜強度、柔軟性等の物理的性能向上や、塗布性の
改良、親水性の調整等を目的として、上記の有機親水性
ポリマーや架橋剤などを添加することも可能である。ゲ
ル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(I)
で示され、また少なくとも1個のシラノール基を有する
シラン化合物は、下記一般式(II)で示されるシラン化
合物の加水分解により得られ、必ずしも一般式(II)の
シラン化合物の部分加水分解物単独である必要はなく、
一般には、シラン化合物が部分加水重合したオリゴマー
からなっていてもよく、あるいは、シラン化合物とその
オリゴマーの混合組成であってもよい。
In the matrix having the gel structure, the organic hydrophilic polymer and the crosslinking agent described above are used for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, improving coating properties and adjusting hydrophilicity. Can also be added. The siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (I)
And a silane compound having at least one silanol group is obtained by hydrolysis of a silane compound represented by the following general formula (II), and is not necessarily a partial hydrolyzate of the silane compound represented by the general formula (II) alone. Need not be
In general, the silane compound may be composed of a partially hydrolyzed oligomer, or may be a mixed composition of the silane compound and its oligomer.

【0029】[0029]

【化2】 Embedded image

【0030】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種の化合物のゾル−ゲル変換によって形成され、一般
式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは水酸基を表
し、他は下記一般式(II)中の記号のR0及びYから選
ばれる有機残基を表わす。
The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by sol-gel conversion of at least one compound of the silane compounds represented by the following general formula (II), wherein at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group, and Represents an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the general formula (II).

【0031】一般式(II) (R0n Si(Y)4-n Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n

【0032】一般式(II)中、R0 は、水酸基、炭化水
素基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン
原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子
を表わす)、−OR1 、−OCOR2 又は、−N(R
3 )(R4)を表す(R1、R2は、各々炭化水素基を表
し、R3 、R4 は同じでも異なってもよく、水素原子又
は炭化水素基を表す)、nは0,1,2又は3を表わ
す。
In the general formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom (representing a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), —OR 1 , —OCOR 2, or —N (R
3 ) represents (R 4 ) (R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group, and R 3 and R 4 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group), and n is 0, Represents 1, 2, or 3.

【0033】一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば、炭素数1〜12の置換されても
よい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基等;これらの基に置換される基として
は、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原
子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR' 基(R' は、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル
基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノ
エチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、1−ブロ
モエチル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシ
プロピル基、ベンジル基等を示す)、−OCOR''基
(R''は、前記R' と同一の内容を表わす)、−COO
R''基、−COR''基、−N(R''' )(R''' )基
(R'''は、水素原子又は前記R' と同一の内容を表わ
し、各々同じでも異なってもよい)、−NHCONH
R''基、−NHCOOR''基、−Si(R'')3 基、−
CONHR''' 基、−NHCOR''基等が挙げられる。
これらの置換基はアルキル基中に複数置換されてもよ
い)、
The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 in the general formula (II) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group , Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group,
A hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, etc .; Group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a propenyl group, a butenyl group, Hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 1-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2- A methoxycarbonylethyl group, a 3-carboxypropyl group, a benzyl group, etc.), an -OCOR "group (R" is the same as the above R ') ), -COO
R ″ group, —COR ″ group, —N (R ′ ″) (R ′ ″) group (R ′ ″ represents a hydrogen atom or the same content as R ′, and is the same or different. ), -NHCONH
R "group, -NHCOOR" group, -Si (R ") 3 group,-
CONHR ′ ″ group, —NHCOR ″ group and the like.
These substituents may be substituted plurally in the alkyl group),

【0034】炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状
又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これらの基
に置換される基としては、前記アルキル基に置換される
基と同一の内容のものが挙げられる)、炭素数7〜14
の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基等;これらの基に置換
される基としては、前記アルキル基に置換される基と同
一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよ
い)、
A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl, propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, dodecenyl and the like) And the groups substituted with these groups include those having the same contents as the groups substituted with the above-mentioned alkyl groups), having 7-14 carbon atoms.
Optionally substituted aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; Groups having the same content as the group to be mentioned, or may be substituted plurally),

【0035】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置
換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の
内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキ
ル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又
複数置換されてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、
イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有す
る縮環してもよいヘテロ環基(例えば、該ヘテロ環とし
ては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン
環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒド
ロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基とし
ては、前記アルキル基に置換される基と同一の内容のも
のが挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group, and those substituted with a plurality of May be substituted), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
A phenyl group or a naphthyl group, wherein the substituent has the same content as the group substituted with the alkyl group, and may be substituted plurally), or a nitrogen atom, an oxygen atom,
A condensable heterocyclic group containing at least one atom selected from sulfur atoms (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, and an oxazole A ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. The same content may be mentioned, or a plurality of the same may be substituted).

【0036】一般式(II)中のYの−OR1基、−OC
OR2基又は−N(R3 )(R4)基の置換基としては、
例えば、以下の置換基を表す。−OR1 基において、R
1 は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メ
トキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル
基、1−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メ
トキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオ
キサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル
基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシク
ロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル
基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベン
ジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
In the general formula (II), -OR 1 group of Y, -OC
As a substituent of the OR 2 group or the —N (R 3 ) (R 4 ) group,
For example, it represents the following substituents. -OR In one group, R
1 is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, propenyl group) Group, butenyl group, heptenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (methoxyethyloxo) ethyl group, 1- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group , Phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methylbenzyl group, bromobenzyl And the like).

【0037】−OCOR2 基において、R2は、R1
同一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリー
ル基で例示したものと同様のものが挙げられる)を表わ
す。また、−N(R3 )(R4)基において、R3、R4
は、互いに同じでも異なってもよく、各々、水素原子又
は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例え
ば、前記の−OR1 基のR1と同様の内容のものが挙げ
られる)を表わす。より好ましくは、R3とR4の炭素数
の総和が16個以内である。一般式(II)で示されるシ
ラン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられる
が、これに限定されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same content as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is an aryl group in the aforementioned R). And the same as those exemplified for the group). In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 , R 4
May be the same as or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, those having the same contents as R 1 of the above-mentioned OR 1 group) ). More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is 16 or less. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

【0038】テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラn−プロピルシラ
ン、テトラt−ブトキシシラン、テトラn−ブトキシシ
ラン、ジメトキシジエトキシシラン、メチルトリクロル
シラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン、エチ
ルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシ
シラン、n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピル
トリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイ
ソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシ
ラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルト
リブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n
−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソ
プロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラ
ン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロ
ムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシル
トリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシ
ラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロム
シラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オ
クタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリ
イソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブト
キシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメチルジクロ
ルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジク
ロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニ
ルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチル
ジエトキシシラン、
Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, tetra-t-butoxysilane, tetra-n-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, methyltrichlorosilane , Methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriiso Propoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane,
n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n
-Hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n -Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltrisilane -Butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyl Dibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane,

【0039】トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒ
ドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキ
シヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニ
ルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリ
フルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエ
トキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキ
シシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-tert-butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, Vinyl tri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxip Pills trimethoxysilane, gamma
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane Γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane , Γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. Is mentioned.

【0040】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物と
ともに、Ti,Zn,Sn,Zr,Al等のゾル−ゲル
変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用
することができる。用いられる金属化合物として、例え
ば、Ti(OR545はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiC
4、Ti(CH3COCHCOCH32(OR52、Z
n(OR52、Zn(CH3COCHCOCH32、S
n(OR54、Sn(CH3COCHCOCH34、S
n(OCOR54、SnCl4、Zr(OR54、Zr
(CH3COCHCOCH34、Al(OR53、Al
(CH3COCHCOCH33等が挙げられる。
Along with the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic matrix of the hydrophilic layer of the present invention, the silane compound binds to the resin during the sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al and the like. And a metal compound capable of forming a film. Examples of the metal compound used include Ti (OR 5 ) 4 R 5, which is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc.), TiC
l 4 , Ti (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 (OR 5 ) 2 , Z
n (OR 5 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , S
n (OR 5 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , S
n (OCOR 5 ) 4 , SnCl 4 , Zr (OR 5 ) 4 , Zr
(CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (OR 5 ) 3 , Al
(CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like.

【0041】更に一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が高い場合は加水分解・
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の程度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。
Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II), and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis /
The rate of polycondensation tends to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be formed in the sol solution. Therefore, the degree of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.

【0042】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸
などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水
素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカ
ルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元
素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベン
ゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒とし
ては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルア
ミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, and specific examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, and hydrogen peroxide. Examples of basic catalysts include ammonia, such as carboxylic acids such as carbonic acid, formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R of the structural formula represented by RCOOH is substituted with another element or a substituent, and sulfonic acids such as benzenesulfonic acid. Examples include ammoniacal bases such as water and amines such as ethylamine and aniline.

【0043】上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)
(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992
年)等の成書等に詳細に記述されている。
For further details of the above sol-gel method, refer to Saio Sakuhana, “Sol-gel Method Science”, Agne Shofusha Co., Ltd.
(1988), Takashi Hirashima, "Functional thin film production technology by latest sol-gel method", General Technology Center (published) (1992)
It is described in detail in written documents such as year.

【0044】本発明の上記有機又は無機親水性マトリッ
クスの親水性層中には、上記以外にも、親水性の程度の
制御、親水性層の物理的強度の向上、層を構成する組成
物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上
などの種々の目的の化合物を添加することができる。例
えば、可塑剤、顔料、色素、界面活性剤、親水性の粒子
等が挙げられる。
In the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention, in addition to the above, the degree of hydrophilicity is controlled, the physical strength of the hydrophilic layer is improved, and the composition constituting the layer is different. Various compounds can be added to improve the dispersibility, coatability, printability, and the like. For example, plasticizers, pigments, dyes, surfactants, hydrophilic particles and the like can be mentioned.

【0045】親水性の粒子としては、特に限定されない
が、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜
の強化などに用いることができる。より好ましくは、シ
リカ、アルミナ、酸化チタン又はこれらの混合物であ
る。本発明の上記有機又は無機親水性マトリックスの親
水性層においては、特に、シリカ、アルミナ、酸化チタ
ン等の金属酸化物粒子を含有することが好ましい態様で
ある。
The hydrophilic particles are not particularly limited, but preferably include silica, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate and the like. These can be used for promoting hydrophilicity, strengthening a film, and the like. More preferably, it is silica, alumina, titanium oxide or a mixture thereof. In a preferred embodiment, the hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix of the present invention particularly contains metal oxide particles such as silica, alumina, and titanium oxide.

【0046】シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内
部はシロキサン結合(−Si−O−Si−)を構成して
いる。本発明において、好ましく用いることができるシ
リカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もし
くは、極性溶媒中に分散した粒子径1〜100nmのシ
リカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監
修「高純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエム
シー(1991年)に記載されている。
Silica has many hydroxyl groups on the surface, and the inside constitutes a siloxane bond (—Si—O—Si—). In the present invention, silica that can be preferably used is ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm, also referred to as colloidal silica, dispersed in water or a polar solvent. Specifically, it is described in “Applied Technology of High-Purity Silica”, edited by Yoshitoshi Kaga and Akira Hayashi, Vol. 3, CMC Corporation (1991).

【0047】また好ましく用いることができるアルミナ
としては、5〜200nmのコロイドの大きさをもつア
ルミナ水和物(ベーマイト系)で、水中の陰イオン(例
えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子イオ
ン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等)を安定剤と
して分散されたものである。又好ましく用いることがで
きる酸化チタンとしては、平均一次粒径が50〜500
nmのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタンを、
必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒中に
分散したものである。
Alumina which can be preferably used is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm, and an anion (for example, a halogen atom ion such as a fluorine ion or a chlorine ion) in water. , A carboxylate anion such as an acetate ion) as a stabilizer. The titanium oxide that can be preferably used has an average primary particle size of 50 to 500.
nm anatase or rutile titanium oxide,
If necessary, it is dispersed in water or a polar solvent using a dispersant.

【0048】本発明において、好ましく用いることがで
きる親水性の粒子の平均一次粒径は、1〜5000nm
であり、より好ましくは、10〜1000nmである。
本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子
は、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても
良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、
5重量%〜90重量%、好ましくは10重量%〜70重
量%、より好ましくは20重量%〜60重量%である。
In the present invention, the average primary particle diameter of the hydrophilic particles that can be preferably used is 1 to 5000 nm.
And more preferably 10 to 1000 nm.
In the hydrophilic layer of the present invention, these hydrophilic particles may be used alone or in combination of two or more. The amount used is based on the total solid weight of the hydrophilic layer.
It is 5% to 90% by weight, preferably 10% to 70% by weight, more preferably 20% to 60% by weight.

【0049】本発明に用いる上記の有機または無機親水
性マトリックスの親水性層は、例えば、水や、メタノー
ル、エタノール等の極性溶剤等の適当な溶剤の単独又は
これらの混合溶媒に溶解あるいは分散して、光熱変換層
上に塗布、乾燥、硬化される。その塗布重量は乾燥後の
重量で、0.1〜5g/m2 が適当であり、好ましくは
0.3〜3g/m2 、さらに好ましくは0.5〜2g/
2である。親水性層の乾燥後の塗布重量は、0.1g
/m2より低すぎると、湿し水の保持性の低下や、膜強
度の低下など好ましくない結果を与え、5g/m2を超
えて高すぎると、膜が脆くなり、耐刷性の低下などの好
ましくない結果を与える。
The hydrophilic layer of the organic or inorganic hydrophilic matrix used in the present invention may be dissolved or dispersed in a suitable solvent such as water or a polar solvent such as methanol or ethanol alone or in a mixed solvent thereof. Is applied, dried and cured on the light-to-heat conversion layer. Its coating weight in weight after drying is suitably from 0.1-5 g / m 2, preferably from 0.3 to 3 g / m 2, more preferably 0.5 to 2 g /
m 2 . The coating weight of the hydrophilic layer after drying is 0.1 g.
When / m 2 than too low, dampening decrease in retention of water, giving undesirable results such as reduced film strength and as high as higher than 5 g / m 2, the film becomes brittle, reduction in printing durability Gives undesired results.

【0050】本発明の親水性層に用いる金属酸化物を含
有する表面を有する無機薄膜は、薄膜の表面が親水性の
金属酸化物により構成されておれば特に限定されず、親
水性の金属酸化物を表面に有する金属又は金属化合物の
薄膜を含む。本発明の親水性層に使用できる金属又は金
属化合物としては、d−ブロック(遷移)金属、f−ブ
ロック(ランタノイド)金属、アルミニウム、インジウ
ム、鉛、スズ、又は珪素および合金やそれぞれの金属に
対応する金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホ
ウ化物、金属硫化物、金属ハロゲン化物が挙げられ、こ
れらは、混合(均一な混合膜、不均一な混合膜及び積層
膜を含む)して用いることもできる。
The inorganic thin film having a surface containing a metal oxide used for the hydrophilic layer of the present invention is not particularly limited as long as the surface of the thin film is composed of a hydrophilic metal oxide. Includes thin films of metals or metal compounds having objects on the surface. Examples of the metal or metal compound that can be used in the hydrophilic layer of the present invention include d-block (transition) metal, f-block (lanthanoid) metal, aluminum, indium, lead, tin, silicon, and alloys and respective metals. Metal oxides, metal carbides, metal nitrides, metal borides, metal sulfides, and metal halides, which are mixed (including uniform mixed films, non-uniform mixed films and laminated films). It can also be used.

【0051】なかでも、金属酸化物薄膜そのものが特に
好ましく、金属酸化物の薄膜としては、酸化インジウ
ム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウム等の薄膜および混合した薄膜が、本発明の親水性層
として好適に用いることができる。金属及び金属化合物
の薄膜表面は、実質上、大気中において、高酸化の状態
にあり、表面は、金属酸化物により構成されており、本
発明において使用可能であるが、本発明においては、親
水性層の親水性を確保するために、親水性層である無機
薄膜の表面は、金属酸化物より構成されることが必須で
ある。このため、薄膜を形成した後、表面の酸化を促進
するために、加熱処理や加湿処理、グロー放電処理等の
処理を施しても良い。さらには、金属酸化物を薄膜表面
上に積層しても良い。
Among them, a metal oxide thin film itself is particularly preferable. Examples of the metal oxide thin film include thin films of indium oxide, tin oxide, tungsten oxide, manganese oxide, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, and the like. The mixed thin film can be suitably used as the hydrophilic layer of the present invention. The surface of the thin film of the metal and the metal compound is substantially in a highly oxidized state in the air, and the surface is composed of a metal oxide and can be used in the present invention. In order to ensure the hydrophilicity of the hydrophilic layer, it is essential that the surface of the inorganic thin film that is the hydrophilic layer is composed of a metal oxide. For this reason, after forming the thin film, a treatment such as a heat treatment, a humidification treatment, or a glow discharge treatment may be performed to promote oxidation of the surface. Further, a metal oxide may be stacked on the surface of the thin film.

【0052】本発明の親水性層に用いる金属又は金属化
合物の薄膜形成には、真空蒸着法、スパッタ法、イオン
プレーティング法などのPVD法(物理蒸着法)あるい
はCVD法(化学蒸着法)などが適宜用いられる。例え
ば真空蒸着法においては、加熱方式としては、抵抗加
熱、高周誘導加熱、電子ビーム加熱等を用いることがで
きる。また、反応性ガスとして、酸素や窒素等を導入し
たり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反
応性蒸着を用いても良い。
For forming a thin film of a metal or a metal compound used in the hydrophilic layer of the present invention, a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a CVD method (chemical vapor deposition method). Is appropriately used. For example, in a vacuum evaporation method, resistance heating, high-period induction heating, electron beam heating, or the like can be used as a heating method. In addition, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or reactive vapor deposition using means such as ozone addition or ion assist may be used.

【0053】スパッタ法を用いる場合は、ターゲット材
料として純金属または目的とする金属化合物を用いるこ
とができ、純金属を用いる時は反応性ガスとして酸素や
窒素等を導入する。スパッタ電源としては、直流電源、
パルス型直流電源、高周波電源を用いることができる。
When a sputtering method is used, a pure metal or a target metal compound can be used as a target material. When a pure metal is used, oxygen, nitrogen or the like is introduced as a reactive gas. DC power supply,
A pulse DC power supply or a high-frequency power supply can be used.

【0054】上記の方法による薄膜形成に先だって、下
層との密着性を向上させるため、基体加熱等による基体
脱ガスや下層表面への真空グロー処理を施してもよい。
例えば、真空グロー処理においては、1〜10mtor
r程度の圧力下で基体に高周波を印加しグロー放電を形
成させ、発生したプラズマによる基板処理を行うことが
できる。また、印加電圧を上げたり、酸素や窒素などの
反応性ガスを導入することにより効果を向上させること
も可能である。
Prior to the formation of a thin film by the above method, degassing of the substrate by heating the substrate or vacuum glow treatment of the surface of the lower layer may be performed to improve the adhesion to the lower layer.
For example, in vacuum glow processing, 1 to 10 mtorr
A high frequency is applied to the substrate under a pressure of about r to form a glow discharge, and the substrate can be processed by the generated plasma. Further, the effect can be improved by increasing the applied voltage or introducing a reactive gas such as oxygen or nitrogen.

【0055】本発明の親水性層に用いる金属酸化物を含
有する表面を有する無機薄膜の厚みは、10nm〜30
00nmが好ましい。さらに好ましくは20〜1500
nmである。薄すぎると、湿し水の保持性の低下や、膜
強度の低下など好ましくない結果を与え、厚すぎると、
薄膜形成に時間を要するため製造適性上好ましくない。
The inorganic thin film having a surface containing a metal oxide used for the hydrophilic layer of the present invention has a thickness of 10 nm to 30 nm.
00 nm is preferred. More preferably, 20 to 1500
nm. If too thin, the retention of fountain solution decreases, giving undesired results such as a decrease in film strength, if too thick,
Since it takes time to form a thin film, it is not preferable in terms of production suitability.

【0056】本発明の平版印刷版用原版は、親水性層上
に本発明の感熱層を設けたものであるが、必要に応じて
その間に、例えばホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩のような
無機下塗層、又は有機下塗層を設けることができる。有
機下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例
えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニ
ルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸および
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から
選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor of the present invention has a heat-sensitive layer of the present invention provided on a hydrophilic layer. If necessary, a water-soluble metal salt such as zinc borate may be used between the heat-sensitive layers. An inorganic undercoat layer or an organic undercoat layer can be provided. Various organic compounds are used as an organic undercoat layer component, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphone which may have a substituent. Acids, organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Such as organic phosphoric acid, phenylphosphinic acid optionally having a substituent, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine. Hydrate such as hydrochloride -Alanine, and hydrochlorides of amines having a carboxy group, may be used by mixing two or more.

【0057】この下塗層は次のような方法で設けること
ができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を親水性層上
に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、
エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしく
はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶
液に、支持体上に設けた親水性層を浸漬して上記化合物
を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機
下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有
機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々
の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度
は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量
%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜
50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましく
は2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12
の範囲に調整することもできる。下塗層の被覆量は、2
〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜10
0mg/m2である。
This undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as water or methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on a hydrophilic layer, and provided by drying.
A hydrophilic layer provided on a support is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent such as ethanol or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof to absorb the compound, and then washed and dried with water or the like. To provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. Further, in the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 90%.
50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted to pH 1 to 12 by a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be adjusted to the range. The coating amount of the undercoat layer is 2
~ 200 mg / m 2 is suitable, preferably 5-10
0 mg / m 2 .

【0058】〔感熱層〕本発明の平版印刷版用原版の感
熱層は、熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイ
クロカプセルを含有する。
[Thermosensitive Layer] The thermosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains microcapsules containing a compound having a thermoreactive functional group.

【0059】上記の熱反応性官能基としては、重合反応
を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、
メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、付加反
応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、その反
応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、ア
ミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基など)、同じ
く付加反応を行うエポキシ基、その反応相手であるアミ
ノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基、縮合反応を
行うカルボキシル基とヒドロキシル基もしくはアミノ
基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基もしくはヒ
ドロキシル基などを挙げることができる。しかし、化学
結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基
でも良い。
As the above-mentioned heat-reactive functional group, an ethylenically unsaturated group (for example, acryloyl group,
A methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, etc.), an isocyanate group or a block thereof for performing an addition reaction, and a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (eg, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.). Epoxy group for addition reaction, its reaction partner amino group, carboxyl group or hydroxyl group, carboxyl group and hydroxyl group or amino group for condensation reaction, acid anhydride and amino group or hydroxyl group for ring opening addition reaction, etc. Can be mentioned. However, a functional group that performs any reaction may be used as long as a chemical bond is formed.

【0060】本発明に用いられるマイクロカプセルは、
熱反応性官能基を有する化合物を内包している。この熱
反応性官能基を有する化合物としては、重合性不飽和
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレー
ト基、酸無水物基、アミノ基、エポキシ基、イソシアナ
ート基、及びブロック化したイソシアナート基を分子内
に有する化合物を挙げることができる。
The microcapsules used in the present invention are:
It contains a compound having a thermoreactive functional group. Examples of the compound having a thermoreactive functional group include a polymerizable unsaturated group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylate group, an acid anhydride group, an amino group, an epoxy group, an isocyanate group, and a blocked isocyanate group. In the molecule.

【0061】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、及びそれらの共重合
体である。
The compound having a polymerizable unsaturated group includes:
At least one ethylenically unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group;
And preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. These are, in chemical form, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof.

【0062】例として、不飽和カルボン酸(例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など)、そのエステル、不飽
和カルボン酸アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カ
ルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルおよび不
飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げら
れる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基
等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルま
たは不飽和カルボン酸アミドと単官能もしくは多官能の
イソシアネートまたはエポキシドとの付加反応物、およ
び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応
物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエ
ポキシ基などの親電子性置換基を有する不飽和カルボン
酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能のア
ルコール、アミンまたはチオールとの付加反応物、さら
に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有
する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能
もしくは多官能アルコール、アミンまたはチオールとの
置換反応物も好適である。また、別の好適な例として、
上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸又はクロ
ロメチルスチレンに置き換えた化合物を挙げることがで
きる。
Examples include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, and unsaturated carboxylic acid amides. Examples include esters of carboxylic acids with aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyamines. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxide, and a monofunctional or Dehydration condensation products with polyfunctional carboxylic acids are also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further, a halogen group or a tosyloxy group And the like. Substitution reaction products of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol are also suitable. Also, as another preferred example,
Compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene can be mentioned.

【0063】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビト
ールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレ
ート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリス(アク
リロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステ
ルアクリレートオリゴマー等を挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable compound which is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane Triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate Oligomer etc. can be mentioned.

【0064】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。
Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloyloxy-2 Hydroxypropoxy) phenyl]
Examples thereof include dimethylmethane and bis- [p- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane.

【0065】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
Examples thereof include 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.

【0066】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。
Examples of crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like can be mentioned. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Maleic esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate,
Sorbitol tetramalate and the like can be mentioned.

【0067】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−
5241号、特開平2−226149号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。
Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334,
Aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-196231
No. 5,241, and those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613.

【0068】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭54−21726号記載
のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができ
る。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples thereof include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide. Examples of other preferred amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0069】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(A)で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule and an unsaturated monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (A) added to one molecule. Urethane compounds containing at least two polymerizable unsaturated groups are exemplified.

【0070】一般式(A) CH2=C(Rm)COOCH2CH(Rn)OH (ただし、RmおよびRnは、HまたはCH3を示す。)Formula (A) CH 2 CC (R m ) COOCH 2 CH (R n ) OH (where R m and R n represent H or CH 3 )

【0071】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭58−4
9860号、特公昭56−17654号、特公昭62−
39417号、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なも
のとして挙げることができる。
Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765 and JP-B-58-4 can be used.
9860, JP-B-56-17654, JP-B-62-
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-39417 and JP-B-62-39418 are also preferable.

【0072】さらに、特開昭63−277653号、特
開昭63−260909号、特開平1−105238号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 are also suitable. It can be mentioned as.

【0073】その他の好適なものの例としては、特開昭
48−64183号公報、特公昭49−43191号公
報、同52−30490号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭46−43946号公報、
特公平1−40337号公報、同1−40336号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、20巻7号、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。
Other preferred examples include polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting a resin with (meth) acrylic acid. In addition, JP-B-46-43946,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40337 and JP-A-1-40336 and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned as preferable ones. In some cases, compounds containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 are also preferably used. Furthermore, The Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No. 7, pp. 300-308 (198
Those introduced as photocurable monomers and oligomers in (4 years) can also be suitably used.

【0074】エチレン性不飽和化合物の共重合体の好適
なものとしては、アリルメタクリレートの共重合体を挙
げることができる。例えば、アリルメタクリレート/メ
タクリル酸共重合体、アリルメタクリレート/エチルメ
タクリレート共重合体、アリルメタクリレート/ブチル
メタクリレート共重合体などを挙げることができる。
Preferred copolymers of the ethylenically unsaturated compound include allyl methacrylate copolymers. For example, an allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, an allyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer, an allyl methacrylate / butyl methacrylate copolymer, and the like can be given.

【0075】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類もしくはポリフェノール類又はそれらの水素添加
物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
Suitable epoxy compounds include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols or polyphenols, or hydrogenated products thereof. And polyglycidyl ether.

【0076】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、又
は、それらをアルコールもしくはアミンでブロックした
化合物を挙げることができる。
Preferred isocyanate compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, or alcohols thereof. Alternatively, a compound blocked with an amine can be used.

【0077】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。
Suitable amine compounds include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

【0078】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリス
リトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリ
フェノール類などを挙げることができる。好適なカルボ
キシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、ト
リメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、
アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられ
る。好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水物、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられ
る。
Suitable compounds having a hydroxyl group include compounds having a terminal methylol group, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, and bisphenols and polyphenols. Suitable compounds having a carboxyl group include pyromellitic acid, trimellitic acid, aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid,
Examples thereof include aliphatic polycarboxylic acids such as adipic acid. Preferred acid anhydrides include pyromellitic anhydride,
Benzophenone tetracarboxylic anhydride and the like.

【0079】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造
方法としては、米国特許2800457号、同2800
458号にみられるコアセルベーションを利用した方
法、英国特許990443号、米国特許3287154
号、特公昭38−19574号、同42−446号、同
42−711号にみられる界面重合法による方法、米国
特許3418250号、同3660304号にみられる
ポリマーの析出による方法、米国特許3796669号
に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方
法、米国特許3914511号に見られるイソシアネー
ト壁材料を用いる方法、米国特許4001140号、同
4087376号、同4089802号にみられる尿素
―ホルムアルデヒド系もしくは尿素ホルムアルデヒド−
レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許4
025445号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特
公昭36−9163号、同51−9079号にみられる
モノマー重合によるin situ法、英国特許930
422号米国特許3111407号にみられるスプレー
ドライング法、英国特許952807号、同96707
4号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに
限定されるものではない。
As a method for microencapsulation, a known method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, US Pat.
U.S. Pat. No. 3,287,154, U.S. Pat. No. 3,287,154.
Nos. 38-19574, 42-446, and 42-711, a method by interfacial polymerization, a method by precipitation of a polymer shown in U.S. Pat. U.S. Pat. No. 3,914,140, U.S. Pat. No. 4,087,376 and U.S. Pat. No. 4,089,802. U.S. Pat.
Method using resorcinol-based wall forming material, US Pat.
No. 025445, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079, an in situ method by monomer polymerization, and British Patent 930.
No. 422, U.S. Pat. No. 3,111,407, Spray drying method, British Patent Nos. 952807, 96707
No. 4, but not limited thereto.

【0080】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレ
タンが好ましい。マイクロカプセル壁に熱反応性官能基
を有する化合物を導入しても良い。
The preferred microcapsule wall used in the present invention has three-dimensional crosslinking and has a property of swelling by a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. A compound having a thermoreactive functional group may be introduced into the microcapsule wall.

【0081】上記のマイクロカプセルの平均粒径は、
0.01〜20μmが好ましいが、中でも0.05〜
2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが
特に好ましい。この範囲内で、良好な解像度と経時安定
性が得られる。このようなマイクロカプセルは、カプセ
ル同志が熱により溶融し、合体してもよいし、合体しな
くとも良い。要は、マイクロカプセル内包物のうち、塗
布時にカプセル表面もしくはマイクロカプセル外に滲み
出したもの、又は、マイクロカプセル壁に浸入したもの
が、熱により化学反応を起こせば良い。添加された親水
性樹脂、又は、添加された低分子化合物と反応してもよ
い。また2種類以上のマイクロカプセルに、それぞれ異
なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせる
ことによって、マイクロカプセル同士を反応させてもよ
い。従って、熱によってマイクロカプセル同志が、熱で
溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、
必須ではない。
The average particle size of the above microcapsules is
0.01 to 20 μm is preferable, and 0.05 to
2.0 μm is more preferred, and 0.10 to 1.0 μm is particularly preferred. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained. In such a microcapsule, the capsules may be melted by heat and united, or may not be united. In short, among the microcapsule inclusions, those that have oozed out of the capsule surface or outside the microcapsules at the time of application or those that have penetrated into the microcapsule walls may cause a chemical reaction by heat. It may react with the added hydrophilic resin or the added low molecular compound. The microcapsules may be reacted with each other by providing two or more types of microcapsules with functional groups that react with each other with different functional groups. Therefore, it is preferable from the viewpoint of image formation that the microcapsules are fused and fused by heat.
Not required.

【0082】マイクロカプセルの感熱層への添加量は、
固形分換算で、好ましくは50重量%以上、さらに好ま
しくは60〜95重量%である。この範囲内で、良好な
機上現像性と同時に、良好な感度および耐刷性が得られ
る。
The amount of the microcapsules added to the heat-sensitive layer is as follows:
It is preferably at least 50% by weight, more preferably 60 to 95% by weight in terms of solid content. Within this range, good sensitivity and printing durability can be obtained simultaneously with good on-press developability.

【0083】マイクロカプセルを感熱層に添加する場
合、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマイク
ロカプセル分散媒中に添加することができる。このよう
な溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化
合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。こ
のような溶剤としては、マイクロカプセル分散媒、マイ
クロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存する
が、多くの市販されている溶剤から容易に選択すること
ができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウレタン壁から
なる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、
エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多
価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類等が好
ましい。
When the microcapsules are added to the thermosensitive layer, a solvent in which the inclusions dissolve and the wall material swells can be added to the microcapsule dispersion medium. Such a solvent promotes the diffusion of the encapsulated compound having a thermoreactive functional group out of the microcapsules. Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material, wall thickness, and inclusions of the microcapsule wall, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of water-dispersible microcapsules composed of crosslinked polyurea and polyurethane walls, alcohols,
Preferred are ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like.

【0084】具体的化合物としては、メタノール、エタ
ノール、第3ブタノール、n−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケ
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を
2種以上用いても良い。
Specific compounds include methanol, ethanol, tertiary butanol, n-propanol, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, and γ-butyl lactone. , N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc., but are not limited thereto. In addition, these solvents
Two or more kinds may be used.

【0085】マイクロカプセル分散液には溶解しない
が、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることが
できる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるもの
であるが、通常、塗布液の5〜95重量%が好ましく、
より好ましい範囲は、10〜90重量%、特に好ましい
範囲は15〜85重量%である。
A solvent which does not dissolve in the microcapsule dispersion but can be dissolved if the above-mentioned solvent is mixed can be used. The amount of addition is determined by the combination of the materials, but is usually preferably 5 to 95% by weight of the coating solution.
A more preferred range is 10 to 90% by weight, and a particularly preferred range is 15 to 85% by weight.

【0086】本発明の感熱層には、このように熱反応性
官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを用
いるので、必要に応じてこれらの反応を開始又は促進す
る化合物を添加してもよい。反応を開始又は促進する化
合物としては、熱によりラジカル又はカチオンを発生す
るような化合物を挙げることができ、例えば、ロフィン
ダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合
物、ジアゾニウム塩又はジフェニルヨードニウム塩など
を含んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホ
ナートなどが挙げられる。これらの化合物は、感熱層固
形分の1〜20重量%の範囲で添加することができる。
好ましくは3〜10重量%の範囲である。この範囲内
で、機上現像性を損なわず、良好な反応開始又は促進効
果が得られる。
In the heat-sensitive layer of the present invention, since a microcapsule containing a compound having a thermoreactive functional group is used, a compound for initiating or promoting these reactions may be added as necessary. . Examples of the compound that initiates or promotes the reaction include a compound that generates a radical or a cation by heat, such as a lophin dimer, a trihalomethyl compound, a peroxide, an azo compound, a diazonium salt, or a diphenyliodonium salt. Onium salts, acylphosphines, imidosulfonates and the like. These compounds can be added in the range of 1 to 20% by weight of the solid content of the heat-sensitive layer.
Preferably it is in the range of 3 to 10% by weight. Within this range, a favorable reaction initiation or acceleration effect can be obtained without impairing the on-press developability.

【0087】本発明の感熱層には親水性樹脂を添加して
も良い。親水性樹脂を添加することにより機上現像性が
良好となるばかりか、感熱層自体の皮膜強度も向上す
る。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボ
キシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミ
ノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチル
などの親水基を有するものが好ましい。
The heat-sensitive layer of the present invention may contain a hydrophilic resin. The addition of the hydrophilic resin not only improves the on-press developability but also improves the film strength of the heat-sensitive layer itself. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as hydroxyl, carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl, carboxymethyl and the like are preferable.

【0088】親水性樹脂の具体例として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセ
テート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン
酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、
ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸
類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルア
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキ
シプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー
およびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアク
リレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレ
ングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポ
リビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくと
も60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水
分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリル
アミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルア
ミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールア
クリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー等を挙げ
ることができる。
Specific examples of the hydrophilic resin include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers,
Polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers of hydroxypropyl acrylate and Copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols and having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight Hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral , May include polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, the N- methylol acrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

【0089】親水性樹脂の感熱層への添加量は、感熱層
固形分の5〜40重量%が好ましく、10〜30重量%
がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と
皮膜強度が得られる。
The amount of the hydrophilic resin to be added to the heat-sensitive layer is preferably 5 to 40% by weight of the solid of the heat-sensitive layer, more preferably 10 to 30% by weight.
Is more preferred. Within this range, good on-press developability and film strength can be obtained.

【0090】本発明の平版印刷版用原版において、感熱
層あるいは、それに隣接する層(親水性層、下塗層また
は後述のオーバーコート層)内に、光熱変換剤を含有さ
せることにより、レーザー光照射等による画像記録が可
能となる。かかる光熱変換剤としては、レーザー光源の
波長を吸収する物質であればよく、種々の顔料、染料お
よび金属微粒子を用いることができる。特に、700〜
1200nmの少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収
物質であることが好ましい。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the light-sensitive layer or a layer adjacent thereto (a hydrophilic layer, an undercoat layer or an overcoat layer described below) contains a photothermal conversion agent to thereby provide laser light. Image recording by irradiation or the like becomes possible. The photothermal conversion agent may be any substance that absorbs the wavelength of the laser light source, and various pigments, dyes and metal fine particles can be used. In particular, 700-
It is preferably a light-absorbing substance having an absorption band in at least a part of 1200 nm.

【0091】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
Examples of the types of pigments include black pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bound pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like.

【0092】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線を発
光するレーザでの利用に適する点で好ましい。かかる赤
外線を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好まし
い。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあるこ
とが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲にある
ことが更に好ましい。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (eg, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, etc.). A method of binding to the surface of the pigment is conceivable. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo), "Printing Ink Technology"
(CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
Among these pigments, those that absorb infrared rays are preferred because they are suitable for use in lasers that emit infrared rays. As such a pigment absorbing infrared rays, carbon black is preferable. The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm.

【0093】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)又
は特許に記載されている公知の染料が利用できる。具体
的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ
染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カル
ボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シ
アニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
Examples of the dye include commercially available dyes and literatures (for example, "Near-Infrared Absorbing Dyes" in "Chemical Industry", May, 1986, p. , "Development and Market Trend of Functional Dyes of the 90's", Chapter 2, Section 2.3 (1990), C.M.C.) or patents can be used. Specifically, infrared absorbing dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, polymethine dyes, and cyanine dyes are preferred.

【0094】さらに、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭60−787
87号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−
173696号、特開昭58−181690号、特開昭
58−194595号等に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号等に記載されているナフトキノン染料、 特開
昭58−112792号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染
料や米国特許第4,756,993号記載の染料、米国
特許第4,973,572号記載のシアニン染料、特開
平10−268512号記載の染料、特開平11−23
5883号記載のフタロシアニン化合物を挙げることが
できる。
Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-60-787
No. 87, etc .;
173696, JP-A-58-181690, methine dyes described in JP-A-58-194595, and the like;
JP-A-58-112793, JP-A-58-22479
No. 3, JP-A-59-48187, JP-A-59-739
No. 96, JP-A-60-52940, JP-A-60-63
No. 744, etc .; squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc .; cyanine dyes described in British Patent 434,875; and dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993. And cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,973,572, dyes described in JP-A-10-268512, JP-A-11-23.
No. 5,883, phthalocyanine compounds.

【0095】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭58−181051号、同58−220143号、同
59−41363号、同59−84248号、同59−
84249号、同59−146063号、同59−14
6061号に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭59−216146号記載のシアニン染料、米国特許
第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩等や特公平5−13514号、同5−1970
2号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン
社製エポライトIII−178、エポライトIII−130、
エポライトIII−125等も好ましく用いられる。下記
に具体的な化合物を列記する。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645, JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, and JP-A-59-84248.
No. 84249, No. 59-146063, No. 59-14
No. 6061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. 5-70
No. 2, a pyrylium compound, Eporin III-178, Epolite III-130, manufactured by Eporin Co.
Epolite III-125 and the like are also preferably used. Specific compounds are listed below.

【0096】[0096]

【化3】 Embedded image

【0097】[0097]

【化4】 Embedded image

【0098】[0098]

【化5】 Embedded image

【0099】[0099]

【化6】 Embedded image

【0100】[0100]

【化7】 Embedded image

【0101】[0101]

【化8】 Embedded image

【0102】[0102]

【化9】 Embedded image

【0103】[0103]

【化10】 Embedded image

【0104】上記の有機系の光熱変換剤は、感熱層中に
30重量%まで添加することができる。好ましくは5〜
25重量%であり、特に好ましくは7〜20重量%であ
る。この範囲内で、良好な感度が得られる。
The above-mentioned organic photothermal conversion agent can be added up to 30% by weight in the thermosensitive layer. Preferably 5
The content is 25% by weight, particularly preferably 7 to 20% by weight. Within this range, good sensitivity is obtained.

【0105】本発明の感熱層には、光熱変換剤として金
属微粒子も用いることができる。金属微粒子の多くは光
熱変換性であって、かつ自己発熱性であるが、好ましい
金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、Cr、M
n、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、
Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、W、T
e、Pb、Ge、Re、Sbの単体もしくは合金、又
は、それらの酸化物または硫化物の微粒子が挙げられ
る。これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好まし
い金属は、光照射時に熱による合体をし易い、融点がお
よそ1000℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸
収をもつ金属、例えば、Re、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、PbおよびSnである。また、特に好
ましいのは、融点も比較的低く、赤外線に対する吸光度
も比較的高い金属の微粒子、例えば、Ag、Au、C
u、Sb、GeおよびPbで、最も好ましい元素として
は、Ag、AuおよびCuが挙げられる。
In the heat-sensitive layer of the present invention, fine metal particles can be used as a light-to-heat conversion agent. Most of the metal fine particles are light-heat converting and self-heating, but preferred metal fine particles include Si, Al, Ti, V, Cr, and M.
n, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo,
Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn, W, T
e, Pb, Ge, Re, and Sb alone or as an alloy, or fine particles of oxides or sulfides thereof. Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals are those which are liable to be coalesced by heat at the time of light irradiation, and have a melting point of about 1000 ° C. or less and have absorption in the infrared, visible or ultraviolet region, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb and Sn. Particularly preferred are metal fine particles having a relatively low melting point and a relatively high absorbance to infrared rays, for example, Ag, Au, C
Among u, Sb, Ge and Pb, the most preferred elements include Ag, Au and Cu.

【0106】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Snなどの低融点金属の微粒子
と、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Geなどの自
己発熱性金属の微粒子とを混合使用するなど、2種以上
の光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ag、
Pt、Pdなど微小片としたときに光吸収が特に大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことも好ましい。
Also, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb, Sn and other low melting point metal particles and self-heating metal particles such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W and Ge. It may be made of a light-to-heat conversion material. Also, Ag,
It is also preferable to use a combination of a metal-type micro-piece and a metal-type micro-piece having a particularly large light absorption when made into a micro-piece such as Pt or Pd.

【0107】これらの粒子の粒径は、好ましくは10μ
m以下、より好ましくは0.003〜5μm、特に好ま
しくは0.01〜3μmである。この範囲内で、良好な
感度と解像力が得られる。
The particle size of these particles is preferably 10 μm.
m, more preferably 0.003 to 5 μm, particularly preferably 0.01 to 3 μm. Within this range, good sensitivity and resolution can be obtained.

【0108】本発明において、これらの金属微粒子を光
熱変換剤として用いる場合、その添加量は、好ましくは
感熱層固形分の10重量%以上であり、より好ましくは2
0重量%以上、特に好ましくは30重量%以上で用いられ
る。この範囲内で高い感度が得られる。
In the present invention, when these metal fine particles are used as a light-to-heat conversion agent, the amount added is preferably at least 10% by weight of the solid content of the heat-sensitive layer, more preferably 2% by weight.
0% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more. High sensitivity is obtained within this range.

【0109】本発明の平版印刷版用原版の感熱層には、
さらに、上記マイクロカプセルに含有される熱反応性官
能基を有する化合物と反応することができる官能基およ
びその保護基を有する低分子化合物を含有することがで
きる。これらの化合物の添加量は、感熱層中5重量%〜
40重量%が好ましく、特に5重量%〜20重量%が好
ましい。これより少ないと架橋効果が少なく耐刷性が不
十分となり、これより多いと経時後の機上現像性が悪く
なってしまう。このような化合物の具体例としては、前
記マイクロカプセルに内包される熱反応性官能基を有す
る化合物の具体例と同様のものを挙げることができる。
In the heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention,
Further, it can contain a low molecular compound having a functional group capable of reacting with a compound having a thermoreactive functional group contained in the microcapsule and a protective group thereof. The addition amount of these compounds is from 5% by weight to
It is preferably 40% by weight, particularly preferably 5% to 20% by weight. If the amount is less than this, the cross-linking effect is small and the printing durability becomes insufficient. Specific examples of such a compound include those similar to the specific examples of the compound having a heat-reactive functional group included in the microcapsules.

【0110】本発明の感熱層には、さらに必要に応じて
上記以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、画
像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするた
め、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤と
して使用することができる。具体的には、オイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)等、及び特開昭62−293247号に記載されて
いる染料を挙げることができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、酸化チタン等の顔料も好適に用い
ることができる。添加量は、感熱層塗布液全固形分に対
し0.01〜10重量%が好ましい。
The heat-sensitive layer of the present invention may further contain various compounds other than those described above, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image in order to make it easy to distinguish between an image portion and a non-image portion after image formation. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) etc. and dyes described in JP-A-62-293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can be suitably used. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.

【0111】また、本発明においては、感熱層塗布液の
調製中又は保存中においてエチレン性不飽和化合物の不
要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム
塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、感熱層成
分全組成物の重量に対して約0.01〜5重量%が好ま
しい。
In the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the ethylenically unsaturated compound during preparation or storage of the coating solution for the thermosensitive layer. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol) ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to 5% by weight based on the weight of the total composition of the heat-sensitive layer component.

【0112】また必要に応じて、酸素による重合阻害を
防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級
脂肪酸やその誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程
で感熱層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸やその
誘導体の添加量は、感熱層固形分の約0.1〜約10重
量%が好ましい。
Further, if necessary, a higher fatty acid such as behenic acid or behenic acid amide or a derivative thereof is added to prevent polymerization inhibition by oxygen. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid or derivative thereof added is preferably about 0.1 to about 10% by weight of the solid content of the heat-sensitive layer.

【0113】さらに、本発明の感熱層には、必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えるこ
とができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
Further, a plasticizer can be added to the heat-sensitive layer of the present invention, if necessary, to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate,
Dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0114】本発明の感熱層は、必要な上記各成分を溶
剤に分散あるいは溶解して塗布液を調製し、塗布され
る。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができる
が、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、
単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。
The heat-sensitive layer of the present invention is prepared by dispersing or dissolving each of the above-mentioned necessary components in a solvent to prepare a coating solution and coating the same. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol,
2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, Sulfolane, γ-
Examples thereof include, but are not limited to, butyl lactone, toluene, and water. These solvents are
Used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by weight.

【0115】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感
熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般
的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。この範囲より
塗布量が少なくなると、見かけの感度は大になるが、画
像記録の機能を果たす感熱層の皮膜特性は低下する。塗
布する方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating amount (solid content) of the heat-sensitive layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . When the amount of coating is smaller than this range, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the heat-sensitive layer that performs the function of image recording deteriorate. Various methods can be used as a method of applying. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating,
Examples include blade coating and roll coating.

【0116】感熱層塗布液には、塗布性を良化するため
の界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加するこ
とができる。好ましい添加量は、感熱層全固形分の0.
01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重
量%である。
A surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added to the heat-sensitive layer coating solution. A preferable addition amount is 0.1% of the total solid content of the heat-sensitive layer.
The content is from 01 to 1% by weight, more preferably from 0.05 to 0.5% by weight.

【0117】(オーバーコート層)本発明の平版印刷版
用原版は、感熱層表面の親油性物質による汚染防止や傷
防止のため、感熱層上に、水溶性オーバーコート層を設
けることが好ましい。本発明に使用される水溶性オーバ
ーコート層は印刷時容易に除去できるものであり、水溶
性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。こ
こで用いる水溶性の有機高分子化合物としては、塗布乾
燥によってできた被膜がフィルム形成能を有するもの
で、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但し加水分解率65
%以上のもの)、ポリアクリル酸、そのアルカリ金属塩
もしくはアミン塩、ポリアクリル酸共重合体、そのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、その
アルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸共
重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリア
クリルアミド、その共重合体、ポリヒドロキシエチルア
クリレート、ポリビニルピロリドン、その共重合体、ポ
リビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル/無水
マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2−
メチル−1−プロパンスルホン酸、そのアルカリ金属塩
もしくはアミン塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メ
チル−1−プロパンスルホン酸共重合体、そのアルカリ
金属塩もしくはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体
(例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエ
チルセルローズ、メチルセルローズ等)、その変性体
、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテ
ル化デキストリン等を挙げることができる。また、目的
に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いること
もできる。
(Overcoat Layer) In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide a water-soluble overcoat layer on the heat-sensitive layer in order to prevent the surface of the heat-sensitive layer from being stained or damaged by a lipophilic substance. The water-soluble overcoat layer used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble organic polymer compounds. As the water-soluble organic polymer compound used herein, a film formed by coating and drying has a film-forming ability, and specifically, polyvinyl acetate (provided that the hydrolysis rate is 65%).
% Or more), polyacrylic acid, its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer, its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid, its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid copolymer Coalescence, its alkali metal salt or amine salt, polyacrylamide, its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinylpyrrolidone, its copolymer, polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2- Acrylamide-2-
Methyl-1-propanesulfonic acid, its alkali metal salt or amine salt, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer, its alkali metal salt or amine salt, gum arabic, cellulose derivative ( For example, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose and the like), modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like can be mentioned. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0118】また、オーバーコート層には、前記の水溶
性光熱変換剤を添加しても良い。さらに、オーバーコー
ト層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の
場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。オーバーコー
ト層の乾燥塗布量は、0.1〜2.0g/m2が好まし
い。この範囲内で、機上現像性を損なわず、指紋付着汚
れなどの親油性物質による感熱層表面の良好な汚染防止
や傷の防止ができる。
The above-mentioned water-soluble photothermal conversion agent may be added to the overcoat layer. Furthermore, in the case of aqueous solution application, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene nonylphenyl ether and polyoxyethylene dodecyl ether can be added to the overcoat layer in order to ensure uniformity of application. . Dry coating amount of the overcoat layer, 0.1 to 2.0 g / m 2 is preferred. Within this range, excellent contamination prevention and scratch prevention of the surface of the heat-sensitive layer by a lipophilic substance such as fingerprint adhesion can be prevented without impairing the on-press developability.

【0119】(画像形成及び製版)本発明の平版印刷版
用原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録
ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走
査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や
赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1
200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレ
ーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適であ
る。
(Image formation and plate making) The lithographic printing plate precursor of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used.
Exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared at 200 nm is preferable.

【0120】画像露光された本発明の平版印刷版用原版
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷版用原版は、日本特許29383
98号に記載されているように、印刷機シリンダー上に
取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露
光し、その後に湿し水および/またはインクをつけて機
上現像することも可能である。また、これらの平版印刷
版用原版は、水または適当な水溶液を現像液とする現像
をした後、印刷に用いることもできる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing press without any further processing, and can be printed by an ordinary procedure using ink and fountain solution. These lithographic printing plate precursors are disclosed in Japanese Patent No. 29383.
As described in No. 98, after mounting on a printing press cylinder, it can be exposed by a laser mounted on the printing press, and then developed on a printing press with dampening water and / or ink. is there. These lithographic printing plate precursors can be used for printing after development using water or an appropriate aqueous solution as a developing solution.

【0121】[0121]

【実施例】以下に、本発明を実施例によって更に具体的
に説明するが、勿論本発明の範囲はこれらによって限定
されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which, of course, are not intended to limit the scope of the present invention.

【0122】〔マイクロカプセルの合成〕 (熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカ
プセル(1)の合成)油相成分としてキシレンジイソシ
アネート40g、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト10g、アリルメタクリレートとブチルメタクリレー
トの共重合体(モル比 60/40)10g、パイオニ
ンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60g
に溶解した。水相成分としてPVA205(クラレ製)
の4%水溶液120gを作成した。油相成分および水相
成分をホモジナイザーを用いて10000rpmで乳化
した。その後、水を40g添加し、室温で30分さらに
40度で3時間攪拌した。このようにして得られたマイ
クロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径
は0.5μmであった。
[Synthesis of Microcapsules] (Synthesis of microcapsules (1) encapsulating a compound having a thermoreactive functional group) As an oil phase component, 40 g of xylene diisocyanate, 10 g of trimethylolpropane diacrylate, and allyl methacrylate and butyl methacrylate were used. 10 g of copolymer (molar ratio 60/40), 0.1 g of pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi) and 60 g of ethyl acetate
Was dissolved. PVA205 (made by Kuraray) as an aqueous phase component
120 g of a 4% aqueous solution was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content of 20% and an average particle size of 0.5 μm.

【0123】(熱反応性官能基を有する化合物を内包す
るマイクロカプセル(2)の合成)油相成分としてイソ
ホロンジイソシアネート30g、ヘキサメチレンジイソ
シアネート10g、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテル20g、パイオニンA41C(竹本油脂製)
0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成分とし
てPVA205(クラレ製)の4%水溶液120gを作
製した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用
いて10,000rpmで乳化した。その後、水を40
g添加し、室温で30分さらに40度で3時間攪拌し
た。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形
分濃度は20%であり、平均粒径は0.7μmであっ
た。
(Synthesis of microcapsule (2) encapsulating a compound having a thermoreactive functional group) 30 g of isophorone diisocyanate, 10 g of hexamethylene diisocyanate, 20 g of diethylene glycol diglycidyl ether as oil phase components, Pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi)
0.1 g was dissolved in 60 g of ethyl acetate. As a water phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the water phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. After that, add 40
g was added and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content of 20% and an average particle size of 0.7 μm.

【0124】(熱反応性官能基を有する化合物を内包す
るマイクロカプセル(3)の合成)油相成分としてD−
110N(武田薬品工業製)30g、カレンズMOI
(昭和電工製)(2−メタクリロイルオキシエチルイソ
シアネート)10g、トリメチロールプロパントリアク
リレート10g、アリルメタクリレートとブチルメタク
リレートの共重合体(モル比 60/40)10g、パ
イオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル
60gに溶解した。水相成分としてPVA205(クラ
レ製)の4%水溶液120gを作成した。油相成分およ
び水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpm
で乳化した。その後、水を40g添加し、室温で30分
さらに40度で3時間攪拌した。このようにして得られ
たマイクロカプセル液の固形分濃度は20%であり、平
均粒径は0.5μmであった。
(Synthesis of Microcapsules (3) Encapsulating a Compound Having a Thermally Reactive Functional Group) D-
110N (manufactured by Takeda Pharmaceutical) 30g, Karenz MOI
(Manufactured by Showa Denko) 10 g of (2-methacryloyloxyethyl isocyanate), 10 g of trimethylolpropane triacrylate, 10 g of a copolymer of allyl methacrylate and butyl methacrylate (molar ratio 60/40), 0.1 g of Pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi) Was dissolved in 60 g of ethyl acetate. 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared as an aqueous phase component. The oil phase component and the water phase component were separated using a homogenizer at 10,000 rpm.
And emulsified. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content of 20% and an average particle size of 0.5 μm.

【0125】(熱反応性官能基を有する化合物を内包す
るマイクロカプセル(4)の合成)油相成分としてD−
110N(武田薬品工業製)40g、ジエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル20g、パイオニンA41C
(竹本油脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解し
た。水相成分としてPVA205(クラレ製)の4%水
溶液120gを作成した。油相成分および水相成分をホ
モジナイザーを用いて10000rpmで乳化した。そ
の後、水を40g添加し、室温で30分さらに40度で
3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプ
セル液の固形分濃度は20%であり、平均粒径は0.7
μmであった。
(Synthesis of Microcapsules (4) Encapsulating a Compound Having a Thermoreactive Functional Group)
110N (manufactured by Takeda Pharmaceutical) 40g, diethylene glycol diglycidyl ether 20g, pionin A41C
0.1 g (manufactured by Takemoto Yushi) was dissolved in 60 g of ethyl acetate. 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was prepared as an aqueous phase component. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 degrees for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained has a solid content of 20% and an average particle size of 0.7%.
μm.

【0126】(熱反応性官能基を有しない微粒子ポリマ
ー1の合成,比較例用)スチレン15g、ポリオキシエ
チレンフェノール水溶液(濃度9.84×10 -3mol
・l-1)200mlを加え、250rpmでかき混ぜな
がら、系内を窒素ガスで置換する。この液を25℃にし
た後、セリウム(IV)アンモニウム塩水溶液(濃度0.
984×10-3mol・l-1)10ml添加する。この
際、硝酸アンモニウム水溶液(濃度58.8×10-3
ol・l-1)を加え、pH1.3〜1.4に調整する。
その後8時間これを攪拌した。このようにして得られた
液の固形分濃度は9.5%であり、平均粒径は0.4μ
mであった。
(Fine Particle Polymer Having No Thermally Reactive Functional Group)
-1 15g styrene, polyoxyethylene
Tylene phenol aqueous solution (concentration 9.84 × 10 -3mol
・ L-1) Add 200ml and stir at 250rpm
Then, the inside of the system is replaced with nitrogen gas. Bring the solution to 25 ° C
After that, an aqueous cerium (IV) ammonium salt solution (concentration: 0.
984 × 10-3mol·l-1) Add 10 ml. this
At this time, an ammonium nitrate aqueous solution (concentration: 58.8 × 10-3m
ol ・ l-1) To adjust the pH to 1.3 to 1.4.
It was then stirred for 8 hours. Obtained in this way
The solid concentration of the liquid was 9.5%, and the average particle size was 0.4 μm.
m.

【0127】〔実施例1〕 (支持体及び親水性層の形成)厚さ175μmのポリエ
チレンテレフタレート(熱伝導率0.00046cal
/cm・sec・℃)の両面に、コロナ処理を施し、さ
らに、両面に、下記の塗布液を塗布、加熱乾燥(180
℃、30秒)し、乾燥膜厚0.5g/m2の帯電防止層
を形成した。
Example 1 (Formation of Support and Hydrophilic Layer) Polyethylene terephthalate having a thickness of 175 μm (thermal conductivity: 0.00046 cal)
/ Cm · sec · ° C), a corona treatment is applied to both sides, and the following coating solution is applied to both sides and heated and dried (180
C. for 30 seconds) to form an antistatic layer having a dry film thickness of 0.5 g / m 2 .

【0128】 (帯電防止層塗布液) ・アクリル樹脂水分散液 20g (ジュリマーET−410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) ・酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 30g (平均粒径:0.1μm、17重量%) ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.6g (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) ・アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩水溶液 0.6g (サンデットBL、濃度40重量%、三洋化成工業(株)製) ・メラミン化合物 0.2g (スミテックスレジンM−3、有効成分濃度80重量%、住友化学工業(株)製 ) ・シリカゲル20%水分散液 17g (スノーテックスC(日産化学工業(株)製、平均粒子径約10nm) ・水 42.4g(Antistatic layer coating solution) Acrylic resin aqueous dispersion 20 g (Julima ET-410, solid content 20% by weight, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) Tin oxide-antimony oxide aqueous dispersion 30 g (average particle size) Diameter: 0.1 μm, 17% by weight) Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.6 g (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) Alkyl diphenyl ether disulfonate sodium salt aqueous solution 0.6 g (Sandet BL, concentration 40 weight Melamine compound 0.2 g (Sumitec Resin M-3, active ingredient concentration 80% by weight, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Silica gel 20% aqueous dispersion 17 g (Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size: about 10 nm) ・ 42.4 g of water

【0129】次いで、上記のポリエチレンテレフタレー
トの片側に、下記の親水性層塗布液を塗布し、加熱乾燥
(100℃、10分)することにより、乾燥重量1.5
g/m2の親水性層を形成した。
Next, the following hydrophilic layer coating solution was coated on one side of the above polyethylene terephthalate, and dried by heating (100 ° C., 10 minutes) to a dry weight of 1.5.
g / m 2 of a hydrophilic layer was formed.

【0130】 (親水性層塗布液) ・酸化チタン20%/ポリビニルアルコール10%水分散液 8g (酸化チタン(和光純薬(株)製、ルチル型、平均粒径200nm) /PVA117(クラレ(株)製)=2/1重量比) ・シリカゲル20%水分散液 8g (スノーテックスC(日産化学工業(株)製、平均粒子径約10nm) ・ゾルゲル調製液(下記組成) 4.7g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.025g (ノニポール100、三洋化成工業(株)製) ・水 20g(Hydrophilic Layer Coating Solution) 8% aqueous dispersion of titanium oxide 20% / polyvinyl alcohol 10% (titanium oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., rutile type, average particle diameter 200 nm)) / PVA117 (Kuraray Co., Ltd.) )) = 2/1 weight ratio) 8 g of a 20% aqueous silica gel dispersion (Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter: about 10 nm)) 4.7 g of sol-gel preparation solution (the following composition) 4.7 g of poly Oxyethylene nonyl phenyl ether 0.025 g (Nonipol 100, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) Water 20 g

【0131】(ゾルゲル調製液の作製)下記組成の液を
室温において、1時間熟成してゾルゲル調製液を作成し
た。 ・ テトラエトキシシラン 8.5g ・ メタノール 1.8g ・ 水 15.0g ・ リン酸 0.015g
(Preparation of sol-gel preparation liquid) A liquid having the following composition was aged at room temperature for 1 hour to prepare a sol-gel preparation liquid. -8.5 g of tetraethoxysilane-1.8 g of methanol-15.0 g of water-0.015 g of phosphoric acid

【0132】(感熱層の形成)上記親水性層上に、下記
組成の塗布液を塗布、乾燥(90℃,2分)することに
より、乾燥塗布重量0.6g/m2の感熱層を形成して
平版印刷版用原版を得た。
(Formation of Thermosensitive Layer) A coating solution having the following composition was applied on the hydrophilic layer and dried (90 ° C., 2 minutes) to form a thermosensitive layer having a dry coating weight of 0.6 g / m 2. As a result, a lithographic printing plate precursor was obtained.

【0133】 (感熱層塗布液1) ・上記の合成したマイクロカプセル(1)の分散液 25g ・ポリヒドロキシエチルアクリレート 0.5g ・p−ジアゾフェニルアミンの硫酸塩 0.3g ・光熱変換剤(本明細書記載のI−32) 0.3g ・水 70g ・1−メトキシ−2−プロパノール 30g(Thermal Layer Coating Solution 1) 25 g of dispersion liquid of microcapsule (1) synthesized above 0.5 g of polyhydroxyethyl acrylate 0.3 g of sulfate of p-diazophenylamine I-32 described in the description) 0.3 g ・ 70 g of water ・ 30 g of 1-methoxy-2-propanol

【0134】このようにして得た平版印刷版用原版を、
水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社
製Trendsetter 3244VFSにて、出力
9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー
100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露
光した後、処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷
機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水を供給し
た後、インキを供給し、さらに紙を供給して印刷を行っ
た(使用した湿し水:EU−3(富士写真フイルム
(株)製)を1体積%、イソプロパノールを10体積%
添加した水溶液,使用したインキ:GEOS−G墨(大
日本インキ化学工業(株)製))ところ、刷り出し初期
に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上において、
版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像部の耐
刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られた。
The lithographic printing plate precursor thus obtained is
After exposure with a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an external drum rotation speed of 210 rpm, a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 , and a resolution of 2400 dpi, no processing was performed. The printer was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M, and after supplying dampening water, ink was supplied, and paper was further supplied to perform printing (fountain water used: EU-3 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) 1% by volume and 10% by volume of isopropanol
Aqueous solution added, ink used: GEOS-G black (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) In the early stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image area was promptly placed on a printing machine.
20,000 good prints were obtained which were removed from the plate surface, had no stain on the non-image area, and had no problem in the printing durability of the image area.

【0135】〔実施例2〜4〕感熱層塗布液中のマイク
ロカプセル分散液を上記の合成したマイクロカプセル
(2)、(3)及び(4)の分散液に各々変える以外
は、実施例1と同様にして、各々の平版印刷版用原版を
得た。次いで、実施例1と同様にして、画像露光及び印
刷を行ったところ、刷り出し初期に、非画像部の感熱層
は、速やかに印刷機上において、版面より除去され、非
画像部の汚れがなく、画像部の耐刷性も問題のない2万
枚の良好な印刷物が得られた。
Examples 2 to 4 Example 1 was repeated except that the microcapsule dispersion in the coating solution for the thermosensitive layer was changed to the dispersions of the microcapsules (2), (3) and (4) synthesized above. In the same manner as in the above, each lithographic printing plate precursor was obtained. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0136】〔比較例1〕感熱層塗布液中のマイクロカ
プセル分散液を上記の合成した微粒子ポリマー1の分散
液52.6gに変える以外は、実施例1と同様にして、
平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と同様にし
て、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期
に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上において、
版面より除去されたが、画像部の耐刷性が不充分なた
め、印刷中に画像部の一部が脱落し、画像部のスヌケが
生じ、良好な印刷物が得られなかった。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that the microcapsule dispersion in the heat-sensitive layer coating liquid was changed to 52.6 g of the dispersion of the synthesized fine particle polymer 1.
A lithographic printing plate precursor was obtained. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the beginning of printing, the heat-sensitive layer in the non-image area was immediately printed on a printing machine.
Although it was removed from the plate surface, a part of the image portion dropped off during printing due to insufficient printing durability of the image portion, and the image portion was dull, and a good printed matter was not obtained.

【0137】〔実施例5〕感熱性層塗布液組成を下記組
成に変える以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版
用原版を得た。次いで、実施例1と同様にして、画像露
光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期に、非画像部
の感熱層は、速やかに印刷機上において、版面より除去
され、非画像部の汚れがなく、画像部の耐刷性も問題の
ない2万枚の良好な印刷物が得られた。
Example 5 A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat-sensitive layer coating solution was changed to the following composition. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0138】 (感熱層塗布液2) 上記の合成したマイクロカプセル(1)の分散液 25g ポリアクリル酸 0.5g (重量平均分子量 25,000) ソルビトールトリアクリレート 1.0g 光熱変換剤(本明細書記載のI−31) 0.3g t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g 水 70g 1−メトキシ−2−プロパノール 30g(Thermal Layer Coating Solution 2) Dispersion of the microcapsule (1) synthesized above 25 g Polyacrylic acid 0.5 g (weight average molecular weight 25,000) Sorbitol triacrylate 1.0 g Light-to-heat converting agent (described in this specification) I-31) 0.3 g Sulfate of t-butyldiphenyliodonium 0.3 g Water 70 g 1-methoxy-2-propanol 30 g

【0139】〔実施例6〕上記感熱層塗布液2中のマイ
クロカプセル分散液を上記の合成したマイクロカプセル
(3)の分散液に変える以外は、実施例5と同様にし
て、平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と同様
にして、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初
期に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上におい
て、版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像部
の耐刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られ
た。
Example 6 A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 5, except that the microcapsule dispersion in the thermosensitive layer coating liquid 2 was changed to the dispersion of the synthesized microcapsules (3). I got the original. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0140】〔実施例7〕感熱性層塗布液組成を以下に
変える以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版用原
版を得た。次いで、実施例1と同様にして、画像露光及
び印刷を行ったところ、刷り出し初期に、非画像部の感
熱層は、速やかに印刷機上において、版面より除去さ
れ、非画像部の汚れがなく、画像部の耐刷性も問題のな
い2万枚の良好な印刷物が得られた。
Example 7 A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat-sensitive layer coating solution was changed as follows. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0141】 (感熱層塗布液3) 上記の合成したマイクロカプセル(2)の分散液 25g ポリアクリル酸 0.5g (重量平均分子量 25,000) ジエチレントリアミン 1.0g 光熱変換剤(本明細書記載のI−31) 0.3g t−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 0.3g 水 70g 1−メトキシ−2−プロパノール 30g(Thermal Layer Coating Solution 3) Dispersion of the synthesized microcapsule (2) 25 g Polyacrylic acid 0.5 g (weight average molecular weight 25,000) Diethylene triamine 1.0 g Light-to-heat converting agent (I- described in the present specification) 31) 0.3 g t-butyldiphenyliodonium sulfate 0.3 g water 70 g 1-methoxy-2-propanol 30 g

【0142】〔実施例8〕上記感熱層塗布液3中のマイ
クロカプセル分散液を上記の合成したマイクロカプセル
(4)の分散液に変える以外は、実施例7と同様にして、
平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と同様にし
て、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期
に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上において、
版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像部の耐
刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られた。
[Example 8] The microcapsule dispersion in the thermosensitive layer coating solution 3 was synthesized as described above.
Except for changing to the dispersion of (4), in the same manner as in Example 7,
A lithographic printing plate precursor was obtained. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the beginning of printing, the heat-sensitive layer in the non-image area was immediately printed on a printing machine.
20,000 good prints were obtained which were removed from the plate surface, had no stain on the non-image area, and had no problem in the printing durability of the image area.

【0143】〔実施例9〜16〕親水性層の形成を下記
に変える以外は、各々実施例1〜8と同様にして、各々
の平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と同様に
して、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期
に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上において、
版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像部の耐
刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られた。
Examples 9 to 16 Except that the formation of the hydrophilic layer was changed as described below, the respective lithographic printing plate precursors were obtained in the same manner as in Examples 1 to 8, respectively. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the beginning of printing, the heat-sensitive layer in the non-image area was immediately printed on a printing machine.
20,000 good prints were obtained which were removed from the plate surface, had no stain on the non-image area, and had no problem in the printing durability of the image area.

【0144】(親水性層の形成)帯電防止層上に、バッ
チ式スパッタ成膜装置(芝浦エレテック製 CFS−1
0−EP70)を用い下記条件で厚さ100nmになる
よう酸化ケイ素を成膜し、親水性層を形成した。
(Formation of Hydrophilic Layer) A batch type sputtering film forming apparatus (CFS-1 manufactured by Shibaura Eletech Co., Ltd.) is formed on the antistatic layer.
0-EP70), a silicon oxide film was formed to a thickness of 100 nm under the following conditions to form a hydrophilic layer.

【0145】 (バッチ式スパッタ成膜条件) ターゲット材:酸化ケイ素 雰囲気 :アルゴン 成膜時圧力 :5mtorr パワー :RF1kW(電源は日本電子製JRF−3000)(Batch type sputtering film forming conditions) Target material: silicon oxide Atmosphere: argon Film forming pressure: 5 mtorr Power: RF1 kW (power supply is JRF-3000 manufactured by JEOL Ltd.)

【0146】なお、成膜前には帯電防止層表面を下記条
件でグロー処理した。 (グロー処理条件) 雰囲気 :アルゴン 処理時圧力 :5.0mtorr パワー :Rf3kW (電源は日本電子製JRF−3000) 時間 :2.5分
Before the film formation, the surface of the antistatic layer was glow-treated under the following conditions. (Glow processing conditions) Atmosphere: Argon Processing pressure: 5.0 mtorr Power: Rf3 kW (Power supply: JRF-3000 manufactured by JEOL Ltd.) Time: 2.5 minutes

【0147】〔比較例2〕下記アルミニウム支持体上
に、実施例1と同様にして感熱層を形成し、平版印刷版
用原版を得た。次いで、実施例1と同様にして、画像露
光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期に、非画像部
の感熱層は、速やかに印刷機上において、版面より除去
されたが、画像部の耐刷性が不充分なため、印刷中に画
像部の一部が脱落し、画像部のスヌケが生じ、良好な印
刷物が得られなかった。
Comparative Example 2 A heat-sensitive layer was formed on the following aluminum support in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate precursor. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, the heat-sensitive layer in the non-image area was promptly removed from the plate surface on the printing press at the beginning of printing, Due to insufficient printability, a part of the image portion dropped off during printing, and the image portion was soaked that a good printed matter could not be obtained.

【0148】(アルミニウム支持体の作成)99.5重
量%アルミニウムに、銅を0.01重量%、チタンを0.
03重量%、鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量%含
有するJISA1050アルミニウム材(熱伝導率0.
48cal/cm・sec・℃)の厚み0.24mm圧
延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の
20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,1
0−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナトリウム
水溶液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してア
ルミニウムの溶解量が5g/m2になるようにエッチング
した後、流水で水洗した。更に、1重量%硝酸で中和
し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム0.5重
量%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電
圧9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.9
0、特公昭58−5796号公報実施例に記載されてい
る電流波形)を用いて160クローン/dm2の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の10
重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニ
ウム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした後、
水洗した。次に、50℃、30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し、デスマットした後、水洗した。さらに、35℃
の硫酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含
有)中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処
理を行った。即ち電流密度13A/dm2で電解を行い、
電解時間の調節により陽極酸化皮膜重量2.7g/m2とし
た。この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの
0.2重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥し
た。
(Preparation of aluminum support) 0.01% by weight of copper and 0.1% by weight of titanium were added to 99.5% by weight of aluminum.
JIS A1050 aluminum material containing 0.3% by weight of iron, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon (thermal conductivity of 0.1%).
48 cal / cm · sec · ° C.) of a 0.24 mm-thick rolled plate was prepared by mixing a 400-mesh aqueous suspension of pumicestone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) with a 20% by weight aqueous suspension and a rotating nylon brush (6.1).
0-nylon) and the surface is grained,
Washed well with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Further, it is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then in a 0.7% by weight aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave having a voltage of 10.5 volts at the anode and 9.3 volts at the cathode. Alternating waveform voltage (current ratio r = 0.9
0, a current waveform described in Examples of JP-B-58-5796), and an electrolytic surface roughening treatment was performed at an anode electricity of 160 clones / dm 2 . After washing with water,
After immersion in an aqueous solution of sodium hydroxide by weight and etching so that the amount of aluminum dissolved becomes 1 g / m 2 ,
Washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. In addition, 35 ° C
A porous anodic oxide film was formed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) using a direct current. That is, electrolysis is performed at a current density of 13 A / dm 2 ,
The anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. This support was washed with water, immersed in a 0.2% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried.

【0149】〔実施例17〕親水性層上に、下記の下塗
層を形成する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷
版用原版を得た。次いで、実施例1と同様にして、画像
露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期に、非画像
部の感熱層は、速やかに印刷機上において、版面より除
去され、非画像部の汚れがなく、画像部の耐刷性も問題
のない2万枚の良好な印刷物が得られた。
Example 17 A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following undercoat layer was formed on the hydrophilic layer. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0150】(下塗り層の形成)親水性層上に、下記の
下塗層塗布液を塗布、加熱乾燥(100℃,1分)する
ことにより、乾燥塗布量0.05g/m2の下塗層を形成
した。
(Formation of Undercoat Layer) The following undercoat layer coating solution was applied on the hydrophilic layer and dried by heating (100 ° C., 1 minute) to give a dry coating amount of 0.05 g / m 2 . A layer was formed.

【0151】(下塗層塗布液) ・ アラビアガム 1g ・ 水 1000g(Coating liquid for undercoat layer) 1 g of gum arabic 1000 g of water

【0152】〔実施例18〕感熱層上に、下記のオーバ
ーコート層を形成する以外は、実施例1と同様にして、
平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と同様にし
て、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出し初期
に、オーバーコート層及び非画像部の感熱層は、速やか
に印刷機上において、版面より除去され、非画像部の汚
れがなく、画像部の耐刷性も問題のない2万枚の良好な
印刷物が得られた。
Example 18 The procedure of Example 1 was repeated, except that the following overcoat layer was formed on the heat-sensitive layer.
A lithographic printing plate precursor was obtained. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the beginning of printing, the overcoat layer and the heat-sensitive layer in the non-image portion were promptly removed from the plate surface on a printing press, and the non-image 20,000 sheets of good printed matter having no stains in the image area and no problem in the printing durability of the image area were obtained.

【0153】(オーバーコート層の形成)感熱層上に、
下記オーバーコート層塗布液を塗布、加熱乾燥(100
℃、2分)することにより、乾燥塗布重量0.3g/m2
のオーバーコート層を形成し、平版印刷版用原版を得
た。
(Formation of Overcoat Layer) On the heat-sensitive layer,
Apply the following overcoat layer coating solution and heat dry (100
C. for 2 minutes) to obtain a dry coating weight of 0.3 g / m 2.
Was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

【0154】 (オーバーコート層塗布液) ・アラビアガム 1g ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.025g ・水 19g(Coating solution for overcoat layer)-1 g of gum arabic-0.025 g of polyoxyethylene nonylphenyl ether-19 g of water

【0155】〔実施例19〕ポリエチレンテレフタレー
トの両面に、中心線平均粗さRaが0.3μmとなるよ
うにサンドブラスト処理を施した以外は、実施例1と同
様にして平版印刷版用原版を得た。次いで、実施例1と
同様にして、画像露光及び印刷を行ったところ、刷り出
し初期に、非画像部の感熱層は、速やかに印刷機上にお
いて、版面より除去され、非画像部の汚れがなく、画像
部の耐刷性も問題のない2万枚の良好な印刷物が得られ
た。
Example 19 A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that both surfaces of polyethylene terephthalate were subjected to sandblasting so that the center line average roughness Ra was 0.3 μm. Was. Next, when image exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1, at the initial stage of printing, the heat-sensitive layer in the non-image portion was promptly removed from the printing plate on a printing press, and the stain in the non-image portion was removed. As a result, 20,000 good prints having no problem in the printing durability of the image portion were obtained.

【0156】[0156]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、赤外線レーザー光によって画像を走査露光
後、そのまま直接印刷機に装着して印刷することが可能
な良好な機上現像性を有し、感度が高く、かつ高耐刷性
を示し、しかも印刷での汚れのないものとすることがで
きる。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has good on-press development in which an image can be scanned and exposed by an infrared laser beam and then directly mounted on a printing machine for printing. , High sensitivity, high printing durability, and no stain on printing.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BH03 DA02 DA10 DA19 DA36 2H084 AA14 AA38 AE05 BB04 BB16 CC05 2H096 AA06 BA01 BA20 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 AA28 AA29 BA01 DA08 DA12 DA15 DA25 DA32 DA35 DA38 DA52 DA56 DA59 DA73 DA78 EA03 EA05 FA16 GA34 GA38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BH03 DA02 DA10 DA19 DA36 2H084 AA14 AA38 AE05 BB04 BB16 CC05 2H096 AA06 BA01 BA20 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 DA12 DA12 DA12 DA38 DA52 DA56 DA59 DA73 DA78 EA03 EA05 FA16 GA34 GA38

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルム支持体上に、親水
性層と、熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイ
クロカプセルを含有する感熱層とをこの順に有すること
を特徴とする平版印刷版用原版。
1. A lithographic printing plate precursor comprising: a plastic film support; and a hydrophilic layer and a heat-sensitive layer containing microcapsules containing a compound having a thermoreactive functional group. .
【請求項2】 前記親水性層が、ゾル−ゲル変換により
形成した無機マトリックスを含有することを特徴とする
請求項1に記載の平版印刷版用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the hydrophilic layer contains an inorganic matrix formed by sol-gel conversion.
【請求項3】 前記親水性層が、金属酸化物を含有する
表面を有する無機薄膜であることを特徴とする請求項1
に記載の平版印刷版用原版。
3. The method according to claim 1, wherein the hydrophilic layer is an inorganic thin film having a surface containing a metal oxide.
The lithographic printing plate precursor described in.
【請求項4】 前記感熱層上に、水溶性オーバーコート
層を更に有することを特徴とする請求項1〜3に記載の
平版印刷版用原版。
4. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, further comprising a water-soluble overcoat layer on the heat-sensitive layer.
【請求項5】 プラスチックフィルム支持体上に、親水
性層と、熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイ
クロカプセルを含有する感熱層とをこの順に有する平版
印刷版用原版を、レーザー光によって画像露光し、その
まま印刷機に取り付けて印刷するか、又は印刷機に取り
付けた後に、印刷機上でレーザー光によって画像露光
し、そのまま印刷することを特徴とする平版印刷版の製
版及び印刷方法。
5. A lithographic printing plate precursor having a hydrophilic layer and a heat-sensitive layer containing microcapsules encapsulating a compound having a thermoreactive functional group on a plastic film support in this order by laser light. A plate making and printing method for a lithographic printing plate, comprising image-exposing and directly attaching to a printing machine for printing, or after attaching to a printing machine, image-exposing with a laser beam on the printing machine and printing as it is.
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