JP2001315452A - Lithographic printing original film - Google Patents

Lithographic printing original film

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JP2001315452A
JP2001315452A JP2000137415A JP2000137415A JP2001315452A JP 2001315452 A JP2001315452 A JP 2001315452A JP 2000137415 A JP2000137415 A JP 2000137415A JP 2000137415 A JP2000137415 A JP 2000137415A JP 2001315452 A JP2001315452 A JP 2001315452A
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Japan
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acid
resin
layer
hydrophilic
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JP2000137415A
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Japanese (ja)
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Satoshi Hoshi
聡 星
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-mode type lithographic printing original film, which necessitates, no development treatment, from which a die can be easily made, the die making from which is possible under the state directly being installed on a printing machine, which is excellent in recognizabilty between an image part and a non-image part and the printing scumming on a printing surface of which excellent in plate wear and inking properties is small. SOLUTION: In this lithographic printing original film, at least 2 kinds of fine particle polymers, the particle sizes of which are different from each other, are included in a hydrophilic resin polymer formed on a support by three- dimensional cross-linking.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要で耐刷性
に優れた平版印刷用原板に関する。より詳しくは、ヒー
トモードの画像記録によって製版できて、かつディジタ
ル信号に基づいた走査露光による画像記録も可能であ
り、しかも現像することなく印刷機に装着して製版・印
刷することが可能な平版印刷用原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing original plate which does not require development and has excellent printing durability. More specifically, a lithographic plate that can make a plate by heat mode image recording, and can also record an image by scanning exposure based on a digital signal, and that can be mounted on a printing machine without development to make a plate and print. It relates to an original plate for printing.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原板と
しては、従来から、親水性支持体上に親油性の感光性樹
脂層を設けたPS版が広く用いられている。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area for receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area for receiving fountain solution. As such a lithographic printing plate precursor, a PS plate in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used.

【0003】一方、画像情報をコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及してきていることで、このようなディジタル化技術
に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるように
なってきている。これに伴い、レーザ光のような高収斂
性の輻射線にディジタル化された画像情報を担持してこ
の光で原板を走査露光し、リスフィルムを介することな
く、直接印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレー
ト技術が注目されている。したがって、この目的に適応
した印刷版用原板を得ることが重要な技術課題となって
いる。
On the other hand, with the widespread use of digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer, various new image output methods corresponding to such digitization techniques have become practical. It is becoming. Along with this, a computer that carries digitized image information in high-convergent radiation such as laser light, scans and exposes the original plate with this light, and directly manufactures a printing plate without passing through a lith film. Attention has been focused on to-plate technology. Therefore, obtaining an original plate for a printing plate adapted to this purpose is an important technical problem.

【0004】最近、半導体レーザやYAGレーザ等の固
体レーザで高出力のものが安価に入手できるようになっ
てきたことから、画像記録手段としてこれらのレーザを
用いる走査露光方式の製版方法が、デジタル化技術に組
み込みやすい印刷版の製造方法として有望視されるよう
になっている。従来方式の製版方法では、感光性原板に
低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による原板面
の像様の物性変化によって画像記録を行っているが、高
出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる方法で
は、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光エネル
ギーを集中照射して、光エネルギーを効率的に熱エネル
ギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、形態や
構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を画像記
録に利用する。つまり、画像情報はレーザー光などの光
エネルギーによって入力されるが、画像記録は熱エネル
ギーによる反応によって記録される。通常、このような
高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式はヒー
トモード記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギーに変
えることを光熱変換と呼んでいる。
Recently, since high-power solid-state lasers such as a semiconductor laser and a YAG laser have become available at a low cost, a plate-making method of a scanning exposure system using these lasers as image recording means has been developed. It is promising as a printing plate manufacturing method that can be easily incorporated into chemical technology. In the conventional plate-making method, image recording is performed by applying imagewise exposure of the photosensitive original plate at low to medium illuminance and changing the image-like physical properties of the original plate surface by a photochemical reaction. In the method using density exposure, a large amount of light energy is intensively irradiated onto an exposure area during an instantaneous exposure time, the light energy is efficiently converted into heat energy, and the heat causes chemical change, phase change, A thermal change such as a change in form or structure is caused, and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, while image recording is recorded by a reaction by heat energy. Usually, a recording method utilizing heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and converting light energy into heat energy is called photothermal conversion.

【0005】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には室内光に対
して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従ってヒートモード記録を利用すれば、コンピュー
タ・トゥ・プレート方式にも展開し易い平版印刷版用原
板を得ることも可能となると期待される。
A major advantage of the plate making method using the heat mode recording means is that the plate making method is insensitive to light having a normal illuminance level such as indoor lighting, and that an image recorded by high illuminance exposure does not necessarily require fixing. . That is, if a heat mode photosensitive material is used for image recording, it is safe against room light before exposure, and image fixation is not essential after exposure. Therefore, if heat mode recording is used, it is expected that it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor that can be easily developed in the computer-to-plate system.

【0006】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性や分散性を変化させ、必要に応じて湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原板の例として、例えば、特公昭46−279
19号公報には、親水性支持体上に、熱により溶解性が
向上するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖
類やメラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有
する記録層を設けた原板をヒートモード記録することに
よって、印刷版を得る方法が開示されている。この開示
技術をはじめ、開示されているヒートモード記録の簡易
製版技術は、一般に感熱性が十分でないため、ヒートモ
ード走査露光に対しては、感度がはなはだ不十分であ
り、したがって照射部と非照射部の疎水性/親水性のデ
ィスクリミネーション、即ち、識別性も小さく、それら
が実用上の制約であった。ディスクリミネーションが乏
しければ、機上現像方式の製版を行うことは実質的に困
難である。
[0006] As one of the preferred methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophobic image recording layer is provided on a hydrophilic substrate, and is subjected to heat mode exposure in the form of an image. A method has been proposed in which the dispersibility is changed and the non-image portion is removed by wet development as needed. As an example of such an original plate, for example, Japanese Patent Publication No. 46-279
JP-A No. 19 discloses an original plate in which a recording layer having a so-called positive action in which solubility is improved by heat, specifically a recording layer having a specific composition such as a saccharide or a melamine formaldehyde resin, is provided on a hydrophilic support. A method of obtaining a printing plate by recording in a heat mode is disclosed. The disclosed simple plate making technology of heat mode recording, including this disclosed technology, generally has insufficient sensitivity to heat mode scanning exposure because of insufficient heat sensitivity. The hydrophobic / hydrophilic discrimination of the parts, that is, the discriminability was small, and these were practical restrictions. If discrimination is poor, it is practically difficult to make an on-press development plate.

【0007】その解決の手段として、高出力のレーザー
光の照射によって熱の作用によって照射部の画像層を熱
飛散させて除去する(アブレーションと呼ばれる)方法
も例えば、WO98/40212号、WO98/347
96号及び特開平6−199064号公報には、遷移金
属酸化物コロイドを含む親水性層を上層とし、親油性画
像記録層を下層とした重層構成層を基板上に設けた、現
像することなく製版することが可能な平版印刷原板が開
示されている。この方法は、たしかに完全に熱飛散が行
われた照射領域と非照射領域との識別性は大きいが、飛
散物による装置の汚れ、印刷面の汚れが装置の稼働と印
刷品質を損なう上に、しばしば照射光の熱が画像記録層
の深部に及ばず、支持体に近い画像層底部が飛散しない
で残る残膜という現象があり、残膜があれば本来の識別
性が発揮されず印刷品質を低下させる。
As a means for solving the problem, a method of scattering and removing the image layer of the irradiated portion by the action of heat by irradiating a high-power laser beam (called ablation) is also described in, for example, WO98 / 40212 and WO98 / 347.
No. 96 and JP-A-6-199064, a multilayer structure layer having a hydrophilic layer containing a transition metal oxide colloid as an upper layer and a lipophilic image recording layer as a lower layer is provided on a substrate without developing. A lithographic printing plate which can be used for plate making is disclosed. Although this method certainly has a high discriminability between the irradiated area and the non-irradiated area where heat scattering is completely performed, dirt on the apparatus due to scattered objects, dirt on the printing surface impairs the operation and print quality of the apparatus, Often, the heat of the irradiating light does not reach the deep part of the image recording layer, and there is a phenomenon that the bottom of the image layer close to the support remains without being scattered. Lower.

【0008】このために、ヒートモードの光照射による
画像形成であってもアブレーションによらないで、表面
の親水性・疎水性の度合の熱による変化、すなわち極性
変化を利用する簡易製版方法がこの欠点を伴わない方法
として開示されている。例えば、疎水性ワックスやポリ
マーラテックスなどのポリマーを親水層に添加して、熱
により表面へ相分離させて疎水化する方法が特公昭44
−22957号、特開昭58−199153号、US
3,168,864号、WO99/4974号、EP9
25916号公報などで提案され、識別性改善手段の一
つの方向が示唆されている。しかし、これらの開示技術
は識別性が不足していること、熱融着感度が十分高くな
いこと、さらに親水性が不足して印刷汚れが懸念される
ことなどにより改善が望まれている。また、単分散又は
狭い粒子サイズ分布の疎水性ポリマー粒子による疎水化
の方法が特開平10−186646号公報で提案されて
いるが、熱融着感度が十分高くないことに加え、画像部
の耐久性に問題があり、改善が望まれている。
For this reason, a simple plate-making method utilizing a change in the degree of hydrophilicity / hydrophobicity of the surface due to heat, that is, a change in polarity, without relying on ablation even in image formation by light irradiation in a heat mode, has been proposed. It is disclosed as a method without disadvantages. For example, a method in which a polymer such as a hydrophobic wax or a polymer latex is added to a hydrophilic layer, and the surface is phase-separated by heat to hydrophobize the hydrophilic layer is disclosed in Japanese Patent Publication No. Sho.
No. 22957, JP-A-58-199153, US Pat.
No. 3,168,864, WO99 / 4974, EP9
No. 25916 proposes one direction of the discriminability improving means. However, these disclosed technologies are desired to be improved due to insufficient discriminability, insufficient heat fusion sensitivity, and lack of hydrophilicity, which may cause print stains. Further, a method of making hydrophobic by monodisperse or hydrophobic polymer particles having a narrow particle size distribution is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-186646. There is a problem with the nature, and improvement is desired.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】画像部と非画像部の十
分な識別性は、印刷汚れや着肉性などの印刷品質と耐刷
性の両面の向上に直結する基本的な重要特性であり、し
たがって識別性と製版作業の簡易性を併せ有する製版方
法、とりわけ、識別性が高く、感度が十分で、現像処理
が不要で、かつヒートモードで製版でき、印刷時の耐刷
性及び着肉性に優れる方法の開発が望まれている。
[0006] Sufficient discrimination between an image portion and a non-image portion is a fundamental important characteristic directly linked to improvement of both printing quality such as printing stains and inking property and printing durability. Therefore, a plate making method having both discriminability and simplicity of plate making work, particularly, high discrimination, sufficient sensitivity, no development processing required, and plate making in a heat mode, printing durability during printing, and inking It is desired to develop a method that is excellent in performance.

【0010】さらに、本発明者らの研究によれば、上記
ヒートモ−ドの光照射、とくにレーザー光照射による極
性変化を利用した画像形成の場合、支持体への熱拡散が
速いと疎水性化層が十分に形成されず、これを回避する
ために光照射量を増やすと画像層の熱飛散による装置や
印刷版の汚れ等の望ましくない現象が起こる、したがっ
て、少ないエネルギーで画像形成を可能にすることによ
って識別性の向上とラチチュードの拡大を図ることと、
同時に耐刷性及び着肉性の向上が望まれている。
Further, according to the study of the present inventors, in the case of image formation utilizing the above-mentioned heat mode light irradiation, in particular, the polarity change by laser light irradiation, if heat diffusion to the support is fast, hydrophobicity is increased. The layer is not formed sufficiently, and when the light irradiation amount is increased to avoid this, undesired phenomena such as contamination of the device and the printing plate due to heat scattering of the image layer occur, and therefore, image formation can be performed with less energy. To improve discrimination and enlarge the latitude,
At the same time, improvements in printing durability and inking properties are desired.

【0011】本発明の目的は、ヒートモードの製版方式
の前記した欠陥を解決して性能向上を図ることである。
すなわち、本発明の目的は、現像処理を必要としない
で、高感度で露光量ラチチュードが広く簡易に製版でき
て、直接に印刷機に装着して製版することも可能な、し
かも印刷面上の印刷汚れも少ないヒートモード型の平版
印刷用原板を提供することにある。とくに、本発明の目
的は、レーザー光による走査型の画像露光方式によって
容易に製版できて、画像部と非画像部との識別性に優
れ、しかも印刷時の耐刷性及び着肉性に優れたヒートモ
ード型の平版印刷用原板を提供することにある。
An object of the present invention is to improve the performance by solving the above-mentioned defects of the plate making method in the heat mode.
In other words, an object of the present invention is to make plate making easy without requiring a development process, with a high sensitivity and a wide exposure amount latitude, and it is also possible to directly mount a plate on a printing machine and make plate making, and on the printing surface An object of the present invention is to provide a heat-mode type lithographic printing original plate that causes less printing stain. In particular, an object of the present invention is to make a plate easily by a scanning type image exposure method using a laser beam, to be excellent in discrimination between an image part and a non-image part, and to be excellent in printing durability and inking property at the time of printing. To provide a heat-mode type lithographic printing plate.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題に対して粒子サイズの異なる少なくとも2種類の微粒
子ポリマーを含有する3次元架橋した親水性樹脂層を設
けることにより、光照射による発熱で微粒子ポリマーが
熱融着を起こす際に生ずる体積収縮を緩和し、均一な皮
膜形成を可能にして画像部と非画像部との識別性が向上
することを見いだし、さらに研究を重ね本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、以下の通りである。
The present inventors have solved the above-mentioned problems by providing a three-dimensionally crosslinked hydrophilic resin layer containing at least two kinds of fine particle polymers having different particle sizes, so that light irradiation can be performed. The inventors have found that it reduces the volume shrinkage that occurs when the particulate polymer undergoes heat fusion due to heat generation, enables uniform film formation, and improves the discrimination between the image area and the non-image area. Was completed. That is, the present invention is as follows.

【0013】1.支持体上に、3次元架橋した親水性樹
脂層を有し、該親水性樹脂層中に、粒子サイズの異なる
少なくとも2種類の微粒子ポリマーが含有されているこ
とを特徴とする平版印刷用原板。
1. An original plate for lithographic printing, comprising a three-dimensionally crosslinked hydrophilic resin layer on a support, wherein the hydrophilic resin layer contains at least two kinds of fine particle polymers having different particle sizes.

【0014】2.粒子サイズの異なる微粒子ポリマーの
少なくとも一方が、熱反応性官能基を有する微粒子ポリ
マーであることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷
用原板。
2. 2. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein at least one of the fine particle polymers having different particle sizes is a fine particle polymer having a thermoreactive functional group.

【0015】3.親水性樹脂層中かまたは、それに隣接
する層に金属微粒子からなる光熱変換剤を含有している
ことを特徴とする請求項1、2に記載の平版印刷用原
板。
3. 3. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the hydrophilic resin layer or a layer adjacent to the hydrophilic resin layer contains a photothermal conversion agent composed of metal fine particles.

【0016】上記本発明の平版印刷用原板の親水性表面
を有する親水性樹脂層は、好ましくは光熱変換剤を含む
が、この光熱変換剤は、結着樹脂に分散し得、光熱変換
機能を有する金属微粒子が好ましい。この金属微粒子
は、光熱変換性すなわち光エネルギーを吸収して熱エネ
ルギーに変える性質を有している。
The hydrophilic resin layer having a hydrophilic surface of the lithographic printing plate of the present invention preferably contains a light-to-heat conversion agent. The light-to-heat conversion agent can be dispersed in a binder resin and has a light-to-heat conversion function. Metal fine particles are preferred. The metal fine particles have a light-to-heat conversion property, that is, a property of absorbing light energy and converting it into heat energy.

【0017】さらに、親水性樹脂層には光熱変換剤と共
に、後に詳述する熱の作用によってその近傍を疎水性化
する微粒子ポリマーが含まれており、光照射を受けた部
分では、この微粒子ポリマーが光熱変換剤から熱の供給
をうけて近傍を疎水性化し、それによって画像部の着肉
性が改善されて印刷品質がさらに向上し、同時に識別性
も一層高められる。微粒子ポリマーは、後に詳記する有
機高分子分散物であって、単一構成のポリマー粒子であ
ってもよく、他の成分を含有する複合組成の粒子分散物
であってもよく、又とくに好ましい態様としてマイクロ
カプセル粒子の分散物であってもよい。また、上記第2
項に関連してマイクロカプセル粒子に熱反応性官能基を
内包させることも本発明の優れた態様の一つである。
Further, the hydrophilic resin layer contains, together with the photothermal conversion agent, a fine particle polymer that makes the vicinity thereof hydrophobic by the action of heat, which will be described in detail later. Is supplied with heat from the light-to-heat conversion agent to make the vicinity hydrophobic, whereby the inking property of the image portion is improved, the printing quality is further improved, and at the same time the discrimination is further improved. The fine-particle polymer is an organic polymer dispersion described in detail below, may be a single-structured polymer particle, or may be a particle dispersion of a composite composition containing other components, and is particularly preferable. As an embodiment, a dispersion of microcapsule particles may be used. In addition, the second
The inclusion of a heat-reactive functional group in the microcapsule particles in connection with the item is also one of the excellent aspects of the present invention.

【0018】このような画像記録手段において、レーザ
ー光のような高照度光で描画するような場合には、短時
間の内に微粒子ポリマーが熱融解を起こして均一相を形
成するため、その際の体積収縮に追随できず、粒子状に
素抜けた状態となり、皮膜性が劣化する問題を生じる。
この問題は、粒子サイズの異なる少なくとも2種類の微
粒子ポリマーを用いることにより解決される。すなわ
ち、本発明の方法では、大サイズの微粒子ポリマーの空
隙に小サイズの微粒子ポリマーを存在させることによ
り、親水性樹脂層中の空隙率を大きく低減させることが
可能となり、熱融着時の体積収縮量を減らすことがで
き、その結果、素抜けのない良好でかつ均一な融着皮膜
の形成が実現される。なお、以下の記述において、微粒
子ポリマーの「粒子サイズ」とは、粒子サイズ分布の最
頻値(モード)に当たる粒子サイズを指しており、2種以
上の微粒子ポリマーの「粒子サイズが異なる」とは、サ
イズ分布曲線の最頻値を中心とした標準偏差幅(±1σ)
の中に他方の粒子の最頻値が入らない場合をいう。
In such image recording means, when drawing with high illuminance light such as laser light, the fine particle polymer undergoes thermal melting within a short time to form a uniform phase. Cannot follow the volumetric shrinkage of the particles, resulting in a state in which the particles come off in a particle form, which causes a problem that the film property is deteriorated.
This problem is solved by using at least two types of fine particle polymers having different particle sizes. That is, in the method of the present invention, the porosity in the hydrophilic resin layer can be greatly reduced by allowing the small-sized fine particle polymer to exist in the voids of the large-sized fine particle polymer, and the volume at the time of heat fusion can be reduced. The amount of shrinkage can be reduced, and as a result, formation of a good and uniform fused film without any omission can be realized. In the following description, the `` particle size '' of the fine particle polymer refers to the particle size corresponding to the mode (mode) of the particle size distribution, and the `` particle size differs '' of two or more types of fine particle polymer , Standard deviation width (± 1σ) centered on the mode of the size distribution curve
Means that the mode value of the other particle does not fall within.

【0019】このように、親水性樹脂層の光照射を受け
た部分では、微粒子ポリマーの熱融着物が像様疎水性領
域を形成し、識別性に優れた印刷品質と優れた耐刷性が
実現する。加えて、本発明の平版印刷原板を用いた製版
工程は、現像処理を必要としない簡易なものである。
As described above, in the light-irradiated portion of the hydrophilic resin layer, the heat-sealed material of the fine particle polymer forms an imagewise hydrophobic region, and the printing quality with excellent discrimination and the excellent printing durability are improved. Realize. In addition, the plate making process using the lithographic printing original plate of the present invention is a simple one that does not require a developing treatment.

【0020】これを図1の模式図によってさらに説明す
る。図1は、本発明の平版印刷原板を用いて刷版を作製
する過程を示す模式図である。図1の左側に示した本発
明の印刷用原板1は、支持体2とその上に設けられた光
熱変換剤を含有する下層3、さらに下層3上に塗設され
た光熱変換に伴い極性変換する金属微粒子5と親水性の
微粒子ポリマー6と7(6と7とはサイズが互いに異なる)
とを含有する画像記録層4からなる。画像記録層4中の
光熱変換剤である金属微粒子5は、例えば金属銀微粒子
である。図1の右側に示した印刷版11は、左側の原板
1の上方に矢印で示したレーザー光8の照射によって微
粒子ポリマー6が熱融着層15となり、画像記録層の被
照射領域表面に疎水性領域を形成していることを示して
いる。なお、レーザー光の描画は、通常高照度短時間で
行われるので、その熱作用は強く、一般概念では光熱変
換剤とはいえないポリマー粒子が発熱して融解し、その
近傍を疎水性にする場合もあるが、本発明にはポリマー
が上記下条件を満たしている限り、このような場合も含
まれる。
This will be further described with reference to the schematic diagram of FIG. FIG. 1 is a schematic diagram showing a process of producing a printing plate using the lithographic printing plate of the present invention. An original printing plate 1 of the present invention shown on the left side of FIG. 1 has a support 2 and a lower layer 3 containing a photothermal conversion agent provided on the support 2, and a polarity conversion accompanying the photothermal conversion applied on the lower layer 3. Metal particles 5 and hydrophilic fine particle polymers 6 and 7 (the sizes of 6 and 7 are different from each other)
And an image recording layer 4 containing The metal fine particles 5 as the photothermal conversion agent in the image recording layer 4 are, for example, metal silver fine particles. In the printing plate 11 shown on the right side of FIG. 1, the fine particle polymer 6 becomes a heat-sealable layer 15 by the irradiation of the laser beam 8 shown by the arrow above the original plate 1 on the left side, and the surface of the irradiated area of the image recording layer becomes hydrophobic. It shows that the active region is formed. Since the drawing of laser light is usually performed in a short time with high illuminance, the thermal effect is strong, and polymer particles, which cannot be said to be a photothermal conversion agent in a general concept, generate heat and melt, and the vicinity thereof becomes hydrophobic. In some cases, the present invention includes such cases as long as the polymer satisfies the above-mentioned conditions.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。なお、本明細書においては、光熱変
換剤および微粒子ポリマーを含有する親水性樹脂層を
「上層」あるいは「画像記録層」と称することもある。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. In the present specification, the hydrophilic resin layer containing the photothermal conversion agent and the fine particle polymer may be referred to as “upper layer” or “image recording layer”.

【0022】〔画像記録層〕 (光熱変換剤)画像記録層に含有させる光熱変換性の物質
としては、金属及び金属酸化物粒子、顔料粒子、及び染
料が好ましい。金属及び金属酸化物粒子としては、A
1、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、
Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、P
d、Rh、In、Sn、Wの中から選択され、粒子化し
て断熱層樹脂に分散し得るものを用いることができる。
とくに、鉄、銀、白金、金、パラジウムの金属微粒字が
好ましい。そのほか、TiOx(x=1.0〜2.
0)、SiOx(x=0.6〜2.0)、AlOx(x
=1.0〜2.0)、並びに銅、銀及び錫のアジド化物
などの金属アジド化合物も好ましい。これら画像形成層
に含有させることができる上記の各金属酸化物、窒化物
及び硫化物は、いずれも公知の製造方法によって得られ
る。また、チタンブラック、鉄黒、モリブデン赤、エメ
ラルドグリーン、カドミウム赤、コバルト青、紺青、ウ
ルトラマリンなどの名称で市販されているものも多い。
[Image Recording Layer] (Photothermal Conversion Agent) As the photothermal conversion substance to be contained in the image recording layer, metal and metal oxide particles, pigment particles, and dyes are preferable. As the metal and metal oxide particles, A
1, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni,
Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, P
Those selected from d, Rh, In, Sn, and W, which can be formed into particles and dispersed in the heat insulating layer resin can be used.
In particular, metal fine particles of iron, silver, platinum, gold, and palladium are preferable. In addition, TiOx (x = 1.0-2.
0), SiOx (x = 0.6 to 2.0), AlOx (x
= 1.0-2.0) and metal azide compounds such as copper, silver and tin azides. Each of the above-mentioned metal oxides, nitrides and sulfides which can be contained in these image forming layers can be obtained by a known production method. Many are commercially available under the names of titanium black, iron black, molybdenum red, emerald green, cadmium red, cobalt blue, dark blue, ultramarine and the like.

【0023】上記の金属化合物及び金属の粒子のほか
に、カーボンブラック、黒鉛(グラファイト)、骨炭
(ボーンブラック)などの非金属単体粒子や各種の有
機、無機顔料も光熱変換性微粒子として画像形成層に含
有させることができる。また、粒子形態ではない光熱変
換性の染料も樹脂層中に添加することができる。
In addition to the above-mentioned metal compound and metal particles, non-metal single particles such as carbon black, graphite (graphite) and bone charcoal (bone black) and various organic and inorganic pigments can also be used as photothermal conversion fine particles as image-forming layers. Can be contained. Further, a light-heat converting dye which is not in the form of particles can also be added to the resin layer.

【0024】画像記録層中に光熱変換剤として含有され
る好ましい染料は、固体微粒子状、画像記録層中の他の
成分に染着した状態、あるいは結着剤中に分子分散した
状態で存在するIR(赤外線)吸収剤であり、具体的に
は、ポリメチン色素、シアニン色素、スクアリリウム色
素、ピリリウム色素、ジインモニウム色素、フタロシア
ニン化合物、トリアリールメタン色素、金属ジチオレン
から選ばれる染料である。これらのうち更に好ましいも
のとしては、ポリメチン色素、シアニン色素、スクアリ
リウム色素、ピリリウム色素、ジインモニウム色素、フ
タロシアニン化合物であり、その中でも合成適性の観点
からポリメチン色素、シアニン色素、フタロシアニン化
合物がもっとも好ましい。上記した色素は、水溶性基を
分子内に有する水溶性染料であってもよい。その染料が
有する好ましい水溶性基としては、スルホン酸基、カル
ボキシル基及びホスホン酸基を挙げることができる。画
像記録層に含有される光熱変換剤として用いられる染料
(赤外線吸収剤)の具体例を以下に示すが、これらに限
定されるものではない。
The preferred dye contained in the image recording layer as a photothermal conversion agent exists in the form of solid fine particles, dyed with other components in the image recording layer, or molecularly dispersed in the binder. An IR (infrared) absorber, specifically, a dye selected from a polymethine dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium dye, a diimmonium dye, a phthalocyanine compound, a triarylmethane dye, and a metal dithiolene. Of these, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes, and phthalocyanine compounds are more preferable. Among them, polymethine dyes, cyanine dyes, and phthalocyanine compounds are most preferable from the viewpoint of synthesis suitability. The above-mentioned dye may be a water-soluble dye having a water-soluble group in the molecule. Preferred water-soluble groups of the dye include a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphonic acid group. Specific examples of the dye (infrared absorbing agent) used as a photothermal converting agent contained in the image recording layer are shown below, but are not limited thereto.

【0025】[0025]

【化1】 Embedded image

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】[0027]

【化3】 Embedded image

【0028】画像形成層中に含まれる光熱変換剤の含有
量は、固形の構成成分の2〜50質量%である。2質量
%以下では発熱量が不足して感度が低下し、50質量%
以上では膜強度が低下する。
The content of the photothermal conversion agent contained in the image forming layer is 2 to 50% by mass of the solid constituents. If the amount is less than 2% by mass, the calorific value is insufficient, and the sensitivity is reduced.
Above, the film strength decreases.

【0029】(微粒子ポリマー)微粒子ポリマーとして
は、公知のいろいろの熱により近傍を疎水性化する有機
物質を主成分とする粒子であれば、いずれであっても用
いることができる。その中でも疎水性化の効果や画像記
録層中への分散性の点から以下の(1)及び(2)項に
示す表面親水性の微粒子ポリマーが好ましいが、本発明
はこれらの例に限定されるものではない。 (1)芯部に疎水性物質を内包し、かつ表面親水性の表
層部を有する複合構成の粒子分散物であって、光の照射
と光熱変換による熱の作用によって粒子形状がこわれて
内包されていた疎水性物質によって疎水性化が起こる微
粒子ポリマー。 (2)表面親水性の熱架橋性の粒子分散物であって、熱
の作用で架橋反応が開始されることによって疎水性を発
現する微粒子ポリマー。以下にこれらについてさらに説
明する。
(Fine Particle Polymer) As the fine particle polymer, any particles may be used as long as they are mainly composed of an organic substance whose vicinity is made hydrophobic by various known heats. Among them, the surface hydrophilic fine particle polymers shown in the following items (1) and (2) are preferable from the viewpoint of the effect of hydrophobicity and dispersibility in the image recording layer, but the present invention is not limited to these examples. Not something. (1) A particle dispersion having a composite structure in which a core contains a hydrophobic substance and has a surface layer having a hydrophilic surface, and the particle shape is broken and included by the action of heat by light irradiation and photothermal conversion. A fine particle polymer that is made hydrophobic by a hydrophobic substance. (2) A fine particle polymer which is a heat-crosslinkable particle dispersion having a surface hydrophilicity and which exhibits hydrophobicity when a crosslinking reaction is initiated by the action of heat. These will be further described below.

【0030】(1)芯部に疎水性物質を内包し、表面親
水性の表層部を有する複合構成の粒子分散物。 上記複合構成の粒子分散物の好ましい粒子の形態として
は、 ヒートモードの画像露光がもたらす温度で軟化あるい
は溶融する樹脂を内包し、表面に親水性ゾル粒子層を凝
集付着させたいわゆるヘテロ凝集表面層の複合粒子(以
後へテロ凝集表面層粒子とも呼ぶ)、 同じく表面にゾルゲル変換物質を処理してゾルゲル変
換によって親水性ゲルの表層を形成させた表面ヘテロ相
の複合粒子(以後表面へテロ相粒子とも呼ぶ)、 分散重合で得た重合体の疎水性微粒子を芯部としてそ
の周囲に親水性ポリマーの重合層を形成させたコアシェ
ル型の複合粒子(以後コアシェル型粒子とも呼ぶ)、 熱拡散性あるいはの疎水性有機化合物を親水性媒質中
に乳化分散させた乳化物粒子(以後疎水性有機物内包粒
子とも呼ぶ)、及び 疎水性の芯物質を表面親水性の壁材料で保護したマイ
クロカプセル粒子(以後単にマイクロカプセル粒子とも
呼ぶ)が挙げられる。 (2)表面親水性の熱架橋性の粒子分散物。 後者(2)の熱架橋の開始によって疎水性を発現する粒
子分散物には、重合性モノマーと架橋性化合物と熱重合
開始剤の混合分散物が挙げられる。
(1) A composite particle dispersion in which a core contains a hydrophobic substance and has a surface layer having a hydrophilic surface. The preferred form of the particles of the particle dispersion having the above-mentioned composite structure is a so-called hetero-aggregated surface layer in which a resin that softens or melts at a temperature caused by heat mode image exposure is included, and a hydrophilic sol particle layer is aggregated and adhered to the surface. Composite particles (hereinafter also referred to as “hetero-aggregated surface layer particles”), composite particles of surface hetero phase (hereinafter referred to as surface hetero phase particles) in which the surface is treated with a sol-gel conversion substance to form a hydrophilic gel surface layer by sol-gel conversion. ), Core-shell type composite particles (hereinafter also referred to as core-shell type particles) in which a hydrophobic fine particle of a polymer obtained by dispersion polymerization is formed as a core and a polymer layer of a hydrophilic polymer is formed around the core. Emulsion particles (hereinafter also referred to as hydrophobic organic substance-containing particles) in which a hydrophobic organic compound is emulsified and dispersed in a hydrophilic medium; Microcapsule particles (hereinafter simply referred to as microcapsules particles) protected with sexual wall materials. (2) Surface hydrophilic, heat-crosslinkable particle dispersion. The latter (2) particle dispersion exhibiting hydrophobicity by the initiation of thermal crosslinking includes a mixed dispersion of a polymerizable monomer, a crosslinking compound and a thermal polymerization initiator.

【0031】<へテロ凝集表面層粒子>上記(1)の
のへテロ凝集表面層粒子は、モノマーを界面活性剤ミセ
ルで保護して乳化分散して重合させて得た熱軟化性又は
熱溶融性樹脂の乳化重合分散物粒子が内包されており、
光照射と光熱変換作用による熱の効果で、樹脂粒子が軟
化、溶融などを起こし、親水性の表面層をこわして粒子
として存在していた近傍を疎水性化する。親水性の表面
層は、シリカ微粒子、アルミナ微粒子のような親水性の
きわめて大きいゾル状の微粒子分散物を添加して樹脂の
乳化重合分散物粒子の周囲に吸着させて形成した保護層
である。ゾル状の微粒子分散物については、のちに親水
性の画像記録層の媒質への添加成分として説明するゾル
状微粒子と同じである。
<Hetero-agglomerated surface layer particles> The hetero-aggregated surface layer particles of the above (1) are obtained by heat-softening or heat-melting obtained by emulsifying and dispersing a monomer, protecting the monomer with a surfactant micelle, and polymerizing. Emulsified polymer dispersion particles of a conductive resin are included,
The resin particles are softened or melted by the effect of heat due to light irradiation and photothermal conversion, breaking the hydrophilic surface layer and rendering the vicinity existing as particles hydrophobic. The hydrophilic surface layer is a protective layer formed by adding a very hydrophilic sol-like fine particle dispersion such as silica fine particles and alumina fine particles and adsorbing the dispersion around the emulsion polymerization dispersion particles of the resin. The sol-like fine particle dispersion is the same as the sol-like fine particles described below as a component to be added to the medium of the hydrophilic image recording layer.

【0032】<表面へテロ相粒子>上記(1)のとし
て挙げたへテロ表面相粒子は、上記と同じく熱軟化性
又は熱溶融性樹脂の乳化重合分散物粒子をコア粒子とし
て、その表面を親水性の画像記録層の媒質の項で述べる
ゾルゲル変換性物質で処理して粒子表面にゲル相を形成
させた親水性表面の粒子である。
<Surface Heterophase Particles> As described above, the heterosurface phase particles described in the above (1) are obtained by emulsifying the emulsion-polymerized dispersion particles of a heat-softening or hot-melting resin as core particles and treating the surface thereof. These are particles having a hydrophilic surface, which have been treated with a sol-gel converting substance described in the section of the medium of the hydrophilic image recording layer to form a gel phase on the particle surface.

【0033】<コアシェル型粒子>上記のコアシェル
型の複合粒子は、熱の作用で軟化、あるいは融解する樹
脂の粒子分散物をそのモノマーの乳化重合によって調製
し、これをコア粒子(シード)として、その分散液に親
水性モノマーを添加して、コア粒子の表面に親水性モノ
マーを重合させて表面親水性層とするコアシェル型の異
相構造粒子である。コア粒子を構成するモノマーは、次
のの項で述べる高分子化合物用のモノマー成分として
示したA〜Lの群の中で疎水性で樹脂用のものから選ば
れる。同様に親水性のシェル相を形成するモノマーは、
AからLの群の親水性モノマーから選択することができ
る。
<Core-shell type particles> The above-mentioned core-shell type composite particles are prepared by preparing a particle dispersion of a resin which softens or melts by the action of heat by emulsion polymerization of its monomer, and uses this as a core particle (seed). It is a core-shell type hetero-phase structured particle in which a hydrophilic monomer is added to the dispersion and the surface of the core particle is polymerized with the hydrophilic monomer to form a surface hydrophilic layer. The monomer constituting the core particles is selected from hydrophobic and resin-based ones in the group of A to L shown as the monomer component for the polymer compound described in the following section. Similarly, monomers that form a hydrophilic shell phase are:
It can be selected from the group of hydrophilic monomers A to L.

【0034】<疎水性有機物内包粒子>上記の疎水性
有機物内包粒子は、内包される疎水性物質が乳化分散さ
れて親水性表面をもつ粒子形態をとっている。ヒートモ
ードの光照射による熱の作用によって乳化された粒子が
粒子形状を維持できなくなり、媒質への浸出、拡散、溶
解などによってポリマー粒子の近傍を疎水性にする。疎
水性の有機低分子化合物及び有機高分子化合物の中にこ
の目的に適合する化合物がある。
<Hydrophobic Organic Inclusion Particles> The hydrophobic organic inclusion particles are in the form of particles having a hydrophilic surface in which the encapsulated hydrophobic substance is emulsified and dispersed. The emulsified particles cannot maintain the particle shape due to the action of heat due to heat mode light irradiation, and the vicinity of the polymer particles is made hydrophobic by leaching, diffusing, dissolving, etc. into the medium. Among hydrophobic organic low molecular weight compounds and organic high molecular weight compounds, there are compounds suitable for this purpose.

【0035】・有機低分子化合物 微粒子ポリマーが有機低分子化合物を内包する場合、好
ましい有機低分子化合物は、常圧において融点が300
℃以下で沸点が100℃以上の固体又は液体の有機化合
物又は水に対する溶解度又は吸水率が100g当たり2
g以下である有機低分子化合物であり、その両方を用い
ることも好ましい態様である。有機低分子化合物は、拡
散浸透性が比較的高いので、熱によって移動性が与えら
れると、粒子が存在していた近傍に拡散して直接あるい
は間接的に疎水性化する。また、常温で固体であり、熱
によって融解して疎水性領域を形成する化合物も含まれ
る。移動性が大きすぎると疎水性領域が広がり過ぎ、ま
た熱エネルギーの局部集中度が低下して疎水性化の効果
が減少する。したがって、上記の沸点と融点の条件を満
たす化合物が好ましい。ここで、低分子化合物と呼んで
いるのは沸点又は融点を有する化合物という意味で用い
ており、そのような化合物を通常分子量は2000以
下、多くは1000以下である。
Organic low molecular weight compound When the fine particle polymer contains an organic low molecular weight compound, a preferable organic low molecular weight compound has a melting point of 300 at normal pressure.
The solubility or water absorption of a solid or liquid organic compound or water having a boiling point of 100 ° C. or lower at 100 ° C. or lower is 2/100 g.
g or less, and it is also a preferable embodiment to use both of them. Since organic low molecular weight compounds have relatively high diffusion permeability, when mobility is given by heat, they are diffused in the vicinity of the presence of particles to make them hydrophobic directly or indirectly. Also included are compounds that are solid at room temperature and melt by heat to form a hydrophobic region. If the mobility is too large, the hydrophobic region is too wide, and the local concentration of heat energy is reduced, thereby reducing the effect of hydrophobicity. Therefore, a compound satisfying the above conditions of the boiling point and the melting point is preferable. Here, the term "low molecular weight compound" is used to mean a compound having a boiling point or a melting point, and such a compound usually has a molecular weight of 2000 or less, and often 1000 or less.

【0036】また、上記の溶解度又は吸水率の条件は、
有機高分子化合物が疎水性であることの指標として経験
的に判った条件である。この条件であると、熱の作用に
よって粒子が存在していた近傍の有機高分子の状態の変
化によって粒子近傍の疎水性化を発現させることができ
る。
The conditions of the above-mentioned solubility or water absorption are as follows:
These conditions are empirically found as an index that the organic polymer compound is hydrophobic. Under this condition, hydrophobicity in the vicinity of the particles can be expressed by a change in the state of the organic polymer in the vicinity where the particles were present due to the action of heat.

【0037】疎水性化の目的に適う好適な有機低分子化
合物は、上記の化合物の移動性に関連する融点及び沸点
の観点とは別に、微粒子ポリマーの近傍をそれ自体で十
分に疎水性と成しうる必要性から、水への溶解性が極め
て少ないか、有機性の程度が高い必要がある。その条件
を具体化して示したのが、前記したように、有機低分子
化合物が、25℃における水100gへの溶解度が2
g以下であるか、有機概念図における有機性/無機性
の比が0.7以上であるかの少なくともいずれかに相当
する場合である。
Suitable low molecular weight organic compounds suitable for the purpose of hydrophobization are, in addition to the melting point and boiling point aspects related to the mobility of the above compounds, sufficiently hydrophobic in the vicinity of the particulate polymer by itself. It is necessary to have a very low solubility in water or a high degree of organicity. The conditions were embodied and shown as described above. As described above, the organic low molecular weight compound has a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 2%.
g or less, or the ratio of organic / inorganic in the organic conceptual diagram is at least 0.7 or more.

【0038】有機概念図は、化合物の有機性及び無機性
の程度を示すのに実際的で簡便な実用尺度であり、その
詳細については、田中善生著「有機概念図」(三共出版
社、1983年初版刊行)の1〜31頁に詳記されてい
る。有機概念図上の上記の範囲の有機化合物が疎水性化
を促進する作用を持つ理由は不明であるが、この範囲の
化合物は、有機性が比較的大きい化合物であり、複合粒
子近傍を疎水性にする。有機概念図における有機性が1
00以上でその上限についての制約はとくにないが、通
常100〜1200、好ましくは100〜800であ
り、その有機性/無機性の比が0.7〜無限大(すなわ
ち無機性が0)、好ましくは0.9〜10の範囲に入る
有機化合物である。
The organic conceptual diagram is a practical and simple practical scale for indicating the degree of organicity and inorganicity of a compound. The first edition of this year is published on pages 1-31. The reason why the organic compounds in the above range on the organic conceptual diagram have an action of promoting hydrophobicity is unknown, but the compounds in this range are compounds having relatively large organicity, and the vicinity of the composite particles is hydrophobic. To 1 in the organic conceptual diagram
The upper limit is not particularly limited to 00 or more, but is usually 100 to 1200, preferably 100 to 800, and the organic / inorganic ratio is 0.7 to infinity (that is, the inorganic property is 0), preferably Is an organic compound falling within the range of 0.9 to 10.

【0039】この温度範囲の沸点をもつ有機低分子化合
物は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及
び芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂
肪族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、
有機アミン類、有機珪素化合物、また、効果は大きくは
ないが印刷用インキに添加できることが知られている各
種溶剤や可塑剤類の中に見られる。
The organic low molecular weight compounds having a boiling point in this temperature range are, for example, aliphatic and aromatic hydrocarbons, aliphatic and aromatic carboxylic acids, aliphatic and aromatic alcohols, aliphatic and aromatic esters, Aliphatic and aromatic ethers,
It is found in organic amines, organic silicon compounds, and various solvents and plasticizers which are not so effective but can be added to printing inks.

【0040】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数8〜3
0の、より好ましくは炭素数8〜20の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数6〜40
の、より好ましくは炭素数6〜20の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数2〜30
の、より好ましくは炭素数2〜18の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数6〜30
の、より好ましくは炭素数6〜18の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数2〜24
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数2〜
20の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数4〜12の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数6〜30の、より好ましくは炭素数6〜
18の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数2〜30の、より好ましくは炭素数2〜1
8の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数8〜30の、より好ましくは炭素数8〜18
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数8〜36の、より好ましくは炭素数8
〜18の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数7〜30の、より好ましくは炭素数7〜1
8の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数7〜30
の、より好ましくは炭素数7〜18の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。
Preferred aliphatic hydrocarbons are those having 8 to 3 carbon atoms.
0, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms, and a preferred aromatic hydrocarbon has 6 to 40 carbon atoms.
And more preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Preferred aliphatic alcohols have 2 to 30 carbon atoms.
Are more preferably aliphatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, and preferred aromatic alcohols are those having 6 to 30 carbon atoms.
And more preferably an aromatic alcohol having 6 to 18 carbon atoms. Preferred aliphatic carboxylic acids have 2 to 24 carbon atoms.
Aliphatic carboxylic acid, more preferably having 2 to 2 carbon atoms
Preferred are aliphatic monocarboxylic acids having 20 and aliphatic polycarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms, and preferred aromatic carboxylic acids are those having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably having 6 to 30 carbon atoms.
18 aromatic carboxylic acids. Preferred aliphatic esters have 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 1 carbon atoms.
And preferred aromatic esters are those having 8 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 18 carbon atoms.
Is an aromatic carboxylate. Preferred aliphatic ethers are those having 8 to 36 carbon atoms, more preferably 8 carbon atoms.
To 18 aromatic ethers, and preferred aromatic ethers are those having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 1 carbon atoms.
8 aromatic ethers. In addition, carbon number 7-30
And more preferably an aliphatic or aromatic amide having 7 to 18 carbon atoms.

【0041】具体例としては、2,2,4−トリメチル
ペンタン(イソオクタン)、n−ノナン、n−デカン、
n−ヘキサデカン、オクタデカン、エイコサン、メチル
ヘプタン、2,2−ジメチルヘキサン、2−メチルオク
タンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンな
どの芳香族炭化水素;ドデシルアルコール、オクチルア
ルコール、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノ
ール、ラウリルアルコールなどの1価アルコール;プロ
ピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、グリセリン、ヘキシレングリコー
ル、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール;ベ
ンジルアルコール、4−ヒドロキシトルエン、フェネチ
ルアルコール、1−ナフトール、2−ナフトール、カテ
コール、フェノールなどの芳香族アルコール;酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン
酸、カプリン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪
族1価カルボン酸;しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マ
レイン酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸;
安息香酸、2−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸な
どの芳香族カルボン酸;酢酸エチル、酢酸イソブチル、
酢酸−n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメ
チル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族
エステル;安息香酸メチル、2−メチル安息香酸メチル
などの芳香族カルボン酸エステル;イミダゾール、トリ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテ
トラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェ
ネチルアミンなどの有機アミン;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンな
どのケトン類、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、
メトキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリ
ルメチルエーテルなどのエーテル及びステアリルアミ
ド、ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が
挙げられる。そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなど
の有機溶剤も使用することができる。
Specific examples include 2,2,4-trimethylpentane (isooctane), n-nonane, n-decane,
Aliphatic hydrocarbons such as n-hexadecane, octadecane, eicosane, methylheptane, 2,2-dimethylhexane and 2-methyloctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, naphthalene, anthracene and styrene; dodecyl Monohydric alcohols such as alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol and lauryl alcohol; polyhydric alcohols such as propylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, glycerin, hexylene glycol, dipropylene glycol; benzyl alcohol , 4-hydroxytoluene, phenethyl alcohol, 1-naphthol, 2-naphthol, catechol, aromatic alcohols such as phenol; acetic acid, propionic acid, butyric acid, Prong acid, acrylic acid, crotonic acid, capric acid, stearic acid, aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid; oxalic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, polyvalent aliphatic carboxylic acids such as glutaric acid;
Aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, 2-methylbenzoic acid and 4-methylbenzoic acid; ethyl acetate, isobutyl acetate,
Aliphatic esters such as n-butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, methyl acrylate, dimethyl oxalate, dimethyl succinate and methyl crotonate; and methyl benzoate and methyl 2-methylbenzoate Aromatic carboxylic esters; organic amines such as imidazole, triethanolamine, diethanolamine, cyclohexylamine, hexamethylenetetramine, triethylenetetramine, aniline, octylamine, aniline, and phenethylamine; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and benzophenone , Methoxybenzene, ethoxybenzene,
Examples include ethers such as methoxytoluene, lauryl methyl ether, and stearyl methyl ether, and amides such as stearyl amide, benzoyl amide, and acetamide. In addition, organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether, cyclohexanone, butyl cellosolve, and cellosolve acetate having a boiling point within the above preferred range can also be used.

【0042】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。
Also, oils and fats such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, safflower oil, etc., which are components of the printing ink, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate,
Plasticizers such as butyl laurate, dioctyl phthalate, and paraffin wax are also included.

【0043】また、長鎖脂肪酸と長鎖一価アルコールの
エステル、すなわちワックスも、疎水性で適当に低融点
であって、光熱変換性の微粒子の近傍で光照射によって
生じた熱によって融解してその領域を疎水性化する好ま
しい低分子有機化合物である。ワックスは、50〜20
0°Cで溶融するものが好ましく、その例としては、原
料などによってカルナバワックス、カスターワックス、
マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、
セラックろう、パームろう、蜜ろう等と呼ばれているい
ずれをも用いることができる。ワックス類のほかに、低
分子量ポリエチレン;オレイン酸、ステアリン酸、パル
ミチン酸などの固体酸;ベヘン酸銀、ステアリン酸カル
シウム、パルミチン酸マグネシウムなどの長鎖脂肪酸の
金属塩などの微粒子分散物も用いることができる。
Esters of long-chain fatty acids and long-chain monohydric alcohols, ie, waxes, are also hydrophobic, have suitably low melting points, and are melted by heat generated by light irradiation in the vicinity of light-to-heat converting fine particles. It is a preferred low molecular weight organic compound that renders the region hydrophobic. Wax is 50-20
It is preferable to melt at 0 ° C., and examples thereof include carnauba wax, caster wax,
Microcrystalline wax, paraffin wax,
Any of so-called shell wax, palm wax, beeswax and the like can be used. In addition to waxes, low molecular weight polyethylene; solid acids such as oleic acid, stearic acid, and palmitic acid; and fine particle dispersions of metal salts of long chain fatty acids such as silver behenate, calcium stearate, and magnesium palmitate can also be used. it can.

【0044】・有機高分子化合物 上記した溶解度又は吸水性の条件を満たす好ましい有機
高分子化合物は、共存する低分子有機化合物に溶解可能
又はそれ自体がの疎水性高分子化合物であり、例えば、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルフ
ェノール、ポリビニルハロゲン化フェノール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチ
ラール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリ
イミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フェノー
ル、ボラック、又はレゾールフェノール類とアルデヒド
又はケトンとの縮合樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリス
チレン、アクリル系共重合樹脂などが挙げられる。
Organic Polymer Compound A preferable organic polymer compound satisfying the above-mentioned conditions of solubility or water absorption is a hydrophobic polymer compound which is soluble in coexisting low molecular organic compounds or is itself a hydrophobic polymer.
Polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyvinyl phenol, polyvinyl halogenated phenol, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyamide, polyurethane, polyurea, polyimide, polycarbonate, epoxy resin, phenol, volak, or resole phenols and aldehydes or ketones , Polyvinylidene chloride, polystyrene, acrylic copolymer resin and the like.

【0045】好ましい化合物の一つは、はやや乏しい
が、有機低分子化合の縮合物であるフェノールノボラッ
ク樹脂又はレゾール樹脂であり、フェノール、クレゾー
ル(m−クレゾールやp−クレゾール、m/p混合クレ
ゾール)、フェノール/クレゾール(m−クレゾール、
p−クレゾール、m/p混合クレゾール)、フェノール
変性キシレン、tert−ブチルフェノール、オクチル
フェノール、レゾルシノール、ピロガロール、カテコー
ル、クロロフェノール(m−Clやp−Cl体)、ブロ
モフェノール(m−Br、p−Br)、サリチル酸、フ
ロログルシノールなどとホルムアルデヒドとが縮合した
ノボラック樹脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノー
ル類化合物とアセトンとの縮合樹脂などが挙げられる。
One of the preferable compounds is a phenol novolak resin or a resole resin which is a slightly poor organic low molecular weight compound condensate, and is preferably phenol, cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol). ), Phenol / cresol (m-cresol,
p-cresol, m / p mixed cresol), phenol-modified xylene, tert-butylphenol, octylphenol, resorcinol, pyrogallol, catechol, chlorophenol (m-Cl or p-Cl), bromophenol (m-Br, p-Br) ), Novolak resins and resole resins obtained by condensing salicylic acid, phloroglucinol and the like with formaldehyde, and condensed resins of the above phenolic compounds and acetone.

【0046】その他の好適な高分子化合物として以下
(A)〜(L)に示すモノマーをその構成単位とする通
常1万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げることが
できる。 (A)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−およびp−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレート
など。 (B)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およ
びメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエ
チルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリ
レートなど。 (C)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸
エステル類。 (D)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロ
エチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジ
ルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レートなどの(置換)メタクリル酸エステル類。
As other suitable high molecular compounds, there can be mentioned copolymers having a molecular weight of usually from 10,000 to 200,000, having the following structural units as monomers (A) to (L). (A) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4
-Hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-
And p-hydroxystyrene, o-, m- and p-
Hydroxyphenyl acrylate or methacrylate and the like. (B) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (C) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, (Substituted) acrylates such as 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate and N-dimethylaminoethyl acrylate. (D) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, (Substituted) methacrylates such as 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate.

【0047】(E)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド類。
(E) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N
-Hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N
Acrylamides such as -phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide Or methacrylamides.

【0048】(F)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類。 (G)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル
類。 (H)スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレ
ンなどのスチレン類。 (I)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニル
ケトン類。 (J)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレンなどのオレフィン類。
(F) ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (G) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (H) Styrenes such as styrene, methylstyrene and chloromethylstyrene. (I) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (J) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.

【0049】(K)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど。 (L)N−(o−アミノスルホニルフェニル)アクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)アクリ
ルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アク
リルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフ
チル〕アクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエ
チル)アクリルアミドなどのアクリルアミド類、N−
(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、
N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチ
ル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエ
チル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、ま
た、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m−
アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノスル
ホニルフェニルナフチル)アクリレートなどのアクリル
酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、o−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルフ
ェニルナフチル)メタクリレートなどのメタクリル酸エ
ステル類などの不飽和スルホンアミド。
(K) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (L) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide , Acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N-
(O-aminosulfonylphenyl) methacrylamide,
N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacryl Methacrylamides such as amides, o-aminosulfonylphenyl acrylate, m-
Unsaturated sulfonamides such as acrylates such as aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate; unsaturated sulfonamides such as methacrylic esters such as p-aminosulfonylphenyl methacrylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;

【0050】これらの有機高分子化合物は、重量平均子
量が500〜500,000、数平均分子量が200〜
60000であることが好ましい。
These organic high molecular compounds have a weight average molecular weight of 500 to 500,000 and a number average molecular weight of 200 to 500.
It is preferably 60,000.

【0051】微粒子ポリマーは、有機低分子化合物の
み、あるいは高分子有機化合物のみで構成されていても
よいが、有機低分子化合物と高分子有機化合物の両方を
含んでいてもよく、さらに両者の親和性を高めるなどの
目的の第3成分を含んでいてもよい。
The fine particle polymer may be composed of only an organic low molecular weight compound or a high molecular weight organic compound, but may contain both an organic low molecular weight compound and a high molecular weight organic compound, and furthermore, have an affinity for both. It may contain a third component for the purpose of enhancing the properties.

【0052】微粒子ポリマーの表面を親水性にするに
は、たとえば親水性でかつ微粒子ポリマーへの吸着性を
有する界面活性剤を添加して粒子表面を親水性基の界面
吸着層を形成させて粒子分散させる方法、そのさい、ゼ
ラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン
などの保護コロイド性の親水性かつ表面吸着性の高分子
皮膜を設ける方法、さらにそれに界面活性剤も介在させ
て粒子表面をより親水性とし、安定化させる分散方法、
粒子の構成物質と反応する親水性基をもつ物質で表面処
理する方法、などを用いることができる。微粒子ポリマ
ーの表面親水性化に用いる界面活性剤も、画像形成層や
断熱層に用いる界面活性剤として後に記述する化合物か
ら選択して使用することができる。
In order to make the surface of the fine particle polymer hydrophilic, for example, a surfactant which is hydrophilic and has an adsorptivity to the fine particle polymer is added to form a hydrophilic group interfacial adsorption layer on the particle surface. A method of dispersing, in which case, a method of providing a protective and colloidal hydrophilic and surface-adsorbing polymer film such as gelatin, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone, and further interposing a surfactant to make the particle surface more hydrophilic. Dispersion method to stabilize,
A method of performing a surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts with the constituent material of the particles, or the like can be used. The surfactant used for making the fine particle polymer hydrophilic can also be selected from the compounds described later as the surfactant used for the image forming layer and the heat insulating layer.

【0053】以上の〜の各表面親水性の微粒子ポリ
マー中の疎水性の構成成分(芯物質)の合計量は、微粒
子ポリマーの全量に対して、10〜95重量%が適当で
あり、20〜80重量%が好ましい。また、において
有機低分子化合物及び高分子有機化合物を共に使用する
場合、その比率は任意である。一方、親水性表面層を形
成する成分は、〜の形態によって界面活性剤、保護
コロイド、親水性重合樹脂、親水性ゾル、ゾルゲル変換
成分などと異なるが、また画像記録層の媒質中にも分布
している場合もあるが、微粒子ポリマーの表面層を構成
している量は、微粒子ポリマーの全量に対して、5〜8
0重量%であり、10〜50重量%であることが好まし
い。
The total amount of the hydrophobic constituents (core substances) in the above-mentioned fine particles of the hydrophilic polymer is preferably 10 to 95% by weight based on the total amount of the fine particles of the polymer. 80% by weight is preferred. In the case where a low-molecular organic compound and a high-molecular organic compound are used together, the ratio is arbitrary. On the other hand, the components forming the hydrophilic surface layer are different from surfactants, protective colloids, hydrophilic polymer resins, hydrophilic sols, sol-gel conversion components, etc. depending on the form of, but are also distributed in the medium of the image recording layer. In some cases, the amount constituting the surface layer of the fine particle polymer is 5 to 8 with respect to the total amount of the fine particle polymer.
0% by weight, preferably 10 to 50% by weight.

【0054】<マイクロカプセル粒子>次に、芯部に疎
水性物質を内包し、かつ表面親水性の表層部を有する複
合構成の粒子分散物の項として上記したマイクロカプ
セルの構成材料でカプセルの熱破壊により近傍を疎水性
化する微粒子ポリマーについて述べる。本発明で用いる
マイクロカプセルは各種公知の方法で作成することがで
き、その芯物質(カプセル内に内包する物質)は、上記
した有機低分子化合物及び高分子有機化合物、さらにそ
れらを混和する有機溶剤類を用いることができる。すな
わち芯物質を有機溶剤と混合してから又は直接に、水性
媒体中に乳化分散し、油性液滴のまわりに高分子物質か
らなる壁膜を形成することにより調製することができ
る。マイクロカプセルの壁膜となる高分子物質の具体例
としては、例えばポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、
ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、アミノアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、スチレン−アクリレート共重合体樹脂、スチ
レン−メタクリレート共重合体樹脂、ゼラチン、ポリビ
ニルアルコール等が挙げられる。これらのうち特に好ま
しい壁膜としてはポリウレタン樹脂又はポリウレタン・
ポリウレア樹脂からなる壁膜を有するマイクロカプセル
である。
<Microcapsule Particles> Next, as the term of the composite particle dispersion having a hydrophobic substance in the core and having a surface layer having a hydrophilic surface, the heat of the capsules is determined using the constituent materials of the microcapsules described above. The following describes a fine particle polymer whose vicinity is made hydrophobic by breaking. The microcapsules used in the present invention can be prepared by various known methods, and the core substance (the substance contained in the capsule) is the above-mentioned organic low-molecular compound and high-molecular organic compound, and an organic solvent that mixes them. Can be used. That is, it can be prepared by mixing the core substance with an organic solvent or directly emulsifying and dispersing it in an aqueous medium to form a wall film composed of a polymer substance around oily droplets. Specific examples of the polymer substance serving as the wall film of the microcapsule include, for example, polyurethane resin, polyurea resin,
Examples include polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, aminoaldehyde resin, melamine resin, polystyrene resin, styrene-acrylate copolymer resin, styrene-methacrylate copolymer resin, gelatin, and polyvinyl alcohol. Of these, a particularly preferred wall film is polyurethane resin or polyurethane.
This is a microcapsule having a wall film made of a polyurea resin.

【0055】ポリウレタン樹脂又はポリウレタン・ポリ
ウレア樹脂からなる壁膜を有するマイクロカプセルは、
多価イソシアネート等の壁材をカプセル化に用いてお
り、具体例を以下に示すと、例えばイソシアネート化合
物として、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェ
ニレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、2,4−トリレンジイソシアネート、ナフタレ
ン−1,4−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−
4,4′−ジイソシアネート、、3,3′−ジフェニル
メタン−4,4′−ジイソシアネート、キシレン−1,
4−ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルプロパン
ジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、プロピレン−1,2−
ジイソシアネート、ブチレン−1,2−ジイソシアネー
ト、シクロヘキシレン−1,2−ジイソシアネート、シ
クロヘキシレン−1,4−ジイソシアネート等のジイソ
シアネート類、4,4′,4″−トリフェニルメタント
リイソシアネート、トルエン−2,4,6−トリイソシ
アネート等のトリイソシアネート類、4,4′−ジメチ
ルジフェニルメタン−2,2′,5,5′−テトライソ
シアネート等のテトライソシアネート類、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートなど。ジイソシアネートに対する反
応性成分としてジオール類(ブタンジオール、グリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル)、ポリプロピレングリコール、ポリオール類(例え
ば、トリメチロールプロパン)、ジアミン類(例えば、
エチレンジアミンやプロピレンジアミン)、尿素類(例
えば、ウレア、エチレン尿素)、ビスウレタンなど。さ
らにそれら両成分の低分子量付加物である2,4−トリ
レンジイソシアネートとトレメチロールプロパンとの付
加物、キシリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとの付加物、トリレンジイソシアネートとヘキサ
ントリオールとの付加物等のイソシアネートプレポリマ
ー等が挙げられるが、上記化合物に限定されるものでは
ない。また、必要に応じ二種類以上の併用も可能であ
る。これらのうち特に好ましいものは分子内にイソシア
ネート基を三個以上有するものである。
Microcapsules having a wall film made of a polyurethane resin or a polyurethane / polyurea resin are:
A wall material such as a polyvalent isocyanate is used for encapsulation. Specific examples are shown below. For example, as an isocyanate compound, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4- Tolylene diisocyanate, naphthalene-1,4-diisocyanate, diphenylmethane-
4,4'-diisocyanate, 3,3'-diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, xylene-1,
4-diisocyanate, 4,4'-diphenylpropane diisocyanate, trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, propylene-1,2-
Diisocyanates such as diisocyanate, butylene-1,2-diisocyanate, cyclohexylene-1,2-diisocyanate, cyclohexylene-1,4-diisocyanate, 4,4 ′, 4 ″ -triphenylmethane triisocyanate, toluene-2, Triisocyanates such as 4,6-triisocyanate, tetraisocyanates such as 4,4'-dimethyldiphenylmethane-2,2 ', 5,5'-tetraisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc. Diol as a reactive component to diisocyanate (Butanediol, glycol, diethylene glycol, triethylene glycol), polypropylene glycol, polyols (eg, trimethylolpropane), diamines (eg,
Ethylenediamine or propylenediamine), ureas (eg, urea, ethyleneurea), bisurethane, and the like. Furthermore, adducts of 2,4-tolylene diisocyanate with tremethylolpropane, adducts of xylylene diisocyanate with trimethylolpropane, adducts of tolylene diisocyanate with hexanetriol, which are low molecular weight adducts of both components, etc. But is not limited to the above compounds. Also, two or more kinds can be used in combination as needed. Of these, particularly preferred are those having three or more isocyanate groups in the molecule.

【0056】カプセルの壁材としては、前記したゼラチ
ン、ポリウレア、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエス
テル、ポリカーボネート、メラミン等を用いることがで
きるが、熱応答性マイクロカプセルを得るにはポリウレ
タン壁やポリウレア・ポリウレタン壁が好ましい。また
カプセル壁に熱応答性を付与するには、カプセル壁とし
てガラス転移点が室温以上、200℃以下とすればよ
く、特に70℃〜150℃の範囲が好ましい。
As the capsule wall material, the above-mentioned gelatin, polyurea, polyurethane, polyimide, polyester, polycarbonate, melamine and the like can be used. preferable. In order to impart thermal responsiveness to the capsule wall, the capsule wall may have a glass transition point of room temperature or more and 200 ° C. or less, and particularly preferably in the range of 70 ° C. to 150 ° C.

【0057】カプセル壁のガラス転移温度を制御するに
は、カプセル壁のポリマー種を選ぶか、適当な可塑剤を
添加して行うことで可能である。このような助剤として
は、フェノール化合物、アルコール化合物、アミド化合
物、スルホンアミド化合物等があり、これらは、カプセ
ルの芯物質中に含有させてもよいし、分散物としてマイ
クロカプセル外に添加してもよい。
The glass transition temperature of the capsule wall can be controlled by selecting a polymer type of the capsule wall or adding an appropriate plasticizer. Examples of such an auxiliary include a phenol compound, an alcohol compound, an amide compound, a sulfonamide compound, and the like. Is also good.

【0058】マイクロカプセル化の一般的な手法、用い
る素材などについては、米国特許第3726804号、
同第3796696号に記載されており、本発明にも適
用することができる。
For a general method of microencapsulation and materials to be used, see US Pat. No. 3,726,804,
No. 3,796,696, and can be applied to the present invention.

【0059】(2)重合性モノマー/架橋性化合物を含
み、熱破壊に伴って粒子の近傍に疎水性のポリマー/架
橋構造を形成する微粒子ポリマー。前記の(2)項とし
て記したこの微粒子ポリマーは、常温では反応せず、熱
の作用で重合または架橋反応が始まる熱反応性官能基を
有し、微粒子ポリマー近傍を疎水性化する重合性モノマ
ーや、架橋性化合物系を含んだ分散物である。この例と
しては、高温度で重合反応とくに架橋反応が進行する重
合性モノマー並びに架橋基を持つ熱架橋性ポリマーやオ
リゴマー及び熱重合開始剤を含む系が挙げられる。この
分散物の表面親水性化には、上記、及びの疎水性
化微粒子ポリマーの項で前記した表面親水性化手段を用
いて分散させることができる。
(2) A fine particle polymer containing a polymerizable monomer / crosslinkable compound and forming a hydrophobic polymer / crosslinking structure in the vicinity of particles upon thermal destruction. The fine particle polymer described in the above item (2) has a heat-reactive functional group that does not react at room temperature and initiates a polymerization or cross-linking reaction by the action of heat, and is a polymerizable monomer that makes the vicinity of the fine particle polymer hydrophobic. And a dispersion containing a crosslinkable compound. Examples of such a system include a polymerizable monomer that undergoes a polymerization reaction, particularly a crosslinking reaction, at a high temperature, and a system containing a thermally crosslinkable polymer or oligomer having a crosslinking group and a thermal polymerization initiator. In order to make the surface of the dispersion hydrophilic, the dispersion can be dispersed using the surface hydrophilizing means described above in the section of the hydrophobic fine particle polymer.

【0060】上記の熱反応性官能基としては、重合反応
を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、
メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、付加反
応を行うイソシアナート基あるいはそのブロック体およ
びその反応相手である活性水素原子を有する官能基(例
えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基な
ど)、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその反応
相手であるアミノ基、カルボキシル基あるいはヒドロキ
シル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル
基あるいはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とア
ミノ基あるいはヒドロキシル基などを挙げることができ
る。しかし、化学結合が形成されるならば、どのような
反応を行う官能基でも良い。
As the above-mentioned heat-reactive functional group, an ethylenically unsaturated group (for example, acryloyl group,
A methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, etc.), an isocyanate group for performing an addition reaction or a block thereof and a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), Epoxy group and addition partner amino group, carboxyl group or hydroxyl group for addition reaction, carboxyl group and hydroxyl group or amino group for condensation reaction, acid anhydride and amino group or hydroxyl group for ring opening addition reaction, etc. Can be mentioned. However, a functional group that performs any reaction may be used as long as a chemical bond is formed.

【0061】本発明において、親水性樹脂層に用いる熱
反応性官能基を有する微粒子ポリマーとしては、アクリ
ロイル基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、
エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、イソシアネート基、酸無水物およびそれらを保護し
た基を有するものを挙げることができる。これらの官能
基のポリマー粒子への導入は、重合時に行ってもよい
し、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
In the present invention, as the fine particle polymer having a thermoreactive functional group used for the hydrophilic resin layer, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group,
Examples thereof include an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an acid anhydride and those having a group protecting them. The introduction of these functional groups into the polymer particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after polymerization.

【0062】重合時に導入する場合は、これらの官能基
を有するモノマーを乳化重合あるいは懸濁重合すること
が好ましい。そのような官能基を有するモノマーの具体
例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレー
ト、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−
イソシアネートエチルメタクリレートあるいはそのアル
コールなどによるブロックイソシアナート、2−イソシ
アネートエチルアクリレートあるいはそのアルコールな
どによるブロックイソシアナート、2−アミノエチルメ
タクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸、2官能アクリレート、2官能メタクリレートなど
を挙げることができるが、これらに限定されない。これ
らのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基をもたな
いモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリ
ル、酢酸ビニルなどを挙げることができるが、熱反応性
官能基をもたないモノマーであれば、これらに限定され
ない。熱反応性官能基の導入を重合後に行う場合に用い
る高分子反応としては、例えば、WO96−34316
号公報に記載されている高分子反応を挙げることができ
る。
When introduced during polymerization, it is preferable to carry out emulsion polymerization or suspension polymerization of monomers having these functional groups. Specific examples of the monomer having such a functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate,
Block isocyanate with isocyanate ethyl methacrylate or its alcohol, block isocyanate with 2-isocyanate ethyl acrylate or its alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, Examples include, but are not limited to, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, bifunctional methacrylate, and the like. Examples of the monomer having no heat-reactive functional group copolymerizable with these monomers include, for example, styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, and vinyl acetate. The monomer is not limited to these as long as it has no monomer. As the polymer reaction used when the heat-reactive functional group is introduced after the polymerization, for example, WO96-34316
The polymer reaction described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-260, can be mentioned.

【0063】上記の熱反応性官能基を有する微粒子ポリ
マーの中で、微粒子ポリマー同士が熱により合体するも
のが好ましく、その表面は親水性で、水に分散するもの
が、特に好ましい。微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固
温度よりも低い温度で乾燥して作製した時の皮膜の接触
角(空中水滴)が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して
作製した時の皮膜の接触角(空中水滴)よりも低くなる
ことが好ましい。このように微粒子ポリマー表面を親水
性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレング
リコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、ま
たは親水性低分子化合物を微粒子ポリマー表面に吸着さ
せてやれば良いが、その方法はこれらに限定されるもの
ではない。
Among the above-mentioned fine particle polymers having a thermoreactive functional group, those in which the fine particle polymers are united by heat are preferable, and those whose surface is hydrophilic and which is dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets in the air) of a film produced by applying only the fine particle polymer and drying at a temperature lower than the coagulation temperature is lower than the contact angle of the film produced by drying at a temperature higher than the coagulation temperature ( (Water droplets in the air). In order to make the surface of the fine particle polymer hydrophilic as described above, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low-molecular compound may be adsorbed on the surface of the fine particle polymer. However, the present invention is not limited to this.

【0064】これらの熱反応性官能基を有する微粒子ポ
リマーの凝固温度は、70℃以上が好ましいが、経時安
定性を考えると100℃以上がさらに好ましい。上記の
微粒子ポリマーの平均粒径は、0.01〜20μmが好
ましいが、その中でも0.05〜2.0μmがさらに好
ましく、特に0.1〜1.0μmが最適である。平均粒
径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時
安定性が悪くなってしまう。
The solidification temperature of these fine particles of a polymer having a thermoreactive functional group is preferably 70 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher in view of the stability over time. The average particle size of the fine particle polymer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and most preferably 0.1 to 1.0 μm. If the average particle size is too large, the resolution will be poor, and if it is too small, the stability over time will be poor.

【0065】これらの反応性官能基を有する微粒子ポリ
マーの添加量は、画像記録層固形分の50重量%以上が
好ましく、60重量%以上がさらに好ましい。
The addition amount of the fine particle polymer having a reactive functional group is preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more based on the solid content of the image recording layer.

【0066】本発明に用いるマイクロカプセルには、熱
反応性官能基を有する化合物を内包させることもでき
る。この熱反応性官能基を有する化合物としては、重合
性不飽和基、ヒドロキシル基、カルボキシル基あるいは
カルボキシレート基あるいは酸無水物、アミノ基、エポ
キシ基、および、イソシアナート基あるいはそのブロッ
ク体から選ばれた少なくとも一個の官能基を有する化合
物を挙げることができる。
The microcapsules used in the present invention can contain a compound having a thermoreactive functional group. The compound having a heat-reactive functional group is selected from polymerizable unsaturated groups, hydroxyl groups, carboxyl groups or carboxylate groups or acid anhydrides, amino groups, epoxy groups, and isocyanate groups or blocks thereof. And compounds having at least one functional group.

【0067】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、あるいはそれらの共
重合体である。
Compounds having a polymerizable unsaturated group include:
At least one ethylenically unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group;
And preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. These are, in chemical form, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, or copolymers thereof.

【0068】例として、不飽和カルボン酸(例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など)、そのエステルおよび
アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、
ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カ
ルボン酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネー
トまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能も
しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基な
どの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル
またはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、
アミンおよびチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多
官能アルコール、アミンおよびチオールとの置換反応物
も好適である。また、別の好適な例として、上記の不飽
和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸あるいはクロロメチ
ルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。
Examples include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids and fatty acids. Esters with aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amines. Also,
An addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxide; A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, and a monofunctional or polyfunctional alcohol,
Addition reactants with amines and thiols, and also substituted reactants with unsaturated carboxylic esters or amides having a leaving group such as a halogen group or tosyloxy group, and monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols. It is suitable. Another preferred example is a compound in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.

【0069】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable compound which is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane Triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate,
Pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate,
Examples thereof include sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.

【0070】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloyloxy-2 Hydroxypropoxy) phenyl]
Examples thereof include dimethylmethane and bis- [p- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane.

【0071】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
Examples thereof include 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.

【0072】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。
The crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like can be mentioned. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Maleic esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate,
Sorbitol tetramalate and the like can be mentioned.

【0073】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−
5241号、特開平2−226149号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。
Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334,
Aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-196231
Examples thereof include those having an aromatic skeleton described in JP-A-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613.

【0074】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭54−21726記載の
シクロへキシレン構造を有すものを挙げることができ
る。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples thereof include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide. Examples of other preferred amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0075】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(I)で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。 一般式(I) CH2=C(R1)COOCH2CH(R2)OH (ただし、R1およびR2は、HまたはCH3を示す。)
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule and an unsaturated monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (I) added to one molecule. Urethane compounds containing at least two polymerizable unsaturated groups are exemplified. General formula (I) CH2 = C (R1) COOCH2CH (R2) OH (where R1 and R2 represent H or CH3)

【0076】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭58−4
9860号、特公昭56−17654号、特公昭62−
39417、特公昭62−39418号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-4.
9860, JP-B-56-17654, JP-B-62-
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in 39417 and JP-B-62-39418 are also preferable.

【0077】さらに、特開昭63−277653号、特
開昭63−260909号、特開平1−105238号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are preferable. It can be mentioned as.

【0078】その他の好適なものの例としては、特開昭
48−64183号公報、特公昭49−43191号公
報、同52−30490号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭46−43946号公報、
特公平1−40337号公報、同1−40336号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、20巻7号、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。
Other preferred examples include polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting a resin with (meth) acrylic acid. In addition, JP-B-46-43946,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40337 and JP-A-1-40336 and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned as preferable ones. In some cases, compounds containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 are also preferably used. Furthermore, The Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No. 7, pp. 300-308 (198
Those introduced as photocurable monomers and oligomers in (4 years) can also be suitably used.

【0079】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素
添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
Suitable epoxy compounds include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols and polyphenols or hydrogenated products thereof. And polyglycidyl ether.

【0080】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いは、それらをアルコールあるいはアミンでブロックし
た化合物を挙げることができる。
Suitable isocyanate compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, or alcohols such as alcohols. Alternatively, a compound blocked with an amine can be mentioned.

【0081】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。
Suitable amine compounds include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.

【0082】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリス
リトールなどの多価アルコール、ビスフェノールやその
他のポリフェノール類などを挙げることができる。好ま
しカルボキシル基を有する化合物としては、ピロメリッ
ト酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カル
ボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが
挙げられる。好適な酸無水物としては、ピロメリット酸
無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが
挙げられる。
Suitable compounds having a hydroxyl group include compounds having a terminal methylol group, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, bisphenol and other polyphenols. Preferred compounds having a carboxyl group include aromatic polycarboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and phthalic acid, and aliphatic polycarboxylic acids such as adipic acid. Suitable acid anhydrides include pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride and the like.

【0083】エチレン性不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート/メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート/エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート/ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。
Suitable copolymers of the ethylenically unsaturated compound include allyl methacrylate copolymers. For example, an allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, an allyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer, an allyl methacrylate / butyl methacrylate copolymer, and the like can be given.

【0084】本発明の画像記録層には、このように熱反
応性基を有する微粒子ポリマーあるいはマイクロカプセ
ルを用いるので、必要に応じてこれらの反応を開始ある
いは促進する化合物を添加してもよい。反応を開始ある
いは促進する化合物としては、熱によりラジカルあるい
はカチオンを発生するような化合物を挙げることがで
き、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合
物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジ
フェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシ
ルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。
これらの化合物は、親水性樹脂層固形分の1〜20重量
%の範囲で添加することができる。好ましくは3〜10
重量%の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損な
わず、良好な反応開始あるいは促進効果が得られる。
In the image recording layer of the present invention, since a fine particle polymer or a microcapsule having a thermoreactive group is used, a compound for initiating or promoting these reactions may be added as necessary. Examples of the compound that initiates or promotes the reaction include compounds that generate radicals or cations by heat, and include, for example, lophine dimers, trihalomethyl compounds, peroxides, azo compounds, diazonium salts, and diphenyliodonium salts. Onium salts, acylphosphines, imidosulfonates and the like.
These compounds can be added in the range of 1 to 20% by weight of the solid content of the hydrophilic resin layer. Preferably 3 to 10
% By weight. Within this range, a favorable reaction initiation or acceleration effect can be obtained without impairing the on-press developability.

【0085】画像形成層に含有される微粒子ポリマー粒
子のサイズは、形態によって最適サイズの範囲は異なる
が、ほぼ体積平均で10μm以下、0.01μm以上が
好ましく、更に好ましくは5〜0.02μm、とくに好
ましくは3〜0.05μmの範囲に調整することが好ま
しい。サイズの異なる2種類の微粒子ポリマー粒子の組
み合わせとしては、小粒子のサイズが大粒子のサイズの
50%以下、1%以上の範囲が好ましく、更に好ましく
は40%〜3%、とくに好ましくは30%〜5%の範囲
にあることが好ましい。小粒子と大粒子の添加比率は重
量比で、1:100〜10:1範囲であることが好まし
く、更に好ましくは5:95〜5:1、とくに好ましく
は10:90〜2:1の範囲にあることが好ましい。さ
らに、少なくともサイズの異なる2種類以上の微粒子ポ
リマー粒子は、素材が同じであっても、異なっていても
よい。
The size of the fine polymer particles contained in the image forming layer varies in the optimum size range depending on the form, but is preferably about 10 μm or less and 0.01 μm or more on a volume average, more preferably 5 to 0.02 μm. It is particularly preferable to adjust the thickness to a range of 3 to 0.05 μm. As a combination of two kinds of fine particle polymer particles having different sizes, the size of the small particles is preferably 50% or less and 1% or more of the size of the large particles, more preferably 40% to 3%, particularly preferably 30%. It is preferably in the range of 55%. The weight ratio of the small particles to the large particles is preferably in the range of 1: 100 to 10: 1, more preferably 5:95 to 5: 1, particularly preferably 10:90 to 2: 1. Is preferred. Further, at least two or more kinds of fine polymer particles having different sizes may be the same or different.

【0086】(画像記録層の構成)以上に、画像記録層
に含有される光熱変換剤である金属微粒子及び表面が親
水性の微粒子ポリマーについて述べた。つぎにこれを含
んだ画像記録層すなわち親水性樹脂層の構成について述
べる。本発明の画像記録層の構成は、微粒子ポリマーが
結着樹脂に分散した層構成であり、好ましくは光熱変換
性の金属微粒子と、表面親水性の微粒子ポリマーが親水
性の結着樹脂に分散した層構成である。親水性の結着樹
脂を添加することにより画像記録層自体の皮膜強度が向
上し、また、樹脂を架橋硬化させて現像処理不要の印刷
版を与えることができる。とくに親水性の結着樹脂が、
親水性高分子結着樹脂又は親水性のゾルゲル変換系結着
樹脂であることが好ましく、そのなかでも高い親水性及
び熱反応による画像記録層の破壊に耐えうる結着樹脂と
してポリシロキサンのゲル組織を形成する性質を有する
ゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。以下に画像記録層
の親水性結着樹脂について説明する。
(Structure of Image Recording Layer) The metal fine particles and the fine particle polymer having a hydrophilic surface as the photothermal conversion agent contained in the image recording layer have been described above. Next, the structure of an image recording layer, that is, a hydrophilic resin layer containing the same will be described. The configuration of the image recording layer of the present invention is a layer configuration in which a fine particle polymer is dispersed in a binder resin, and preferably, a metal particle having photothermal conversion, and a fine particle polymer having a surface hydrophilic are dispersed in a hydrophilic binder resin. It is a layer configuration. By adding a hydrophilic binder resin, the film strength of the image recording layer itself can be improved, and the resin can be cross-linked and cured to give a printing plate that does not require development processing. Especially hydrophilic binder resin,
It is preferably a hydrophilic polymer binder resin or a hydrophilic sol-gel conversion binder resin. Among them, the gel structure of polysiloxane as a binder resin having high hydrophilicity and withstanding the destruction of the image recording layer due to a thermal reaction Sol-gel conversion type binder resins having the property of forming Hereinafter, the hydrophilic binder resin of the image recording layer will be described.

【0087】<ゾルゲル変換系の結着樹脂層>本発明に
おいて、画像記録層のとくに好ましい結着剤は、以下に
述べるゾルゲル変換系結着樹脂である。本発明に好まし
く適用できるゾルゲル変換が可能な系は、多価元素から
出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造を形成
し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコキシ基も
有していてこれらが混在した樹脂状構造となっている高
分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段階では
ゾル状態であり、エーテル結合化が進行するのに伴って
網目状の樹脂構造が強固となる。
<Sol-Gel Conversion Binder Resin> In the present invention, a particularly preferred binder for the image recording layer is a sol-gel conversion binder resin described below. The sol-gel conversion system preferably applicable to the present invention is a system in which a bonding group derived from a polyvalent element forms a network structure via an oxygen atom, and the polyvalent metal also has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group. It is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed, and is in a sol state at a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and a network-like resin structure is formed as the ether bonding proceeds. Be strong.

【0088】また、樹脂組織の親水性度が変化する性質
に加えて、水酸基の一部が固体微粒子に結合することに
よって固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させ
る働きをも併せ持っている。ゾルゲル変換を行う水酸基
やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アル
ミニウム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、
これらはいずれも本発明に用いることができるが、以下
はもっとも好ましく用いることのできるシロキサン結合
によるゾルゲル変換系について説明する。アルミニウ
ム、チタン及びジルコニウムを用いるゾルゲル変換は、
下記の説明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施す
ることができる。
Further, in addition to the property that the degree of hydrophilicity of the resin structure changes, the function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of the hydroxyl groups to the solid fine particles and changing the degree of hydrophilicity is also provided. I have. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that performs sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like,
Although any of these can be used in the present invention, the sol-gel conversion system based on a siloxane bond which is most preferably used will be described below. Sol-gel conversion using aluminum, titanium and zirconium,
The present invention can be implemented by substituting silicon described below with each element.

【0089】すなわち、とくに好ましく用いられるのは
ゾルゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール基
を有するシラン化合物を含んだ系である。
That is, a system containing a silane compound having at least one silanol group and capable of sol-gel conversion is particularly preferably used.

【0090】以下に、ゾルゲル変換を利用する系につい
てさらに説明する。ゾルゲル変換によって形成される無
機親水性結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合及びシ
ラノール基を有する樹脂であり、本発明の平版印刷版用
原板の画像記録層は、少なくとも1個のシラノール基を
有するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、
塗布後の経時の間に、シラノール基の加水分解縮合が進
んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行す
ることによって形成される。また、このゾルゲル変換に
よって形成される層は、膜強度、柔軟性などの物理的性
能の向上や、塗布性の改良などを目的として、後述する
有機親水性ポリマーや架橋剤などを添加することも可能
である。
Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic binder resin formed by the sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is preferably a silane having at least one silanol group. A coating solution, which is a sol system containing a compound,
During the lapse of time after the application, the hydrolytic condensation of the silanol groups proceeds to form the structure of the siloxane skeleton, which is formed by the progress of gelation. In addition, the layer formed by the sol-gel conversion may be added with an organic hydrophilic polymer or a cross-linking agent described below for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, and improving coatability. It is possible.

【0091】ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下
記一般式(I)で、また少なくとも1個のシラノール基
を有するシラン化合物は、下記一般式(II)で示され
る。また、画像記録層に含まれる物質系は、必ずしも一
般式(II)のシラン化合物単独である必要はなく、一般
には、シラン化合物が部分加水重合したオリゴマーから
なっていてもよく、あるいは、シラン化合物とそのオリ
ゴマーの混合組成であってもよい。
The siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (I), and the silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (II). Further, the substance system contained in the image recording layer does not necessarily have to be a silane compound of the general formula (II) alone, and may generally be composed of an oligomer obtained by partially hydrolyzing the silane compound. And its oligomer may be a mixed composition.

【0092】[0092]

【化4】 Embedded image

【0093】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成
され、一般式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは
水酸基を表し、他は下記一般式(II)中の記号のR0
びYから選ばれる有機残基を表わす。
The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the following general formula (II), and at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group; Others represent organic residues selected from the symbols R 0 and Y in the following general formula (II).

【0094】一般式(II) (R0nSi(Y)4-n 一般式(II)中、R0は水酸基、炭化水素基又はヘテロ
環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン原子、−O
1、−OCOR2、又は、−N(R3)(R4)を表す
(R1、R2は、各々炭化水素基を表し、R3、R4は同じ
でも異なってもよく、水素原子又は炭化水素基を表
す)。nは0、1、2又は3を表わす。
Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n In Formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y is a hydrogen atom, a halogen atom, -O
R 1 , —OCOR 2 , or —N (R 3 ) (R 4 ) (R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group; R 3 and R 4 may be the same or different; Represents an atom or a hydrocarbon group). n represents 0, 1, 2 or 3.

【0095】一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば炭素数1〜12の置換されてもよ
い直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ドデシル基等;これらの基に置換される基として
は、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原
子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR′基(R′は、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル
基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノ
エチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、2−ブロ
モエチル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシ
プロピル基、ベンジル基等を示す)、
In general formula (II), the hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, An ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, and the like; , A bromine atom), a hydroxy group, a thiol group, a carboxy group, a sulfo group, a cyano group, an epoxy group, an —OR ′ group (R ′ is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, Octyl, decyl, propenyl, butenyl, hexenyl, octenyl, 2-hydroxyethyl, 3-chloropropyl, 2-cyanoethyl, N, N-dimethyla Minoethyl group, 2-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.),

【0096】−OCOR''基(R''は、前記R'と同一
の内容を表わす)、−COOR''基、−COR''基、−
N(R''')( R''' )(R''' は、水素原子又は前記
R'と同一の内容を表わし、各々同じでも異なってもよ
い)、−NHCONHR''基、−NHCOOR''基、−
Si(R'')3 基、−CONHR''' 基、−NHCO
R''基、等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基
中に複数置換されてもよい)、炭素数2〜12の置換さ
れてもよい直鎖状又は分岐状のアルケニル基(例えば、
ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル
基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキ
ル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ
る)、炭素数7〜14の置換されてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基
等;これらの基に置換される基としては、前記アルキル
基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複
数置換されてもよい)、
A —OCOR ″ group (R ″ has the same meaning as the above R ′), a —COOR ″ group, a —COR ″ group,
N (R ′ ″) (R ″ ″) (R ″ ″ represents the same content as a hydrogen atom or R ′ and may be the same or different), —NHCONHR ″ group, —NHCOOR '' Group,-
Si (R ") 3 group, -CONHR"'group, -NHCO
R ″ group, and the like. These substituents may be substituted plurally in the alkyl group), a linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
Vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group,
The group substituted by these groups, such as hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, and the like, include those having the same contents as the group substituted by the alkyl group.) Aralkyl groups which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; the group substituted by these groups is the above-mentioned alkyl group Groups having the same contents as the group, and may be substituted plurally),

【0097】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置
換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の
内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキル
基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又、
複数置換されてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、
イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有す
る縮環してもよいヘテロ環基(例えば該ヘテロ環として
は、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン
環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒド
ロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基とし
ては、前記アルキル基中の置換基と同一の内容のものが
挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group, and those substituted with a plurality of And a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenyl group or a naphthyl group, examples of the substituent include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group.
Two or more may be substituted), or a nitrogen atom, an oxygen atom,
A condensable heterocyclic group containing at least one atom selected from sulfur atoms (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, an oxazole ring , A pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. The contents of which may be mentioned, and a plurality may be substituted).

【0098】一般式(II) 中のYの−OR1基、−OC
OR2基又は−N(R3)(R4)基の置換基としては、
例えば以下の置換基を表わす。−OR1基において、R1
は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メ
トキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル
基、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メ
トキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオ
キサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル
基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシク
ロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル
基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベン
ジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
In the general formula (II), -OR 1 group of Y, -OC
As a substituent of the OR 2 group or the —N (R 3 ) (R 4 ) group,
For example, the following substituents are represented. —OR 1 group includes R 1
Is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, propenyl group) , Butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2-methoxyethyl, 2- (methoxyethyloxo) ethyl, 2- (N, N -Diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group, Phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methylbenzyl group, bromobenzyl It represents a group and the like).

【0099】−OCOR2基において、R2は、R1と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。又
−N(R3)(R4)基において、R3、R4は、互いに同
じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数1〜
10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の−O
1基のR1と同様の内容のものが挙げられる)を表わ
す。より好ましくは、R3とR4の炭素数の総和が16個
以内である。一般式(II)で示されるシラン化合物の具
体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定
されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is an aryl group in the aforementioned R). And the same as those exemplified for the group). In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other.
10 optionally substituted aliphatic groups (for example, -O
R 1 has the same contents as R 1 ). More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is up to 16. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

【0100】テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラ−n−プロピルシラ
ン、テトラ−t−ブトキシシラン、テトラ−n−ブトキ
シシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロム
シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルト
リt−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチ
ルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラ
ン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルトリ
クロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−
プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリク
ロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−へキ
シルトリメトキシシラン、n−へキシルトリエトキシシ
ラン、n−へキシルトリイソプロポキシシラン、n−へ
キシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロル
シラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリ
メトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−
デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−
ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、
n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデシル
トリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシ
ラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n
−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、
Tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, tetra-t-butoxysilane, tetra-n-butoxysilane, methyltrichlorosilane, methyl Tribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane , Ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyl Triisopropoxysilane, n-
Propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltrit -Butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-
Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-
Butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane,
n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n
Octadecyltri-t-butoxysilane,

【0101】フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン、ジメトキシジエ
トキシシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブ
ロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ジフェニルジクロルシラン、ジフェニル
ジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジエトキシシラン、フェニルメチルジクロルシラ
ン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジ
メトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ト
リエトキシヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、ト
リメトキシヒドロシラン、イソプロポキシヒドロシラ
ン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニルトリクロル
シラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプ
ロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシラン、トリ
フルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロ
ピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラ
ン、
Phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane , Triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxy Drosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrisilane Methoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane,

【0102】トリフルオロプロピルトリイソプロポキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−
ブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げ
られる。
Trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane , Γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane , Γ-
Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-
Butoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and the like.

【0103】本発明の親水性層の無機親水性結着樹脂形
成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物ととも
に、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル変換
の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用する
ことができる。用いられる金属化合物として、例えば、
Ti(OR'')4(R''はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiC
4、Zn(OR'')2、Zn(CH3COCHCOC
32、Sn(OR'')4、Sn(CH3COCHCOC
34、Sn(OCOR'')4、SnCl4、Zr(O
R'')4、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(O
R'')3、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げら
れる。
In addition to the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic binder resin of the hydrophilic layer of the present invention, the resin is used in the sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al and the like. Can be used in combination with a metal compound capable of forming a film. As the metal compound used, for example,
Ti (OR ″) 4 (R ″ is methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, etc.), TiC
l 4 , Zn (OR ″) 2 , Zn (CH 3 COCHCOC
H 3 ) 2 , Sn (OR ″) 4 , Sn (CH 3 COCHCOC)
H 3 ) 4 , Sn (OCOR ″) 4 , SnCl 4 , Zr (O
R '') 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (O
R '') 3 , Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like.

【0104】更に、一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が濃い場合は加水分解、
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。
Further, in order to accelerate the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II), and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis,
The polycondensation rate tends to increase. However, when a highly concentrated basic catalyst is used, a precipitate may be formed in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.

【0105】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には、焼結後に触媒結晶粒中にほとんど残留しないよ
うな元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性
触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫
酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、
蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表され
る構造式のRを他元素または置換基によって置換した置
換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸な
ど、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニ
ア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類など
が挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element that hardly remains in the catalyst crystal grains after sintering is used. Good. Specifically, examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid,
Examples of basic catalysts include carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R of the structural formula represented by RCOOH is substituted with another element or a substituent, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and the like. Examples include ammoniacal bases and amines such as ethylamine and aniline.

【0106】以上述べたように、ゾル−ゲル法によって
作成される画像記録層は、本発明の平版印刷版用原版に
とくに好ましい。上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、
作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社
(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法によ
る機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(19
92年)等の成書等に詳細に記述されている。
As described above, the image recording layer formed by the sol-gel method is particularly preferable for the lithographic printing plate precursor according to the invention. Further details of the above sol-gel method,
Saio Sakuhana, "Science of Sol-Gel Method", Agne Shofusha Co., Ltd. (published) (1988), Hirashima Tsuyoshi, "Functional Thin Film Fabrication Technology by Latest Sol-Gel Method," Integrated Technology Center (published) (19)
1992) and the like.

【0107】<親水性高分子化合物>本発明の平版印刷
版用原版の画像記録層に含有される結着樹脂として、上
記のゾルゲル変換系結着樹脂のほかに、画像記録層とし
ての適度な強度と表面の親水性を付与する水酸基、を有
する有機高分子化合物を用いることができる。具体的に
は、ポリビニルアルコール(PVA),カルボキシ変性
PVA等の変性PVA,澱粉及びその誘導体、カルボキ
シメチルセルローズ、ヒドロキシエチルセルローズのよ
うなセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体、アルギン酸及びそのアルカ
リ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩、ポ
リアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリ(エチレンオキ
サイド)、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹
脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート系ポリマー、N−ビニルカル
ボン酸アミドポリマー等の水溶性樹脂が挙げられる。
<Hydrophilic polymer compound> As the binder resin contained in the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, in addition to the above-mentioned sol-gel conversion binder resin, a suitable image recording layer An organic polymer compound having a hydroxyl group that imparts strength and surface hydrophilicity can be used. Specifically, polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose and hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, and vinyl acetate-crotonic acid. Polymer, styrene-maleic acid copolymer, alginic acid and its alkali metal salt, alkaline earth metal salt or ammonium salt, polyacrylic acid, polyacrylate, poly (ethylene oxide), water-soluble urethane resin, water-soluble polyester Water-soluble resins such as resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate-based polymer, and N-vinyl carboxylic acid amide polymer.

【0108】又、上記水酸基を有する有機高分子化合物
を架橋し、硬化させる耐水化剤としては、グリオキザー
ル、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂などのアルデヒド類、N−メチロール尿素やN
−メチロールメラミン、メチロール化ポリアミド樹脂な
どのメチロール化合物、ジビニルスルホンやビス(β−
ヒドロキシエチルスルホン酸)などの活性ビニル化合
物、エピクロルヒドリンやポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、ポリアミド・ポリアミン・エピクロ
ロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂
などのエポキシ化合物、モノクロル酢酸エステルやチオ
グリコール酸エステルなどのエステル化合物、ポリアク
リル酸やメチルビニルエーテル/マレイン酸共重合物な
どのポリカルボン酸類、ほう酸、チタニルスルフェー
ト、Cu、Al、Sn、V、Cr塩などの無機系架橋
剤、変成ポリアミドポリイミド樹脂などが挙げられる。
そのほか、塩化アンモニウム、シランカップリング剤、
チタネートカップリング剤などの架橋触媒を併用でき
る。
Examples of the waterproofing agent for crosslinking and curing the above-mentioned organic polymer compound having a hydroxyl group include aldehydes such as glyoxal, melamine formaldehyde resin and urea formaldehyde resin, N-methylol urea and N-methylol urea.
-Methylol melamine, methylol compounds such as methylolated polyamide resin, divinyl sulfone and bis (β-
Active vinyl compounds such as hydroxyethylsulfonic acid), epichlorohydrin, polyethylene glycol diglycidyl ether, adducts of polyamide / polyamine / epichlorohydrin, epoxy compounds such as polyamide epichlorohydrin resin, monochloroacetate and thioglycolate Ester compounds, polycarboxylic acids such as polyacrylic acid and methyl vinyl ether / maleic acid copolymer, inorganic cross-linking agents such as boric acid, titanyl sulfate, Cu, Al, Sn, V, and Cr salts, modified polyamide polyimide resin, etc. Is mentioned.
In addition, ammonium chloride, silane coupling agent,
A crosslinking catalyst such as a titanate coupling agent can be used in combination.

【0109】(画像記録層へのその他の添加成分)画像
記録層中には、上記した光熱変換剤、微粒子ポリマー、
及び親水性結着樹脂のほかに、感度の向上、親水性の程
度の制御、記録層の物理的強度の向上、層を構成する組
成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向
上、製版作業性の便宜上などの種々の目的の化合物を添
加することができる。これらの添加物には、例として以
下のものが挙げられる。
(Other Additives to Image Recording Layer) In the image recording layer, the above-mentioned photothermal conversion agent, fine particle polymer,
In addition to the hydrophilic binder resin, improvement of sensitivity, control of the degree of hydrophilicity, improvement of physical strength of the recording layer, improvement of dispersibility of the constituents of the layer, improvement of coating properties, printing suitability Various compounds can be added for the purpose of improving the quality and the convenience of plate making. These additives include, by way of example, the following:

【0110】<親水性ゾル状粒子>画像記録層に添加す
る無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化マグネ
シウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムなど
の疎水性ゾルが挙げられ、これらは光熱変換性ではなく
ても皮膜の強化や表面粗面化による界面接着性の強化な
どに用いることができる。無機微粒子を画像記録層中に
添加する場合には、その含有量は、固形の構成成分の
1.0〜70質量%,好ましくは5.0〜50質量%で
ある。1%以下では期待される効果がなく、70質量%
以上では本来必要な光熱変換剤の添加量が制約されるお
それがある。親水性ゾル状粒子としては、特に限定され
ないが、好ましくはシリカゾル、アルミナゾル、酸化マ
グネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
であり、これらは光熱変換性ではなくても親水性を助長
したり、ゾルゲル膜の強化などに用いることができる。
より好ましくは、シリカゾル、アルミナゾル、アルギン
酸カルシウムゾル又はこれらの混合物である。
<Hydrophilic sol-like particles> Examples of the inorganic fine particles to be added to the image recording layer include hydrophobic sols such as silica, alumina, magnesium oxide, magnesium carbonate, and calcium alginate. Can also be used for strengthening the film or enhancing the interfacial adhesion by surface roughening. When inorganic fine particles are added to the image recording layer, the content thereof is 1.0 to 70% by mass, preferably 5.0 to 50% by mass of the solid constituent components. At less than 1%, the expected effect is not obtained, and 70% by mass
Above, there is a possibility that the amount of the originally required light-to-heat conversion agent may be restricted. The hydrophilic sol-like particles are not particularly limited, but are preferably silica sol, alumina sol, magnesium oxide, magnesium carbonate, and calcium alginate, which promote hydrophilicity even if they are not light-to-heat converting or strengthen sol-gel films. And so on.
More preferably, it is a silica sol, an alumina sol, a calcium alginate sol or a mixture thereof.

【0111】シリカゾルは、表面に多くの水酸基を持
ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si)を構成
している。粒子径1〜100nmのシリカ超微粒子が、
水もしくは、極性溶媒中に分散したであり、コロイダル
シリカとも称されているものである。具体的には、加賀
美敏郎、林瑛監修「高純度シリカの応用技術」第3巻、
(株)シーエムシー(1991年)に記載されている。
The silica sol has many hydroxyl groups on the surface, and the inside of the sol forms a siloxane bond (—Si—O—Si). Ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm,
It is dispersed in water or a polar solvent, and is also called colloidal silica. Specifically, Toshiro Kaga and Ei Hayashi supervised “Applied Technology of High Purity Silica” Volume 3,
Co., Ltd. (1991).

【0112】又アルミナゾルは、5〜200nmのコロ
イドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)
で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオ
ン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸
アニオン等)を安定剤として分散されたものである。
Alumina sol is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm.
And an anion (for example, a halogen ion such as a fluorine ion or a chloride ion, or a carboxylate anion such as an acetate ion) in water is dispersed as a stabilizer.

【0113】上記親水性ゾル状粒子は、平均粒径が10
〜50nmのものが好ましいが、より好ましい平均粒径
は10〜40nmのものである。これら親水性ゾル状粒
子は、いずれも、市販品として容易に入手できる。
The hydrophilic sol particles have an average particle diameter of 10
The average particle size is preferably from 10 to 40 nm, more preferably from 10 to 40 nm. All of these hydrophilic sol-like particles can be easily obtained as commercial products.

【0114】親水性ゾル状粒子(単にシリカ粒子という
こともある)の粒径が上記範囲内にあると、結着樹脂内
に光熱変換剤としての金属微粒子及び微粒子ポリマーと
も安定に分散して、画像記録層の膜強度を充分に保持
し、しかもレーザー光等により露光して製版し、印刷版
として印刷すると、非画像部への印刷インクの付着汚れ
を生じない極めて親水性に優れたものになるという効果
を発現する。また、本発明に使用する上記金属微粒子と
シリカ粒子の存在割合は100/0〜30/70の重量
比(金属微粒子あるいはカーボンブラック/シリカ粒
子)であり、好ましくは100/0〜40/60の重量
比である。また、金属微粒子、微粒子ポリマー及び親水
性ゾル状粒子の合計の添加量は、画像記録層の固形物成
分の2〜95重量%であり、好ましくは5〜85重量%
である。
When the particle size of the hydrophilic sol-like particles (also simply referred to as silica particles) is within the above range, both the metal fine particles and the fine particle polymer as the photothermal conversion agent are stably dispersed in the binder resin. When the plate is made by exposing it with laser light or the like to maintain sufficient film strength of the image recording layer, and printed as a printing plate, it is extremely hydrophilic without causing adhesion of printing ink to non-image areas. The effect that becomes. The metal fine particles and silica particles used in the present invention have a weight ratio of 100/0 to 30/70 (metal fine particles or carbon black / silica particles), preferably 100/0 to 40/60. It is a weight ratio. The total amount of the metal fine particles, the fine particle polymer and the hydrophilic sol particles is 2 to 95% by weight, preferably 5 to 85% by weight of the solid component of the image recording layer.
It is.

【0115】<界面活性剤>本発明の平版印刷版用原板
の画像記録層中には、印刷条件に対する安定性を拡げる
ため、ノニオン系及びアニオン系界面活性剤のほか、特
開平2−195356号公報に記載されているようなカ
チオン界面活性剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭5
9−121044号及び特開平4−13149号公報に
記載されている両性界面活性剤を添加することができ
る。
<Surfactant> In the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, in addition to nonionic and anionic surfactants, JP-A-2-195356 may be used in order to enhance stability under printing conditions. Patent application title: Cationic surfactant, fluorinated surfactant, and JP-A-5
An amphoteric surfactant described in JP-A-9-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

【0116】ノニオン界面活性剤の具体例としては、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロックコポリマー類、さらにポリオ
キシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマ
ーの端末のヒドロキシル基に炭素数5〜24の脂肪族基
がエーテル結合した複合ポリオキシアルキレンアルキル
エーテル類、同じくアルキル置換アリール基がエーテル
結合した複合ポリオキシアルキレンアルキルアリールエ
ーテル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノ
ステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタンモノオレート、ソルビ
タントリオレートなどのソルビタン脂肪酸エステル類、
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチ
レンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレートなどのポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類などが挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, and polyoxyethylene nonylphenyl. Polyoxyethylene alkylaryl ethers such as ethers, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and aliphatic groups having 5 to 24 carbon atoms are ether-bonded to hydroxyl groups at the terminals of polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers. Complex polyoxyalkylene alkyl ethers, also complex polyoxyalkylene alkyl aryl ethers having alkyl-substituted aryl groups ether-bonded, sorby Emissions monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monooleate, sorbitan fatty acid esters such as sorbitan trioleate,
Polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as polyoxyethylene sorbitan triolate and the like. Can be

【0117】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商
品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like.

【0118】アニオン系活性剤の具体例としては、アル
キルスルホン酸類、アリールスルホン酸類、脂肪族カル
ボン酸類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキル
ナフタレンスルホン酸又はナフタレンスルホン酸とホル
ムアルデヒドの縮合型のもの、炭素数9〜26の脂肪族
スルホン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ラウリ
ルポリオキシエチレン硫酸、セチルポリオキシエチレン
スルホン酸、オレイルポリオキシエチレンホスホン酸な
どのポリオキシエチレン含有硫酸やポリオキシエチレン
含有燐酸などが挙げられる。
Specific examples of anionic surfactants include alkylsulfonic acids, arylsulfonic acids, aliphatic carboxylic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids or condensation type of naphthalenesulfonic acid and formaldehyde, and those having 9 carbon atoms. To 26-26 aliphatic sulfonic acids, alkylbenzene sulfonic acids, polyoxyethylene-containing sulfuric acid such as lauryl polyoxyethylene sulfate, cetyl polyoxyethylene sulfonic acid, oleyl polyoxyethylene phosphonic acid, and polyoxyethylene-containing phosphoric acid.

【0119】カチオン活性剤の具体例としては、ラウリ
ルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロラ
イド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられる。
Specific examples of the cationic activator include laurylamine acetate, lauryltrimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, alkylbenzyldimethylammonium chloride and the like.

【0120】画像記録層には、場合によりさらに、上記
の界面活性剤の添加量の範囲内でフッ素系の界面活性剤
を用いることもできる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基を有する界面活性剤が好ましく、カルボン酸、スル
ホン酸、硫酸エステル及びリン酸エステルのいづれかを
有するアニオン型の界面活性剤、又は、脂肪族アミン、
第4級アンモニウム塩のようなカチオン型の界面活性
剤、又はベタイン型の両性界面活性剤、又は、ポリオキ
シ化合物の脂肪族エステル、ポリアルキレンオキシド縮
合型、ポリエチレンイミン縮合型のようなノニオン型界
面活性剤などが挙げられる。上記界面活性剤の画像形成
層全固形物中に占める割合は、0.05〜15質量%が
好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
In the image recording layer, if necessary, a fluorine-based surfactant may be used within the range of the above-mentioned surfactant. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group is preferable, and a carboxylic acid, a sulfonic acid, an anionic surfactant having any of a sulfate ester and a phosphate ester, or an aliphatic amine,
Cationic surfactants such as quaternary ammonium salts, or betaine-type amphoteric surfactants, or nonionic surfactants such as aliphatic esters of polyoxy compounds, polyalkylene oxide condensate, and polyethyleneimine condensate Agents and the like. The proportion of the surfactant in the total solids of the image forming layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

【0121】〔断熱層〕次に、断熱層について説明す
る。画像記録層の下層として設けられている断熱層は、
熱伝導率が低く支持体への熱拡散を抑制する機能を有す
る層である。さらに、断熱層には、光熱変換剤を含有さ
せることもでき、光照射によって発熱し、熱融着感度向
上に有効である。このような断熱層は、有機性または無
機性の樹脂からなる。有機性あるいは無機性の樹脂は、
親水性あるいは、疎水性のものから広く選択することが
できる。例えば、疎水性を有する樹脂としてはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ア
クリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ピニリデン樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ニトロセルロース、ポリアク
リレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポ
リウレタン、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル−樹脂ビニル−マレイン酸共重
合体、塩化ビニル−アクリレート共重合体、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
などが挙げられる。
[Heat insulation layer] Next, the heat insulation layer will be described. The heat insulating layer provided as a lower layer of the image recording layer,
This layer has a low thermal conductivity and a function of suppressing heat diffusion to the support. Furthermore, the heat insulation layer may contain a photothermal conversion agent, which generates heat by light irradiation and is effective for improving the heat fusion sensitivity. Such a heat insulating layer is made of an organic or inorganic resin. Organic or inorganic resin
It can be selected widely from hydrophilic or hydrophobic ones. For example, as a resin having hydrophobicity, polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, acrylic resin, vinyl chloride resin, pinylidene chloride resin, polyvinyl butyral resin, nitrocellulose, polyacrylate, polymethacrylate, polycarbonate, polyurethane, polystyrene, vinyl chloride resin -Vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-resin vinyl-maleic acid copolymer, vinyl chloride-acrylate copolymer, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer And the like.

【0122】本発明では、疎水性を有する樹脂は、水性
エマルジョンから構成されたものも用いることができ
る。水性エマルジョンとは、微小なポリマー粒子と、必
要に応じて該粒子を分散安定化する保護剤とからなる粒
子を水中に分散させた疎水性ポリマー懸濁水溶液のこと
である。用いられる水性エマルジョンの具体例として
は、ビニル系ポリマーラテックス(ポリアクリレート
系、酢酸ビニル系、エチレン−酢酸ビニル系など)、共
役シエン系ポリマーラテックス(メタクリル酸メチル−
ブタジエン系、スチレン−ブタジエン系、アグリロニト
リル−プブタジエン系、クロロプレン系など)及びポリ
ウレタン樹脂などが挙げられる。
In the present invention, as the hydrophobic resin, a resin composed of an aqueous emulsion can be used. The aqueous emulsion is a hydrophobic polymer suspension aqueous solution in which particles comprising fine polymer particles and, if necessary, a protective agent for stabilizing the dispersion of the particles are dispersed in water. Specific examples of the aqueous emulsion to be used include vinyl polymer latex (polyacrylate, vinyl acetate, ethylene-vinyl acetate, etc.) and conjugated cyan polymer latex (methyl methacrylate).
Butadiene-based, styrene-butadiene-based, aggreonitrile-butadiene-based, chloroprene-based, etc.) and polyurethane resins.

【0123】次に、親水性を有する樹脂としては、具体
的には、ポリビニルアルコール(PVA),カルボキシ
変性PVA等の変性PVA,澱粉及びその誘導体、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
のようなセルロース誘導体、アルギン酸アンモニウム、
ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリエチレンオキ
サイド、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹
脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート系ポリマー、N−ビニルカル
ボン酸アミドポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂、などが挙げ
られる。
Examples of the hydrophilic resin include polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose and hydroxyethylcellulose, and alginic acid. Ammonium,
Polyacrylic acid, polyacrylate, polyethylene oxide, water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate polymer, N-vinyl carboxylic acid amide polymer, casein, gelatin, polyvinyl pyrrolidone, acetic acid And water-soluble resins such as a vinyl-crotonic acid copolymer and a styrene-maleic acid copolymer.

【0124】また、上記親水性を有する樹脂を架橋し、
硬化させて用いることが好ましく、架橋剤(耐水剤とも
いう)としては、グリオキザール、メラミンホルムアル
デヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒ
ド類、N−メチロール尿素やN−メチロールメラミン、
メチロール化ポリアミド樹脂などのメチロール化合物、
ジビニルスルホンやビス(β−ヒドロキシエチルスルホ
ン酸)などの活性ビニル化合物、エピクロルヒドリンや
ポリエチレングリコールシグリシジルエーテル、ポリア
ミド・ポリアミン・エピクロロヒドリン付加物、ポリア
ミドエピクロロヒドリン樹脂などのエポキシ化合物、モ
ノクロル酢酸エステルやチオグリコール酸エステルなど
のエステル化合物、ポリアクリル酸やメチルビニルエー
テル/マレイン酸共重合体などのポリカルボン酸類、ほ
う酸、チタニルスルフェート、Cu、A1、Sn、V、
Cr塩などの無機系架橋剤、変成ポリアミドポリイミド
樹脂などが挙げられる。そのほか、塩化アンモニウム、
シランカップリング剤、チタネートカップリング剤など
の架橋触媒を併用できる。
Further, the above hydrophilic resin is cross-linked,
It is preferable to use after curing, and as a crosslinking agent (also referred to as a water-resistant agent), aldehydes such as glyoxal, melamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, N-methylol urea and N-methylol melamine,
Methylol compounds such as methylolated polyamide resins,
Active vinyl compounds such as divinyl sulfone and bis (β-hydroxyethyl sulfonic acid), epoxy compounds such as epichlorohydrin and polyethylene glycol glycidyl ether, adducts of polyamide / polyamine / epichlorohydrin, polyamide epichlorohydrin resin, and monochloroacetic acid Ester compounds such as esters and thioglycolic acid esters, polycarboxylic acids such as polyacrylic acid and methyl vinyl ether / maleic acid copolymer, boric acid, titanyl sulfate, Cu, A1, Sn, V,
An inorganic crosslinking agent such as a Cr salt, a modified polyamide-polyimide resin, and the like can be given. In addition, ammonium chloride,
A crosslinking catalyst such as a silane coupling agent and a titanate coupling agent can be used in combination.

【0125】さらに、無機高分子としては、ゾルゲル変
換によって形成される無機マトリックスが好ましい。本
発明に好ましく適用できるゾルゲル変換が可能な系は、
多価元素に結合した結合基が酸素原子を介して網目状構
造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基やアルコ
キシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造となっ
ている高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い
段階ではゾル状態であり、工ーテル結合化が進行するの
に伴って網目状の樹脂構造が強固となる。また、樹脂組
織の親水性度が変化する性質に加えて、水酸基の一部が
固体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面を
修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持ってい
る。ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する
化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン
及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明
に用いることができる。画像記録層との接着性の観点か
ら、これら樹脂のうち、とくに親水性樹脂が好ましい。
Further, as the inorganic polymer, an inorganic matrix formed by sol-gel conversion is preferable. A system capable of sol-gel conversion that can be preferably applied to the present invention includes:
The bonding group bonded to the polyvalent element forms a network structure via the oxygen atom, and at the same time, the polyvalent metal has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group, and has a resin-like structure in which these are mixed. It is a molecular body and is in a sol state at a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and the network-like resin structure becomes strong as the ester bonding proceeds. Further, in addition to the property of changing the degree of hydrophilicity of the resin structure, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of hydroxyl groups to the solid fine particles, thereby changing the degree of hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like, and any of them can be used in the present invention. From the viewpoint of the adhesiveness to the image recording layer, a hydrophilic resin is particularly preferable among these resins.

【0126】断熱層に含有させる光熱変換性の物質とし
ては、前記した画像形成層に含有する光熱変換剤と同様
の物質を用いることができる。
As the light-to-heat converting substance contained in the heat insulating layer, the same substance as the light-to-heat converting agent contained in the above-mentioned image forming layer can be used.

【0127】断熱層中に含まれる光熱変換剤の含有量
は、固形の構成成分の2〜95質量%である。2質量%
以下では発熱量が不足して感度が低下し、95質量%以
上では膜強度が低下する。
The content of the photothermal conversion agent contained in the heat insulating layer is from 2 to 95% by mass of the solid components. 2% by mass
Below, the calorific value is insufficient and the sensitivity is reduced, and above 95% by mass, the film strength is reduced.

【0128】断熱層中には、上記した樹脂及び光熱変換
剤のほかに、断熱層の物理的強度の向上、層を構成する
組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、親水性層と
の接着性向上などの理由で、種々の目的の化合物を添加
することができる。これらの添加物には、例として以下
のものが挙げられる。
In the heat-insulating layer, in addition to the above-mentioned resin and light-to-heat converting agent, the physical strength of the heat-insulating layer, the dispersibility of the components constituting the layer, the applicability, and the hydrophilicity of the hydrophilic layer are improved. Various objective compounds can be added for reasons such as an improvement in the adhesiveness with the compound. These additives include, by way of example, the following:

【0129】<無機微粒子>断熱層に添加する無機微粒
子としては、前述した画像記録層に添加するものと同様
の無機微粒子を添加することができて、同様の効果を挙
げることができる。無機微粒子を断熱層中に添加する場
合の含有量も画像記録層に添加する場合と同じ添加量の
範囲である。
<Inorganic Fine Particles> As the inorganic fine particles to be added to the heat insulating layer, the same inorganic fine particles as those added to the above-described image recording layer can be added, and the same effects can be obtained. The content when the inorganic fine particles are added to the heat insulating layer is also in the same range as when it is added to the image recording layer.

【0130】<界面活性剤>画像記録層に添加すること
ができるものとして記載したものが、断熱層にも使用す
ることができる。その添加量も画像記録層に関して記載
した範囲と同じである。
<Surfactant> Those described as those which can be added to the image recording layer can also be used for the heat insulating layer. The addition amount is also the same as the range described for the image recording layer.

【0131】〔水可溶性の保護層〕水可溶性の保護層
は、本発明の平版印刷原板の表面が親水性であるので、
原板が製品形態で輸送されたり、保管されたりする際、
あるいは使用前の取り扱いの際、環境の雰囲気の影響に
よって疎水性化したり、温湿度の影響を受けたり、ある
いは機械的な傷など又は汚れなどの影響を受けやすいこ
とに鑑みて、これを防止するために、親水性の平版印刷
用原板の表面保護層として機能する。
[Water-soluble protective layer] The water-soluble protective layer is provided because the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention is hydrophilic.
When originals are transported or stored in product form,
Or, in handling before use, prevent hydrophobicity due to the influence of the environmental atmosphere, temperature and humidity, or mechanical scratches or dirt, etc. Therefore, it functions as a surface protective layer of a hydrophilic lithographic printing plate.

【0132】図2は、本発明の平版印刷用原板の水可溶
性層を有する一態様の原板断面構成とその原板を用いる
製版過程を示す模式図である。図2において各構成部材
を示す各番号は、図1に用いた番号と同じ内容を表す。
図2の左側の工程図1は印刷用原板の構成を示してお
り、親水性樹脂層(画像記録層)4の上に保護層16が
設けられているが、像様の光照射を受けたのちの原板の
状態を示す中央の工程図11では、画像記録層の光照射
領域では、金属微粒子5と微粒子ポリマー6が熱融着し
た疎水性領域15が生じるが、保護層16には変化がな
いことが示されている。印刷の段階を示す右側の工程図
21では、湿し水によって保護層が失われている状態を
示している。水可溶性の保護層は、印刷の初期の段階で
湿し水に溶解して洗い去られるので、特に除去の手間を
かける必要はなく、印刷の支障にはならない。以下水溶
性層の保護層に含有される成分について説明する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a cross-sectional configuration of an original plate having a water-soluble layer of the lithographic printing original plate of the present invention and a plate making process using the original plate. In FIG. 2, the numbers indicating the respective constituent members represent the same contents as the numbers used in FIG.
FIG. 1 on the left side of FIG. 2 shows the configuration of the printing original plate, in which a protective layer 16 is provided on a hydrophilic resin layer (image recording layer) 4, but it has been subjected to imagewise light irradiation. In the central process diagram 11 showing the state of the original plate later, in the light irradiation region of the image recording layer, a hydrophobic region 15 in which the metal fine particles 5 and the fine particle polymer 6 are heat-fused occurs, but the protective layer 16 is not changed. Not shown. FIG. 21 on the right side showing the printing stage shows a state in which the protective layer has been lost by the dampening solution. The water-soluble protective layer is dissolved in dampening water at the initial stage of printing and is washed away. Therefore, it is not necessary to take extra trouble to remove the protective layer, and it does not hinder printing. Hereinafter, components contained in the protective layer of the water-soluble layer will be described.

【0133】<水溶性高分子>水可溶性層に含有される
水溶性高分子は、水可溶性層の結着樹脂として機能す
る。水溶性高分子としては、例えば水酸基、カルボキシ
ル基、塩基性窒素含有基等の基を十分に有する高分子が
挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール(PV
A)、カルボキシ変性PVA等の変性PVA、アラビア
ガム、ポリアクリルアミド及びその共重合体、アクリル
酸共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共
重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレ
ン/無水マレイン酸共重合体、焙焼デキストリン、酸素
分解デキストリン、酵素分解エーテル化デキストリン、
澱粉及びその誘導体、カルボキシメチルセルローズ、カ
ルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ、ヒドロ
キシエチルセルローズのようなセルロース誘導体、カゼ
イン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、
アルギン酸及びそのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属
塩又はアンモニウム塩、ポリアクリル酸、ポリ(エチレ
ンオキサイド)、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエス
テル樹脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、N−ビ
ニルカルボン酸アミドポリマー等が挙げられる。なかで
も、ポリビニルアルコール(PVA)、カルボキシ変性
PVA等の変性PVA、アラビアガム、ポリアクリルア
ミド、ポリアクリル酸、アクリル酸共重合体、ポリビニ
ルピロリドン、アルギン酸及びそのアルカリ金属塩の使
用が好ましい。
<Water-soluble polymer> The water-soluble polymer contained in the water-soluble layer functions as a binder resin for the water-soluble layer. Examples of the water-soluble polymer include a polymer having sufficient groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and a basic nitrogen-containing group. Specifically, polyvinyl alcohol (PV
A), modified PVA such as carboxy-modified PVA, gum arabic, polyacrylamide and copolymers thereof, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / Maleic anhydride copolymer, roasted dextrin, oxygen-decomposed dextrin, enzyme-decomposed etherified dextrin,
Starch and its derivatives, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-
Crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer,
Alginic acid and its alkali metal salts, alkaline earth metal salts or ammonium salts, polyacrylic acid, poly (ethylene oxide), water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, N-vinyl Carboxamide polymers and the like. Among them, it is preferable to use modified PVA such as polyvinyl alcohol (PVA) and carboxy-modified PVA, gum arabic, polyacrylamide, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, polyvinylpyrrolidone, alginic acid and alkali metal salts thereof.

【0134】塗布液中の上記水溶性樹脂の含有量は、3
〜25質量%が適当であり、好ましい範囲は10〜25
質量%である。なお、本発明においては上記水溶性樹脂
を2種以上混合使用してもよい。
The content of the water-soluble resin in the coating solution is 3
To 25% by mass is suitable, and a preferable range is 10 to 25% by mass.
% By mass. In the present invention, two or more of the above water-soluble resins may be used in combination.

【0135】<水可溶性層の保護層が含有する他の成分
>塗布液中には、そのほかに種々の界面活性剤を添加し
てもよい。使用できる界面活性剤としてはアニオン界面
活性剤又はノニオン界面活性剤が挙げられる。アニオン
界面活性剤としては脂肪族アルコール硫酸エステル塩
類、脂酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レプリン酸、有機スル
ホン酸などがあり、鉱酸としては硝酸、硫酸、燐酸等が
有用である。鉱酸、有機酸又は無機塩等の少なくとも1
種もしくは2種以上併用してもよい。用いられる界面活
性剤としては、前記した画像記録層に用いられる界面活
性剤と同様なものを用いることができる。界面活性剤は
水可溶性層の全固形分当たり、好ましくは0.01〜1
質量%であり、更に好ましくは0.05〜0.5質量%
である。
<Other Components Contained in Protective Layer of Water-Soluble Layer> Various surfactants may be added to the coating solution. Surfactants that can be used include anionic or nonionic surfactants. Examples of the anionic surfactant include aliphatic alcohol sulfates, tartaric acid, malic acid, lactic acid, repric acid, and organic sulfonic acid, and nitric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid are useful as mineral acids. At least one of a mineral acid, an organic acid or an inorganic salt;
Species or two or more species may be used in combination. As the surfactant used, those similar to the surfactant used in the above-mentioned image recording layer can be used. The surfactant is preferably used in an amount of 0.01 to 1 per total solid content of the water-soluble layer.
% By mass, and more preferably 0.05 to 0.5% by mass.
It is.

【0136】上記成分の他必要により湿潤剤としてグリ
セリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール
等の低級多価アルコールも使用することができる。これ
ら湿潤剤の使用量は表面保護層中に0.1〜5.0質量
%となる量が適当であり、好ましい範囲は0.5〜3.
0質量%となる量である。以上の他に本発明の平版印刷
用原板の表面保護層の塗布液には、防腐剤などを添加す
ることができる。例えば安息香酸及びその誘導体、フェ
ノール、ホルマリン、デヒドロ酢酸ナトリウム等を0.
005〜2.0質量%の範囲で添加できる。塗布液には
消泡剤を添加することもできる。好ましい消泡剤には有
機シリコーン化合物が含まれ、その添加量は0.000
1〜0.1質量%の範囲が好ましい。
In addition to the above components, if necessary, lower polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol can be used as wetting agents. The amount of the wetting agent used is suitably from 0.1 to 5.0% by mass in the surface protective layer, and the preferred range is from 0.5 to 3.0%.
The amount is 0% by mass. In addition to the above, a preservative or the like can be added to the coating solution for the surface protective layer of the lithographic printing plate of the present invention. For example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin, sodium dehydroacetate and the like can be used in 0.1%.
It can be added in the range of 005 to 2.0% by mass. An antifoaming agent can be added to the coating solution. Preferred antifoaming agents include organosilicone compounds, the amount of which is 0.000.
The range of 1 to 0.1% by mass is preferred.

【0137】また、水溶性の保護層には、光熱変換剤を
添加してもよい。この場合、画像記録層の微粒子ポリマ
ーの光照射による熱融着の感度がさらに高まるので、好
ましい結果が得られる。光熱変換剤としては、画像記録
層に添加してもよい光熱変換剤として前記したものを前
記した添加量の範囲で使用することができる。
Further, a light-to-heat conversion agent may be added to the water-soluble protective layer. In this case, the sensitivity of heat fusion of the fine particle polymer of the image recording layer by light irradiation is further increased, and thus a preferable result is obtained. As the light-to-heat converting agent, those described above as the light-to-heat converting agent that may be added to the image recording layer can be used in the above-mentioned range of the amount to be added.

【0138】〔塗布〕上記した画像記録層、断熱層、保
護層は、それぞれ各構成成分を混合し、調整された塗布
液を支持体上に、従来公知の塗布方法のいずれかを用い
て、塗布・乾燥し、塗布層を形成する。塗布する方法と
しては、公知の種々の方法を用いることができるが、例
えば、バーコター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
[Coating] The above-mentioned image recording layer, heat insulating layer and protective layer are prepared by mixing the respective constituent components and applying a prepared coating solution to a support by using any of the conventionally known coating methods. Coating and drying to form a coating layer. As a method of coating, various known methods can be used, and examples thereof include bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. .

【0139】本発明の平版印刷版用原板の画像記録層中
には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、前
述した各種界面活性剤を添加することができる。塗布助
剤としての好ましい添加量は、画像記録層全固形物分に
対し、0.01〜1質量%であり、更に好ましくは0.
05〜0.5質量%である。塗布、乾燥後に得られる画
像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、
一般的な平版印刷版用原板についていえば、0.1〜3
0g/m2が好ましく、0.3〜10g/m2がより好ま
しい。
In the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, the various surfactants described above can be added. A preferable addition amount as a coating aid is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.1 to 1% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
05 to 0.5% by mass. The coating amount (solid content) of the image recording layer obtained after coating and drying varies depending on the application,
Speaking of general lithographic printing plate precursors, 0.1 to 3
Preferably 0g / m 2, 0.3~10g / m 2 is more preferable.

【0140】断熱層塗布量(固形分)も、構成によって
異なるが、一般的な平版印刷版用原板についていえば、
0.1〜10g/m2が好ましく、0.3〜5g/m2
より好ましい。保護層塗布量(固形分)も、構成によっ
て異なるが、一般的な平版印刷版用原板についていえ
ば、0.1〜5g/m2が好ましく、0.2〜3g/m2
がより好ましい。塗布は、通常、断熱層、画像記録層、
保護層の順序で行われる。
The coating amount (solid content) of the heat-insulating layer also varies depending on the constitution, but in the case of a general lithographic printing plate precursor,
0.1-10 g / m < 2 > is preferable, and 0.3-5 g / m < 2 > is more preferable. Protective layer coating amount (solid content) also varies depending on the configuration, As for the original plate for general lithographic printing plate is preferably 0.1~5g / m 2, 0.2~3g / m 2
Is more preferred. The coating is usually performed on a heat insulating layer, an image recording layer,
It is performed in the order of the protective layer.

【0141】〔有機硫黄化合物処理〕上記塗布工程で画
像記録層が形成された平版印刷版用原板の画像記録層
を、カルボキシル基、水酸基、硫酸基、スルホン酸基、
スルフィン基、リン酸基、硝酸基、ハライド基等の親水
性基と下記の各一般式のR1の説明に示すハロゲン化銀
へ吸着する金属吸着基とを合わせ持つ有機硫黄化合物で
処理すると、この硫黄化合物が画像記録層に含有されて
いる光熱変換性物質が金属微粒子の場合、その表面に吸
着されて画像記録層の親水性が向上する。像様光の照射
領域の金属微粒子は、熱融着層を形成するので有機硫黄
化合物の効果は失われ、有機硫黄化合物による処理を行
わなかったときと同様に疎水性である。その結果、非照
射領域の親水性と照射領域の疎水性の差がより大きくな
り識別性が一層高くなる好ましい硫黄化合物は、次の一
般式(A)〜一般式(D)で示される。
[Organic sulfur compound treatment] The image recording layer of the lithographic printing plate precursor on which the image recording layer was formed in the above coating step was treated with a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfuric acid group, a sulfonic acid group,
When treated with an organic sulfur compound having both a hydrophilic group such as a sulfine group, a phosphate group, a nitrate group, and a halide group and a metal-adsorbing group that adsorbs to silver halide shown in the description of R 1 in each of the following general formulas, When the photothermal conversion substance containing the sulfur compound in the image recording layer is a metal fine particle, it is adsorbed on the surface thereof, and the hydrophilicity of the image recording layer is improved. Since the metal fine particles in the image-irradiated area form a heat-sealing layer, the effect of the organic sulfur compound is lost, and the metal fine particles are hydrophobic as in the case where the treatment with the organic sulfur compound is not performed. As a result, preferred sulfur compounds having a larger difference between the hydrophilicity of the non-irradiated area and the hydrophobicity of the irradiated area and higher discrimination are represented by the following general formulas (A) to (D).

【0142】RSM 一般式(A) RSR 一般式(B) RSSR 一般式(C)RSM General Formula (A) RSR General Formula (B) RSSR General Formula (C)

【0143】[0143]

【化5】 Embedded image

【0144】上記一般式(A)、一般式(B)及び一般
式(C)において、Mは、水素原子、アルカリ金属原
子、アルカリ土類金属原子、アンモニウム基を表し、R
はXnR1を示す。ここにXは、OH、CO2M、N
2、SO3M、SO4M、SO2M及びアミノ基から選択
される水溶性基であり、Mは前記と同義である。nは、
1〜4の整数である。R1はXで表される水溶性基で置
換された、炭素数が1〜12、好ましくは1〜8の、ア
ルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、
アルキルアミノ基及びヘテロ環基を表す。
In the above general formulas (A), (B) and (C), M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or an ammonium group.
Represents XnR 1 . Where X is OH, CO 2 M, N
A water-soluble group selected from H 2 , SO 3 M, SO 4 M, SO 2 M, and an amino group, wherein M is as defined above. n is
It is an integer of 1 to 4. R 1 is an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, having 1 to 12, preferably 1 to 8 carbon atoms, which is substituted by a water-soluble group represented by X;
Represents an alkylamino group and a heterocyclic group.

【0145】R1がヘテロ環基の場合、好ましいヘテロ
環基はイミダゾール基、オキサゾール基、チアゾール
基、ピラゾール基、イソチアゾール基、インダゾール
基、トリアゾール基、テトラゾール基、チアジアゾール
基、イミダゾリン基、オキサゾリン基、チアゾリン基、
ピラゾリン基、イソチアゾリン基、インダゾリン基、チ
アゾリジン基などのアゾール基、ピラジル基、ピペラジ
ル基、ピペリジル基、ピリダジン基、ピロロ基、ピリジ
ル基、モルホリノ基、チアジノ基などを挙げることがで
きる。また、R1基は、R’基を置換基として有しても
よく、R’基はR1基と同義である。また、2つのR1
が結合して環を形成してもよい。同一分子内に複数のR
1基やR’基が含まれる場合、R1基同士、R’基同士あ
るいはR1基とR’基とは、同じでも異なってもよい。
上記一般式(B)及び(C)における同一分子内の2つ
のRは、上記のRの定義に従うかぎり、互いに同じであ
っても異なってもよい。
When R 1 is a heterocyclic group, preferred heterocyclic groups are imidazole, oxazole, thiazole, pyrazole, isothiazole, indazole, triazole, tetrazole, thiadiazole, imidazoline and oxazoline groups. , Thiazoline group,
Examples thereof include azole groups such as a pyrazoline group, an isothiazoline group, an indazoline group, and a thiazolidine group, a pyrazyl group, a piperazyl group, a piperidyl group, a pyridazine group, a pyrrolo group, a pyridyl group, a morpholino group, and a thiazino group. The R 1 group may have an R ′ group as a substituent, and the R ′ group has the same meaning as the R 1 group. Also, two R 1 groups may combine to form a ring. Multiple Rs in the same molecule
When one or R ′ groups are included, the R 1 groups, the R ′ groups, or the R 1 and R ′ groups may be the same or different.
Two Rs in the same molecule in the general formulas (B) and (C) may be the same or different from each other as long as the definition of the above R is followed.

【0146】一般式(D)において、R2及びR3基は、
チオカルボニル基と結合しており、それぞれRと同義で
ある。また、各一般式において、分子中に2個以上のR
基、R2基及びR3基を有する場合、それらは同じでも異
なってもよい。以下に上記一般式(A)〜(D)の化合
物の具体例を示す。
In the general formula (D), R 2 and R 3 groups are
It is bonded to a thiocarbonyl group and has the same meaning as R. In each of the general formulas, two or more R
If they have groups R 2 and R 3 , they can be the same or different. Specific examples of the compounds represented by the general formulas (A) to (D) are shown below.

【0147】[0147]

【化6】 Embedded image

【0148】[0148]

【化7】 Embedded image

【0149】[0149]

【化8】 Embedded image

【0150】上記有機硫黄化合物による処理は、該有機
硫黄化合物を含む溶液に印刷用原板を浸漬して行われ
る。有機硫黄化合物を含む溶液の有機硫黄化合物の濃度
は、その化合物の溶解度以下の任意の濃度を選ぶことが
できるが、通常10-5〜101mo1/L、好ましくは
10-4〜100mo1/L、より好ましくは10-3〜1
-1mol/Lの水溶液を用いて30秒〜10分程度、
好ましくは30秒から3分程度の浸漬処理を行う。その
際、温度は室温でよいが、温水としてもよく、また溶液
に適当な撹拌を加えることが好ましい。また有機硫黄化
合物の溶液の溶媒には通常水が用いられるが、メタノー
ル、エタノール、アセトンなど水と混和性の有機溶剤が
混合された水性溶媒でもよい。
The treatment with the organic sulfur compound is carried out by immersing the printing plate in a solution containing the organic sulfur compound. The concentration of the organic sulfur compounds of a solution containing an organic sulfur compound may be selected any concentration less than the solubility of the compound, usually 10 -5 ~10 1 mo1 / L, preferably 10 -4 to 10 0 MO1 / L, more preferably 10 -3 to 1
Using an aqueous solution of 0 -1 mol / L for about 30 seconds to 10 minutes,
The immersion treatment is preferably performed for about 30 seconds to 3 minutes. At this time, the temperature may be room temperature, but may be warm water, and it is preferable to add appropriate stirring to the solution. Water is usually used as a solvent for the solution of the organic sulfur compound, but an aqueous solvent in which an organic solvent miscible with water such as methanol, ethanol, or acetone may be used.

【0151】〔支持体〕つぎに画像記録層を塗設する支
持体について述べる。支持体には、寸度的に安定な板状
物が用いられる。本発明に用いることができる支持体と
しては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、ステンレス鋼等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の金属がラミネ
ート又は蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等
が含まれる。
[Support] Next, the support on which the image recording layer is provided will be described. A dimensionally stable plate is used for the support. Examples of the support that can be used in the present invention include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel, etc.), plastic Films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited.

【0152】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいSUS
鋼板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板が好ましい。好適なアルミニウム
板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられる支持体の厚みはおよそ0.05mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、
特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
Preferred supports are polyester film, aluminum, or SUS which is not easily corroded on a printing plate.
It is a steel plate, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the support used in the present invention is approximately 0.05 mm to
About 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm,
Particularly preferably, it is 0.15 mm to 0.3 mm.

【0153】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。化学的方法としては、特開昭54−
31187号公報に記載されているような鉱酸のアルミ
ニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。ま
た、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸など
の酸を含む電解液中で交流または直流により行う方法が
ある。また、特開昭54−63902号に開示されてい
るように混合酸を用いた電解粗面化方法も利用すること
ができる。このような粗面化方法のうち、特に特開昭5
5−137993号公報に記載されているような機械的
粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、感
脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記
の如き方法による粗面化は、アルミニウム板の表面の中
心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μmとなるよう
な範囲で施されることが好ましい。粗面化されたアルミ
ニウム板は必要に応じて水酸化カリウムや水酸化ナトリ
ウムなどの水溶液を用いてアルカリエッチング処理がさ
れ、さらに中和処理された後、所望により耐摩耗性を高
めるために陽極酸化処理が施される。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. The chemical method is disclosed in
The method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in Japanese Patent No. 31187 is suitable. As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used. Among such surface roughening methods, in particular,
A surface roughening method which combines mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-5-137933 is preferable because the adhesive force of the oil-sensitive image to the support is strong. The surface roughening by the above method is preferably performed in a range such that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further neutralized, and then, if necessary, anodized to enhance abrasion resistance. Processing is performed.

【0154】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽
極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1
〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜6
0A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の
範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量は、
1.0〜5.0g/m2 、特に1.5〜4.0g/m2
であることが好ましい。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2
より少ないと耐刷性が不十分であったり、傷が付き易く
なる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes forming a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. Can be The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally.
~ 80 wt% solution, liquid temperature 5 ~ 70 ° C, current density 5 ~ 6
0 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of oxide film formed is
1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly 1.5 to 4.0 g / m 2
It is preferred that The amount of anodized film is 1.0 g / m 2
If the amount is smaller, the printing durability becomes insufficient or the surface is easily scratched.

【0155】これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英
国特許第1,412,768号公報に記載されている硫
酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号公報に記載されている燐酸を電解
浴として陽極酸化する方法が好ましい。
Among these anodizing treatments, particularly, a method of anodizing at a high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. The method of anodizing using phosphoric acid as an electrolytic bath described in above is preferable.

【0156】断熱層が疎水性を有する樹脂の場合は、支
持体表面を疎水性化することが望ましい。支持体表面の
疎水性化処理は、たとえばシランカップリング剤や、場
合によってはチタンカップリング剤を含んだ下塗り液を
塗布することによって行われる。シランカップリング剤
はおもに一般式(RO)3 SiR’(R,R’はアルキ
ル基や置換アルキル基)で表され、RO基は加水分解し
てOH基となって支持体表面とエーテル結合で結合し、
R’基がインキを受容する疎水性の表面を提供する。
When the heat insulating layer is a resin having hydrophobicity, it is desirable to make the surface of the support hydrophobic. The surface of the support is hydrophobized by applying an undercoating liquid containing, for example, a silane coupling agent or, in some cases, a titanium coupling agent. The silane coupling agent is mainly represented by the general formula (RO) 3 SiR ′ (R, R ′ is an alkyl group or a substituted alkyl group), and the RO group is hydrolyzed into an OH group to form an OH group and an ether bond with the support surface. Combine
The R 'groups provide a hydrophobic surface for receiving the ink.

【0157】シランカップリング剤としては、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−メタクロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリコキシドキシピロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ−ウレイド
プロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチ
ル)−(β−アミノプロチル)ジメトキシシランなどが
挙げられる。画像記録層との密着性を確保するために
は、プラスチック支持体は塗布の前に公知の方法で帯電
処理が施される。
Examples of the silane coupling agent include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycoxide. There may be mentioned, for example, propyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptotrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl)-(β-aminopropyl) dimethoxysilane. In order to ensure the adhesion to the image recording layer, the plastic support is subjected to a charging treatment by a known method before coating.

【0158】〔製版方法〕次に、この平版印刷版用原板
の製版方法について説明する。この平版印刷版用原板
は、波長760〜1200nmの赤外線を放射する固体
レーザー又は半導体レーザー、キセノン放電灯などの高
照度フラッシュ光や赤外線ランプ露光などの光熱変換型
の露光も用いることができる。
[Plate making method] Next, a plate making method for the lithographic printing plate precursor will be described. The lithographic printing plate precursor may be a solid laser or semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm, a high-intensity flash light such as a xenon discharge lamp, or a photothermal conversion type exposure such as an infrared lamp exposure.

【0159】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方式や、
キセノン放電灯の高照度の短時間光を原板上に照射して
光・熱変換によって熱を発生させる方式である。赤外線
灯などの面露光光源を使用する場合には、その照度によ
っても好ましい露光量は変化するが、通常は、印刷用画
像で変調する前の面露光強度が0.1〜10J/cm2
の範囲であることが好ましく、0.1〜1J/cm2
範囲であることがより好ましい。支持体が透明である場
合は、支持体の裏側から支持体を通して露光することも
できる。その露光時間は、0.01〜1msec、好ま
しくは0.01〜0.1msecの照射で上記の露光強
度が得られるように露光照度を選択するのが好ましい。
照射時間が長い場合には、熱エネルギーの生成速度と生
成した熱エネルギーの拡散速度の競争関係から露光強度
を増加させる必要が生じる。
The writing of an image may be performed by either a surface exposure method or a scanning method. In the former case, an infrared irradiation method,
This is a method of irradiating a short time light of high illuminance of a xenon discharge lamp onto an original plate to generate heat by light-heat conversion. When using a surface exposure light source such as an infrared lamp is preferred exposure amount varies by this illumination, usually, the surface exposure intensity before modulation by printing image is 0.1~10J / cm 2
, And more preferably 0.1 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. The exposure time is preferably selected such that the above-mentioned exposure intensity is obtained by irradiation of 0.01 to 1 msec, preferably 0.01 to 0.1 msec.
When the irradiation time is long, it is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.

【0160】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、YAGレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が0.1〜300Wのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が1000W、好ましくは
2000Wのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2の範囲であることが好ましく、
0.3〜1J/cm2の範囲であることがより好まし
い。支持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持
体を通して露光することもできる。また、画像記録は必
ずしもレーザー光でなくてもよく、例えば高照度のキセ
ノン放電灯、カーボンアークあるいは高圧水銀灯によっ
て行ってもよい。さらに感熱プリンターの熱ヘッドによ
る熱印字を適用して画像記録してもよい。
In the latter case, a method is used in which a laser light source containing a large amount of infrared components is used to modulate the laser beam with an image and scan the original plate. Examples of the laser light source include a semiconductor laser, a helium neon laser, a helium cadmium laser, and a YAG laser. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 in the surface exposure intensity before being modulated with the print image,
More preferably, it is in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. Further, the image recording is not necessarily performed by laser light, and may be performed by, for example, a high-illuminance xenon discharge lamp, a carbon arc, or a high-pressure mercury lamp. Further, image recording may be performed by applying thermal printing using a thermal head of a thermal printer.

【0161】画像露光された印刷原板は、印刷機に装着
して印刷を行うこともできる。また、印刷機に印刷原板
を装着しておいて、レーザーによる画像状の走査露光を
行って機上で平版印刷版を形成させることもできる。即
ち、本発明の平版印刷版用原板を使用する製版方法で
は、特に現像処理を経ることなく平版印刷版を製版し得
る。
The printing original plate that has been subjected to image exposure can be mounted on a printing machine to perform printing. Alternatively, it is also possible to form a lithographic printing plate on a printing press by mounting an original printing plate on the printing press and performing image-wise scanning exposure using a laser. That is, in the plate making method using the lithographic printing plate precursor of the present invention, a lithographic printing plate can be made without any particular development processing.

【0162】[0162]

【実施例】以下実施例に基づき、本発明を具体的に説明
するが、本発明が実施例により限定されて解釈されるこ
とはない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not construed as being limited by the examples.

【0163】合成例1〜7Synthesis Examples 1 to 7

【0164】<微粒子ポリマーAの作製>スチレン10
0g、水200g、界面活性剤XL−102F(ライオ
ン(株)製)(4.7%水溶液)10gを三ツロフラス
コに入れ、窒素を注入しながら、80℃に昇温した。そ
の後約30分撹拌後、K228を1g添加し、80℃
で6時間乳化重合を行い、粒径約0.1μmで分散係数
が15%のポリスチレン微粒子Aを作成した。
<Preparation of Fine Particle Polymer A> Styrene 10
0 g, 200 g of water and 10 g of a surfactant XL-102F (manufactured by Lion Corporation) (4.7% aqueous solution) were placed in a three-necked flask, and the temperature was raised to 80 ° C. while injecting nitrogen. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added, and 80 ° C.
For 6 hours to prepare polystyrene fine particles A having a particle diameter of about 0.1 μm and a dispersion coefficient of 15%.

【0165】<微粒子ポリマーBの作製>スチレン60
g、中ケン化ポバール(クラレ(株)製)5%水溶液1
0g、水200gを三ツロフラスコに入れ、窒素を注入
しながら、80℃に昇温した。その後、AIBNを0.
3g添加し、80℃で6時間懸濁重合を行い、粒径約
1.2μmで分散係数が15%のポリスチレン微粒子B
を作成した。
<Preparation of Fine Particle Polymer B> Styrene 60
g, Saponified Poval (Kuraray Co., Ltd.) 5% aqueous solution 1
0 g and 200 g of water were placed in a three-neck flask and heated to 80 ° C. while injecting nitrogen. Thereafter, AIBN is set to 0.
3 g, suspension polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours, and polystyrene fine particles B having a particle diameter of about 1.2 μm and a dispersion coefficient of 15% were added.
It was created.

【0166】<微粒子ポリマーCの作製>スチレン70
g、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート30
g、水200g、界面活性剤XL−102F(ライオン
(株)製)(4.7%水溶液)10gを三ツロフラスコ
に入れ、窒素を注入しながら、80℃に昇温した。その
後約30分撹拌後、K228を1g添加し、80℃で
6時間乳化重合を行い、粒径約0.1μmの樹脂粒子を
得た。この樹脂粒子分散液中にスノーテックスC(日産
化学(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面にシリカゾ
ル微粒子をヘテロ凝集させた、コアが樹脂でシェルがシ
リカ層の粒径0.15μmで分散係数が12%のヘテロ
凝集親水性表面層の複合粒子を作成した。
<Preparation of Fine Particle Polymer C> Styrene 70
g, trimethoxysilylpropyl methacrylate 30
g, 200 g of water, and 10 g of a surfactant XL-102F (manufactured by Lion Corporation) (4.7% aqueous solution) were placed in a three-necked flask, and heated to 80 ° C. while injecting nitrogen. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added, and emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having a particle size of about 0.1 μm. 30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to this resin particle dispersion, and silica sol fine particles were heteroaggregated on the surface of the resin particles. The core was a resin, and the shell was dispersed with a silica layer particle size of 0.15 μm. A composite particle having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer having a coefficient of 12% was prepared.

【0167】<微粒子ポリマーDの作製>酢酸エチル1
9.0部(以下すべて質量部)、イソプロピルビフェニ
ルを5.9部、グリセロールラウレート5部およびリン
酸トリクレジル2.5部を加熱して均一に混合した。カ
プセル壁材(同時の微粒子ポリマーでもある)として、
キシリレンジイソシアナート/トリメチロールプロパン
付加物(75%酢酸エチル溶液 タケネートD110
N:武田薬品社の商品名)7.6部をこの溶液に更に添
加し、均一に攪拌した。別途、10質量%ドデシルスル
ホン酸ナトリウム水溶液2.0部を加えた6質量%ゼラ
チン(MGP−9066:ニッピゼラチン工業社の商品
名)水溶液64部を用意し、ホモジナイザーにて乳化分
散した。
<Preparation of fine particle polymer D> Ethyl acetate 1
9.0 parts (hereinafter, all parts by mass), 5.9 parts of isopropyl biphenyl, 5 parts of glycerol laurate, and 2.5 parts of tricresyl phosphate were mixed by heating. As a capsule wall material (also a fine particle polymer at the same time),
Xylylenediisocyanate / trimethylolpropane adduct (75% ethyl acetate solution Takenate D110)
7.6 parts of N (trade name of Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) was further added to this solution and stirred uniformly. Separately, 64 parts of a 6% by mass gelatin (MGP-9066: trade name of Nippi Gelatin Industries) aqueous solution to which 2.0 parts of a 10% by mass aqueous sodium dodecyl sulfonate solution was added was prepared, and emulsified and dispersed by a homogenizer.

【0168】得られた乳化液に水20部を加え均一化し
た後、攪拌しながら40℃に昇温し、3時間カプセル化
反応を行わせた。この後35℃に液温を下げ、イオン交
換樹脂アンバーライトIRA68(オルガノ社製)6.
5部、アンバーライトIRC50(オルガノ社製)13
部を加え更に一時間攪拌する。この後イオン交換樹脂を
ろ過して目的のカプセル分散液を得た。カプセルの平均
粒径は0.64μmで分散係数が10%であった。
After 20 parts of water was added to the obtained emulsion to homogenize it, the temperature was raised to 40 ° C. with stirring, and an encapsulation reaction was carried out for 3 hours. Thereafter, the temperature of the solution was lowered to 35 ° C., and the ion-exchange resin Amberlite IRA68 (manufactured by Organo) was used.
5 parts, Amberlite IRC50 (Organo) 13
And stirred for an additional hour. Thereafter, the ion exchange resin was filtered to obtain a desired capsule dispersion liquid. The average particle size of the capsule was 0.64 μm, and the dispersion coefficient was 10%.

【0169】<微粒子ポリマーEの作製>グリシジルメ
タクリレート2.0g、メチルメタクリレート13.0
g、ポリオキシエチレンフェノール水溶液(濃度9.8
×10-3mol/リットル)200mlを加え、250
rpmでかき混ぜながら、系内を窒素ガスで置換する。
この液を25℃にした後、セリウム(IV)アンモニウム
塩水溶液(濃度0.984×10-3mol/リットル)
10ml添加する。この際硝酸アンモニウム水溶液(濃
度58.8×10-3mol/リットル)を加え、pH
1.3〜1.4に調整する。その後8時間これを攪拌し
た。このようにして得られた液の固形分濃度は9.5%
であり、平均粒径は0.4μmであった。さらに、この
樹脂粒子分散液中にスノーテックスC(日産化学(株)
製)30g添加し、樹脂粒子表面にシリカゾル微粒子を
ヘテロ凝集させた、コアが樹脂でシェルがシリカ層の粒
径0.5μmで分散係数が10%のヘテロ凝集親水性表
面層をもつ粒子を作成した。
<Preparation of Fine Particle Polymer E> Glycidyl methacrylate 2.0 g, methyl methacrylate 13.0
g, polyoxyethylene phenol aqueous solution (concentration 9.8)
(× 10 −3 mol / l) 200 ml and add 250 ml
While stirring at rpm, the inside of the system is replaced with nitrogen gas.
After the temperature of the solution was raised to 25 ° C., an aqueous cerium (IV) ammonium salt solution (concentration: 0.984 × 10 −3 mol / l) was used.
Add 10 ml. At this time, an aqueous ammonium nitrate solution (concentration: 58.8 × 10 −3 mol / l) was added, and the pH was adjusted.
Adjust to 1.3-1.4. It was then stirred for 8 hours. The liquid thus obtained has a solid content of 9.5%.
And the average particle size was 0.4 μm. In addition, Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd.)
30g was added, and silica sol fine particles were hetero-aggregated on the surface of the resin particles to prepare particles having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer having a core of resin, a silica layer of 0.5 μm in diameter of a silica layer and a dispersion coefficient of 10%. did.

【0170】<微粒子ポリマーFの作製>アリルメタク
リレート7.5g、スチレン7.5gを同様にして重合
させた。このようにして得られた液の固形分濃度は9.
5%であり、平均粒径は0.4μmであった。さらに、
この樹脂粒子分散液中にスノーテックスC(日産化学
(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面にシリカゾル微
粒子をヘテロ凝集させ、コアが樹脂でシェルがシリカ層
の粒径0.45μmで分散係数が10%のヘテロ凝集親
水性表面層をもつ粒子を作成した。
<Production of Fine Particle Polymer F> 7.5 g of allyl methacrylate and 7.5 g of styrene were polymerized in the same manner. The solid content of the liquid thus obtained was 9.
5%, and the average particle size was 0.4 μm. further,
30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion, and silica sol fine particles were heteroaggregated on the surface of the resin particles. The core was a resin, the shell was a silica layer having a particle diameter of 0.45 μm, and the dispersion coefficient was Prepared particles having a 10% hetero-aggregated hydrophilic surface layer.

【0171】<微粒子ポリマーGの作製>油相成分とし
て、キシレンジイソシアネート40g、トリメチロール
プロパンジアクリレート10g、アリルメタクリレート
とブチルメタクリレートの共重合体(モル比7/3)1
0g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.1gを酢
酸エチル60gに溶解した。水相成分として、PVA2
05(クラレ製)の4%水溶液を120g作製した。油
相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて100
00rpmで乳化した。その後、水を40g添加し、室温
で30分、さらに40℃で3時間攪拌した。このように
して得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は20%
であり、平均粒径は0.5μmであった。さらに、この
樹脂粒子分散液中にスノーテックスC(日産化学(株)
製)30g添加し、樹脂粒子表面にシリカゾル微粒子を
ヘテロ凝集させ、コアが樹脂でシェルがシリカ層の粒径
0.6μmでで分散係数が12%のヘテロ凝集親水性表
面層をもつ粒子を作成した。
<Preparation of Fine Particle Polymer G> As an oil phase component, 40 g of xylene diisocyanate, 10 g of trimethylolpropane diacrylate, a copolymer of allyl methacrylate and butyl methacrylate (molar ratio 7/3) 1
0 g and 0.1 g of Pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. PVA2 as an aqueous phase component
120 g of a 4% aqueous solution 05 (produced by Kuraray) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were separated using a homogenizer for 100 hours.
Emulsified at 00 rpm. Thereafter, 40 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microcapsule solution thus obtained is 20%
And the average particle size was 0.5 μm. In addition, Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd.)
Of silica sol on the surface of the resin particles to form particles having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer having a core of resin, a shell of 0.6 μm in diameter of a silica layer, and a dispersion coefficient of 12%. did.

【0172】実施例1 <アルミニウム支持体の作製>99.5質量%アルミニ
ウムに、銅を0.01質量%、チタンを0.03質量
%、鉄を0.3質量%、ケイ素を0.1質量%含有する
JISA105のアルミニウム材の厚み0.24mm圧
延板を、400メッシュのバミストン(共立窯業製)の
20質量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,1
0−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。次に、10質量%水酸化ナトリウム
水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、
流水で水洗した。更に、20質量%硝酸水溶液で中和
し、水洗浄した。得られたアルミニウム板を1.0質量
%硝酸水溶液(硝酸アルミニウム0.5質量%含有)中
で、陽極時電圧12.7ボルト、陽極時電気量に対する
陰極時電気量の比が0.9、陽極時電気量160クロー
ン/dm2の条件の矩形波交番波形の電流を用いて電解
粗面化処理を行った。得られた基板の表面粗さは、0.
6μm(Ra表示)であった。この処理に続いて、40
℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に30秒間浸漬
して、エッチングした後、水洗した。次に、55℃、3
0質量%の硫酸水溶液中に1分間浸漬した。さらに、3
5℃の硫酸20質量%水溶液(アルミニウム0.8質量
%含有)中で直流電流を用いて、陽極酸化皮膜質量が
2.5g/dm2となるように陽極酸化処理を行った。
これを水洗、乾燥して支持体を作製した。
Example 1 <Preparation of Aluminum Support> 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon were added to 99.5% by weight of aluminum. A 0.24 mm-thick rolled sheet of JIS 105 aluminum material containing 20% by mass of a 20% by mass aqueous suspension of 400 mesh bamiston (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush (6.1)
0-nylon) and the surface is grained,
Washed well with water. Next, after immersing in a 10% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching,
It was washed with running water. Further, it was neutralized with a 20% by mass aqueous solution of nitric acid and washed with water. The obtained aluminum plate was placed in a 1.0% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass of aluminum nitrate) in an anode voltage of 12.7 volts, and the ratio of the amount of electricity at the cathode to the amount of electricity at the anode was 0.9. The electrolytic surface roughening treatment was performed using a current having a rectangular wave alternating waveform under the condition of an anode charge of 160 clones / dm 2 . The surface roughness of the obtained substrate was 0.1.
It was 6 μm (Ra indication). Following this processing, 40
It was immersed in a 1% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C. for 30 seconds, etched, and washed with water. Next, at 55 ° C, 3
It was immersed in a 0% by mass aqueous sulfuric acid solution for 1 minute. In addition, 3
Anodizing treatment was performed in a 20% by mass aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by mass of aluminum) at 5 ° C. using a direct current so that the mass of the anodic oxide film became 2.5 g / dm 2 .
This was washed with water and dried to prepare a support.

【0173】<断熱層の作製>下記組成の塗布液を調整
し、上記の陽極酸化アルミニウム支持体上に、1.0g
/m2厚の断熱層を作成した。 ブチラール樹脂BM−S(積水化学(株)製)10%MEK溶液 59g カーボンブラック分散物(固形分21%) 13.5g MEK(メチルエチルケトン) 62.7g
<Preparation of Heat Insulating Layer> A coating solution having the following composition was prepared, and 1.0 g of the coating solution was coated on the anodized aluminum support.
/ M 2 thick heat insulating layer was prepared. Butyral resin BM-S (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 10% MEK solution 59 g Carbon black dispersion (solid content 21%) 13.5 g MEK (methyl ethyl ketone) 62.7 g

【0174】<画像記録層の塗設>下記組成からなる水
系塗布液を調製し、前記アルミニウム支持体上にバーコ
ーターにて、乾燥膜質量が3.0g/m2になるように
塗布を行い、次いでオーブンにて100℃10分間乾燥
した。銀コロイド分散物は、いわゆるCareyLea
の銀ゾルであって、Sausanne M.H.,Fr
anz G.,Collin G.B.,J.Coll
oid Interface Science,vo
l.93,545(1983)に記載の方法にて作製し
た平均粒子径20nmのものを用いた。
<Coating of Image Recording Layer> A water-based coating solution having the following composition was prepared, and coated on the aluminum support by a bar coater so that the dry film mass became 3.0 g / m 2. Then, it was dried in an oven at 100 ° C. for 10 minutes. The silver colloidal dispersion is a so-called CareyLea
Silver sol of Sausanne M. H. , Fr
anz G .; , Collin G .; B. , J. et al. Coll
oid Interface Science, vo
l. 93, 545 (1983) having an average particle diameter of 20 nm.

【0175】 (画像記録層塗布液組成) PVA117(クラレ(株)製)5%水溶液 70g コロイダルシリカ分散物20%水溶液 60g 銀コロイド水溶液(6質量%) 86g ゾルゲル調製液 28g 微粒子ポリマーA微粒子(20質量%水分散物) 50g 微粒子ポリマーB微粒子(20質量%水分散物) 50g 水 20g ここに使用したゾルゲル調製液は、下記の組成をもつ。 (ゾルゲル調製液:室温、2時間熟成) テトラエトキシシラン 15.0g エタノール 30.0g 0.1モル/リットル硝酸 4.5g 得られた印刷原板表面の水滴接触角を測定したところ、
拡張濡れを示して非常に親水性の高い表面であった。
(Composition of Image Recording Layer Coating Solution) PVA117 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% aqueous solution 70 g Colloidal silica dispersion 20% aqueous solution 60 g Silver colloid aqueous solution (6% by mass) 86 g Sol gel preparation liquid 28 g Fine polymer A fine particles (20 % By weight aqueous dispersion) 50 g Fine polymer B particles (20% by weight aqueous dispersion) 50 g water 20 g The sol-gel preparation used here has the following composition. (Sol-gel preparation solution: room temperature, aging for 2 hours) Tetraethoxysilane 15.0 g Ethanol 30.0 g 0.1 mol / L nitric acid 4.5 g The contact angle of water droplet on the surface of the obtained printing original plate was measured.
The surface showed extended wetting and was very hydrophilic.

【0176】<画像形成>水冷式40W赤外線半導体レ
ーザを搭載したクレオ社製トレンドセッター3244V
FSにて、出力10.5W、外面ドラム回転数100r
pm、版面エネルギー250mJ/cm2、解像度24
00dpiの条件で露光し、露光部表面に熱融着した画
像領域が形成された。この印刷版の照射領域表面の水滴
接触角は108度を示し、疎水性の高い表面に変化し
た。その後現像処理することなく、製版した。
<Image formation> Trendsetter 3244V manufactured by Creo Corporation equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser
FS, output 10.5W, outer drum rotation speed 100r
pm, plate energy 250 mJ / cm 2 , resolution 24
Exposure was performed under the condition of 00 dpi, and an image area thermally fused to the exposed portion surface was formed. The contact angle of the water droplet on the surface of the irradiation area of this printing plate was 108 degrees, which changed to a highly hydrophobic surface. Thereafter, plate-making was performed without development processing.

【0177】<印刷>印刷機にRYOBI−3200M
CDを用い、湿し水にEU−3(富士写真フイルム
(株)製)の1容量%水溶液を用い、インキはGEOS
(N)墨を用いた。はじめに、湿し水で30回転ロール
アップ(ならし運転)を行い、次いでインクを供給して
印刷を開始し、20,000枚まで印刷汚れがなく、高
品質な印刷物が得られた。
<Printing> RYOBI-3200M
A CD was used, a 1% by volume aqueous solution of EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a dampening solution, and the ink was GEOS.
(N) Ink was used. First, a 30-roll roll-up (run-in operation) was performed with a dampening solution, and then printing was started by supplying ink, and a high-quality printed matter was obtained without stain on 20,000 sheets.

【0178】実施例2〜8,比較例1〜5 <画像記録層の塗設および印刷評価>実施例1記載の微
粒子ポリマーAおよびBを表1記載の組み合わせで使用
した以外は、実施例1と同様に平版印刷版を作製した。
次いで、レーザー露光による像様照射および、印刷評価
を行った。結果は、表1に示した。
Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 <Coating and Printing Evaluation of Image Recording Layer> Example 1 was repeated except that the fine particle polymers A and B described in Example 1 were used in combination as shown in Table 1. A lithographic printing plate was prepared in the same manner as described above.
Next, imagewise irradiation by laser exposure and printing evaluation were performed. The results are shown in Table 1.

【0179】以上のように、粒子サイズの異なる少なく
とも2種類の微粒子ポリマーを含有する3次元架橋した
親水性樹脂層が設けられている平版印刷用原板は、高い
接触角と十分な耐刷性を示した。
As described above, a lithographic printing plate provided with a three-dimensionally crosslinked hydrophilic resin layer containing at least two kinds of fine particle polymers having different particle sizes has a high contact angle and sufficient printing durability. Indicated.

【0180】[0180]

【表1】 [Table 1]

【0181】実施例9 実施例1において光熱変換剤として銀コロイドを用いる
代わりに、下記構造式の色素(1)を添加した以外は、
実施例1と同様に平版印刷版を作製した。次いで、レー
ザー露光による像様照射および、印刷評価を行った。結
果は、実施例1と同様で、20,000枚まで印刷汚れ
がなく、高品質な印刷物が得られた。
Example 9 The procedure of Example 1 was repeated, except that the dye (1) having the following structural formula was added instead of using silver colloid as the photothermal conversion agent.
A lithographic printing plate was produced in the same manner as in Example 1. Next, imagewise irradiation by laser exposure and printing evaluation were performed. The results were the same as in Example 1, and high-quality printed matter was obtained without print stains on 20,000 sheets.

【0182】[0182]

【化9】色素(1) Embedded image Dye (1)

【0183】実施例10 下記組成からなる水系塗布液を調製し、実施例1記載の
印刷版用原版の親水性画像記録層上にバーコーターで
1.0g/m2の乾燥膜厚になるようにオーバーコート
層を塗布し、オーブン中で100℃5分間乾燥した。
Example 10 An aqueous coating solution having the following composition was prepared, and a dry film thickness of 1.0 g / m 2 was applied to the hydrophilic image recording layer of the printing plate precursor described in Example 1 with a bar coater. Was coated with an overcoat layer and dried in an oven at 100 ° C. for 5 minutes.

【0184】 (オーバーコート層塗布液組成) ポリアクリル酸(平均分子量20,000)10%溶液 350g 前記構造式の色素(1)、(1質量%水溶液) 2.5g(Composition of Overcoat Layer Coating Solution) Polyacrylic acid (average molecular weight: 20,000) 10% solution 350 g Dye (1) having the above structural formula, (1% by mass aqueous solution) 2.5 g

【0185】画像記録には、水冷式40W赤外線半導体
レーザを搭載したクレオ社製トレンドセッター3244
VFSを用いたが、その照射条件を、出力8.5W、外
面ドラム回転数100rpm、版面エネルギー200m
J/cm2、解像度2400dpiの条件として露光
し、露光部表面に熱融着した画像領域が形成された。こ
の印刷版は、実施例1と比較して、さらに少ない露光エ
ネルギーで画像形成がなされたが、実施例1と同様に、
20,000枚まで印刷汚れがなく、高品質な印刷物が
得られた。
For image recording, a trend setter 3244 manufactured by Creo Corporation equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser was used.
VFS was used. The irradiation conditions were as follows: output 8.5 W, outer drum rotation speed 100 rpm, plate surface energy 200 m
Exposure was performed under the conditions of J / cm 2 and a resolution of 2400 dpi, and an image area that was thermally fused was formed on the exposed surface. In this printing plate, an image was formed with a smaller exposure energy as compared with Example 1, but as in Example 1,
High-quality printed matter was obtained without printing stains on 20,000 sheets.

【0186】実施例11 実施例1記載の印刷版用原版を使用して、画像記録手段
として下記の感熱転写記録を用いた以外は、実施例1と
同様に印刷版を作製して印刷を行った。感熱転写記録に
は、Ta−SiO発熱抵抗体上にサイアロン耐摩耗保護
層を設けた150×150ミクロンのサーマルヘッドを
250ミクロン間隔に配列した感熱プリンターを使用し
て400msec/mの記録速度で通電記録した。このサーマ
ルヘッドの昇温速度は、20msecで450度Cに到達す
る。印刷物は、実施例1と同様に、20,000枚まで
印刷汚れがなく、高品質な印刷物が得られた。
Example 11 A printing plate was prepared and printed in the same manner as in Example 1 except that the original plate for a printing plate described in Example 1 was used and the following thermal transfer recording was used as an image recording means. Was. For thermal transfer recording, energized at a recording speed of 400 msec / m using a thermal printer in which 150 x 150 micron thermal heads provided with a sialon abrasion protection layer on a Ta-SiO heating resistor were arranged at 250 micron intervals. Recorded. The temperature rise rate of this thermal head reaches 450 ° C. in 20 msec. As in the case of Example 1, the printed matter was free of print stains up to 20,000 sheets, and a high quality printed matter was obtained.

【発明の効果】支持体上に、3次元架橋した親水性樹脂
層を有し、該親水性樹脂層中に、粒子サイズの異なる少
なくとも2種類の微粒子ポリマーが含有されていること
を特徴とする平版印刷用原板は、現像処理を必要としな
いで、光量ラチチュードが広く簡易に製版でき、直接に
印刷機に装着して製版することが可能であり、しかも耐
刷性及び着肉性に優れ、印刷面上の印刷汚れも少ない。
とくに、レーザー光による走査型の画像露光方式によっ
て、高感度で十分広い光量ラチチュードの基に容易に製
版できて、画像部と非画像部との識別性に優れ、耐刷性
及び着肉性に優れる。
According to the present invention, a three-dimensionally crosslinked hydrophilic resin layer is provided on a support, and the hydrophilic resin layer contains at least two kinds of fine particle polymers having different particle sizes. The lithographic printing plate does not require development processing, the light quantity latitude is wide and the plate can be made easily, and it can be directly mounted on the printing machine to make the plate. Less print stains on the print surface.
In particular, by using a scanning type image exposure method using laser light, plate making can be easily performed based on high sensitivity and a sufficiently wide light amount latitude, and excellent discrimination between the image part and the non-image part is achieved. Excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の典型的な平版印刷用原板及びそれを用
いた製版過程を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a typical lithographic printing original plate of the present invention and a plate making process using the same.

【図2】本発明の平版印刷用原板の水可溶性層を有する
一態様の原板断面構成とその原板を用いた製版過程を示
す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view showing a cross-sectional configuration of an original plate having a water-soluble layer of a lithographic printing original plate of the present invention and a plate making process using the original plate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.平版印刷用原板 2.支持体 3.断熱層(下層) 4.親水性樹脂層(画像記録層) 5.金属銀微粒子 6.微粒子ポリマー(小サイズ) 7.微粒子ポリマー(大サイズ) 8.レーザー光 11.印刷版 15.熱融着による疎水性領域 16.水溶性保護層 1. Lithographic printing plate 2. support 3. Heat insulation layer (lower layer) 4. 4. hydrophilic resin layer (image recording layer) Metal silver fine particles 6. 6. Fine particle polymer (small size) 7. Fine particle polymer (large size) Laser light 11. Print version 15. Hydrophobic region by thermal fusion Water-soluble protective layer

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC83 BH03 BJ03 CB51 CC11 CC17 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA06 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 BA01 BA10 DA04 DA41 DA43 DA51 DA52 DA56 DA60 DA73 DA74 DA75 EA01 EA02 FA06 Continued on the front page F-term (reference) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC83 BH03 BJ03 CB51 CC11 CC17 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA06 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 BA01 BA10 DA04 DA41 DA43 DA51 DA06 DA75 DA60 DA60 DA06 DA60

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、3次元架橋した親水性樹脂
層を有し、該親水性樹脂層中に粒子サイズの異なる少な
くとも2種類の微粒子ポリマーが含有されていることを
特徴とする平版印刷用原板。
A lithographic plate having a three-dimensionally crosslinked hydrophilic resin layer on a support, wherein the hydrophilic resin layer contains at least two kinds of fine particle polymers having different particle sizes. Original plate for printing.
【請求項2】 粒子サイズの異なる微粒子ポリマーの少
なくとも一方が、熱反応性官能基を有する微粒子ポリマ
ーであることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷用
原板。
2. The lithographic printing original plate according to claim 1, wherein at least one of the fine particle polymers having different particle sizes is a fine particle polymer having a thermoreactive functional group.
【請求項3】 親水性樹脂層又は該樹脂層に隣接する層
に金属微粒子からなる光熱変換剤を含有していることを
特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷用原板。
3. The lithographic printing original plate according to claim 1, wherein the hydrophilic resin layer or a layer adjacent to the resin layer contains a photothermal conversion agent composed of metal fine particles.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6919163B2 (en) 2002-01-18 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6936399B2 (en) 2001-10-22 2005-08-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hydrophilic member, hydrophilic graft polymer, and support of planographic printing plate
US6977132B2 (en) 2001-12-07 2005-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
JP2006516758A (en) * 2003-01-27 2006-07-06 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー Imageable element containing silicate coated polymer particles
US7192683B2 (en) 2002-09-05 2007-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd Planographic printing plate precursor
US7273691B2 (en) 2001-06-11 2007-09-25 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material
WO2008102758A1 (en) * 2007-02-23 2008-08-28 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Material for lithographic printing plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and lithographic printing plate

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7273691B2 (en) 2001-06-11 2007-09-25 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material
US7306850B2 (en) 2001-06-11 2007-12-11 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material
US7351513B2 (en) 2001-06-11 2008-04-01 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material
US6936399B2 (en) 2001-10-22 2005-08-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hydrophilic member, hydrophilic graft polymer, and support of planographic printing plate
US6977132B2 (en) 2001-12-07 2005-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
US6919163B2 (en) 2002-01-18 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US7192683B2 (en) 2002-09-05 2007-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd Planographic printing plate precursor
JP2006516758A (en) * 2003-01-27 2006-07-06 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー Imageable element containing silicate coated polymer particles
WO2008102758A1 (en) * 2007-02-23 2008-08-28 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Material for lithographic printing plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and lithographic printing plate

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