JP2009046527A - 光触媒層の転写用キャリアフィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 光触媒層の転写形成が亀裂や不均一な部分がなく、映り込みが抑えられ、均一なデザイン性・意匠性に優れた光触媒層表面を高度に転写形成するのに好適な光触媒層の転写用キャリアフィルムを提供する。
【解決手段】 フィルム長手方向の５％伸長時強度が９０〜３００ＭＰａの二軸配向ポリエステルフィルムであり、少なくとも一方の表面が下記式（１）〜（４）を同時に満足することを特徴とする光触媒層の転写用キャリアフィルム。
１．０≦θａ≦７．０ …（１）
０．５≦Ｒｚ≦２．５ …（２）
２≦Ｒｋｒ≦１５ …（３）
３０≦Ｐｃ≦１００ …（４）
（上記式中、θａは平均傾斜角（°）、Ｒｚは十点平均粗さ（μｍ）、Ｒｋｒは表面高さ分のクルトシス、Ｐｃはピークカウントをそれぞれ意味する）
【選択図】 なし

Description

本発明は、光触媒層の転写用キャリアフィルムに関するものであり、詳しくは、本発明は、転写法により形成された光触媒層表面の映り込み防止に優れ、転写された光触媒層の欠陥発生を防止する高品質な光触媒層の転写用キャリアフィルムに関するものである。

従来の光触媒層の転写用キャリアフィルムには、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたものがあり（例えば、特許文献１参照）、また、厚さ５０μｍのポリエステルフィルムに、離型剤としてシリカ微粒子を添加したメラミン系離型剤を施したものが知られている（例えば特許文献２参照）。

転写法により形成された光触媒層を有する基材表面の外観は、転写用キャリアフィルムの表面形状に大きく影響を受けため、意図的に表面形状を付与させた転写用キャリアフィルムを用いない限り、転写法により形成された光触媒層の表面は光沢が高く、映り込みのある表面となる。近年、光触媒層を施した表面としてデザイン性・意匠性から映り込みを抑えた表面が好まれるようになり、映り込みのある商品は価値を著しく落とすものになってきている。また、光触媒層を施す面積も大きくなり、外観の均一性も高度に望まれるようになってきた。しかしながら、従来の光触媒層の転写用キャリアフィルムでは映り込みを抑え、広範囲に渡り欠陥なく、均一な表面を形成することが困難である。

映り込みを抑えた光触媒表面の転写形成には、転写された光触媒層表面の粗さが関係し、さらには転写用キャリアフィルムの粗さに大きく影響を受ける。しかしながら、通常用いられる中心線平均粗さの指標では、映り込みを抑えるのに好適な表面を規定することができていない。例えば平坦面に大きな表面突起が点在する転写用キャリアフィルムの場合、中心線平均粗さの数値では大きな値を得ることができるが、転写した表面の映り込みを抑えることができないことがある。また、このような表面の大突起は転写用キャリアフィルム上に光触媒を塗工により積層する際、大突起部分で塗工スジを発生させるばかりか、転写後の光触媒層表面のスジ状欠陥となることがあった。一方、表面突起を密に形成した転写用キャリアフィルムではキャリアフィルムの表面突起間に光触媒層が転写されずに残る部分が発生し、均一な光触媒層の表面が得られない問題がある。そのため、転写用キャリアフィルム表面粗度は大変重要であり、高度に規定された表面粗度が必要となっている。

また、転写用キャリアフィルム上に光触媒層を積層した後の巻き取りテンションや光触媒層を転写させる際の加工テンションにより転写用キャリアフィルムが伸び光触媒層に亀裂を生じさせるばかりか、光触媒層の脱落を生じることがある。一方、転写用キャリアフィルムに鋭角な折れシワが発生しやすくハンドリング性が悪くなる問題があり、改良が求められている。
特開２００２−３１６３８０号公報 特開２００５−２１２４４６号公報

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、映り込みが抑えられ、均一なデザイン性・意匠性に優れた光触媒層表面を高度に転写形成するのに好適な光触媒層の転写用キャリアフィルムを提供することを解決課題とするものである。

本発明者は、上記実状に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなる光触媒層の転写用キャリアフィルムを用いれば、上述の課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明の要旨は、フィルム長手方向の５％伸長時強度が９０〜３００ＭＰａの二軸配向ポリエステルフィルムであり、少なくとも一方の表面が下記式（１）〜（４）を同時に満足することを特徴とする光触媒層の転写用キャリアフィルムに存する。
１．０≦θａ≦７．０ …（１）
０．５≦Ｒｚ≦２．５ …（２）
２≦Ｒｋｒ≦１５ …（３）
３０≦Ｐｃ≦１００ …（４）
（上記式中、θａは平均傾斜角（°）、Ｒｚは十点平均粗さ（μｍ）、Ｒｋｒは表面高さ分のクルトシス、Ｐｃはピークカウントをそれぞれ意味する）

以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明における転写用キャリアフィルムを構成する二軸配向ポリエステルフィルムは、単層構成であっても積層構成であってもよく、例えば、２層、３層構成以外にも本発明の要旨を超えない限り、４層またはそれ以上の多層であってもよく、特に限定される訳ではない。

本発明において二軸配向ポリエステルフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキシ安息香酸など）等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。

いずれにしても、本発明でいうポリエステルとは、通常６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。

本発明で用いるポリエステルの極限粘度は、通常０．４５以上、好ましくは０．５０〜１．０、さらに好ましくは０．５２〜０．８０の範囲である。極限粘度が０．４５未満では、フィルム製造時の生産性が低下したり、フィルムの機械的強度が低下したりするという問題が生ずることがある。一方、ポリマーの溶融押出安定性の点から、極限粘度は１．０を超えないことが好ましい。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、少なくとも片側の最表層を形成する層は粒子を含有することが好ましいが、必ずしも単層に限られるわけではなく、多層であってもよい。例えば、当該最表層をＡ層として、Ａ層は単層以外の層はフィルム強度を上げるため実質的に粒子を含有しないか、含有してもその含有量が少ないＢ層を積層とした（Ａ／Ｂ）の構成することができる。また、（Ａ／Ｂ／Ｃ）の構成としてＣ層に粒子を含有させることもできる。

本発明のフィルムのＡ層厚みは、フィルムの表面粗度を高度に満足させるため、添加粒子の平均粒径を超える厚さであることが好ましい。

上記Ａ層を形成するポリエステル層中には、表面突起形成を主たる目的として粒子を配合することが好ましい。配合する粒子の種類は、上記式（１）〜（４）を同時に満たす表面粗度を形成可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の粒子が挙げられる。また、特公昭５９−５２１６号公報、特開昭５９−２１７７５５号公報等に記載されている耐熱性有機粒子を用いてもよい。この他の耐熱性有機粒子の例として、熱硬化性尿素樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。さらに、ポリエステル製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。

また、用いる粒子の平均粒径は、通常１．０〜１０μｍ、好ましくは３．０〜６μｍの範囲である。平均粒径が１．０μｍ未満の場合には、フィルムの表面粗度が不十分で、光触媒層の転写工程において光沢度が上がる場合があり、一方、１０μｍを超える場合には、フィルムの表面粗度が粗くなりすぎて、後工程において光触媒層を塗設させる場合等に不具合が生じる場合がある。さらに用いる粒子の粒度分布は適度に広いものが好ましい。すなわち、本発明のフィルムにおいては粒子が表層付近に存在し、粒子がフィルム表面粗度を形成するため、粒度分布が狭くなると、転写形成した光触媒層表面の乱反射が小さくなり光沢度が上がってしまうことがある。一方、粗大粒子が存在すると大きな突起となり、光触媒層の欠陥の原因となるおそれがある。したがって、光触媒層表面の乱反射を大きくすることが好ましく、そのために粒度分布が適度に広い粒子を用いることが好ましい。具体的には、粒度分布の広さを表す指標である粒度分布値が通常１．３〜３．０のもの、好ましくは１．８〜２．３の範囲のものを用いる。なお、ここで粒度分布値とは、下記式で定義される値である。

粒度分布値＝ｄ_２５／ｄ_７５
（上記式中、ｄ_２５、ｄ_７５は粒子群の積算体積を大粒子側から計測し、それぞれ総体積の２５％、７５％に相当する粒径（μｍ）を示す）

かかる粒度分布値が１．３未満となると、光沢度が上がり映り込みが強くなる傾向がある。特に平均粒径が２．０μｍ未満の粒子については、かかる粒度分布の要件を満足することが好ましい。

粒度分布が適度に広い粒子の例としては、湿式粉砕して得られた塊状のシリカ粒子や天然タンカル粒子が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、異なる粒子径の粒子を混合して粒度分布を調整することもできる。

Ａ層中の粒子含有量は、通常０．１〜５重量％、好ましくは０．５〜４重量％の範囲である。粒子含有量が０．１重量％未満の場合には、フィルムの表面粗度が不十分な場合があり、一方、５重量％を超えて添加する場合にはフィルムの製膜において不具合が生じる場合がある。

ポリエステル中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。

また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。

本発明のキャリアフィルムを構成するポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常５〜２５０μｍ、好ましくは１２〜７５μｍの範囲である。

本発明のフィルムの少なくとも一方の表面（通常はＡ層表面）の平均傾斜角（θａ）は１．０〜７．０°、好ましくは２．０〜６．５°である。θａが１．０°未満では、光沢度が上がり映り込み強くなる。一方、７．０°を超えると光触媒層に亀裂が生じたり、部分的に光触媒層の中で剥離したりする問題が生じることがある。

本発明のフィルムの少なくとも一方の表面（通常はＡ層表面）の十点平均粗さ（Ｒｚ）は０．５〜２．５μｍ、好ましくは１．０〜２．３μｍである。Ｒｚが０．５μｍ未満では、光沢度が上がり映り込み強くなる。一方、２．５μｍを超えると転写用キャリアフィルム上に光触媒層を積層する際に塗工スジを生じるなど不均一となり、均一な光触媒層が得られなく問題が生じることがある。

本発明のフィルムの少なくとも一方の表面（通常はＡ層表面）の表面高さ分布のクルトシス（Ｒｋｒ）は２〜１５、好ましくは４〜９である。Ｒｋｒが２未満では、粗大な突起含まれ、転写用キャリアフィルム上に光触媒層を積層する際に塗工スジを生じるなど不均一となり、均一な光触媒層が得られなく問題が生じることがある。一方、１５を超えると突起間の平坦部分が増え、光沢度が上がり、映り込みが強くなる。

次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。

すなわち、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。具体的には、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常７０〜１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍である。そして、引き続き１８０〜２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。

上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。

また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で４〜５０倍、好ましくは７〜３５倍、さらに好ましくは１０〜２５倍である。そして、引き続き、１７０〜２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。

上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来から公知の延伸方式を採用することができる。

さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法（インラインコーティング）を施すことができる。

塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。

なお、本発明におけるフィルム表面の水滴接触角を８０°〜１３０°、好ましくは９０°〜１２０°の範囲とすることによって、転写形成の際にフィルム表面と光触媒層表面が無理な力が加わることなくスムーズに剥がれ均一な光触媒層表面を転写形成することができる。

次にフィルム表面の適度な水滴接触角を得るための塗布層の形成について説明する。塗布層に関しては上述の塗布延伸法（インラインコーティング）を用いてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、いわゆるオフラインコーティングを採用してもよく、いずれの手法を採用してもよい。

塗布延伸法（インラインコーティング）の場合、上述の一連の化合物を水溶液または水分散体として、固型分濃度を０．１重量％〜５０重量％程度を目安に調整した塗布液をポリエステルフィルム上に塗布する要領にて積層ポリエステルフィルムを製造するのが好ましい。

上記塗布層の塗布量（乾燥後）は通常０．００５〜１（ｇ／ｍ２）、好ましくは０．００５〜０．５（ｇ／ｍ２）の範囲である。塗布量が０．００５（ｇ／ｍ２）未満の場合には、塗布厚みの均一性が不十分な場合があり、熱処理後、塗布層表面から析出するオリゴマー量が多くなる場合がある。一方、１（ｇ／ｍ２）を超えて塗布する場合には、滑り性低下等の不具合を生じる場合がある。

上記塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。

上記塗布層に使用する塗布剤としては下記に限定されるものではないが、例えば、フッ素系アクリル樹脂、長鎖アルキル化合物、シリコーン、ワックス等が挙げられる。またこれらの化合物を併用することも可能である。

塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 １９７９年発行に記載例がある。

上記塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法（インラインコーティング）により塗布層を設ける場合、通常、１７０〜２８０℃で３〜４０秒間、好ましくは２００〜２８０℃で３〜４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。一方、オフラインコーティングにより塗布層を設ける場合、通常、８０〜２００℃で３〜４０秒間、好ましくは１００〜１８０℃で３〜４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。

また、塗布延伸法（インラインコーティング）あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。

なお、活性エネルギー線照射による硬化のためのエネルギー源としては、従来から公知の装置，エネルギー源を用いることができる。

離型層の塗工量は塗工性の面から、通常０．００５〜１ｇ／ｍ２、好ましくは０．００５〜０．５ｇ／ｍ２の範囲である。塗工量が０．００５ｇ／ｍ２未満の場合、塗工性の面より安定性に欠け、熱処理後、塗布層表面から析出するオリゴマー量が多くなる場合がある。一方、１ｇ／ｍ２を超えて厚塗りにする場合には離型層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下する場合がある。

また、塗布層を構成するポリエステルフィルムには予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。

本発明の転写用キャリアフィルムによれば、映り込みを抑えた均一な光触媒層を転写形成するのに好適な転写用キャリアフィルムを提供することができ、その工業的価値は高い。

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。

（１）ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。

（２）平均粒径および粒度分布値
遠心沈降式粒度分布測定装置（株式会社島津製作所社製ＳＡ−ＣＰ３型）を使用して測定した等価球形分布における積算（重量基準）５０％の値を平均粒径とした。また大粒子側から積算して体積分率２５％の点の直径と体積分率７５％の点の直径の比ｄ_２５／ｄ_７５値を粒度分布値とした。

（３）フィルム長手方向に５％伸びた時のフィルム強度
（株）インテスコ社製インテスコモデル２００１型引張試験機を用いて、温度２３℃，湿度５０％ＲＨに調節された室内において長さ５０ｍｍ、幅１５ｍｍの試料フィルムを２００ｍｍ／分の速度で引張り５％伸張時の強度を測定した。

（４）平均傾斜角（θａ）
（株）小坂研究所製 表面粗さ測定機（ＳＥ−３５００）によって得られた粗さ曲線からその平均線の方向に、基準長さだけ抜き取り、その抜き取り部分における凹凸の斜面の傾斜量（縦横比）の算術平均を平均傾斜量Δａとし、それを角度で表わしたものが平均傾斜角θａである。すなわち、斜面の微小長さｄｘにおける傾きをｄｘ／ｄｙとし、一つの谷に対して隣り合う一つの山の高さをｈｉとすれば、平均傾斜量Δａおよびθａは以下の式で表される。

なお、本発明においては、基準長さｌは２．５ｍｍ、使用する触針の半径は５．０μｍ、荷重３０ｍｇ、カットオフ値は０．２５ｍｍ、データ間隔はカットオフ値の長さ当たり５００等分とし、ガウス形の位相補償フィルタを用いる。

（５）十点平均粗さ（Ｒｚ）
十点平均粗さＲｚは、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さｌだけ抜取り、この抜取り部分の平均線から縦倍率の方向に測定した、最も高い山頂から５番目までの山頂の標高（Ｙｐ）の絶対値の平均値と、最も低い谷底から５番目までの谷底の標高（Ｙｖ）の絶対値の平均値との和を求め、この値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。なお、この十点平均粗さの測定に対しても、基準長さｌは前記同様に２.５ｍｍとする。

（６）表面高さ分布のクルトシス（Ｒｋｒ）
Ｒｋｒとは、平均線に対しての粗さ曲線の上下のとがりの程度を示す値であって、数３〜数５により表わされる。

（７）ピークカウント（Ｐｃ）
粗さ曲線の中心線から上側に０．０５μｍ離れた平行なカウントレベルを設け、カウントレベルと粗さ曲線が交差する点が１回以上存在するとき１山として、この山数を基準長さ間において計測する。なお、このＰｃの測定に対しても、基準長さｌは前記同様に２．５ｍｍとする。

（８）水滴接触角
温度２３℃、湿度５０％ＲＨで試料フィルムと、蒸留水との接触角を、協和界面化学（株）社製接触角計ＣＡ−ＤＴ−Ａ型を用いて測定した。接触角は、左右２点、試料数３で計６点測定し、平均値を求め接触角とした。尚、水滴の直径は２ｍｍで、滴下後１分後の数値を読み取った。

（９）転写用キャリアフィルムの実用評価
ゾルゲル法で製造したアナターゼ型酸化チタン微粒子からなる光触媒層を常法にしたがって作製した。すなわち、光触媒層をＡ層の面に設け、その上に保護層としてゾルゲル法で製造したジルコニウム微粒子からなる層を積層した。得られた光触媒層の転写フィルムを用いて、光触媒層の面板を作製を行った。すなわち、アルミ金属板上に溶媒可溶型フッ素樹脂塗料を塗布乾燥した表面と作製した転写フィルムの保護層面を熱圧着させた。しかる後に転写用キャリアフィルムを剥離し、転写した光触媒層の面材を作製した。かくして得られた面材を光沢度計、目視、あるいは顕微鏡を使って観察し、その品質により光触媒層の転写用キャリアフィルムの実用評価を行った。

転写した光触媒層の光沢度と映り込み
日本電色（株）社製グロスメーターＶＧ−１０７型を用いて、ＪＩＳ Ｚ−８７４１の方法に準じて光沢度を測定した。入射角，反射角６０度に於ける黒色標準板の反射率を基準に試料の反射率を求め光沢度とした。
光触媒層を転写した面材表面に蛍光灯を映し込み、蛍光灯の輪郭の鮮明さを目視にて観察した。
◎：蛍光灯の輪郭が不明瞭で、映り込みが抑えられた表面が得られる
○：蛍光灯の輪郭は不明瞭であるがやや反射光が強く見られるが、実用上問題ない
△：蛍光灯の輪郭がやや認識できるが実用上問題ない
×：蛍光灯の輪郭が鮮明に認識でき、映り込みが防止が不十分である

転写した光触媒層の外観
◎：面材表面に目視にて認識できるムラはなく、均一な表面が得られる
○：面材表面に対し法線方向から６０°以内の角度から見ても不均一な部分は認識できないが、６０°を超える角度から観察した際、不均一な部分が若干見られるが、実用上問題ない
△：不明瞭だが、面材表面に若干の不均一な部分が見られるものの、実用上問題ない
×：不均一な欠陥部分が見られる
××：光触媒層が転写されていない部分が見られる

転写した光触媒層の亀裂
光触媒層を転写した面材表面を顕微鏡にて観察した。

◎：亀裂は全く見られず、均一な表面が得られる
○：亀裂は見られないが、顕微鏡で淡い濃淡が観察されるが、実用上問題ない
△：亀裂は見られないが、顕微鏡で濃淡が観察されるが、実用上問題ない
×：亀裂による欠陥部分が見られる
××：光触媒層が転写されていない部分が見られる

実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。

〈ポリエステルの製造〉
製造例１（ポリエチレンテレフタレートＡ１）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部、平均粒径３．４μｍ、粒度分布値１．９のシリカ粒子を３．０部添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．７１のポリエチレンテレフタレートＡ１を得た。

製造例２（ポリエチレンテレフタレートＡ２）
製造例１において平均粒径３．４μｍ、粒度分布値１．９のシリカ粒子を３．０部添加する代わりに平均粒径６．０μｍ、粒度分布値２．０のシリカ粒子を３．０部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＡ２を得た。

製造例３（ポリエチレンテレフタレートＡ３）
製造例１において平均粒径３．４μｍ、粒度分布値１．９のシリカ粒子を３．０部添加する代わりに平均粒径２．５μｍ、粒度分布値１．８のシリカ粒子を１．０部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＡ３を得た。

製造例４（ポリエチレンテレフタレートＡ４）
製造例１において平均粒径３．４μｍ、粒度分布値１．９のシリカ粒子を３．０部添加する代わりに平均粒径０．７μｍ、粒度分布値１．６の合成タンカル粒子を２．０部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＡ４を得た。

製造例５（ポリエチレンテレフタレートＡ５）
製造例１において粒子添加しないこと以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＡ５を得た。

実施例１：
製造例１で製造したポリエチレンテレフタレートＡ１と製造例５で製造したポリエチレンテレフタレートＡ５を表１に示す配合比でブレンドした後、１８０℃で４時間不活性ガス雰囲気中で乾燥し、溶融押出機により２９０℃で溶融し、口金から押出し静電印加密着法を用いて表面温度を４０℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。得られた未延伸シートにまず、９５℃で延伸倍率をＭＤ方向に３．６倍延伸しテンターに導き、ＴＤ方向に４．０倍の逐次二軸延伸を行った。その後、２３０℃にて３秒間熱固定し、表１に示す厚さの転写用キャリアフィルムを得た。

実施例２〜４：
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートを下記表１に示す配合比に変更し、フィルム厚みを下記表１に示す厚さとする以外は実施例１と同様にして転写用キャリアフィルムを得た。
実施例５：
実施例１において、ＭＤ方向に３．６倍延伸した後、下記塗布剤をリバースグラビアコート方式により塗布し、９０℃で乾燥するプロセスをＴＤ方向の延伸前に追加した以外は実施例１と同様にして転写用キャリアフィルムを得た。

＜塗布剤成分の内容＞
・フッ素含有重合体：クロロトリフルオロエチレン／プロピオン酸ビニル／脂肪酸ビニルエステル／マレイン酸モノブチル＝４０／４７／３／１０モル％からなるカルボキシル基含有フッ素共重合体を乾燥固形分割合で８０重量％
・架橋剤成分：アルキロールメラミンを乾燥固形分割合で２０重量％

比較例１〜２：
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートを下記表１に示す配合比に変更し、フィルム厚みを下記表１に示す厚さとする以外は実施例１と同様にして転写用キャリアフィルムを得た。

比較例３：
比較例１において、フィルム厚みを下記表１に示す厚さとする以外は比較例１と同様にして得たフィルムをサンドブラスト法により片面を粗面化して転写用キャリアフィルムを得た。この粗面化したフィルム面の物性を表１に示す。

上記実施例および比較例で得られた各転写用キャリアフィルムの特性を表１に示す。

実施例で得られたフィルムは本発明の要件を満たしており、これらを使用した光触媒層の転写表面は優れた特性を示す高品質なものであった。これに対し比較例１および２は転写した光触媒層表面を粗度を上げることができず映り込みを抑えることができなかった。また、比較例３のフィルム表面は緻密に粗面化された表面であったが、フィルム表面突起間に光触媒層が残るなどして、均一な転写が行えなかったばかりか、光触媒層が微視的に脱落している部分があった。

本発明の転写用キャリアフィルムは、例えば、建築物の外壁材用、病院やトイレなどの内壁材用、家具外装用、家電外装用等の面材のほか、各種光触媒による防汚性、セルフクリーニング性、抗菌性を付与した用途等に好適に利用することができる。

Claims (1)

1. フィルム長手方向の５％伸長時強度が９０〜３００ＭＰａの二軸配向ポリエステルフィルムであり、少なくとも一方の表面が下記式（１）〜（４）を同時に満足することを特徴とする光触媒層の転写用キャリアフィルム。
   １．０≦θａ≦７．０ …（１）
   ０．５≦Ｒz≦２．５ …（２）
   ２≦Ｒｋｒ≦１５ …（３）
   ３０≦Ｐｃ≦１００ …（４）
   （上記式中、θａは平均傾斜角（°）、Ｒｚは十点平均粗さ（μｍ）、Ｒｋｒは表面高さ分のクルトシス、Ｐｃはピークカウントをそれぞれ意味する）