JP2009039595A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上する。
【解決手段】それぞれが主走査方向に伸びる複数の線状領域９３が主走査方向に垂直な副走査方向に領域ピッチＶにて基板９上に配列設定されており、副走査方向に関して互いに隣接する吐出口１７１間の距離が領域ピッチＶの６倍である複数の吐出口１７１のそれぞれから基板９上の線状領域９３に向けて有機ＥＬ液を吐出しつつ、塗布ヘッド１４を主走査することにより基板９上に複数の線状要素９４が形成される。塗布ヘッド１４が基板９に対して副走査する際には、副走査直後の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により有機ＥＬ液が塗布されたいずれの線状領域９３からも副走査方向に関して領域ピッチＶの６倍以上離される。その結果、複数の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性を向上することができる。
【選択図】図５

Description

本発明は、基板に揮発性の溶媒を含む流動性材料を塗布する技術に関する。

従来より、半導体の基板上にレジスト液等の流動性材料を塗布する装置として、特許文献１および２に開示されているように、流動性材料を連続的に吐出するノズルを基板上で走査することにより、複数の平行線状に流動性材料を基板上に塗布し、流動性材料が広がって互いに接触することにより基板の主面全域に塗布を行う塗布装置が知られている。

このような塗布装置では、流動性材料の膜厚の均一性を向上するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献１では、レジスト塗布装置により塗布液が塗布された半導体の基板を、レジスト塗布装置とは別に設けられた溶剤雰囲気装置において塗布液の溶剤雰囲気に曝すことにより、溶剤を塗布液表面に付着させて塗布液表面の粘性を低下させ、その後、基板が収容されている容器内に気流を形成して当該気流により塗布液の表面を平坦化する技術が開示されている。

特許文献２の塗布成膜装置では、基板の上方２ｍｍ以内の位置に基板のほぼ全体を覆う乾燥防止板を設け、当該乾燥防止板に形成された直線状の隙間において、絶縁膜用の塗布液を吐出するノズルを基板に対して走査することにより、基板上に一様に塗布液が塗布される。これにより、基板と乾燥防止板との間に高濃度の溶剤雰囲気が形成され、基板に塗布された塗布液の乾燥が抑制される。また、特許文献２の塗布成膜装置では、溶剤をしみ込ませたスポンジ部材を乾燥防止板上に設け、スポンジ部材から蒸発する溶剤蒸気を乾燥防止板に形成された供給孔から基板と乾燥防止板との間に供給することにより、基板と乾燥防止板との間の溶剤濃度がより高くされる。

ところで、流動性材料を吐出するノズルを走査することにより基板に流動性材料を塗布する塗布装置は、平面表示装置用のガラスの基板に対して画素形成材料を含む流動性材料を塗布する際にも応用が検討されている。典型的な例では、基板上に形成された隔壁に沿ってノズルを繰り返し走査することにより、流動性材料が所定のピッチにて配列されるストライプ状に塗布される。このとき、基板上では、流動性材料の各ライン（線状要素）から溶媒成分が蒸発し、これらのラインが塗布された順に乾燥していく。流動性材料は、乾燥するまでの間に画素形成材料が十分に分散して基板上にほぼ均一に定着するが、塗布から乾燥終了までの時間が短いと、画素形成材料の分散の程度が他の領域と異なる状態で流動性材料の乾燥が終了してしまうこととなる。

基板上の塗布の開始端側のラインおよび終端側のラインでは、塗布領域の中央部に比べて、周囲の流動性材料から蒸発する溶媒成分の量が少ないため、雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなる。このため、流動性材料の乾燥時間が他の領域に比べて短くなり、画素形成材料の分散状態が中央部と異なってしまう。そこで、特許文献３では、基板上の塗布の開始端側および終端側のそれぞれにおいて、塗布領域の外側の非塗布領域に流動性材料を塗布する（ダミーラインを形成する）ことにより、流動性材料の乾燥時間が他の領域よりも短くなることを抑制する手法が開示されている。
特開２００３−１７４０２号公報 特開２００５−１３７８７号公報 特開２００７−１４４２４０号公報

一方、塗布装置におけるタクト時間の向上を図るために、複数のノズルの走査、および、走査方向に垂直な方向への基板のステップ移動を繰り返すことにより、ガラスの基板上に流動性材料をストライプ状に塗布する場合、基板のステップ移動方向の後側には流動性材料が塗布されていないため、複数のノズルのうち、ステップ移動方向に関して最も後側に位置するノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲では、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲に比べて雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなってしまう。このため、最も後側のノズルにより塗布された流動性材料のラインが、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインよりも早く乾燥してしまい、画素形成材料の分散状態が他のラインと異なってしまう。その結果、基板全体としてみた場合に塗布ムラが発生してしまい、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう場合がある。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上することを目的としている。

請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を保持する基板保持部と、前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が前記領域ピッチのｎ倍（ただし、ｎは６以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動が完了する毎に、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動することにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する移動機構と、前記基板の前記副走査方向への相対移動直後における前記吐出機構の各吐出口が、前記副走査方向への相対移動直前における前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動により前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して前記領域ピッチの６倍以上離れるように、前記基板の前記吐出機構に対する前記副走査方向への相対移動を制御する制御部とを備える。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記副走査方向に関して前記互いに隣接する吐出口間の距離が、０．６ミリメートル以上である。

請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記複数の吐出口から吐出される前記流動性材料が、同一色の発光材料を含み、前記一定の間隔が、前記領域ピッチの３倍である。

請求項４に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を保持する基板保持部と、前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が０．６ミリメートル以上となる前記領域ピッチのｍ倍（ただし、ｍは２以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動が完了する毎に、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動することにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する移動機構と、前記基板の前記副走査方向への相対移動直後における前記吐出機構の各吐出口が、前記副走査方向への相対移動直前における前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動により前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して０．６ミリメートル以上離れるように、前記基板の前記吐出機構に対する前記副走査方向への相対移動を制御する制御部とを備える。

請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記副走査方向に関して前記互いに隣接する吐出口間の距離が、１．０ミリメートル以上である。

請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、前記移動機構が、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する際に、前記吐出機構が前記副走査方向における前記基板の端部近傍に到達するまで、同一の向きに前記基板を前記副走査方向に間欠的に相対移動する。

請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板上に付与する材料が、有機ＥＬ表示装置用の画素形成材料である。

請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を準備する工程と、ｂ）前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が前記領域ピッチのｎ倍（ただし、ｎは６以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出しつつ、前記複数の吐出口を有する吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、ｃ）前記吐出機構の各吐出口が直前の前記ｂ）工程にて前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して前記領域ピッチの６倍以上離れるように、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、ｄ）前記ｂ）工程および前記ｃ）工程を繰り返すことにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する工程とを備える。

請求項９に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を準備する工程と、ｂ）前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が０．６ミリメートル以上となる前記領域ピッチのｍ倍（ただし、ｍは２以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出しつつ、前記複数の吐出口を有する吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、ｃ）前記吐出機構の各吐出口が直前の前記ｂ）工程にて前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して０．６ミリメートル以上離れるように、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、ｄ）前記ｂ）工程および前記ｃ）工程を繰り返すことにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する工程とを備える。

本発明によれば、複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上することができる。

また、請求項３の発明では、基板上に発光材料のパターンを適切に形成することができ、請求項５の発明では、複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性をさらに向上することができる。

また、請求項６の発明では、移動機構に対する移動制御を簡素化することができ、請求項７の発明では、有機ＥＬ表示装置において塗布ムラによる表示の質の低下を抑制することができる。

図１は、本発明の一の実施の形態に係る塗布装置１を示す平面図であり、図２は塗布装置１の正面図（図１中の（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いてみた図）である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、揮発性の溶媒（本実施の形態では、芳香族の有機溶媒の１つである４−メチルアニソール）、および、一の色の発光材料として基板９上に付与される有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。

塗布装置１は、図２に示すように、基板９の一の主面（図２中の（−Ｚ）側の主面）に当接して基板９を保持する基板保持部１１を備え、図１および図２に示すように、基板保持部１１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図１中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向（すなわち、Ｚ方向）に向く軸を中心として回転する基板移動機構１２を備える。基板保持部１１は、基板９を下側から加熱する基板加熱部であるヒータ（図示省略）を内部に備える。基板９の（＋Ｚ）側の主面９０上の塗布領域９１（図１中において細線の矩形にて示す。）には、それぞれが図１中のＸ方向に伸びる複数の隔壁（後述の図５中にて符号９２を付して示している。）がＹ方向に一定のピッチ（例えば１００〜１５０マイクロメートル（μｍ）のピッチ）にて配列形成されている。なお、基板保持部は、基板９の（−Ｚ）側の主面に当接して基板９を保持するもの以外に、基板９のＹ方向の端部を把持することにより基板９を保持するもの等であってもよい。

塗布装置１は、また、基板９上に形成されたアライメントマーク（図示省略）を撮像して検出するアライメントマーク検出部１３、基板保持部１１（図２参照）に保持された基板９の主面９０に向けて流動性材料を吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の主面９０に平行かつ副走査方向に垂直な方向（すなわち、図１中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、塗布ヘッド１４の移動方向（すなわち、Ｘ方向）に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、および、塗布ヘッド１４に流動性材料を供給する流動性材料供給部１８を備え、図１に示すように、これらの構成を制御する制御部２を備える。塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が、塗布ヘッド１４を基板９に対して主走査方向に相対的に移動する（すなわち、主走査する）とともに基板９を塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動する（すなわち、副走査する）移動機構となる。

図１および図２に示すように、塗布ヘッド１４は、同一種類の有機ＥＬ液を連続的に吐出する複数（本実施の形態では、５本）のノズル１７を備える。図３は、塗布ヘッド１４の複数のノズル１７近傍を拡大して示す図である。

図３に示すように、５本のノズル１７は、Ｘ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともにＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。塗布装置１では、複数のノズル１７のＹ方向の位置が個別に調整可能とされており、５本のノズル１７の吐出口１７１（図３にて破線にて示しているが、実際はノズル１７に対して非常に小さい。）は副走査方向に関して等間隔にて配列され、互いに隣接する２本のノズル１７の吐出口１７１の副走査方向の中心間距離（すなわち、図３中にて符号Ｐを付す矢印にて示す距離であり、以下「吐出口ピッチ」とも呼ぶ。）は、基板９上の隔壁のＹ方向のピッチの６倍に等しくされる。

図１に示す塗布領域９１に有機ＥＬ液が塗布される際には、各ノズル１７から主面９０上における隔壁間の領域（すなわち、主走査方向に伸びる領域であり、以下、「線状領域」という。）に有機ＥＬ液が吐出されて塗布される。後述するように、塗布装置１では副走査方向に一定のピッチ（隔壁のピッチに等しいピッチであり、以下、「領域ピッチ」という。）にて配列される複数の線状領域において、副走査方向に２つ置きに存在する線状領域に有機ＥＬ液が塗布される。すなわち、塗布装置１にて有機ＥＬ液が塗布される２つの線状領域の間には、他の塗布装置等により他の種類の有機ＥＬ液が塗布される２つの線状領域が挟まれている。

次に、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布について説明する。図４は、有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に載置されて保持され、アライメントマーク検出部１３からの出力に基づいて基板移動機構１２が駆動されて基板９が移動および回転し、図１中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。既述のように、基板９の主面９０上には互いに平行な複数の隔壁が配列形成され、主面９０上の隔壁間の領域として線状領域が規定されており、基板９が塗布開始位置に配置されることにより、塗布装置１において、それぞれが主走査方向に伸びる複数の線状領域が主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面９０上に配列設定された状態で、処理対象の基板９が準備されることとなる。このとき、塗布ヘッド１４は、副走査方向に関して基板９の（＋Ｙ）側の端部近傍であり、主走査方向において、図１および図２中に実線にて示す待機位置（すなわち、図１中の（−Ｘ）側の受液部１６の上方）に予め配置されている。

続いて、制御部２により塗布ヘッド１４が制御されて５本のノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始され、さらに、ヘッド移動機構１５が制御されて塗布ヘッド１４の主走査方向の移動（すなわち、図１中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側への主走査）が開始される。これにより、複数の吐出口１７１のそれぞれから基板９の主面９０に向けて有機ＥＬ液を一定の流量にて連続的に（途切れることなく）吐出しつつ、塗布ヘッド１４が主走査方向に連続的に一定の速度にて移動し、基板９の塗布領域９１の５個の線状領域に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される（ステップＳ１２）。なお、図１中における塗布領域９１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の非塗布領域（並びに、必要に応じて（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側の非塗布領域）は図示省略のマスクにより覆われているため有機ＥＬ液は基板９上に直接塗布されない。

図５は、有機ＥＬ液の塗布途上の基板９を示す図である。図５では、塗布ヘッド１４の一部を矩形にて抽象的に示し、各ノズル１７の吐出口１７１のみを細線にて図示している。最初のステップＳ１２の処理では、基板９上の最も（＋Ｙ）側の線状領域９３ａ（すなわち、最も（＋Ｙ）側の２つの隔壁９２にて挟まれる領域であり、以下、「１番目の線状領域９３ａ」とも呼ぶ。）、並びに、当該線状領域９３ａから（−Ｙ）側に領域ピッチ（図５中にて符号Ｖを付して示す距離）の６倍、１２倍、１８倍、２４倍だけそれぞれ離れた５つの線状領域９３ｂ，９３ｃ，９３ｄ，９３ｅに、図５中に太い実線にて示すように有機ＥＬ液が塗布される。そして、塗布ヘッド１４が図１および図２中に二点鎖線にて示す待機位置（すなわち、（＋Ｘ）側の受液部１６の上方）まで移動することにより、有機ＥＬ液によるストライプ状のパターン（すなわち、図５中のライン９４の集合）が形成される。以下の説明では、当該パターンにおいて１つの吐出口１７１に対応するライン９４を線状要素９４と呼ぶ。

図６は、基板９の主走査方向に垂直な断面を示す図である。塗布装置１では、有機ＥＬ液の溶媒として速乾性のものが利用されており、また、基板保持部１１のヒータにより基板９が加熱されているため、ノズル１７により主面９０に塗布された有機ＥＬ液は、塗布された直後から、例えば、後述する塗布ヘッド１４の次の主走査が完了するまでの間にある程度乾燥し（すなわち、有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し）、図６に示すように、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で基板９上に残置されて（すなわち、付与されて）、各線状要素９４が有機ＥＬ材料の膜となる。

続いて、有機ＥＬ液の基板９上への塗布を終了するか否かが制御部２により確認される（ステップＳ１３）。塗布装置１では、１番目の線状領域９３ａおよび当該線状領域９３ａから２つ置きに存在する線状領域９３（すなわち、１番目の線状領域９３ａおよび線状領域９３ａから領域ピッチＶの３α倍（ただし、αは正の整数）だけ離れた線状領域９３）の全てに有機ＥＬ液が塗布されるまで塗布装置１における塗布動作が継続されるため、最初のステップＳ１３では、有機ＥＬ液の基板９上への塗布を終了しない（継続する）ことが確認される。そして、基板移動機構１２が駆動され、基板９が基板保持部１１と共に（＋Ｙ）方向に吐出口ピッチＰの５倍（領域ピッチＶの３０倍）に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１４）。これにより、副走査方向（Ｙ方向）に関して塗布ヘッド１４が図５中に二点鎖線にて示す位置（実際には、塗布ヘッド１４は（＋Ｘ）側の受液部１６の上方に位置する。）に配置され、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１が、１番目の線状領域９３ａから（−Ｙ）側に領域ピッチＶの３０倍、３６倍、４２倍、４８倍、５４倍だけそれぞれ離れた５つの線状領域９３と同じ位置に配置される。なお、基板９が副走査方向に間欠的に移動する間も、塗布ヘッド１４では、５本のノズル１７から受液部１６に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。

副走査方向における基板９の移動が終了すると、塗布ヘッド１４が５本のノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ基板９の（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向（すなわち、主走査方向）に主走査することにより、複数の吐出口１７１にそれぞれ対応する基板９上の複数の線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。塗布ヘッド１４が基板９の（−Ｘ）側の端部へと到達して、これらの線状領域９３の全体に有機ＥＬ液が塗布されると（すなわち、基板９上において図５中に太い破線にて示す線状要素９４がＸ方向の全体に形成されると）、基板９上への有機ＥＬ液の塗布を継続することが確認された後（ステップＳ１３）、基板９が（＋Ｙ）方向に領域ピッチＶの３０倍の距離だけ移動する（ステップＳ１４）。

塗布装置１では、１番目の線状領域９３ａおよび線状領域９３ａから領域ピッチＶの６β倍（ただし、βは正の整数）だけ離れた全ての線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布されるまで、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動（主走査）、および、基板９の（＋Ｙ）側へのステップ移動（副走査）が繰り返される（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する主走査方向における相対移動が行われる毎に、基板９が塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動される。）（ステップＳ１２〜Ｓ１４）。このとき、塗布装置１では、副走査方向に関し、基板９上において有機ＥＬ液の塗布が進行する方向（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動方向）は、基板移動機構１２による基板９の移動方向とは反対向きとなっている。

そして、１番目の線状領域９３ａから領域ピッチＶの６β倍だけ離れた全ての線状領域９３に線状要素９４が形成されると（有機ＥＬ液が塗布されると）（ステップＳ１２）、基板９が（−Ｙ）方向へと移動して塗布開始位置の近傍へと戻される（ステップＳ１３，Ｓ１４）。正確には、副走査方向に関して、基板９が塗布開始位置から（＋Ｙ）側に領域ピッチＶの３倍だけ離れた位置へと配置され、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１が、図５の基板９上の１番目の線状領域９３ａから（−Ｙ）側に領域ピッチＶの３倍、９倍、１５倍、２１倍、２７倍だけそれぞれ離れた５つの線状領域９３と同位置に配置される。その後、塗布ヘッド１４が主走査方向に連続的に移動することにより、複数の吐出口１７１にそれぞれ対応する基板９上の複数の線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。これにより、図６に示すように、副走査方向に関して互いに隣接する既存の２つの線状要素９４（図６中にて実線にて示す。）間の中央に新たな線状要素９４（図６中にて二点鎖線にて示す。）が形成される。

以降の処理では、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が完了する毎に、基板９が領域ピッチＶの３０倍の距離だけ副走査方向に移動することにより、１番目の線状領域９３ａから領域ピッチＶの（３＋６γ）倍（ただし、γは０以上の整数）だけ離れた全ての線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２〜Ｓ１４）。これにより、それぞれが主走査方向に伸びるとともに、副走査方向に吐出口ピッチＰよりも小さい一定の間隔（本実施の形態では、領域ピッチＶの３倍のピッチ）にて配列された複数の線状要素９４が主面９０上に形成される。

その後、基板９上への有機ＥＬ液の塗布を終了することが確認されると（ステップＳ１３）、５本のノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止され、塗布装置１による塗布動作が終了する。塗布装置１による塗布が終了した基板９は、他の塗布装置等へと搬送され、塗布装置１により塗布された有機ＥＬ液以外の他の２色の有機ＥＬ液が塗布される。なお、塗布装置１では、実際には複数の基板９に対して連続的に有機ＥＬ液の塗布が行われる。

ところで、仮に、比較例として複数のノズルの吐出口ピッチＰが領域ピッチＶの３倍（例えば、３００〜４５０μｍ）である塗布ヘッドを用いて基板９上に有機ＥＬ液の塗布を行った場合、複数の（５本の）ノズルのうち中央近傍の３本のノズルにより塗布された有機ＥＬ液の線状要素の周囲では、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、（＋Ｙ）側のノズルにより塗布された有機ＥＬ液の線状要素の周囲においても、直前の塗布ヘッドの主走査にて最も（−Ｙ）側のノズルにより塗布された有機ＥＬ液の線状要素の影響により、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなる。

しかしながら、（−Ｙ）側のノズル（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向後側のノズルであり、以下、「後側ノズル」という。）（ただし、塗布ヘッド１４に注目した場合、前側のノズルとなる。）により塗布された有機ＥＬ液の線状要素（以下、後側ノズルにて形成される線状要素を「後側線状要素」という。）の（−Ｙ）側には、他の有機ＥＬ液の線状要素は形成されておらず、（＋Ｙ）側にのみ、中央近傍のノズルにより並行して塗布された有機ＥＬ液の線状要素が配置されることとなる。このため、（−Ｙ）側の後側ノズルにより塗布された後側線状要素の周囲では、（＋Ｙ）側のノズルおよび中央近傍の３本のノズルにより塗布された線状要素の周囲と比べて有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が低くなってしまい、後側線状要素の乾燥速度が、（＋Ｙ）側の４本の線状要素よりも大きくなってしまう。

実際には、後側線状要素の周囲では、後側線状要素の（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が、後側線状要素の（＋Ｙ）側における濃度よりも低くなってしまい、後側線状要素の（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも早く乾燥してしまう。その結果、図７．Ａに示すように、半乾燥状態の有機ＥＬ材料にて形成される後側線状要素（（−Ｙ）側の線状要素であり、符号９４ａを付す。）において、（−Ｙ）側の部位（角状の突起を含む部位。（＋Ｙ）側の部位において同様。）の膜厚と（＋Ｙ）側の部位の膜厚との差Ｄ１（以下、「縁部膜厚差」という。）が他の線状要素９４（縁部膜厚差はほぼ０となっている。）に比べて大きくなり、複数の線状要素９４において主走査方向に垂直な断面の形状（すなわち、有機ＥＬ材料の分散状態）が一定にならなくなる。

そして、このように厚さに偏りがある有機ＥＬ材料の後側線状要素９４ａが、塗布領域に周期的に（すなわち、５本毎に）形成されると、塗布ムラ（ステッチングとも呼ばれる。）として認識されてしまい、製品となった後の有機ＥＬ表示装置における表示の質が低下してしまう場合がある。後側線状要素では、必ずしも同時に形成される他の線状要素側の部位の膜厚が当該部位とは反対側の部位の膜厚よりも小さくなる訳ではなく、塗布に用いられる有機ＥＬ液の種類によっては、同時に形成される他の線状要素側の部位の膜厚が当該部位とは反対側の部位の膜厚よりも大きくなることもある。

なお、仮に塗布ヘッドに１本のノズルのみを設け、図７．Ａの場合と同様のピッチにて塗布を行う場合には、基板９上における複数の線状要素はほぼ一定の条件にて形成されることとなり、図７．Ｂに示すように、複数の線状要素９４において主走査方向に垂直な断面の形状はほぼ一定となる。この場合、塗布ムラは認識されないが、基板９の全体への線状要素９４の形成に要する時間（タクト時間）が長くなってしまう。

ここで、塗布ヘッド１４における吐出口ピッチＰと、有機ＥＬ材料にて形成される後側線状要素９４ａの縁部膜厚差との関係について述べる。図８は、塗布ヘッド１４における吐出口ピッチＰと、後側線状要素９４ａにおける縁部膜厚差Ｄ１との関係を示す図であり、横軸に吐出口ピッチＰを示し、縦軸に所定の測定器（段差計）にて測定した後側線状要素９４ａの縁部膜厚差Ｄ１を示している。有機ＥＬ液としては、例えば４−メチルアニソール（沸点１７４℃）、メシチレン（沸点１６５℃）、または、テトラリン（沸点２０７℃）を含むものを用いている。

図８に示すように、吐出口ピッチＰを５００、７５０、１０００μｍにそれぞれ変更した場合における後側線状要素９４ａの縁部膜厚差Ｄ１はそれぞれ１１５、９１、６１オングストローム（Å）となり、吐出口ピッチＰの増大に従って後側線状要素９４ａにおける縁部膜厚差が小さくなることが判る。したがって、塗布ヘッド１４において吐出口ピッチＰを大きな値として設定することにより、後側線状要素９４ａにおいて、周囲の雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が他の線状要素９４の影響を受けることが抑制されるといえる。なお、他の線状要素９４では縁部膜厚差が、測定器の検出限界である５０オングストローム以下となっている。

実際には、吐出口ピッチＰを大きな値とすることにより、一度の主走査により形成される複数の線状要素９４のそれぞれにおいて、周囲の雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が他の線状要素９４の影響により上昇することが抑制されるため、複数の吐出口１７１から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上して、複数の線状要素９４において縁部膜厚差のばらつき（すなわち、断面形状のばらつき）を低減することが可能となる。

基板９上に形成される全ての線状要素９４のそれぞれにおいて、周囲の雰囲気中における有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の他の線状要素９４による影響を低減するという観点では、副走査直後の各吐出口１７１と副走査直前の主走査時に形成された最寄りの線状要素９４との副走査方向の距離（以下、「副走査前後での各吐出口１７１と線状要素９４との間の距離」という。）も考慮する必要があり、互いに隣接する吐出口１７１間の副走査方向の距離（すなわち、吐出口ピッチＰ）、および、副走査前後での各吐出口１７１と線状要素９４との間の距離を６００μｍ（０．６ミリメートル（ｍｍ））以上にすることにより、複数回の主走査にて複数の吐出口１７１からの有機ＥＬ液の吐出により形成された全ての線状要素９４における縁部膜厚差のばらつきを、実用上好ましい程度まで低減することができる。また、互いに隣接する吐出口１７１間の副走査方向の距離、および、副走査前後での各吐出口１７１と線状要素９４との間の距離を１０００μｍ（１ｍｍ）以上にすることにより、複数の吐出口１７１から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性をさらに向上させて、複数の線状要素９４における縁部膜厚差のばらつきをほぼ無視できる程度まで低減することができる。

既述のように、図１の塗布装置１では、副走査方向に関して互いに隣接する吐出口１７１間の距離（すなわち、吐出口ピッチＰ）が領域ピッチＶの６倍である複数の吐出口１７１のそれぞれから、基板９上の線状領域９３に向けて有機ＥＬ液を吐出しつつ、塗布ヘッド１４を主走査方向に基板９に対して相対的に移動することにより、基板９上に吐出口ピッチＰにて配列された複数の線状要素９４がほぼ一定の断面形状にて形成される。また、塗布ヘッド１４が副走査方向に間欠的に相対移動する際に、副走査方向への相対移動直後の各吐出口１７１が、副走査方向への相対移動直前の塗布ヘッド１４の主走査方向への相対移動により有機ＥＬ液が塗布されたいずれの線状領域９３からも副走査方向に関して領域ピッチＶの６倍以上離れるように塗布ヘッド１４の副走査方向への相対移動が制御されることにより、塗布ヘッド１４の直前の主走査により塗布された有機ＥＬ液の影響により、塗布ヘッド１４の次の主走査により塗布される複数の線状要素９４（特に、直前の主走査にて形成された線状要素９４近傍のもの）の断面形状が乱れることが抑制される。

このように、塗布装置１では、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１により塗布される有機ＥＬ液の複数の線状要素９４において互いに影響し合う程度が小さくなるように、互いに隣接する吐出口１７１間の副走査方向の距離、および、副走査前後での各吐出口１７１と線状要素９４との間の距離を領域ピッチＶの６倍以上に設定することにより、複数の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性を向上することができる。その結果、基板９上に形成される有機ＥＬ材料の線状要素９４の断面形状の不均一性を低減して、基板９を用いて製造される有機ＥＬ表示装置において塗布ムラによる表示の質の低下を抑制することができる。

塗布装置１の上記動作例では、基板９が（＋Ｙ）方向に間欠的に移動して塗布ヘッド１４が基板９の（−Ｙ）側の端部近傍まで到達すると、基板９が塗布開始位置の近傍へと戻されて再度基板９が（＋Ｙ）方向に間欠的に移動することにより、基板移動機構１２に対する移動制御の簡素化が図られるが、塗布ヘッド１４が基板９の（−Ｙ）側の端部近傍まで到達した後の副走査では、基板９が（−Ｙ）方向に間欠的に移動してもよい。

例えば、基板９が（＋Ｙ）方向に間欠的に移動することにより、上記動作例と同様に１番目の線状領域９３ａおよび線状領域９３ａから領域ピッチＶの６β倍（ただし、βは正の整数）だけ離れた全ての線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布されると、その後、基板９が（−Ｙ）方向に間欠的に移動することにより、既存の線状要素９４から領域ピッチＶの３倍だけずれた線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される。

このとき、副走査直後の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により塗布されたいずれの線状要素９４からも副走査方向に領域ピッチＶの６倍以上離れる必要があるため、既存の線状要素９４から領域ピッチＶの３倍だけ離れた線状領域９３のみに着目して、１回目の主走査では（−Ｙ）側から６ないし１０番目の線状領域９３（互いに領域ピッチＶの６倍だけ離れた５個の線状領域９３）に対して有機ＥＬ液の塗布が行われ、２回目の主走査では（−Ｙ）側から１ないし５番目の線状領域９３に対して有機ＥＬ液の塗布が行われ、３回目の主走査では（−Ｙ）側から１１ないし１５番目の線状領域９３に対して有機ＥＬ液の塗布が行われ、４回目以降の主走査では（＋Ｙ）方向に向かって連続する５個の線状領域９３毎の有機ＥＬ液の塗布が順次行われる。これにより、基板９を塗布開始位置の近傍まで戻すことなく、基板９の塗布領域９１の全体に領域ピッチＶの３倍のピッチにて複数の線状要素９４を短時間に形成することが実現される。なお、塗布領域９１の（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側の非塗布領域に有機ＥＬ液が塗布される場合があるが、既述のように、非塗布領域にマスクを予め設けることにより、不要な有機ＥＬ液はマスクと共に除去される。副走査方向の非塗布領域にマスクを設ける以外に、ノズルを個別にＯＮ／ＯＦＦすることで、非塗布領域に対応するノズルが塗布をやめてもよい。また、非塗布領域に塗布液が塗布されても問題無い場合（配線パターンなどが無い場合等）は、非塗布領域に塗布液が塗布されてもよい。

このように、既存の線状要素９４から領域ピッチＶの３倍だけずれた線状領域９３に有機ＥＬ液を塗布する際には（すなわち、塗布ヘッド１４が基板９の（−Ｙ）側の端部近傍まで到達した後の塗布動作では）、２回目の主走査の直前の副走査では例外的に基板９が（＋Ｙ）方向に移動するが、塗布装置１では、基板９を副走査方向に移動する際に、塗布ヘッド１４が副走査方向における基板９の端部近傍に到達するまで、原則として同一の向きに基板９を副走査方向に間欠的に移動することにより、基板移動機構１２に対する移動制御を簡素化することが可能となる。もちろん、吐出口ピッチＰが領域ピッチＶの９倍とされ、塗布ヘッド１４が副走査方向における基板９の一方の端部から他方の端部に至るまで副走査を繰り返す動作を３回（１回の副走査時の移動距離によっては、４回以上であってもよい。）行うことにより、複数の線状要素９４が領域ピッチＶの３倍の間隔にて配列形成されてもよい。

また、塗布ヘッド１４において吐出口ピッチＰが領域ピッチＶの１２倍以上とされる場合には、基板９の副走査方向への移動距離が塗布ヘッド１４の主走査毎に変更されてもよい。例えば、吐出口ピッチＰが領域ピッチＶの１２倍とされ、最初の塗布ヘッド１４の主走査にて１番目の線状領域９３ａ、および、線状領域９３ａから（−Ｙ）側に領域ピッチＶの１２倍、２４倍、３６倍、４８倍だけそれぞれ離れた５つの線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布され、その後、基板９が領域ピッチＶの６倍の距離だけ（＋Ｙ）方向に副走査して、次の主走査にて１番目の線状領域９３ａから（−Ｙ）側に領域ピッチＶの６倍、１８倍、３０倍、４２倍、５４倍だけそれぞれ離れた５つの線状領域９３に有機ＥＬ液が塗布される。次の基板９の副走査では、基板９が領域ピッチＶの５４倍の距離だけ副走査して、複数の吐出口１７１が直前の主走査にて塗布されたいずれの線状要素９４からも領域ピッチＶの６倍以上離れた状態で、塗布ヘッド１４が主走査する。

このように、塗布ヘッド１４において吐出口ピッチＰが１２倍とされる場合には、副走査時の基板９の移動距離を領域ピッチＶの６倍と領域ピッチＶの５４倍とに交互に切り替えることにより、副走査直後の塗布ヘッド１４の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により有機ＥＬ液が塗布されたいずれの線状領域９３からも副走査方向に関して領域ピッチＶの６倍以上離れるようにすることができ、複数の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性を向上することが可能となる。もちろん、吐出口ピッチＰが領域ピッチＶの１８倍とされて、副走査時の基板９の移動距離が、領域ピッチＶの６倍、６倍、７８倍の順に変更されてもよい。

以上のように、塗布装置１では、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１において副走査方向に関して互いに隣接する吐出口１７１間の距離を領域ピッチＶの３Ｋ倍（ただし、Ｋは２以上の整数）に設定しつつ、副走査直後の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により有機ＥＬ液が塗布されたいずれの線状領域９３からも副走査方向に関して領域ピッチＶの６倍以上（好ましくは０．６ｍｍ以上、より好ましくは１．０ｍｍ以上であり、実際は基板９のＹ方向の幅以下）離れるように副走査方向への基板９の移動が制御されることにより、複数の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性を向上して、基板９上に形成される線状要素９４の断面形状のばらつきを低減することができる。

以上に説明した動作例では、塗布ヘッド１４における吐出口ピッチＰを領域ピッチＶの３Ｋ倍とすることにより、同一色の発光材料を含む有機ＥＬ液にて形成される複数の線状要素９４を領域ピッチＶの３倍のピッチにて主面９０上に配列して、基板９上に発光材料のパターンを適切に形成することが実現されるが、流動性材料として、揮発性の溶媒（例えば、水）に加えて正孔輸送材料を含むものが基板９に塗布されてもよい。なお、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。

この場合、塗布ヘッド１４の複数の吐出口１７１において副走査方向に関して互いに隣接する吐出口１７１間の距離を領域ピッチＶのｎ倍（ただし、ｎは６以上の整数）に設定し（好ましくは０．６ｍｍ以上、より好ましくは１．０ｍｍ以上とされ、実用上は１０．０ｍｍ以下に設定される。）、副走査直後の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により流動性材料が塗布されたいずれの線状領域９３からも副走査方向に関して領域ピッチＶの６倍以上離れるように基板９の副走査方向への移動を制御しつつ、塗布ヘッド１４の主走査および基板９の副走査が繰り返される。これにより、当該流動性材料にて形成される複数の線状要素をおよそ一定の断面形状としつつ、一定の間隔（通常、領域ピッチＶ）にて副走査方向に配列形成することが可能となる。

また、正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布の際に、領域ピッチＶの幅によっては、塗布ヘッド１４において副走査方向に関して互いに隣接する吐出口１７１間の距離を０．６ｍｍ以上（より好ましくは１．０ｍｍ以上であり、実用上は１０．０ｍｍ以下）となる領域ピッチＶのｍ倍（ただし、ｍは２以上の整数）に設定しつつ、副走査直後の塗布ヘッド１４の各吐出口１７１が、副走査直前の塗布ヘッド１４の主走査により流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも副走査方向に関して０．６ｍｍ以上（より好ましくは１．０ｍｍ以上であり、実際は基板９のＹ方向の幅以下）離れるように副走査方向への基板９の移動が制御される。この場合も、複数の吐出口１７１から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上して、乾燥後の線状要素の断面形状のばらつきを抑制することが可能となり、有機ＥＬ表示装置において正孔輸送層の断面形状のばらつきに依存する表示の質の低下を抑制することができる。

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。

塗布装置では、例えば、塗布ヘッド１４に３本のノズル１７が設けられ、これらのノズル１７から赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合も、吐出口ピッチＰは、領域ピッチＶの６倍以上、または、０．６ｍｍ以上とされる。また、塗布ヘッド１４では、流動性材料を吐出するノズル１７は２本以上とされるのであるならば、いかなる本数であってもよい。

塗布装置では、基板移動機構１２による基板９および基板保持部１１の移動に代えて、塗布ヘッド１４が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板９の塗布ヘッド１４に対する相対移動が行われてもよい。また、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動に代えて、基板９および基板保持部１１が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動が行われてもよい。

上記実施の形態における処理対象の基板９では、線状領域９３が隔壁９２により規定されるが、塗布装置１では隔壁が形成されていない基板９上に流動性材料を塗布することも可能である。この場合、主走査方向に伸びる複数の線状領域が最終製品である表示装置の画素の間隔に従って副走査方向に一定の領域ピッチにて仮想的に主面９０上に配列設定されていると捉えた上で、塗布装置１による流動性材料の塗布が行われる。

塗布装置は、１枚の基板から複数の有機ＥＬ表示装置を製造する（いわゆる、多面取りを行う）場合にも利用できる。また、上記実施の形態では、基板９上に付与する材料として有機ＥＬ表示装置用の画素形成材料（有機ＥＬ材料または正孔輸送材料）を含む流動性材料を塗布装置１を用いて基板９上に塗布することにより、有機ＥＬ表示装置における塗布ムラによる表示の質の低下が抑制されるが、ノズルプリンティング方式の塗布装置１は、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の他の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。この場合も、平面表示装置において、塗布ムラによる表示の質の低下を抑制することが可能となる。

また、塗布装置１は、平面表示装置用の基板以外に、半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。

塗布装置を示す平面図である。 塗布装置の正面図である。 複数のノズル近傍を拡大して示す図である。 有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。 有機ＥＬ液の塗布途上の基板を示す図である。 基板上の線状要素の断面を示す図である。 比較例の塗布ヘッドにて形成される線状要素の断面を示す図である。 他の比較例の塗布ヘッドにて形成される線状要素の断面を示す図である。 塗布ヘッドにおける吐出口ピッチと後側線状要素における縁部膜厚差との関係を示す図である。

符号の説明

１ 塗布装置
２ 制御部
９ 基板
１１ 基板保持部
１２ 基板移動機構
１４ 塗布ヘッド
１５ ヘッド移動機構
９０ 主面
９３，９３ａ〜９３ｅ 線状領域
９４ 線状要素
１７１ 吐出口
Ｓ１１〜Ｓ１４ ステップ
Ｖ 領域ピッチ

Claims (9)

1. 基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
   それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を保持する基板保持部と、
   前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が前記領域ピッチのｎ倍（ただし、ｎは６以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、
   前記吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動が完了する毎に、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動することにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する移動機構と、
   前記基板の前記副走査方向への相対移動直後における前記吐出機構の各吐出口が、前記副走査方向への相対移動直前における前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動により前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して前記領域ピッチの６倍以上離れるように、前記基板の前記吐出機構に対する前記副走査方向への相対移動を制御する制御部と、
   を備えることを特徴とする塗布装置。
2. 請求項１に記載の塗布装置であって、
   前記副走査方向に関して前記互いに隣接する吐出口間の距離が、０．６ミリメートル以上であることを特徴とする塗布装置。
3. 請求項１または２に記載の塗布装置であって、
   前記複数の吐出口から吐出される前記流動性材料が、同一色の発光材料を含み、
   前記一定の間隔が、前記領域ピッチの３倍であることを特徴とする塗布装置。
4. 基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
   それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を保持する基板保持部と、
   前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が０．６ミリメートル以上となる前記領域ピッチのｍ倍（ただし、ｍは２以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、
   前記吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動が完了する毎に、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動することにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する移動機構と、
   前記基板の前記副走査方向への相対移動直後における前記吐出機構の各吐出口が、前記副走査方向への相対移動直前における前記吐出機構の前記主走査方向への相対移動により前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して０．６ミリメートル以上離れるように、前記基板の前記吐出機構に対する前記副走査方向への相対移動を制御する制御部と、
   を備えることを特徴とする塗布装置。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記副走査方向に関して前記互いに隣接する吐出口間の距離が、１．０ミリメートル以上であることを特徴とする塗布装置。
6. 請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記移動機構が、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する際に、前記吐出機構が前記副走査方向における前記基板の端部近傍に到達するまで、同一の向きに前記基板を前記副走査方向に間欠的に相対移動することを特徴とする塗布装置。
7. 請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記基板上に付与する材料が、有機ＥＬ表示装置用の画素形成材料であることを特徴とする塗布装置。
8. 基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
   ａ）それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を準備する工程と、
   ｂ）前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が前記領域ピッチのｎ倍（ただし、ｎは６以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出しつつ、前記複数の吐出口を有する吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
   ｃ）前記吐出機構の各吐出口が直前の前記ｂ）工程にて前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して前記領域ピッチの６倍以上離れるように、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、
   ｄ）前記ｂ）工程および前記ｃ）工程を繰り返すことにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する工程と、
   を備えることを特徴とする塗布方法。
9. 基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
   ａ）それぞれが所定の主走査方向に伸びる複数の線状領域が前記主走査方向に垂直な副走査方向に一定の領域ピッチにて主面上に配列設定された基板を準備する工程と、
   ｂ）前記副走査方向に関して、互いに隣接する吐出口間の距離が０．６ミリメートル以上となる前記領域ピッチのｍ倍（ただし、ｍは２以上の整数）である複数の吐出口のそれぞれから前記基板上の線状領域に向けて、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出しつつ、前記複数の吐出口を有する吐出機構を前記主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
   ｃ）前記吐出機構の各吐出口が直前の前記ｂ）工程にて前記流動性材料が塗布されたいずれの線状領域からも前記副走査方向に関して０．６ミリメートル以上離れるように、前記基板を前記副走査方向に前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、
   ｄ）前記ｂ）工程および前記ｃ）工程を繰り返すことにより、前記主走査方向に伸びるとともに前記副走査方向に一定の間隔にて配列される複数の線状要素を前記主面上に形成する工程と、
   を備えることを特徴とする塗布方法。

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