JP2009036969A - Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device - Google Patents

Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device Download PDF

Info

Publication number
JP2009036969A
JP2009036969A JP2007200740A JP2007200740A JP2009036969A JP 2009036969 A JP2009036969 A JP 2009036969A JP 2007200740 A JP2007200740 A JP 2007200740A JP 2007200740 A JP2007200740 A JP 2007200740A JP 2009036969 A JP2009036969 A JP 2009036969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
preparation
mark
optical system
sample
imaging optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007200740A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masabumi Mimura
正文 三村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2007200740A priority Critical patent/JP2009036969A/en
Publication of JP2009036969A publication Critical patent/JP2009036969A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a preparation capable of smoothly providing position information on an imaging optical system of a microscopic device to a field of view. <P>SOLUTION: A praparat, a prepared specimen includes a sample to be observed by the microscopic device. The praparat has a plurality of marks arranged at predetermined spacings, and each of the marks includes a specific pattern corresponding to its arranged position. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、顕微鏡装置で観察するためのカバーガラス、スライドガラス、プレパラート、顕微鏡装置を用いる観察方法、及び顕微鏡装置に関する。   The present invention relates to a cover glass, a slide glass, a preparation, an observation method using a microscope apparatus, and a microscope apparatus for observation with a microscope apparatus.

顕微鏡装置は、対物レンズ等を含む結像光学系を備えており、カバーガラスとスライドガラスとを有するプレパラートは、結像光学系を介して観察される。従来より、プレパラートの観察対象領域を顕微鏡装置で観察する際、結像光学系を低倍率に設定し、プレパラートを適宜移動して、結像光学系の視野内にプレパラートの観察対象領域を配置する動作と、結像光学系の視野内にプレパラートの観察対象領域を配置した後、結像光学系を高倍率に変換する動作とが実行される。下記特許文献１には、結像光学系の倍率を変換する倍率変換光学系を備えた顕微鏡装置に関する技術の一例が開示されている。
米国特許第６４５６４３０号明細書 The microscope apparatus includes an imaging optical system including an objective lens and the like, and a preparation having a cover glass and a slide glass is observed through the imaging optical system. Conventionally, when observing a preparation observation area with a microscope apparatus, the imaging optical system is set to a low magnification, the preparation is moved as appropriate, and the preparation observation area is arranged in the field of view of the imaging optical system. The operation and the operation of converting the imaging optical system to a high magnification after the preparation observation target region is arranged in the field of view of the imaging optical system are executed. Patent Document 1 below discloses an example of a technique related to a microscope apparatus provided with a magnification conversion optical system that converts the magnification of an imaging optical system.
US Pat. No. 6,456,430

プレパラートに対する観察動作を円滑にするために、結像光学系の視野内に、プレパラート上のどの領域が配置されているのかを把握することが有効である。そのため、結像光学系の視野とプレパラートとの位置関係を円滑に把握できる技術の案出が望まれる。   In order to make the observation operation for the slide smooth, it is effective to grasp which region on the slide is arranged in the field of view of the imaging optical system. Therefore, it is desired to devise a technique that can smoothly grasp the positional relationship between the field of view of the imaging optical system and the preparation.

本発明は、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができるカバーガラスを提供することを目的とする。また本発明は、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができるスライドガラスを提供することを目的とする。また本発明は、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができるプレパラートを提供することを目的とする。また本発明は、プレパラートの観察動作を円滑に実行できる観察方法を提供することを目的とする。また本発明は、プレパラートの観察動作を円滑に実行できる顕微鏡装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the cover glass which can obtain | require the positional information smoothly with respect to the visual field of the imaging optical system of a microscope apparatus. It is another object of the present invention to provide a slide glass capable of smoothly obtaining position information with respect to the field of view of an imaging optical system of a microscope apparatus. Another object of the present invention is to provide a preparation capable of smoothly obtaining positional information with respect to the field of view of an imaging optical system of a microscope apparatus. It is another object of the present invention to provide an observation method capable of smoothly executing a preparation observation operation. It is another object of the present invention to provide a microscope apparatus that can smoothly execute a preparation observation operation.

上記の課題を解決するため、本発明を例示する各態様として実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。   In order to solve the above-described problems, the following configurations corresponding to the respective drawings shown in the embodiments are adopted as each aspect illustrating the present invention. However, the reference numerals with parentheses attached to each element are merely examples of the element and do not limit each element.

本発明を例示する第１の態様に従えば、試料（Ｓ）を観察するための顕微鏡装置（２１）に使用されるカバーガラスであって、所定間隔で配置された複数のマーク（１０）を備え、マーク（１０）のそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むカバーガラス（３）が提供される。   According to a first aspect illustrating the present invention, a cover glass used in a microscope apparatus (21) for observing a sample (S), wherein a plurality of marks (10) arranged at predetermined intervals are provided. Each of the marks (10) is provided with a cover glass (3) including a unique pattern depending on the position where it is arranged.

本発明を例示する第１の態様によれば、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができる。   According to the first aspect illustrating the present invention, position information with respect to the field of view of the imaging optical system of the microscope apparatus can be obtained smoothly.

本発明を例示する第２の態様に従えば、試料（Ｓ）を観察するための顕微鏡装置（２１）に使用されるスライドガラスであって、所定間隔で配置された複数のマーク（１０）を備え、マーク（１０）のそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むスライドガラス（２）が提供される。   According to a second aspect illustrating the present invention, a slide glass used in a microscope apparatus (21) for observing a sample (S), wherein a plurality of marks (10) arranged at predetermined intervals are provided. Each of the marks (10) is provided with a slide glass (2) including a unique pattern according to the position where it is arranged.

本発明を例示する第２の態様によれば、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができる。   According to the second aspect exemplifying the present invention, position information with respect to the field of view of the imaging optical system of the microscope apparatus can be obtained smoothly.

本発明を例示する第３の態様に従えば、顕微鏡装置（２１）で観察するための試料（Ｓ）を含むプレパラートであって、所定間隔で配置された複数のマーク（１０）を備え、前記マーク（１０）のそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むプレパラート（１）が提供される。   According to a third aspect illustrating the present invention, the preparation includes a sample (S) for observation with a microscope device (21), and includes a plurality of marks (10) arranged at predetermined intervals, Each of the marks (10) is provided with a preparation (1) including a unique pattern according to the position where the marks (10) are arranged.

本発明を例示する第３の態様によれば、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を円滑に求めることができる。   According to the third aspect exemplifying the present invention, position information with respect to the field of view of the imaging optical system of the microscope apparatus can be obtained smoothly.

本発明を例示する第４の態様に従えば、顕微鏡装置（２１）を用いた試料（Ｓ）の観察方法であって、第１の態様のカバーガラス（３）を用いる観察方法が提供される。   According to the fourth aspect exemplifying the present invention, there is provided an observation method of the sample (S) using the microscope apparatus (21) and using the cover glass (3) of the first aspect. .

本発明を例示する第４の態様によれば、観察動作を円滑に実行できる。   According to the 4th mode which illustrates the present invention, observation operation can be performed smoothly.

本発明を例示する第５の態様に従えば、顕微鏡装置（２１）を用いた試料（Ｓ）の観察方法であって、第２の態様のスライドガラス（２）を用いる観察方法が提供される。   According to the fifth aspect exemplifying the present invention, there is provided an observation method of the sample (S) using the microscope apparatus (21) and using the slide glass (2) of the second aspect. .

本発明を例示する第５の態様によれば、観察動作を円滑に実行できる。   According to the fifth aspect illustrating the present invention, the observation operation can be executed smoothly.

本発明を例示する第６の態様に従えば、顕微鏡装置（２１）を用いた試料（Ｓ）の観察方法であって、第３の態様のプレパラート（１）を用いる観察方法が提供される。   According to the sixth aspect illustrating the present invention, there is provided an observation method of the sample (S) using the microscope apparatus (21) and using the preparation (1) of the third aspect.

本発明を例示する第６の態様によれば、観察動作を円滑に実行できる。   According to the sixth aspect illustrating the present invention, the observation operation can be executed smoothly.

本発明を例示する第７の態様に従えば、顕微鏡装置（２１）を用いるプレパラート（１）の試料（Ｓ）の観察方法であって、プレパラート（１）に配置されたマーク（１０）を顕微鏡装置（２１）で観察して、顕微鏡装置（２１）の結像光学系（３３）の視野に対するプレパラート（１）の位置情報を求めることと、位置情報に基づいて、視野に対するプレパラート（１）の位置を調整することと、を含む観察方法が提供される。   According to a seventh aspect illustrating the present invention, there is provided a method for observing a sample (S) of a preparation (1) using a microscope apparatus (21), wherein the mark (10) arranged on the preparation (1) is a microscope. The position information of the preparation (1) with respect to the visual field of the imaging optical system (33) of the microscope apparatus (21) is obtained by observing with the apparatus (21), and the preparation (1) of the preparation with respect to the visual field is determined based on the position information. Adjusting the position is provided.

本発明を例示する第７の態様によれば、プレパラートの観察動作を円滑に実行できる。   According to the 7th aspect which illustrates this invention, the observation operation of a preparation can be performed smoothly.

本発明を例示する第８の態様に従えば、プレパラート（１）の試料（Ｓ）を観察する顕微鏡装置であって、結像光学系（３３）と、結像光学系（３３）の物体面側でプレパラート（１）を支持する支持部材（２６）と、結像光学系（３３）の像面側に配置され、プレパラート（１）に配置されたマーク（１０）の像情報を取得可能な撮像装置（２８）と、撮像装置（２８）で取得したマーク（１０）の像情報に基づいて、結像光学系（３３）の視野に対するプレパラート（１）の位置情報を求める処理装置（２２）と、を備えた顕微鏡装置（２０）が提供される。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a microscope apparatus for observing the sample (S) of the preparation (1), the imaging optical system (33) and the object plane of the imaging optical system (33). It is possible to obtain image information of the support member (26) supporting the preparation (1) on the side and the image plane side of the imaging optical system (33) and the mark (10) arranged on the preparation (1). Based on the image information of the imaging device (28) and the mark (10) acquired by the imaging device (28), the processing device (22) for obtaining position information of the preparation (1) with respect to the field of view of the imaging optical system (33) A microscope apparatus (20) is provided.

本発明を例示する第８の態様によれば、プレパラートの観察動作を円滑に実行できる。   According to the 8th aspect which illustrates this invention, the observation operation of a preparation can be performed smoothly.

本発明によれば、顕微鏡装置の結像光学系の視野に対するプレパラートの位置情報を円滑に求めることができる。また本発明によれば、プレパラートの観察動作を円滑に実行できる。   According to the present invention, the position information of the preparation with respect to the field of view of the imaging optical system of the microscope apparatus can be obtained smoothly. Moreover, according to the present invention, the preparation observation operation can be smoothly executed.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら例示的に説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be exemplarily described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. The predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the vertical direction) is the Z-axis direction. To do. Further, the rotation (inclination) directions around the X axis, Y axis, and Z axis are the θX, θY, and θZ directions, respectively.

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係るプレパラート１を示す斜視図である。プレパラート１は、顕微鏡装置で観察するための試料Ｓを含む。図１において、プレパラート１は、試料Ｓが載せられたスライドガラス２と、スライドガラス２上の試料Ｓを覆うカバーガラス３とを含む。 <First Embodiment>
A first embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a preparation 1 according to the first embodiment. The preparation 1 includes a sample S for observation with a microscope apparatus. In FIG. 1, a preparation 1 includes a slide glass 2 on which a sample S is placed and a cover glass 3 that covers the sample S on the slide glass 2.

スライドガラス２は、プレート状の部材であり、表面４及び裏面５を有する。カバーガラス３は、プレート状の部材であり、表面６及び裏面７を有する。本実施形態においては、試料Ｓは、スライドガラス２の表面４に載せられており、スライドガラス２の表面４とカバーガラス３の裏面７とが対向するように配置されている。すなわち、試料Ｓは、スライドガラス２の表面４とカバーガラス３の裏面７との間に配置されている。   The slide glass 2 is a plate-like member and has a front surface 4 and a back surface 5. The cover glass 3 is a plate-like member and has a front surface 6 and a back surface 7. In the present embodiment, the sample S is placed on the front surface 4 of the slide glass 2 and is disposed so that the front surface 4 of the slide glass 2 and the back surface 7 of the cover glass 3 face each other. That is, the sample S is disposed between the front surface 4 of the slide glass 2 and the back surface 7 of the cover glass 3.

以下の説明において、スライドガラス２の表面４及びカバーガラス３の表面６を合わせて適宜、プレパラート１の表面８、と称する。本実施形態においては、プレパラート１の表面８が、ＸＹ平面と平行である場合を例にして説明する。また、本実施形態においては、カバーガラス３がスライドガラス２の＋Ｚ側（上側）に配置されている場合を例にして説明する。また、本実施形態においては、スライドガラス２の表面４及びカバーガラス３の表面６を含むプレパラート１の表面８は、＋Ｚ側を向いている。   In the following description, the surface 4 of the slide glass 2 and the surface 6 of the cover glass 3 are appropriately referred to as the surface 8 of the preparation 1. In the present embodiment, a case where the surface 8 of the preparation 1 is parallel to the XY plane will be described as an example. Moreover, in this embodiment, the case where the cover glass 3 is arrange | positioned at the + Z side (upper side) of the slide glass 2 is demonstrated as an example. In the present embodiment, the surface 8 of the preparation 1 including the surface 4 of the slide glass 2 and the surface 6 of the cover glass 3 faces the + Z side.

プレパラート１は、所定間隔で配置された複数のマーク１０を有する。マーク１０は、プレパラート１の表面８と平行なＸＹ平面内において、所定間隔でプレパラート１上に複数配置されている。本実施形態においては、マーク１０は、カバーガラス３の表面６に配置されている。   The preparation 1 has a plurality of marks 10 arranged at a predetermined interval. A plurality of marks 10 are arranged on the preparation 1 at predetermined intervals in an XY plane parallel to the surface 8 of the preparation 1. In the present embodiment, the mark 10 is disposed on the surface 6 of the cover glass 3.

マーク１０のそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含む。本実施形態においては、マーク１０は、バーコードパターンを含む。   Each of the marks 10 includes a unique pattern corresponding to the position where it is arranged. In the present embodiment, the mark 10 includes a barcode pattern.

図２（Ａ）は、プレパラート１の表面８の一部を拡大した図、図２（Ｂ）は、マーク１０を拡大した図（図２（Ａ）の符号Ｋ１の領域を拡大した図）である。図２に示すように、プレパラート１に配置されているマーク１０は、バーコードパターンを含む。   2A is an enlarged view of a part of the surface 8 of the preparation 1, and FIG. 2B is an enlarged view of the mark 10 (an enlarged view of a region indicated by reference sign K 1 in FIG. 2A). is there. As shown in FIG. 2, the mark 10 arranged on the preparation 1 includes a barcode pattern.

図２（Ａ）に示すように、本実施形態において、マーク１０は、プレパラート１の表面８と平行なＸＹ平面内において、８１ヵ所に配置されている。本実施形態においては、プレパラート１の表面８（カバーガラス３の表面６）において、Ｘ軸方向に９つ配置されたマーク１０のグループ（マーク群）が、Ｙ軸方向に９つ配置されている。すなわち、本実施形態においては、マーク１０は、プレパラート１の表面８において、９行９列のマトリクス状に配置されている。   As shown in FIG. 2A, in the present embodiment, the marks 10 are arranged at 81 locations in the XY plane parallel to the surface 8 of the preparation 1. In the present embodiment, nine groups (mark groups) of nine marks 10 arranged in the X-axis direction are arranged in the Y-axis direction on the surface 8 of the preparation 1 (the surface 6 of the cover glass 3). . That is, in the present embodiment, the marks 10 are arranged in a 9 × 9 matrix on the surface 8 of the preparation 1.

以下の説明において、Ｙ軸方向に関してマーク１０が形成される位置を適宜、行、で表し、Ｘ軸方向に関してマーク１０が形成される位置を適宜、列、で表す。すなわち、８１個のマーク１０のそれぞれは、ｉ行ｊ列のマーク１０、あるいは（ｉ，ｊ）のマーク１０、と表される。例えば、図２（Ａ）中、最も＋Ｘ側且つ最も−Ｙ側に配置されているマーク１０は、１行１列のマーク１０、あるいは（１，１）のマーク１０、である。１行１列のマーク１０に対して−Ｘ側に配置されているマーク１０は、１行２列のマーク１０、あるいは（１，２）のマーク１０、である。１行１列のマーク１０に対して＋Ｙ側に配置されているマーク１０は、２行１列のマーク１０、あるいは（２，１）のマーク１０、である。また、図２（Ａ）中、最も−Ｘ側且つ最も＋Ｙ側に配置されているマーク１０は、９行９列のマーク１０、あるいは（９，９）のマーク１０、である。   In the following description, the position where the mark 10 is formed in the Y-axis direction is appropriately represented by a row, and the position where the mark 10 is formed in the X-axis direction is appropriately represented by a column. That is, each of the 81 marks 10 is represented as an i row j column 10 mark or an (i, j) mark 10. For example, in FIG. 2A, the mark 10 arranged on the most + X side and the most -Y side is a mark 10 in one row and one column or a mark 10 in (1, 1). The mark 10 arranged on the −X side with respect to the mark 10 in the first row and the first column is the mark 10 in the first row and the second column, or the mark 10 of (1, 2). The mark 10 arranged on the + Y side with respect to the mark 10 of 1 row and 1 column is the mark 10 of 2 rows and 1 column, or the mark 10 of (2, 1). In FIG. 2A, the mark 10 arranged on the most −X side and the most + Y side is the mark 10 in 9 rows and 9 columns, or the mark 10 in (9, 9).

マーク１０のそれぞれは、８１ヵ所それぞれの位置に応じた固有のバーコードパターンを含む。すなわち、各マーク１０のバーコードパターンは、それぞれ異なる形体を有する。例えば、（１，１）のマーク１０は、その（１，１）のマーク１０が形成されている位置に応じた固有のバーコードパターンを含み、（１，２）のマーク１０は、その（１，２）のマークが形成されている位置に応じた固有のバーコードパターンを含む。そして、各（ｉ、ｊ）のマーク１０のそれぞれが、その（ｉ、ｊ）のマーク１０が形成されている位置に応じた固有のバーコードパターンを含む。換言すれば、マーク１０のバーコードパターンは、そのマーク１０が形成されている位置を識別するための識別子として機能する。   Each of the marks 10 includes a unique barcode pattern corresponding to each of 81 positions. That is, the barcode pattern of each mark 10 has a different shape. For example, the mark 10 of (1, 1) includes a unique barcode pattern corresponding to the position where the mark 10 of (1, 1) is formed, and the mark 10 of (1, 2) 1, 2) includes a unique barcode pattern corresponding to the position where the mark of 1) is formed. Each (i, j) mark 10 includes a unique barcode pattern corresponding to the position where the (i, j) mark 10 is formed. In other words, the barcode pattern of the mark 10 functions as an identifier for identifying the position where the mark 10 is formed.

したがって、８１個のマーク１０のうち、所定のマーク１０のバーコードパターンを読み取ることにより、その読み取ったマーク１０が、８１個のマーク１０のうち、どの位置に形成されているマーク１０であるか（何行何列のマーク１０であるか）を求めることができる。換言すれば、８１個のマーク１０のうち、所定のマーク１０のバーコードパターンを読み取ることにより、その読み取ったマーク１０が形成されている位置が、マーク１０が形成されている８１ヵ所の位置のうち、どの位置であるか（何行何列のマーク１０が形成されている位置であるか）を求めることができる。   Accordingly, by reading the barcode pattern of a predetermined mark 10 out of 81 marks 10, the position of the read mark 10 is the mark 10 formed in the 81 marks 10. (How many rows and columns of marks 10) can be obtained. In other words, by reading the barcode pattern of a predetermined mark 10 out of 81 marks 10, the position where the read mark 10 is formed is the position of 81 positions where the mark 10 is formed. Among them, it is possible to determine which position (how many rows and columns where the mark 10 is formed).

また、本実施形態においては、プレパラート１の表面８と平行なＸＹ平面内において、試料Ｓとマーク１０とが重なるように配置されている。本実施形態においては、マーク１０は、カバーガラス３の表面６のほぼ全域に亘って形成されており、８１個のマーク１０のうち、少なくとも一部の複数のマーク１０が試料Ｓと重なるように配置される。   In the present embodiment, the sample S and the mark 10 are arranged so as to overlap in an XY plane parallel to the surface 8 of the preparation 1. In the present embodiment, the mark 10 is formed over almost the entire surface 6 of the cover glass 3, and at least some of the plurality of marks 10 out of the 81 marks 10 overlap the sample S. Be placed.

本実施形態のマーク１０（バーコードパターン）は、所定波長領域の光（励起光）が照射されたときに、蛍光を発する蛍光物質で形成されている。蛍光物質とは、所定波長領域の光（励起光）を吸収し、それにより励起された状態（励起状態）から元の状態（基底状態）に戻る際に光（蛍光）としてエネルギーを放出する特性を有する物質である。一般に、蛍光物質が発する蛍光の波長は、励起光の波長よりも長い。   The mark 10 (bar code pattern) of the present embodiment is formed of a fluorescent material that emits fluorescence when irradiated with light (excitation light) in a predetermined wavelength region. A fluorescent substance absorbs light (excitation light) in a predetermined wavelength region and emits energy as light (fluorescence) when returning from the excited state (excited state) to the original state (ground state). It is a substance having In general, the wavelength of fluorescence emitted from the fluorescent material is longer than the wavelength of excitation light.

なお、蛍光物質としては、例えば、ＧＦＰ（Green Fluorescent Protein）と呼ばれる蛍光タンパク質等、従来のものを用いることができる。   In addition, as a fluorescent substance, conventional things, such as a fluorescent protein called GFP (Green Fluorescent Protein), can be used, for example.

次に、本実施形態に係る顕微鏡システム２０について説明する。図３は、本実施形態に係る顕微鏡システム２０の一例を示す図である。図３において、顕微鏡システム２０は、プレパラート１の試料Ｓを観察する顕微鏡装置２１と、顕微鏡装置２１の動作を制御する制御装置２２と、制御装置２２に接続された表示装置２３とを備えている。制御装置２２は、コンピュータシステムを含む。表示装置２３は、例えば液晶ディスプレイのようなフラットパネルディスプレイを含む。   Next, the microscope system 20 according to the present embodiment will be described. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the microscope system 20 according to the present embodiment. In FIG. 3, the microscope system 20 includes a microscope device 21 that observes the sample S of the preparation 1, a control device 22 that controls the operation of the microscope device 21, and a display device 23 connected to the control device 22. . The control device 22 includes a computer system. The display device 23 includes a flat panel display such as a liquid crystal display.

図４は、顕微鏡装置２１を示す概略構成図である。図３及び図４において、顕微鏡装置２１は、第１光源装置３１と、第２光源装置３２と、対物レンズ３５等を含む光学システム２５と、プレパラート１を支持しながら移動可能なステージ２６と、接眼部２７と、物体の像情報を取得可能な撮像素子２８を含む観察カメラ２９とを備えている。撮像素子２８は、例えばＣＣＤ（charge coupled device）を含む。顕微鏡装置２１は、ボディ２４を備えており、第１光源装置３１、第２光源装置３２、光学システム２５、ステージ２６、接眼部２７、及び観察カメラ２９のそれぞれは、ボディ２４に支持される。   FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing the microscope apparatus 21. 3 and 4, the microscope apparatus 21 includes a first light source device 31, a second light source device 32, an optical system 25 including an objective lens 35 and the like, a stage 26 that can move while supporting the preparation 1, An eyepiece 27 and an observation camera 29 including an image sensor 28 capable of acquiring object image information are provided. The imaging element 28 includes, for example, a CCD (charge coupled device). The microscope device 21 includes a body 24, and each of the first light source device 31, the second light source device 32, the optical system 25, the stage 26, the eyepiece 27, and the observation camera 29 is supported by the body 24. .

光学システム２５は、第１光源装置３１から射出された光を用いてプレパラート１を照明する第１照明光学系３６と、第２光源装置３２から射出された光を用いてプレパラート１を照明する第２照明光学系４１と、第１照明光学系３６及び第２照明光学系４１の少なくとも一方で照明されたプレパラート１の像を、撮像素子２８、及び接眼部２７の近傍に形成する結像光学系３３とを備えている。撮像素子２８、接眼部２７は、結像光学系３３の像面側に配置されている。   The optical system 25 illuminates the preparation 1 using the first illumination optical system 36 that illuminates the preparation 1 using the light emitted from the first light source device 31 and the light emitted from the second light source device 32. Imaging optics that forms an image of the preparation 1 illuminated in at least one of the two illumination optical system 41, the first illumination optical system 36, and the second illumination optical system 41 in the vicinity of the image sensor 28 and the eyepiece 27. And a system 33. The image sensor 28 and the eyepiece 27 are disposed on the image plane side of the imaging optical system 33.

対物レンズ３５は、ステージ２６に支持されているプレパラート１の表面８と対向可能である。本実施形態においては、対物レンズ３５は、プレパラート１の＋Ｚ側（上方）に配置されている。   The objective lens 35 can face the surface 8 of the preparation 1 supported by the stage 26. In the present embodiment, the objective lens 35 is disposed on the + Z side (upward) of the preparation 1.

第１光源装置３１は、例えば水銀ランプを含み、プレパラート１上の蛍光物質から蛍光を発生させるための光（励起光）を射出する。本実施形態において、第１光源装置３１は、プレパラート１のマーク１０の観察時に、光を射出する。   The first light source device 31 includes, for example, a mercury lamp, and emits light (excitation light) for generating fluorescence from the fluorescent material on the preparation 1. In the present embodiment, the first light source device 31 emits light when observing the mark 10 of the preparation 1.

第１照明光学系３６は、第１光源装置３１から射出された光を用いて、所定波長領域の励起光でプレパラート１を照明する。第１照明光学系３６は、対物レンズ３５、及び励起光と蛍光とを分離可能なフィルタブロック３７を含む。対物レンズ３５は、プレパラート１を照明するための励起光を射出する。第１照明光学系３６は、ステージ２６に支持されているプレパラート１を、上方から励起光で照明する。   The first illumination optical system 36 uses the light emitted from the first light source device 31 to illuminate the preparation 1 with excitation light in a predetermined wavelength region. The first illumination optical system 36 includes an objective lens 35 and a filter block 37 that can separate excitation light and fluorescence. The objective lens 35 emits excitation light for illuminating the preparation 1. The first illumination optical system 36 illuminates the preparation 1 supported by the stage 26 with excitation light from above.

図５は、フィルタブロック３７の一例を示す模式図である。図５に示すように、フィルタブロック３７は、第１光源装置３１からの光が入射する第１フィルタ３８と、第１フィルタ３８を介した光が入射するダイクロイックミラー３９と、ダイクロイックミラー３９からの光が入射する第２フィルタ４０とを備えている。   FIG. 5 is a schematic diagram illustrating an example of the filter block 37. As shown in FIG. 5, the filter block 37 includes a first filter 38 on which light from the first light source device 31 enters, a dichroic mirror 39 on which light through the first filter 38 enters, and a dichroic mirror 39. And a second filter 40 on which light is incident.

第１フィルタ３８は、第１光源装置３１からの光のうち、一部の波長領域の光をカットして、蛍光物質の励起に必要な所定波長領域の光（励起光）を抽出する波長選択光学素子である。すなわち、第１フィルタ３８は、所定波長領域の光（励起光）のみを透過させ、他の波長領域の光を透過させないバンドパスフィルタを含む。第１光源装置３１から射出され、第１フィルタ３８を透過した所定波長領域の光（励起光）は、ダイクロイックミラー３９に入射する。   The first filter 38 cuts a part of the wavelength region of the light from the first light source device 31 and extracts a wavelength (excitation light) in a predetermined wavelength region necessary for excitation of the fluorescent material. It is an optical element. That is, the first filter 38 includes a band-pass filter that transmits only light (excitation light) in a predetermined wavelength region and does not transmit light in other wavelength regions. Light (excitation light) in a predetermined wavelength region emitted from the first light source device 31 and transmitted through the first filter 38 enters the dichroic mirror 39.

ダイクロイックミラー３９は、励起光と蛍光とを分離する分離光学素子である。本実施形態において、ダイクロイックミラー３９は、第１フィルタ３８を透過した所定波長領域の光（励起光）を反射し、所定波長領域以外の光を透過する。第１フィルタ３８を透過した所定波長領域の光（励起光）は、ダイクロイックミラー３９で反射して、プレパラート１（マーク１０）に導かれる。励起光は、プレパラート１に照射される。   The dichroic mirror 39 is a separation optical element that separates excitation light and fluorescence. In this embodiment, the dichroic mirror 39 reflects light (excitation light) in a predetermined wavelength region that has passed through the first filter 38 and transmits light outside the predetermined wavelength region. The light (excitation light) in the predetermined wavelength region that has passed through the first filter 38 is reflected by the dichroic mirror 39 and guided to the preparation 1 (mark 10). The excitation light is irradiated to the preparation 1.

本実施形態においては、フィルタブロック３７とプレパラート１との間に対物レンズ３５が配置されており、ダイクロイックミラー３９からの励起光は、対物レンズ３５を介して、プレパラート１の上方より、プレパラート１に照射される。第１照明光学系３６は、励起光で、プレパラート１を落射照明する。   In the present embodiment, an objective lens 35 is disposed between the filter block 37 and the preparation 1, and excitation light from the dichroic mirror 39 passes through the objective lens 35 from above the preparation 1 to the preparation 1. Irradiated. The first illumination optical system 36 illuminates the preparation 1 by epi-illumination with excitation light.

このように、本実施形態の顕微鏡装置２１は、プレパラート１を励起光で落射照明して、プレパラート１の蛍光物質から発生する蛍光を観察する落射蛍光顕微鏡を含む。   As described above, the microscope apparatus 21 of the present embodiment includes an epifluorescence microscope that illuminates the preparation 1 with excitation light and observes the fluorescence generated from the fluorescent material of the preparation 1.

プレパラート１上の蛍光物質（マーク１０）に励起光が照射されることによって、その蛍光物質（マーク１０）から蛍光が発生する。蛍光物質（マーク１０）から発生した蛍光は、対物レンズ３５を介して、ダイクロイックミラー３９に入射する。上述のように、一般に、蛍光の波長は、励起光の波長よりも長く、蛍光の波長と励起光の波長とは異なる。したがって、蛍光物質（マーク１０）から発生し、ダイクロイックミラー３９に入射した蛍光は、ダイクロイックミラー３９を透過する。ダイクロイックミラー３９を透過した蛍光は、第２フィルタ４０に入射する。   When the fluorescent material (mark 10) on the preparation 1 is irradiated with excitation light, fluorescence is generated from the fluorescent material (mark 10). Fluorescence generated from the fluorescent material (mark 10) enters the dichroic mirror 39 via the objective lens 35. As described above, generally, the wavelength of fluorescence is longer than the wavelength of excitation light, and the wavelength of fluorescence is different from the wavelength of excitation light. Therefore, the fluorescence generated from the fluorescent material (mark 10) and incident on the dichroic mirror 39 is transmitted through the dichroic mirror 39. The fluorescence that has passed through the dichroic mirror 39 enters the second filter 40.

第２フィルタ４０は、プレパラート１からの蛍光と、蛍光以外の波長の不要な光（散乱光等）とを分離して、蛍光のみを抽出する波長選択光学素子である。すなわち、第２フィルタ４０は、蛍光のみを透過させ、他の波長領域の光を透過させないバンドパスフィルタを含む。第２フィルタ４０を透過した蛍光は、接眼部２７、観察カメラ２９の撮像素子２８に導かれる。   The second filter 40 is a wavelength selection optical element that separates fluorescence from the preparation 1 and unnecessary light (scattered light or the like) having a wavelength other than fluorescence, and extracts only fluorescence. That is, the second filter 40 includes a band-pass filter that transmits only fluorescence and does not transmit light in other wavelength regions. The fluorescence transmitted through the second filter 40 is guided to the eyepiece 27 and the image sensor 28 of the observation camera 29.

なお、第１光源装置３１が、蛍光物質を励起可能な、所定波長領域のレーザ光（励起光）を射出可能なレーザ装置であってもよい。この場合、例えば第１フィルタ３８を省略することができる。   Note that the first light source device 31 may be a laser device capable of exciting a fluorescent material and emitting laser light (excitation light) in a predetermined wavelength region. In this case, for example, the first filter 38 can be omitted.

図４において、第２光源装置３２は、プレパラート１の試料Ｓを照明するための光（照明光）を射出する。本実施形態において、第２光源装置３２は、プレパラート１の試料Ｓの観察時に、プレパラート１を照明するための照明光を射出する。   In FIG. 4, the second light source device 32 emits light (illumination light) for illuminating the sample S of the preparation 1. In the present embodiment, the second light source device 32 emits illumination light for illuminating the preparation 1 when observing the sample S of the preparation 1.

第２照明光学系４１は、第２光源装置３２から射出された光を用いて、プレパラート１を均一な照度分布で照明する。第２照明光学系４１は、プレパラート１を照明するための照明光を射出する射出面を有する光学素子４２を有する。光学素子４２は、ステージ２６に支持されているプレパラート１の−Ｚ側（下方）に配置されている。第２照明光学系４１は、ステージ２６に支持されているプレパラート１を、下方から照明する。   The second illumination optical system 41 uses the light emitted from the second light source device 32 to illuminate the preparation 1 with a uniform illuminance distribution. The second illumination optical system 41 includes an optical element 42 having an exit surface that emits illumination light for illuminating the preparation 1. The optical element 42 is disposed on the −Z side (downward) of the preparation 1 supported by the stage 26. The second illumination optical system 41 illuminates the preparation 1 supported by the stage 26 from below.

このように、本実施形態の顕微鏡装置２１は、プレパラート１の下方からプレパラート１に照明光を照射し、プレパラート１の上方に配置された対物レンズ３５を介してプレパラート１の像情報を取得する正立顕微鏡を含む。第２照明光学系４１で照明されたプレパラート１の像は、結像光学系３３によって撮像素子２８上、及び接眼部２７の近傍に形成される。   As described above, the microscope apparatus 21 according to the present embodiment irradiates the preparation 1 with illumination light from below the preparation 1 and acquires image information of the preparation 1 through the objective lens 35 disposed above the preparation 1. Includes a vertical microscope. The image of the preparation 1 illuminated by the second illumination optical system 41 is formed on the image sensor 28 and in the vicinity of the eyepiece 27 by the imaging optical system 33.

本実施形態において、第２照明光学系４１は、励起光以外の波長の光で試料Ｓを照明する。例えば、第２照明光学系４１に、第２光源装置３２からの光のうち、励起光の波長領域の光をカットするフィルタ（波長選択光学素子）を設けることによって、第２照明光学系４１は、励起光以外の波長の光で試料Ｓを照明可能である。これにより、第２照明光学系４１からの照明光による試料Ｓの照明時、換言すれば、試料Ｓの観察時に、蛍光物質からなるマーク１０から蛍光が発生することをが抑制される。すなわち、試料Ｓの観察時に、蛍光が接眼部２７、撮像素子２８に到達することが抑制される。   In the present embodiment, the second illumination optical system 41 illuminates the sample S with light having a wavelength other than the excitation light. For example, by providing the second illumination optical system 41 with a filter (wavelength selection optical element) that cuts light in the wavelength region of the excitation light out of the light from the second light source device 32, the second illumination optical system 41 is The sample S can be illuminated with light having a wavelength other than the excitation light. Thereby, when the sample S is illuminated by the illumination light from the second illumination optical system 41, in other words, when the sample S is observed, generation of fluorescence from the mark 10 made of a fluorescent material is suppressed. That is, when the sample S is observed, the fluorescence is suppressed from reaching the eyepiece 27 and the image sensor 28.

結像光学系３３は、ステージ２６に支持されたプレパラート１と対向する位置に配置される対物レンズ３５、接眼レンズ４３、倍率変換光学系４４、反射ミラー４５、及び結像レンズ４６等、複数の光学素子を含み、プレパラート１の像を、撮像素子２８、及び接眼部２７の近傍に形成する。対物レンズ３５は、結像光学系３３の複数の光学素子のうち、結像光学系３３の物体面に最も近い光学素子である。接眼レンズ４３、及び結像レンズ４６は、結像光学系３３の複数の光学素子のうち、結像光学系３３の像面に最も近い光学素子である。   The imaging optical system 33 includes a plurality of objective lenses 35, eyepiece lenses 43, magnification conversion optical systems 44, reflection mirrors 45, imaging lenses 46, and the like arranged at positions facing the preparation 1 supported by the stage 26. An image of the preparation 1 including the optical element is formed in the vicinity of the imaging element 28 and the eyepiece 27. The objective lens 35 is an optical element closest to the object plane of the imaging optical system 33 among the plurality of optical elements of the imaging optical system 33. The eyepiece lens 43 and the imaging lens 46 are optical elements closest to the image plane of the imaging optical system 33 among the plurality of optical elements of the imaging optical system 33.

また、光学システム２５は、対物レンズ３５からの光を分離する分離光学素子４７を含む。本実施形態において、分離光学素子４７は、ハーフミラーを含み、入射した光の一部を透過し、一部を反射する。なお、分離光学素子４７が、ダイクロイックミラーであってもよい。   The optical system 25 also includes a separation optical element 47 that separates light from the objective lens 35. In the present embodiment, the separation optical element 47 includes a half mirror, transmits a part of incident light, and reflects a part thereof. The separation optical element 47 may be a dichroic mirror.

ステージ２６は、結像光学系３３の物体面側で、プレパラート１を支持する。プレパラート１は、そのプレパラート１の表面８が対物レンズ３５と対向するように、ステージ２６に支持される。   The stage 26 supports the preparation 1 on the object plane side of the imaging optical system 33. The preparation 1 is supported by the stage 26 so that the surface 8 of the preparation 1 faces the objective lens 35.

プレパラート１から対物レンズ３５を介して分離光学素子４７に入射した光の一部は、分離光学素子４７を透過して、接眼レンズ４３に導かれ、接眼部２７より射出される。プレパラート１の像は、結像光学系３３により、接眼部２７の近傍に形成される。これにより、観察者は、接眼部２７を介して、プレパラート１の像を確認できる。   Part of the light incident on the separation optical element 47 from the preparation 1 via the objective lens 35 is transmitted through the separation optical element 47, guided to the eyepiece lens 43, and emitted from the eyepiece unit 27. The image of the preparation 1 is formed in the vicinity of the eyepiece 27 by the imaging optical system 33. Thereby, the observer can confirm the image of the preparation 1 through the eyepiece unit 27.

また、プレパラート１から対物レンズ３５を介して分離光学素子４７に入射した光の一部は、分離光学素子４７で反射して、倍率変換光学系４４に導かれ、反射ミラー４５、及び観察カメラ２９の結像レンズ４６を介して、観察カメラ２９の撮像素子２８に入射する。プレパラート１の像は、結像光学系３３により、撮像素子２８に形成される。これにより、観察カメラ２９の撮像素子２８は、プレパラート１の像情報を取得可能である。   Further, part of the light incident on the separation optical element 47 from the preparation 1 via the objective lens 35 is reflected by the separation optical element 47 and guided to the magnification conversion optical system 44, and the reflection mirror 45 and the observation camera 29. Is incident on the image sensor 28 of the observation camera 29 through the imaging lens 46. The image of the preparation 1 is formed on the image sensor 28 by the imaging optical system 33. Thereby, the image sensor 28 of the observation camera 29 can acquire the image information of the preparation 1.

図３に示すように、観察カメラ２９の撮像素子２８と制御装置２２とは、ケーブル４８を介して接続されており、撮像素子２８で取得したプレパラート１の像情報（画像信号）は、ケーブル４８を介して、制御装置２２に出力される。制御装置２２は、撮像素子２８からの像情報を、表示装置２３を用いて表示する。表示装置２３は、撮像素子２８で取得したプレパラート１の像情報を拡大して表示することができる。   As shown in FIG. 3, the imaging device 28 of the observation camera 29 and the control device 22 are connected via a cable 48, and the image information (image signal) of the preparation 1 acquired by the imaging device 28 is the cable 48. Is output to the control device 22. The control device 22 displays the image information from the image sensor 28 using the display device 23. The display device 23 can enlarge and display the image information of the preparation 1 acquired by the image sensor 28.

また、図３及び図４に示すように、本実施形態においては、ステージ２６は、プレパラート１を支持する支持部材５０と、ベース部材５１上で支持部材５０を移動する駆動装置５２とを備えている。支持部材５０は、ベース部材５１上において、ＸＹ平面内を移動可能である。ステージ２６（駆動装置５２）と制御装置２２とはケーブル４９で接続されており、制御装置２２は、駆動装置５２を用いて、プレパラート１を支持する支持部材５０をＸＹ平面内で移動可能である。   As shown in FIGS. 3 and 4, in the present embodiment, the stage 26 includes a support member 50 that supports the preparation 1 and a driving device 52 that moves the support member 50 on the base member 51. Yes. The support member 50 is movable on the base member 51 in the XY plane. The stage 26 (drive device 52) and the control device 22 are connected by a cable 49, and the control device 22 can move the support member 50 that supports the slide 1 within the XY plane by using the drive device 52. .

図６は、光学システム２５の倍率変換光学系４４の一例を示す図である。図６において、倍率変換光学系４４は、低倍率光学系５４と、高倍率光学系５５と、低倍率光学系５４及び高倍率光学系５５のそれぞれを移動可能な駆動機構５６とを備えている。低倍率光学系５４は、複数のレンズ５４Ａ、５４Ｂを有し、高倍率光学系５５は、複数のレンズ５５Ａ、５５Ｂを有する。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the magnification conversion optical system 44 of the optical system 25. In FIG. 6, the magnification conversion optical system 44 includes a low magnification optical system 54, a high magnification optical system 55, and a drive mechanism 56 that can move each of the low magnification optical system 54 and the high magnification optical system 55. . The low magnification optical system 54 has a plurality of lenses 54A and 54B, and the high magnification optical system 55 has a plurality of lenses 55A and 55B.

駆動機構５６は、制御装置２２に制御される。制御装置２２は、駆動機構５６を制御して、低倍率光学系５４及び高倍率光学系５５のいずれか一方を、分離光学素子４７と反射ミラー４５との間の光路上に配置する。これにより、撮像素子２８に対する結像光学系３３の倍率が変換される。   The drive mechanism 56 is controlled by the control device 22. The control device 22 controls the drive mechanism 56 to place one of the low-magnification optical system 54 and the high-magnification optical system 55 on the optical path between the separation optical element 47 and the reflection mirror 45. Thereby, the magnification of the imaging optical system 33 with respect to the image sensor 28 is converted.

プレパラート１からの光は、対物レンズ３５を透過後、分離光学素子４７で反射して、倍率変換光学系４４に入射する。倍率変換光学系４４は、レンズ５４Ａ（５５Ａ）とレンズ５４Ｂ（５５Ｂ）との間に中間像を形成する。   The light from the preparation 1 passes through the objective lens 35, is reflected by the separation optical element 47, and enters the magnification conversion optical system 44. The magnification conversion optical system 44 forms an intermediate image between the lens 54A (55A) and the lens 54B (55B).

図４において、倍率変換光学系４４を通過した光は、反射ミラー４５を介して、観察カメラ２９の結像レンズ４６に入射する。結像レンズ４６は、観察カメラ２９の撮像素子２８の受光面上にプレパラート１の像を形成する。制御装置２２は、撮像素子２８から出力される画素信号を、所定の手法によって画像処理し、画像データを生成する。なお、撮像素子２８から出力される画素信号の画像処理を観察カメラ２９の演算部が実行してもよい。   In FIG. 4, the light that has passed through the magnification conversion optical system 44 enters the imaging lens 46 of the observation camera 29 via the reflection mirror 45. The imaging lens 46 forms an image of the preparation 1 on the light receiving surface of the imaging device 28 of the observation camera 29. The control device 22 performs image processing on the pixel signal output from the image sensor 28 by a predetermined method to generate image data. Note that the calculation unit of the observation camera 29 may execute image processing of the pixel signal output from the image sensor 28.

次に、上述の構成を有する顕微鏡システム２０を用いて、プレパラート１の試料Ｓを観察する方法について説明する。本実施形態の観察方法は、図７のフローチャートに示すように、プレパラート１に配置されたマーク１０を顕微鏡装置２１で観察して、顕微鏡装置２１の結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を求める処理（ステップＳ１）と、求めた位置情報に基づいて、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置を調整する処理（ステップＳ２）と、プレパラート１の位置を調整した後、プレパラート１の試料Ｓを顕微鏡装置２１で観察する処理（ステップＳ３）とを含む。   Next, a method for observing the sample S of the preparation 1 using the microscope system 20 having the above-described configuration will be described. In the observation method of the present embodiment, as shown in the flowchart of FIG. 7, the mark 10 arranged on the preparation 1 is observed with the microscope apparatus 21, and the position of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33 of the microscope apparatus 21. Processing for obtaining information (step S1), processing for adjusting the position of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33 based on the obtained position information (step S2), and adjusting the position of the preparation 1, And a process of observing one sample S with the microscope device 21 (step S3).

なお、図１及び図２を参照して説明したように、本実施形態においては、試料Ｓとプレパラート１（カバーガラス３）のマーク１０とが重なるように、プレパラート１が作成される。   As described with reference to FIGS. 1 and 2, in the present embodiment, the preparation 1 is created so that the sample S and the mark 10 of the preparation 1 (cover glass 3) overlap.

まず、プレパラート１がステージ２６の支持部材５０に支持される。プレパラート１は、プレパラート１上の第１〜第９行のマーク１０が、ステージ２６上でＸ軸方向と平行となるように、支持部材５０に支持される。   First, the preparation 1 is supported by the support member 50 of the stage 26. The preparation 1 is supported by the support member 50 so that the marks 10 in the first to ninth rows on the preparation 1 are parallel to the X-axis direction on the stage 26.

プレパラート１がステージ２６の支持部材５０に支持されると、制御装置２２は、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を求めるために、プレパラート１に配置されているマーク１０を観察する処理を開始する。制御装置２２は、マーク１０を観察するために、第２光源装置３４からの光の射出動作を停止した状態で、第１光源装置３１から光を射出する。フィルタブロック３７を含む第１照明光学系３６は、所定波長領域の励起光でプレパラート１のマーク１０を照明する。このように、本実施形態においては、制御装置２２は、マーク１０の観察時に、第１照明光学系３６から射出される所定波長領域の励起光でプレパラート１を照明する。マーク１０を励起光で照明することにより、蛍光物質で形成されているマーク１０から蛍光が発生する。   When the preparation 1 is supported by the support member 50 of the stage 26, the control device 22 observes the mark 10 disposed on the preparation 1 in order to obtain positional information of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33. Start processing. In order to observe the mark 10, the control device 22 emits light from the first light source device 31 with the light emission operation from the second light source device 34 stopped. The first illumination optical system 36 including the filter block 37 illuminates the mark 10 of the preparation 1 with excitation light in a predetermined wavelength region. Thus, in the present embodiment, the control device 22 illuminates the preparation 1 with excitation light in a predetermined wavelength region emitted from the first illumination optical system 36 when the mark 10 is observed. By illuminating the mark 10 with excitation light, fluorescence is generated from the mark 10 formed of a fluorescent material.

ここで、本実施形態においては、マーク１０同士の間隔は、結像光学系３３の視野の大きさよりも小さい。すなわち、例えば結像光学系３３の視野が円形であり、その大きさ（直径）がＤ１である場合、図８の模式図に示すように、その視野におけるマーク１０同士の間隔Ｄ２が、直径Ｄ１よりも小さくなるように定められている。これにより、対物レンズ３５とプレパラート１（カバーガラス３）とを対向させることによって、複数（８１個）のマーク１０のうち、少なくとも１つのマーク１０が、結像光学系３３の視野内に配置される。すなわち、複数（８１個）のマーク１０のうち、少なくとも１つのマーク１０の像が撮像素子２８上に形成されるように、プレパラート１上におけるマーク１０同士の間隔Ｄ２が予め定められている。   Here, in the present embodiment, the interval between the marks 10 is smaller than the size of the field of view of the imaging optical system 33. That is, for example, when the field of view of the imaging optical system 33 is circular and the size (diameter) is D1, as shown in the schematic diagram of FIG. 8, the interval D2 between the marks 10 in the field of view is the diameter D1. It is determined to be smaller. Thereby, by making the objective lens 35 and the preparation 1 (cover glass 3) face each other, at least one mark 10 among the plural (81) marks 10 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33. The That is, the interval D2 between the marks 10 on the preparation 1 is determined in advance so that an image of at least one of the plurality of (81) marks 10 is formed on the image sensor 28.

マーク１０から発生した蛍光は、対物レンズ３５及びフィルタブロック３７を透過した後、分離光学素子４７に入射する。分離光学素子４７に入射した蛍光の一部は、分離光学素子４７を透過して、接眼レンズ４３に導かれ、接眼部２７より射出される。これにより、マーク１０の像が、接眼部２７の近傍に形成される。また、分離光学素子４７に入射した蛍光の一部は、分離光学素子４７で反射して、結像光学系３３の倍率変換光学系４４に導かれ、反射ミラー４５、及び観察カメラ２９の結像レンズ４６を介して、観察カメラ２９の撮像素子２８に入射する。これにより、マーク１０の像が、撮像素子２８に形成される。撮像素子２８は、マーク１０の像情報を取得する。   The fluorescence generated from the mark 10 passes through the objective lens 35 and the filter block 37 and then enters the separation optical element 47. Part of the fluorescence incident on the separation optical element 47 is transmitted through the separation optical element 47, guided to the eyepiece lens 43, and emitted from the eyepiece unit 27. Thereby, an image of the mark 10 is formed in the vicinity of the eyepiece 27. Further, part of the fluorescence incident on the separation optical element 47 is reflected by the separation optical element 47 and guided to the magnification conversion optical system 44 of the imaging optical system 33, and the imaging of the reflection mirror 45 and the observation camera 29 is performed. The light enters the image sensor 28 of the observation camera 29 through the lens 46. Thereby, an image of the mark 10 is formed on the image sensor 28. The image sensor 28 acquires image information of the mark 10.

撮像素子２８によって取得されたマーク１０の像情報（画像信号）は、制御装置２２に出力される。制御装置２２は、撮像素子２８で取得したマーク１０の像情報に基づいて、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を求める。   Image information (image signal) of the mark 10 acquired by the image sensor 28 is output to the control device 22. The control device 22 obtains the position information of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33 based on the image information of the mark 10 acquired by the image sensor 28.

本実施形態においては、マーク１０は、バーコードパターンを含み、観察カメラ２９及び制御装置２２は、バーコードリーダーとして機能する。制御装置２２は、撮像素子２８によって取得されたマーク１０のバーコードパターンを読み取り、複数（８１個）のマーク１０のうち、どのマーク１０の像情報が撮像素子２８によって取得されたのかを判断する。   In the present embodiment, the mark 10 includes a barcode pattern, and the observation camera 29 and the control device 22 function as a barcode reader. The control device 22 reads the barcode pattern of the mark 10 acquired by the image sensor 28, and determines which mark 10 image information is acquired by the image sensor 28 among the plural (81) marks 10. .

例えば、制御装置２２は、所謂イメージセンシング方式で、バーコードパターンを識別する。撮像素子２８は、バーコードパターンの明暗に応じた電気信号を出力可能であり、制御装置２２は、その撮像素子２８から出力される電気信号（画像信号）に基づいて、バーコードパターンを識別することができる。   For example, the control device 22 identifies the barcode pattern by a so-called image sensing method. The image sensor 28 can output an electrical signal corresponding to the brightness of the barcode pattern, and the control device 22 identifies the barcode pattern based on the electrical signal (image signal) output from the image sensor 28. be able to.

これにより、制御装置２２は、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１上の複数のマーク１０のうち、どのマーク１０が配置されているのか、ひいては、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１上のどの領域が配置されているのかを把握することができる。以上により、制御装置２２は、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を求めることができる。   As a result, the control device 22 determines which mark 10 of the plurality of marks 10 on the preparation 1 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33, and thus in the field of view of the imaging optical system 33. It is possible to grasp which area on the preparation 1 is arranged. As described above, the control device 22 can obtain the position information of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33.

マーク１０を観察して、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を求めた後、制御装置２２は、求めた位置情報に基づいて、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置を調整する。例えば、制御装置２２は、プレパラート１のうち、所定の領域（観察対象領域）が、結像光学系３３の視野内に配置されるように、ステージ２６の駆動装置５２を制御して、支持部材５０に支持されているプレパラート１の位置を調整する。例えば、ステップＳ１において観察したマーク１０が、（５，６）のマーク１０であり、観察したい観察対象領域が、（３，３）のマーク１０が形成されている局所的な領域である場合、制御装置２２は、結像光学系３３の視野内（視野の中心）に（５，６）のマーク１０が配置されている状態から、（３，３）のマーク１０が配置される状態に遷移するように、駆動装置５２を制御して、支持部材５０に支持されているプレパラート１の位置を調整する。プレパラート１上において、各マーク１０同士の位置関係は、例えば設計値等に基づいて既知である。すなわち、（５，６）のマーク１０と、（３，３）のマーク１０との位置関係（距離、方向等を含む）は、既知である。したがって、制御装置２２は、既知であるマーク１０同士の位置関係に基づいて、駆動装置５２の駆動量を調整することによって、結像光学系３３の視野内に（５，６）のマーク１０が配置されている状態から、（３，３）のマーク１０が配置される状態に遷移させることができる。本実施形態においては、ステージ２６は、駆動装置５２の駆動量（支持部材５０の移動量）を計測可能なエンコーダシステムのような計測装置を備えている。制御装置２２は、その計測装置の計測結果をモニタしつつ、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１のうち、観察したい観察対象領域を円滑に配置することができる。   After observing the mark 10 and obtaining the position information of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33, the control device 22 determines the position of the preparation 1 with respect to the field of view of the imaging optical system 33 based on the obtained position information. Adjust. For example, the control device 22 controls the driving device 52 of the stage 26 so that a predetermined region (observation target region) of the preparation 1 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33, and the support member The position of the preparation 1 supported by 50 is adjusted. For example, when the mark 10 observed in step S1 is the mark 10 of (5, 6) and the observation target region to be observed is a local region where the mark 10 of (3, 3) is formed, The control device 22 transitions from the state in which the mark 10 of (5, 6) is arranged in the field of view (center of the field) of the imaging optical system 33 to the state in which the mark 10 of (3, 3) is arranged. In this manner, the position of the preparation 1 supported by the support member 50 is adjusted by controlling the driving device 52. On the preparation 1, the positional relationship between the marks 10 is known based on, for example, design values. That is, the positional relationship (including distance, direction, etc.) between the mark 10 of (5, 6) and the mark 10 of (3, 3) is known. Therefore, the control device 22 adjusts the driving amount of the driving device 52 based on the known positional relationship between the marks 10, so that the (5, 6) mark 10 is in the field of view of the imaging optical system 33. It is possible to transition from the arranged state to the state in which the (3, 3) mark 10 is arranged. In the present embodiment, the stage 26 includes a measuring device such as an encoder system capable of measuring the driving amount of the driving device 52 (the moving amount of the support member 50). The control device 22 can smoothly arrange an observation target region to be observed in the preparation 1 in the field of view of the imaging optical system 33 while monitoring the measurement result of the measurement device.

そして、制御装置２２は、例えば観察対象領域の（３，３）のマーク１０の像情報を取得し、結像光学系３３の視野内に（３，３）のマーク１０が配置されたかどうか（結像光学系３３の視野内に観察対象領域が配置されたかどうか）を確認する。制御装置２２は、マーク１０の像情報に基づいて、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１上の観察対象領域を精確に配置することができる。   Then, the control device 22 acquires, for example, image information of the (3, 3) mark 10 in the observation target region, and whether the (3, 3) mark 10 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33 ( Whether or not the observation target region is arranged in the field of view of the imaging optical system 33). Based on the image information of the mark 10, the control device 22 can accurately arrange the observation target region on the preparation 1 in the field of view of the imaging optical system 33.

結像光学系３３の視野内にプレパラート１上の観察対象領域が配置された後、制御装置２２は、試料Ｓを観察する処理を開始する。制御装置２２は、プレパラート１のうち、（３，３）のマーク１０が形成されている局所的な領域（観察対象領域）を観察するために、第１光源装置３１からの光の射出動作を停止した状態で、第２光源装置３２から光を射出する。第２照明光学系４１は、励起光以外の波長領域を有する照明光でプレパラート１の試料Ｓを照明する。このように、本実施形態においては、制御装置２２は、試料Ｓの観察時に、第２照明光学系４１から射出される、励起光以外の波長領域の照明光でプレパラート１を照明する。   After the observation target region on the preparation 1 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33, the control device 22 starts processing for observing the sample S. The control device 22 performs the light emission operation from the first light source device 31 in order to observe a local region (observation target region) where the mark 10 of (3, 3) is formed in the preparation 1. In the stopped state, light is emitted from the second light source device 32. The second illumination optical system 41 illuminates the sample S of the preparation 1 with illumination light having a wavelength region other than the excitation light. Thus, in the present embodiment, the control device 22 illuminates the preparation 1 with illumination light in a wavelength region other than the excitation light emitted from the second illumination optical system 41 when the sample S is observed.

試料Ｓを照明した照明光は、対物レンズ３５及びフィルタブロック３７を透過した後、分離光学素子４７に入射する。分離光学素子４７に入射した照明光の一部は、分離光学素子４７を透過して、接眼レンズ４３に導かれ、接眼部２７より射出される。これにより、試料Ｓの像が、接眼部２７の近傍に形成される。また、分離光学素子４７に入射した照明の一部は、分離光学素子４７で反射して、倍率変換光学系４４に導かれ、反射ミラー４５、及び観察カメラ２９の結像レンズ４６を介して、観察カメラ２９の撮像素子２８に入射する。これにより、試料Ｓの像が、撮像素子２８に形成される。撮像素子２８は、試料Ｓの像情報を取得する。   The illumination light that illuminates the sample S passes through the objective lens 35 and the filter block 37 and then enters the separation optical element 47. Part of the illumination light incident on the separation optical element 47 is transmitted through the separation optical element 47, guided to the eyepiece lens 43, and emitted from the eyepiece unit 27. Thereby, an image of the sample S is formed in the vicinity of the eyepiece 27. Further, a part of the illumination incident on the separation optical element 47 is reflected by the separation optical element 47 and guided to the magnification conversion optical system 44, via the reflection mirror 45 and the imaging lens 46 of the observation camera 29. The light enters the image sensor 28 of the observation camera 29. Thereby, an image of the sample S is formed on the image sensor 28. The image sensor 28 acquires image information of the sample S.

撮像素子２８によって取得された試料Ｓの像情報（画像信号）は、制御装置２２に出力される。制御装置２２は、撮像素子２８で取得した試料Ｓの像情報に基づいて、例えばその試料Ｓの画像を表示装置２３で表示する。また、制御装置２２は、撮像素子２８で取得した試料Ｓの像情報を、所定の記憶装置に記憶する。   Image information (image signal) of the sample S acquired by the image sensor 28 is output to the control device 22. The control device 22 displays, for example, an image of the sample S on the display device 23 based on the image information of the sample S acquired by the image sensor 28. The control device 22 stores the image information of the sample S acquired by the image sensor 28 in a predetermined storage device.

次に、制御装置２２は、（３，３）のマーク１０が形成されている局所的な領域（観察対象領域）とは異なる領域を観察するために、プレパラート１の移動を開始する。例えば、（３，４）のマーク１０が形成されている局所的な領域（観察対象領域）を観察する場合、制御装置２２は、結像光学系３３の視野内（視野の中心）に（３，３）のマーク１０が配置されている状態から、（３，４）のマーク１０が配置される状態に遷移するように、駆動装置５２を制御して、支持部材５０に支持されているプレパラート１の位置を調整する。（３，３）のマーク１０と、（３，４）のマーク１０との位置関係（距離、方向等を含む）は、既知である。したがって、制御装置２２は、既知であるマーク１０同士の位置関係に基づいて、駆動装置５２の駆動量を調整することによって、結像光学系３３の視野内に（３，３）のマーク１０が配置されている状態から、（３，４）のマーク１０が配置される状態に遷移させることができる。   Next, the control device 22 starts moving the preparation 1 in order to observe a region different from the local region (observation target region) where the mark 10 of (3, 3) is formed. For example, when observing a local region (observation target region) where the mark 10 of (3, 4) is formed, the control device 22 (3 in the field of view of the imaging optical system 33 (the center of the field of view)). , 3) from the state in which the mark 10 is arranged to the state in which the mark 10 in (3, 4) is arranged, the preparation device supported by the support member 50 by controlling the driving device 52. Adjust the position of 1. The positional relationship (including distance, direction, etc.) between the mark 10 of (3, 3) and the mark 10 of (3,4) is known. Therefore, the control device 22 adjusts the driving amount of the driving device 52 based on the known positional relationship between the marks 10, so that the (3, 3) mark 10 is in the field of view of the imaging optical system 33. It is possible to make a transition from the arranged state to the state in which the (3, 4) mark 10 is arranged.

また、制御装置２２は、必要に応じて、例えば観察対象領域の（３，４）のマーク１０の像情報を取得し、結像光学系３３の視野内に（３，４）のマーク１０が配置されたかどうか（結像光学系３３の視野内に観察対象領域が配置されたかどうか）を確認することができる。（３，４）のマーク１０の像情報を取得する際には、第２光源装置３２からの光の射出動作（第２照明光学系４１による照明動作）が停止され、第１光源装置３１からの光の射出動作（第１照明光学系３６による照明動作）が実行される。   Further, for example, the control device 22 acquires the image information of the (3, 4) mark 10 in the observation target region as necessary, and the (3, 4) mark 10 is placed in the field of view of the imaging optical system 33. It can be confirmed whether or not the observation target region has been arranged in the field of view of the imaging optical system 33. When acquiring the image information of the mark 10 of (3, 4), the light emission operation from the second light source device 32 (illumination operation by the second illumination optical system 41) is stopped, and the first light source device 31 The light emission operation (illumination operation by the first illumination optical system 36) is performed.

結像光学系３３の視野内にプレパラート１上の観察対象領域が配置された後、制御装置２２は、試料Ｓを観察する処理を開始する。制御装置２２は、プレパラート１のうち、（３，４）のマーク１０が形成されている局所的な領域（観察対象領域）を観察するために、第１光源装置３１からの光の射出動作を停止した状態で、第２光源装置３２から光を射出する。第２照明光学系４１は、励起光以外の波長領域を有する照明光でプレパラート１の試料Ｓを照明する。試料Ｓを照明した照明光に基づいて、試料Ｓの像が、接眼部２７に形成されるとともに、撮像素子２８に形成される。撮像素子２８は、試料Ｓの像情報を取得する。   After the observation target region on the preparation 1 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33, the control device 22 starts processing for observing the sample S. The control device 22 performs the light emission operation from the first light source device 31 in order to observe the local region (observation target region) where the mark 10 of (3, 4) is formed in the preparation 1. In the stopped state, light is emitted from the second light source device 32. The second illumination optical system 41 illuminates the sample S of the preparation 1 with illumination light having a wavelength region other than the excitation light. Based on the illumination light that illuminates the sample S, an image of the sample S is formed on the eyepiece 27 and also on the image sensor 28. The image sensor 28 acquires image information of the sample S.

撮像素子２９によって取得された試料Ｓの像情報（画像信号）は、制御装置２２に出力される。制御装置２２は、撮像素子２９で取得した試料Ｓの像情報に基づいて、例えばその試料Ｓの画像を表示装置２３で表示する。また、制御装置２２は、撮像素子２９で取得した試料Ｓの像情報を、所定の記憶装置に記憶する。   The image information (image signal) of the sample S acquired by the image sensor 29 is output to the control device 22. Based on the image information of the sample S acquired by the imaging element 29, the control device 22 displays an image of the sample S on the display device 23, for example. Further, the control device 22 stores the image information of the sample S acquired by the imaging element 29 in a predetermined storage device.

以下、上述と同様の処理が繰り返される。制御装置２２は、プレパラート１上の複数の局所的な領域それぞれの像情報を撮像素子２８で取得し、それら像情報を合成することによって、試料Ｓ全体の画像を取得することができる。また、その試料Ｓ全体の画像を表示装置２３に表示することができる。   Thereafter, the same processing as described above is repeated. The control device 22 can acquire the image of the entire sample S by acquiring the image information of each of the plurality of local regions on the preparation 1 with the image sensor 28 and combining the image information. Further, an image of the entire sample S can be displayed on the display device 23.

以上説明したように、本実施形態によれば、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１上のどの領域が配置されているのかを円滑に把握することができる。したがって、プレパラート１に対する観察動作を円滑に実行することができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to smoothly grasp which region on the preparation 1 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33. Therefore, the observation operation for the preparation 1 can be executed smoothly.

また、本実施形態によれば、マーク１０の像情報に基づいて、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報を精確に求めることができる。また、マーク１０を用いて、結像光学系３３の視野とプレパラート１の観察対象領域との位置合わせを精確に実行することができる。例えば、マーク１０が結像光学系３３の視野の中心に配置されるように、プレパラート１を移動することによって、結像光学系３３の視野とプレパラート１の観察対象領域とを所望の位置関係にした状態で、試料Ｓの像情報を取得する動作を実行することができる。これにより、例えば、試料Ｓの局所的な領域の像情報の取得動作を複数回行い、それら各像情報を合成して試料Ｓ全体の画像を形成する場合、試料Ｓ全体の画像を良好に形成することができる。   Further, according to the present embodiment, the position information of the preparation 1 with respect to the visual field of the imaging optical system 33 can be accurately obtained based on the image information of the mark 10. Further, it is possible to accurately perform alignment between the visual field of the imaging optical system 33 and the observation target region of the preparation 1 using the mark 10. For example, by moving the preparation 1 so that the mark 10 is arranged at the center of the field of view of the imaging optical system 33, the field of view of the imaging optical system 33 and the observation target region of the preparation 1 are brought into a desired positional relationship. In this state, the operation of acquiring the image information of the sample S can be executed. Thereby, for example, when the image information acquisition operation of the local region of the sample S is performed a plurality of times and the image information of the entire sample S is formed by combining these pieces of image information, the image of the entire sample S is formed satisfactorily. can do.

また、プレパラート１に複数のマーク１０を設けることによって、試料Ｓが移動体（例えば微生物）を含む場合、各マーク１０の位置に対するプレパラート１上での移動体の位置を精確に把握することができる。   Further, by providing a plurality of marks 10 on the preparation 1, when the sample S includes a moving body (for example, a microorganism), the position of the moving body on the preparation 1 with respect to the position of each mark 10 can be accurately grasped. .

また、本実施形態においては、マーク１０は、プレパラート１の表面８に蛍光物質で形成されており、マーク１０から蛍光を発生させるための励起光は、プレパラート１の上方からプレパラート１に対して照射される。これにより、マーク１０から発生する蛍光が試料Ｓによって遮蔽されることが抑制され、マーク１０の観察動作を円滑に実行できる。また、試料Ｓの観察時には、プレパラート１に対して励起光以外の波長領域を有する照明光が照射されるので、マーク１０から蛍光が発生することを抑制できる。したがって、試料Ｓを良好に観察することができる。   In the present embodiment, the mark 10 is formed of a fluorescent material on the surface 8 of the preparation 1, and excitation light for generating fluorescence from the mark 10 is applied to the preparation 1 from above the preparation 1. Is done. Thereby, it is suppressed that the fluorescence generated from the mark 10 is shielded by the sample S, and the observation operation of the mark 10 can be executed smoothly. Further, when the sample S is observed, since the illumination light having a wavelength region other than the excitation light is irradiated to the preparation 1, the generation of fluorescence from the mark 10 can be suppressed. Therefore, the sample S can be observed well.

なお、本実施形態においては、ステップＳ１で求めた、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置情報に基づいて、結像光学系３３の視野に対するプレパラート１の位置を調整する際、制御装置２２が、計測装置の計測結果をモニタしつつ、駆動装置５２を制御して、支持部材５０を移動する場合を例にして説明したが、マーク１０の像情報は、表示装置２３に出力されるので、例えば観察者が、表示装置２３の表示情報をモニタしつつ、プレパラート１の位置を調整するようにしてもよい。例えば、表示装置２３の表示情報をモニタしつつ、プレパラート１を動かして、結像光学系３３の視野内に（５，６）のマーク１０が配置されている状態から、（３，３）のマーク１０が配置される状態に遷移させることができる。   In the present embodiment, when adjusting the position of the preparation 1 with respect to the visual field of the imaging optical system 33 based on the position information of the preparation 1 with respect to the visual field of the imaging optical system 33 obtained in step S1, the control device 22 illustrates the case where the support member 50 is moved by controlling the drive device 52 while monitoring the measurement result of the measurement device, but the image information of the mark 10 is output to the display device 23. Therefore, for example, the observer may adjust the position of the preparation 1 while monitoring the display information on the display device 23. For example, while the display information on the display device 23 is monitored, the preparation 1 is moved, and the (5, 6) mark 10 is arranged in the field of view of the imaging optical system 33. It is possible to transition to a state where the mark 10 is arranged.

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。 Second Embodiment
Next, a second embodiment will be described. In the following description, the same or equivalent components as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified or omitted.

図９（Ａ）は、第２実施形態に係るプレパラート１Ｂの表面８Ｂの一部を拡大した図、図９（Ｂ）は、プレパラート１Ｂ上に形成されているマーク１０Ｂを拡大した図（図９（Ａ）の符号Ｋ２の領域を拡大した図）である。   FIG. 9A is an enlarged view of a part of the surface 8B of the preparation 1B according to the second embodiment, and FIG. 9B is an enlarged view of the mark 10B formed on the preparation 1B (FIG. 9). It is the figure which expanded the area | region of the code | symbol K2 of (A).

図９において、カバーガラス３Ｂの表面には、互いに平行であり、第１間隔Ｈ１で配置された複数の第１ライン６１と、互いに平行であり、第１ライン６１と直交し、第２間隔Ｈ２で配置された複数の第２ライン６２と、互いに平行であり、第１ライン６１に対して第１角度傾斜し、隣接する第１ライン６１同士それぞれの間に配置されるように第３間隔Ｈ３で配置された複数の第３ライン６３と、互いに平行であり、第２ライン６２に対して第２角度傾斜し、隣接する第２ライン６２同士それぞれの間に配置されるように第４間隔Ｈ４で配置された複数の第４ライン６４とが形成されている。本実施形態において、マーク１０Ｂは、第１、第２、第３、第４ライン６１、６２、６３、６４で形成されている。   In FIG. 9, the surface of the cover glass 3B is parallel to each other and a plurality of first lines 61 arranged at a first interval H1, parallel to each other, orthogonal to the first line 61, and a second interval H2. The third spacing H3 is parallel to each other, arranged at a first angle with respect to the first line 61, and arranged between the adjacent first lines 61. The fourth spacing H4 is parallel to each other and is inclined by a second angle with respect to the second line 62 and arranged between the adjacent second lines 62. A plurality of fourth lines 64 are formed. In the present embodiment, the mark 10 </ b> B is formed by first, second, third, and fourth lines 61, 62, 63, 64.

上述の第１実施形態と同様、第１、第２、第３、第４ライン６１、６２、６３、６４は、蛍光物質で形成されている。   Similar to the first embodiment described above, the first, second, third, and fourth lines 61, 62, 63, and 64 are formed of a fluorescent material.

第１ライン６１のそれぞれは、Ｙ軸方向と平行である。第１ライン６１は、Ｘ軸方向に９つ配置されている。第１ライン６１のそれぞれは、同じ長さである。第２ライン６２のそれぞれは、Ｘ軸方向と平行である。第２ライン６２は、Ｙ軸方向に９つ配置されている。第２ライン６２のそれぞれは、同じ長さである。複数の第１ライン６１と複数の第２ライン６２とで、格子状のパターンが形成されている。   Each of the first lines 61 is parallel to the Y-axis direction. Nine first lines 61 are arranged in the X-axis direction. Each of the first lines 61 has the same length. Each of the second lines 62 is parallel to the X-axis direction. Nine second lines 62 are arranged in the Y-axis direction. Each of the second lines 62 has the same length. A plurality of first lines 61 and a plurality of second lines 62 form a lattice pattern.

第３ライン６３のそれぞれは、同じ長さである。第３ライン６３は、９つ配置されている。第３ライン６３は、隣接する第１ライン６１同士の間に配置されている。第３ライン６３の−Ｙ側の端部は、互いに隣接する２つの第１ライン６１のうち、＋Ｘ側の第１ライン６１の−Ｙ側の端部と接続されており、第３ライン６３の＋Ｙ側の端部は、互いに隣接する２つの第１ライン６１のうち、−Ｘ側の第１ライン６１の＋Ｙ側の端部と接続されている。   Each of the third lines 63 has the same length. Nine third lines 63 are arranged. The third line 63 is disposed between the adjacent first lines 61. An end portion on the −Y side of the third line 63 is connected to an end portion on the −Y side of the first line 61 on the + X side among the two first lines 61 adjacent to each other. The end portion on the + Y side is connected to the end portion on the + Y side of the first line 61 on the −X side among the two first lines 61 adjacent to each other.

第４ライン６４のそれぞれは、同じ長さである。第４ライン６４は、９つ配置されている。第４ライン６４は、隣接する第２ライン６２同士の間に配置されている。第４ライン６４の＋Ｘ側の端部は、互いに隣接する２つの第２ライン６２のうち、−Ｙ側の第２ライン６２の＋Ｘ側の端部と接続されており、第４ライン６４の−Ｘ側の端部は、互いに隣接する２つの第２ライン６２のうち、＋Ｙ側の第２ライン６２の−Ｘ側の端部と接続されている。   Each of the fourth lines 64 has the same length. Nine fourth lines 64 are arranged. The fourth line 64 is disposed between the adjacent second lines 62. The + X side end of the fourth line 64 is connected to the + X side end of the −Y side second line 62 out of the two adjacent second lines 62, and the −4 side 64 − The end portion on the X side is connected to the end portion on the −X side of the second line 62 on the + Y side among the two second lines 62 adjacent to each other.

図９（Ｂ）において、マーク１０Ｂは、第１、第２、第３、第４ライン６１、６２、６３、６４と、第３ライン６３と第４ライン６４との交点Ｃ１と、その第３ライン６３と第４ライン６４との交点Ｃ１を囲むように配置された第１ライン６１と第２ライン６２との４つの交点Ｃ２とを含む。図９（Ａ）に示すように、本実施形態において、第３ライン６３と第４ライン６４との交点Ｃ１は、８１ヵ所に形成されている。   In FIG. 9B, the mark 10B includes first, second, third, and fourth lines 61, 62, 63, and 64, an intersection C1 between the third line 63 and the fourth line 64, and a third line. It includes four intersections C2 of the first line 61 and the second line 62 arranged so as to surround the intersection C1 of the line 63 and the fourth line 64. As shown in FIG. 9A, in the present embodiment, intersection points C1 between the third line 63 and the fourth line 64 are formed at 81 locations.

第３ライン６３と第４ライン６４との各交点Ｃ１と、それら各交点Ｃ１を囲む第１ライン６１と第２ライン６２との４つの交点Ｃ２との位置関係は、各交点Ｃ１毎に異なる。このように、本実施形態においても、マーク１０Ｂのそれぞれは、配置される位置（８１ヵ所の位置）に応じた固有パターンを含む。すなわち、本実施形態においても、マーク１０Ｂのそれぞれは、そのマーク１０Ｂが形成されている位置を識別するための識別子として機能する。   The positional relationship between each intersection C1 between the third line 63 and the fourth line 64 and the four intersections C2 between the first line 61 and the second line 62 surrounding each intersection C1 is different for each intersection C1. Thus, also in the present embodiment, each of the marks 10B includes a unique pattern corresponding to the positions (81 positions) where the marks are arranged. That is, also in this embodiment, each of the marks 10B functions as an identifier for identifying the position where the mark 10B is formed.

したがって、本実施形態においても、８１個のマーク１０Ｂのうち、所定のマーク１０Ｂを読み取ることにより、その読み取ったマーク１０Ｂが、８１個のマーク１０Ｂのうち、どの位置に形成されているマーク１０Ｂであるかを求めることができる。換言すれば、８１個のマーク１０Ｂのうち、所定のマーク１０Ｂを読み取ることにより、その読み取ったマーク１０Ｂが形成されている位置が、マーク１０Ｂが形成されている８１ヵ所の位置のうち、どの位置であるかを求めることができる。制御装置２２は、例えばテンプレートマッチング法で、各マーク１０Ｂを識別することができる。   Therefore, also in the present embodiment, by reading a predetermined mark 10B among the 81 marks 10B, the read mark 10B is the mark 10B formed at any position among the 81 marks 10B. You can ask for it. In other words, by reading a predetermined mark 10B out of 81 marks 10B, the position where the read mark 10B is formed is any of the 81 positions where the mark 10B is formed. Can be determined. The control device 22 can identify each mark 10B by, for example, a template matching method.

なお、テンプレートマッチング法とは、マークの設計上のデータに基づいて予め特徴部分（特徴パターン）を抽出し、その抽出した特徴パターンの設計データに基づいて作成された信号をテンプレート信号として記憶し、撮像素子２８で取得したマークの画像信号と予め記憶してあるテンプレート信号とのテンプレートマッチングを行って、マークを識別する処理である。   The template matching method is to extract a feature portion (feature pattern) in advance based on mark design data, and store a signal created based on the extracted feature pattern design data as a template signal, This is a process for identifying a mark by performing template matching between a mark image signal acquired by the image sensor 28 and a template signal stored in advance.

具体的には、複数（８１個）のマーク１０Ｂそれぞれの交点Ｃ１とその交点Ｃ１を囲む交点Ｃ２との位置関係は各交点Ｃ１毎に異なるので、制御装置２２は、テンプレートマッチング法で、交点Ｃ１及びその交点Ｃ１を囲む４つの交点Ｃ２の位置を検出し、その検出結果に基づいて、各交点Ｃ１とその交点Ｃ１を囲む４つの交点Ｃ２との位置関係を求め、その求めた位置関係に基づいて、各マーク１０Ｂを識別する。   Specifically, since the positional relationship between the intersection C1 of each of the plurality of (81) marks 10B and the intersection C2 surrounding the intersection C1 is different for each intersection C1, the controller 22 uses the template matching method to perform the intersection C1. And the positions of the four intersections C2 surrounding the intersection C1, and based on the detection result, the positional relationship between each intersection C1 and the four intersections C2 surrounding the intersection C1 is obtained, and based on the obtained positional relationship. Thus, each mark 10B is identified.

例えば、図９（Ａ）の符号Ｋ２の領域のマーク１０Ｂの交点Ｃ１と複数の第１ライン６１のうち最も＋Ｘ側の第１ライン６１とのＸ軸方向に関する距離がＡ（交点Ｃ１と複数の第１ライン６１のうち最も−Ｘ側の第１ライン６１とのＸ軸方向に関する距離がＢ）であり、交点Ｃ１と複数の第２ライン６２のうち最も−Ｙ側の第２ライン６２とのＹ軸方向に関する距離がＣ（交点Ｃ１と複数の第２ライン６２のうち最も＋Ｙ側の第２ライン６２とのＹ軸方向に関する距離がＤ）である場合、図９（Ｂ）の領域Ｋ２を拡大した図に示すように、その交点Ｃ１に対して＋Ｘ側に隣接する第１ライン６１と交点Ｃ１とのＸ軸方向に関する距離はａ（交点Ｃ１に対して−Ｘ側に隣接する第１ライン６１と交点Ｃ１とのＸ軸方向に関する距離はｂ）となり、交点Ｃ１に対して−Ｙ側に隣接する第２ライン６２と交点Ｃ１とのＹ軸方向に関する距離はｃ（交点Ｃ１に対して＋Ｙ側に隣接する第２ライン６２と交点Ｃ１とのＹ軸方向に関する距離はｄ）となる。ここで、Ａ：Ｂ＝ｃ：ｄ、Ｃ：Ｄ＝ａ：ｂとなる。このように、本実施形態においては、複数（８１個）のマーク１０Ｂのうち、所定のマーク１０Ｂ（符号Ｋ２の領域のマーク１０Ｂ）の位置は、４つの交点Ｃ２で囲まれた領域に対する交点Ｃ１の位置に対応する。すなわち、交点Ｃ１とその交点Ｃ１を囲む４つの交点Ｃ２との位置関係は、結像光学系３３の視野とプレパラート１との位置関係に対応する。したがって、テンプレートマッチング法を用いて、交点Ｃ１及びその交点Ｃ１を囲む４つの交点Ｃ２の位置を検出した結果を用いて、交点Ｃ１とその交点Ｃ１を囲む４つの交点Ｃ２との位置関係を求めることによって、各マーク１０Ｂを識別することができる。   For example, the distance in the X-axis direction between the intersection C1 of the mark 10B in the area K2 in FIG. 9A and the first line 61 closest to the + X side among the plurality of first lines 61 is A (the intersection C1 and the plurality of intersections). The distance between the first line 61 and the first line 61 closest to the −X side in the X-axis direction is B), and the intersection C1 and the second line 62 closest to the −Y side among the plurality of second lines 62 are When the distance in the Y-axis direction is C (the distance in the Y-axis direction between the intersection C1 and the second line 62 closest to the + Y side among the plurality of second lines 62 is D), the region K2 in FIG. As shown in the enlarged view, the distance in the X-axis direction between the first line 61 adjacent to the intersection C1 on the + X side and the intersection C1 is a (first line adjacent to the −X side with respect to the intersection C1). The distance in the X-axis direction between 61 and the intersection C1 is b) The distance in the Y axis direction between the second line 62 adjacent to the intersection point C1 on the −Y side and the intersection point C1 is c (the Y axis direction between the second line 62 adjacent to the intersection point C1 on the + Y side and the intersection point C1. Is the distance d). Here, A: B = c: d and C: D = a: b. As described above, in the present embodiment, the position of the predetermined mark 10B (the mark 10B in the area of the symbol K2) among the plural (81) marks 10B is the intersection C1 with respect to the area surrounded by the four intersections C2. Corresponds to the position of. That is, the positional relationship between the intersection C1 and the four intersections C2 surrounding the intersection C1 corresponds to the positional relationship between the field of view of the imaging optical system 33 and the preparation 1. Therefore, using the template matching method, the positional relationship between the intersection C1 and the four intersections C2 surrounding the intersection C1 is obtained using the result of detecting the positions of the intersection C1 and the four intersections C2 surrounding the intersection C1. Thus, each mark 10B can be identified.

なお、本実施形態においても、各マーク１０Ｂ同士の間隔は、結像光学系３３の視野の大きさよりも小さい。   Also in this embodiment, the interval between the marks 10 </ b> B is smaller than the size of the field of view of the imaging optical system 33.

また、本実施形態においても、プレパラート１Ｂの表面８Ｂと平行なＸＹ平面内において、８１個のマーク１０Ｂのうち、少なくとも一部の複数のマーク１０Ｂが試料Ｓと重なるように配置される。   Also in the present embodiment, at least some of the 81 marks 10B are arranged so as to overlap the sample S in the XY plane parallel to the surface 8B of the preparation 1B.

本実施形態においても、結像光学系３３の視野内に、プレパラート１Ｂ上のどの領域が配置されているのかを円滑に把握することができる。したがって、プレパラート１Ｂに対する観察動作を円滑に実行することができる。   Also in the present embodiment, it is possible to smoothly grasp which region on the preparation 1B is arranged in the field of view of the imaging optical system 33. Therefore, the observation operation for the preparation 1B can be executed smoothly.

なお、上述の第１、第２実施形態においては、顕微鏡装置２１が、正立顕微鏡である場合を例にして説明したが、倒立顕微鏡であってもよい。   In the first and second embodiments described above, the microscope apparatus 21 is described as an example of an upright microscope, but may be an inverted microscope.

なお、上述の第１、第２実施形態においては、マーク１０（１０Ｂ）がカバーガラス３（３Ｂ）の表面６（６Ｂ）に形成されている場合を例にして説明したが、カバーガラス３（３Ｂ）の裏面に形成されていてもよい。また、マーク１０（１０Ｂ）は、スライドガラス２の表面４に形成されていてもよいし、スライドガラス２の裏面５に形成されていてもよい。特に、対物レンズがスライドガラスの裏面と対向するように配置され、試料Ｓの観察時にカバーガラスの表面側から照明光を照射する倒立顕微鏡の場合には、マーク１０（１０Ｂ）は、スライドガラスに形成されていることが望ましい。   In the first and second embodiments described above, the case where the mark 10 (10B) is formed on the surface 6 (6B) of the cover glass 3 (3B) has been described as an example, but the cover glass 3 ( It may be formed on the back surface of 3B). Further, the mark 10 (10B) may be formed on the front surface 4 of the slide glass 2 or may be formed on the back surface 5 of the slide glass 2. In particular, in the case of an inverted microscope in which the objective lens is disposed so as to face the back surface of the slide glass and illuminates illumination light from the front surface side of the cover glass when the sample S is observed, the mark 10 (10B) is placed on the slide glass. It is desirable that it be formed.

なお、上述の第１、第２実施形態においては、倍率変換光学系４４により結像光学系３３の倍率を変換する場合を例にして説明したが、対物レンズ３５を交換して（切り替えて）もよい。   In the first and second embodiments described above, the case where the magnification of the imaging optical system 33 is converted by the magnification conversion optical system 44 has been described as an example. However, the objective lens 35 is replaced (switched). Also good.

第１実施形態に係るプレパラートを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the preparation which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係るプレパラートを示す図であって、図２（Ａ）は、プレパラートの表面の一部を拡大した図、図２（Ｂ）は、プレパラートに配置されているマークを拡大した図である。FIG. 2A is a diagram showing a preparation according to the first embodiment, FIG. 2A is an enlarged view of a part of the surface of the preparation, and FIG. 2B is an enlarged view of marks arranged on the preparation. It is. 第１実施形態に係る顕微鏡システムを示す図である。It is a figure which shows the microscope system which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係る顕微鏡装置を示す図である。It is a figure which shows the microscope apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係る第１照明光学系の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the 1st illumination optical system which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係る倍率変換光学系の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the magnification conversion optical system which concerns on 1st Embodiment. 第１実施形態に係る観察方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the observation method which concerns on 1st Embodiment. 結像光学系の視野の大きさとマーク同士の間隔との関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the relationship between the magnitude | size of the visual field of an imaging optical system, and the space | interval of marks. 第２実施形態に係るプレパラートを示す図であって、図９（Ａ）は、プレパラートの表面の一部を拡大した図、図９（Ｂ）は、プレパラートに配置されているマークを拡大した図である。FIGS. 9A and 9B are diagrams showing a preparation according to the second embodiment, in which FIG. 9A is an enlarged view of a part of the surface of the preparation, and FIG. 9B is an enlarged view of marks arranged on the preparation. It is.

符号の説明Explanation of symbols

１、１Ｂ…プレパラート、８、８Ｂ…表面、１０、１０Ｂ…マーク、２０…顕微鏡システム、２１…顕微鏡装置、２２…制御装置、２６…ステージ、２８…撮像素子、２９…観察カメラ、３１…第１光源装置、３２…第２光源装置、３３…結像光学系、３５…対物レンズ、３６…第１照明光学系、４１…第２照明光学系、５０…支持部材、５２…駆動装置、６１…第１ライン、６２…第２ライン、６３…第３ライン、６４…第４ライン、Ｓ…試料   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1B ... Preparation, 8, 8B ... Surface, 10, 10B ... Mark, 20 ... Microscope system, 21 ... Microscope apparatus, 22 ... Control apparatus, 26 ... Stage, 28 ... Image sensor, 29 ... Observation camera, 31 ... No. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 light source device, 32 ... 2nd light source device, 33 ... Imaging optical system, 35 ... Objective lens, 36 ... 1st illumination optical system, 41 ... 2nd illumination optical system, 50 ... Support member, 52 ... Drive apparatus, 61 ... 1st line, 62 ... 2nd line, 63 ... 3rd line, 64 ... 4th line, S ... Sample

Claims (21)

試料を観察するための顕微鏡装置に使用されるカバーガラスであって、
所定間隔で配置された複数のマークを備え、
前記マークのそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むカバーガラス。 A cover glass used in a microscope apparatus for observing a sample,
Provided with a plurality of marks arranged at predetermined intervals,
Each of the marks is a cover glass including a unique pattern corresponding to a position where the mark is arranged. 前記マークは、前記顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する位置情報を求めるために、前記顕微鏡装置に観察される請求項１記載のカバーガラス。   The cover glass according to claim 1, wherein the mark is observed by the microscope device in order to obtain positional information with respect to a field of view of an imaging optical system of the microscope device. 前記顕微鏡装置の結像光学系の複数の光学素子のうち、前記結像光学系の物体面に最も近い光学素子と対向する表面を有し、
前記表面と平行な平面内において、前記試料と前記マークとが重なるように配置されている請求項１又は２記載のカバーガラス。 Of the plurality of optical elements of the imaging optical system of the microscope apparatus, the surface facing the optical element closest to the object plane of the imaging optical system,
The cover glass according to claim 1, wherein the sample and the mark are arranged so as to overlap each other in a plane parallel to the surface. 前記マークは、第１波長領域の光が照射されたときに、蛍光を発する蛍光物質で形成されている請求項１〜３のいずれか一項記載のカバーガラス。   The cover glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the mark is formed of a fluorescent material that emits fluorescence when light in the first wavelength region is irradiated. 前記マーク同士の間隔は、前記顕微鏡装置の結像光学系の視野の大きさよりも小さい請求項１〜４のいずれか一項記載のカバーガラス。   The cover glass according to any one of claims 1 to 4, wherein an interval between the marks is smaller than a field of view of an imaging optical system of the microscope apparatus. 前記マークは、バーコードパターンを含む請求項１〜５のいずれか一項記載のカバーガラス。   The cover glass according to claim 1, wherein the mark includes a barcode pattern. 互いに平行であり、第１間隔で配置された複数の第１ラインと、
互いに平行であり、前記第１ラインと直交し、第２間隔で配置された複数の第２ラインと、
互いに平行であり、前記第１ラインに対して第１角度傾斜し、隣接する第１ライン同士それぞれの間に配置されるように第３間隔で配置された複数の第３ラインと、
互いに平行であり、前記第２ラインに対して第２角度傾斜し、隣接する第２ライン同士それぞれの間に配置されるように第４間隔で配置された複数の第４ラインとを含み、
前記マークは、前記第１、第２、第３、及び第４ラインで形成される請求項１〜６のいずれか一項記載のカバーガラス。 A plurality of first lines parallel to each other and arranged at a first interval;
A plurality of second lines that are parallel to each other, orthogonal to the first line, and arranged at a second interval;
A plurality of third lines that are parallel to each other, inclined at a first angle with respect to the first line, and arranged at a third interval so as to be arranged between the adjacent first lines;
A plurality of fourth lines that are parallel to each other, inclined at a second angle with respect to the second line, and arranged at a fourth interval so as to be arranged between the adjacent second lines,
The cover glass according to claim 1, wherein the mark is formed by the first, second, third, and fourth lines. 試料を観察するための顕微鏡装置に使用されるスライドガラスであって、
所定間隔で配置された複数のマークを備え、
前記マークのそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むスライドガラス。 A slide glass used in a microscope apparatus for observing a sample,
Provided with a plurality of marks arranged at predetermined intervals,
Each of the marks is a slide glass including a unique pattern corresponding to a position where the mark is arranged. 顕微鏡装置で観察するための試料を含むプレパラートであって、
所定間隔で配置された複数のマークを備え、
前記マークのそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含むプレパラート。 A preparation containing a sample for observation with a microscope device,
Provided with a plurality of marks arranged at predetermined intervals,
Each of the marks is a preparation including a unique pattern corresponding to a position where the mark is arranged. 顕微鏡装置を用いた試料の観察方法であって、
請求項１〜７のいずれか一項記載のカバーガラスを用いる観察方法。 A method for observing a sample using a microscope apparatus,
The observation method using the cover glass as described in any one of Claims 1-7. 顕微鏡装置を用いた試料の観察方法であって、
請求項８記載のスライドガラスを用いる観察方法。 A method for observing a sample using a microscope apparatus,
An observation method using the slide glass according to claim 8. 顕微鏡装置を用いた試料の観察方法であって、
請求項９記載のプレパラートを用いる観察方法。 A method for observing a sample using a microscope apparatus,
An observation method using the preparation according to claim 9. 顕微鏡装置を用いるプレパラートの試料の観察方法であって、
前記プレパラートに配置されたマークを前記顕微鏡装置で観察して、前記顕微鏡装置の結像光学系の視野に対する前記プレパラートの位置情報を求めることと、
前記位置情報に基づいて、前記視野に対する前記プレパラートの位置を調整することと、を含む観察方法。 A method for observing a preparation sample using a microscope device,
Observing the mark arranged on the preparation with the microscope device, and obtaining positional information of the preparation with respect to the field of view of the imaging optical system of the microscope device;
Adjusting the position of the preparation with respect to the visual field based on the position information. 前記マークは、前記プレパラートに所定間隔で複数配置され、
前記マークのそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含む請求項１３記載の観察方法。 A plurality of the marks are arranged at predetermined intervals on the preparation,
The observation method according to claim 13, wherein each of the marks includes a unique pattern corresponding to a position where the mark is arranged. 前記プレパラートは、前記顕微鏡装置の結像光学系の複数の光学素子のうち、前記結像光学系の物体面に最も近い光学素子と対向する表面を有し、
前記表面と平行な平面内において、前記試料と前記マークとを重ねる請求項１３又は１４記載の観察方法。 The preparation has a surface facing an optical element closest to the object plane of the imaging optical system among a plurality of optical elements of the imaging optical system of the microscope apparatus,
The observation method according to claim 13 or 14, wherein the sample and the mark are overlapped in a plane parallel to the surface. 前記マークは、第１波長領域の光が照射されたときに、蛍光を発する蛍光物質で形成され、
前記マークの観察時に、前記第１波長領域の光で前記プレパラートを照明する請求項１３〜１５のいずれか一項記載の観察方法。 The mark is formed of a fluorescent material that emits fluorescence when irradiated with light in the first wavelength region,
The observation method according to claim 13, wherein the preparation is illuminated with light in the first wavelength region when the mark is observed. 前記試料の観察時に、第２波長領域の光で前記プレパラートを照明する請求項１６記載の観察方法。   The observation method according to claim 16, wherein when observing the sample, the preparation is illuminated with light in a second wavelength region. プレパラートの試料を観察する顕微鏡装置であって、
結像光学系と、
前記結像光学系の物体面側で前記プレパラートを支持する支持部材と、
前記結像光学系の像面側に配置され、前記プレパラートに配置されたマークの像情報を取得可能な撮像装置と、
前記撮像装置で取得した前記マークの像情報に基づいて、前記結像光学系の視野に対する前記プレパラートの位置情報を求める処理装置と、を備えた顕微鏡装置。 A microscope apparatus for observing a preparation sample,
An imaging optical system;
A support member for supporting the preparation on the object plane side of the imaging optical system;
An imaging device that is arranged on an image plane side of the imaging optical system and that can acquire image information of a mark arranged on the slide;
And a processing device for obtaining position information of the slide with respect to the field of view of the imaging optical system based on the image information of the mark acquired by the imaging device. 前記マークは、前記プレパラートに所定間隔で複数配置され、
前記マークのそれぞれは、配置される位置に応じた固有パターンを含む請求項１８記載の顕微鏡装置。 A plurality of the marks are arranged at predetermined intervals on the preparation,
The microscope apparatus according to claim 18, wherein each of the marks includes a unique pattern corresponding to a position where the mark is arranged. 前記処理装置で求めた前記プレパラートの位置情報に基づいて、前記結像光学系の視野に対する前記プレパラートの位置を調整するために、前記支持部材を移動する駆動装置を備えた請求項１８又は１９記載の顕微鏡装置。   The drive device which moves the support member in order to adjust the position of the preparation with respect to the field of view of the imaging optical system based on the position information of the preparation obtained by the processing device. Microscope equipment. 前記マークは、第１波長領域の光が照射されたときに、蛍光を発する蛍光物質で形成され、
前記マークの観察時に、前記第１波長領域の光で前記プレパラートを照明する第１照明装置と、
前記試料の観察時に、第２波長領域の光で前記プレパラートを照明する第２照明装置とを備える請求項１８〜２０のいずれか一項記載の顕微鏡装置。 The mark is formed of a fluorescent material that emits fluorescence when irradiated with light in the first wavelength region,
A first illumination device that illuminates the preparation with light in the first wavelength region when observing the mark;
The microscope apparatus according to any one of claims 18 to 20, further comprising a second illumination device that illuminates the preparation with light in a second wavelength region during observation of the sample.
JP2007200740A 2007-08-01 2007-08-01 Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device Pending JP2009036969A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007200740A JP2009036969A (en) 2007-08-01 2007-08-01 Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007200740A JP2009036969A (en) 2007-08-01 2007-08-01 Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009036969A true JP2009036969A (en) 2009-02-19

Family

ID=40438942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007200740A Pending JP2009036969A (en) 2007-08-01 2007-08-01 Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009036969A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009237277A (en) * 2008-03-27 2009-10-15 Nippon Zeon Co Ltd Container for microscopic observation
WO2011007768A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-20 株式会社ニコン Three-dimensional directional drift control device and microscope device
CN102902055A (en) * 2012-08-28 2013-01-30 江南大学 Glass slide specimen producing method for microscope photographing of phytoplankton
DE102012214664A1 (en) * 2012-08-17 2014-02-20 Leica Microsystems Cms Gmbh Slides with reference points
WO2014102382A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-03 Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives Device for marking a sample, and observation system comprising such a marking device
EP2524261A4 (en) * 2010-01-15 2015-06-03 Qbc Diagnostics Inc Fluorescent microscope slide
CN105122113A (en) * 2013-04-19 2015-12-02 美国樱花检验仪器株式会社 Method for generating a composite image of an object body consisting of a plurality of sub-images
JP2016110040A (en) * 2014-12-10 2016-06-20 キヤノン株式会社 Slide and microscope system using the same
KR20180119257A (en) * 2017-04-25 2018-11-02 가톨릭대학교 산학협력단 Medical inspection slide unit
US10139613B2 (en) 2010-08-20 2018-11-27 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Digital microscope and method of sensing an image of a tissue sample
US10495867B2 (en) 2009-03-11 2019-12-03 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Autofocus method and autofocus device
CN111240001A (en) * 2020-04-09 2020-06-05 麦克奥迪实业集团有限公司 Focusing method of microscopic specimen with cover glass
US11280803B2 (en) 2016-11-22 2022-03-22 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Slide management system
EP3827214A4 (en) * 2018-07-26 2022-04-20 QIAGEN Sciences, LLC Fiducial marking system

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6347318U (en) * 1986-09-17 1988-03-31
JPH02141601A (en) * 1988-11-24 1990-05-31 Seiko Instr Inc Standard sample and position correcting method
JPH09203865A (en) * 1996-01-25 1997-08-05 Nikon Corp Index glass and fluorescent optical apparatus formed by using the index glass
JP2001108913A (en) * 1999-10-04 2001-04-20 Olympus Optical Co Ltd Microscope system and observing device to be used in combination with its microscope
JP2002214536A (en) * 2001-01-05 2002-07-31 Leica Microsystems Heidelberg Gmbh Microscope and method of driving microscope
JP2003513301A (en) * 1999-10-28 2003-04-08 ヴアイネル，ジビル Transparent object carrier for light microscopy
JP2004061942A (en) * 2002-07-30 2004-02-26 Nikon Corp Microscope system
JP2004257872A (en) * 2003-02-26 2004-09-16 Seiko Epson Corp Position information acquiring system, position information acquiring device, position information acquiring method and program

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6347318U (en) * 1986-09-17 1988-03-31
JPH02141601A (en) * 1988-11-24 1990-05-31 Seiko Instr Inc Standard sample and position correcting method
JPH09203865A (en) * 1996-01-25 1997-08-05 Nikon Corp Index glass and fluorescent optical apparatus formed by using the index glass
JP2001108913A (en) * 1999-10-04 2001-04-20 Olympus Optical Co Ltd Microscope system and observing device to be used in combination with its microscope
JP2003513301A (en) * 1999-10-28 2003-04-08 ヴアイネル，ジビル Transparent object carrier for light microscopy
JP2002214536A (en) * 2001-01-05 2002-07-31 Leica Microsystems Heidelberg Gmbh Microscope and method of driving microscope
JP2004061942A (en) * 2002-07-30 2004-02-26 Nikon Corp Microscope system
JP2004257872A (en) * 2003-02-26 2004-09-16 Seiko Epson Corp Position information acquiring system, position information acquiring device, position information acquiring method and program

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009237277A (en) * 2008-03-27 2009-10-15 Nippon Zeon Co Ltd Container for microscopic observation
US10495867B2 (en) 2009-03-11 2019-12-03 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Autofocus method and autofocus device
US10613311B2 (en) 2009-07-13 2020-04-07 Nikon Corporation Three-dimensional drift control apparatus and microscope apparatus
CN102483509A (en) * 2009-07-13 2012-05-30 株式会社尼康 Three-dimensional directional drift control device and microscope device
CN102483509B (en) * 2009-07-13 2015-04-22 株式会社尼康 Three-dimensional directional drift control device and microscope device
US9494784B2 (en) 2009-07-13 2016-11-15 Nikon Corporation Three-dimensional drift control apparatus and microscope apparatus
WO2011007768A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-20 株式会社ニコン Three-dimensional directional drift control device and microscope device
EP2524261A4 (en) * 2010-01-15 2015-06-03 Qbc Diagnostics Inc Fluorescent microscope slide
US10139613B2 (en) 2010-08-20 2018-11-27 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Digital microscope and method of sensing an image of a tissue sample
DE102012214664A1 (en) * 2012-08-17 2014-02-20 Leica Microsystems Cms Gmbh Slides with reference points
DE102012214664B4 (en) 2012-08-17 2024-08-22 Leica Microsystems Cms Gmbh Slides with reference points
US9335534B2 (en) 2012-08-17 2016-05-10 Leica Microsystems Cms Gmbh Specimen slide having reference points
CN102902055A (en) * 2012-08-28 2013-01-30 江南大学 Glass slide specimen producing method for microscope photographing of phytoplankton
FR3000567A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-04 Commissariat Energie Atomique SAMPLE TRACKING DEVICE, AND OBSERVATION SYSTEM COMPRISING SUCH A TRACKING DEVICE
JP2016503192A (en) * 2012-12-31 2016-02-01 コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ Device for marking samples and observation system with such a marking device
WO2014102382A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-03 Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives Device for marking a sample, and observation system comprising such a marking device
US10269094B2 (en) 2013-04-19 2019-04-23 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Method for generating a composite image of an object composed of multiple sub-images
CN105122113A (en) * 2013-04-19 2015-12-02 美国樱花检验仪器株式会社 Method for generating a composite image of an object body consisting of a plurality of sub-images
JP2016110040A (en) * 2014-12-10 2016-06-20 キヤノン株式会社 Slide and microscope system using the same
US11280803B2 (en) 2016-11-22 2022-03-22 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Slide management system
KR20180119257A (en) * 2017-04-25 2018-11-02 가톨릭대학교 산학협력단 Medical inspection slide unit
KR101940399B1 (en) 2017-04-25 2019-01-18 가톨릭대학교 산학협력단 Medical inspection slide unit
EP3827214A4 (en) * 2018-07-26 2022-04-20 QIAGEN Sciences, LLC Fiducial marking system
CN111240001A (en) * 2020-04-09 2020-06-05 麦克奥迪实业集团有限公司 Focusing method of microscopic specimen with cover glass
CN111240001B (en) * 2020-04-09 2022-04-12 麦克奥迪实业集团有限公司 Focusing method of microscopic specimen with cover glass

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009036969A (en) Cover glass, slide glass, preparation, observation method, and microscopic device
US9835843B2 (en) Three-dimensional confocal microscopy apparatus and focal plane scanning and aberration correction unit
US10295814B2 (en) Light sheet microscope and method for operating same
CN103765277B (en) Use the focusing of error signal and imaging system and technology
EP2941663B1 (en) A method for automated platform and/or reference object independent acquisition of positional information and localization of objects of interest in a microscope
KR20200041982A (en) Real-time autofocus scanning
CN110140129B (en) Low resolution slide imaging and slide label imaging and high resolution slide imaging using dual optical paths and single imaging sensor
JP5142315B2 (en) Microscope and observation method thereof
KR20200041983A (en) Real-time autofocus focusing algorithm
US9977230B2 (en) Microscope system
JP2021192118A (en) Two-dimensional and three-dimensional fixed z scanning
JP2009036970A (en) Cover glass, slide glass, preparation, observing method and microscope device
JP6548965B2 (en) Microscope system and microscopic observation method
JP6952891B2 (en) Carousel for 2x3 and 1x3 slides
JP2010080144A (en) Compound microscope device and method of observing sample
JP6177000B2 (en) Laser scanning microscope
JP7134839B2 (en) MICROSCOPE DEVICE, CONTROL METHOD AND PROGRAM
JP2007212305A (en) Minute height measuring instrument and displacement meter unit
JP2009015047A (en) Microscope device and observation method
US20180180867A1 (en) Microscope and setting support method
JPH1152252A (en) Fluorescent microscope
JP2021512346A (en) Impact rescanning system
JP7507767B2 (en) Physical Calibration Slide
JP2006133183A (en) Composite microscope
KR102715080B1 (en) Alignment device for microscope

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110301

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120207

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120724