JP2009024916A - 過熱スチーム生成ユニットおよび食品調理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】過熱スチーム生成ユニット51では、生成された過熱スチームのうち、一部は、上噴射ノズル52で噴射されるが、残りの過熱スチームは、スチーム誘導路82を下降して下噴射ノズル53へ向かう。ここで、スチーム誘導路82は、ヒータ66に近接して配置されているので、スチーム誘導路82を下降する過熱スチームは再加熱され、この過熱スチームの温度低下を抑制することができる。その結果、下噴射ノズル53から噴出されるまで過熱スチームを維持することができる。
【選択図】図16
Description
たとえば、特許文献1に記載の加熱調理器では、被調理食品を収容する加熱室の内側面に、蒸気発生容器が配設されている。蒸気発生容器には、蒸気用ヒータが設けられている。蒸気発生容器内に供給された水は、蒸気用ヒータによって加熱されてスチームとなり、蒸気発生容器において加熱室側に設けられた蒸気吹出口(噴射ノズルに相当する。)から加熱室内に噴射される。この加熱調理器には、加熱室内に熱風を循環させる熱風循環機構が設けられており、加熱室内に噴射されたスチームは、熱風循環機構によって循環される熱風により加熱されて、過熱スチームとなる。
この発明は、1つのユニットによって少なくとも上下2段に過熱スチームを噴射できる過熱スチーム生成ユニットを提供することを他の目的とする。
そして、この過熱スチーム生成ユニットでは、水貯留部に貯留された水がヒータによって加熱されてスチームとなり、このスチームがスチーム上昇路を上昇するときにヒータによって再加熱されることで過熱スチームが生成される。生成された過熱スチームのうち、一部は、上噴射ノズルで噴射されるが、残りの過熱スチームは、スチーム誘導路を下降して下噴射ノズルへ向かう。ここで、スチーム誘導路は、ヒータに近接して配置されているので、スチーム誘導路を下降する過熱スチームは再加熱され、この過熱スチームの温度低下を抑制することができる。
請求項2記載の発明によれば、スチーム生成ユニットは、ダイカスト成形された第1、第2、第3の金属体をこの順に3層に重ね合わせることで簡易に構成することができる。
ヒータが埋設された第2の金属体は、熱伝導性の良好な材料で形成されているので、第1の金属体と第2の金属体との間に形成された水貯留部およびスチーム上昇路、ならびに、第2の金属体と第3の金属体との間に形成されるスチーム誘導路に対して、良好にヒータの熱を供給することができる。なお、金属体に代えて、セラミック体などで形成することもできる。
また、1つの過熱スチーム生成ユニットで上噴射ノズルおよび下噴射ノズルの両方に過熱スチームを供給することにより、部品点数の削減を図ることができる。さらに、この過熱スチーム生成ユニットでは、上噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路および下噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路の両方を共用ヒータで加熱するので、構成の簡素化を図ることができる。
<電子レンジの基本構成>
図1は、この発明の一実施形態に係る食品調理装置としての電子レンジ1の正面右側斜視図である。図2は、図1において、扉2を開いた状態を示す。図3は、電子レンジ1の底面図である。図4は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面上側斜視図である。図5は、加熱室11の底である凹部16の平面図であって、回転アンテナ20A、20Bの配置および形状を示す図である。図6(a)は、拡散モード、図6(b)は、集中モードにおけるマイクロ波放射のイメージ図である。図7は、調理状況検知手段としての赤外線センサ30の揺動に伴って視野32が加熱室11内で移動する様子を説明するための模式図であって、図7(a)は、本実施例を適用した場合を示し、図7(b)は、比較例を適用した場合を示す。図8は、扉2を取り除いた状態にあるケーシング4の正面図である。図9は、後ヒータ23を一部抜き出して示した図である。図10は、加熱循環室74内を示す試作品の写真である。図11は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の右側断面図である。図12(a)は、電子レンジ1の予熱工程に係る電気的構成を示すブロック図であり、図12(b)は、予熱工程を説明するためのフローチャートである。図13は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面左側斜視図である。図14は、扉2および化粧板3(外カバー板)を取り除いた状態にあるケーシング4の正面右側斜視図である。図15は、過熱スチーム生成ユニット51の正面右側斜視図である。図16は、図15に示す過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。図17は、正面左側から見た過熱スチーム生成ユニット51の分解斜視図である。図18は、図8に角皿25および金網7を追加した図である。図19は、変形例に係る過熱スチーム生成ユニット51の右側面図である。
電子レンジ1は、その外殻をなすケーシング4を有している。ケーシング4は、図2に示すように、前面が開放された(この部分を開口8という。)中空のボックス状をした金属製のフレーム12と、フレーム12の外側(左右外側面および上外表面)を覆う化粧板3(外カバー板)とを備えている。フレーム12によって加熱室11が形成されている。加熱室11は、フレーム12の左右側壁、天壁、底壁および後壁によって区画された横長の略直方体形状の空間であり、前面に開口8を有している。底壁は、そのほぼ全域に亘って窪む凹部16を形成している(図4参照)。そして、凹部16を上から塞ぐように、平板状の底板6が載置されている。つまり、加熱室11の底面は、被調理食品が載置される底板6と、その下に窪まされた凹部16という二重構造を有している。
図5に示す回転アンテナ20A、20Bは、薄い金属板で形成され、互いに等しい平面形状をした大型の平板アンテナである。すなわち、回転アンテナ20A、20Bは、それぞれ、回転軸21から所定の角度方向に張り出した幅の広い矩形主張出し部211、その両側に張り出した幅の狭い一対の矩形副張出し部212、213、矩形主張出し部211の張り出し方向と反対の角度方向に張り出した半リング状張出し部214、および、半リング状張出し部214の内側に形成された椀形張出し部215を有している。
まず、拡散モードとして、2つの回転アンテナ20A、20Bを互いに逆方向に一定速度で回転させながらマイクロ波加熱を行う。拡散モードでは、大型のWアンテナ20A、20Bからマイクロ波が拡散され、加熱室11の隅々までマイクロ波が行き渡り、食品の加熱ムラを抑えておいしく調理できる。
回転アンテナ20A、20Bの矩形主張出し部211、211は、マイクロ波を強く放射する部分であり、図5の位置で回転アンテナ20A、20Bを停止させ、マイクロ波を放射させると、加熱室11の中央部へマイクロ波が強く放射される。よって、加熱室11の中央部に置いた食品を素早く加熱できる。
<赤外線センサ>
図4および図11に示すように、ケーシング4(フレーム12)の背面上端部には、赤外線センサ30が、加熱室11の左右方向中央部の背面上方から底板6を臨むように、取付けられている。また、赤外線センサ30に対応して、ケーシング4の背面上端部には、図8に示すように、検出窓31が形成されている。
<ヒータ>
主として図11を参照して、加熱室11の上方および後方には、通電されることによって輻射熱を発生するヒータが配置されている。なお、上方のヒータを上ヒータ22といい、後方のヒータを後ヒータ23という。この電子レンジ1では、上述したマイクロ波運転に加えて、上ヒータ22および後ヒータ23が発生する熱を用いて被調理食品を加熱するヒータ運転(オーブン加熱)が実行される。
図8および図11を参照して、後ヒータ23は、フレーム12の後側壁に内蔵されている。言い換えれば、フレーム12の後側壁は、外部に面する外壁(図11では表れていない。)と加熱室11に面する内壁41(壁面)とを含む2重構造であり、後ヒータ23は、上述した外壁と内壁41との間の空間(加熱循環室74という。)に配置されている。加熱循環室74は、加熱室11に対して後側から隣接しており、内壁41によって、加熱室11と加熱循環室74とが区画されている。加熱循環室74には、図8に示すように、後ヒータ23に加えて、ファン35が備えられている。ファン35は、正面視において、加熱循環室74の略中央位置に配置されている。ファン35は、前後方向に延びる回転軸を中心に、正面視反時計回りの方向(図示矢印参照)へ回転する。ファン35は、その周辺に沿って16枚の羽根を有し、中央前方から取り込んだ空気を16枚の羽根できめ細かく周囲へ送り出す。ファン35の回転数は、通常回転で、たとえば、約2100rpmである。
なお、内壁41を除く加熱室11および加熱循環室74の壁面は、たとえば、空気層、断熱板、断熱材、断熱板を挟んだ多層断熱鋼板で形成するのが好ましく、これによって、加熱室11内の熱を閉じ込めてよりスムーズな高火力調理を実現できる。
この電子レンジ1では、図12(a)に示すように、制御部17(ファン制御手段)が、操作パネル10、ファン35および後ヒータ23のそれぞれに対して電気的に接続されている。操作パネル10の操作による予熱工程の実施指令に応じて、制御部17は、ファン35および後ヒータ23をそれぞれ駆動させる。
<過熱スチーム生成装置>
図13に示すように、加熱室11の左外側には、調理用の過熱スチームを生成する過熱スチーム生成装置5の過熱スチーム生成ユニット51が配置されている。この電子レンジ1では、上述したマイクロ波運転およびヒータ運転に加えて、過熱スチーム生成装置5が生成する過熱スチームで被調理食品を加熱するスチーム運転が実行される。加熱室11内に過熱スチームを供給して被調理食品を過熱スチームで加熱することにより、被調理食品の脱塩や脱脂を図ることができる。なお、通常のスチームの温度が約100℃であるのに対し、過熱スチームの温度は約130℃である。スチーム運転おいて、上ヒータ22および/または後ヒータ23を連動させることにより、これらのヒータが生じる熱によって加熱室11内の過熱スチームを加熱することで、加熱室11内の過熱スチームの温度を350℃〜400℃に上昇させることもできる。
タンク49は、水を収容し、図1に示すように、ケーシング4の正面下部に対して、いわゆるカセット方式として、着脱可能に装着される。
図13に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、フレーム12の左側壁外面に取り付けられている。また、過熱スチーム生成ユニット51は、上下の噴射ノズルを備えていて、図14に示すように、左側壁の内面86(区画面)に、それら上噴射ノズル52および下噴射ノズル53が上下2段に表れている。上噴射ノズル52および下噴射ノズル53は、それぞれ、前後方向に並んで複数(本実施例では3つ)設けられている。上噴射ノズル52は、最上位置のレール24Uの上方において、内面86から加熱室11内を臨んでおり、下噴射ノズル53は、最上位置のレール24Uと最上位置から2番目のレール24Mとの間において、内面86から加熱室11内を臨んでいる。上噴射ノズル52および下噴射ノズル53については、以降で詳説する。
図15に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、右側面視において略矩形の薄板形状をしている。図16および図17に示すように、過熱スチーム生成ユニット51は、本体54と左蓋55と右蓋56とに3分割される。本体54、左蓋55および右蓋56は、熱伝導性の良好な、たとえばアルミニウムでダイカスト成形された金属体である。なお、金属体に代えて、セラミック体でもよい。過熱スチーム生成ユニット51は、左蓋55(第1の金属体)、本体54(第2の金属体)および右蓋56(第3の金属体)が、左からこの順で3層に重ね合わせられて構成されており、本体54が中央に配置される。
図16に示すように、左蓋55の右側面(内面)には、左蓋55の周縁の全てに沿って右側へ突出する凸条(左蓋凸条69という。)が設けられている。左蓋凸条69の内側には、窪み(左蓋窪み79という。)が形成されている。左蓋小孔67は、左蓋凸条69内に配置されている。
左蓋55は、本体54に対して、左側から取付けられる。このとき、左蓋凸条69(図16参照)が本体左溝63に嵌めこまれる。ここで、予め本体左溝63に流し込まれた耐熱性の接着剤、たとえばシリコンの接着剤によって、左蓋凸条69と本体左溝63との間は塞がれる。そして、本体54および左蓋55のそれぞれの周縁に設けられた各ねじ部81をねじ(図示せず)で連結することによって、本体54に対する左蓋55の取付けが完了する。なお、各ねじ部81のうち、左蓋55および本体54の上端中央寄りの2つのねじ部81は、右蓋56の上端にある2つのねじ部81と共締めされる。この状態において、本体左窪み78と左蓋窪み79(図16参照)とは、互いに連通する。ここで、本体54と左蓋55との間で互いに連通状態にある本体左窪み78および左蓋窪み79において、上下方向リブ65より下側の部分に、前述した水貯留部76が形成され、上下方向リブ65以上の部分に、幅(前後の幅)が狭いスチーム上昇路77(供給路)が形成されている。スチーム上昇路77は、水貯留部76から上方に延びている。なお、説明の便宜上、水貯留部76およびスチーム上昇路77を、本体左窪み78に示している。また、左蓋小孔67は、水貯留部76に連通し、上小孔59および下小孔60は、スチーム上昇路77の上部に連通している。なお、下小孔60に対応する上噴射ノズル52(図16参照)は、スチーム上昇路77の上部に形成されているといえる。
この状態において、上述したポンプ(図示せず)を駆動して、タンク49(図1参照)の水を、パイプ50(図13参照)を介して過熱スチーム生成ユニット51に供給する。
また、この電子レンジ1では、1つの過熱スチーム生成ユニット51で上噴射ノズル52および下噴射ノズル53の両方に過熱スチームを供給することにより、部品点数の削減を図ることができる。さらに、この過熱スチーム生成ユニット51では、ヒータ66が、上噴射ノズル52へ過熱スチームを供給するスチーム上昇路77(図17参照)と、下噴射ノズル53へ過熱スチームを供給するスチーム誘導路82との両方を加熱するので、構成の簡素化を図ることができる。なお、ヒータ66は、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lの2本のヒータで構成されているが、これら2本のヒータをコ字状に連結することによって1本化することも可能である。その場合、2本のヒータの連結部分がスチーム誘導路82内に配置されればよい。
変形例に係る過熱スチーム生成ユニット51では、右蓋56(図17参照)が省略され、その代わりに、略S字状に屈曲するパイプ(ガイドパイプ84という。)が設けられている。ガイドパイプ84において、直線部分は、アルミニウムや銅やステンレスなどの金属で形成され、屈曲部分は、シリコンなどで形成されている。もちろん、ガイドパイプ84は、全部が金属で形成されていてもよいし、全部がシリコンで形成されていてもよい。各ガイドパイプ84において、一端が、対応する上小孔59(図16参照)に接続され、他端には、下噴射ノズル53が接続されている。そして、各ガイドパイプ84は、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lに対して、右側から接触するように、本体54に取付けられている。そのため、上述したようにスチーム上昇路77(図17参照)から上小孔59(図16参照)に到達した過熱スチームは、ガイドパイプ84を流れ、上記した実施例と同様に、上ヒータ66Uおよび下ヒータ66Lによって再加熱される。
2 扉
11 加熱室
51 過熱スチーム生成ユニット
52 上噴射ノズル
53 下噴射ノズル
54 本体
55 左蓋
56 右蓋
66 ヒータ
76 水貯留部
77 スチーム上昇路
82 スチーム誘導路
86 内面
Claims (4)
- 食品調理装置に取り付けられ、被調理食品をスチーム調理するために過熱スチームを生成する過熱スチーム生成ユニットであって、
水貯留部と、
前記水貯留部から上方に延びるスチーム上昇路と、
前記水貯留部に貯留された水を加熱してスチームを生成し、かつ、生成されたスチームが前記スチーム上昇路を上昇するときにこのスチームを加熱して過熱スチームにするためのヒータと、
前記スチーム上昇路の上部に形成され、過熱スチームを噴射するための上噴射ノズルと、
前記スチーム上昇路の上部に連通され、前記スチーム上昇部の上部に昇った過熱スチームを下方へ導くための誘導路であって、前記誘導路を通るスチームが前記ヒータで再加熱されるように前記ヒータに近接して配置されているスチーム誘導路と、
前記スチーム誘導路の下部に形成され、過熱スチームを噴射するための下噴射ノズルと、
を含むことを特徴とする過熱スチーム生成ユニット。 - 前記スチーム生成ユニットは、ダイカスト成形された第1、第2、第3の金属体がこの順に3層に重ね合わされた構成を有し、
前記第1の金属体と前記第2の金属体との間に前記水貯留部および前記スチーム上昇路が形成されており、
前記第2の金属体と前記第3の金属体との間に前記スチーム誘導路が形成されており、
前記第2の金属体には前記ヒータが埋設されていることを特徴とする、請求項1記載の過熱スチーム生成ユニット。 - 前面以外は区画面で区画され、前面は扉で開閉される被調理食品を収容するための加熱室と、
前記区画面に少なくとも上下2段に配置され、調理用過熱スチームを噴出するために少なくとも設けられる上噴射ノズルおよび下噴射ノズルと、
前記上噴射ノズルおよび前記下噴射ノズルに過熱スチームを供給するための1つの過熱スチーム生成ユニットであって、前記上噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路および前記下噴射ノズルへ過熱スチームを供給する供給路の両方を加熱するための共用ヒータを有する過熱スチーム生成ユニットと、
を有することを特徴とする食品調理装置。 - 前記過熱スチーム生成ユニットは、請求項1または2記載の構成を有することを特徴とする、請求項3記載の食品調理装置。
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