JP2009016641A - Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system - Google Patents

Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system Download PDF

Info

Publication number
JP2009016641A
JP2009016641A JP2007178040A JP2007178040A JP2009016641A JP 2009016641 A JP2009016641 A JP 2009016641A JP 2007178040 A JP2007178040 A JP 2007178040A JP 2007178040 A JP2007178040 A JP 2007178040A JP 2009016641 A JP2009016641 A JP 2009016641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flexible film
circuit board
film circuit
identification mark
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007178040A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroki Suzuta
広樹 鈴田
Takayoshi Akamatsu
孝義 赤松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2007178040A priority Critical patent/JP2009016641A/en
Publication of JP2009016641A publication Critical patent/JP2009016641A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible film circuit board which makes it possible to easily trace a manufacture history by a fine unit of 1m or less while the manufacture history of the circuit pattern formed on a sheet flexible film can be traced only by the unit of several tens m or more by an existing technique after making a sheet flexible film board into a long-length film by connecting the sheet boards. <P>SOLUTION: On the flexible film circuit board where the circuit pattern is formed, an identification mark is written to the prescribed part of a region where the circuit pattern is not formed, registration in the management system is executed, and a manufacture condition, an inspection condition and an inspected result, etc., are recorded and managed in such a state that they can be collated with a product. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体素子等を搭載する電子回路基板に用いられるフィルム回路基板の製造方法、その製造装置および製造管理システムに関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a film circuit board used for an electronic circuit board on which a semiconductor element or the like is mounted, a manufacturing apparatus thereof, and a manufacturing management system.

エレクトロニクス製品の軽量化、小型化に伴い、プリント回路基板のパターニングの高精度化が求められている。可撓性フィルム基板は、曲げることができるために三次元配線ができ、エレクトロニクス製品の小型化に適していることから需要が拡大している。   As electronics products become lighter and smaller, printed circuit board patterning needs to be highly accurate. Since the flexible film substrate can be bent, three-dimensional wiring can be formed, and the flexible film substrate is suitable for downsizing of electronic products.

液晶ディスプレイパネルへのIC接続に用いられるCOF(Chip on Flex)技術は、比較的細幅の長尺ポリイミドフィルム基板を加工することで樹脂基板としては最高の微細パターンを得ることができるが、微細化の進展に関しては限界に近づきつつある。   COF (Chip on Flex) technology used for IC connection to the liquid crystal display panel can obtain the finest pattern that is the best as a resin substrate by processing a relatively narrow long polyimide film substrate. The progress of computerization is approaching the limit.

微細化にはライン幅やライン間のスペース幅で表される指標と基板上のパターンの位置で表される指標がある。ライン幅やスペース幅に関しては、さらに微細化する方策があるが、後者の指標である位置精度は、回路基板とICなどの電子部品を接合する際の電極パッドと回路基板パターンとの位置合わせに係わり、ICの多ピン化の進展に従い、要求される精度に対応することが厳しくなってきている。   For miniaturization, there are an index represented by a line width and a space width between lines, and an index represented by a position of a pattern on a substrate. Although there are measures to further reduce the line width and space width, the positional accuracy, which is the latter index, is used to align the electrode pad and the circuit board pattern when joining the electronic components such as the circuit board and IC. In connection with the progress of the increase in the number of pins of ICs, it is becoming strict to meet the required accuracy.

これに対して、近年、可撓性フィルム基板を補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、非常に微細な回路パターンを形成することが提案されている(特許文献1参照)。可撓性フィルム基板は、回路パターンが形成後、補強板から剥がされて使用される。前記提案は、主に枚葉型補強板を用いており、回路パターンが形成された可撓性フィルム基板も枚葉である。一方、現行のCOF技術においては、電子部品接続、テスト、LCDパネルとの接続など、回路パターンが形成された可撓性フィルム基板の取り扱いは、枚葉と長尺の両方のケースがあるが、長尺フィルムをリール・ツー・リールで取り扱うケースが多い。このため、枚葉の可撓性フィルム基板上に回路パターンを形成した後、これらを繋ぎ合わせて長尺フィルム化することが提案されている(特許文献2参照)。   On the other hand, in recent years, it has been proposed to form a very fine circuit pattern by attaching a flexible film substrate to a reinforcing plate and maintaining dimensional accuracy (see Patent Document 1). The flexible film substrate is used after being peeled off from the reinforcing plate after the circuit pattern is formed. The proposal mainly uses a sheet-type reinforcing plate, and the flexible film substrate on which the circuit pattern is formed is also a sheet. On the other hand, in the current COF technology, handling of a flexible film substrate on which a circuit pattern is formed, such as electronic component connection, test, connection with an LCD panel, etc., has both a single wafer and a long case, In many cases, long films are handled on a reel-to-reel basis. For this reason, after forming a circuit pattern on the flexible film substrate of a sheet | seat, joining these and making a long film is proposed (refer patent document 2).

生産管理、品質管理の点から、製造履歴を追跡可能にすることが求められている。既存の長尺フィルム形態の可撓性フィルム回路基板では、リールに巻かれた数十mの長さを一括りとして製造履歴と紐付けされている。また、その紐付けは、ラベルにて行われているため、工程に投入し、巻き出し、巻き取りされるたびにラベルを発行して貼り付けたり、ラベル札を取り付けたりする必要があり、ミスが起きる可能性があった。また、生産性を高めるために1リールに納められる可撓性フィルム回路基板の延長要請があり、追跡可能な製造単位が大まかになる問題がある。
国際公開第03/009657号パンフレット(第2頁) 特開2006−295143号公報(第1〜27頁)
From the viewpoint of production control and quality control, it is required to make it possible to track the manufacturing history. In the existing flexible film circuit board in the form of a long film, the length of several tens of meters wound on a reel is collectively associated with the manufacturing history. In addition, since the tying is done with a label, it is necessary to issue and affix a label and attach a label tag each time it is put into the process, unwound and wound up. Could happen. In addition, there is a request for extending the flexible film circuit board that can be accommodated on one reel in order to increase productivity, and there is a problem that the traceable manufacturing unit becomes rough.
International Publication No. 03/009657 (2nd page) JP 2006-295143 A (pages 1 to 27)

本発明の目的は、枚葉の可撓性フィルム基板上に形成された回路パターンの製造履歴を枚葉基板が繋ぎ合わされて長尺フィルム化された後においても容易に追跡できる可撓性フィルム回路基板およびその製造方法を提供することにある。さらには、既存技術では、数十m以上を単位とした製造履歴追跡しかできないが、本発明によると1m以下のきめ細かい単位で製造履歴を追跡することができる。   An object of the present invention is to provide a flexible film circuit that can easily track the manufacturing history of a circuit pattern formed on a single sheet of flexible film substrate even after the single substrates are joined together to form a long film. It is to provide a substrate and a manufacturing method thereof. Furthermore, the existing technology can only track the manufacturing history in units of several tens of meters or more, but according to the present invention, the manufacturing history can be tracked in fine units of 1 m or less.

すなわち本発明は、以下の構成からなる。
(1)回路パターンが形成された可撓性フィルム回路基板であって、回路パターンが形成されない領域に識別標識が付されていることを特徴とする可撓性フィルム回路基板。
(2)該識別標識が付された可撓性フィルム回路基板が、短冊状可撓性フィルム回路基板を繋ぎ合わせて長尺化したものであり、かつ、該短冊状可撓性フィルム回路基板毎に互いに異なる識別標識が付されてなることを特徴とする(1)記載の可撓性フィルム回路基板。
(3)スプロケットホールを有する搬送用領域を基板幅方向端に備えた可撓性フィルム回路基板であって、該搬送用領域に識別標識が付されていることを特徴とする(1)記載の可撓性フィルム回路基板。
(4)識別標識が、回路パターンと同じ材料、かつ同じ層構成からなることを特徴とする(1)記載の可撓性フィルム回路基板。
(5)可撓性フィルム回路基板の製造方法であって、回路パターンが形成されない領域の所定箇所に識別標識を付することを特徴とする可撓性フィルム回路基板の製造方法。
(6)該識別標識が書き入れられた可撓性フィルム回路基板が、短冊状可撓性フィルム回路基板を繋ぎ合わせて長尺化したものであり、かつ、該短冊状可撓性フィルム回路基板に互いに異なる識別標識を付することを特徴とする(5)記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。
(7)該可撓性フィルム回路基板幅方向端の搬送用領域にスプロケットホールを形成する可撓性フィルム回路基板の製造方法であって、該搬送用領域に識別標識を付することを特徴とする(5)記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。
(8)識別標識が、回路パターンと同じ材料、かつ同じ層構成からなることを特徴とする(5)記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。
(9)識別標識が、可撓性フィルム回路基板が剥離可能な有機物層を介して補強板に貼り合わされている状態で付されることを特徴とする(5)記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。
(10)(1)〜(4)のいずれかに記載の可撓性フィルム回路基板の製造管理システムであって、回路パターンが形成されない領域の所定箇所に識別標識を付するとともに中央管理装置に該識別標識を登録し、各製造工程および各検査工程の履歴を該識別標識に対応させて該中央管理装置に記憶させるようにしたことを特徴とする可撓性フィルム回路基板製造管理システム。
That is, this invention consists of the following structures.
(1) A flexible film circuit board on which a circuit pattern is formed, wherein an identification mark is attached to a region where the circuit pattern is not formed.
(2) The flexible film circuit board to which the identification mark is attached is formed by joining the strip-shaped flexible film circuit boards to be elongated, and for each of the strip-shaped flexible film circuit boards. The flexible film circuit board according to (1), wherein different identification marks are attached to each other.
(3) A flexible film circuit board provided with a transport region having sprocket holes at an end in the substrate width direction, wherein an identification mark is attached to the transport region. Flexible film circuit board.
(4) The flexible film circuit board according to (1), wherein the identification mark is made of the same material and the same layer structure as the circuit pattern.
(5) A method for manufacturing a flexible film circuit board, wherein an identification mark is attached to a predetermined portion of a region where a circuit pattern is not formed.
(6) The flexible film circuit board in which the identification mark is written is formed by joining the strip-shaped flexible film circuit boards and extending the length, and the strip-shaped flexible film circuit board has (5) The method for producing a flexible film circuit board according to (5), wherein different identification marks are attached.
(7) A method of manufacturing a flexible film circuit board in which a sprocket hole is formed in a conveyance area at the width direction end of the flexible film circuit board, wherein an identification mark is attached to the conveyance area. The method for producing a flexible film circuit board according to (5).
(8) The method for producing a flexible film circuit board according to (5), wherein the identification mark is made of the same material and the same layer structure as the circuit pattern.
(9) The flexible film circuit board according to (5), wherein the identification mark is attached in a state where the flexible film circuit board is bonded to the reinforcing plate via an organic layer that can be peeled off. Manufacturing method.
(10) The production management system for a flexible film circuit board according to any one of (1) to (4), wherein an identification mark is attached to a predetermined portion of a region where a circuit pattern is not formed and the central management device A flexible film circuit board production management system characterized in that the identification mark is registered, and the history of each manufacturing process and each inspection process is stored in the central management device in association with the identification mark.

本発明によれば、短冊状の枚葉可撓性フィルム基板を複数連結して長尺のフィルム回路基板にした際に、個々の短冊状枚葉可撓性フィルム基板上に形成された回路パターンの製造履歴を追跡することができる。さらに、既存技術では、数十m以上を単位とした製造履歴追跡しかできないが、本発明によると1m以下のきめ細かい単位で製造履歴を追跡することができ、きめ細かい製造管理を実現することができる。短冊状の枚葉可撓性フィルム回路基板が1枚の大板枚葉基板上に複数本形成され、これを剥離して複数連結して長尺フィルム回路基板を製造する場合、短冊状の枚葉可撓性フィルム回路基板の繋ぎ方によっては、非常に複雑な履歴管理が要求されるが、短冊状枚葉可撓性フィルム回路基板それぞれに個別の識別標識を付け、製造履歴データベースと紐付けすることで対応が容易になり、特に本発明は効果が大きい。   According to the present invention, when a plurality of strip-shaped sheet flexible film substrates are connected to form a long film circuit board, a circuit pattern formed on each strip-shaped sheet flexible film substrate. The manufacturing history can be tracked. Furthermore, the existing technology can only track the manufacturing history in units of several tens of meters or more. However, according to the present invention, the manufacturing history can be tracked in fine units of 1 m or less, and fine production management can be realized. When a plurality of strip-shaped sheet-fed flexible film circuit boards are formed on one large sheet-fed substrate, and a plurality of strip-shaped flexible film circuit boards are peeled and connected to produce a long film circuit board, a strip-shaped sheet is used. Depending on how the leaf flexible film circuit boards are connected, very complicated history management is required, but each strip-like sheet flexible film circuit board is attached with an individual identification mark and linked to the manufacturing history database. By doing so, it becomes easy to cope, and the present invention is particularly effective.

本発明の可撓性フィルム回路基板は、少なくとも片面に回路パターンが形成されている。
可撓性フィルム基板としては、プラスチックフィルムを使用する。例えば、ポリカーボネート、ポリエーテルサルファイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリアミド、液晶ポリマーなどのフィルムを採用することができる。中でもポリイミドフィルムは、耐熱性に優れるとともに耐薬品性にも優れているので好適に採用される。また、低誘電損失など電気的特性が優れている点や低吸湿性の点で、液晶ポリマーが好適に採用される。可撓性のガラス繊維補強樹脂板を採用することも可能である。また、これらのフィルムが積層されていてもよい。
上記ガラス繊維補強樹脂板の樹脂としては、例えば、エポキシ、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、マレイミド(共)重合樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどが挙げられる。
可撓性フィルム基板の厚さは、軽量化、小型化、あるいは微細なビアホール形成のためには薄い方が好ましく、一方、機械的強度を確保するためや平坦性を維持するためには厚い方が好ましい点から、4μmから125μmの範囲が好ましい。
The flexible film circuit board of the present invention has a circuit pattern formed on at least one side.
A plastic film is used as the flexible film substrate. For example, films such as polycarbonate, polyether sulfide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyimide, polyamide, and liquid crystal polymer can be employed. Among these, a polyimide film is preferably used because it is excellent in heat resistance and chemical resistance. In addition, a liquid crystal polymer is preferably used in terms of excellent electrical characteristics such as low dielectric loss and low hygroscopicity. It is also possible to employ a flexible glass fiber reinforced resin plate. Moreover, these films may be laminated | stacked.
Examples of the resin for the glass fiber reinforced resin plate include epoxy, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, maleimide (co) polymer resin, polyamide, and polyimide.
The thickness of the flexible film substrate is preferably thin for light weight, downsizing, or formation of fine via holes. On the other hand, the flexible film substrate is thick for ensuring mechanical strength and maintaining flatness. Is preferable, the range of 4 μm to 125 μm is preferable.

可撓性フィルム基板上に形成される回路パターンは、抵抗値が小さい銅膜を主体として形成されていることが好ましく、サブトラクティブ法、セミアディティブ法、フルアディティブ法など公知の技術が採用できる。さらに、はんだ接合のための錫めっき、金めっきを施したり、金属膜保護のためのソルダーレジスト膜を形成することも適宜実施できる。   The circuit pattern formed on the flexible film substrate is preferably formed mainly of a copper film having a small resistance value, and known techniques such as a subtractive method, a semi-additive method, and a full additive method can be employed. Further, tin plating or gold plating for solder bonding, or formation of a solder resist film for metal film protection can be performed as appropriate.

本発明の態様の一例を図1〜4を用いて説明する。
図1の可撓性フィルム1、2上に回路パターン3が形成される。可撓性フィルム回路基板の幅方向端の搬送用領域にはスプロケットホール4が設けられており、スプロケットホールの機械的強度を増強し搬送を滑らかにするために、回路パターンを形成する金属膜と同じ材料と層構成の補強パターン5が設けられている。本発明は、回路パターンが形成されない領域の所定箇所に識別標識を設けることができるが、回路パターンに依らず同じ位置に識別標識を形成できる点で、補強パターン5に、識別標識6を設けることが好ましい。識別標識6を付する場合、フォトリソグラフィー、レーザー加工、あるいは機械的にパンチングする等の種々の方法が使用できる。中でも、フォトリソグラフィーまたはレーザー加工によって識別標識6を付することが、コストの面で特に好ましい。同じ位置に識別標識を設けることは、識別標識の書き込み読み取り装置の位置も一定にすることができ、製造管理や装置を簡便にすることができる。識別標識としては、一次元または二次元のバーコードや記号や文字を採用することができる。なかでも二次元バーコードはコンパクトでかつ情報量が大きく、また、電子データとの変換が容易である点で好ましい。図1に識別標識である二次元バーコードを例示した。
An example of the aspect of the present invention will be described with reference to FIGS.
A circuit pattern 3 is formed on the flexible films 1 and 2 of FIG. A sprocket hole 4 is provided in the conveyance region at the width direction end of the flexible film circuit board. In order to enhance the mechanical strength of the sprocket hole and smooth the conveyance, A reinforcing pattern 5 of the same material and layer structure is provided. In the present invention, an identification mark can be provided at a predetermined position in a region where a circuit pattern is not formed, but the identification mark 6 is provided on the reinforcing pattern 5 in that the identification mark can be formed at the same position regardless of the circuit pattern. Is preferred. When the identification mark 6 is attached, various methods such as photolithography, laser processing, or mechanical punching can be used. Among these, it is particularly preferable in terms of cost to attach the identification mark 6 by photolithography or laser processing. Providing the identification mark at the same position can also make the position of the writing / reading apparatus of the identification mark constant, and can simplify the production management and the apparatus. As the identification mark, a one-dimensional or two-dimensional barcode, a symbol, or a character can be adopted. Of these, the two-dimensional barcode is preferable in that it is compact and has a large amount of information and can be easily converted into electronic data. FIG. 1 illustrates a two-dimensional barcode as an identification mark.

本発明は、短冊状の枚葉可撓性フィルム基板を連結して長尺フィルム基板にした場合に短冊毎に製造履歴を追跡可能にする。すなわち、短冊状の枚葉可撓性フィルム基板毎に異なる識別標識を記入することで、製造履歴データベースとの照合を可能にする。図2に可撓性フィルム1と2を繋ぎ合わせた様子の1例を断面にて示した。可撓性フィルムは接着剤7を介して接着される。   The present invention makes it possible to track the manufacturing history for each strip when the strip-shaped flexible film substrates are connected to form a long film substrate. That is, a different identification mark is entered for each strip-shaped sheet-fed flexible film substrate, thereby enabling verification with the manufacturing history database. FIG. 2 shows an example of a state in which the flexible films 1 and 2 are joined together in a cross section. The flexible film is bonded via the adhesive 7.

図3に識別標識6部分を拡大して示した。金属膜の補強パターンの一部を形成されないようにしたり、除去したりすることで識別標識を作製する。搬送用領域に金属膜の補強パターンが設けられない場合は、図4のように識別標識状に金属膜を形成する。   FIG. 3 shows an enlarged portion of the identification mark 6. A part of the reinforcing pattern of the metal film is prevented from being formed or removed so as to produce an identification mark. When the reinforcing pattern of the metal film is not provided in the transport region, the metal film is formed in the shape of an identification mark as shown in FIG.

識別標識は短冊状の枚葉可撓性フィルムに少なくとも1カ所設けられる。
本発明は、当初から長尺状態である可撓性フィルムの製造履歴管理にも有効であり、この場合は、製造工程履歴を記録したい最短長さに従って、識別標識を設ければよい。
At least one identification mark is provided on the strip-like sheet-fed flexible film.
The present invention is also effective for manufacturing history management of a flexible film that is in a long state from the beginning. In this case, an identification mark may be provided according to the minimum length for which the manufacturing process history is desired to be recorded.

可撓性フィルム回路基板製造管理システムの一例について図5を使って説明する。可撓性フィルム回路基板製造は複数の製造工程と検査工程からなる。識別標識形成は、可撓性フィルム回路基板製造の上流工程であるほど管理範囲が拡がり好ましいが、仕掛かり品が露光またはレーザー加工ができる層構成であることとを合わせて最適な工程が選ばれる。識別標識は中央管理装置(サーバー)10で生成、登録され、露光またはレーザー加工手段で書き込まれる。各工程には識別標識の読み取り装置が設置されており、加工または検査される製品と製造条件、検査条件、検査結果とを紐付けしてPC11を介して中央管理装置に記録を残していく。中央管理装置上の記録を引き出して不良製品について、不良であることを示すマーキングを施すこともできる。製品出荷の段階では、識別標識は製品数量、リール毎の収率などの算出やそれらを記載したラベルの出力などにも使用することができる。本システムによると、製造工程で異常条件が現れた場合や検査結果が異常である場合に、識別標識を読み取って次工程に投入しないように管理することもできる。   An example of the flexible film circuit board manufacturing management system will be described with reference to FIG. Flexible film circuit board manufacture consists of a plurality of manufacturing steps and inspection steps. For the identification mark formation, the upstream process of the flexible film circuit board manufacturing is preferable because the management range is widened, but the optimum process is selected in combination with the in-process product having a layer structure capable of exposure or laser processing. . The identification mark is generated and registered by the central management apparatus (server) 10 and written by exposure or laser processing means. In each process, an identification mark reading device is installed, and a product to be processed or inspected is associated with manufacturing conditions, inspection conditions, and inspection results, and a record is left in the central management apparatus via the PC 11. A record on the central management device can be pulled out to mark defective products as defective. At the stage of product shipment, the identification mark can be used for calculating the product quantity, the yield for each reel, and outputting a label describing them. According to the present system, when an abnormal condition appears in the manufacturing process or when the inspection result is abnormal, it is possible to manage so that the identification mark is not read and put into the next process.

本発明の回路基板の製造方法を以下に説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
補強板である厚さ1.1mmのソーダライムガラスに、スピンコーター、ブレードコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、スクリーン印刷などを用いて、剥離可能な有機物を塗布する。間欠的に送られてくる枚葉基板に均一に塗布するためには、ダイコーターの使用が好ましい。剥離可能な有機物を塗布後、加熱乾燥や真空乾燥などにより乾燥し、厚みが2μmの剥離可能な有機物層を得る。塗布した剥離可能な有機物層上に、離型フィルム(ポリエステルフィルム上にシリコーン樹脂層を設けた)からなる空気遮断用フィルムを貼り合わせて1週間、室温で放置する。この期間は、熟成と呼ばれ、剥離可能な有機物の架橋が進行して、徐々に粘着力が低下する。放置期間や保管温度は、所望の粘着力が得られるように選択される。空気遮断用フィルムを貼り合わせる代わりに、窒素雰囲気中や真空中で保管することもできる。剥離可能な有機物を長尺フィルム基体に塗布、乾燥後、補強板に転写することも可能である。
The method for producing a circuit board of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to this.
A peelable organic material is applied to a 1.1 mm thick soda lime glass as a reinforcing plate using a spin coater, blade coater, roll coater, bar coater, die coater, screen printing, or the like. Use of a die coater is preferable in order to uniformly apply to a single-wafer substrate sent intermittently. After the peelable organic material is applied, it is dried by heat drying or vacuum drying to obtain a peelable organic material layer having a thickness of 2 μm. An air barrier film made of a release film (with a silicone resin layer provided on a polyester film) is bonded onto the peelable organic material layer applied and left at room temperature for 1 week. This period is called aging, and the cross-linking of the peelable organic substance proceeds and the adhesive force gradually decreases. The standing period and the storage temperature are selected so that a desired adhesive strength can be obtained. Instead of laminating the air blocking film, it can be stored in a nitrogen atmosphere or in a vacuum. It is also possible to apply a peelable organic substance to a long film substrate, dry it, and then transfer it to a reinforcing plate.

次に、可撓性フィルム基板である厚さ38μmのプラスチックフィルムを準備する。ガラス基板上の空気遮断用フィルムを剥がして、プラスチックフィルムをガラス基板に貼り合わせる。プラスチックフィルムの片面または両面に金属膜(貼り合わせ面においては回路パターンであってもよい)があらかじめ形成されていても良い。プラスチックフィルムは、あらかじめ所定の大きさのカットシートにしておいて貼り付けても良いし、長尺ロールから巻きだしながら、貼り付けと切断をしてもよい。   Next, a plastic film having a thickness of 38 μm, which is a flexible film substrate, is prepared. The air blocking film on the glass substrate is peeled off, and the plastic film is bonded to the glass substrate. A metal film (which may be a circuit pattern on the bonded surface) may be formed in advance on one or both surfaces of the plastic film. The plastic film may be pasted in a cut sheet having a predetermined size, or may be pasted and cut while being unwound from a long roll.

次に、プラスチックフィルムの貼り合わせ面とは反対側の面に回路パターンを形成する。
プラスチックフィルムの貼り合わせ面とは反対側の面に1〜10μmの厚さの金属膜が設けられている場合には、サブトラクティブ法によって回路パターン、搬送領域の補強パターンおよび搬送領域の識別標識を形成する。すなわち、金属膜上にフォトレジスト膜を塗布、乾燥し、回路パターンおよび補強パターンをフォトマスクを介して露光する。識別標識部分は、レーザー露光機などのプログラマブルな露光機を用いて個別のパターンを露光する。露光パターンを現像し、金属膜の露出部分をエッチングして、回路パターン、補強パターンおよび識別標識を形成する。その後、フォトレジスト膜を剥離する。
Next, a circuit pattern is formed on the surface opposite to the bonding surface of the plastic film.
When a metal film with a thickness of 1 to 10 μm is provided on the surface opposite to the bonding surface of the plastic film, a circuit pattern, a reinforcing pattern for the transport region, and an identification mark for the transport region are provided by the subtractive method. Form. That is, a photoresist film is applied and dried on the metal film, and the circuit pattern and the reinforcing pattern are exposed through the photomask. The identification mark portion exposes an individual pattern using a programmable exposure machine such as a laser exposure machine. The exposed pattern is developed, and the exposed portion of the metal film is etched to form a circuit pattern, a reinforcing pattern, and an identification mark. Thereafter, the photoresist film is peeled off.

セミアディティブ法を用いる場合は、プラスチックフィルムの貼り合わせ面とは反対側の面に0.05〜1μmの厚さの金属膜を全面に設けておき、該金属膜上にフォトレジスト膜を塗布、乾燥し、回路パターンおよび補強パターンをフォトマスクを介して露光する。識別標識部分は、レーザー露光機などのプログラマブルな露光機を用いて個別のパターンを露光する。露光パターンを現像し、金属膜の露出部分に電気めっきにて金属膜を析出させ、回路パターン、補強パターンおよび識別標識を形成する。その後、フォトレジスト膜を剥離し、めっきで形成した金属パターンをマスクにして最初に設けておいた金属膜をエッチングする。プログラマブルな露光機を用いて識別標識パターンを露光することに代えて、0.05〜1μmの厚さの金属膜をレーザーで部分的に除去し、その後、電気めっきすることによってレーザーで除去した部分だけに金属がないパターンを形成することもできる。   In the case of using the semi-additive method, a metal film having a thickness of 0.05 to 1 μm is provided on the entire surface opposite to the bonding surface of the plastic film, and a photoresist film is applied on the metal film. After drying, the circuit pattern and the reinforcing pattern are exposed through a photomask. The identification mark portion exposes an individual pattern using a programmable exposure machine such as a laser exposure machine. The exposed pattern is developed, and a metal film is deposited on the exposed portion of the metal film by electroplating to form a circuit pattern, a reinforcing pattern, and an identification mark. Thereafter, the photoresist film is peeled off, and the metal film initially provided is etched using the metal pattern formed by plating as a mask. Instead of exposing the identification mark pattern using a programmable exposure machine, the metal film having a thickness of 0.05 to 1 μm is partially removed with a laser, and then electroplated to remove the part with the laser It is also possible to form a pattern having no metal alone.

フルアディティブ法を用いる場合は、プラスチックフィルムの貼り合わせ面とは反対側の面にパラジウム、ニッケルやクロムなどの触媒付与処理をし、乾燥する。ここで言う触媒とは、そのままではメッキ成長の核としては働かないが、活性化処理をすることでメッキ成長の核となるものである。次いで、フォトレジスト膜を塗布、乾燥し、回路パターンおよび補強パターンをフォトマスクを介して露光する。識別標識部分は、レーザー露光機などのプログラマブルな露光機を用いて個別のパターンを露光する。露光パターンを現像し、露出部分の触媒を活性化処理をしてから、無電解めっき液に浸漬し、金属膜を析出させ、回路パターン、補強パターンおよび識別標識を形成する。プログラマブルな露光機を用いて識別標識パターンを露光することに代えて、触媒をレーザーで部分的に除去し、その後、無電解めっきすることによってレーザーで除去した部分だけに金属がないパターンを形成することもできる。   In the case of using the full additive method, the surface of the plastic film opposite to the bonding surface is subjected to a catalyst application treatment such as palladium, nickel or chromium, and dried. The catalyst referred to here does not act as a nucleus for plating growth as it is, but it becomes a nucleus for plating growth by activation treatment. Next, a photoresist film is applied and dried, and the circuit pattern and the reinforcing pattern are exposed through a photomask. The identification mark portion exposes an individual pattern using a programmable exposure machine such as a laser exposure machine. The exposed pattern is developed, the exposed portion of the catalyst is activated, and then immersed in an electroless plating solution to deposit a metal film, thereby forming a circuit pattern, a reinforcing pattern, and an identification mark. Instead of exposing the identification mark pattern using a programmable exposure machine, the catalyst is partially removed with a laser, and then a pattern without metal is formed only on the laser-removed portion by electroless plating. You can also.

本発明は、セミアディティブ法またはフルアディティブ法に特に適している。すなわち、フォトレジストへ微細なパターンを露光すると露光パターンに合わせて、忠実にめっき膜が形成される。サブトラクティブ法では等方性エッチングに依り、微細なパターン加工には限界がある。また、レーザー加工で識別標識を形成する場合では、書き込みする対象が薄い金属膜か触媒層であるために、レーザー加工速度を大きくでき生産性が高まる上に、細かい加工をして情報量を多くしたり冗長度を高めて確実性を増すことができる。金属膜や触媒層が薄いことは、飛散するスミア量が少ないことも好ましい効果である。したがって、識別標識を形成する際の金属膜の厚さは、0.05〜0.2μmの厚さであることが好ましい。   The present invention is particularly suitable for the semi-additive method or the full additive method. That is, when a fine pattern is exposed to the photoresist, a plating film is faithfully formed in accordance with the exposure pattern. The subtractive method depends on isotropic etching, and there is a limit to fine pattern processing. In addition, when an identification mark is formed by laser processing, since the target to be written is a thin metal film or a catalyst layer, the laser processing speed can be increased and productivity is increased, and detailed processing is performed to increase the amount of information. Or increase the redundancy to increase the certainty. It is a preferable effect that the metal film and the catalyst layer are thin that the amount of smear scattered is small. Therefore, the thickness of the metal film when forming the identification mark is preferably 0.05 to 0.2 μm.

上述のようにサブトラクティブ法、セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれにおいても識別標識は回路パターン形成工程を通過して回路パターンと同じ材料と同じ層構成からなっているため、識別標識を形成するために追加する工程は露光機またはレーザー加工機だけで製造コスト負担を小さくすることができる。サブトラクティブ法、セミアディティブ法における識別標識、回路パターンの層構成は、表面めっき層/低抵抗金属層/接着改良層/可撓性フィルム基板である。また、フルアディティブ法における識別標識、回路パターンの層構成は、表面めっき層/低抵抗金属層/触媒層/可撓性フィルム基板である。回路パターンには外部接続にあずからない箇所にソルダーレジストと呼ばれる樹脂層が最表層として形成されるが、識別標識は画像認識を容易にするために、回路パターンの外部接続箇所と同様にソルダーレジストは形成されないことが好ましい。   As described above, in any of the subtractive method, the semi-additive method, and the full additive method, the identification mark passes through the circuit pattern formation process and is composed of the same material and the same layer as the circuit pattern, so the identification mark is formed. For this reason, the manufacturing cost burden can be reduced only by using an exposure machine or a laser processing machine. The layer structure of the identification mark and circuit pattern in the subtractive method and the semi-additive method is surface plating layer / low resistance metal layer / adhesion improving layer / flexible film substrate. The layer structure of the identification mark and circuit pattern in the full additive method is surface plating layer / low resistance metal layer / catalyst layer / flexible film substrate. In the circuit pattern, a resin layer called solder resist is formed as the outermost layer in a place that is not connected to the external connection, but the identification mark is a solder resist like the external connection part of the circuit pattern to facilitate image recognition. Is preferably not formed.

識別標識は、中央管理装置にて生成され、書き込み装置によって製品に書き込まれる。識別標識は、可撓性フィルム基板が剥離可能な有機物層を介して補強板に貼り合わされている状態で書き込まれることが好ましい。すなわち、剛性があり平坦な補強板に可撓性フィルム基板が貼り合わせられていることにより、露光やレーザー加工の焦点距離制御や位置制御が容易で正確なパターンが形成できる。また、大型の補強板を用いて1枚の可撓性フィルム回路基板から複数条の一定長さの可撓性フィルム回路基板を切り出す場合は、繋ぎ合わせる順を記録し、製品情報として利用できるよう可撓性フィルム基板が剥離可能な有機物層を介して補強板に貼り合わされている状態で識別標識を書き込むことが好ましい。回路パターン加工の早い段階で識別標識を付与する点でも可撓性フィルム基板が剥離可能な有機物層を介して補強板に貼り合わされている状態で書き込みをすることが好ましい。
回路パターンの加工の早い段階での識別標識の付与の点では、フォトレジストへの識別標識露光よりも金属薄膜へのレーザー加工の方が上流工程で識別標識が利用可能であるので好ましい。
The identification mark is generated by the central management device and written on the product by the writing device. The identification mark is preferably written in a state where the flexible film substrate is bonded to the reinforcing plate via an organic layer that can be peeled off. That is, by attaching a flexible film substrate to a rigid and flat reinforcing plate, it is easy to control the focal length and position of exposure and laser processing and form an accurate pattern. In addition, when a plurality of strips of flexible film circuit boards having a predetermined length are cut out from a single flexible film circuit board using a large reinforcing plate, the joining order can be recorded and used as product information. It is preferable to write the identification mark in a state where the flexible film substrate is bonded to the reinforcing plate via an organic layer that can be peeled off. It is preferable that writing is performed in a state where the flexible film substrate is bonded to the reinforcing plate via an organic layer that can be peeled off from the point of providing an identification mark at an early stage of circuit pattern processing.
In terms of imparting an identification mark at an early stage of processing a circuit pattern, laser processing on a metal thin film is preferable to the identification mark exposure on a photoresist because the identification mark can be used in an upstream process.

回路パターンを形成する金属膜は、抵抗値が低い点で銅であることが好ましい。また、サブトラクティブ法、セミアディティブ法においては、銅膜とプラスチックフィルムとの接着強度を大きくするために、ニッケル、クロム、チタンおよびこれらの合金から選ばれた薄膜を銅膜とプラスチックフィルムとの間に形成することが好ましい。   The metal film that forms the circuit pattern is preferably copper in that the resistance value is low. In addition, in the subtractive method and the semi-additive method, a thin film selected from nickel, chromium, titanium and their alloys is placed between the copper film and the plastic film in order to increase the adhesive strength between the copper film and the plastic film. It is preferable to form.

必要に応じて、上記のように形成した金属膜パターン上に、金、ニッケル、錫などのめっきを施す。さらに、必要に応じて、金属パターン上にソルダーレジスト層を形成する。ソルダーレジストとしては、感光性のソルダーレジストや熱硬化性のソルダーレジストが好ましい。   If necessary, plating of gold, nickel, tin or the like is performed on the metal film pattern formed as described above. Furthermore, if necessary, a solder resist layer is formed on the metal pattern. As the solder resist, a photosensitive solder resist or a thermosetting solder resist is preferable.

ソーダライムガラスに固定された可撓性フィルム回路基板の長さ方向の一端に、図2に示した接着剤7を塗布し乾燥した後、ソーダライムガラスから可撓性フィルム回路基板を剥離する。2枚の短冊状可撓性フィルム回路基板を接着剤7を介して連結することを繰り返し、長尺の可撓性フィルム回路基板を得る。2枚の短冊状可撓性フィルム回路基板を連結するときの位置合わせは、あらかじめ作製しておいたアライメントマークを利用した画像認識やスプロケットホールとピンを利用する方法を採用することができる。   The adhesive 7 shown in FIG. 2 is applied to one end in the length direction of the flexible film circuit board fixed to the soda lime glass and dried, and then the flexible film circuit board is peeled from the soda lime glass. Two strip-like flexible film circuit boards are repeatedly connected via the adhesive 7 to obtain a long flexible film circuit board. Position alignment when connecting two strip-shaped flexible film circuit boards can employ image recognition using an alignment mark prepared in advance or a method using sprocket holes and pins.

パンチング装置やレーザー加工装置を用いて、長尺の可撓性フィルム基板にスプロケットホールを穴開けする。スプロケットホール穴開けする方法は、ソーダライムガラスから可撓性フィルム回路基板を剥がす前であれば、レーザー加工で、ソーダライムガラスから可撓性フィルム回路基板を剥がした後であれば、金型によるパンチ加工でもレーザー加工でも採用することができる。   Using a punching device or a laser processing device, a sprocket hole is drilled in a long flexible film substrate. Sprocket hole drilling method is by laser processing if it is before peeling the flexible film circuit board from soda lime glass, and after peeling the flexible film circuit board from soda lime glass, it depends on the mold Either punching or laser processing can be used.

本発明で採用できる枚葉補強板としては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸系ガラス、石英ガラスなどの無機ガラス類、アルミナ、窒化シリコン、ジルコニアなどのセラミックス、ステンレススチール、インバー合金、チタンなどの金属やガラス繊維補強樹脂を有する板など、線膨張係数や吸湿膨張係数が小さいものが好ましい。その中でも、適当な可撓性が得られやすい点で、無機ガラスと金属板が好ましい。さらに、耐熱性、耐薬品性に優れている点、大面積で表面平滑性が高く基板が安価に入手しやすい点、塑性変形しにくい点、搬送装置などとの接触によりパーティクルを発生しにくい点、絶縁体で電解めっきによる析出がない点、等により、無機ガラス類からなる板が特に好ましい。   As a sheet reinforcing plate that can be used in the present invention, inorganic glass such as soda lime glass, borosilicate glass, quartz glass, ceramics such as alumina, silicon nitride, zirconia, metals such as stainless steel, Invar alloy, titanium, Those having a small linear expansion coefficient and hygroscopic expansion coefficient such as a plate having glass fiber reinforced resin are preferred. Among these, inorganic glass and a metal plate are preferable in that appropriate flexibility can be easily obtained. In addition, it has excellent heat resistance and chemical resistance, has a large area with high surface smoothness and is easily available at low cost, is difficult to plastically deform, and is less likely to generate particles due to contact with a transport device A plate made of an inorganic glass is particularly preferable because it is an insulator and does not deposit due to electrolytic plating.

本発明で採用できる補強板とプラスチックフィルムを貼りあわせるための剥離可能な有機物層としては、例えば、アクリル系またはウレタン系の再剥離剤と呼ばれる粘着剤を挙げることができる。可撓性フィルム基板加工中は十分な接着力があり、剥離時は容易に剥離でき、可撓性フィルム基板に歪みを生じさせないために、弱粘着から中粘着と呼ばれる領域の粘着力のものが好ましい。タック性があるシリコーン樹脂を使用することもできる。また、タック性があるエポキシ系樹脂を使用することも可能である。   Examples of the peelable organic layer for bonding the reinforcing plate and the plastic film that can be used in the present invention include an adhesive called an acrylic or urethane re-release agent. Adhesive strength is sufficient during processing of flexible film substrate, it can be easily peeled off at the time of peeling, and it does not cause distortion in flexible film substrate. preferable. A silicone resin having tackiness can also be used. It is also possible to use an epoxy resin having tackiness.

剥離可能な有機物としては、低温領域で接着力、粘着力が減少するもの、紫外線照射で接着力、粘着力が減少するものや加熱処理で接着力、粘着力が減少するものも好適に用いられる。これらの中でも紫外線照射によるものは、接着力、粘着力の変化が大きく好ましい。紫外線照射で接着力、粘着力が減少するものの例としては、2液架橋型のアクリル系粘着剤が挙げられる。また、低温領域で接着力、粘着力が減少するものの例としては、結晶状態と非結晶状態間を可逆的に変化するアクリル系粘着剤が挙げられ、好ましく使用される。   As organic materials that can be peeled, those whose adhesive strength and adhesive strength are reduced at low temperatures, those whose adhesive strength and adhesive strength are reduced by ultraviolet irradiation, and those whose adhesive strength and adhesive strength are reduced by heat treatment are suitably used. . Among these, those caused by ultraviolet irradiation are preferable because of large changes in adhesive strength and adhesive strength. An example of a material whose adhesive strength and adhesive strength are reduced by ultraviolet irradiation is a two-component cross-linking acrylic pressure-sensitive adhesive. Examples of those in which adhesive strength and adhesive strength decrease in a low temperature region include acrylic pressure-sensitive adhesives that reversibly change between a crystalline state and an amorphous state, and are preferably used.

本発明で使用する剥離可能な有機物層の厚みは、薄くなると平面性が悪くなる他、膜厚のむらによる剥離力の強度むらが発生するため、0.1μm以上であることが好ましく、0.3μm以上であることがさらに好ましい。一方、剥離可能な有機物層の厚みが厚くなると有機物層の可撓性フィルム基板への投錨性がよくなるために粘着力が強くなる。従って、20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがさらに好ましい。また剥離可能な有機物層と補強板との粘着力の方が、剥離可能な有機物層と可撓性フィルム基板との粘着力よりも大きいことが好ましい。このように両側の粘着力を制御する方法として、例えば、粘着剤の熟成を利用する方法がある。すなわち、粘着力を強くする側に粘着剤を塗布してから、空気を遮断した状態で所定の期間架橋を進行させることで、粘着力が低下した表面を得ることができる。   The thickness of the peelable organic material layer used in the present invention is preferably 0.1 μm or more, because the flatness becomes worse as the thickness becomes thinner, and the unevenness of the peeling force due to the unevenness of the film thickness occurs. More preferably, it is the above. On the other hand, when the thickness of the peelable organic material layer is increased, the anchoring property of the organic material layer on the flexible film substrate is improved, so that the adhesive strength is increased. Therefore, it is preferably 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less. Moreover, it is preferable that the adhesive force of the peelable organic substance layer and the reinforcing plate is larger than the adhesive force of the peelable organic substance layer and the flexible film substrate. As a method for controlling the adhesive strength on both sides in this way, for example, there is a method using aging of an adhesive. That is, a surface with reduced adhesive strength can be obtained by applying a pressure-sensitive adhesive on the side where the adhesive strength is to be increased, and then proceeding with crosslinking for a predetermined period in a state where the air is shut off.

本発明において補強板と可撓性フィルム基板の剥離力は、剥離可能な有機物層を介して補強板と貼り合わせた1cm幅の可撓性フィルム基板を剥離するときの180°方向ピール強度で測定される。剥離力を測定するときの剥離速度は300mm/分とする。本発明において、上述の剥離角を最適な範囲内に制御するためには、剥離力が0.098N/mから98N/mの範囲であることが好ましい。
本発明の製造方法で得られた回路基板の用途は特に限定されないが、好ましくは電子機器の配線板、ICパッケージ用インターポーザーなどに使用される。
In the present invention, the peeling force between the reinforcing plate and the flexible film substrate is measured by a 180 ° peel strength when peeling a 1 cm wide flexible film substrate bonded to the reinforcing plate through a peelable organic layer. Is done. The peeling speed when measuring the peeling force is 300 mm / min. In the present invention, in order to control the above-described peeling angle within an optimum range, the peeling force is preferably in the range of 0.098 N / m to 98 N / m.
The use of the circuit board obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, but it is preferably used for a wiring board of an electronic device, an IC package interposer, and the like.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
可撓性フィルム基板として、厚さ38μmの長尺ポリイミドフィルム(“カプトン”150EN(商品名)東レデュポン(株)製)を準備した。長尺フィルム対応のリール・ツー・リール方式のスパッタ装置で、ポリイミドフィルム上に厚さ15nmのクロム:ニッケル=5:95(重量比)の合金膜と厚さ150nmの銅膜をこの順に積層した。
補強板として厚さ1.1mm、300×350mmのソーダライムガラスにダイコーターで、紫外線硬化型粘着剤“SKダイン”SW−22(綜研化学(株)製)と硬化剤L45(綜研化学(株)製)を100:3(重量比)で混合したものを塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥後の剥離可能な有機物層厚みを2μmとした。次いで有機物層に、空気遮断用フィルム(ポリエステルフィルム上に離型容易なシリコーン樹脂層を設けたフィルム)を貼り合わせて1週間放置した。
金属膜を設けたポリイミドフィルムを300×350mmに切り出した。上記空気遮断用フィルムを剥がしてから、剥離可能な有機物層に金属膜を設けたポリイミドフィルムを貼り合わせた。
Example 1
A long polyimide film (“Kapton” 150EN (trade name) manufactured by Toray Du Pont Co., Ltd.) having a thickness of 38 μm was prepared as a flexible film substrate. Using a reel-to-reel type sputtering apparatus compatible with long films, a 15 nm thick chromium: nickel = 5: 95 (weight ratio) alloy film and a 150 nm thick copper film were laminated in this order on a polyimide film. .
As a reinforcing plate, soda lime glass with a thickness of 1.1 mm and 300 x 350 mm, with a die coater, UV curable adhesive “SK Dyne” SW-22 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and curing agent L45 (Soken Chemical Co., Ltd.) )) Was mixed at 100: 3 (weight ratio) and dried at 80 ° C. for 2 minutes. The peelable organic layer thickness after drying was 2 μm. Next, an air blocking film (a film in which a silicone resin layer that can be easily released on a polyester film) was bonded to the organic layer, and left for one week.
A polyimide film provided with a metal film was cut out to 300 × 350 mm. After peeling off the air blocking film, a polyimide film provided with a metal film on a peelable organic layer was bonded.

銅膜上にポジ型フォトレジストをスピンコーターで塗布して80℃で10分間乾燥し、厚さ15μmのフォトレジストを形成した。フォトマスクを介してフォトレジストを露光した。フォトマスクは、めっき膜を析出させるところはフォトレジストが現像、除去されるパターンとし、搬送用領域のフォトレジストは除去してめっき膜が析出して補強パターンが形成されるようにした。また、製造履歴管理のための二次元バーコード形成位置は、このとき露光しなかった。次に中央管理装置が生成したバーコードをタイトラー(東レエンジニアリング(株)製)を用いて、フォトレジストに露光した。この後、現像し、不要部分のフォトレジストを除去した。   A positive photoresist was applied onto the copper film with a spin coater and dried at 80 ° C. for 10 minutes to form a photoresist having a thickness of 15 μm. The photoresist was exposed through a photomask. In the photomask, the plating film is deposited in a pattern in which the photoresist is developed and removed, and the photoresist in the transport region is removed so that the plating film is deposited to form a reinforcing pattern. In addition, the two-dimensional barcode forming position for manufacturing history management was not exposed at this time. Next, the barcode generated by the central management apparatus was exposed to a photoresist using a titler (manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.). Thereafter, development was performed to remove unnecessary portions of the photoresist.

フォトマスクパターンは以下に示す形状とした。回路パターンを基板の300mm方向に48mm間隔で6列配置し、350mm方向に28.5mmピッチで11個並べた。図1に示したように48mmの幅方向端に補強パターン5を配置し、また、補強パターン内のスプロケットホール位置にはめっき膜が析出しないようにした。タイトラーでは、300×350mmの基板毎、さらに、同一基板内の回路パターンの列毎に異なる二次元バーコードを割り振った。   The photomask pattern had the shape shown below. Six circuit patterns were arranged at 48 mm intervals in the 300 mm direction of the substrate, and 11 circuit patterns were arranged at a pitch of 28.5 mm in the 350 mm direction. As shown in FIG. 1, the reinforcing pattern 5 is disposed at the end in the width direction of 48 mm, and the plating film is prevented from being deposited at the sprocket hole position in the reinforcing pattern. In the titler, a different two-dimensional barcode is assigned to each 300 × 350 mm substrate and further to each row of circuit patterns in the same substrate.

次いで、上記銅膜を電極として厚さ8μmの銅膜を硫酸銅めっき液中での電解めっきで形成した。フォトレジストをフォトレジスト剥離液で剥離し、続いて、過酸化水素−硫酸系水溶液によるソフトエッチングにてレジスト層の下にあった銅膜およびクロム−ニッケル合金膜を除去した。クロム−ニッケル合金膜を除去後、二次元バーコードは読み取り可能になり、直前の工程である銅膜およびクロム−ニッケル合金膜除去工程を含めて、製造条件や検査結果を中央管理装置に自動蓄積した。   Next, a copper film having a thickness of 8 μm was formed by electrolytic plating in a copper sulfate plating solution using the copper film as an electrode. The photoresist was stripped with a photoresist stripping solution, and then the copper film and the chromium-nickel alloy film that were under the resist layer were removed by soft etching with a hydrogen peroxide-sulfuric acid aqueous solution. After removing the chrome-nickel alloy film, the two-dimensional barcode can be read, and the manufacturing conditions and inspection results are automatically stored in the central control unit, including the copper film and chrome-nickel alloy film removal process, which is the previous process. did.

引き続き、銅めっき膜上に、無電解めっきで厚さ0.4μmの錫膜を形成し、回路パターン、補強パターンおよび二次元バーコードを得た。
回路パターン自動検査装置による検査を実施して、二次元バーコードと紐付けして検査結果を中央管理装置に記録した。その後、スクリーン印刷機にて、ソルダーレジストSN-9000(日立化成工業(株)製)を印刷した。
Subsequently, a tin film having a thickness of 0.4 μm was formed on the copper plating film by electroless plating to obtain a circuit pattern, a reinforcing pattern, and a two-dimensional barcode.
The inspection by the automatic circuit pattern inspection device was performed, and the inspection result was recorded in the central management device in association with the two-dimensional barcode. Thereafter, solder resist SN-9000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was printed with a screen printer.

ディスペンサーを用いて、350mm方向の製品端部に幅0.6mm、厚さ2μmになるようにポリイミド系接着剤を塗布し、80℃、2分間乾燥した。
YAGレーザーを用いてポリイミドフィルムを48mm幅で314.5mm長さの短冊状に切り分けると同時に、短冊の幅方向両端部に4.75mmピッチで1.981mm角のスプロケットホールを設けた。続いて、ソーダライムガラスから短冊状に切り分けたポリイミドフィルムを剥離した。
Using a dispenser, a polyimide adhesive was applied to the end of the product in the 350 mm direction so that the width was 0.6 mm and the thickness was 2 μm, and dried at 80 ° C. for 2 minutes.
A polyimide film was cut into 48 mm width and 314.5 mm length strips using a YAG laser, and 1.981 mm square sprocket holes were provided at 4.75 mm pitch at both ends in the width direction. Subsequently, the polyimide film cut into strips from the soda lime glass was peeled off.

得られた2枚の短冊状のポリイミドフィルムをスプロケットホールを利用してピンにてアライメントした。すなわち、短冊の長さ方向端部を接着剤を介して1mm幅で重なり合うように位置合わせした。この工程にバーコードリーダーを設置しておき、中央管理装置に記録された工程情報、検査情報に基づき、繋ぎ合わせるべき短冊でない場合は、警報を発するようにした。次いで、350℃に加熱されたツールを10kgfの圧力にて、重なり合わせた部分に押しつけて、ポリイミド系接着剤を溶融、固化して2枚の短冊状ポリイミドフィルムを繋ぎ合わせた。繋がった2枚の短冊状ポリイミドフィルムにさらに、別の短冊状ポリイミドフィルムを同様にして繋ぎ合わせることを繰り返し、長尺の可撓性フィルム回路基板を得た。   The obtained two strip-shaped polyimide films were aligned with pins using sprocket holes. That is, the lengthwise ends of the strips were aligned so as to overlap with a width of 1 mm via an adhesive. A bar code reader was installed in this process, and an alarm was issued if it was not a strip to be connected based on process information and inspection information recorded in the central control unit. Next, the tool heated to 350 ° C. was pressed against the overlapped portion at a pressure of 10 kgf, and the polyimide-based adhesive was melted and solidified to join the two strip-shaped polyimide films. In addition, another strip-shaped polyimide film was connected in the same manner to the two strip-shaped polyimide films that were connected, and a long flexible film circuit board was obtained.

得られた長尺の可撓性フィルム回路基板を画像認識を利用した自動外観検査装置および電気検査装置に掛け、所定の基準に達しない製品の長尺可撓性フィルム回路基板内位置を中央管理装置に出力した。この情報と回路パターン自動検査装置による検査情報を基にして不良製品マーキングを別装置にて実施した。   The obtained long flexible film circuit board is hung on an automatic visual inspection apparatus and an electric inspection apparatus using image recognition, and the position in the long flexible film circuit board of products that do not meet the predetermined standard is centrally managed. Output to the device. Based on this information and the inspection information by the circuit pattern automatic inspection apparatus, defective product marking was performed by another apparatus.

搬送領域に形成した二次元バーコードは、短冊基板毎に異なっており、履歴管理が短冊状の可撓性フィルム回路基板毎に細かく実施できた。また、製造ラインの主要設備にバーコード読み取り装置を組み込むことで、自社および顧客での投入間違いや納入間違いの可能性を小さくすることができた。   The two-dimensional bar code formed in the transport region is different for each strip substrate, and history management can be performed finely for each strip-like flexible film circuit board. In addition, by incorporating a barcode reader into the main equipment of the production line, the possibility of mistakes in input and delivery by the company and customers could be reduced.

実施例2
可撓性フィルム基板として、厚さ38μmの長尺ポリイミドフィルム(“カプトン”150EN(商品名)東レデュポン(株)製)を準備した。長尺フィルム対応のリール・ツー・リール方式のスパッタ装置で、ポリイミドフィルム上に厚さ15nmのクロム:ニッケル=5:95(重量比)の合金膜と厚さ150nmの銅膜をこの順に積層した。
補強板として厚さ1.1mm、300×350mmのソーダライムガラスにダイコーターで、紫外線硬化型粘着剤“SKダイン”SW−22(綜研化学(株)製)と硬化剤L45(綜研化学(株)製)を100:3(重量比)で混合したものを塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥後の剥離可能な有機物層厚みを2μmとした。次いで有機物層に、空気遮断用フィルム(ポリエステルフィルム上に離型容易なシリコーン樹脂層を設けたフィルム)を貼り合わせて1週間放置した。
金属膜を設けたポリイミドフィルムを300×350mmに切り出した。上記空気遮断用フィルムを剥がしてから、剥離可能な有機物層に金属膜を設けたポリイミドフィルムを貼り合わせた。
Example 2
A long polyimide film (“Kapton” 150EN (trade name) manufactured by Toray Du Pont Co., Ltd.) having a thickness of 38 μm was prepared as a flexible film substrate. Using a reel-to-reel type sputtering apparatus compatible with long films, a 15 nm thick chromium: nickel = 5: 95 (weight ratio) alloy film and a 150 nm thick copper film were laminated in this order on a polyimide film. .
As a reinforcing plate, soda lime glass with a thickness of 1.1 mm and 300 x 350 mm, with a die coater, UV curable adhesive “SK Dyne” SW-22 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and curing agent L45 (Soken Chemical Co., Ltd.) )) Was mixed at 100: 3 (weight ratio) and dried at 80 ° C. for 2 minutes. The peelable organic layer thickness after drying was 2 μm. Next, an air blocking film (a film in which a silicone resin layer that can be easily released on a polyester film) was bonded to the organic layer, and left for one week.
A polyimide film provided with a metal film was cut out to 300 × 350 mm. After peeling off the air blocking film, a polyimide film provided with a metal film on a peelable organic layer was bonded.

銅膜上にポジ型フォトレジストをスピンコーターで塗布して80℃で10分間乾燥し、厚さ15μmのフォトレジストを形成した。フォトマスクを介してフォトレジストを露光した。フォトマスクは、めっき膜を析出させるところはフォトレジストが現像、除去されるパターンとし、搬送用領域のフォトレジストは除去してめっき膜が析出して補強パターンおよび二次元バーコードが形成されるようにした。この後、現像し、不要部分のフォトレジストを除去した。フォトレジストが除去された搬送用領域位置の金属膜にYAGレーザーで二次元バーコードを書き入れた。すなわち、めっき膜を析出させない箇所の金属膜をレーザーで焼き飛ばした。中央管理装置で生成した二次元バーコードは、300×350mmの基板毎、さらに、同一基板内の回路パターンの列毎に異なるナンバーとした。レーザー加工後、二次元バーコードは読み取り可能になり、直前の工程であるフォトレジスト形成露光、現像工程を含めて、製造条件や検査結果を中央管理装置に自動蓄積した。   A positive photoresist was applied onto the copper film with a spin coater and dried at 80 ° C. for 10 minutes to form a photoresist having a thickness of 15 μm. The photoresist was exposed through a photomask. The photomask is a pattern in which the photoresist is developed and removed where the plating film is deposited, and the plating film is deposited by removing the photoresist in the transport area so that a reinforcing pattern and a two-dimensional barcode are formed. I made it. Thereafter, development was performed to remove unnecessary portions of the photoresist. A two-dimensional barcode was written with a YAG laser on the metal film at the position of the transfer area where the photoresist was removed. That is, the metal film in a portion where no plating film was deposited was burned off with a laser. The two-dimensional barcodes generated by the central management device have different numbers for each 300 × 350 mm substrate and for each row of circuit patterns on the same substrate. After the laser processing, the two-dimensional bar code can be read, and the manufacturing conditions and inspection results are automatically stored in the central management device including the photoresist formation exposure and development steps which are the previous steps.

フォトマスクパターンは実施例1と同様とした。次いで、上記銅膜を電極として厚さ8μmの銅膜を硫酸銅めっき液中での電解めっきで形成した。フォトレジストをフォトレジスト剥離液で剥離し、続いて、過酸化水素−硫酸系水溶液によるソフトエッチングにてレジスト層の下にあった銅膜およびクロム−ニッケル合金膜を除去した。   The photomask pattern was the same as in Example 1. Next, a copper film having a thickness of 8 μm was formed by electrolytic plating in a copper sulfate plating solution using the copper film as an electrode. The photoresist was stripped with a photoresist stripping solution, and then the copper film and the chromium-nickel alloy film that were under the resist layer were removed by soft etching with a hydrogen peroxide-sulfuric acid aqueous solution.

回路パターン自動検査装置による検査を実施して、二次元バーコードと紐付けして検査結果を中央管理装置に記録した。引き続き、銅めっき膜上に、無電解めっきで厚さ0.4μmの錫膜を形成し、回路パターン、補強パターンおよび二次元バーコードを得た。その後、スクリーン印刷機にて、ソルダーレジストSN-9000(日立化成工業(株)製)を印刷した。
ディスペンサーを用いて、350mm方向の製品端部に幅0.6mm、厚さ2μmになるようにポリイミド系接着剤を塗布し、80℃、2分間乾燥した。
The inspection by the automatic circuit pattern inspection device was performed, and the inspection result was recorded in the central management device in association with the two-dimensional barcode. Subsequently, a tin film having a thickness of 0.4 μm was formed on the copper plating film by electroless plating to obtain a circuit pattern, a reinforcing pattern, and a two-dimensional barcode. Thereafter, solder resist SN-9000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was printed with a screen printer.
Using a dispenser, a polyimide adhesive was applied to the end of the product in the 350 mm direction so that the width was 0.6 mm and the thickness was 2 μm, and dried at 80 ° C. for 2 minutes.

YAGレーザーを用いてポリイミドフィルムを48mm幅で314.5mm長さの短冊状に切り分けると同時に、短冊の幅方向両端部に4.75mmピッチで1.981mm角のスプロケットホールを設けた。続いて、ソーダライムガラスから短冊状に切り分けたポリイミドフィルムを剥離した。
得られた2枚の短冊状のポリイミドフィルムをスプロケットホールを利用してピンにてアライメントした。すなわち、短冊の長さ方向端部を接着剤を介して1mm幅で重なり合うように位置合わせした。この工程にバーコードリーダーを設置しておき、中央管理装置に記録された工程情報、検査情報に基づき、繋ぎ合わせるべき短冊でない場合は、警報を発するようにした。
A polyimide film was cut into 48 mm width and 314.5 mm length strips using a YAG laser, and 1.981 mm square sprocket holes were provided at 4.75 mm pitch at both ends in the width direction. Subsequently, the polyimide film cut into strips from the soda lime glass was peeled off.
The obtained two strip-shaped polyimide films were aligned with pins using sprocket holes. That is, the lengthwise ends of the strips were aligned so as to overlap with a width of 1 mm via an adhesive. A bar code reader was installed in this process, and an alarm was issued if it was not a strip to be connected based on process information and inspection information recorded in the central control unit.

次いで、350℃に加熱されたツールを10kgfの圧力にて、重なり合わせた部分に押しつけて、ポリイミド系接着剤を溶融、固化して2枚の短冊状ポリイミドフィルムを繋ぎ合わせた。繋がった2枚の短冊状ポリイミドフィルムにさらに、別の短冊状ポリイミドフィルムを同様にして繋ぎ合わせることを繰り返し、長尺の可撓性フィルム回路基板を得た。   Next, the tool heated to 350 ° C. was pressed against the overlapped portion at a pressure of 10 kgf, and the polyimide-based adhesive was melted and solidified to join the two strip-shaped polyimide films. In addition, another strip-shaped polyimide film was connected in the same manner to the two strip-shaped polyimide films that were connected, and a long flexible film circuit board was obtained.

得られた長尺の可撓性フィルム回路基板を画像認識を利用した自動外観検査装置および電気検査装置に掛け、所定の基準に達しない製品の長尺可撓性フィルム回路基板内位置を中央管理装置に出力した。この情報と回路パターン自動検査装置による検査情報を基にして不良製品マーキングを別装置にて実施した。
搬送領域に形成した二次元バーコードは、短冊基板毎に異なっており、履歴管理が短冊状の可撓性フィルム回路基板毎に細かく実施できた。また、製造ラインの主要設備にバーコード読み取り装置を組み込むことで、自社および顧客での投入間違いや納入間違いの可能性を小さくすることができた。
The obtained long flexible film circuit board is hung on an automatic visual inspection apparatus and an electric inspection apparatus using image recognition, and the position in the long flexible film circuit board of products that do not meet the predetermined standard is centrally managed. Output to the device. Based on this information and the inspection information by the circuit pattern automatic inspection apparatus, defective product marking was performed by another apparatus.
The two-dimensional bar code formed in the transport region is different for each strip substrate, and history management can be performed finely for each strip-like flexible film circuit board. In addition, by incorporating a barcode reader into the main equipment of the production line, the possibility of mistakes in input and delivery by the company and customers could be reduced.

比較例1
搬送領域に二次元バーコードを書き入れなかったこと以外は、実施例1と同様にして長尺の可撓性フィルム回路基板を得た。製品パターンそのもの以外に他の製品と区分する情報はなく、同一パターンであれば全く区分する情報はないので、認識用のカードを人手で製品に脱着して管理した。また、リール一巻分とした40mよりも細かい履歴管理はできず製造工程の短期間の変動の影響は追跡できなかった。
Comparative Example 1
A long flexible film circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the two-dimensional barcode was not written in the conveyance area. There is no information to distinguish from other products other than the product pattern itself, and there is no information to distinguish at all if the pattern is the same, so the identification card was manually attached to the product and managed. Moreover, history management finer than 40 m for one reel could not be performed, and the influence of short-term fluctuations in the manufacturing process could not be traced.

本発明の可撓性フィルム回路基板の態様の一例を示した概略図。Schematic which showed an example of the aspect of the flexible film circuit board of this invention. 可撓性フィルム基板連結の概略図。Schematic of flexible film substrate connection. 搬送用領域に補強パターンがある場合の、識別標識の態様の一例。An example of the aspect of an identification mark when there exists a reinforcement pattern in the area for conveyance. 搬送用領域に補強パターンがない場合の、識別標識の態様の一例。An example of the aspect of an identification mark when there is no reinforcement pattern in the area for conveyance. 本発明の可撓性フィルム回路基板製造管理システムの説明図Explanatory drawing of the flexible film circuit board manufacturing management system of this invention

符号の説明Explanation of symbols

1、2、可撓性フィルム基板
3 回路パターン
4 スプロケットホール
5 スプロケットホール補強パターン
6 識別標識
7 接着剤
8 二次元バーコード
10 中央管理装置
11 PC
1, 2, Flexible film substrate 3 Circuit pattern 4 Sprocket hole 5 Sprocket hole reinforcement pattern 6 Identification mark 7 Adhesive 8 Two-dimensional barcode 10 Central management device 11 PC

Claims (10)

回路パターンが形成された可撓性フィルム回路基板であって、回路パターンが形成されない領域に識別標識が付されていることを特徴とする可撓性フィルム回路基板。 A flexible film circuit board on which a circuit pattern is formed, wherein an identification mark is attached to a region where the circuit pattern is not formed. 該識別標識が付された可撓性フィルム回路基板が、短冊状可撓性フィルム回路基板を繋ぎ合わせて長尺化したものであり、かつ、該短冊状可撓性フィルム回路基板毎に互いに異なる識別標識が付されてなることを特徴とする請求項1記載の可撓性フィルム回路基板。 The flexible film circuit board to which the identification mark is attached is obtained by joining the strip-shaped flexible film circuit boards and lengthening them, and is different for each strip-shaped flexible film circuit board. The flexible film circuit board according to claim 1, further comprising an identification mark. スプロケットホールを有する搬送用領域を基板幅方向端に備えた可撓性フィルム回路基板であって、該搬送用領域に識別標識が付されていることを特徴とする請求項1記載の可撓性フィルム回路基板。 2. A flexible film circuit board having a transport area having sprocket holes at an end in the substrate width direction, wherein the transport area is provided with an identification mark. Film circuit board. 識別標識が、回路パターンと同じ材料、かつ同じ層構成からなることを特徴とする請求項1記載の可撓性フィルム回路基板。 The flexible film circuit board according to claim 1, wherein the identification mark is made of the same material and the same layer structure as the circuit pattern. 可撓性フィルム回路基板の製造方法であって、回路パターンが形成されない領域の所定箇所に識別標識を付することを特徴とする可撓性フィルム回路基板の製造方法。 A method for manufacturing a flexible film circuit board, comprising: attaching an identification mark to a predetermined portion of an area where a circuit pattern is not formed. 該識別標識が書き入れられた可撓性フィルム回路基板が、短冊状可撓性フィルム回路基板を繋ぎ合わせて長尺化したものであり、かつ、該短冊状可撓性フィルム回路基板に互いに異なる識別標識を付することを特徴とする請求項5記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。 The flexible film circuit board in which the identification mark is written is formed by joining strip-shaped flexible film circuit boards to be elongated, and the strip-shaped flexible film circuit boards have different identifications. 6. The method for producing a flexible film circuit board according to claim 5, wherein a label is attached. 該可撓性フィルム回路基板幅方向端の搬送用領域にスプロケットホールを形成する可撓性フィルム回路基板の製造方法であって、該搬送用領域に識別標識を付することを特徴とする請求項5記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。 A method for manufacturing a flexible film circuit board, wherein a sprocket hole is formed in a conveyance area at a width direction end of the flexible film circuit board, wherein an identification mark is attached to the conveyance area. 6. A method for producing a flexible film circuit board according to 5. 識別標識が、回路パターンと同じ材料、かつ同じ層構成からなることを特徴とする請求項5記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。 6. The method of manufacturing a flexible film circuit board according to claim 5, wherein the identification mark is made of the same material and the same layer structure as the circuit pattern. 識別標識が、可撓性フィルム回路基板が剥離可能な有機物層を介して補強板に貼り合わされている状態で付されることを特徴とする請求項5記載の可撓性フィルム回路基板の製造方法。 6. The method of manufacturing a flexible film circuit board according to claim 5, wherein the identification mark is attached in a state where the flexible film circuit board is bonded to the reinforcing plate via an organic layer that can be peeled off. . 請求項1〜4のいずれかに記載の可撓性フィルム回路基板の製造管理システムであって、回路パターンが形成されない領域の所定箇所に識別標識を付するとともに中央管理装置に該識別標識を登録し、各製造工程および各検査工程の履歴を該識別標識に対応させて該中央管理装置に記憶させるようにしたことを特徴とする可撓性フィルム回路基板製造管理システム。 5. The manufacturing management system for a flexible film circuit board according to claim 1, wherein an identification mark is attached to a predetermined portion of an area where a circuit pattern is not formed and the identification mark is registered in a central management device. A history of each manufacturing process and each inspection process is stored in the central management device in association with the identification mark.
JP2007178040A 2007-07-06 2007-07-06 Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system Pending JP2009016641A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007178040A JP2009016641A (en) 2007-07-06 2007-07-06 Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007178040A JP2009016641A (en) 2007-07-06 2007-07-06 Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009016641A true JP2009016641A (en) 2009-01-22

Family

ID=40357176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007178040A Pending JP2009016641A (en) 2007-07-06 2007-07-06 Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009016641A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103118482A (en) * 2012-12-28 2013-05-22 威力盟电子(苏州)有限公司 Circuit board with quality identification tag and identification method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103118482A (en) * 2012-12-28 2013-05-22 威力盟电子(苏州)有限公司 Circuit board with quality identification tag and identification method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080259575A1 (en) Tape-Style Flexible Circuit Board, and Manufacturing Method and Manufacturing Apparatus for the Same
JPWO2006038496A6 (en) Long film circuit board, manufacturing method thereof and manufacturing apparatus thereof
JP4109689B2 (en) Manufacturing method of flexible printed wiring board for COF
JP2008300881A (en) Member for circuit board and manufacturing method for electronic component mounting circuit board using the same
JP2007073863A (en) Semiconductor device manufacturing method and flexible circuit board
JP4479512B2 (en) Circuit board member and method of manufacturing circuit board member
JP2009016641A (en) Flexible film circuit board, manufacturing method thereof, and flexible film circuit board manufacture management system
JP4973122B2 (en) Circuit board member and circuit board manufacturing method
JP4360327B2 (en) Electronic component mounting apparatus, board information applying apparatus, and board information applying method
JP4178869B2 (en) Circuit board member and circuit board manufacturing method
JP4626139B2 (en) Circuit board manufacturing method
JP3187767B2 (en) Film carrier tape
JP4314834B2 (en) Circuit board manufacturing method and circuit board member
JP4075652B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2008263183A (en) Film circuit substrate and its manufacturing method
JP4211413B2 (en) Circuit board components
JP2003101193A (en) Production method for circuit board
JP4158659B2 (en) Manufacturing method of electronic component mounting circuit board
JP2003279594A (en) Circuit board for prober and its manufacturing method
JP2004265913A (en) Circuit board member and method of manufacturing circuit board
JP3945341B2 (en) Circuit board components
JP4433771B2 (en) Circuit board member and circuit board manufacturing method
JP2003101192A (en) Production method for circuit board
JP2005079375A (en) Circuit board member, and method of manufacturing the same
JP4006971B2 (en) Circuit board manufacturing method